JP7090494B2 - Semiconductor device and manufacturing method of semiconductor device - Google Patents

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Description

本発明は、半導体装置の構造に係り、特に、高電圧回路と低電圧回路が混載されたインバータICチップの実装構造に適用して有効な技術に関する。 The present invention relates to the structure of a semiconductor device, and particularly relates to a technique effective for being applied to a mounting structure of an inverter IC chip in which a high voltage circuit and a low voltage circuit are mixedly mounted.

世界的な省エネ規制を受けて、エアコンや空気清浄機、給湯器などの家電製品へのインバータICの採用が急速に拡大しており、インバータICの小型化、高放熱化(低熱抵抗化)、高効率化(低損失化)、高信頼化(高絶縁化・長寿命化)、低コスト化といった多様な要求に対応するインバータICの実装技術(パッケージ技術)開発が進められている。 In response to global energy saving regulations, the adoption of inverter ICs in home appliances such as air conditioners, air purifiers, and water heaters is rapidly expanding, and inverter ICs are becoming smaller and have higher heat dissipation (lower heat resistance). Development of inverter IC mounting technology (package technology) that meets various demands such as high efficiency (low loss), high reliability (high insulation and long life), and low cost is underway.

インバータICを小型化する技術として、インバータ制御に必要な様々な構成素子及び回路を1個の半導体チップ(ワンチップ)に集積したワンチップインバータICが知られている。 As a technique for miniaturizing an inverter IC, a one-chip inverter IC in which various components and circuits required for inverter control are integrated on one semiconductor chip (one chip) is known.

本技術分野の背景技術として、例えば、特許文献1のような技術がある。特許文献1には「半導体チップと出力端子との距離は、入力端子と半導体チップとの距離以上であり、かつ実装基板(ダイパッド)上の半導体チップと出力端子の間の領域は、回路部品が搭載されない領域である半導体装置」が開示されている。 As a background technique in this technical field, for example, there is a technique such as Patent Document 1. Patent Document 1 states that "the distance between the semiconductor chip and the output terminal is equal to or greater than the distance between the input terminal and the semiconductor chip, and the region between the semiconductor chip and the output terminal on the mounting board (die pad) is a circuit component. "Semiconductor devices, which are areas that are not mounted," are disclosed.

また、特許文献2には「高電圧の信号を減圧(降圧)する第1のチップと、信号処理のための第2のチップに分け、高電圧が直接印加するリード端子は、互いに及び他のリード端子やダイパッドの吊りリードから離して配置し、リード端子間に樹脂層を充填し放電を防止する半導体装置」が開示されている。 Further, Patent Document 2 states that "a first chip for reducing (stepping down) a high voltage signal and a second chip for signal processing are separated, and lead terminals to which a high voltage is directly applied are mutually and other. A semiconductor device that is arranged away from lead terminals and hanging leads of die pads and is filled with a resin layer between the lead terminals to prevent discharge is disclosed.

また、特許文献3には「ダイオードチップとインバータICチップと基板とが積層されてなる積層体を封止して一体化し、インバータICチップの一方の面の制御回路部分にダイオードチップを積層し、インバータICチップの他方の面が外部側に位置する半導体装置」が開示されている。 Further, in Patent Document 3, "a laminate in which a diode chip, an inverter IC chip, and a substrate are laminated is sealed and integrated, and a diode chip is laminated on a control circuit portion on one surface of the inverter IC chip. A semiconductor device in which the other surface of the inverter IC chip is located on the external side "is disclosed.

特開2014-120582号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-120582 特開2016-136608号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-136608 特開2016-100502号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-100502

ところで、半導体パッケージの小型化、低コスト化、高放熱化には、ダイパッド露出タイプのQFN(Quad Flat Non-lead)構造が有効であるが、ワンチップインバータICのような高電圧用途への適用には、絶縁確保のために高電圧端子とダイパッド(GND)間および低電圧端子間で一定の距離を確保する必要がある。 By the way, the die pad exposed type QFN (Quad Flat Non-lead) structure is effective for miniaturization, cost reduction, and high heat dissipation of the semiconductor package, but it is applied to high voltage applications such as one-chip inverter ICs. In order to secure insulation, it is necessary to secure a certain distance between the high voltage terminal and the die pad (GND) and between the low voltage terminal.

また、従来のQFN構造では、端子が小さいため電気抵抗が大きくなり高効率化が困難である、ノンリードのため実装基板との接続信頼性の低下が懸念される等の課題もある。 Further, in the conventional QFN structure, since the terminal is small, the electric resistance becomes large and it is difficult to improve the efficiency, and since it is non-lead, there is a concern that the connection reliability with the mounting board may be lowered.

上記特許文献1では、入力端子とダイパッド間、もしくは出力端子とダイパッド間の電位差が大きい場合、半導体装置の表面ないし裏面に露出した際の沿面距離が短いと放電する可能性があり、高電圧の電源用途には不向きである。特に、半導体装置を小型のモータ内に実装する場合には、装置外形を小さくする必要があり、沿面距離の確保がより困難となり、小型化の点で不利となる。 In Patent Document 1, when the potential difference between the input terminal and the die pad or between the output terminal and the die pad is large, discharge may occur if the creepage distance when exposed on the front surface or the back surface of the semiconductor device is short, and the voltage is high. Not suitable for power supply applications. In particular, when the semiconductor device is mounted in a small motor, it is necessary to reduce the outer shape of the device, which makes it more difficult to secure the creepage distance, which is disadvantageous in terms of miniaturization.

また、出力回路(HEMT)が形成された半導体チップと補助回路である整合回路部品とが独立した別体構造のため、例えば出力回路と制御回路が一体的に形成されるワンチップインバータIC等の半導体装置の構造としては適切な構造とはいえない。 Further, since the semiconductor chip on which the output circuit (HEMT) is formed and the matching circuit component which is the auxiliary circuit are independent structures, for example, a one-chip inverter IC in which the output circuit and the control circuit are integrally formed, etc. It cannot be said that the structure is appropriate for a semiconductor device.

上記特許文献2では、ダイパッドが樹脂層から露出しない構造となっているため、大電流を流す電源用途には放熱性の面で不利であり、同時に電気抵抗の上昇によって効率が低下する恐れがある。 In Patent Document 2, since the die pad is not exposed from the resin layer, it is disadvantageous in terms of heat dissipation for power supply applications in which a large current flows, and at the same time, the efficiency may decrease due to an increase in electrical resistance. ..

また、半導体装置をプラスチック製の実装基板に搭載する際に、リード端子のみの接続では、接合材であるはんだ等に繰返しの熱負荷が加わり熱疲労によって早期に破断することが懸念される。 Further, when mounting a semiconductor device on a plastic mounting substrate, if only the lead terminals are connected, there is a concern that repeated heat loads will be applied to the solder or the like as the joining material and the semiconductor device will be broken at an early stage due to thermal fatigue.

さらには、リード端子は装置表面から突き出すように備えられており、装置外形を小さくするには限界がある。 Further, the lead terminal is provided so as to protrude from the surface of the device, and there is a limit to reducing the outer shape of the device.

上記特許文献3では、インバータICチップにダイオードチップが積層されているため、インバータICチップの放熱には放熱フィンを有する放熱部材が必要であり、大電流を流す電源用途には放熱性を確保するための部材コストが上昇するうえ、小型のモータ内に実装するために重要な装置の小型化を阻害する大きな要因となる。 In Patent Document 3, since the diode chip is laminated on the inverter IC chip, a heat dissipation member having heat dissipation fins is required for heat dissipation of the inverter IC chip, and heat dissipation is ensured for power supply applications in which a large current flows. In addition to increasing the cost of members for this purpose, it is a major factor that hinders the miniaturization of equipment that is important for mounting in a small motor.

そこで、本発明の目的は、高電圧回路と低電圧回路が混載されたインバータICチップを搭載する半導体装置において、当該半導体装置内の絶縁性を確保しつつ、小型化が可能な半導体装置とその製造方法を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is a semiconductor device having an inverter IC chip in which a high-voltage circuit and a low-voltage circuit are mounted, which can be miniaturized while ensuring the insulation inside the semiconductor device. The purpose is to provide a manufacturing method.

また、本発明の別の目的は、高電圧回路と低電圧回路が混載されたインバータICチップを搭載する半導体装置において、高電圧回路での低損失化、各構成部材の実装基板への実装信頼性の向上が可能な半導体装置とその製造方法を提供することにある。 Further, another object of the present invention is to reduce the loss in the high voltage circuit and to mount the components on the mounting board in the semiconductor device equipped with the inverter IC chip in which the high voltage circuit and the low voltage circuit are mounted. It is an object of the present invention to provide a semiconductor device capable of improving the performance and a method for manufacturing the same.

