JP2012243846A - Metal base circuit board and light emitting element - Google Patents

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Goji Kondo
剛司 近藤
Ryo Miyakoshi
亮 宮越
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metal base circuit board which is folded at normal temperature and prevents defects such as cracks during folding.SOLUTION: A metal base circuit board includes: a metal substrate 11; an insulation layer 12 laminated on the metal substrate 11; a conductive foil for circuit formation 13 locally laminated on the insulation layer 12; and a white film 14 laminated on parts of exposed surfaces of the conductive foil 13 and the insulation layer 12. The white film 14 includes a thermosetting silicon resin, and the tensile elongation percentage of the white film 14 is 10% or higher at normal temperature.

Description

本発明は、金属ベース回路基板および発光素子に関する。   The present invention relates to a metal base circuit board and a light emitting device.

金属基板上に絶縁層を設け、その上に導電箔を形成し、さらに導電箔と絶縁層の露出面に白色膜を設けた金属ベース回路基板は、熱放散性、電気絶縁性、光反射性を有していることからLEDのような発熱性電子部品を実装する回路基板として用いられている(特許文献1)。   A metal base circuit board with an insulating layer on a metal substrate, a conductive foil formed on it, and a white film on the exposed surface of the conductive foil and insulating layer is a heat-dissipating, electrically insulating, and light-reflective material. Therefore, it is used as a circuit board for mounting a heat-generating electronic component such as an LED (Patent Document 1).

近年では、LEDを取り付けたプリント配線板を折り曲げて使用されることがある。しかし、エポキシ樹脂材料に熱伝導性の無機フィラーを充填させた絶縁層やアクリル樹脂、エポキシ樹脂などに白色の無機フィラーを充填させた白色膜は脆性であり、折り曲げ加工すると折り曲げ部でクラックなどの不良が発生するという問題がある。   In recent years, a printed wiring board to which an LED is attached may be bent and used. However, an insulating layer in which an epoxy resin material is filled with a heat conductive inorganic filler, and a white film in which a white inorganic filler is filled in an acrylic resin or an epoxy resin are brittle. There is a problem that defects occur.

特許文献2では、金属基板を折り曲げ部で折り曲げて先端部とこの先端部に交差する脚部とを一体に設け、少なくとも前記先端部の絶縁層表面に、電子部品を取り付けるためのプリントされた配線板部を備え、前記折り曲げ部の全長に沿って、前記絶縁層を分断した絶縁層分断部を設けることで折り曲げ加工をしている。しかし、このような加工をする場合、予め基板に加工を加える工程が必要となってしまう上に、回路パターンの自由度が制限されてしまうという問題がある。   In Patent Document 2, a printed wiring for attaching an electronic component to at least the insulating layer surface of the tip is provided integrally with a tip and a leg that intersects the tip by bending the metal substrate at a bent portion. A bending portion is provided by providing an insulating layer dividing portion that includes a plate portion and divides the insulating layer along the entire length of the bent portion. However, when such processing is performed, there is a problem that a step of processing the substrate in advance is required and the degree of freedom of the circuit pattern is limited.

国際公開WO2008/143076号公報International Publication WO2008 / 143076 特開2010−129984号公報JP 2010-129984 A

本発明は、常温で折り曲げ加工が可能であり、折り曲げ時においてもクラックなどの不良が発生しない金属ベース回路基板および発光素子を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a metal base circuit board and a light-emitting element that can be bent at room temperature and do not cause defects such as cracks even when bent.

本発明の金属ベース回路基板は、金属基板と、前記金属基板上に積層された絶縁層と、前記絶縁層上に局所的に積層された回路形成用の導電箔と、前記導電箔と前記絶縁層との露出面の一部に積層された白色膜と、を有してなる金属ベース回路基板であって、前記白色膜が、熱硬化性のシリコーン樹脂を含み、前記白色膜の常温での引張り伸び率が10%以上である。
なお、「常温」とは、JIS Z 8703に規定された20℃±15℃(5〜35℃)の温度範囲を意味する。
前記導電箔は、導電材料を圧延して形成されたものであってもよい。
前記絶縁層が液晶ポリエステルを含んでもよい。
本発明の発光素子は、本発明の金属ベース回路基板を備えている。
The metal base circuit board of the present invention includes a metal substrate, an insulating layer laminated on the metal substrate, a conductive foil for circuit formation locally laminated on the insulating layer, the conductive foil and the insulation. And a white film laminated on a part of the exposed surface of the layer, wherein the white film contains a thermosetting silicone resin, and the white film at room temperature Tensile elongation is 10% or more.
“Normal temperature” means a temperature range of 20 ° C. ± 15 ° C. (5-35 ° C.) defined in JIS Z 8703.
The conductive foil may be formed by rolling a conductive material.
The insulating layer may include liquid crystal polyester.
The light emitting device of the present invention includes the metal base circuit board of the present invention.

本発明によれば、常温で折り曲げ加工が可能であり、折り曲げ時においてもクラックなどの不良が発生しない金属ベース回路基板および発光素子を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the metal base circuit board and light emitting element which can be bent at normal temperature and do not generate | occur | produce defects, such as a crack, at the time of bending can be provided.

金属ベース回路基板を備えた発光素子の一実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of a light emitting element provided with the metal base circuit board.

図1は、金属ベース回路基板を備えた発光素子の一実施形態を示す断面図である。
発光素子1は、金属ベース回路基板10と、金属ベース回路基板10上に半田などの接合部材15を介して実装された複数の光源20と、を備えている。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a light emitting device including a metal base circuit board.
The light emitting element 1 includes a metal base circuit board 10 and a plurality of light sources 20 mounted on the metal base circuit board 10 via bonding members 15 such as solder.

金属ベース回路基板10は、金属基板11と、金属基板11上に積層された絶縁層12と、絶縁層12上に局所的に積層された回路形成用の導電箔13と、導電箔13と絶縁層12との露出面の一部に積層された白色膜14と、を備えている。   The metal base circuit board 10 includes a metal substrate 11, an insulating layer 12 stacked on the metal substrate 11, a conductive foil 13 for forming a circuit locally stacked on the insulating layer 12, and the conductive foil 13. A white film 14 laminated on a part of the surface exposed to the layer 12.

