JP7087357B2 - Pod and purge device - Google Patents
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Description
本発明は、半導体の製造工程において、ウエハを複数の処理装置間で搬送する際に用いられる格納ポッド(FOUP)に関する。また、本発明は、該ポッドの内部を清浄化するためのパージ装置に関する。 The present invention relates to a storage pod (FOUP) used when a wafer is transported between a plurality of processing devices in a semiconductor manufacturing process. The present invention also relates to a purging device for cleaning the inside of the pod.
半導体の製造工程において、ウエハは、フープ(FOUP)と呼ばれるポッドに格納されて各処理装置に搬送される。 In the semiconductor manufacturing process, wafers are stored in pods called FOUPs and transported to each processing device.
ウエハが収納されるポッド内部の環境は、ウエハ表面を酸化や汚染から守るために、所定の程度を上回る不活性状態及び清浄度に保たれることが好ましい。ここで、通常、ウエハが収容された状態でのポッド内部は、高清浄に管理された窒素等によって満たされており、汚染物質、酸化性ガス等のポッド内部への侵入を防止している。しかし、ポッド内のウエハの挿脱等を行う際にポッドの内部に侵入する外部気体や、処理後のウエハから放出されるアウトガス等により、ポッド内のウエハ表面が汚染されるおそれがある。そのため、ウエハの処理工程においては、適宜ポッド内部のパージ処理を行い、ポッド内部を清浄化する必要がある。 The environment inside the pod in which the wafer is housed is preferably maintained in an inert state and cleanliness above a predetermined level in order to protect the wafer surface from oxidation and contamination. Here, normally, the inside of the pod in a state where the wafer is housed is filled with nitrogen or the like managed to be highly clean, and the invasion of pollutants, oxidizing gas, etc. into the pod is prevented. However, the surface of the wafer in the pod may be contaminated by external gas that invades the inside of the pod when the wafer in the pod is inserted or removed, out gas released from the wafer after processing, or the like. Therefore, in the wafer processing process, it is necessary to appropriately purge the inside of the pod to clean the inside of the pod.
ポッド内部のパージ処理を行うための方法として、ポッドの底面に配置された底孔と連通し、かつポッド内に突出するように形成されたガス供給用ノズル(タワー型ノズル)を介して、ポッド内部にパージガスを導入することが知られている。また、特許文献1には、ポッド内部にパージガスをより効率的に導入するために、一対のタワー型ノズルの間に面状のパージ部材を設けることが開示されている。
As a method for purging the inside of the pod, the pod is communicated with a bottom hole arranged at the bottom of the pod and via a gas supply nozzle (tower type nozzle) formed so as to protrude into the pod. It is known to introduce purge gas inside. Further,
近年、半導体素子における配線の微細化が進んだ結果、ウエハ表面を酸化や汚染から守るために、ポッド内部をより効率的かつ高清浄度にパージ処理する技術が求められている。 As a result of the recent progress in miniaturization of wiring in semiconductor devices, there is a demand for a technique for purging the inside of a pod more efficiently and with high cleanliness in order to protect the wafer surface from oxidation and contamination.
特許文献1に開示されるような、ポッドの底面から上面に向けて直立する形状のパージノズルを用いる場合、ポッドの底面付近と上面付近におけるガス供給圧の勾配の影響により、高さ方向におけるガス供給量のばらつきが生じうる。
When a purge nozzle having a shape that stands upright from the bottom surface to the top surface of the pod as disclosed in
本発明は、このような実情に鑑みてなされ、ポッド内部へのパージガス供給圧のばらつきを抑制し、パージガスを均等に導入することができるポッドを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a pod capable of suppressing variation in the purge gas supply pressure inside the pod and evenly introducing the purge gas.
上記課題を解決するために、本発明の第1の観点に係るポッドは、平板状の被収容物を高さ方向に並置して収容可能なポッド本体と、前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けてパージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第1通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、前記第1通路には、調圧部材が配置される。 In order to solve the above problems, the pod according to the first aspect of the present invention is provided on a pod body capable of accommodating flat plate-shaped objects arranged side by side in the height direction and on one side surface of the pod body. The pod is provided with an opening, a lid detachably attached to the opening so as to seal the pod body, and a plurality of ventilation holes for ejecting purge gas toward the contained object juxtaposed in the height direction. A planar purge portion arranged on at least one surface of an inner surface facing the opening of the main body and a pair of inner surfaces adjacent thereto, or between the at least one surface and the object to be contained. The purge gas is provided upright toward the inside of the pod body from a gas supply hole provided on the inner bottom surface of the pod body and to which the purge gas is supplied from the outside, and the purge gas is supplied to the planar purge portion via the first passage. It has a gas supply unit for supplying, and a pressure regulating member is arranged in the first passage.
本観点に係るポッドでは、ガス供給部から面状パージ部にパージガスが流入する際、パージガスは所定の通気抵抗を有する調圧部材を通過する。そのため、ガス供給部の高さ方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制し、面状パージ部に対し高さ方向に均等にパージガスを供給することができる。これにより、面状パージ部からポッド内部に供給されるパージガスの供給量を均等化し、ポッド内部を効率的かつ高清浄度にパージ処理することができる。 In the pod according to this aspect, when the purge gas flows from the gas supply section to the planar purge section, the purge gas passes through a pressure regulating member having a predetermined ventilation resistance. Therefore, it is possible to suppress variations in the purge gas supply pressure in the height direction of the gas supply section and evenly supply the purge gas to the planar purge section in the height direction. As a result, the supply amount of the purge gas supplied from the planar purge portion to the inside of the pod can be equalized, and the inside of the pod can be purged efficiently and with high cleanliness.