上記課題を解決するために、本発明は、半導体基板の表面に出力回路および制御回路が形成されたインバータICチップと、前記半導体基板の裏面に接合材を介して接合されたダイパッドと、前記ダイパッドの少なくとも一辺に沿って配置され、第1のボンディングワイヤにより前記制御回路と電気的に接続された第1のリードと、前記ダイパッドの他辺に沿って配置され、第2のボンディングワイヤにより前記出力回路と電気的に接続された第2のリードと、前記インバータICチップおよび前記第1のリードと前記第2のリードの表面を被覆する封止樹脂と、を備え、前記ダイパッドの前記半導体基板との接合面とは反対側の面、前記第1のリードの前記第1のボンディングワイヤとの接続面とは反対側の面、前記第2のリードの前記第2のボンディングワイヤとの接続面とは反対側の面のそれぞれは前記封止樹脂から露出しており、なおかつ、前記第1のリードの端辺および前記第2のリードの端辺は前記封止樹脂の端辺と同一面になるように前記封止樹脂から露出しており、前記第1のリードと前記第2のリードは所定の距離を有して互いに離間して形成されており、前記第1のリードは、前記ダイパッドを挟んで前記他辺の反対側の辺に沿って配置されたリードと、前記他辺と交差する辺に沿って配置されたリードと、を有し、前記他辺と交差する辺に沿って配置されたリードと前記第2のリード間の距離は、前記ダイパッドと前記第1のリード間の距離より長いことを特徴とする。 In order to solve the above problems, the present invention comprises an inverter IC chip in which an output circuit and a control circuit are formed on the front surface of a semiconductor substrate, a die pad bonded to the back surface of the semiconductor substrate via a bonding material, and the die pad. A first lead arranged along at least one side of the die and electrically connected to the control circuit by a first bonding wire, and an output along the other side of the die pad. A second lead electrically connected to the circuit, the inverter IC chip, a sealing resin covering the surface of the first lead and the second lead, and the semiconductor substrate of the die pad. A surface opposite to the bonding surface of the first lead, a surface opposite to the surface of the first lead connected to the first bonding wire, and a surface of the second lead connecting the second lead to the second bonding wire. Each of the opposite surfaces is exposed from the sealing resin, and the end edge of the first lead and the end edge of the second lead are flush with the end edge of the sealing resin. As described above, the first lead and the second lead are formed so as to be separated from each other with a predetermined distance, and the first lead has the die pad. It has a lead arranged along the side opposite to the other side and a lead arranged along the side intersecting with the other side, and is arranged along the side intersecting with the other side. The distance between the lead and the second lead is longer than the distance between the die pad and the first lead .

また、本発明は、(a)半導体基板の表面に出力回路および制御回路を形成する工程、(b)前記(a)工程の後、前記半導体基板の裏面に接合材によりダイパッドを接合する工程、(c)前記(b)工程の後、複数の第1のリードと前記第1のリードから所定の距離を有して離間して形成された複数の第2のリードを有するリードフレームに、前記ダイパッドを複数配置する工程、(d)前記(c)工程の後、ワイヤボンディングにより、前記制御回路と前記第1のリード、前記出力回路と前記第2のリードをそれぞれ電気的に接続する工程、(e)前記(d)工程の後、金型のキャビティ内に前記複数のダイパッドが配置された前記リードフレームを配置し、前記キャビティ内に溶融した封止樹脂を充填し硬化させる工程、(f)前記(e)工程の後、前記封止樹脂および前記リードフレームを切断成型して前記封止樹脂により封止された前記半導体基板および前記ダイパッドを個片化する工程、を含む半導体装置の製造方法であって、前記第1のリードは、前記ダイパッドを挟んで前記第2のリードとは反対側に配置されたリードと、前記第2のリードの配列方向と交差する方向に配置されたリードと、を有し、前記第2のリードの配列方向と交差する方向に配置されたリードと前記第2のリード間の距離は、前記ダイパッドと前記第1のリード間の距離より長いことを特徴とする。 Further, the present invention comprises (a) a step of forming an output circuit and a control circuit on the front surface of a semiconductor substrate, (b) a step of joining a die pad to the back surface of the semiconductor substrate with a bonding material after the step (a). (C) The lead frame having a plurality of first leads and a plurality of second leads formed apart from the first leads at a predetermined distance after the step (b). A step of arranging a plurality of die pads, (d) a step of electrically connecting the control circuit and the first lead, and the output circuit and the second lead by wire bonding after the step (d). (E) After the step (d), a step of arranging the lead frame in which the plurality of die pads are arranged in the cavity of the mold, filling the cavity with the molten sealing resin, and curing the process (f). ) Manufacture of a semiconductor device including a step of cutting and molding the sealing resin and the lead frame to separate the semiconductor substrate and the die pad sealed with the sealing resin after the step (e). In the method, the first lead is a lead arranged on a side opposite to the second lead with the die pad interposed therebetween, and a lead arranged in a direction intersecting the arrangement direction of the second lead. The distance between the lead arranged in the direction intersecting the arrangement direction of the second lead and the second lead is longer than the distance between the die pad and the first lead. And.

本発明によれば、高電圧回路と低電圧回路が混載されたインバータICチップを搭載する半導体装置において、当該半導体装置内の絶縁性を確保しつつ、小型化が可能な半導体装置とその製造方法を実現することができる。 According to the present invention, in a semiconductor device equipped with an inverter IC chip in which a high-voltage circuit and a low-voltage circuit are mounted together, the semiconductor device and its manufacturing method can be miniaturized while ensuring the insulation inside the semiconductor device. Can be realized.

また、高電圧回路と低電圧回路が混載されたインバータICチップを搭載する半導体装置において、高電圧回路での低損失化、各構成部材の実装基板への実装信頼性の向上が可能な半導体装置とその製造方法を実現することができる。 Further, in a semiconductor device equipped with an inverter IC chip in which a high-voltage circuit and a low-voltage circuit are mounted together, the semiconductor device can reduce the loss in the high-voltage circuit and improve the mounting reliability of each component on the mounting board. And its manufacturing method can be realized.

これにより、例えば家電製品の小型モータ内に実装されるインバータICチップの高耐圧化、高信頼化、小型化、低コスト化、高放熱化および高効率化を図ることができる。 As a result, for example, it is possible to increase the withstand voltage, increase the reliability, reduce the size, reduce the cost, increase the heat dissipation, and increase the efficiency of the inverter IC chip mounted in the small motor of the home electric appliance.

上記した以外の課題、構成および効果は、以下の実施形態の説明によって明らかにされる。 Issues, configurations and effects other than those described above will be clarified by the description of the following embodiments.

本発明の第1実施形態に係る半導体装置の概略平面図である。It is a schematic plan view of the semiconductor device which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1のA-A’断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view taken along the line AA'in FIG. 図1に示す半導体装置の外観図である。It is an external view of the semiconductor device shown in FIG. 1. 本発明の第2実施形態に係る半導体装置の概略平面図である。It is a schematic plan view of the semiconductor device which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 図4に示す半導体装置の外観図である。It is an external view of the semiconductor device shown in FIG. 本発明の第3実施形態に係る半導体装置の概略平面図である。It is a schematic plan view of the semiconductor device which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 図6に示す半導体装置の外観図である。It is an external view of the semiconductor device shown in FIG. 本発明の第4実施形態に係る半導体装置の概略平面図である。It is a schematic plan view of the semiconductor device which concerns on 4th Embodiment of this invention. 図8に示す半導体装置の外観図である。It is an external view of the semiconductor device shown in FIG.

以下、本発明の実施形態について図面に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一または均等である部分には、説明の簡略化を図るべく、図中に同一符号で記してある。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In each of the following embodiments, the parts that are the same or equal to each other are indicated by the same reference numerals in the drawings for the sake of simplification of the description.

図1から図3を参照して、本発明の第1の実施形態に係る半導体装置とその製造方法について説明する。図1は本実施例に係る半導体装置100の平面構造を模式的に示した概略平面図である。図2は図1におけるA-A’断面図である。図3は図1に示す半導体装置100の平面外観を模式的に示した概略平面外観図である。 The semiconductor device and the manufacturing method thereof according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3. FIG. 1 is a schematic plan view schematically showing the plan structure of the semiconductor device 100 according to the present embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA'in FIG. FIG. 3 is a schematic planar external view schematically showing the planar appearance of the semiconductor device 100 shown in FIG.

本実施例の半導体装置100は、例えば家庭用エアコンの室内外機に搭載される小型ファンモータ(三相直流モータ)を駆動する半導体装置として用いられる。 The semiconductor device 100 of this embodiment is used as a semiconductor device for driving a small fan motor (three-phase DC motor) mounted on an indoor / outdoor unit of a household air conditioner, for example.