金属基板11は、光源20で発生した熱を放熱する放熱部材として機能する。絶縁層12は、光源20で発生した熱を金属基板11に効率よく伝えるために、層厚方向の熱伝導率の高いものが利用される。導電箔13は、配線部や電極部の形状にパターニングされており、絶縁層12上の一部に局所的に配置された構成となっている。白色膜13は、導電箔13の光源20が実装される部分(電極部など)を除いて導電箔13の略全面を覆っている。光源20から金属基板11側に向けて放射された光は、白色膜11によって金属基板11とは反対側に反射される。これにより、光源20から放射された光を概ね全て一方向(金属基板11とは反対側)に供給することができる。   The metal substrate 11 functions as a heat radiating member that radiates heat generated by the light source 20. The insulating layer 12 has a high thermal conductivity in the layer thickness direction in order to efficiently transmit the heat generated by the light source 20 to the metal substrate 11. The conductive foil 13 is patterned in the shape of a wiring part or an electrode part, and is configured to be locally disposed on a part of the insulating layer 12. The white film 13 covers substantially the entire surface of the conductive foil 13 except for a portion (electrode portion or the like) where the light source 20 of the conductive foil 13 is mounted. The light emitted from the light source 20 toward the metal substrate 11 is reflected by the white film 11 to the side opposite to the metal substrate 11. Thereby, almost all of the light emitted from the light source 20 can be supplied in one direction (the side opposite to the metal substrate 11).

光源20は、導電箔13から供給された電荷によって発光する発光体である。光源20としては、例えば、LEDチップをパッケージ化したLEDパッケージが用いられるが、光源20はこれに限定されない。例えば、LEDチップを直接金属ベース回路基板10上に実装するタイプのもの(Chip On Board; COB)でもよい。LEDパッケージの形態も砲弾型、表面実装型(Surface Mount Device; SMD)などの種々の形態を採用することができ、その形態は特に限定されない。光源20の構成や、光源20の金属ベース回路基板10への実装方法も、公知のものを採用することができ、特に限定されない。   The light source 20 is a light emitter that emits light by electric charges supplied from the conductive foil 13. For example, an LED package in which an LED chip is packaged is used as the light source 20, but the light source 20 is not limited to this. For example, a type (Chip On Board; COB) in which the LED chip is directly mounted on the metal base circuit board 10 may be used. Various forms such as a shell type and a surface mount type (SMD) can be adopted as the form of the LED package, and the form is not particularly limited. The configuration of the light source 20 and the method of mounting the light source 20 on the metal base circuit board 10 can also employ known ones and are not particularly limited.

上述の発光素子1は、金属ベース回路基板10の端部を折り曲げて他の部材に取り付けられる。そのため、金属ベース回路基板10には、折り曲げに対する高い耐久性が求められる。また、光源20からの熱を効率よく外部に放熱するために、金属ベース回路基板10は、高い放熱性を備えていることが好ましい。以下、金属ベース回路基板10の好適な構成について、詳細に説明する。   The light emitting element 1 described above is attached to another member by bending an end portion of the metal base circuit board 10. Therefore, the metal base circuit board 10 is required to have high durability against bending. In order to efficiently dissipate the heat from the light source 20 to the outside, the metal base circuit board 10 preferably has high heat dissipation. Hereinafter, a preferable configuration of the metal base circuit board 10 will be described in detail.

(金属基板)
金属基板としては、熱伝導率60W/mK以上の金属板が用いられる。かかる金属基板を構成する金属材料としては、銅、アルミニウム、鉄、ステンレスあるいはこれらの合金などが用いられる。金属基板の厚みとしては、0.1mm〜2mmとすることが好ましい。
(Metal substrate)
As the metal substrate, a metal plate having a thermal conductivity of 60 W / mK or more is used. As a metal material constituting such a metal substrate, copper, aluminum, iron, stainless steel, or an alloy thereof is used. The thickness of the metal substrate is preferably 0.1 mm to 2 mm.

(導電箔)
導電箔としては、銅、アルミニウム、ニッケル及びこれらの合金が好ましく、その厚みは、10〜140μmとすることが好ましい。140μmを超えると屈曲性が低下するだけでなく厚みが増し小型化や薄型化が難しくなる。導電箔は、金属などの導電材料を圧延して形成したもの、すなわち、複数のロールを回転させ、その間に導電材料を通すことにより薄膜状に加工したものを用いることが好ましい。圧延して形成された導電箔は、折り曲げに対してクラックが生じにくいため、金属ベース回路基板を折り曲げて利用する場合に好適である。導電箔としては、例えば、圧延銅箔が利用できる。
(Conductive foil)
As the conductive foil, copper, aluminum, nickel and alloys thereof are preferable, and the thickness is preferably 10 to 140 μm. When it exceeds 140 μm, not only the flexibility is lowered, but also the thickness is increased and it is difficult to reduce the size and the thickness. The conductive foil is preferably formed by rolling a conductive material such as a metal, that is, a thin film processed by rotating a plurality of rolls and passing the conductive material between them. Since the conductive foil formed by rolling is less prone to cracking when bent, it is suitable when the metal base circuit board is bent and used. For example, rolled copper foil can be used as the conductive foil.

(絶縁層)
絶縁層の厚さは、30μm以上150μm以下が好ましく、30μm未満では絶縁性が低く、150μmを超えると熱放散性が低下するだけでなく厚みが増し小型化や薄型化が難しくなる。
(Insulating layer)
The thickness of the insulating layer is preferably 30 μm or more and 150 μm or less. When the thickness is less than 30 μm, the insulating property is low.

絶縁層としては、熱伝導率が高い熱可塑性樹脂である液晶ポリエステルを用いることが好ましい。絶縁層としては、通常、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂などの熱硬化性樹脂が用いられるが、液晶ポリエステルは、これらの樹脂に比べて特に層厚方向の熱伝導率を高くすることができることから、金属基板への放熱性を良好にできるという点で好適である。   As the insulating layer, it is preferable to use liquid crystal polyester which is a thermoplastic resin having high thermal conductivity. As the insulating layer, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a phenol resin, a silicone resin, or an acrylic resin is usually used. However, the liquid crystal polyester particularly increases the thermal conductivity in the layer thickness direction as compared with these resins. Therefore, it is preferable in that heat dissipation to the metal substrate can be improved.

(液晶ポリエステル)
本実施形態で用いる液晶ポリエステルは、溶融状態で液晶性を示す液晶ポリエステルであり、450℃以下の温度で溶融するものであることが好ましい。なお、液晶ポリエステルは、液晶ポリエステルアミドであってもよいし、液晶ポリエステルエーテルであってもよいし、液晶ポリエステルカーボネートであってもよいし、液晶ポリエステルイミドであってもよい。液晶ポリエステルは、原料モノマーとして芳香族化合物のみを用いてなる全芳香族液晶ポリエステルであることが好ましい。
(Liquid crystal polyester)
The liquid crystalline polyester used in the present embodiment is a liquid crystalline polyester that exhibits liquid crystallinity in a molten state, and is preferably melted at a temperature of 450 ° C. or lower. The liquid crystal polyester may be a liquid crystal polyester amide, a liquid crystal polyester ether, a liquid crystal polyester carbonate, or a liquid crystal polyester imide. The liquid crystal polyester is preferably a wholly aromatic liquid crystal polyester using only an aromatic compound as a raw material monomer.