本発明の第2の観点に係るポッドは、平板状の被収容物を高さ方向に並置して収容可能なポッド本体と、前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けてパージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第1通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、前記第1通路は、前記面状パージ部の前記高さ方向における略中央部に配置される。 The pod according to the second aspect of the present invention includes a pod body capable of accommodating flat plate-shaped objects arranged side by side in the height direction, an opening provided on one side surface of the pod body, and the pod body. A lid detachably attached to the opening so as to be hermetically provided, and a plurality of ventilation holes for ejecting purge gas toward the contained object juxtaposed in the height direction, the inner surface of the pod body facing the opening. A planar purge portion arranged on at least one surface of a pair of inner surfaces adjacent thereto, or between the at least one surface and the contained object, and an inner bottom surface of the pod body. It has a gas supply unit that stands upright toward the inside of the pod body from a gas supply hole for supplying the purge gas from the outside and supplies the purge gas to the planar purge unit via the first passage. However, the first passage is arranged at a substantially central portion of the planar purge portion in the height direction.
本観点に係るポッドでは、パージガスは、ガス供給部に対して高さ方向へ流入した後に流れの方向を変え、中央部の第1通路を介して面状パージ部に流入する。そのため、ガス供給部の高さ方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制し、面状パージ部に均等にパージガスを供給することができる。これにより、面状パージ部からポッド内部に供給されるパージガスの供給量を均等化し、ポッド内部を効率的かつ高清浄度にパージ処理することができる。 In the pod according to this aspect, the purge gas flows into the gas supply section in the height direction, then changes the direction of the flow, and flows into the planar purge section through the first passage in the central portion. Therefore, it is possible to suppress the variation in the purge gas supply pressure in the height direction of the gas supply section and evenly supply the purge gas to the planar purge section. As a result, the supply amount of the purge gas supplied from the planar purge portion to the inside of the pod can be equalized, and the inside of the pod can be purged efficiently and with high cleanliness.
本発明の第3の観点に係るポッドは、平板状の被収容物を高さ方向に並置して収容可能なポッド本体と、前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けてパージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第1通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、前記面状パージ部は、前記ガス供給部と前記第1通路を介して連通する第1室と、前記第1室と第2通路を介して連通し、かつ、前記複数の通気孔を有する第2室とを備え、前記第2通路は、前記面状パージ部の幅方向における略中央部に配置される。 The pod according to the third aspect of the present invention includes a pod body capable of accommodating flat plate-shaped objects arranged side by side in the height direction, an opening provided on one side surface of the pod body, and the pod body. The inner surface of the pod body facing the opening is provided with a lid detachably attached to the opening so as to be hermetically sealed, and a plurality of ventilation holes for ejecting purge gas toward the contained object juxtaposed in the height direction. A planar purge portion arranged on at least one surface of the pair of inner surfaces adjacent thereto, or between the at least one surface and the contained object, and an inner bottom surface of the pod body. It has a gas supply unit that stands upright toward the inside of the pod body from a gas supply hole for supplying the purge gas from the outside and supplies the purge gas to the planar purge unit via the first passage. The planar purge section communicates with the gas supply section via the first chamber, and communicates with the first chamber and the second passage, and has the plurality of ventilation holes. The second chamber is provided with a second chamber having the second chamber, and the second passage is arranged at a substantially central portion in the width direction of the planar purge portion.
本観点に係るポッドでは、面状パージ部の第1室から第2室にパージガスが流入する際、パージガスは面状パージ部の幅方向略中央部から流入するため、面状パージ部の幅方向中央部に配置され、ガス供給部からの距離が長い通気孔へのガス供給量が相対的に小さくなることを防止し、水平方向のガス供給量ばらつきを抑制することができる。これにより、面状パージ部からポッド内部に供給されるパージガスの供給量を均等化し、ポッド内部を効率的かつ高清浄度にパージ処理することができる。 In the pod according to this aspect, when the purge gas flows into the first chamber to the second chamber of the planar purge portion, the purge gas flows in from the substantially central portion in the width direction of the planar purge portion, so that the purge gas flows in the width direction of the planar purge portion. It is possible to prevent the gas supply amount to be relatively small to the ventilation holes which are arranged in the central portion and have a long distance from the gas supply part, and to suppress the variation in the gas supply amount in the horizontal direction. As a result, the supply amount of the purge gas supplied from the planar purge portion to the inside of the pod can be equalized, and the inside of the pod can be purged efficiently and with high cleanliness.
また、例えば、前記面状パージ部は、前記ガス供給部と前記第1通路を介して連通する第1室と、前記第1室と第2通路を介して連通し、かつ、前記複数の通気孔を有する第2室とを備えていてもよい。また、例えば、前記第2通路は、前記面状パージ部の幅方向における略中央部に配置されていてもよい。 Further, for example, the planar purge section communicates with the gas supply section via the first chamber, and communicates with the first chamber and the second passage, and communicates with the plurality of passages. It may be provided with a second chamber having pores. Further, for example, the second passage may be arranged at a substantially central portion in the width direction of the planar purge portion.
パージガスがガス供給部から面状パージ部に流入する際、通気抵抗を有する調圧部材を通過することで、ガス供給部の高さ方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制することができる。さらに、面状パージ部の第1室から第2室にパージガスが流入する際、パージガスは面状パージ部の幅方向略中央部から流入することで、ガス供給部からの距離が長い通気孔へのガス供給量が相対的に小さくなることを防止し、水平方向のガス供給量ばらつきを抑制することができる。 When the purge gas flows from the gas supply section to the planar purge section, it passes through the pressure regulating member having a ventilation resistance, so that the variation in the purge gas supply pressure in the height direction of the gas supply section can be suppressed. Further, when the purge gas flows from the first chamber to the second chamber of the planar purge portion, the purge gas flows in from the substantially central portion in the width direction of the planar purge portion, so that the purge gas has a long distance from the gas supply portion. It is possible to prevent the gas supply amount from becoming relatively small and suppress the variation in the gas supply amount in the horizontal direction.