本実施例の半導体装置100は、図1から図3に示すように、高電圧回路である出力回路1aと低電圧回路である制御回路1bが共通の半導体基板の表面側に一体的に集積形成されたインバータICチップ1と、接合材7を介してインバータICチップ1の一方の面(下面)に接続されたダイパッド2と、ダイパッド2の周辺の少なくとも1部に配列される複数の第1のリード3と、第1のリード3より高電圧が印加される複数の第2のリード4を備えている。 In the semiconductor device 100 of this embodiment, as shown in FIGS. 1 to 3, the output circuit 1a which is a high voltage circuit and the control circuit 1b which is a low voltage circuit are integrally integrated and formed on the surface side of a common semiconductor substrate. The inverter IC chip 1 is connected to the die pad 2 connected to one surface (lower surface) of the inverter IC chip 1 via a bonding material 7, and a plurality of first elements arranged in at least one portion around the die pad 2. It includes a lead 3 and a plurality of second leads 4 to which a higher voltage is applied than the first lead 3.

また、図3に示すように、ダイパッド2と第1のリード3と第2のリード4の裏面側は半導体装置100の外部に露出しており、なおかつ、図2に示すように、インバータICチップ1と第1のリード3と第2のリード4の表面側は封止樹脂6で被覆されている。本実施例の半導体装置100は、第1のリード3と第2のリード4の端辺が封止樹脂6と同一面になるパッケージを備えており、ダイパッド2と第2のリード4間の距離D1がダイパッド2と第1のリード3間の距離D5よりも大きく(長く)なるような位置関係(D1>D5)で、ダイパッド2と第1のリード3と第2のリード4が配置されている。 Further, as shown in FIG. 3, the back surface side of the die pad 2, the first lead 3, and the second lead 4 is exposed to the outside of the semiconductor device 100, and as shown in FIG. 2, the inverter IC chip. The surface side of the first lead 3, the first lead 3 and the second lead 4 is coated with the sealing resin 6. The semiconductor device 100 of this embodiment includes a package in which the ends of the first lead 3 and the second lead 4 are flush with the sealing resin 6, and the distance between the die pad 2 and the second lead 4 is provided. The die pad 2, the first lead 3 and the second lead 4 are arranged in a positional relationship (D1> D5) such that D1 is larger (longer) than the distance D5 between the die pad 2 and the first lead 3. There is.

つまり、本実施例の半導体装置100は、半導体基板の表面に出力回路(高電圧回路)1aおよび制御回路(低電圧回路)1bが形成されたインバータICチップ1と、半導体基板の裏面に接合材7を介して接合されたダイパッド2と、ダイパッド2の少なくとも一辺に沿って配置され、ボンディングワイヤ5により制御回路(低電圧回路)1bと電気的に接続された第1のリード3と、ダイパッド2の他辺に沿って配置され、ボンディングワイヤ5により出力回路(高電圧回路)1aと電気的に接続された第2のリード4と、インバータICチップ1および第1のリード3と第2のリード4の表面を被覆する封止樹脂6を備えている。 That is, in the semiconductor device 100 of this embodiment, the inverter IC chip 1 in which the output circuit (high voltage circuit) 1a and the control circuit (low voltage circuit) 1b are formed on the surface of the semiconductor substrate and the bonding material on the back surface of the semiconductor substrate. A die pad 2 joined via 7 and a first lead 3 arranged along at least one side of the die pad 2 and electrically connected to a control circuit (low voltage circuit) 1b by a bonding wire 5 and a die pad 2. A second lead 4 arranged along the other side and electrically connected to the output circuit (high voltage circuit) 1a by a bonding wire 5, an inverter IC chip 1, a first lead 3, and a second lead. The sealing resin 6 for covering the surface of 4 is provided.

また、ダイパッド2の半導体基板との接合面とは反対側の面、第1のリード3のボンディングワイヤ5との接続面とは反対側の面、第2のリード4のボンディングワイヤ5との接続面とは反対側の面のそれぞれは封止樹脂6から露出しており、なおかつ、第1のリード3の端辺および第2のリード4の端辺は封止樹脂6の端辺と同一面になるように露出しており、さらに、第1のリード3と第2のリード4は所定の(一定の)距離を有して互いに離間して形成されている。これにより、第1のリード3と第2のリード4の間の絶縁性を確保することができる。 Further, the surface of the die pad 2 opposite to the bonding surface with the semiconductor substrate, the surface of the first lead 3 opposite to the connection surface with the bonding wire 5, and the connection of the second lead 4 with the bonding wire 5. Each of the surfaces opposite to the surface is exposed from the sealing resin 6, and the end edge of the first lead 3 and the end edge of the second lead 4 are flush with the end edge of the encapsulating resin 6. Further, the first lead 3 and the second lead 4 are formed so as to be separated from each other with a predetermined (constant) distance. Thereby, the insulating property between the first lead 3 and the second lead 4 can be ensured.

また、この第1のリード3と第2のリード4間の距離は、ダイパッド2と第2のリード4間の距離D1がダイパッド2と第1のリード3間の距離D5よりも大きく(長く)なるような位置関係(D1>D5)で、ダイパッド2と第1のリード3と第2のリード4が配置されている。これにより、出力回路1a(高電圧回路)-ダイパッド2間および制御回路1b(低電圧回路)-ダイパッド2間の放電リスクを同等にかつ最小限に抑えることができる。 Further, the distance between the first lead 3 and the second lead 4 is such that the distance D1 between the die pad 2 and the second lead 4 is larger (longer) than the distance D5 between the die pad 2 and the first lead 3. The die pad 2, the first lead 3, and the second lead 4 are arranged in such a positional relationship (D1> D5). As a result, the discharge risk between the output circuit 1a (high voltage circuit) and the die pad 2 and the control circuit 1b (low voltage circuit) and the die pad 2 can be equally and minimized.

ここで、インバータICチップ1に備えられた出力回路1aは、例えばシリコン(Si)、炭化シリコン(SiC)、窒化シリコン(SiN)およびガリウム砒素(GaAs)等からなる半導体基板上に形成されたIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)やパワーMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)、サイリスタ等の大電流をオン・オフ制御する半導体素子である。 Here, the output circuit 1a provided in the inverter IC chip 1 is an IGBT formed on a semiconductor substrate made of, for example, silicon (Si), silicon carbide (SiC), silicon nitride (SiN), gallium arsenic (GaAs), or the like. (Insulated Gate Bipolar Transistor), power MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor), cylister, and other semiconductor devices that control large currents on and off.

また、制御回路1bは、大電流をオン・オフ制御する半導体素子を含まない半導体素子である。すなわち、制御回路1bとは、例えば通常の論理回路、ドライバ回路およびアナログ回路等が多数形成され、必要に応じてマイクロプロセッサ等が形成された半導体素子であり、出力回路1aに流れる大電流を制御する機能を併せ持つことができる。つまり、例えば出力回路1aがパワーMOSFETであれば、ゲート電圧を制御するものである。従って、インバータICチップ1には、出力回路1a部分と制御回路1b部分の両方が備わって構成される。 Further, the control circuit 1b is a semiconductor element that does not include a semiconductor element that controls on / off of a large current. That is, the control circuit 1b is a semiconductor element in which a large number of ordinary logic circuits, driver circuits, analog circuits, etc. are formed, and a microprocessor or the like is formed as needed, and controls a large current flowing in the output circuit 1a. It can also have a function to do. That is, for example, if the output circuit 1a is a power MOSFET, the gate voltage is controlled. Therefore, the inverter IC chip 1 is provided with both an output circuit 1a portion and a control circuit 1b portion.

ただし、必ずしも出力回路1a部分と制御回路1b部分が一体となったインバータICチップ1に限定されるものではない。また、出力回路1aの安定的な電力出力や、制御回路1bの安定的な動作のためには、インバータICチップ1の出力回路1aと制御回路1bが形成された他方の面はGND(接地)電位とすることが望ましい。 However, it is not necessarily limited to the inverter IC chip 1 in which the output circuit 1a portion and the control circuit 1b portion are integrated. Further, for stable power output of the output circuit 1a and stable operation of the control circuit 1b, the other surface on which the output circuit 1a and the control circuit 1b of the inverter IC chip 1 are formed is GND (grounded). It is desirable to use a potential.

このインバータICチップ1は、出力回路1aと制御回路1bが形成された面とは別の(反対側の)面がダイパッド2に接合材7で接続される。この接合材7は、例えばはんだや銀(Ag)もしくが銅(Cu)を含む金属または導電性接着材等により構成され、電気的にかつ機械的に接続される。 In the inverter IC chip 1, a surface different from the surface on which the output circuit 1a and the control circuit 1b are formed (opposite side) is connected to the die pad 2 by a joining material 7. The joining material 7 is made of, for example, a metal containing solder, silver (Ag) or copper (Cu), a conductive adhesive, or the like, and is electrically and mechanically connected.

