JP7091813B2 - 異物検査方法、異物検査装置及びスリッター - Google Patents

Description

本発明は、異物検査方法、異物検査装置及びスリッターに関する。

反射率の違いをもとに金属種の異物を検出する異物検出工程の技術が特許文献１に記載されている。フラックスゲートセンサを用いて、被検査物に混入する微細な磁性体の金属異物を検知することができる微細金属検出装置が特許文献２に記載されている。上流側から下流側に向かう移動方向に沿って進む被検査物に含まれた磁性金属異物を永久磁石と検出コイルとを使用して検出する磁気検出装置が特許文献３に記載されている。

特開２００３－２１５０５１号公報 特開２０１１－２３７１８１号公報 特開２０１４－２２４８１１号公報

ところで、フィルム状の被検査対象の生産設備は、金属でできていることが多く、金属種の異物の混入箇所の特定が予測しにくい。金属種の異物が小さくなると、反射率の差が小さくなり、特許文献１の技術によっても、金属種の異物の区別がつきにくく、金属種の異物があっても、正常なフィルム状の被検査対象として判別されてしまう可能性がある。また、特許文献１の技術では、フィルム状の被検査対象自体の色によって、判別精度が影響を受けてしまう可能性がある。

そこで、フィルム状の被検査対象に対して、特許文献２に記載されたフラックスゲートセンサなどの磁気検出装置により、金属種の異物を検出することが考えられる。しかしながら、磁気検出装置が金属種の異物を検出すると、フィルム状の被検査対象の生産を止めて、異物のフィルム状の被検査対象の全体を破棄せざるを得ず、フィルム状の被検査対象の歩留まりが低下してしまう可能性がある。

本発明の目的は、フィルム状の被検査対象内において、金属種の異物の疑いがある位置を特定できる異物検査方法、異物検査装置及びスリッターを提供することにある。

第１の態様の異物検査方法は、上流から下流へ搬送方向に搬送されるフィルム状の被検査対象である第１フィルムに対し、含まれる可能性のある異物を検査する異物検査方法であって、前記搬送方向に直交する幅方向に複数並べられた磁気検出部の信号を検出する磁気検出ステップと、前記磁気検出ステップにおいて、信号値が所定の閾値となった磁気検出部の前記幅方向の位置と、当該磁気検出部の信号が閾値を出力した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標とに基づいて、前記第１フィルムにおける第１種異物の位置を示す第１異物座標マップを作成する第１異物座標マップ作成ステップと、を有する。この態様によれば、フィルム状の被検査対象内において、金属種の異物の疑いがある位置を特定できる。

望ましい態様として、前記第１フィルムに、検査光を照射し、前記第１フィルムの画像を検出する画像検出ステップと、前記第１フィルムの画像から輝度差に基づいて、第２種異物を特定し、前記第１フィルムの画像を撮像した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第２種異物の位置に基づいて、前記第１フィルムにおける当該第２種異物の位置を示す第２異物座標マップを作成する第２異物座標マップ作成ステップと、をさらに有し、前記第１異物座標マップにおいて、前記第１種異物がある領域を、第２異物座標マップに重ね、前記第１種異物がある領域と重なる第２種異物を第１種異物と判断する。これにより、位置精度の高い第２異物座標マップと同じ精度で、第１種異物を特定できる。

望ましい態様として、前記第１フィルムに、検査光を照射し、前記第１フィルムの画像を検出する画像検出ステップと、前記第１フィルムの画像から輝度差に基づいて、第２種異物を特定し、前記第１フィルムの画像を撮像した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第２種異物の位置に基づいて、前記第１フィルムにおける当該第２種異物の位置を示す第２異物座標マップを作成する第２異物座標マップ作成ステップと、前記第１異物座標マップにおいて、前記第１種異物がある領域を、第２異物座標マップに重ね、前記第１種異物がある領域と重なる第２種異物を第１種異物と置き換えた第３異物座標マップを作成する第３異物座標マップ作成ステップと、をさらに有する。これにより、第１種異物が存在すると疑われる領域については、第２種異物が全て第１種異物として扱われるので、第１種異物の見逃しが抑制される。

望ましい態様として、前記第１フィルムに、検査光を照射し、前記第１フィルムの画像を検出する画像検出ステップと、前記第１フィルムの画像から輝度差に基づいて、第２種異物を特定し、前記第１フィルムの画像を撮像した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第２種異物の位置に基づいて、前記第１フィルムにおける当該第２種異物の位置を示す第２異物座標マップを作成する第２異物座標マップ作成ステップと、前記第１異物座標マップと、前記第２異物座標マップとを、同じ送り座標で比較し、前記第２異物座標マップにおいて、各前記第２種異物を中心にして前記幅方向に並べられた隣り合う前記磁気検出部の距離の１／２以下の範囲に、前記第１異物座標マップの前記第１種異物がある第２種異物を、第１種異物に置き換えた第３異物座標マップを作成する第３異物座標マップ作成ステップと、をさらに有する。これにより、精度の高い第２異物座標に基づいて、第１種異物か第２種異物かの判定が行われるので、誤判定が抑制される。

望ましい態様として、前記第１フィルムが前記幅方向に設けられた複数のスリットで分割された複数の第２フィルムとされ、前記幅方向に設けられた複数のスリットの位置と、前記第３異物座標マップとに基づいて、前記第１種異物が含まれる第２フィルムを、前記第１種異物が含まれない第２フィルムよりも品質の等級を下げて評価する。これにより、第１種異物が含まれる第２フィルムが判明しているので、第１フィルム全体を破棄せず、製品の歩留まりが向上する。

望ましい態様として、１つの前記磁気検出部が磁気を検出可能な前記幅方向の磁気検出幅が、当該磁気検出部と隣り合う磁気検出部の磁気検出幅とオーバーラップしており、前記搬送方向において、前記送り座標の所定範囲内で、隣り合う前記磁気検出部が前記閾値以上の信号を検出した場合に、大きい信号を出力した磁気検出部側の前記幅方向の位置座標を付与した前記第１種異物を前記第１異物座標マップにプロットする。これにより、隣り合う磁気検出部の間にある第１種異物の検知精度を確保することができる。

望ましい態様として、前記磁気検出部は、フラックスゲートセンサである。これにより、磁化された第１種異物が精度よく検出される。

望ましい態様として、０．０５ｍｍ^２以上の前記第１種異物に対して、１つの前記磁気検出部が前記閾値以上の信号を出力する。これにより、０．０５ｍｍ^２以上の第１種異物が精度よく検出できる。