液晶ポリエステルの典型的な例としては、芳香族ヒドロキシカルボン酸と芳香族ジカルボン酸と芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物とを重合(重縮合)させてなるもの、複数種の芳香族ヒドロキシカルボン酸を重合させてなるもの、芳香族ジカルボン酸と芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物とを重合させてなるもの、及びポリエチレンテレフタレート等のポリエステルと芳香族ヒドロキシカルボン酸とを重合させてなるものが挙げられる。ここで、芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸、芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンは、それぞれ独立に、その一部又は全部に代えて、その重合可能な誘導体が用いられてもよい。   A typical example of the liquid crystal polyester is polymerization (polycondensation) of an aromatic hydroxycarboxylic acid, an aromatic dicarboxylic acid, and at least one compound selected from the group consisting of an aromatic diol, an aromatic hydroxyamine, and an aromatic diamine. At least one compound selected from the group consisting of aromatic dicarboxylic acids and aromatic diols, aromatic hydroxyamines and aromatic diamines, And those obtained by polymerizing a polyester such as polyethylene terephthalate and an aromatic hydroxycarboxylic acid. Here, the aromatic hydroxycarboxylic acid, the aromatic dicarboxylic acid, the aromatic diol, the aromatic hydroxyamine, and the aromatic diamine are each independently replaced with a part or all of the polymerizable derivative. Also good.

芳香族ヒドロキシカルボン酸及び芳香族ジカルボン酸のようなカルボキシル基を有する化合物の重合可能な誘導体の例としては、カルボキシル基をアルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基に変換してなるもの(エステル)、カルボキシル基をハロホルミル基に変換してなるもの(酸ハロゲン化物)、及びカルボキシル基をアシルオキシカルボニル基に変換してなるもの(酸無水物)が挙げられる。芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジオール及び芳香族ヒドロキシアミンのようなヒドロキシル基を有する化合物の重合可能な誘導体の例としては、ヒドロキシル基をアシル化してアシルオキシル基に変換してなるもの(アシル化物)が挙げられる。芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンのようなアミノ基を有する化合物の重合可能な誘導体の例としては、アミノ基をアシル化してアシルアミノ基に変換してなるもの(アシル化物)が挙げられる。   Examples of polymerizable derivatives of a compound having a carboxyl group such as aromatic hydroxycarboxylic acid and aromatic dicarboxylic acid include those obtained by converting a carboxyl group into an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group (ester), carboxyl Examples include those obtained by converting a group into a haloformyl group (acid halide), and those obtained by converting a carboxyl group into an acyloxycarbonyl group (acid anhydride). Examples of polymerizable derivatives of hydroxyl group-containing compounds such as aromatic hydroxycarboxylic acids, aromatic diols and aromatic hydroxyamines include those obtained by acylating hydroxyl groups and converting them to acyloxyl groups (acylated products) ). Examples of polymerizable derivatives of amino group-containing compounds such as aromatic hydroxyamines and aromatic diamines include those obtained by acylating an amino group and converting it to an acylamino group (acylated product).

液晶ポリエステルは、下記式(1)で表される繰返し単位(以下、「繰返し単位(1)」ということがある。)を有することが好ましく、繰返し単位(1)と、下記式(2)で表される繰返し単位(以下、「繰返し単位(2)」ということがある。)と、下記式(3)で表される繰返し単位(以下、「繰返し単位(3)」ということがある。)と、を有することがより好ましい。
(1)−O−Ar−CO−
(2)−CO−Ar−CO−
(3)−X−Ar−Y−
(Arは、フェニレン基、ナフチレン基又はビフェニリレン基を表す。Ar及びArは、それぞれ独立に、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニリレン基又は下記式(4)で表される基を表す。X及びYは、それぞれ独立に、酸素原子又はイミノ基(−NH−)を表す。Ar、Ar又はArで表される前記基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。)
(4)−Ar−Z−Ar
(Ar及びArは、それぞれ独立に、フェニレン基又はナフチレン基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキリデン基を表す。)
The liquid crystalline polyester preferably has a repeating unit represented by the following formula (1) (hereinafter sometimes referred to as “repeating unit (1)”), and the repeating unit (1) and the following formula (2) A repeating unit represented (hereinafter sometimes referred to as “repeating unit (2)”) and a repeating unit represented by the following formula (3) (hereinafter sometimes referred to as “repeating unit (3)”). And more preferably.
(1) —O—Ar 1 —CO—
(2) —CO—Ar 2 —CO—
(3) -X-Ar 3 -Y-
(Ar 1 represents a phenylene group, a naphthylene group, or a biphenylylene group. Ar 2 and Ar 3 each independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylylene group, or a group represented by the following formula (4). X And Y each independently represents an oxygen atom or an imino group (—NH—), and each hydrogen atom in the group represented by Ar 1 , Ar 2 or Ar 3 is independently a halogen atom or an alkyl group. Alternatively, it may be substituted with an aryl group.)
(4) -Ar 4 -Z-Ar 5-
(Ar 4 and Ar 5 each independently represent a phenylene group or a naphthylene group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or an alkylidene group.)

前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。前記アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基及びn−デシル基が挙げられ、その炭素数は、好ましくは1〜10である。前記アリール基の例としては、フェニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、1−ナフチル基及び2−ナフチル基が挙げられ、その炭素数は、好ましくは6〜20である。前記水素原子がこれらの基で置換されている場合、その数は、Ar、Ar又はArで表される前記基毎に、それぞれ独立に、好ましくは2個以下であり、より好ましくは1個以下である。 As said halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned. Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group, 2-ethylhexyl group, An n-octyl group and an n-decyl group are mentioned, The carbon number becomes like this. Preferably it is 1-10. Examples of the aryl group include a phenyl group, an o-tolyl group, an m-tolyl group, a p-tolyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group, and the carbon number thereof is preferably 6-20. is there. When the hydrogen atom is substituted with these groups, the number is independently preferably 2 or less for each group represented by Ar 1 , Ar 2 or Ar 3 , more preferably 1 or less.

前記アルキリデン基の例としては、メチレン基、エチリデン基、イソプロピリデン基、n−ブチリデン基及び2−エチルヘキシリデン基が挙げられ、その炭素数は好ましくは1〜10である。   Examples of the alkylidene group include a methylene group, an ethylidene group, an isopropylidene group, an n-butylidene group, and a 2-ethylhexylidene group, and the carbon number thereof is preferably 1-10.

繰返し単位(1)は、所定の芳香族ヒドロキシカルボン酸に由来する繰返し単位である。繰返し単位(1)としては、Arがp−フェニレン基であるもの(p−ヒドロキシ安息香酸に由来する繰返し単位)、及びArが2,6−ナフチレン基であるもの(6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸に由来する繰返し単位)が好ましい。 The repeating unit (1) is a repeating unit derived from a predetermined aromatic hydroxycarboxylic acid. As the repeating unit (1), Ar 1 is a p-phenylene group (repeating unit derived from p-hydroxybenzoic acid), and Ar 1 is a 2,6-naphthylene group (6-hydroxy-2). -Repeating units derived from naphthoic acid) are preferred.