なお、接合材7を構成するはんだとしては、一般的な共晶はんだや鉛フリーはんだ等が用いられ、また、導電性接着材としては、銀(Ag)、銅(Cu)およびニッケル(Ni)等の金属フィラーが樹脂に含有もしくは金属のみで構成されたものが用いられる。 As the solder constituting the bonding material 7, general eutectic solder, lead-free solder and the like are used, and as the conductive adhesive material, silver (Ag), copper (Cu) and nickel (Ni) are used. A metal filler such as that contained in a resin or composed only of metal is used.

また、ダイパッド2は、インバータICチップ1の発熱を効率良く半導体装置100から外部へ放熱するために、熱伝導性の良い材料、例えば銅(Cu)やアルミニウム(Al)、42Alloy(鉄-ニッケル合金)等で構成される。 Further, in order to efficiently dissipate the heat generated by the inverter IC chip 1 from the semiconductor device 100 to the outside, the die pad 2 is made of a material having good thermal conductivity, such as copper (Cu), aluminum (Al), or 42 Alloy (iron-nickel alloy). ) Etc.

インバータICチップ1の出力回路1aは半導体装置100の外部端子となる複数の第2のリード4とボンディングワイヤ5で電気的に接続される。一方、制御回路1bも同様に、複数の第1のリード3とボンディングワイヤ5で電気的に接続される。このボンディングワイヤ5は、例えば電気抵抗の小さい金(Au)、銅(Cu)、銀(Ag)およびアルミニウム(Al)等で構成される。 The output circuit 1a of the inverter IC chip 1 is electrically connected to a plurality of second reeds 4 serving as external terminals of the semiconductor device 100 by bonding wires 5. On the other hand, the control circuit 1b is also electrically connected to the plurality of first leads 3 by the bonding wire 5. The bonding wire 5 is made of, for example, gold (Au), copper (Cu), silver (Ag), aluminum (Al), or the like having low electrical resistance.

半導体装置100を被覆する封止樹脂6としては、例えばエポキシ樹脂、ビフェニール樹脂および不飽和ポリエステル等の一般的なモールド材からなり、例えば金型を用いたトランスファーモールド工法等によって形成される。このトランスファーモールド工法を用いた場合、大量生産が可能なため、大幅なコスト低減が可能となる。 The sealing resin 6 for coating the semiconductor device 100 is made of a general molding material such as an epoxy resin, a biphenyl resin and an unsaturated polyester, and is formed by, for example, a transfer molding method using a mold. When this transfer mold method is used, mass production is possible, so that the cost can be significantly reduced.

また、例えば一つの金型キャビティ内で複数の半導体装置100をモールドして、切断成型して個片化するMAP(Molded Array Process)方式を採用することで、さらに大量生産やコストの面で有利となる。特に、第1のリード3と第2のリード4の端辺が封止樹脂6と同一面になるような例えばQFN(Quad Flat Package)のノンリード構造を採用することで、小型モータ内に実装するために必要な半導体装置100の外形をできるかぎり小型化することが可能となる。 Further, for example, by adopting a MAP (Molded Array Process) method in which a plurality of semiconductor devices 100 are molded in one mold cavity and then cut and molded into individual pieces, it is further advantageous in terms of mass production and cost. Will be. In particular, by adopting a non-lead structure of, for example, QFN (Quad Flat Package) in which the ends of the first lead 3 and the second lead 4 are flush with the sealing resin 6, it is mounted in a small motor. Therefore, the outer shape of the semiconductor device 100 required for this purpose can be reduced as much as possible.

また、インバータICチップ1の発熱を半導体装置100から外部に放熱するには、ダイパッド2の一部を装置の外表面に露出させることで効率良く放熱が可能である。さらにはダイパッド2を、例えば実装基板にはんだ等で接続することで強固に固定され、熱疲労からの早期破断を防止することができる。なお、トランスファーモールド工法を用いてMAP方式で生産するためには、ダイパッド2に吊りリード2aを設け、生産性を向上させることが可能である。 Further, in order to dissipate the heat generated by the inverter IC chip 1 from the semiconductor device 100 to the outside, it is possible to efficiently dissipate heat by exposing a part of the die pad 2 to the outer surface of the device. Further, the die pad 2 is firmly fixed by connecting to the mounting board with solder or the like, and early breakage from thermal fatigue can be prevented. In addition, in order to produce by the MAP method using the transfer mold method, it is possible to provide the hanging lead 2a on the die pad 2 to improve the productivity.

図1から図3に示す本実施例の半導体装置100は、例えば次のようなプロセスフローを含む製造方法を用いて形成することができる。 The semiconductor device 100 of this embodiment shown in FIGS. 1 to 3 can be formed by using, for example, a manufacturing method including the following process flow.

先ず、半導体基板の表面に出力回路(高電圧回路)1aおよび制御回路(低電圧回路)1bを形成する。 First, an output circuit (high voltage circuit) 1a and a control circuit (low voltage circuit) 1b are formed on the surface of the semiconductor substrate.

次に、半導体基板の裏面に接合材7によりダイパッド2を接合する。 Next, the die pad 2 is joined to the back surface of the semiconductor substrate with the joining material 7.

続いて、複数の第1のリード3と第1のリード3から所定の距離を有して離間して形成された複数の第2のリード4を有するリードフレームに、ダイパッド2を複数配置する。 Subsequently, a plurality of die pads 2 are arranged on a lead frame having a plurality of second leads 4 formed at a predetermined distance from the plurality of first leads 3 and the first leads 3.

次に、ワイヤボンディングにより、制御回路(低電圧回路)1bと第1のリード3、出力回路(高電圧回路)1aと第2のリード4をそれぞれ電気的に接続する。 Next, the control circuit (low voltage circuit) 1b and the first lead 3 and the output circuit (high voltage circuit) 1a and the second lead 4 are electrically connected by wire bonding, respectively.

続いて、金型のキャビティ内に複数のダイパッド2が配置されたリードフレームを配置し、キャビティ内に溶融した封止樹脂6を充填し硬化させる。 Subsequently, a lead frame in which a plurality of die pads 2 are arranged is arranged in the cavity of the mold, and the molten sealing resin 6 is filled and cured in the cavity.

最後に、封止樹脂6およびリードフレームを切断成型して、封止樹脂6により封止された半導体基板およびダイパッド2を個片化する。 Finally, the sealing resin 6 and the lead frame are cut and molded to separate the semiconductor substrate and the die pad 2 sealed by the sealing resin 6.

ここで、インバータICチップ1の出力回路1aに印加される電圧は、例えば一般的な家庭用エアコンの室内外機に搭載されるファンモータ駆動用であれば、数十Vから数百Vの高電圧である。また、制御回路1bに印加される電圧は、数Vから十数Vの低電圧である。 Here, the voltage applied to the output circuit 1a of the inverter IC chip 1 is as high as several tens V to several hundred V if it is for driving a fan motor mounted on an indoor / outdoor unit of a general household air conditioner, for example. It is a voltage. Further, the voltage applied to the control circuit 1b is a low voltage of several V to ten and several V.

さらに、出力回路1aの安定的な電力出力や、制御回路1bの安定的な動作のためには、インバータICチップ1の出力回路1aと制御回路1bが形成された他方の面(例えば裏面)はGND電位とすることが望ましい。 Further, for stable power output of the output circuit 1a and stable operation of the control circuit 1b, the other surface (for example, the back surface) on which the output circuit 1a and the control circuit 1b of the inverter IC chip 1 are formed is It is desirable to use the GND potential.

従って、インバータICチップ1の制御回路1bとボンディングワイヤ5で接続された第1のリード3と、出力回路1aとボンディングワイヤ5で接続された第2のリード4およびインバータICチップ1の裏面が接続されたダイパッド2間には大きな電位差が生じ、ダイパッド2と第1のリード3と第2のリード4が半導体装置100の外表面に露出される場合には、放電リスクを減らすために一定の沿面距離が必要となる。 Therefore, the first lead 3 connected to the control circuit 1b of the inverter IC chip 1 by the bonding wire 5, the second lead 4 connected to the output circuit 1a by the bonding wire 5, and the back surface of the inverter IC chip 1 are connected. When a large potential difference is generated between the die pads 2 and the die pads 2, the first lead 3 and the second lead 4 are exposed on the outer surface of the semiconductor device 100, a certain creepage surface is used to reduce the discharge risk. Distance is needed.

つまり、高電圧の第2のリード4とダイパッド2間の距離D1と、低電圧の第1のリード3とダイパッド2間の距離D5では、半導体装置100の外形をできるだけ小さくした場合に、GNDとの電位差に合わせてそれぞれの沿面距離を適切に確保する必要がある。すなわち、絶縁距離をD、その間の電位差をVeとした場合、一般的には絶縁破壊量Kとは以下の関係がある。 That is, in the distance D1 between the high voltage second lead 4 and the die pad 2 and the distance D5 between the low voltage first lead 3 and the die pad 2, when the outer shape of the semiconductor device 100 is made as small as possible, GND is used. It is necessary to appropriately secure each creepage distance according to the potential difference of. That is, when the insulation distance is D and the potential difference between them is Ve, the dielectric breakdown amount K generally has the following relationship.

