JP7107398B2 - 投影装置、投影方法及びプログラム - Google Patents
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Description
60[Hz]系でのリフレッシュ期間の時間長は約121[μ秒]
(≒(124.0/102.4)×100[μ秒])、
50[Hz]系でのリフレッシュ期間の時間長は約111[μ秒]
(≒(104.2/94.0)×100[μ秒])、
となる。
図10(A)は、リフレッシュ動作を実行しない、通常の蛍光ホイールレートを示すタイミングチャートである。上段が電源に与えるシンクパルスであり、下段が同電源によって駆動される光源が発光する原色光である。
その後、(4)′のシンクパルスを受けた時点で、電源は赤色LEDをオンする。
以下本発明をDLP(登録商標)方式のプロジェクタ装置に適用した場合の第1の実施形態について図面を参照して説明する。
この操作部22は、プロジェクタ装置10の本体に設けられるキー操作部と、このプロジェクタ装置10専用の図示しないリモートコントローラからの赤外光を受光する赤外線受光部とを含み、ユーザが本体のキー操作部またはリモートコントローラで操作したキーに基づくキー操作信号をCPU19へ直接出力する。
なお、以下に示す動作は、基本的にCPU19の制御の下に投影処理部13が実行する処理を示す。
以下本発明をDLP(登録商標)方式のプロジェクタ装置に適用した場合の第2の実施形態について図面を参照して説明する。
図7(A)は、50[Hz]系の画像信号が入力されている場合の蛍光ホイール41の駆動を示す図である。蛍光ホイール41に対して図面の紙面上側から下側に向けて青色レーザ光が照射されるものとした場合、図示するように蛍光ホイール41は時計回りの方向D1で回転駆動される。
[請求項1]
発光素子からの光により励起されて蛍光光が発せられる蛍光体を有する蛍光光反射エリア及び上記発光素子からの光を透過させる透過エリアの少なくとも一方と、上記発光素子からの光を出射させない遮蔽エリアとが円周方向に並設するように設けられた蛍光ホイールと、
上記蛍光ホイールを回転駆動するモータと、
上記蛍光ホイールから出射された光を用いて光像を形成する、複数のマイクロミラーから構成された表示素子と、
上記蛍光ホイールの回転によって上記発光素子からの光の照射位置に上記遮蔽エリアが位置する間に、上記マイクロミラーのオン/オフの反転動作を行うように制御する制御部と、
を備える投影装置。
[請求項2]
上記表示素子で形成された光像を被投影対象に向けて投影する投影部を備え、
上記制御部は、上記蛍光ホイールの回転によって上記発光素子からの光の照射位置に上記遮蔽エリアが位置する間中、上記発光素子の発光が継続されるように制御する
請求項1記載の投影装置。
[請求項3]
上記発光素子は、レーザ光を発する半導体レーザを含み、
上記蛍光光反射エリアは、第1の蛍光体が周状に塗布され、上記レーザ光の照射により励起して第1の蛍光光を出射し、反射光として生成する第1の蛍光光反射エリアと、上記第1の蛍光体と異なる波長帯域の第2の蛍光体が周状に塗布され、上記レーザ光の照射により励起して第2の蛍光光を出射し、反射光として生成する第2の蛍光光反射エリアと、を含む
請求項1又は2記載の投影装置。
[請求項4]
上記遮蔽エリアは、上記蛍光光反射エリアと上記透過エリアとの境界、又は上記第1の蛍光光反射エリアと上記第2の蛍光光反射エリアとの境界に設けられている請求項3記載の投影装置。
[請求項5]
上記遮蔽エリアは、上記蛍光光反射エリア側に設けられている請求項1乃至4いずれか記載の投影装置。
[請求項6]
上記蛍光ホイールは、中心角の異なる複数の上記遮蔽エリアを設け、
上記発光素子からの光を上記複数の遮蔽エリアのうちの1つに選択的に照射させるよう上記発光素子の発光タイミングを制御する制御部をさらに備える
請求項1乃至5いずれか記載の投影装置。
[請求項7]
上記制御部は、上記遮蔽エリアの選択と対応して上記蛍光ホイールの回転方向を可変設定する請求項2記載の投影装置。
[請求項8]
発光素子からの光により励起されて蛍光光が発せられる蛍光体を有する蛍光光反射エリア及び上記発光素子からの光を透過させる透過エリアの少なくとも一方と、上記発光素子からの光を出射させない遮蔽エリアとが円周方向に並設するように設けられた蛍光ホイールと、