繰返し単位(2)は、所定の芳香族ジカルボン酸に由来する繰返し単位である。繰返し単位(2)としては、Arがp−フェニレン基であるもの(テレフタル酸に由来する繰返し単位)、Arがm−フェニレン基であるもの(イソフタル酸に由来する繰返し単位)、Arが2,6−ナフチレン基であるもの(2,6−ナフタレンジカルボン酸に由来する繰返し単位)、及びArがジフェニルエ−テル−4,4’−ジイル基であるもの(ジフェニルエ−テル−4,4’−ジカルボン酸に由来する繰返し単位)が好ましい。 The repeating unit (2) is a repeating unit derived from a predetermined aromatic dicarboxylic acid. As the repeating unit (2), Ar 2 is a p-phenylene group (a repeating unit derived from terephthalic acid), Ar 2 is an m-phenylene group (a repeating unit derived from isophthalic acid), Ar 2 Is a 2,6-naphthylene group (a repeating unit derived from 2,6-naphthalenedicarboxylic acid), and Ar 2 is a diphenyl ether-4,4′-diyl group (diphenyl ether- 4,4′-dicarboxylic acid-derived repeating units) are preferred.

繰返し単位(3)は、所定の芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシルアミン又は芳香族ジアミンに由来する繰返し単位である。繰返し単位(3)としては、Arがp−フェニレン基であるもの(ヒドロキノン、p−アミノフェノール又はp−フェニレンジアミンに由来する繰返し単位)、及びArが4,4’−ビフェニリレン基であるもの(4,4’−ジヒドロキシビフェニル、4−アミノ−4’−ヒドロキシビフェニル又は4,4’−ジアミノビフェニルに由来する繰返し単位)が好ましい。 The repeating unit (3) is a repeating unit derived from a predetermined aromatic diol, aromatic hydroxylamine or aromatic diamine. As the repeating unit (3), Ar 3 is a p-phenylene group (a repeating unit derived from hydroquinone, p-aminophenol or p-phenylenediamine), and Ar 3 is a 4,4′-biphenylylene group. Those (4,4′-dihydroxybiphenyl, 4-amino-4′-hydroxybiphenyl or repeating units derived from 4,4′-diaminobiphenyl) are preferred.

繰返し単位(1)の含有量は、全繰返し単位の合計量(液晶ポリエステルを構成する各繰返し単位の質量をその各繰返し単位の式量で割ることにより、各繰返し単位の物質量相当量(モル)を求め、それらを合計した値)に対して、好ましくは30モル%以上、より好ましくは30モル%以上80モル%以下、さらに好ましくは30モル%以上60モル%以下、よりさらに好ましくは30モル%以上40モル%以下である。   The content of the repeating unit (1) is the total amount of all repeating units (the mass equivalent amount of each repeating unit (moles by dividing the mass of each repeating unit constituting the liquid crystal polyester by the formula amount of each repeating unit). ), And the total value thereof) is preferably 30 mol% or more, more preferably 30 mol% or more and 80 mol% or less, still more preferably 30 mol% or more and 60 mol% or less, and even more preferably 30 mol%. It is mol% or more and 40 mol% or less.

同様に、繰返し単位(2)の含有量は、全繰返し単位の合計量に対して、好ましくは35モル%以下、より好ましくは10モル%以上35モル%以下、さらに好ましくは20モル%以上35モル%以下、よりさらに好ましくは30モル%以上35モル%以下である。   Similarly, the content of the repeating unit (2) is preferably 35 mol% or less, more preferably 10 mol% or more and 35 mol% or less, further preferably 20 mol% or more 35 with respect to the total amount of all repeating units. The mol% or less, more preferably 30 mol% or more and 35 mol% or less.

同様に、繰返し単位(3)の含有量は、全繰返し単位の合計量に対して、好ましくは35モル%以下、より好ましくは10モル%以上35モル%以下、さらに好ましくは20モル%以上35モル%以下、よりさらに好ましくは30モル%以上35モル%以下である。   Similarly, the content of the repeating unit (3) is preferably 35 mol% or less, more preferably 10 mol% or more and 35 mol% or less, further preferably 20 mol% or more 35 with respect to the total amount of all repeating units. The mol% or less, more preferably 30 mol% or more and 35 mol% or less.

これらは、繰返し単位(1)の含有量が多いほど、耐熱性や強度・剛性が向上し易いが、あまり多いと、溶媒に対する溶解性が低くなり易い。   As the content of the repeating unit (1) increases, the heat resistance, the strength and the rigidity are easily improved. However, when the content is too large, the solubility in a solvent tends to be low.

繰返し単位(2)の含有量と繰返し単位(3)の含有量との割合は、[繰返し単位(2)の含有量]/[繰返し単位(3)の含有量](モル/モル)で表して、好ましくは0.9/1〜1/0.9、より好ましくは0.95/1〜1/0.95、さらに好ましくは0.98/1〜1/0.98である。   The ratio between the content of the repeating unit (2) and the content of the repeating unit (3) is expressed as [content of repeating unit (2)] / [content of repeating unit (3)] (mol / mol). The ratio is preferably 0.9 / 1 to 1 / 0.9, more preferably 0.95 / 1 to 1 / 0.95, and still more preferably 0.98 / 1 to 1 / 0.98.

なお、液晶ポリエステルは、繰返し単位(1)〜(3)を、それぞれ独立に、2種以上有してもよい。また、液晶ポリエステルは、繰返し単位(1)〜(3)以外の繰返し単位を有してもよいが、その含有量は、全繰返し単位の合計量に対して、好ましくは10モル%以下、より好ましくは5モル%以下である。   In addition, liquid crystalline polyester may have 2 or more types of repeating units (1)-(3) each independently. The liquid crystalline polyester may have a repeating unit other than the repeating units (1) to (3), but the content thereof is preferably 10 mol% or less, based on the total amount of all repeating units. Preferably it is 5 mol% or less.

液晶ポリエステルは、繰返し単位(3)として、XとYとのいずれか一方または両方がイミノ基であるものを有すること、すなわち、所定の芳香族ヒドロキシルアミンに由来する繰返し単位と、芳香族ジアミンに由来する繰返し単位と、のいずれか一方または両方を有することが、溶媒に対する溶解性が優れるので、好ましく、繰返し単位(3)として、XとYとのいずれか一方または両方がイミノ基であるもののみを有することが、より好ましい。   The liquid crystalline polyester has, as the repeating unit (3), one or both of X and Y are imino groups, that is, a repeating unit derived from a predetermined aromatic hydroxylamine and an aromatic diamine. It is preferable to have one or both of the repeating unit derived from it, since the solubility in a solvent is excellent, and as the repeating unit (3), one or both of X and Y are imino groups It is more preferable to have only.