Figure 0007090494000001
Figure 0007090494000001

従って、半導体装置100におけるダイパッド2と第2のリード4間の距離D1の電位差をVe1、また、ダイパッド2と第1のリード3間の距離D5の電位差をVe5とした場合、D1とD5で意図しない放電リスクを同等にかつ最小限に防止するためには、(1)式から、Ve1/D1=Ve5/D5である。つまり、D1=(Ve5/Ve1)D5となる。ここで、Ve5<Ve1であるから、ゆえに、D5<D1となる。 Therefore, when the potential difference of the distance D1 between the die pad 2 and the second reed 4 in the semiconductor device 100 is Ve1 and the potential difference of the distance D5 between the die pad 2 and the first reed 3 is Ve5, D1 and D5 are intended. In order to prevent the risk of discharge that does not occur equally and to the minimum, from the equation (1), Ve1 / D1 = Ve5 / D5. That is, D1 = (Ve5 / Ve1) D5. Here, since Ve5 <Ve1, therefore, D5 <D1.

以上説明したように、本実施例に係る半導体装置100は、インバータICチップ1の制御回路1bより高電圧の出力回路1aが接続された第2のリード4とGND電位であるダイパッド2間の距離D1を、制御回路1bが接続された第1のリード3とGND電位であるダイパッド2間の距離D5より大きく(長く)することで、出力回路1a(高電圧回路)-ダイパッド2間および制御回路1b(低電圧回路)-ダイパッド2間の放電リスクを同等にかつ最小限に抑えることができ高耐圧化が実現できる。 As described above, in the semiconductor device 100 according to the present embodiment, the distance between the second lead 4 to which the output circuit 1a having a higher voltage than the control circuit 1b of the inverter IC chip 1 is connected and the die pad 2 which is the GND potential. By making D1 larger (longer) than the distance D5 between the first lead 3 to which the control circuit 1b is connected and the die pad 2 which is the GND potential, the output circuit 1a (high voltage circuit) -the die pad 2 and the control circuit The discharge risk between 1b (low voltage circuit) and the die pad 2 can be equally and minimized, and high withstand voltage can be realized.

また、ダイパッド2が半導体装置100の表面に露出した構造のため、インバータICチップ1の発熱を効率よく放熱し高放熱化を実現し、かつ実装基板と強固に接続されるために高信頼化が実現できる。 In addition, since the die pad 2 is exposed on the surface of the semiconductor device 100, the heat generated by the inverter IC chip 1 is efficiently dissipated to achieve high heat dissipation, and the die pad 2 is firmly connected to the mounting board, resulting in high reliability. realizable.

さらに、第1のリード3と第2のリード4の端辺が封止樹脂6と同一面になるようなノンリード構造を採用することで小型化が実現でき、かつ低コスト化が実現できる。つまり、本実施例に係る半導体装置100は、半導体装置100の高耐圧化、高放熱化、高信頼化、小型化および低コスト化を同時に実現することが可能である。 Further, by adopting a non-lead structure in which the ends of the first lead 3 and the second lead 4 are flush with the sealing resin 6, miniaturization and cost reduction can be realized. That is, the semiconductor device 100 according to the present embodiment can simultaneously realize high withstand voltage, high heat dissipation, high reliability, miniaturization, and low cost of the semiconductor device 100.

図4および図5を参照して、本発明の第2の実施形態に係る半導体装置について説明する。図4は本実施例に係る半導体装置100の平面構造を模式的に示した概略平面図である。図5は図4に示す半導体装置100の平面外観を模式的に示した概略平面外観図である。以下、実施例1と相違する事項を中心に説明する。 A semiconductor device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 and 5. FIG. 4 is a schematic plan view schematically showing the plan structure of the semiconductor device 100 according to the present embodiment. FIG. 5 is a schematic planar external view schematically showing the planar appearance of the semiconductor device 100 shown in FIG. Hereinafter, matters different from those of the first embodiment will be mainly described.

本実施例の半導体装置100は、図4および図5に示すように、高電圧回路である出力回路1aと低電圧回路である制御回路1bが共通の半導体基板の表面側に一体的に集積形成されたインバータICチップ1と、図示しない接合材7を介してインバータICチップ1の一方の面(下面)に接続されたダイパッド2と、ダイパッド2の周辺の少なくとも1部に配列される複数の第1のリード3と、第1のリード3より高電圧が印加される複数の第2のリード4を備えている。 In the semiconductor device 100 of this embodiment, as shown in FIGS. 4 and 5, the output circuit 1a which is a high voltage circuit and the control circuit 1b which is a low voltage circuit are integrally integrated and formed on the surface side of a common semiconductor substrate. The inverter IC chip 1 is connected to the die pad 2 connected to one surface (lower surface) of the inverter IC chip 1 via a bonding material 7 (not shown), and a plurality of thirds arranged in at least one portion around the die pad 2. It includes a lead 3 of 1 and a plurality of second leads 4 to which a higher voltage is applied than the first lead 3.

また、図5に示すように、ダイパッド2と第1のリード3と第2のリード4の裏面側は半導体装置100の外部に露出しており、なおかつ、実施例1の図2と同様に、インバータICチップ1と第1のリード3と第2のリード4の表面側は封止樹脂6で被覆されている。本実施例の半導体装置100は、第1のリード3と第2のリード4の端辺が封止樹脂6と同一面になるパッケージを備えており、第2のリード4同士間の距離D2がダイパッド2と第1のリード3間の距離D5より大きく(長く)なるような位置関係(D2>D5)で、ダイパッド2と第1のリード3と第2のリード4が配置されている。 Further, as shown in FIG. 5, the back surface sides of the die pad 2, the first lead 3, and the second lead 4 are exposed to the outside of the semiconductor device 100, and the same as in FIG. 2 of the first embodiment. The surface side of the inverter IC chip 1, the first lead 3, and the second lead 4 is coated with the sealing resin 6. The semiconductor device 100 of this embodiment includes a package in which the ends of the first lead 3 and the second lead 4 are flush with the sealing resin 6, and the distance D2 between the second leads 4 is set. The die pad 2, the first lead 3, and the second lead 4 are arranged in a positional relationship (D2> D5) such that the distance between the die pad 2 and the first lead 3 is larger (longer) than the distance D5.

つまり、本実施例の半導体装置100は、第2のリード4を複数備えており、第2のリード4同士間の距離は、ダイパッド2と第1のリード3間の距離より長くなるように配置されている。 That is, the semiconductor device 100 of this embodiment includes a plurality of second reeds 4, and is arranged so that the distance between the second reeds 4 is longer than the distance between the die pad 2 and the first reed 3. Has been done.

半導体装置100は、例えば一般的な家庭用エアコンの室内外機に搭載される小型ファンモータ(三相直流モータ)を駆動する半導体装置として用いられる場合、インバータICチップ1の出力回路1aでは位相を120°ずらして制御されるため、ボンディングワイヤ5で接続された第2のリード4間では位相ずれによる電位差が生じる。 When the semiconductor device 100 is used as a semiconductor device for driving a small fan motor (three-phase DC motor) mounted on an indoor / outdoor unit of a general household air conditioner, the phase is determined in the output circuit 1a of the inverter IC chip 1. Since the control is performed with a shift of 120 °, a potential difference due to a phase shift occurs between the second leads 4 connected by the bonding wire 5.

この出力回路1aに印加される電圧は、例えば一般的な家庭用エアコンの室内外機に搭載されるファンモータ駆動用であれば、数十Vから数百Vの高電圧である。また、インバータICチップ1の制御回路1bに印加される電圧は、数Vから十数Vの低電圧である。 The voltage applied to the output circuit 1a is, for example, a high voltage of several tens to several hundreds V for driving a fan motor mounted on an indoor / outdoor unit of a general household air conditioner. Further, the voltage applied to the control circuit 1b of the inverter IC chip 1 is a low voltage of several V to a dozen V.

さらに、出力回路1aの安定的な電力出力や、制御回路1bの安定的な動作のためには、インバータICチップ1の出力回路1aと制御回路1bが形成された他方の面(例えば裏面)はGND電位とすることが望ましい。 Further, for stable power output of the output circuit 1a and stable operation of the control circuit 1b, the other surface (for example, the back surface) on which the output circuit 1a and the control circuit 1b of the inverter IC chip 1 are formed is It is desirable to use the GND potential.