望ましい態様として、前記第１フィルムは、前記磁気検出部の上流側において、帯磁器の磁界を通過する。これにより、磁気検出部は、磁化された第１種異物を検知できる。

望ましい態様として、前記第１フィルムは、前記磁気検出部の上流側かつ前記帯磁器の下流において、静電除去装置の処理を通過する。これにより、磁気検出部の信号ノイズが低減する。

第２の態様の異物検査装置は、上流から下流へ搬送方向に搬送されるフィルム状の被検査対象である第１フィルムに対し、含まれる可能性のある異物を検査する異物検査装置であって、前記第１フィルムの搬送方向の送り座標を検出する位置検出装置と、前記搬送方向に直交する幅方向に複数並べられた磁気検出部の信号を検出する磁気検出装置と、信号値が所定の閾値となった磁気検出部の前記幅方向の位置と、当該磁気検出部の信号が閾値を出力した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標とに基づいて、前記第１フィルムにおける第１種異物の位置を示す第１異物座標マップを作成する解析装置と、を有する。この態様によれば、フィルム状の被検査対象内において、金属種の異物の疑いがある位置を特定できる。

望ましい態様として、前記第１フィルムに、検査光を照射し、前記第１フィルムの画像を検出する画像検出装置をさらに有し、前記解析装置は、前記第１フィルムの画像から輝度差に基づいて、第２種異物を特定し、前記第１フィルムの画像を撮像した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第２種異物の位置に基づいて、前記第１フィルムにおける当該第２種異物の位置を示す第２異物座標マップを作成し、前記第１異物座標マップにおいて、前記第１種異物がある領域を、第２異物座標マップに重ね、前記第１種異物がある領域と重なる第２種異物を第１種異物と判断する。これにより、位置精度の高い第２異物座標マップと同じ精度で、第１種異物を特定できる。

第３の態様のスリッターは、上流から下流へ搬送方向に第１フィルムを搬送する走行ロールと、前記第１フィルムにスリットを入れて、複数の第２フィルムに分割するカッターロールと、前記カッターロールの上流側において、前記第１フィルムを検査対象とし、前記第１フィルムに含まれる可能性のある異物を検査する異物検査装置と、を有し、前記異物検査装置は、前記第１フィルムの搬送方向の送り座標を検出する位置検出装置と、前記搬送方向に直交する幅方向に複数並べられた磁気検出部の信号を検出する磁気検出装置と、信号値が所定の閾値となった磁気検出部の前記幅方向の位置と、当該磁気検出部の信号が閾値を出力した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標とに基づいて、前記第１フィルムにおける第１種異物の位置を示す第１異物座標マップを作成する解析装置と、を有する。この態様によれば、フィルム状の被検査対象内において、金属種の異物の疑いがある位置を特定できる。

望ましい態様として、前記異物検査装置は、前記第１フィルムに、検査光を照射し、前記第１フィルムの画像を検出する画像検出装置をさらに有し、前記解析装置は、前記第１フィルムの画像から輝度差に基づいて、第２種異物を特定し、前記第１フィルムの画像を撮像した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第２種異物の位置に基づいて、前記第１フィルムにおける当該第２種異物の位置を示す第２異物座標マップを作成し、前記第１異物座標マップにおいて、前記第１種異物がある領域を、第２異物座標マップに重ね、前記第１種異物がある領域と重なる第２種異物を第１種異物と判断する。これにより、位置精度の高い第２異物座標マップと同じ精度で、第１種異物を特定できる。

上述した第１の態様から第３の態様によれば、フィルム状の被検査対象内において、金属種の異物の疑いがある位置が特定される。

図１は、本実施形態の異物検査装置を備えたスリッターの全体構成を示す模式図である。 図２は、本実施形態の画像検出装置の模式図である。 図３は、本実施形態の磁気検出装置の位置と磁気検出領域を説明するための模式図である。 図４は、本実施形態において、隣り合う３つの磁気検出部の検出例を説明するための説明図である。 図５は、本実施形態の異物検査方法のフローチャートを説明するための説明図である。 図６は、本実施形態の異物検査方法において、第３異物座標マップ作成を説明するフローチャートである。 図７は、本実施形態の第１異物座標マップの一例を示す説明図である。 図８は、本実施形態の第２異物座標マップの一例を示す説明図である。 図９は、本実施形態の第３異物座標マップの一例を示す説明図である。 図１０は、本実施形態の変形例において、第１種異物に置き換える第２種異物を説明するための説明図である。 図１１は、本実施形態の変形例において、第１種異物に置き換える複数の第２種異物を説明するための説明図である。

以下、本発明を実施するための形態（以下、実施形態という）につき、図面を参照しつつ説明する。なお、下記の実施形態により本発明が限定されるものではない。また、下記実施形態における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。さらに、下記実施形態で開示した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。

図１は、本実施形態の異物検査装置を備えたスリッターの全体構成を示す模式図である。図２は、本実施形態の画像検出装置の模式図である。図３は、本実施形態の磁気検出装置の位置と磁気検出領域を説明するための模式図である。以下、図１から図３を適宜参照して、第１フィルムＦＭＬの異物検査装置２０を説明する。

（異物検査装置）
図１に示すように、異物検査装置２０は、走行ロールＲＲにより搬送されている第１フィルムＦＭＬの異物を検出する装置である。異物検査装置２０は、位置検出装置８と、画像検出装置５と、磁気検出装置１と、解析装置１０とを備えている。

スリッター１００は、異物検査装置２０を備えている。スリッター１００は、走行ロールＲＲと、カッターロールＣＲとを少なくとも備えている。スリッター１００は、カッターロールＣＲで、巻き取った原反ＭＲにスリットＣＬ（図３参照）を入れて、巻き取り複数の第２フィルムＱＡからＱＨを得る。第１フィルムＦＭＬが分割され、複数の第２フィルムＱＡからＱＨとなる。複数の第２フィルムＱＡからＱＨが製品ロールＲＬになる。図３において、カッターロールＣＲがスリットＣＬを入れる位置が位置ＳＬＴである。

第１フィルムＦＭＬは、フィルムの幅方向の両端の厚みが中央部に比して厚くなりやすいため、フィルムの幅方向の両端部ＱＱをそれぞれ、成膜時の幅ＦＭＬＷから所定量だけ削除する耳取り加工を行った上で、巻き取る。なお、耳取り加工は、しなくてもよい。