液晶ポリエステルは、それを構成する繰返し単位に対応する原料モノマーを溶融重合させ、得られた重合物(プレポリマー)を固相重合させることにより、製造することが好ましい。これにより、耐熱性や強度・剛性が高い高分子量の液晶ポリエステルを操作性良く製造することができる。溶融重合は、触媒の存在下に行ってもよく、この触媒の例としては、酢酸マグネシウム、酢酸第一錫、テトラブチルチタネート、酢酸鉛、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、三酸化アンチモン等の金属化合物や、4−(ジメチルアミノ)ピリジン、1−メチルイミダゾール等の含窒素複素環式化合物が挙げられ、含窒素複素環式化合物が好ましく用いられる。   The liquid crystal polyester is preferably produced by melt polymerization of raw material monomers corresponding to the repeating units constituting the liquid crystal polyester, and solid-phase polymerization of the obtained polymer (prepolymer). Thereby, high molecular weight liquid crystal polyester having high heat resistance, strength and rigidity can be produced with good operability. Melt polymerization may be carried out in the presence of a catalyst. Examples of this catalyst include metal compounds such as magnesium acetate, stannous acetate, tetrabutyl titanate, lead acetate, sodium acetate, potassium acetate, and antimony trioxide, And nitrogen-containing heterocyclic compounds such as 4- (dimethylamino) pyridine and 1-methylimidazole, and nitrogen-containing heterocyclic compounds are preferably used.

液晶ポリエステルは、その流動開始温度が、好ましくは250℃以上、より好ましくは250℃以上350℃以下、さらに好ましくは260℃以上330℃以下である。流動開始温度が高いほど、耐熱性や強度・剛性が向上し易いが、あまり高いと、溶媒に対する溶解性が低くなり易かったり、液状組成物の粘度が高くなり易かったりする。   The liquid crystal polyester has a flow initiation temperature of preferably 250 ° C. or higher, more preferably 250 ° C. or higher and 350 ° C. or lower, and further preferably 260 ° C. or higher and 330 ° C. or lower. As the flow start temperature is higher, the heat resistance, strength, and rigidity are more likely to be improved. However, if the flow start temperature is too high, the solubility in a solvent tends to be low, and the viscosity of the liquid composition tends to be high.

なお、流動開始温度は、フロー温度又は流動温度とも呼ばれ、毛細管レオメーターを用いて、9.8MPa(100kg/cm)の荷重下、4℃/分の速度で昇温しながら、液晶ポリエステルを溶融させ、内径1mm及び長さ10mmのノズルから押し出すときに、4800Pa・s(48000ポイズ)の粘度を示す温度であり、液晶ポリエステルの分子量の目安となるものである(小出直之編、「液晶ポリマー−合成・成形・応用−」、株式会社シーエムシー、1987年6月5日、p.95参照)。 The flow start temperature is also called flow temperature or flow temperature, and the temperature is raised at a rate of 4 ° C./min under a load of 9.8 MPa (100 kg / cm 2 ) using a capillary rheometer while liquid crystal polyester is used. Is a temperature showing a viscosity of 4800 Pa · s (48000 poise) when extruded from a nozzle having an inner diameter of 1 mm and a length of 10 mm, and is a measure of the molecular weight of the liquid crystalline polyester (Naide Koide, “ “Liquid Crystal Polymer—Synthesis / Molding / Application—”, CMC Co., Ltd., June 5, 1987, p. 95).

(無機フィラー)
絶縁層に含有される無機充填剤としては、30W/mK以上の熱伝導率と絶縁性に優れたものを選ぶことが好ましい。アルミナ、酸化マグネシウム、酸化ベリリウム、水酸化アルミニウム、酸化亜鉛、窒化アルミニウム、窒化ホウ素などの粒子が好ましい。
(Inorganic filler)
As the inorganic filler contained in the insulating layer, it is preferable to select a filler having a thermal conductivity of 30 W / mK or more and an excellent insulating property. Particles such as alumina, magnesium oxide, beryllium oxide, aluminum hydroxide, zinc oxide, aluminum nitride, boron nitride are preferred.

粒子の形状は、液晶ポリエステル樹脂の中で無機充填剤の粒子が密に充填しやすいことから、球状が好ましい。球状でない場合には、無機充填剤を微粉末にした後、パウダースプレー法により略球状に成形したものが好ましい。   The shape of the particles is preferably spherical because the particles of the inorganic filler are easily packed in the liquid crystal polyester resin. When it is not spherical, it is preferable that the inorganic filler is made into a fine powder and then molded into a substantially spherical shape by a powder spray method.

無機充填剤は樹脂との密着性や分散性を向上させるために、表面処理剤で無機充填剤粒子の表面を処理することが望ましい。表面処理剤としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、アルミニウムやジルコニウム系のカップリング剤、長鎖脂肪酸、イソシアナート化合物、エポキシ基やメトキシシリル基、アミノ基、水酸基などを含んだ極性高分子や反応性高分子などが好ましい。   In order to improve the adhesion and dispersibility of the inorganic filler with the resin, it is desirable to treat the surface of the inorganic filler particles with a surface treatment agent. Surface treatment agents include silane coupling agents, titanium coupling agents, aluminum and zirconium coupling agents, long chain fatty acids, isocyanate compounds, epoxy groups, methoxysilyl groups, amino groups, hydroxyl groups and other highly polar materials. Molecules and reactive polymers are preferred.

(白色膜)
白色膜としては、420nmから800nmの可視光領域に対して70%以上の反射率を有することが好ましく、80%以上の反射率を有することが更に好ましい。本明細書において「白色膜」とは、460nm、525nmおよび620nmの各波長の光の反射率がいずれも80%以上である膜をいうものとする。このような白色膜として、白色のソルダーレジストが好ましく使用できる。
(White film)
The white film preferably has a reflectance of 70% or more, more preferably 80% or more, in the visible light region of 420 nm to 800 nm. In the present specification, the “white film” refers to a film in which the reflectance of light of each wavelength of 460 nm, 525 nm, and 620 nm is 80% or more. As such a white film, a white solder resist can be preferably used.

白色のソルダーレジストとしては、熱硬化性のシリコーン樹脂を含み、常温での引張り伸び率が4%以上であるものが好ましく、より好ましくは常温での引張り伸び率が10%以上であるものが好ましい。引張り伸び率が高い白色のソルダーレジストを用いることで、曲げ加工時においてもクラックなどの不良の発生を防ぐことが出来る。また、必要に応じて熱硬化型のエポキシ樹脂、紫外線硬化型のアクリル樹脂などと併用することができる。   The white solder resist preferably contains a thermosetting silicone resin and has a tensile elongation of 4% or more at room temperature, and more preferably has a tensile elongation of 10% or more at room temperature. . By using a white solder resist having a high tensile elongation, it is possible to prevent the occurrence of defects such as cracks even during bending. Further, if necessary, it can be used in combination with a thermosetting epoxy resin, an ultraviolet curable acrylic resin, or the like.