また、例えば、前記第2通路には、調圧部材が配置されていてもよい。 Further, for example, a pressure regulating member may be arranged in the second passage.
パージガスがガス供給部から面状パージ部に流入する際、通気抵抗を有する調圧部材を通過することで、ガス供給部の高さ方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制することができる。さらに、面状パージ部の第1室から第2室にパージガスが流入する際、パージガスは所定の通気抵抗を有する調圧部材を通過するため、面状パージ部の高さ方向及び幅方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制することができる。 When the purge gas flows from the gas supply section to the planar purge section, it passes through the pressure regulating member having a ventilation resistance, so that the variation in the purge gas supply pressure in the height direction of the gas supply section can be suppressed. Further, when the purge gas flows into the first chamber to the second chamber of the planar purge portion, the purge gas passes through a pressure regulating member having a predetermined ventilation resistance, so that the purge gas in the height direction and the width direction of the planar purge portion. Variations in supply pressure can be suppressed.
また、例えば、前記第1通路には、調圧部材が配置されていてもよい。 Further, for example, a pressure regulating member may be arranged in the first passage.
パージガスがガス供給部から面状パージ部に流入する際、通気抵抗を有する調圧部材を通過することで、ガス供給部の高さ方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制することができる。さらに、面状パージ部の第1室から第2室にパージガスが流入する際、パージガスは所定の通気抵抗を有する調圧部材を通過するため、面状パージ部の高さ方向及び幅方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制することができる。 When the purge gas flows from the gas supply section to the planar purge section, it passes through the pressure regulating member having a ventilation resistance, so that the variation in the purge gas supply pressure in the height direction of the gas supply section can be suppressed. Further, when the purge gas flows into the first chamber to the second chamber of the planar purge portion, the purge gas passes through a pressure regulating member having a predetermined ventilation resistance, so that the purge gas in the height direction and the width direction of the planar purge portion. Variations in supply pressure can be suppressed.
また、例えば、前記ポッド本体の内部には、少なくとも2つの前記ガス供給部が配置されていてもよく、前記面状パージ部は、一対の前記ガス供給部の間に配置され、かつ一対の前記ガス供給部の両方から連通されていてもよい。 Further, for example, at least two gas supply units may be arranged inside the pod body, and the planar purge unit is arranged between the pair of gas supply units and the pair of the gas supply units. It may be communicated from both gas supply units.
2つ以上のガス供給部を用いることで、1つのガス供給部を用いる場合よりも効果的にパージガス供給圧のばらつきを抑制することができる。 By using two or more gas supply units, it is possible to suppress the variation in the purge gas supply pressure more effectively than when one gas supply unit is used.
本発明に係るパージ装置は、2つの前記ガス供給部が前記ポッド本体の内部に配置されるポッドにパージガスを供給するパージ装置であって、ガス供給源と、前記ガス供給源から一対の前記ガス供給部にそれぞれ接続される配管と、前記配管を介して一対の前記ガス供給部にそれぞれ供給されるパージガスの流量を調整する流量調整手段とを有する。 The purging device according to the present invention is a purging device in which two gas supply units supply purge gas to a pod arranged inside the pod body, and the gas supply source and a pair of the gas from the gas supply source. It has a pipe connected to each of the supply units and a flow rate adjusting means for adjusting the flow rate of the purge gas supplied to each of the pair of gas supply units via the pipe.
一対のガス供給部に対するパージガス供給をそれぞれ制御することで、より効果的にパージガス供給圧のばらつきを抑制することができる。 By controlling the purge gas supply to each of the pair of gas supply units, it is possible to more effectively suppress the variation in the purge gas supply pressure.
第1実施形態