第１フィルムＦＭＬは、本実施形態に係る異物検査装置２０または異物検査方法のフィルム状の被検査対象である。第１フィルムＦＭＬは、熱可塑性樹脂で形成されている。例えば、第１フィルムＦＭＬは、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン樹脂（ＡＢＳ）、アクリロニトリル・エチレン－プロピレン－ジエン・スチレン樹脂（ＡＥＳ）、アクリロニトリル・スチレン・アクリレート樹脂（ＡＳＡ）、塩化ビニル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂や、これらを２種類以上組み合わせた樹脂、これらを２種類以上積層した樹脂、またはこれらの樹脂に繊維や微粒子を加えて形成されている。

位置検出装置８は、走行ロールＲＲを回転させるモータ回転量を計測し、第１フィルムＦＭＬの送り座標を検出するエンコーダである。位置検出装置８は、送り座標の情報を解析装置１０へ伝送する。位置検出装置８は、走行ロールＲＲの回転量を計測し、第１フィルムＦＭＬの送り座標を検出するエンコーダであってもよい。あるいは、位置検出装置８は、光学的に第１フィルムＦＭＬ自体の送り量を検出し、送り座標を検出するエンコーダであってもよい。

画像検出装置５は、撮像装置６と、照射装置７を備える。図２に示すように、照射装置７は、撮像装置６の光軸上に配置されている。第１フィルムＦＭＬは、照射装置７と撮像装置６との間を通過する。

図２に示すように、撮像装置６は、搬送方向Ｆに移動する第１フィルムＦＭＬの表面に焦点が合うように、配置されている。撮像装置６は、ラインカメラとも呼ばれる。撮像装置６は、図２に示すように、搬送方向Ｆ（図１参照）と直交する撮像領域ＰＢにおいて、第１フィルムＦＭＬの幅方向の長さが一括して画像として撮像可能なように、画角を有している。このため、撮像装置６は、第１フィルムＦＭＬの表面の全幅を撮像領域ＰＢとした画像を撮像できる。撮像装置６は、例えば、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）を用いた固体撮像素子、相補性金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ:Complementary Metal Oxide Semiconductor）を用いた固体撮像素子、または金属酸化膜半導体（ＭＯＳ:Metal Oxide Semiconductor）を用いた固体撮像素子のいずれかを有している。

図２に示すように、照射装置７の幅方向の長さが第１フィルムＦＭＬの幅方向の長さＦＭＬＷよりも大きい。このため、照射装置７が第１フィルムＦＭＬの幅方向に渡って第１フィルムＦＭＬの裏面（第１面）を均一に照らすことができるので、第１フィルムＦＭＬの表面（第２面）から透過する透過光の強度むらが抑制される。

図２に示すように、照射装置７は、筐体内に、例えば発光ダイオード（ＬＥＤ:Light Emitting Diode）、蛍光灯、またはハロゲンランプなどの光源体と、光源体からの光が照射される。

照射装置７が第１フィルムＦＭＬに、検査光を透過させると、内部の異物、気泡などの内部欠陥が撮像装置６に輝度差（明度差）として感度よく検出される。

図２に示すように、照射装置７から照射された検査光は、例えば拡散光であり、第１フィルムＦＭＬの撮像領域ＰＢを少なくとも透過し、透過光が撮像装置６に画像として検出される。撮像装置６は、撮像領域ＰＢを撮像した画像の情報を解析装置１０へ伝送する。

帯磁器２は、第１フィルムＦＭＬの一方側に、Ｓ極を向けた第１永久磁石と、第１フィルムＦＭＬの他方側に、Ｎ極を向けた第２永久磁石を備える。第１フィルムＦＭＬが帯磁器２を通過する。万が一、磁化可能な金属種の異物が第１フィルムＦＭＬに混入している場合、一対の第１永久磁石と第２永久磁石との間の磁場で金属種の異物が磁化される。

図１に示すように、磁気検出装置１は、帯磁器２よりも搬送方向Ｆの後方の磁気検出位置ＰＡにおいて、磁界の変化を検出している。図３に示すように、磁気検出装置１は、複数の磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎを備えている。複数の磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎは、第１フィルムＦＭＬの搬送方向Ｆに直交する幅方向に並べられている。

磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎは、それぞれフラックスゲートセンサである。これにより、磁化された第１種異物を精度よく検出することができる。フラックスゲートセンサは、特許文献２に記載されている構成を用いればよいので、詳細な説明は省略する。なお、磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎは、フラックスゲートセンサの代わりに、異方性磁気抵抗効果、巨大磁気抵抗効果またはトンネル磁気抵抗効果などを応用した磁気抵抗効果素子、あるいは、磁気インピーダンスセンサを用いてもよい。

磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎは、第１フィルムＦＭＬに対する距離は、１０ｍｍ以内である。これにより、磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎは、必要な感度を確保できる。磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎは、外乱磁界の影響を低減する金属製のシールドボックスに収容されている。

図３に示すように、１つの磁気検出領域は、ｐｘ×ｐｙの単位で区画される。ここで、幅方向の長さｐｙは、幅方向に並べられた磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎのうち、隣り合う磁気検出部の距離と同じである。搬送方向Ｆの長さｐｘは、幅方向に並べられた磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎのうち、隣り合う磁気検出部の距離と同じである。

磁気検出部ＳＥ１は、磁気検出領域Ｐ１１から磁気検出領域Ｐｍ１を検出する。磁気検出部ＳＥ２は、磁気検出領域Ｐ１２から磁気検出領域Ｐｍ２を検出する。磁気検出部ＳＥ３は、磁気検出領域Ｐ１３から磁気検出領域Ｐｍ３を検出する。磁気検出部ＳＥ４は、磁気検出領域Ｐ１４から磁気検出領域Ｐｍ４を検出する。以下同様であり、磁気検出部ＳＥｎは、磁気検出領域Ｐ１ｎから磁気検出領域Ｐｍｎを検出する。そして、各区画が磁気検出領域Ｐ１１から磁気検出領域Ｐｍｎとして識別された状態で、記憶部１５に記憶される。

本実施形態において、異物検査装置２０は、帯磁器２と、磁気検出装置１との間に、静電除去装置３を備えている。静電除去装置３は、イオナイザーとも呼ばれ、コロナ放電を発生させ、イオン化した空気で第１フィルムＦＭＬの静電気を除去する。これにより静電気による磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎの信号ノイズが抑制される。