白色ソルダーレジストに含まれる白色顔料としては、アナターゼ型又はルチル型の酸化チタンの粒子が好ましい。二酸化チタンは単独で用いることも可能であるし、酸化亜鉛、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム等に代表される他の白色顔料と併用することができる。   The white pigment contained in the white solder resist is preferably anatase type or rutile type titanium oxide particles. Titanium dioxide can be used alone or in combination with other white pigments typified by zinc oxide, barium sulfate, aluminum hydroxide and the like.

酸化チタンの含有量としては、白色膜自体の反射率、耐久性、引張り伸び率という観点から、白色膜中の30〜60質量%であることが好ましい。これより少ない場合、反射率が低く、多い場合、耐久性が悪くなることや引張り伸び率の低下による曲げ加工時のクラック発生を生じる。   The content of titanium oxide is preferably 30 to 60% by mass in the white film from the viewpoint of the reflectance, durability, and tensile elongation of the white film itself. When the amount is less than this, the reflectance is low, and when the amount is large, the durability is deteriorated and cracks are generated during bending due to a decrease in the tensile elongation.

<液晶ポリエステルの製造>
攪拌装置、トルクメータ、窒素ガス導入管、温度計及び還流冷却器を備えた反応器に、1976g(10.5モル)の2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸と、1474g(9.75モル)の4−ヒドロキシアセトアニリドと、1620g(9.75モル)のイソフタル酸と、2374g(23.25モル)の無水酢酸とを仕込んだ。反応器内の雰囲気を窒素ガスで十分に置換した後、窒素ガス気流下で15分かけて150℃まで昇温させ、この温度で3時間に亘って還流させた。
<Manufacture of liquid crystal polyester>
In a reactor equipped with a stirrer, torque meter, nitrogen gas inlet tube, thermometer and reflux condenser, 1976 g (10.5 mol) of 2-hydroxy-6-naphthoic acid and 1474 g (9.75 mol) of 4-hydroxyacetanilide, 1620 g (9.75 mol) of isophthalic acid, and 2374 g (23.25 mol) of acetic anhydride were charged. After sufficiently replacing the atmosphere in the reactor with nitrogen gas, the temperature was raised to 150 ° C. over 15 minutes under a nitrogen gas stream, and the mixture was refluxed at this temperature for 3 hours.

その後、留出した副生酢酸及び未反応の無水酢酸を留去しながら、170分かけて300℃まで昇温させ、トルクの上昇が認められた時点を反応終了と見做して、内容物を取り出した。取り出した内容物を室温まで冷却し、粉砕機で粉砕することにより、比較的低分子量の液晶ポリエステルの粉末を得た。   Thereafter, while distilling off the distilled by-product acetic acid and unreacted acetic anhydride, the temperature was raised to 300 ° C. over 170 minutes, and when the increase in torque was observed, the reaction was considered to be complete. Was taken out. The taken-out contents were cooled to room temperature and pulverized with a pulverizer to obtain a liquid crystal polyester powder having a relatively low molecular weight.

得られた粉末の流動開始温度を島津製作所フローテスタCFT−500によって測定したところ、235℃であった。また、この液晶ポリエステル粉末を、窒素雰囲気において223℃で3時間に亘って加熱処理して、固相重合を生じさせた。固相重合後の液晶ポリエステルの流動開始温度は270℃であった。   It was 235 degreeC when the flow start temperature of the obtained powder was measured by Shimadzu Corporation flow tester CFT-500. Moreover, this liquid crystalline polyester powder was heat-treated at 223 ° C. for 3 hours in a nitrogen atmosphere to cause solid phase polymerization. The flow starting temperature of the liquid crystal polyester after solid phase polymerization was 270 ° C.

<液晶ポリエステル溶液の調製>
上述した方法によって得られた2200gの液晶ポリエステルを、7800gのN−メチル−2−ピロリドン(NMP)に加え、100℃で2時間に亘って加熱して液晶ポリエステル溶液を得た。この溶液の粘度は400cPであった。なお、この粘度は、B型粘度計(東機産業製、「TVL−20型」、ロータNo.21(回転数:5rpm))を用いて、23℃で測定した値である。
<Preparation of liquid crystal polyester solution>
2200 g of liquid crystal polyester obtained by the above-mentioned method was added to 7800 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and heated at 100 ° C. for 2 hours to obtain a liquid crystal polyester solution. The viscosity of this solution was 400 cP. This viscosity is a value measured at 23 ° C. using a B-type viscometer (manufactured by Toki Sangyo, “TVL-20 type”, rotor No. 21 (rotation speed: 5 rpm)).

<液晶ポリエステル付き銅箔の製造>
得られた液晶ポリエステル溶液を厚さが70μmの銅箔上に厚さが300μmとなるように塗布した。続いて、これを100℃で20分間乾燥させた後、300℃で3時間熱処理した。これにより、表面に銅箔が形成された液晶ポリエステルフィルムを得た。
<Manufacture of copper foil with liquid crystal polyester>
The obtained liquid crystal polyester solution was applied onto a copper foil having a thickness of 70 μm so as to have a thickness of 300 μm. Subsequently, this was dried at 100 ° C. for 20 minutes and then heat-treated at 300 ° C. for 3 hours. As a result, a liquid crystal polyester film having a copper foil formed on the surface was obtained.

<金属ベース回路基板の製造>
その後、熱伝導率140W/(m・K)、厚さ1.0mmのアルミニウム合金板上に、上述の液晶ポリエステルフィルムを積層した。このとき、液晶ポリエステルフィルムの表面(銅箔が形成されていない面)が、アルミニウム合金板の表面と接するようにした。そして、圧力200kg/cm、温度340℃で20分間の加熱処理を行なうことにより、これらアルミニウム合金板と液晶ポリエステルフィルムとを熱接着した。得られた積層板について、所定の位置をエッチングレジストでマスクして銅箔をエッチングした後、エッチングレジストを除去して回路銅箔を形成し、金属ベース回路基板とした。
<Manufacture of metal base circuit board>
Thereafter, the above-mentioned liquid crystal polyester film was laminated on an aluminum alloy plate having a thermal conductivity of 140 W / (m · K) and a thickness of 1.0 mm. At this time, the surface of the liquid crystal polyester film (the surface on which the copper foil was not formed) was in contact with the surface of the aluminum alloy plate. Then, the aluminum alloy plate and the liquid crystal polyester film were thermally bonded by performing a heat treatment at a pressure of 200 kg / cm 2 and a temperature of 340 ° C. for 20 minutes. About the obtained laminated board, after masking a predetermined position with an etching resist and etching copper foil, the etching resist was removed and the circuit copper foil was formed, and it was set as the metal base circuit board.

さらに、金属ベース回路基板上に高反射率の白色膜を形成するために、種々白色ソルダーレジスト層を塗布し、熱及び紫外線で硬化した。このとき、光源が実装される部分(銅箔の電極部などとしてパターニングされた部分)には白色膜を形成しない。   Furthermore, in order to form a white film having a high reflectance on the metal base circuit board, various white solder resist layers were applied and cured with heat and ultraviolet rays. At this time, no white film is formed on the portion where the light source is mounted (the portion patterned as the electrode portion of the copper foil).