上記蛍光ホイールを回転駆動するモータと、
を備える光源装置。
[請求項9]
発光素子からの光により励起されて蛍光光が発せられる蛍光体を有する蛍光光反射エリア及び上記発光素子からの光を透過させる透過エリアの少なくとも一方と、上記発光素子からの光を出射させない遮蔽エリアとが円周方向に並設するように設けられた蛍光ホイールと、上記蛍光ホイールを回転駆動するモータと、上記蛍光ホイールから出射された光を用いて光像を形成する、複数のマイクロミラーから構成された表示素子と、を備える装置での投影方法であって、
上記蛍光ホイールの回転によって上記発光素子からの光の照射位置に上記遮蔽エリアが位置する間に、上記マイクロミラーのオン/オフの反転動作を行うように制御する制御工程を有する投影方法。
[請求項10]
発光素子からの光により励起されて蛍光光が発せられる蛍光体を有する蛍光光反射エリア及び上記発光素子からの光を透過させる透過エリアの少なくとも一方と、上記発光素子からの光を出射させない遮蔽エリアとが円周方向に並設するように設けられた蛍光ホイールと、上記蛍光ホイールを回転駆動するモータと、上記蛍光ホイールから出射された光を用いて光像を形成する、複数のマイクロミラーから構成された表示素子と、を備える装置が内蔵したコンピュータが実行するプログラムであって、上記コンピュータを、
上記蛍光ホイールの回転によって上記発光素子からの光の照射位置に上記遮蔽エリアが位置する間に、上記マイクロミラーのオン/オフの反転動作を行うように制御する制御部として機能させるプログラム。
11…入力部、
12…画像変換部、
13…投影処理部、
14…マイクロミラー素子(表示素子)、
15…光源部、
16…ミラー、
17…投影レンズ部、
18…デジタル電源、
19…CPU、
20…メインメモリ、
21…プログラムメモリ、
22…操作部、
23…音声処理部、
24…スピーカ部、
31…蛍光ホイール、
31B1,31B2…遮蔽エリア、
31G…緑色光反射エリア(蛍光光反射エリア)、
31T…透過エリア、
41…蛍光ホイール、
41B1,41B2…遮蔽エリア、
41G…緑色光反射エリア(第1の蛍光光反射エリア)、
41R…赤色光反射エリア(第2の蛍光光反射エリア)、
SB…システムバス。
Claims (12)
- 発光素子からの光を透過させる第1エリアと、上記発光素子からの光を遮蔽する第2エリアと、が異なるタイミングで上記発光素子からの光の光路を通過するように設けられた基材と、
マイクロミラーを複数有し、上記基材から出射された光を用いて光像を形成する表示素子と、
上記発光素子からの光の光路上に、上記第1エリアと上記第2エリアのうち、上記第2エリアが位置する間で、且つ、上記発光素子からの光が上記マイクロミラーに照射されない間に、上記マイクロミラーのオン/オフの反転動作を行うように制御する制御部と、
を備える投影装置。 - 発光素子からの光を透過させる第1エリアと、上記発光素子からの光を遮蔽する第2エリアと、が異なるタイミングで上記発光素子からの光の光路を通過するように設けられた基材と、
マイクロミラーを複数有し、上記基材から出射された光を用いて光像を形成する表示素子と、
上記発光素子からの光の光路上に、上記第1エリアと上記第2エリアのうち、上記第2エリアが位置する間で、且つ、上記発光素子からの光がマイクロミラーに照射されない間に、上記マイクロミラーのオン/オフの反転動作を行うように制御する制御部と、
上記表示素子で形成された光像を被投影対象に向けて投影する投影部と、
を備え、
上記第2エリアは、上記発光素子からの光を透過せず、且つ上記発光素子からの光を反射しない領域であり、
上記制御部は、上記発光素子からの光の光路上に上記第2エリアが位置する間中、上記発光素子の発光が継続されるように制御する投影装置。 - 発光素子からの光を透過させる第1エリアと、上記発光素子からの光を遮蔽する第2エリアと、が異なるタイミングで上記発光素子からの光の光路を通過するように設けられた基材と、
マイクロミラーを複数有し、上記基材から出射された光を用いて光像を形成する表示素子と、