解析装置１０は、いわゆるコンピュータであり、入力インターフェースと、出力インターフェースと、ＣＰＵ（Central Processing Unit）と、ＲＯＭ（Read Only Memory）と、ＲＡＭ（Random Access Memory）と、記憶部１５と、を有している。入力インターフェースには、位置検出装置８と、撮像装置６、磁気検出装置１が接続されており、出力インターフェースには、表示装置１９が接続されている。ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ及び記憶部１５は、バスで接続されている。ＲＯＭには、ＢＩＯＳ（Basic Input Output System）等のプログラムが記憶されている。記憶部１５は、例えばＨＤＤ（Hard Disk Drive）やフラッシュメモリ等であり、オペレーティングシステムプログラムやアプリケーションプログラムを記憶している。ＣＰＵは、演算手段であり、ＲＡＭをワークエリアとして使用しながらＲＯＭや記憶部１５に記憶されているプログラムを実行することにより、位置取得部１１、磁気検出分析部１２、画像処理部１３、種別分析部１４の機能を実現する。記憶部１５は、内蔵であっても外付けであってもよく、ＲＡＭを一時記憶として使ってもよく、あるいは、ネットワーク上の記憶装置やサーバ等であってもよい。

本実施形態において、磁化可能な金属種の異物は、第１種異物とし、第１種異物以外の磁化不能な異物、内部欠陥は、第２種異物という。磁化可能な金属種としては、鉄、ニッケル、コバルト、フェライト系ステンレスのみならず、オーステナイト系ステンレスを含む。オーステナイト系ステンレスは、応力が加えられると、磁化される性質があるため、磁化可能な金属種となる。

位置取得部１１は、位置検出装置８で検出した第１フィルムＦＭＬの送り座標と、磁気検出位置ＰＡの位置とを関連付けて、第１フィルムＦＭＬの第１異物座標を記憶部１５に保存する。磁気検出分析部１２は、第１異物座標において、磁気検出装置１が検出した第１種異物としてプロットした第１異物座標マップを記憶部１５に保存する。

位置取得部１１は、位置検出装置８で検出した第１フィルムＦＭＬの送り座標と、撮像領域ＰＢの位置とを関連付けて、第１フィルムＦＭＬの第２異物座標を記憶部１５に保存する。画像処理部１３は、第２異物座標において、撮像装置６が検出した異物、内部欠陥を全て第２種異物としてプロットした第２異物座標マップを記憶部１５に保存する。

磁気検出位置ＰＡと、撮像領域ＰＢとの間の距離は、第１フィルムＦＭＬ上の搬送方向Ｆの距離として既知である。磁気検出位置ＰＡと、撮像領域ＰＢとの間の距離は、記憶部１５に記憶されている。このため、解析装置１０は、第１フィルムＦＭＬの送り座標を基準として、磁気検出位置ＰＡの位置及び撮像領域ＰＢの位置とを関連付けることができる。

種別分析部１４は、第２異物座標マップにおいて、第１種異物として置き換えるべき第２種異物を特定する。

（異物検査方法）
図１に示すように、スリッター１００により、第１フィルムＦＭＬから複数の第２フィルムＱＡからＱＨが製造される。第１フィルムＦＭＬは、異物検査装置２０により、異物検査方法が実行される。

図４は、本実施形態において、隣り合う３つの磁気検出部の検出例を説明するための説明図である。図４においては、図３に示す複数の磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎのうち、複数の磁気検出部ＳＥ１からＳＥ３を例示して具体的に説明する。図５は、本実施形態の異物検査方法のフローチャートを説明するための説明図である。図６は、本実施形態の異物検査方法において、第３異物座標マップ作成を説明するフローチャートである。図７は、本実施形態の第１異物座標マップの一例を示す説明図である。図８は、本実施形態の第２異物座標マップの一例を示す説明図である。図９は、本実施形態の第３異物座標マップの一例を示す説明図である。

図５に示すように、異物検査装置２０は、搬送方向Ｆに移動する第１フィルムＦＭＬに対して、磁気検出を行う磁気検出ステップを処理する（ステップＳＴ１）。図３に示すように、磁気検出部ＳＥ２の磁気を検出可能な磁気検出幅ＳＡは、幅方向に隣り合う磁気検出部ＳＥ１及び磁気検出部ＳＥ２の磁気検出部領域とオーバーラップしている。複数の磁気検出部ＳＥ１からＳＥ３が、例えば３０ｍｍ間隔で配置されている場合、磁気検出部ＳＥ２の磁気を検出可能な磁気検出幅ＳＡは、６０ｍｍである。複数の磁気検出部ＳＥ１からＳＥ３が、例えば２５ｍｍ間隔で配置されている場合、磁気検出部ＳＥ２の磁気を検出可能な磁気検出幅ＳＡは、５０ｍｍである。

図４において、磁気検出部ＳＥ１からＳＥ３のそれぞれの検出電圧と、第１フィルムＦＭＬの送り座標Ｆｘとの関係が示されている。例えば、図３に示す磁気検出部ＳＥ１が、磁気検出領域Ｐ１１を検出している。磁気検出部ＳＥ２が、磁気検出領域Ｐ１２を検出している。磁気検出部ＳＥ３が、磁気検出領域Ｐ１３を検出している。検出電圧Ｖｓｅ１、検出電圧Ｖｓｅ２、検出電圧Ｖｓｅ３は、本実施形態の磁気検出部ＳＥ１からＳＥ３の信号値である。

図４に示すように、磁気検出部ＳＥ１の検出電圧Ｖｓｅ１と磁気検出部ＳＥ２の検出電圧Ｖｓｅ２とを比較すると、同じ送り座標Ｆｘにおいて、磁気検出部ＳＥ１と磁気検出部ＳＥ２は、閾値Ｔｈ以上となる検出電圧Ｔｈ１、Ｔｈ２を出力する。一方、磁気検出部ＳＥ２の検出電圧Ｖｓｅ２と磁気検出部ＳＥ３の検出電圧Ｖｓｅ３とを比較すると、同じ送り座標Ｆｘにおいて、磁気検出部ＳＥ２のみが、閾値Ｔｈ以上となる検出電圧Ｔｈ２を出力する。