[実施例1]
白色ソルダーレジストとして、朝日ラバー社製、「SWR−PK−01」を用いた。SWR−PK−01は、ポリアルキルアルケニルシロキサン、ポリアルキル水素シロキサンに硬化触媒として白金化合物、白色無機充填材として二酸化チタン、水酸化アルミニウムを添加したものであり、40μmとなるように塗膜を形成した後、150℃で1時間熱硬化することによって白色膜を得た。
[Example 1]
As a white solder resist, “SWR-PK-01” manufactured by Asahi Rubber Co., Ltd. was used. SWR-PK-01 is a polyalkylalkenylsiloxane or polyalkylhydrogensiloxane with a platinum compound added as a curing catalyst, titanium dioxide or aluminum hydroxide added as a white inorganic filler, and a coating film is formed to a thickness of 40 μm. Then, a white film was obtained by thermosetting at 150 ° C. for 1 hour.

[実施例2]
白色ソルダーレジストとして、シリコーン樹脂 EG−6301A、B(東レ・ダウコーニング社製)各5g、酸化チタン CR−58(石原産業社製)20g、メチルエチルケトン(Aldrich社製)10gを攪拌脱泡機により混合分散したものを用い、溶媒乾燥後の膜厚が40μmとなるように塗膜を形成した後、150℃で1時間熱硬化することによって白色膜を得た。
[Example 2]
As a white solder resist, 5 g each of silicone resins EG-6301A and B (manufactured by Dow Corning Toray), 20 g of titanium oxide CR-58 (manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.), and 10 g of methyl ethyl ketone (manufactured by Aldrich) are mixed by a stirring defoaming machine. Using the dispersion, a coating film was formed so that the film thickness after solvent drying was 40 μm, and then a white film was obtained by thermosetting at 150 ° C. for 1 hour.

[比較例1]
白色ソルダーレジストとして、太陽インキ社製、「PSR−9000FLX05W」を用いた。PSR−9000FLX05Wは、アクリレート樹脂に光重合開始剤、白色無機充填材として酸化チタン、水酸化アルミニウムを添加したものであり、塗膜形成後、紫外線照射により光硬化することによって白色膜を得た。
[Comparative Example 1]
As the white solder resist, “PSR-9000FLX05W” manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd. was used. PSR-9000FLX05W is a product obtained by adding a photopolymerization initiator to an acrylate resin and titanium oxide and aluminum hydroxide as a white inorganic filler. After forming the coating film, the PSR-9000FLX05W was photocured by ultraviolet irradiation to obtain a white film.

[比較例2]
白色ソルダーレジストとして、太陽インキ社製、「PSR−4000LEW3」を用いた。PSR−4000LEW3は、アクリレート樹脂に光重合開始剤、白色無機充填材として酸化チタン、水酸化アルミニウムを添加したものであり、塗膜形成後、紫外線照射により光硬化することによって白色膜を得た。
[Comparative Example 2]
“PSR-4000LEW3” manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd. was used as the white solder resist. PSR-4000LEW3 is obtained by adding a photopolymerization initiator and titanium oxide and aluminum hydroxide as a white inorganic filler to an acrylate resin. After forming a coating film, it was photocured by ultraviolet irradiation to obtain a white film.

[比較例3]
白色ソルダーレジストとして、シリコーン樹脂 SCR−1011A、B(信越化学工業社製)各5g、酸化チタン CR−58(石原産業社製)20g、メチルエチルケトン(Aldrich社製)15gを攪拌脱泡機により混合分散したものを用い、溶媒乾燥後の膜厚が40μmとなるように塗膜を形成した後、150℃で1時間熱硬化することによって白色膜を得た。
[Comparative Example 3]
As a white solder resist, 5 g each of silicone resins SCR-1011A and B (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 20 g of titanium oxide CR-58 (manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.), and 15 g of methyl ethyl ketone (manufactured by Aldrich) are mixed and dispersed by a stirring defoamer. After forming the coating film so that the film thickness after solvent drying was 40 μm, a white film was obtained by thermosetting at 150 ° C. for 1 hour.

・ 反射率
予め脱脂処理を行なった50mm×50mm×1mmtのアルミ板表面に厚さ50μmとなるように上記各実施例及び比較例の組成物を塗布し、熱風循環式乾燥炉にて80℃で30分乾燥させた。その後、シリコーン樹脂は150℃で1時間熱硬化し、アクリル樹脂は水銀ショートアークランプにて積算露光量500 mJ/cmの条件で紫外線照射することで光硬化した。その後、第二塩化鉄水溶液で銅箔をエッチングで除去し、水洗することで評価サンプルを得た。
-Reflectivity The compositions of the above examples and comparative examples were applied to the surface of a 50 mm × 50 mm × 1 mmt aluminum plate that had been degreased in advance so as to have a thickness of 50 μm, and then heated at 80 ° C. in a hot air circulating drying oven. Dry for 30 minutes. Thereafter, the silicone resin was thermally cured at 150 ° C. for 1 hour, and the acrylic resin was photocured by irradiating with ultraviolet rays under a condition of an integrated exposure amount of 500 mJ / cm 2 with a mercury short arc lamp. Thereafter, the copper foil was removed by etching with an aqueous ferric chloride solution and washed with water to obtain an evaluation sample.

上記の評価サンプルを用い、JIS K7105−1981の全光線反射率測定法A(標準白色板:硫酸バリウム)に準拠して、自記分光光度計((株)日立製作所製「U−3500」)を用いて波長460nm、525nm、620nmの光線に対する拡散反射率の測定を行った。なお、この拡散反射率は硫酸バリウムの標準白色板の拡散反射率を100%としたときの相対値である。   Using the above evaluation sample, in accordance with JIS K7105-1981 total light reflectance measurement method A (standard white plate: barium sulfate), a self-recording spectrophotometer ("U-3500" manufactured by Hitachi, Ltd.) The diffuse reflectance with respect to light beams having wavelengths of 460 nm, 525 nm, and 620 nm was measured. The diffuse reflectance is a relative value when the diffuse reflectance of a standard white plate of barium sulfate is 100%.