上記発光素子からの光の光路上に、上記第1エリアと上記第2エリアのうち、上記第2エリアが位置する間で、且つ、上記発光素子からの光が上記マイクロミラーに照射されない間に、上記マイクロミラーのオン/オフの反転動作を行うように制御する制御部と、
を備え、
上記発光素子は、レーザ光を発する半導体レーザを含み、
上記基材は、上記発光素子からの光を反射させる第3エリアをさらに含み、
上記第3エリアは、第1の蛍光体が塗布され、上記レーザ光の照射により励起して第1の蛍光光を出射し、反射光として生成する第1の蛍光光反射エリアと、上記第1の蛍光体と異なる波長帯域の第2の蛍光体が塗布され、上記レーザ光の照射により励起して第2の蛍光光を出射し、反射光として生成する第2の蛍光光反射エリアと、を含む投影装置。 - 上記第2エリアは、上記発光素子からの光を透過せず、且つ上記発光素子からの光を反射しない領域である
請求項1又は3記載の投影装置。 - 上記表示素子で形成された光像を被投影対象に向けて投影する投影部を備え、
上記制御部は、上記発光素子からの光の光路上に上記第2エリアが位置する間中、上記発光素子の発光が継続されるように制御する
請求項4記載の投影装置。 - 上記発光素子は、レーザ光を発する半導体レーザを含み、
上記基材は、上記発光素子からの光を反射させる第3エリアをさらに含み、
上記第3エリアは、第1の蛍光体が塗布され、上記レーザ光の照射により励起して第1の蛍光光を出射し、反射光として生成する第1の蛍光光反射エリアと、上記第1の蛍光体と異なる波長帯域の第2の蛍光体が塗布され、上記レーザ光の照射により励起して第2の蛍光光を出射し、反射光として生成する第2の蛍光光反射エリアと、を含む請求項1又は2記載の投影装置。 - 上記第2エリアは、上記第1エリアと上記第3エリアとの境界、又は上記第1の蛍光光反射エリアと上記第2の蛍光光反射エリアとの境界に設けられている
請求項6記載の投影装置。 - 上記第2エリアは、上記第1エリアに隣接して設けられている
請求項1乃至7いずれか記載の投影装置。 - 上記基材は、上記発光素子からの光の光路上に位置する時間が互いに異なる複数の上記第2エリアを設け、
上記制御部は、上記発光素子からの光を上記複数の第2エリアのうちの1つに選択的に照射させるよう上記発光素子の発光タイミングを制御する
請求項6又は7記載の投影装置。 - 上記基材を駆動するモータを備え、
上記制御部は、上記モータの回転により、上記第2エリアの選択と対応して上記基材が動く方向を可変設定する請求項9記載の投影装置。 - 発光素子からの光を透過させる第1エリアと、上記発光素子からの光を遮蔽する第2エリアと、が異なるタイミングで上記発光素子からの光の光路を通過するように設けられた基材を備える装置での投影方法であって、
上記発光素子からの光の光路上に、上記第1エリアと上記第2エリアのうち、上記第2エリアが位置する間で、且つ、上記発光素子からの光が、マイクロミラーを複数有するとともに上記基材から出射された光を用いて光像を形成する表示素子における上記マイクロミラーに照射されない間に、上記マイクロミラーのオン/オフの反転動作を行うように制御する制御工程を有する投影方法。 - 発光素子からの光を透過させる第1エリアと、上記発光素子からの光を遮蔽する第2エリアと、が異なるタイミングで上記発光素子からの光の光路を通過するように設けられた基材を備える装置が内蔵したコンピュータが実行するプログラムであって、上記コンピュータを、
上記発光素子からの光の光路上に、上記第1エリアと上記第2エリアのうち、上記第2エリアが位置する間で、且つ、上記発光素子からの光が、マイクロミラーを複数有するとともに上記基材から出射された光を用いて光像を形成する表示素子における上記マイクロミラーに照射されない間に、上記マイクロミラーのオン/オフの反転動作を行うように制御する制御部として機能させるプログラム。
異なるタイミングで上記発光素子からの光の光路を通過するように設けられた基材と、上記発光素子からの光の光路上に、上記第1エリアと上記第2エリアのうち、上記第2エリアが位置する間で、且つ、上記発光素子からの光がマイクロミラーに照射されない間に、上記マイクロミラーのオン/オフの反転動作を行うように制御する制御部と、を備える。
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