次に、磁気検出部ＳＥ１の検出電圧Ｖｓｅ１の最高値と、磁気検出部ＳＥ２の検出電圧Ｖｓｅ２の最高値と、が比較される。ここで、磁気検出部ＳＥ１の検出電圧Ｖｓｅ１の最高値が磁気検出部ＳＥ２の検出電圧Ｖｓｅ２の最高値よりも大きい場合、磁気検出分析部１２は、図３に示す磁気検出領域Ｐ１１に第１種異物があることを分析できる。

または、磁気検出部ＳＥ１の検出電圧Ｖｓｅ１の最高値が磁気検出部ＳＥ２の検出電圧Ｖｓｅ２の最高値よりも小さい場合、磁気検出分析部１２は、図３に示す磁気検出領域Ｐ１２に第１種異物があることを分析できる。

あるいは、磁気検出部ＳＥ１の検出電圧Ｖｓｅ１の最高値が磁気検出部ＳＥ２の検出電圧Ｖｓｅ２の最高値と同じ場合、磁気検出分析部１２は、図３に示す磁気検出領域Ｐ１１と磁気検出領域Ｐ１２との境界に、第１種異物があることを分析できる。

図４に示すように、磁気検出部ＳＥ１の検出電圧Ｖｓｅ１と磁気検出部ＳＥ２の検出電圧Ｖｓｅ２とを比較すると、送り座標Ｆｘの所定範囲内（図３に示す１つの磁気検出領域分の長さｐｘの範囲内）において、磁気検出部ＳＥ２が磁気検出部ＳＥ１よりも先に、閾値Ｔｈ以上となる検出電圧Ｔｈ２１を出力する場合がある。一方、磁気検出部ＳＥ２の検出電圧Ｖｓｅ２と磁気検出部ＳＥ３の検出電圧Ｖｓｅ３とを比較すると、送り座標Ｆｘの所定範囲内（図３に示す１つの磁気検出領域分の長さｐｘの範囲内）において、磁気検出部ＳＥ２のみが、閾値Ｔｈ以上となる検出電圧Ｔｈ２１を出力する。これにより、磁気検出分析部１２は、例えば図３に示す磁気検出領域Ｐ１２内において、磁気検出領域Ｐ１１側に、第１種異物があることが分析できる。磁気検出分析部１２は、第１異物座標マップＭＡＰ１（図７参照）において、磁気検出領域Ｐ１１に第１種異物Ｍｅの座標をプロットする。なお、送り座標Ｆｘの所定範囲は、図３における長さｐｘである。

なお、送り座標Ｆｘの所定範囲内（図３に示す１つの磁気検出領域分の長さｐｘの範囲内）において、１つの磁気検出部が、閾値Ｔｈ以上となる検出電圧を有する２つの波形を捉えた場合、１つ目の波形に基づいて、処理を行えばよい。１つの磁気検出領域に、第１異物があることに変わりがないからである。

磁気検出分析部１２は、分析の結果、図７に示すような第１異物座標マップＭＡＰ１を作成する第１異物座標マップＭＡＰ１作成ステップを処理する（ステップＳＴ２）。第１異物座標マップＭＡＰ１の第１座標は、図３及び図７に示すｐｘ×ｐｙの単位で区画されるｍ行ｎ列の磁気検出領域で定義される。図７に示すように、隣り合う磁気検出部ＳＥ１からＳＥ３のそれぞれの検出電圧を比較し、閾値Ｔｈ以上となる検出電圧を超えた磁気検出部と、閾値Ｔｈ以上となる検出電圧を超えた第１フィルムＦＭＬの送り座標とから、第１種異物Ｍｅの座標が、第１異物座標マップＭＡＰ１の第１異物座標にプロットされる。つまり、第１異物座標マップＭＡＰ１は、第１種異物Ｍｅの位置を示すためのマップである。

搬送方向Ｆにおいて、送り座標Ｆｘの所定範囲内（図３に示す１つの磁気検出領域分の長さｐｘの範囲内）で、隣り合う磁気検出部が閾値Ｔｈ以上の信号を検出した場合、大きい信号を出力した磁気検出部側の幅方向の位置座標を付与した第１種異物Ｍｅを第１異物座標マップＭＡＰ１にプロットする。

図５に示すように、異物検査装置２０は、搬送方向Ｆに移動する第１フィルムＦＭＬに対して、画像検出を行う画像検出ステップを処理する（ステップＳＴ１１）。撮像装置６は、撮像領域ＰＢを撮像した画像の情報を解析装置１０へ伝送する。

画像処理部１３は、図８に示すような第２異物座標マップＭＡＰ２を作成する第２異物座標マップＭＡＰ２作成ステップを処理する（ステップＳＴ１２）。第２異物座標マップＭＡＰ２の座標は、図８に示すｇｘ×ｇｙの単位で区画されるＭ行Ｎ列の画像検出領域で定義される。長さｇｘは、長さｐｘ（図７参照）よりも小さく、長さｇｙは、長さｐｙ（図７参照）よりも小さい。ｇｘ×ｇｙは、１ｍｍ×１ｍｍ以下である。このため、画像検出領域は、上述した磁気検出領域よりも小さい。その結果、画像検出による異物の位置精度は、磁気検出による異物の位置精度よりも高い。そして、画像処理部１３は、第２異物座標において、撮像装置６が検出した異物、内部欠陥を全て第２種異物Ｃとしてプロットした第２異物座標マップＭＡＰ２を記憶部１５に保存する。つまり、第２異物座標マップＭＡＰ２は、第２種異物Ｃの位置を示すためのマップである。

次に、図５に示すように、種別分析部１４は、第３異物座標マップＭＡＰ３を作成する第３異物座標マップＭＡＰ３作成ステップを処理する（ステップＳＴ３）。以下、図６を参照しつつ、ステップＳＴ３について説明する。

種別分析部１４は、記憶部１５に保存されている、ステップＳＴ２で作成した第１異物座標マップＭＡＰ１を読み込む。そして、図６に示すように、種別分析部１４は、第１異物座標マップＭＡＰ１において、第１種異物Ｍｅがある領域ＡＭ１及び領域ＡＭ２を特定する（ステップＳＴ３１）。

ここで、図７に示すように、第１種異物Ｍｅがある領域ＡＭ１は、４つの磁気検出領域に跨がる位置に、第１種異物Ｍｅがある。このため、第１種異物Ｍｅがある領域ＡＭ１は、１つの磁気検出領域の４倍となる。図示は省略するが、第１種異物Ｍｅがある位置が２つの磁気検出領域に跨がる場合、第１種異物Ｍｅがある領域は、１つの磁気検出領域の２倍となる。