従って、インバータICチップ1の出力回路1aとボンディングワイヤ5で接続された複数の第2のリード4同士の間には大きな電位差が生じ、半導体装置100の外表面に露出された場合には、放電リスクを減らすために一定の沿面距離が必要となる。 Therefore, when a large potential difference is generated between the output circuit 1a of the inverter IC chip 1 and the plurality of second leads 4 connected by the bonding wire 5 and exposed to the outer surface of the semiconductor device 100, the electric discharge is discharged. A certain creepage distance is required to reduce the risk.

一方で、インバータICチップ1の制御回路1bが接続された第1のリード3は、第2のリード4に比べて低電圧であるが、GND電位となるダイパッド2との沿面距離を確保している。つまり、高電圧の第2のリード4同士間の距離D2と、低電圧の第1のリード3とダイパッド2間の距離D5では、半導体装置の外形をできるだけ小さくした場合に、GNDとの電位差に合わせてそれぞれの沿面距離を適切に確保する必要がある。 On the other hand, the first reed 3 to which the control circuit 1b of the inverter IC chip 1 is connected has a lower voltage than the second reed 4, but secures a creepage distance from the die pad 2 which is a GND potential. There is. That is, the distance D2 between the high voltage second leads 4 and the distance D5 between the low voltage first leads 3 and the die pad 2 cause a potential difference from GND when the outer shape of the semiconductor device is made as small as possible. In addition, it is necessary to properly secure each creepage distance.

すなわち、半導体装置100における第2のリード4同士間の距離D2の電位差をVe2、また、ダイパッド2と第1のリード3間の距離D5の電位差をVe5とした場合、D2とD5で意図しない放電リスクを同等にかつ最小限に防止するためには、(1)式から、Ve2/D2=Ve5/D5である。つまり、D2=(Ve2/Ve5)D5となる。ここで、Ve5<Ve2であるから、ゆえに、D5<D2となる。 That is, when the potential difference of the distance D2 between the second leads 4 in the semiconductor device 100 is Ve2 and the potential difference of the distance D5 between the die pad 2 and the first lead 3 is Ve5, an unintended discharge is performed between D2 and D5. In order to prevent the risk equally and to the minimum, from the equation (1), Ve2 / D2 = Ve5 / D5. That is, D2 = (Ve2 / Ve5) D5. Here, since Ve5 <Ve2, therefore, D5 <D2.

以上説明したように、本実施例に係る半導体装置100は、インバータICチップ1の制御回路1bより高電圧の出力回路1aが接続された第2のリード4同士間の距離D2を、制御回路1bが接続された第1のリード3とGND電位であるダイパッド2間の距離D5より大きく(長く)することで、第2のリード4同士間の放電リスクをダイパッド2と第1のリード3間の放電リスクと同等にかつ最小限に抑えることができ高耐圧化が実現できる。 As described above, in the semiconductor device 100 according to the present embodiment, the distance D2 between the second leads 4 to which the output circuit 1a having a higher voltage than the control circuit 1b of the inverter IC chip 1 is connected is set to the control circuit 1b. By making the distance between the first lead 3 connected to the second lead 3 and the die pad 2 which is the GND potential larger (longer) than D5, the discharge risk between the second leads 4 is reduced between the die pad 2 and the first lead 3. High withstand voltage can be realized by minimizing the discharge risk.

図6および図7を参照して、本発明の第3の実施形態に係る半導体装置について説明する。図6は本実施例に係る半導体装置100の平面構造を模式的に示した概略平面図である。図7は図6に示す半導体装置100の平面外観を模式的に示した概略平面外観図である。以下、実施例1および実施例2と相違する事項を中心に説明する。 A semiconductor device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 6 and 7. FIG. 6 is a schematic plan view schematically showing the plan structure of the semiconductor device 100 according to the present embodiment. FIG. 7 is a schematic planar external view schematically showing the planar appearance of the semiconductor device 100 shown in FIG. Hereinafter, matters different from those of the first and second embodiments will be mainly described.

本実施例の半導体装置100は、図6および図7に示すように、高電圧回路である出力回路1aと低電圧回路である制御回路1bが共通の半導体基板の表面側に一体的に集積形成されたインバータICチップ1と、図示しない接合材7を介してインバータICチップ1の一方の面(下面)に接続されたダイパッド2と、ダイパッド2の周辺の少なくとも1部に配列される複数の第1のリード3と、第1のリード3より高電圧が印加される複数の第2のリード4を備えている。 In the semiconductor device 100 of this embodiment, as shown in FIGS. 6 and 7, the output circuit 1a which is a high voltage circuit and the control circuit 1b which is a low voltage circuit are integrally integrated and formed on the surface side of a common semiconductor substrate. The inverter IC chip 1 is connected to the die pad 2 connected to one surface (lower surface) of the inverter IC chip 1 via a bonding material 7 (not shown), and a plurality of thirds arranged in at least one portion around the die pad 2. It includes a lead 3 of 1 and a plurality of second leads 4 to which a higher voltage is applied than the first lead 3.

また、図7に示すように、ダイパッド2と第1のリード3と第2のリード4の裏面側は半導体装置100の外部に露出しており、なおかつ、実施例1の図2と同様に、インバータICチップ1と第1のリード3と第2のリード4の表面側は封止樹脂6で被覆されている。本実施例の半導体装置100は、第1のリード3と第2のリード4の端辺が封止樹脂6と同一面になるパッケージを備えており、第1のリード3と第2のリード4間の距離D3がダイパッド2と第1のリード3間の距離D5より大きく(長く)なるような位置関係(D3>D5)で、ダイパッド2と第1のリード3と第2のリード4が配置されている。 Further, as shown in FIG. 7, the back surface sides of the die pad 2, the first lead 3, and the second lead 4 are exposed to the outside of the semiconductor device 100, and the same as in FIG. 2 of the first embodiment. The surface side of the inverter IC chip 1, the first lead 3, and the second lead 4 is coated with the sealing resin 6. The semiconductor device 100 of this embodiment includes a package in which the ends of the first lead 3 and the second lead 4 are flush with the sealing resin 6, and the first lead 3 and the second lead 4 are provided. The die pad 2, the first lead 3, and the second lead 4 are arranged in a positional relationship (D3> D5) such that the distance D3 between them is larger (longer) than the distance D5 between the die pad 2 and the first lead 3. Has been done.

半導体装置100は、例えば一般的な家庭用エアコンの室内外機に搭載される小型ファンモータ(三相直流モータ)を駆動する半導体装置として用いられる場合、出力回路1aに印加される電圧は、数十Vから数百Vの高電圧である。 When the semiconductor device 100 is used as a semiconductor device for driving a small fan motor (three-phase DC motor) mounted on an indoor / outdoor unit of a general household air conditioner, the voltage applied to the output circuit 1a is a number. It is a high voltage of 10 V to several hundred V.

一方、インバータICチップ1の制御回路1bに印加される電圧は、数Vから十数Vの低電圧である。 On the other hand, the voltage applied to the control circuit 1b of the inverter IC chip 1 is a low voltage of several V to a dozen V.

さらに、出力回路1aの安定的な電力出力や、制御回路1bの安定的な動作のためには、インバータICチップ1の出力回路1aと制御回路1bが形成された他方の面(例えば裏面)はGND電位とすることが望ましい。 Further, for stable power output of the output circuit 1a and stable operation of the control circuit 1b, the other surface (for example, the back surface) on which the output circuit 1a and the control circuit 1b of the inverter IC chip 1 are formed is It is desirable to use the GND potential.

従って、インバータICチップ1の出力回路1aとボンディングワイヤ5で接続された第2のリード4と、制御回路1bとボンディングワイヤ5で接続された第1のリード3間には大きな電位差が生じ、半導体装置100の外表面に露出された場合には、放電リスクを減らすために一定の沿面距離が必要となる。 Therefore, a large potential difference is generated between the output circuit 1a of the inverter IC chip 1 and the second lead 4 connected by the bonding wire 5, and the control circuit 1b and the first lead 3 connected by the bonding wire 5, and the semiconductor is used. When exposed to the outer surface of the device 100, a certain creepage distance is required to reduce the discharge risk.

一方で、インバータICチップ1の制御回路1bが接続された第1のリード3は、第2のリード4に比べて低電圧であるが、GND電位となるダイパッド2との沿面距離を確保している。つまり、高電圧の第2リード4と低電圧の第1のリード3間の距離D3と、低電圧の第1のリード3とダイパッド2間の距離D5では、半導体装置の外形をできるだけ小さくした場合に、GNDとの電位差に合わせてそれぞれの沿面距離を適切に確保する必要がある。 On the other hand, the first reed 3 to which the control circuit 1b of the inverter IC chip 1 is connected has a lower voltage than the second reed 4, but secures a creepage distance from the die pad 2 which is a GND potential. There is. That is, when the outer shape of the semiconductor device is made as small as possible in the distance D3 between the high voltage second lead 4 and the low voltage first lead 3 and the distance D5 between the low voltage first lead 3 and the die pad 2. In addition, it is necessary to appropriately secure each creepage distance according to the potential difference with GND.