以下、本発明の第1実施形態に係るポッドについて、図面を参照して説明する。図1は、本発明に係るポッド1の概略図である。図2は、本発明に係るポッド1においてパージ処理が行われる様子を示す概略図である。図3は、本発明に係るポッド1が有するパージノズル10の斜視図である。
First Embodiment Hereinafter, the pod according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic view of a
図1~図3に示すように、本発明の第1実施形態に係るポッド1は、ウエハ2を収容するためのポッド本体3と、ポッド本体3の一側面に設けられた開口3aと、ポッド本体3を密閉するための蓋4と、ポッド1の内部にパージガスを導入するための面型のパージノズル10とを有する。ウエハ2は、ポッド1の外部から開口3aを介してポッド本体3に収容される。ポッド本体3の内部には、複数の平板状のウエハ2が、各々水平方向(ポッド本体3の内底面3cの延在方向に平行な方向)に延在し、かつ高さ方向(開口3aの延在方向)に各々平行となるように並置して収容される。ウエハ2の収容後、開口3aに着脱可能な蓋4を取り付けることで、ポッド本体3が密閉される。
As shown in FIGS. 1 to 3, the
図2は、ポッド本体3の内部に設けられたパージノズル10により、パージ処理が行われる様子を示す。図中の矢印Aで示すように、ポッド本体3の内部には、パージノズル10からウエハ2の延在面と略平行にパージガス(例えば、窒素等の不活性ガス)が導入される。ポッド本体3に導入されたパージガスは、ポッド本体3の内部に存在していた気体とともに、開口3aまたはポッド本体3に設けられた排気孔から排出される。これにより、ポッド1内部の気体が清浄化される。パージガスは、ポッド1を載置するための載置台30に設けられたガス供給ポート31を介してパージノズル10に供給される。
FIG. 2 shows how the purge process is performed by the
図3に示すように、パージノズル10は、ガス供給部11と、面状パージ部13とを有する。ガス供給部11は、載置台30のガス供給ポート31から流入したパージガスを面状パージ部13に供給する。面状パージ部13は、ガス供給部11から供給されたパージガスをポッド本体3の内部に導入する。
As shown in FIG. 3, the
図3に示すように、ガス供給部11は、ポッド本体3の内底面3cに設けられたガス供給孔5と連通し、かつガス供給孔5からポッド本体3の内部に向かって直立する。ガス供給孔5及びガス供給部11は、ポッド本体3の開口3aと対向する内面(開口対向面3b)の近傍であって、開口3a方向から見て、ポッド本体3に収容されるウエハ2を避けた両隅に対になって配置される。載置台30のガス供給ポート31をガス供給孔5に接続することで、ガス供給ポート31とガス供給部11とが、ガス供給孔5を介して連通する。ガス供給ポート31からガス供給孔5を介して供給されたパージガスは、ガス供給部11の内部に設けられた中空部12(図4(b)参照)に流入した後、面状パージ部13に供給される。
As shown in FIG. 3, the
ここで、パージノズル10にパージガスを供給するためのパージ装置について説明する。図5は、ポッド1が載置された載置台30を有するパージ装置32を示す概略図である。ガス供給部11のガス供給孔5には、載置台30の上面に埋設されたガス供給ポート31が接続される。ガス供給ポート31は、ガス圧力及び流量を制御して供給あるいはその停止を行うパージ装置32の一部であり、ガス供給ポート31には、パージ装置32における他の部分からパージガスが供給される。パージ装置32は、ガス供給源33と、ガス供給源33から一対のガス供給部11にそれぞれ接続される配管34と、配管34を介して一対のガス供給部11にそれぞれ供給されるパージガスの流量を調整する流量調整手段35とを有する。配管34は、その上端にガス供給ポート31を備えており、ガス供給ポート31により、パージ装置32の配管34とポッド1のガス供給孔5とが、気密に接続される。一対のガス供給部11へのパージガスの供給量は、流量調整手段35により相互に等しくなるように調整されることが好ましい。なお、本図では、一対のガス供給部11に対して1つのガス供給源33及び流量調整手段35を用いる場合を例示しているが、パージ装置はこれに限定されるものではない。例えば、変形例に係るパージ装置は、各ガス供給部11ごとに1つのガス供給源33及び流量調整手段35を有してもよい。また、上述のパージ装置32は、独立の装置として構成されてもよいし、ロードポート装置等の一部として構成されてもよい。
Here, a purge device for supplying purge gas to the
図3に示すように、面状パージ部13は、一対のガス供給部11の一方から他方にかけて延びる板状の形態を有し、開口対向面3bとポッド本体3に収容されるウエハ2との間に配置される。面状パージ部13は、ガス供給部11の中空部12と第1通路20を介して連通する内部室17(図4(b)参照)を備える。面状パージ部13において開口3aに対向する噴出面14には、内部室17内のパージガスを、ウエハ2に向けて、噴出面14と略垂直方向に噴き出す通気孔15が、複数形成されている。通気孔15は、開口3aに向かってウエハ2の延在面と略平行なガス流A(図2参照)を形成するように、噴出面14に配置される。したがって、ガス供給部11の中空部12から面状パージ部13の内部室17に流入したパージガスは、通気孔15を介してガス流Aとしてポッド本体3の内部に導入される。
As shown in FIG. 3, the
面状パージ部13における噴出面14は、図4(b)に示すようにウエハ2のエッジ方向に湾曲した湾曲形状を有しているため、ウエハ2と噴出面14との平均距離が小さく、効率的にウエハ2の周辺にパージガスを供給することができる。ただし、噴出面14の形状はこれに限定されず、噴出面14は、平面状であってもよい。噴出面14の高さ方向の長さH1は、特に限定されないが、例えば、高さ方向に関して最下段に収容されるウエハ2から最上段に配置されるウエハ2までの高さ方向の長さの0.5~1.5倍であることが好ましい。特にウエハ2全体の周辺にパージガスを供給するためにはH1は1.0倍よりも大きいことが好ましい。なお、1.0倍を超えると供給されるパージガスの進行方向にウエハが存在しないこととなるため、パージガスによってポッド内部に乱流を生じさせることが起こり得る。そのため、最大でも1.5倍とすることが好ましい。噴出面14の幅方向の長さW1は、特に限定されないが、例えば、高さ方向に並置して収容されたウエハ2の幅方向の直径の0.3~1.3倍であることが好ましい。特にウエハ2全体の周辺にパージガスを供給するためにはW1は1.0倍よりも大きいことが好ましい。なお、上記のH1における理由と同様に、ウエハ不存在領域における乱流発生を防止する観点から、1.0倍よりも大きくする場合は最大で1.3倍とすることが好ましい。
As shown in FIG. 4B, the
通気孔15は、パージガスを噴出できればよく、通気孔15の形状、大きさ、数、配置は特に限定されないが、通気孔15は、噴出面14全体に、略均等に形成されていることが好ましい。通気孔15は、フィルタ等が配置されない単純な開口であってもよく、フィルタが配置された開口であってもよく、また、噴出面14全体がフィルタ状の通気孔15になっていてもよい。
The ventilation holes 15 may be capable of ejecting purge gas, and the shape, size, number, and arrangement of the ventilation holes 15 are not particularly limited, but it is preferable that the ventilation holes 15 are formed substantially evenly on the