第１種異物Ｍｅがある領域ＡＭ２は、１つの磁気検出領域内に第１種異物Ｍｅがある。このため、第１種異物Ｍｅがある領域ＡＭ２は、１つの磁気検出領域となる。

次に、種別分析部１４は、ステップＳＴ１２で作成した第２異物座標マップＭＡＰ２を読み込む。図８に示すように、種別分析部１４は、第１種異物Ｍｅがある領域ＡＭ１、ＡＭ２と重なる第２異物座標マップＭＡＰ２の第２種異物Ｃを第１種異物Ｍｅと特定する（ステップＳＴ３２）。

図７に示すように、第１種異物Ｍｅがある領域ＡＭ１には、１つの第２種異物Ｃがある。第１種異物Ｍｅがある領域ＡＭ２には、２つの第２種異物Ｃがある。本実施形態において、第１種異物Ｍｅがある領域ＡＭ１と重なる２つの第２種異物Ｃは、両方とも第１種異物Ｍｅに置き換えられる。これにより、第１種異物Ｍｅとして疑いのある異物が全て第１種異物Ｍｅとされ、第１種異物Ｍｅの見逃しが抑制される。

次に、種別分析部１４は、図９に示すように、ステップＳＴ３２で特定された第２種異物Ｃを第１種異物Ｍｅに置き換えた第３異物座標マップＭＡＰ３を作成する（ステップＳＴ３３）。種別分析部１４は、作成した第３異物座標マップＭＡＰ３を記憶部１５に保存する。

第１種異物Ｍｅがある領域ＡＭ１と重なる第２種異物Ｃは、第２異物座標マップＭＡＰ２の座標で第２種異物Ｃがあった位置のまま、第１種異物Ｍｅに置き換えられる。これにより、第３異物座標マップＭＡＰ３では、位置精度の高い第２異物座標マップＭＡＰ２と同じ精度で、第１種異物Ｍｅの位置が特定される。

次に、種別分析部１４は、図５に示すように製品ロールＲＬの評価を行う（ステップＳＴ４）。図３に示す位置ＳＬＴにおいて、第１フィルムＦＭＬの幅方向のスリットＣＬの位置は、予め記憶部１５に記憶されている。このため、図９に示す第３異物座標マップＭＡＰ３における第１種異物Ｍｅが、図３に示す第２フィルムＱＡからＱＨのいずれか、あるいは、両端部ＱＱに含まれるかを、種別分析部１４が、演算により特定する。

種別分析部１４は、図３に示す第２フィルムＱＡからＱＨのうち、第１種異物Ｍｅが含まれる第２フィルムを、第１種異物Ｍｅが含まれない第２フィルムよりも品質の等級を下げて、評価する。

以上説明したように、異物検査装置２０は、上流から下流へ搬送方向Ｆに搬送されるフィルム状の被検査対象である第１フィルムＦＭＬに対し、含まれる可能性のある異物を検査する。

例えば、食品業界や医療業界において、内臓等が傷つけられる可能性があるため、金属種の異物は重大欠点に位置付けられている。金属種の異物の大きさとしては、０．０５ｍｍ^２以上の金属種の異物の混入が抑制されることが求められている。金属種の異物は、生産設備に起因する粉塵などが混入することによると考えられる。生産設備は、耐久性の観点から鉄やステンレスが用いられることが多い。生産設備に起因する磁化可能な金属種の異物は、重大欠点と認識されていることから、炭化異物に比べて品質の等級を下げて判断する必要がある。本実施形態の異物検査装置２０、スリッター１００及び異物検査方法は、生産設備に起因する磁化可能な金属種の異物と、それ以外の炭化異物を区別することができる。

異物検査装置２０は、少なくとも、位置検出装置８と、磁気検出装置１と、解析装置１０とを備えている。磁気検出装置１は、搬送方向Ｆに直交する幅方向に複数並べられた磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎを備える。解析装置１０は、磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎのうち、信号値が所定の閾値Ｔｈとなった磁気検出部の位置と、当該磁気検出部の信号が閾値Ｔｈを出力した第１フィルムＦＭＬの搬送方向Ｆの送り座標とに基づいて、第１フィルムＦＭＬにおける第１種異物Ｍｅの位置を示す第１異物座標マップＭＡＰ１を作成する。これにより、異物検査装置２０は、第１フィルムＦＭＬ内において、金属種の異物の疑いがある位置を特定できる。スリッター１００において、異物検査装置２０は、カッターロールＣＲの上流側の第１フィルムＦＭＬを検査対象とし、第１フィルムＦＭＬに含まれる可能性のある異物を検査する。これにより、第１種異物Ｍｅが、図３に示す第２フィルムＱＡからＱＨのいずれか、あるいは、両端部ＱＱに含まれるかの判断は、より精度が高くなる。

ここで磁気検出装置１は、０．０５ｍｍ^２以上の第１種異物Ｍｅに対して、１つの磁気検出部が閾値Ｔｈ以上の信号を出力するように設定している。これにより、０．０５ｍｍ^２以上の金属種の異物が精度よく検出できる。

なお、第１異物座標マップＭＡＰ１、第２異物座標マップＭＡＰ２、第３異物座標マップＭＡＰ３は、表示装置１９に表示される。

（変形例）
図１０は、本実施形態の変形例において、第１種異物に置き換える第２種異物を説明するための説明図である。変形例において、同じ構成要素については、同じ符号を付して詳細な説明を省略する。図１０において、左側の第２異物座標マップＭＡＰ２の座標原点と、右側の第１異物座標マップＭＡＰ１とが、第１フィルムＦＭＬの同じ送り座標で比較されている。

図１０に示す領域ＡＭ１１の幅方向の長さｐｙは、幅方向に並べられた磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎのうち、隣り合う磁気検出部の距離と同じである。領域ＡＭ１１の搬送方向Ｆの長さｐｘは、幅方向に並べられた磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎのうち、隣り合う磁気検出部の距離と同じである。

本変形例では、第２異物座標マップＭＡＰ２の第２種異物Ｃと、領域ＡＭ１１の中心を合わせる。第１異物座標マップＭＡＰ１の領域ＡＭ１１内に、第１種異物Ｍｅがある場合、第２種異物Ｃを第１種異物Ｍｅに置き換える。

図１１は、本実施形態の変形例において、第１種異物に置き換える複数の第２種異物を説明するための説明図である。図１１において、左側の第２異物座標マップＭＡＰ２の座標原点と、右側の第１異物座標マップＭＡＰ１とが、第１フィルムＦＭＬの同じ送り座標で比較されている。