すなわち、半導体装置100における第2のリード4と第1のリード3との距離D3の電位差をVe3、また、ダイパッド2と第1のリード3間の距離D5の電位差をVe5とした場合、D3とD5で意図しない放電リスクを同等にかつ最小限に防止するためには、(1)式から、Ve3/D3=Ve5/D5である。つまり、D3=(Ve3/Ve5)D5となる。ここで、Ve5<Ve3であるから、ゆえに、D5<D3となる。 That is, when the potential difference of the distance D3 between the second lead 4 and the first lead 3 in the semiconductor device 100 is Ve3, and the potential difference of the distance D5 between the die pad 2 and the first lead 3 is Ve5, the potential difference is D3. In order to prevent the unintended discharge risk in D5 equally and to the minimum, from the equation (1), Ve3 / D3 = Ve5 / D5. That is, D3 = (Ve3 / Ve5) D5. Here, since Ve5 <Ve3, therefore, D5 <D3.

以上説明したように、本実施例に係る半導体装置100は、インバータICチップ1の制御回路1bより高電圧の出力回路1aが接続された第2のリード4と低電圧の制御回路1bが接続された第1のリード3間の距離D3を、制御回路1bが接続された第1のリード3とGND電位であるダイパッド2間の距離D5より大きく(長く)することで、第1のリード3-第2のリード4間と第1のリード3-ダイパッド2間の放電リスクを同等にかつ最小限に抑えることができ高耐圧化が実現できる。 As described above, in the semiconductor device 100 according to the present embodiment, the second lead 4 to which the high voltage output circuit 1a is connected is connected to the low voltage control circuit 1b from the control circuit 1b of the inverter IC chip 1. By making the distance D3 between the first leads 3 larger (longer) than the distance D5 between the first leads 3 to which the control circuit 1b is connected and the die pad 2 which is the GND potential, the first leads 3- The discharge risk between the second lead 4 and the first lead 3-die pad 2 can be equally and minimized, and a high withstand voltage can be realized.

図8および図9を参照して、本発明の第4の実施形態に係る半導体装置について説明する。図8は本実施例に係る半導体装置100の平面構造を模式的に示した概略平面図である。図9は図8に示す半導体装置100の平面外観を模式的に示した概略平面外観図である。以下、実施例1から実施例3と相違する事項を中心に説明する。 A semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 8 and 9. FIG. 8 is a schematic plan view schematically showing the plan structure of the semiconductor device 100 according to the present embodiment. FIG. 9 is a schematic planar external view schematically showing the planar appearance of the semiconductor device 100 shown in FIG. Hereinafter, matters different from those of Examples 1 to 3 will be mainly described.

本実施例の半導体装置100は、図8および図9に示すように、高電圧回路である出力回路1aと低電圧回路である制御回路1bが共通の半導体基板の表面側に一体的に集積形成されたインバータICチップ1と、図示しない接合材7を介してインバータICチップ1の一方の面(下面)に接続されたダイパッド2と、ダイパッド2の周辺の少なくとも1部に配列される複数の第1のリード3と、第1のリード3より高電圧が印加される複数の第2のリード4を備えている。 In the semiconductor device 100 of this embodiment, as shown in FIGS. 8 and 9, the output circuit 1a which is a high voltage circuit and the control circuit 1b which is a low voltage circuit are integrally integrated and formed on the surface side of a common semiconductor substrate. The inverter IC chip 1 is connected to the die pad 2 connected to one surface (lower surface) of the inverter IC chip 1 via a bonding material 7 (not shown), and a plurality of thirds arranged in at least one portion around the die pad 2. It includes a lead 3 of 1 and a plurality of second leads 4 to which a higher voltage is applied than the first lead 3.

また、図9に示すように、ダイパッド2と第1のリード3と第2のリード4の裏面側は半導体装置100の外部に露出しており、なおかつ、実施例1の図2と同様に、インバータICチップ1と第1のリード3と第2のリード4の表面側は封止樹脂6で被覆されている。本実施例の半導体装置100は、第2のリード4の面積A2が第1のリード3の面積A1より大きく(広く)なるように設けられている。(A2>A1)
半導体装置100は、例えば一般的な家庭用エアコンの室内外機に搭載される小型ファンモータ(三相直流モータ)を駆動する半導体装置として用いられる場合、出力回路1aに流れる電流は、例えば一般的な家庭用エアコンの室内外機に搭載されるファンモータや一般的な家庭用冷蔵庫のコンプレッサの駆動用であれば、数Aから十数Aの大電流である。
Further, as shown in FIG. 9, the back surface sides of the die pad 2, the first lead 3, and the second lead 4 are exposed to the outside of the semiconductor device 100, and the same as in FIG. 2 of the first embodiment. The surface side of the inverter IC chip 1, the first lead 3, and the second lead 4 is coated with the sealing resin 6. The semiconductor device 100 of this embodiment is provided so that the area A2 of the second lead 4 is larger (wider) than the area A1 of the first lead 3. (A2> A1)
When the semiconductor device 100 is used as a semiconductor device for driving a small fan motor (three-phase DC motor) mounted on an indoor / outdoor unit of a general household refrigerator, for example, the current flowing through the output circuit 1a is generally general. If it is for driving a fan motor mounted on an indoor / outdoor unit of a household air conditioner or a compressor of a general household refrigerator, the current is a large current of several A to several ten A.

一方、インバータICチップ1の制御回路1bに流れる電流は、数ミリAから十数ミリAの小電流である。 On the other hand, the current flowing through the control circuit 1b of the inverter IC chip 1 is a small current of several millimeters A to ten and several millimeters A.

従って、第1のリード3に比べて大電流が流れる第2のリード4の面積は、大きい(広い)ほど電気抵抗を減らして効率を上げ、なおかつ、例えば電気抵抗によるジュール熱の発生を抑えることが可能である。 Therefore, as the area of the second reed 4 through which a larger current flows than that of the first reed 3 is larger (wider), the electric resistance is reduced to improve the efficiency, and for example, the generation of Joule heat due to the electric resistance is suppressed. Is possible.

さらには、半導体装置100の外表面に露出された場合には、第2のリード4の面積が大きい(広い)ため、実装基板に強固に接続されることで高信頼化が実現できる。つまり、大電流の第2リード4の面積A2と、小電流の第1のリード3の面積A1では、半導体装置の外形をできるだけ小さくして耐圧性を上げるために、それぞれの面積を適切に確保する必要がある。 Further, when exposed to the outer surface of the semiconductor device 100, the area of the second lead 4 is large (wide), so that high reliability can be realized by being firmly connected to the mounting substrate. That is, in the area A2 of the second lead 4 having a large current and the area A1 of the first lead 3 having a small current, the respective areas are appropriately secured in order to make the outer shape of the semiconductor device as small as possible and improve the withstand voltage. There is a need to.

すなわち、半導体装置100における第2のリード4の面積A2と第1のリード3の面積A1は、A1<A2となることが望ましい。 That is, it is desirable that the area A2 of the second lead 4 and the area A1 of the first lead 3 in the semiconductor device 100 are A1 <A2.

以上説明したように、本実施例に係る半導体装置100は、インバータICチップ1の制御回路1bより大電流が流れる出力回路1aが接続された第2のリード4の面積A2を小電流の制御回路1bが接続された第1のリード3の面積A1より大きく(広く)することで、電気抵抗の上昇を抑えて高効率化が実現でき、さらには高放熱化と高信頼化を実現できる。 As described above, the semiconductor device 100 according to the present embodiment has a control circuit having a small current in the area A2 of the second lead 4 to which the output circuit 1a in which a large current flows from the control circuit 1b of the inverter IC chip 1 is connected. By making the area A1 of the first lead 3 to which 1b is connected larger (wider), it is possible to suppress an increase in electrical resistance and realize high efficiency, and further, high heat dissipation and high reliability can be realized.

なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and includes various modifications. For example, the above-described embodiment has been described in detail in order to explain the present invention in an easy-to-understand manner, and is not necessarily limited to the one including all the described configurations. Further, it is possible to replace a part of the configuration of one embodiment with the configuration of another embodiment, and it is also possible to add the configuration of another embodiment to the configuration of one embodiment. Further, it is possible to add / delete / replace a part of the configuration of each embodiment with another configuration.