図4(a)は、本実施形態に係るポッド1が有するパージノズル10の概略正面図であり、図4(b)は、図4(a)に示すパージノズル10をA-A’断面で切断した概略平面断面図である。
FIG. 4A is a schematic front view of the
図4(b)に示すように、本実施形態では、ガス供給部11の中空部12と面状パージ部13の内部室17とを連通する第1通路20に第1調圧部材22が配置されている。第1調圧部材22としては、例えば、所定の通気抵抗を有するフィルタを用いることができる。
As shown in FIG. 4B, in the present embodiment, the first
図4(a)に示すように、第1通路20の高さ方向の長さは、中空部12より短く、面状パージ部13の内部室17と略同一である。第1調圧部材22は、第1通路20の全体に設けられており、第1調圧部材22の形状は、第1通路20と同じである。第1調圧部材22を第1通路20の全体に設けることにより、中空部12から内部室17へのパージガス供給圧を確実に均等化することができる。なお、第1通路20に配置される第1調圧部材22としては、特定のフィルタのみに限定されず、不織布フィルタや、多孔質フィルタ、メッシュフィルタ、内部室17および中空部12より流路断面積が狭い絞り孔、パンチング板等が挙げられる。
As shown in FIG. 4A, the length of the
また、第1通路20及び第1調圧部材22は、図4(b)に示すように、上方向から見て、第1調圧部材22における面状パージ部13中央側の部分が、外側の部分より開口3aに近づくように傾斜して配置されることが好ましい。これにより、面状パージ部13がウエハ2のエッジ方向に湾曲している場合でも、内部室17の内部空間(流路断面)に向かって効率的にパージガスを供給することができる。
Further, as shown in FIG. 4B, in the
本実施形態のポッド1では、ガス供給部11の中空部12から面状パージ部13の内部室17にパージガスが流入する際、パージガスは所定の通気抵抗を有する第1調圧部材22を通過する。そのため、ポッド1は、ガス供給部11の高さ方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制し、面状パージ部13の内部室17に対し高さ方向に均等にパージガスを供給することができる。これにより、面状パージ部13からポッド1内部に供給されるパージガスの供給量を均等化し、ポッド内部を効率的かつ高清浄度にパージ処理することができる。また、高さ方向に並置して収容されるウエハ2全体に向けてパージガスを噴き出すことにより、一部のウエハ2の周辺にパージガスが供給されずにウエハ2が劣化する問題を防止することができる。
In the
第2実施形態
図6(a)は、本発明の第2実施形態に係るポッドが有するパージノズル100の概略正面図であり、図6(b)は、図6(a)に示すパージノズル100をA-A’断面で切断した概略平面断面図である。本実施形態に係るポッドは、パージノズル100の内部構造が異なる点を除き、第1実施形態に係るポッド1と同様の構成である。そのため、第1実施形態に係るポッド1と同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。
2nd Embodiment FIG. 6A is a schematic front view of the
図6(b)に示すように、本実施形態において、面状パージ部13aの内部室17aは、第1室18及び第2室19を有する。すなわち、内部室17aは、面状パージ部13aの背面16側に配置される第1室18と、噴出面14側に配置される第2室19とに、第2調圧部材23によって分割されている。
As shown in FIG. 6B, in the present embodiment, the internal chamber 17a of the
第1室18は、ガス供給部11aの中空部12aと第1通路20を介して連通している。第1室18は、面状パージ部13aの開口対向面3b側の背面16を、第1室18の側壁の一部として含むように形成されている。また、第2室19は、第1室18と、第2調圧部材23が配置される第2通路21を介して連通する。第2室19は、ポッド内部にパージガスを噴出する通気孔15が形成された面状パージ部13aの開口3a側の噴出面14を、第2室19の側壁の一部として含むように形成されている。さらに、第2通路21に配置される第2調圧部材23は、第1室18内部及び第2室19内部より高い通気抵抗を有する。
The
図6(a)に示すように、第2通路21の高さ方向の長さは、面状パージ部13aの内部室17aと略同一である。また、第2通路21の幅方向の長さは、特に限定されないが、少なくとも噴出面14の幅方向の長さ以上であることが好ましい。第2調圧部材23は、第2通路21の全体に設けられており、第2調圧部材23の形状は、第2通路21と同じである。第2調圧部材23を第2通路21の全体に設けることにより、第1室18から第2室19へのパージガス供給圧を確実に均等化することができる。なお、第2通路21に配置される第2調圧部材23としては、第1調圧部材22と同様、特定のフィルタのみに限定されず、不織布フィルタや、多孔質フィルタ、メッシュフィルタ、内部室17aおよび中空部12aより流路断面積が狭い絞り孔、パンチング板等が挙げられる。また、第2調圧部材23の通気抵抗は、第1調圧部材22と異なっていてもよい。
As shown in FIG. 6A, the length of the
図6(b)に示すように、第2調圧部材23は、上方向から見て噴出面14と同等の曲率で湾曲しており、かつ面状パージ部13aの厚み方向において噴出面14と背面16の略中央部分に配置されている。また、図6(b)に示すように、第2室19とガス供給部11aとの間には、隔壁24が設けられており、パージガスは、ガス供給部11aから直接第2室19には流入できない構造になっている。隔壁24は、上方向から見て第2調圧部材23の幅方向における端部と噴出面14の幅方向における端部とを結ぶように設けられる。隔壁24の高さ方向の長さは、第2調圧部材23と略同一である。また、隔壁24によってポッド内部へのパージガスの供給が阻害されないよう、隔壁24は、幅方向において噴出面14よりも外側に設けられることが好ましい。
As shown in FIG. 6B, the second
本実施形態によれば、面状パージ部13aの第1室18から第2室19にパージガスが流入する際、パージガスは所定の通気抵抗を有する第2調圧部材23を通過するため、面状パージ部13aの高さ方向及び幅方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制することができる。これにより、面状パージ部13aからポッド内部に供給されるパージガスの供給量を均等化し、ポッド内部を効率的かつ高清浄度にパージ処理することができる。
According to the present embodiment, when the purge gas flows from the
なお、本実施形態では、上記の構成に加えて、第1通路20に調圧部材が配置されてもよい。これにより、上述した効果をさらに高めることができる。
In this embodiment, in addition to the above configuration, a pressure regulating member may be arranged in the
第3実施形態
図7(a)は、本発明の第3実施形態に係るポッドが有するパージノズル110の概略正面図であり、図7(b)は、図7(a)に示すパージノズル110をA-A’断面で切断した概略平面断面図である。図7(c)は、図7(a)に示すパージノズル110をB-B’断面で切断した概略平面断面図である。本実施形態に係るポッドは、パージノズル110の内部構造が異なる点を除き、第1実施形態に係るポッド1と同様の構成である。そのため、第1実施形態に係るポッド1と同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。