図１１に示す領域ＡＭ１２の幅方向の長さｐｙは、幅方向に並べられた磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎのうち、隣り合う磁気検出部の距離と同じである。領域ＡＭ１１の搬送方向Ｆの長さｐｘは、幅方向に並べられた磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎのうち、隣り合う磁気検出部の距離と同じである。領域ＡＭ１３は、領域ＡＭ１２と同じ大きさである。

第２異物座標マップＭＡＰ２の１つ目の第２種異物Ｃと、領域ＡＭ１２の中心を合わせる。第１異物座標マップＭＡＰ１の領域ＡＭ１２内に、第１種異物Ｍｅがある場合、当該第２種異物Ｃを第１種異物Ｍｅに置き換える。

第２異物座標マップＭＡＰ２の２つ目の第２種異物Ｃと、領域ＡＭ１３の中心を合わせる。第１異物座標マップＭＡＰ１の領域ＡＭ１３内に、第１種異物Ｍｅがある場合、当該第２種異物Ｃを第１種異物Ｍｅに置き換える。

以上説明したように、図５に示すステップＳＴ３において、種別分析部１４は、第１異物座標マップＭＡＰ１と、第２異物座標マップＭＡＰ２とを、同じ送り座標で比較する。そして、種別分析部１４は、第２異物座標マップＭＡＰ２において、各第２種異物Ｃを中心にして幅方向に並べられた隣り合う磁気検出部の距離の１／２以下の範囲である領域ＡＭ１１内に、第１異物座標マップＭＡＰ１の第１種異物Ｍｅがある第２種異物Ｃを、第１種異物Ｍｅに置き換えて、第３異物座標マップＭＡＰ３を作成する。

本実施形態の変形例において、以下のように種別分析部１４は、演算してもよい。種別分析部１４は、第１異物座標マップＭＡＰ１において、各第１種異物Ｍｅを中心にして幅方向に並べられた隣り合う磁気検出部の距離の１／２以下の範囲である特定領域を演算する。種別分析部１４は、この特定領域を第２異物座標マップＭＡＰ２の位置に重ね合わせ、特定領域内にある第２異物座標マップＭＡＰ２の第２種異物Ｃを、第１種異物Ｍｅに置き換えて、第３異物座標マップＭＡＰ３を作成する。これにより、精度の高い第２異物座標マップＭＡＰ２に基づいて、第１種異物か第２種異物かの判定が行われるので、誤判定が抑制される。

以上、好適な実施形態を説明したが、本発明はこのような実施形態に限定されるものではない。実施の形態で開示された内容はあくまで一例にすぎず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で行われた適宜の変更についても、当然に本発明の技術的範囲に属する。上述した発明を基にして当業者が適宜設計変更して実施しうる全ての発明も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の技術的範囲に属する。

例えば、磁気検出部ＳＥ１からＳＥｎは、特許文献３に記載したような、検出コイルであってもよい。

一般的に「シート」とは、ＪＩＳにおける定義上、薄く、一般にその厚みが長さと幅のわりには小さく平らな製品をいい、一般的に「フィルム」とは、長さ及び幅に比べて厚みが極めて小さく、最大厚みが任意に限定されている薄い平らな製品で、通常、ロールの形で供給されるものをいい（日本工業規格ＪＩＳＫ６９００）、しかし、シートとフィルムの境界は定かでなく、本実施形態においては両者を同義として用い、統一して「フィルム」と記す。

１ 磁気検出装置
２ 帯磁器
３ 静電除去装置
５ 画像検出装置
６ 撮像装置
７ 照射装置
８ 位置検出装置
１０ 解析装置
１１ 位置取得部
１２ 磁気検出分析部
１３ 画像処理部
１４ 種別分析部
１５ 記憶部
１９ 表示装置
２０ 異物検査装置
１００ スリッター
Ｃ 第２種異物
ＣＬ スリット
ＣＲ カッターロール
Ｆ 搬送方向
ＦＭＬ 第１フィルム
ＭＡＰ１ 第１異物座標マップ
ＭＡＰ２ 第２異物座標マップ
ＭＡＰ３ 第３異物座標マップ
Ｍｅ 第１種異物
ＭＲ 原反
ＳＥ１、ＳＥ２、ＳＥ３、ＳＥ４・・・ＳＥｎ 磁気検出部
Ｔｈ 閾値

Claims (13)