1…インバータICチップ
1a…出力回路(高電圧回路)
1b…制御回路(低電圧回路)
2…ダイパッド
2a…吊りリード
3…第1のリード
4…第2のリード
5…ボンディングワイヤ
6…封止樹脂
7…接合材
100…半導体装置
1 ... Inverter IC chip 1a ... Output circuit (high voltage circuit)
1b ... Control circuit (low voltage circuit)
2 ... Die pad 2a ... Suspended lead 3 ... First lead 4 ... Second lead 5 ... Bonding wire 6 ... Sealing resin 7 ... Bonding material 100 ... Semiconductor device

Claims (8)

半導体基板の表面に出力回路および制御回路が形成されたインバータICチップと、
前記半導体基板の裏面に接合材を介して接合されたダイパッドと、
前記ダイパッドの少なくとも一辺に沿って配置され、第1のボンディングワイヤにより前記制御回路と電気的に接続された第1のリードと、
前記ダイパッドの他辺に沿って配置され、第2のボンディングワイヤにより前記出力回路と電気的に接続された第2のリードと、
前記インバータICチップおよび前記第1のリードと前記第2のリードの表面を被覆する封止樹脂と、を備え、
前記ダイパッドの前記半導体基板との接合面とは反対側の面、前記第1のリードの前記第1のボンディングワイヤとの接続面とは反対側の面、前記第2のリードの前記第2のボンディングワイヤとの接続面とは反対側の面のそれぞれは前記封止樹脂から露出しており、なおかつ、前記第1のリードの端辺および前記第2のリードの端辺は前記封止樹脂の端辺と同一面になるように前記封止樹脂から露出しており、
前記第1のリードと前記第2のリードは所定の距離を有して互いに離間して形成されており、
前記第1のリードは、前記ダイパッドを挟んで前記他辺の反対側の辺に沿って配置されたリードと、前記他辺と交差する辺に沿って配置されたリードと、を有し、
前記他辺と交差する辺に沿って配置されたリードと前記第2のリード間の距離は、前記ダイパッドと前記第1のリード間の距離より長いことを特徴とする半導体装置。
Inverter IC chips with output circuits and control circuits formed on the surface of a semiconductor substrate,
A die pad bonded to the back surface of the semiconductor substrate via a bonding material,
A first lead located along at least one side of the die pad and electrically connected to the control circuit by a first bonding wire.
A second lead located along the other side of the die pad and electrically connected to the output circuit by a second bonding wire.
The inverter IC chip and the sealing resin for covering the surface of the first lead and the second lead are provided.
The surface of the die pad opposite to the bonding surface with the semiconductor substrate, the surface of the first lead opposite to the connection surface with the first bonding wire, and the second lead of the second lead. Each of the surfaces opposite to the connection surface with the bonding wire is exposed from the sealing resin, and the end edge of the first lead and the end edge of the second lead are made of the sealing resin. It is exposed from the sealing resin so as to be flush with the end edge.
The first lead and the second lead are formed so as to be separated from each other with a predetermined distance .
The first lead has a lead arranged along the side opposite to the other side with the die pad interposed therebetween, and a lead arranged along the side intersecting with the other side.
A semiconductor device characterized in that the distance between a lead arranged along a side intersecting the other side and the second lead is longer than the distance between the die pad and the first lead .
請求項1に記載の半導体装置であって、
前記ダイパッドと前記第2のリード間の距離は、前記ダイパッドと前記第1のリード間の距離より長いことを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1.
A semiconductor device characterized in that the distance between the die pad and the second lead is longer than the distance between the die pad and the first lead.
請求項1または2に記載の半導体装置であって、
前記第2のリードを複数備え、
前記第2のリード同士間の距離は、前記ダイパッドと前記第1のリード間の距離より長いことを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1 or 2.
With a plurality of the second leads,
A semiconductor device characterized in that the distance between the second leads is longer than the distance between the die pad and the first lead.
請求項1からのいずれか1項に記載の半導体装置であって、
前記第2のリードの面積は、前記第1のリードの面積より広いことを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 3 .
A semiconductor device characterized in that the area of the second lead is larger than the area of the first lead.
(a)半導体基板の表面に出力回路および制御回路を形成する工程、
(b)前記(a)工程の後、前記半導体基板の裏面に接合材によりダイパッドを接合する工程、
(c)前記(b)工程の後、複数の第1のリードと前記第1のリードから所定の距離を有して離間して形成された複数の第2のリードを有するリードフレームに、前記ダイパッドを複数配置する工程、
(d)前記(c)工程の後、ワイヤボンディングにより、前記制御回路と前記第1のリード、前記出力回路と前記第2のリードをそれぞれ電気的に接続する工程、
(e)前記(d)工程の後、金型のキャビティ内に前記複数のダイパッドが配置された前記リードフレームを配置し、前記キャビティ内に溶融した封止樹脂を充填し硬化させる工程、
(f)前記(e)工程の後、前記封止樹脂および前記リードフレームを切断成型して前記封止樹脂により封止された前記半導体基板および前記ダイパッドを個片化する工程
を含む半導体装置の製造方法であって、
前記第1のリードは、前記ダイパッドを挟んで前記第2のリードとは反対側に配置されたリードと、前記第2のリードの配列方向と交差する方向に配置されたリードと、を有し、
前記第2のリードの配列方向と交差する方向に配置されたリードと前記第2のリード間の距離は、前記ダイパッドと前記第1のリード間の距離より長いことを特徴とする半導体装置の製造方法。
(A) A process of forming an output circuit and a control circuit on the surface of a semiconductor substrate,
(B) After the step (a), a step of joining a die pad to the back surface of the semiconductor substrate with a joining material.
(C) The lead frame having a plurality of first leads and a plurality of second leads formed apart from the first leads at a predetermined distance after the step (b). The process of arranging multiple die pads,
(D) After the step (c), a step of electrically connecting the control circuit and the first lead, and the output circuit and the second lead by wire bonding, respectively.
(E) After the step (d), a step of arranging the lead frame in which the plurality of die pads are arranged in a cavity of a mold, filling the cavity with a molten sealing resin, and curing the lead frame.
(F) After the step (e), a step of cutting and molding the sealing resin and the lead frame to separate the semiconductor substrate and the die pad sealed with the sealing resin .
It is a manufacturing method of a semiconductor device including
The first lead has a lead arranged on the side opposite to the second lead with the die pad interposed therebetween, and a lead arranged in a direction intersecting the arrangement direction of the second lead. ,
Manufacture of a semiconductor device, characterized in that the distance between a lead arranged in a direction intersecting the arrangement direction of the second lead and the second lead is longer than the distance between the die pad and the first lead. Method.
請求項に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記ダイパッドと前記第2のリード間の距離は、前記ダイパッドと前記第1のリード間の距離より長いことを特徴とする半導体装置の製造方法。
The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 5 .
A method for manufacturing a semiconductor device, characterized in that the distance between the die pad and the second lead is longer than the distance between the die pad and the first lead.
請求項またはに記載の半導体装置の製造方法であって、
前記第2のリードを複数備え、
前記第2のリード同士間の距離は、前記ダイパッドと前記第1のリード間の距離より長いことを特徴とする半導体装置の製造方法。
The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 5 or 6 .
With a plurality of the second leads,
A method for manufacturing a semiconductor device, wherein the distance between the second leads is longer than the distance between the die pad and the first lead.
請求項からのいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記第2のリードの面積は、前記第1のリードの面積より広いことを特徴とする半導体装置の製造方法。
The method for manufacturing a semiconductor device according to any one of claims 5 to 7 .
A method for manufacturing a semiconductor device, wherein the area of the second lead is larger than the area of the first lead.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021048211A (en) * 2019-09-18 2021-03-25 株式会社東海理化電機製作所 Semiconductor device
WO2023199808A1 (en) * 2022-04-12 2023-10-19 ローム株式会社 Semiconductor device
JP7317182B1 (en) * 2022-05-23 2023-07-28 三菱電機株式会社 Semiconductor device and its manufacturing method

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011187650A (en) 2010-03-08 2011-09-22 Renesas Electronics Corp Semiconductor device
WO2012035791A1 (en) 2010-09-15 2012-03-22 三菱電機株式会社 Power conversion device, motor containing same, air conditioner containing motor, and ventilation fan containing motor
US20140145318A1 (en) 2012-11-27 2014-05-29 Infineon Technologies Ag Semiconductor Packages and Methods of Formation Thereof
JP2016136608A (en) 2015-01-16 2016-07-28 新日本無線株式会社 Semiconductor device
WO2018061711A1 (en) 2016-09-27 2018-04-05 パナソニックIpマネジメント株式会社 Semiconductor device and manufacturing method

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011187650A (en) 2010-03-08 2011-09-22 Renesas Electronics Corp Semiconductor device
WO2012035791A1 (en) 2010-09-15 2012-03-22 三菱電機株式会社 Power conversion device, motor containing same, air conditioner containing motor, and ventilation fan containing motor
US20140145318A1 (en) 2012-11-27 2014-05-29 Infineon Technologies Ag Semiconductor Packages and Methods of Formation Thereof
JP2016136608A (en) 2015-01-16 2016-07-28 新日本無線株式会社 Semiconductor device
WO2018061711A1 (en) 2016-09-27 2018-04-05 パナソニックIpマネジメント株式会社 Semiconductor device and manufacturing method

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