Third Embodiment FIG. 7A is a schematic front view of a
図7(b)及び図7(c)に示すように、本実施形態では、ガス供給部11bの中空部12bと面状パージ部13bの内部室17bとの間に隔壁25が設けられている。隔壁25の面状パージ部13bの高さ方向略中央部には孔が形成されており、該孔が中空部12bと内部室17bとを連通する第1通路20aとなっている。
As shown in FIGS. 7 (b) and 7 (c), in the present embodiment, a
図7(a)に示すように、隔壁25の高さ方向の長さは、中空部12bより短く、面状パージ部13bの内部室17bと略同一である。また、隔壁25は、幅方向において噴出面14よりも外側に設けられている。
As shown in FIG. 7A, the length of the
第1通路20aの幅方向の長さは、特に限定されないが、面状パージ部13bの厚み方向の長さの20~150%とすることが好ましい。また、第1通路20aの高さ方向の長さは、特に限定されないが、面状パージ部13bの高さ方向の長さの20~150%とすることが好ましい。また、図7(b)に示すように、第1通路20aは、上方向から見て面状パージ部13における中央側の部分が、外側の部分よりも開口3aに近づくように傾斜して配置されることが好ましい。
The length of the
本実施形態によれば、ガス供給部11bの中空部12bの上端に達したパージガスは、隔壁24に衝突して減圧された後、第1通路20aを介して面状パージ部13bの内部室17bに流入する。そのため、ガス供給部11bの高さ方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制し、面状パージ部13bの内部室17bに均等にパージガスを供給することができる。これにより、面状パージ部13bからポッド内部に供給されるパージガスの供給量を均等化し、ポッド内部を効率的かつ高清浄度にパージ処理することができる。
According to the present embodiment, the purge gas that has reached the upper end of the
なお、本実施形態では、上記の構成に加えて、第1通路20aに調圧部材が配置されてもよい。これにより、上述した効果をさらに高めることができる。
In this embodiment, in addition to the above configuration, a pressure regulating member may be arranged in the
第4実施形態
図8(a)は、本発明の第4実施形態に係るポッドが有するパージノズル120の概略正面図であり、図8(b)は、図8(a)に示すパージノズル120をA-A’断面で切断した概略平面断面図である。本実施形態に係るポッドは、パージノズル120の内部構造が異なる点を除き、第1実施形態に係るポッド1と同様の構成である。そのため、第1実施形態に係るポッド1と同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。
Fourth Embodiment FIG. 8A is a schematic front view of the
図8(b)に示すように、面状パージ部13cの内部室17cは、面状パージ部13cの背面16側に配置される第1室18aと、噴出面14側に配置される第2室19aとに、隔壁26によって分割されている。
As shown in FIG. 8B, the internal chamber 17c of the
面状パージ部13cの第1室18aは、ガス供給部11cの中空部12cと第1通路20を介して連通している。また、第1室18aは、面状パージ部13cの開口対向面3b側の背面16を、第1室18aの側壁として含む。第2室19aは、ポッド内部にパージガスを噴出する通気孔15を備える面状パージ部13cの開口3a側の噴出面14を、第2室19aの側壁として含む。
The
図8(b)に示すように、隔壁26はL字状の断面形状を有しており、その一部は第1室18aと第2室19aとの間に配置されており、他の一部は第2室19aとガス供給部11cの中空部12cとの間に配置されている。したがって、隔壁26は、ガス供給部11cの中空部12cと面状パージ部13cの内部室17cにおける第2室19aとを仕切る。隔壁26は、パージガスが通過しない壁面を構成しており、ガス供給部11cのパージガスは、直接第2室19aに流入するのではなく、第1室18aを介して第2室19aに供給される。
As shown in FIG. 8B, the
面状パージ部13cは、幅方向において略対称に配置された2つの隔壁26を有している。2つの隔壁26の間には隙間が形成されており、2つの隔壁26の隙間が第2通路21aとなっている。第2通路21aは、隔壁26の面状パージ部13cの幅方向略中央部に配置されている。第2通路21aは、面状パージ部13cの第1室18aと第2室19aとを連通する。
The
図8(a)に示すように、第2通路21aの高さ方向の長さは、面状パージ部13cの内部室17cと略同一である。また、第2通路21aの幅方向の長さは、特に限定されないが、噴出面14の幅方向の長さW1の5~85%とすることが好ましい。
As shown in FIG. 8A, the length of the
図8(b)に示すように、第1室18aと第2室19aとの間に配置された隔壁26は、上方向から見て噴出面14と同等の曲率で湾曲しており、かつ面状パージ部13aの厚み方向において噴出面14と背面16の略中央部分に配置されている。隔壁26の高さ方向の長さは、面状パージ部13cの内部室17cと略同一である。第2室19aと中空部12cとの間に配置される隔壁26は、幅方向において噴出面14よりも外側に、その一部がはみ出すように設けられることが好ましい。
As shown in FIG. 8B, the
本実施形態によれば、面状パージ部13cの第1室18aから第2室19aにパージガスが流入する際、パージガスは面状パージ部13cの幅方向略中央部から流入する。これにより、パージノズル120は、面状パージ部13cの幅方向中央部に配置され、ガス供給部11cからの距離が長い通気孔15へのガス供給量が相対的に小さくなることを防止し、水平方向のガス供給量ばらつきを抑制することができる。これにより、面状パージ部13cからポッド内部に供給されるパージガスの供給量を均等化し、ポッド内部を効率的かつ高清浄度にパージ処理することができる。
According to the present embodiment, when the purge gas flows from the
なお、本実施形態では、上記の構成に加えて、第2通路21aに調圧部材が配置されてもよい。これにより、上述した効果をさらに高めることができる。
In this embodiment, in addition to the above configuration, a pressure regulating member may be arranged in the
以上、本発明に係るポッドおよびパージ装置について実施形態を示して説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能である。 Although the pod and the purging device according to the present invention have been described above by showing embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. ..