1. 上流から下流へ搬送方向に搬送されるフィルム状の被検査対象である第１フィルムに対し、含まれる可能性のある異物を検査する異物検査方法であって、
   前記搬送方向に直交する幅方向に複数並べられた磁気検出部の信号を検出する磁気検出ステップと、
   前記磁気検出ステップにおいて、信号値が所定の閾値となった磁気検出部の前記幅方向の位置と、当該磁気検出部の信号が閾値を出力した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標とに基づいて、前記第１フィルムにおける第１種異物の位置を示す第１異物座標マップを作成する第１異物座標マップ作成ステップと、
   前記第１フィルムに、検査光を照射し、前記第１フィルムの画像を検出する画像検出ステップと、
   前記第１フィルムの画像から輝度差に基づいて、第２種異物を特定し、前記第１フィルムの画像を撮像した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第２種異物の位置に基づいて、前記第１フィルムにおける当該第２種異物の位置を示す第２異物座標マップを作成する第２異物座標マップ作成ステップと、を有し、
   前記第１異物座標マップにおいて前記第１種異物がある領域と重なる第２種異物を第１種異物と判断する、異物検査方法。
2. 上流から下流へ搬送方向に搬送されるフィルム状の被検査対象である第１フィルムに対し、含まれる可能性のある異物を検査する異物検査方法であって、
   前記搬送方向に直交する幅方向に複数並べられた磁気検出部の信号を検出する磁気検出ステップと、
   前記磁気検出ステップにおいて、信号値が所定の閾値となった磁気検出部の前記幅方向の位置と、当該磁気検出部の信号が閾値を出力した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標とに基づいて、前記第１フィルムにおける第１種異物の位置を示す第１異物座標マップを作成する第１異物座標マップ作成ステップと、
   前記第１フィルムに、検査光を照射し、前記第１フィルムの画像を検出する画像検出ステップと、
   前記第１フィルムの画像から輝度差に基づいて、第２種異物を特定し、前記第１フィルムの画像を撮像した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第２種異物の位置に基づいて、前記第１フィルムにおける当該第２種異物の位置を示す第２異物座標マップを作成する第２異物座標マップ作成ステップと、
   前記第１異物座標マップにおいて、前記第１種異物がある領域を、第２異物座標マップに重ね、前記第１種異物がある領域と重なる第２種異物を第１種異物と置き換えた第３異物座標マップを作成する第３異物座標マップ作成ステップと、
   を有する、異物検査方法。
3. 上流から下流へ搬送方向に搬送されるフィルム状の被検査対象である第１フィルムに対し、含まれる可能性のある異物を検査する異物検査方法であって、
   前記搬送方向に直交する幅方向に複数並べられた磁気検出部の信号を検出する磁気検出ステップと、
   前記磁気検出ステップにおいて、信号値が所定の閾値となった磁気検出部の前記幅方向の位置と、当該磁気検出部の信号が閾値を出力した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標とに基づいて、前記第１フィルムにおける第１種異物の位置を示す第１異物座標マップを作成する第１異物座標マップ作成ステップと、
   前記第１フィルムに、検査光を照射し、前記第１フィルムの画像を検出する画像検出ステップと、
   前記第１フィルムの画像から輝度差に基づいて、第２種異物を特定し、前記第１フィルムの画像を撮像した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第２種異物の位置に基づいて、前記第１フィルムにおける当該第２種異物の位置を示す第２異物座標マップを作成する第２異物座標マップ作成ステップと、
   前記第１異物座標マップと、前記第２異物座標マップとを、同じ送り座標で比較し、前記第２異物座標マップにおいて、各前記第２種異物を中心にして前記幅方向に並べられた隣り合う前記磁気検出部の距離の１／２以下の範囲に、前記第１異物座標マップの前記第１種異物がある第２種異物を、第１種異物に置き換えた第３異物座標マップを作成する第３異物座標マップ作成ステップと、
   を有する、異物検査方法。
4. 前記第１フィルムが前記幅方向に設けられた複数のスリットで分割された複数の第２フィルムとされ、
   前記幅方向に設けられた複数のスリットの位置と、前記第３異物座標マップとに基づいて、前記第１種異物が含まれる第２フィルムを、前記第１種異物が含まれない第２フィルムよりも品質の等級を下げて評価する、請求項２または３に記載の異物検査方法。
5. １つの前記磁気検出部が磁気を検出可能な前記幅方向の磁気検出幅が、当該磁気検出部と隣り合う磁気検出部の磁気検出幅とオーバーラップしており、
   前記搬送方向において、前記送り座標の所定範囲内で、隣り合う前記磁気検出部が前記閾値以上の信号を検出した場合に、大きい信号を出力した磁気検出部側の前記幅方向の位置座標を付与した前記第１種異物を前記第１異物座標マップにプロットする請求項１から４のいずれか１項に記載の異物検査方法。
6. 前記磁気検出部は、フラックスゲートセンサである、請求項１から５のいずれか１項に記載の異物検査方法。
7. ０．０５ｍｍ^２以上の前記第１種異物に対して、１つの前記磁気検出部が前記閾値以上の信号を出力する、請求項１から６のいずれか１項に記載の異物検査方法。
8. 前記第１フィルムは、前記磁気検出部の上流側において、帯磁器の磁界を通過する、請求項１から７のいずれか１項に記載の異物検査方法。
9. 前記第１フィルムは、前記磁気検出部の上流側かつ前記帯磁器の下流において、静電除去装置の処理を通過する、請求項８に記載の異物検査方法。
10. 上流から下流へ搬送方向に搬送されるフィルム状の被検査対象である第１フィルムに対し、含まれる可能性のある異物を検査する異物検査装置であって、
    前記第１フィルムの搬送方向の送り座標を検出する位置検出装置と、
    前記搬送方向に直交する幅方向に複数並べられた磁気検出部の信号を検出する磁気検出装置と、
    信号値が所定の閾値となった磁気検出部の前記幅方向の位置と、当該磁気検出部の信号が閾値を出力した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標とに基づいて、前記第１フィルムにおける第１種異物の位置を示す第１異物座標マップを作成する解析装置と、
    前記第１フィルムに、検査光を照射し、前記第１フィルムの画像を検出する画像検出装置と、を有し、
    前記解析装置は、
    前記第１フィルムの画像から輝度差に基づいて、第２種異物を特定し、前記第１フィルムの画像を撮像した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第２種異物の位置に基づいて、前記第１フィルムにおける当該第２種異物の位置を示す第２異物座標マップを作成し、
    前記第１異物座標マップにおいて前記第１種異物がある領域と重なる第２種異物を第１種異物と判断する、
    異物検査装置。
11. ０．０５ｍｍ ^２ 以上の前記第１種異物に対して、１つの前記磁気検出部が前記閾値以上の信号を出力する、請求項１０に記載の異物検査装置。
12. 上流から下流へ搬送方向に第１フィルムを搬送する走行ロールと、
    前記第１フィルムにスリットを入れて、複数の第２フィルムに分割するカッターロールと、
    前記カッターロールの上流側において、前記第１フィルムを検査対象とし、前記第１フィルムに含まれる可能性のある異物を検査する異物検査装置と、を有し、
    前記異物検査装置は、
    前記第１フィルムの搬送方向の送り座標を検出する位置検出装置と、
    前記搬送方向に直交する幅方向に複数並べられた磁気検出部の信号を検出する磁気検出装置と、
    信号値が所定の閾値となった磁気検出部の前記幅方向の位置と、当該磁気検出部の信号が閾値を出力した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標とに基づいて、前記第１フィルムにおける第１種異物の位置を示す第１異物座標マップを作成する解析装置と、
    を有し、
    前記異物検査装置は、
    前記第１フィルムに、検査光を照射し、前記第１フィルムの画像を検出する画像検出装置をさらに有し、
    前記解析装置は、
    前記第１フィルムの画像から輝度差に基づいて、第２種異物を特定し、前記第１フィルムの画像を撮像した前記第１フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第２種異物の位置に基づいて、前記第１フィルムにおける当該第２種異物の位置を示す第２異物座標マップを作成し、
    前記第１異物座標マップにおいて前記第１種異物がある領域と重なる第２種異物を第１種異物と判断する、
    スリッター。
13. ０．０５ｍｍ ^２ 以上の前記第１種異物に対して、１つの前記磁気検出部が前記閾値以上の信号を出力する、請求項１２に記載のスリッター。

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