・ 引張り伸び率(引張破壊伸び)
予め脱脂処理を行なった厚み18μmの銅箔上に、上記各実施例及び比較例の組成物を塗布し、熱風循環式乾燥炉にて80℃で30分乾燥させた。その後、シリコーン樹脂は150℃で1時間熱硬化し、アクリル樹脂は水銀ショートアークランプにて積算露光量500 mJ/cm2の条件で紫外線照射することで光硬化した。その後、第二塩化鉄水溶液で銅箔をエッチングで除去し、水洗することで評価サンプルを得た。
・ Tensile elongation (tensile elongation at break)
The compositions of the above Examples and Comparative Examples were applied on a copper foil having a thickness of 18 μm that had been previously degreased, and dried at 80 ° C. for 30 minutes in a hot-air circulating drying furnace. Thereafter, the silicone resin was heat-cured at 150 ° C. for 1 hour, and the acrylic resin was photocured by irradiating with ultraviolet rays under the condition of an integrated exposure amount of 500 mJ / cm 2 with a mercury short arc lamp. Thereafter, the copper foil was removed by etching with an aqueous ferric chloride solution and washed with water to obtain an evaluation sample.

上記の評価サンプルの引張り伸び率(引張破壊伸び)をJIS C2151(1990年)に記載の引張り伸び率の試験方法に基づき測定した。なお、引張り伸び率の測定は、常温(25℃)下で行い、試験装置として定速緊張形引張試験機を使用し、引張速度は5mm/分とした。評価サンプルの厚み(白色膜の膜厚)は40μmである。   The tensile elongation rate (tensile elongation at break) of the evaluation sample was measured based on the tensile elongation test method described in JIS C2151 (1990). The tensile elongation was measured at room temperature (25 ° C.), a constant speed tension type tensile tester was used as a test apparatus, and the tensile speed was 5 mm / min. The thickness of the evaluation sample (the thickness of the white film) is 40 μm.

・ 絶縁層の密着力
絶縁層の密着力の試験として、絶縁層上の銅箔をエッチング加工することにより幅10mmのパターンを形成し、この銅箔のパターンを垂直方向に50mm/分の速度で引き剥がす際の強度(絶縁層/銅箔間のTピール強度)を測定した。
-Adhesion strength of the insulating layer As a test of the adhesion strength of the insulating layer, a pattern having a width of 10 mm was formed by etching the copper foil on the insulating layer, and this copper foil pattern was formed at a rate of 50 mm / min in the vertical direction. The strength at the time of peeling (T peel strength between insulating layer / copper foil) was measured.

・ 常温(25℃)下で90°折り曲げた時のクラックの有無
常温下で90°折り曲げた状態でのクラック発生の有無は、曲率半径を1mmとして90°折り曲げを行なった後の絶縁層、導電箔、白色膜を光学顕微鏡で10倍に拡大し目視で観察することにより行なった。
・ Presence or absence of cracks when bent 90 ° at room temperature (25 ° C) The presence or absence of cracks when bent 90 ° at room temperature is determined by the insulation layer after conducting 90 ° bending with a radius of curvature of 1 mm. The foil and white film were magnified 10 times with an optical microscope and observed visually.

・ 常温(25℃)下で90°折り曲げた状態での絶縁破壊電圧
常温下で90°折り曲げた状態での絶縁破壊電圧の測定は、銅箔としてφ20mmの円形パターンを形成した金属ベース回路基板の当該φ20mmの円形パターンが含まれるように曲率半径1mmで当該円形パターンの中心を通る折り曲げ線に沿って金属ベース回路基板を90°折り曲げた状態でJIS C 2110に規定された段階昇圧法により、円形パターンと金属基板との間の絶縁破壊電圧を測定した。
・ Dielectric breakdown voltage when bent 90 ° under normal temperature (25 ° C) Measurement of dielectric breakdown voltage when bent 90 ° under normal temperature is based on a metal base circuit board formed with a circular pattern of φ20mm as copper foil. In order to include the circular pattern of φ20 mm, the metal base circuit board is bent by 90 ° along a bending line passing through the center of the circular pattern with a radius of curvature of 1 mm, and the circular pressure is increased by the step-up method defined in JIS C 2110. The breakdown voltage between the pattern and the metal substrate was measured.

表1は、実施例1,2および比較例1,2,3の評価結果である。   Table 1 shows the evaluation results of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1, 2, and 3.

Figure 2012243846
Figure 2012243846

表1に示すように、実施例1,2においては、白色膜の引張り伸び率が10%以上となっており、比較例1,2,3の4%未満に比べて非常に大きな引張り伸び率となっている。比較例1,2,3では、常温下で90°折り曲げたときにクラックが発生したのに対し、実施例1,2では、常温下で90°折り曲げたときにもクラックが発生しておらず、高い耐久性を有するものとなっている。また、実施例1,2においては、反射率や絶縁層の密着力、常温下で90°折り曲げた状態での絶縁破壊電圧のいずれにおいても高い特性を有しており、折り曲げて用いる用途において適した構成となっている。   As shown in Table 1, in Examples 1 and 2, the tensile elongation of the white film is 10% or more, which is much larger than that of Comparative Examples 1, 2 and 3 of less than 4%. It has become. In Comparative Examples 1, 2, and 3, cracks occurred when bent at 90 ° at room temperature, whereas in Examples 1 and 2, no cracks occurred even when bent at 90 ° at room temperature. It has high durability. Moreover, in Examples 1 and 2, it has a high characteristic in any of the reflectance, the adhesion strength of the insulating layer, and the dielectric breakdown voltage in a state of being bent at 90 ° at room temperature, and is suitable for the use in which it is bent. It becomes the composition.

本発明は、金属ベース回路基板および発光素子に利用することができる。   The present invention can be used for a metal base circuit board and a light emitting device.

1…発光素子、10…金属ベース回路基板、11…金属基板、12…絶縁層、13…導電箔、14…白色膜、20…光源 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Light emitting element, 10 ... Metal base circuit board, 11 ... Metal substrate, 12 ... Insulating layer, 13 ... Conductive foil, 14 ... White film, 20 ... Light source

Claims (4)

金属基板と、前記金属基板上に積層された絶縁層と、前記絶縁層上に局所的に積層された回路形成用の導電箔と、前記導電箔と前記絶縁層との露出面の一部に積層された白色膜と、を有してなる金属ベース回路基板であって、
前記白色膜が、熱硬化性のシリコーン樹脂を含み、前記白色膜の常温での引張り伸び率が10%以上である金属ベース回路基板。
A metal substrate, an insulating layer stacked on the metal substrate, a conductive foil for forming a circuit locally stacked on the insulating layer, and a part of an exposed surface of the conductive foil and the insulating layer A metal-based circuit board comprising a laminated white film,
The metal base circuit board, wherein the white film includes a thermosetting silicone resin, and the tensile elongation at normal temperature of the white film is 10% or more.
前記導電箔は、導電材料を圧延して形成されたものである請求項1に記載の金属ベース回路基板。   The metal base circuit board according to claim 1, wherein the conductive foil is formed by rolling a conductive material. 前記絶縁層が液晶ポリエステルを含む請求項1に記載の金属ベース回路基板。   The metal base circuit board according to claim 1, wherein the insulating layer includes liquid crystal polyester. 請求項1ないし3のいずれか1項に記載の金属ベース回路基板を備えている発光素子。   The light emitting element provided with the metal base circuit board of any one of Claim 1 thru | or 3.
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