例えば、上述の実施形態では、一対のガス供給部11及びガス供給孔5を介してパージノズル10にガスを供給しているが、ガス供給部11及びガス供給孔5の数はこれに限定されるものではなく、1つあるいは3つ以上であってもよい。
For example, in the above-described embodiment, gas is supplied to the
また、面状パージ部13の形状や寸法、面状パージ部13に設けられる通気孔15の形状、数および配置についても、実施形態及び図面の記載に限定されるものではなく、ウエハ2の収容数、ポッド1の内容積、要求される清浄度、パージ効率、さらには加工上の容易性等に応じ、適宜変更することが可能である。
Further, the shape and dimensions of the
また、上述の実施形態では、面状パージ部13がポッド本体の開口対向面3bとウエハ2との間に配置される場合を例示したが、面状パージ部13の配置はこれに限定されない。例えば、面状パージ部13が開口対向面3b上に配置された態様(すなわち、通気孔15が開口対向面3bに直接形成された態様)としてもよい。また、面状パージ部13は、ポッド本体の開口対向面3bに隣接する一対の内側面3d(図3において、ポッド本体の開口対向面3bに隣接する面のうち、内底面3c及び天井面3eを除く面)の一方の面上、あるいはこれとウエハ2との間に配置されてもよい。さらに、面状パージ部13は、ポッド本体の開口対向面3b及び一対の内側面3dのうちの複数の面上、あるいはこれらとウエハ2との間に配置されてもよい。この場合、各々の面状パージ部が、通気孔15から高さ方向に並置されるウエハ2の延在面と略平行にパージガスを噴き出すように構成される。
Further, in the above-described embodiment, the case where the
また、上述の実施形態では、ガス供給部11がポッド本体の内底面3cからポッド内部に向かって直立するように配置される場合を例示したが、ガス供給部11はポッド本体の天井面3eからポッド内部に向かって直立するように配置されてもよい。また、面状パージ部13の通気孔15から均等にパージガスを供給することが可能であれば、ガス供給部11を介さず、面状パージ部13の下端に載置台のガス供給ポート31を接続してパージガスを導入する構成とすることも可能である。
Further, in the above-described embodiment, the case where the
また、上述の実施形態では、本発明に係るポッドとして、半導体処理装置に対して好適に用いられるFOUPを例示したが、本発明は、半導体処理装置に用いられるFOUP等に限定されず、例えば液晶ディスプレイのパネルを扱う処理装置等、半導体に準じた処理が行われる種々の処理装置に用いられるポッドに対しても適用可能である。また、ポッド内に収容される被収容物も、ウエハに限らず、表示デバイスや光電変換デバイスなどに用いられるガラス基板であってもよい。 Further, in the above-described embodiment, the FOUP preferably used for the semiconductor processing apparatus is exemplified as the pod according to the present invention, but the present invention is not limited to the FOUP or the like used for the semiconductor processing apparatus, for example, a liquid crystal display. It can also be applied to pods used in various processing devices that perform processing similar to semiconductors, such as processing devices that handle display panels. Further, the object to be accommodated in the pod is not limited to the wafer, and may be a glass substrate used for a display device, a photoelectric conversion device, or the like.
1:ポッド
2:ウエハ
3:ポッド本体
3a:開口
3b:開口対向面
3c:内底面
3d:内側面
3e:天井面
4:蓋
5:ガス供給孔
10、100、110、120:パージノズル
11、11a~11c:ガス供給部
12、12a~12c:中空部
13、13a~13c:面状パージ部
14:噴出面
15:通気孔
16:背面
17、17a~17c:内部室
18、18a:第1室
19、19a:第2室
20、20a:第1通路
21、21a:第2通路
22:第1調圧部材
23:第2調圧部材
24~26:隔壁
30:載置台
31:ガス供給ポート
32:パージ装置
33:ガス供給源
34:配管
35:流量調整手段
1: Pod 2: Wafer 3:
19, 19a:
34: Piping 35: Flow rate adjusting means
Claims (17)
前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、
前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、
前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けてパージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、
前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第1通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、
前記第1通路には、調圧部材が配置され、
前記調圧部材は、フィルタ状部材からなり、前記ガス供給部と前記面状パージ部とを仕切っていることを特徴とするポッド。 A pod body that can accommodate flat plates of objects placed side by side in the height direction,
An opening provided on one side of the pod body and
A lid that can be detachably attached to the opening so as to seal the pod body,
At least one of an inner surface facing the opening of the pod body and a pair of inner surfaces adjacent thereto having a plurality of ventilation holes for ejecting purge gas toward the contained object juxtaposed in the height direction. A planar purge section arranged on one surface or between the at least one surface and the contained object.
The purge gas is supplied to the planar purge portion through a first passage while standing upright toward the inside of the pod body from a gas supply hole provided on the inner bottom surface of the pod body and to which the purge gas is supplied from the outside. Has a gas supply unit
A pressure regulating member is arranged in the first passage.
The pressure adjusting member is a pod made of a filter-shaped member and partitioning the gas supply section and the planar purge section .
前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、
前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、
前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けてパージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、
前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第1通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部と、
前記ガス供給部と前記面状パージ部とを仕切る隔壁とを有し、
前記第1通路は、前記面状パージ部の前記高さ方向における略中央部に配置され、
前記隔壁は、前記第1通路よりも上方において、隣接する前記ガス供給部と前記面状パージ部とを仕切っているとともに、前記第1通路よりも下方において、隣接する前記ガス供給部と前記面状パージ部とを仕切っていることを特徴とするポッド。 A pod body that can accommodate flat plates of objects placed side by side in the height direction,
An opening provided on one side of the pod body and
A lid that can be detachably attached to the opening so as to seal the pod body,
At least one of an inner surface facing the opening of the pod body and a pair of inner surfaces adjacent thereto having a plurality of ventilation holes for ejecting purge gas toward the contained object juxtaposed in the height direction. A planar purge section arranged on one surface or between the at least one surface and the contained object.
The purge gas is supplied to the planar purge portion through a first passage while standing upright toward the inside of the pod body from a gas supply hole provided on the inner bottom surface of the pod body and to which the purge gas is supplied from the outside. Gas supply unit and
It has a partition wall that separates the gas supply unit and the planar purge unit .
The first passage is arranged at a substantially central portion of the planar purge portion in the height direction.
The partition wall separates the adjacent gas supply section and the planar purge section above the first passage, and below the first passage, the adjacent gas supply section and the surface thereof. A pod that separates from the purging section .
前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、
前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、
前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けてパージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、
前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第1通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、
前記面状パージ部は、前記ガス供給部と前記第1通路を介して連通する第1室と、前記第1室と第2通路を介して連通し、かつ、前記複数の通気孔を有する第2室と、前記第1室と前記第2室とを仕切る隔壁とを備え、
前記第2通路は、前記面状パージ部の幅方向における略中央部に配置された孔からなり、
前記隔壁は、前記第2通路の両側方において、前記第1室から前記第2室への前記パージガスの移動を阻止することを特徴とするポッド。 A pod body that can accommodate flat plates of objects placed side by side in the height direction,
An opening provided on one side of the pod body and
A lid that can be detachably attached to the opening so as to seal the pod body,
At least one of an inner surface facing the opening of the pod body and a pair of inner surfaces adjacent thereto having a plurality of ventilation holes for ejecting purge gas toward the contained object juxtaposed in the height direction. A planar purge section arranged on one surface or between the at least one surface and the contained object.
The purge gas is supplied to the planar purge portion through a first passage while standing upright toward the inside of the pod body from a gas supply hole provided on the inner bottom surface of the pod body and to which the purge gas is supplied from the outside. Has a gas supply unit
The planar purge section is a first chamber that communicates with the gas supply section via the first passage, and a first chamber that communicates with the first chamber and the second passage and has a plurality of ventilation holes. It is provided with two chambers and a partition wall separating the first chamber and the second chamber .
The second passage is composed of a hole arranged at a substantially central portion in the width direction of the planar purge portion.
The partition wall is a pod characterized by blocking the movement of the purge gas from the first chamber to the second chamber on both sides of the second passage .
前記面状パージ部は、一対の前記ガス供給部の間に配置され、かつ一対の前記ガス供給部の両方から連通されることを特徴とする請求項1~7のいずれかに記載のポッド。 At least two gas supply units are arranged inside the pod body.
The pod according to any one of claims 1 to 7, wherein the planar purge section is arranged between the pair of gas supply sections and is communicated with both of the pair of gas supply sections.
ガス供給源と、
前記ガス供給源から一対の前記ガス供給部にそれぞれ接続される配管と、
前記配管を介して一対の前記ガス供給部にそれぞれ供給される前記パージガスの流量を調整する流量調整手段とを有することを特徴とするパージ装置。 The pod purging device according to claim 8.
Gas source and
Piping connected to each of the pair of gas supply units from the gas supply source, and
A purging device comprising: a flow rate adjusting means for adjusting the flow rate of the purge gas supplied to each of the pair of gas supply units via the pipe.
前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、
前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、
前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けてパージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、
前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第1通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、
前記第1通路には、調圧部材が配置されることを特徴とし、
前記面状パージ部は、前記ガス供給部と前記第1通路を介して連通する第1室と、前記第1室と第2通路を介して連通し、かつ、前記複数の通気孔を有する第2室とを備えることを特徴とするポッド。 A pod body that can accommodate flat plates of objects placed side by side in the height direction,
An opening provided on one side of the pod body and
A lid that can be detachably attached to the opening so as to seal the pod body,
At least one of an inner surface facing the opening of the pod body and a pair of inner surfaces adjacent thereto having a plurality of ventilation holes for ejecting purge gas toward the contained object juxtaposed in the height direction. A planar purge section arranged on one surface or between the at least one surface and the contained object.
The purge gas is supplied to the planar purge portion through a first passage while standing upright toward the inside of the pod body from a gas supply hole provided on the inner bottom surface of the pod body and to which the purge gas is supplied from the outside. Has a gas supply unit
A pressure regulating member is arranged in the first passage.
The planar purge section is a first chamber that communicates with the gas supply section via the first passage, and a first chamber that communicates with the first chamber and the second passage and has a plurality of ventilation holes. A pod characterized by having two rooms.
前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、An opening provided on one side of the pod body and
前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、A lid that can be detachably attached to the opening so as to seal the pod body,
前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けてパージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、At least one of an inner surface facing the opening of the pod body and a pair of inner surfaces adjacent thereto having a plurality of ventilation holes for ejecting purge gas toward the contained object juxtaposed in the height direction. A planar purge section arranged on one surface or between the at least one surface and the contained object.
前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第1通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、The purge gas is supplied to the planar purge portion through a first passage while standing upright toward the inside of the pod body from a gas supply hole provided on the inner bottom surface of the pod body and to which the purge gas is supplied from the outside. Has a gas supply unit
前記第1通路は、前記面状パージ部の前記高さ方向における略中央部に配置されることを特徴とし、The first passage is characterized in that it is arranged at a substantially central portion of the planar purge portion in the height direction.
前記面状パージ部は、前記ガス供給部と前記第1通路を介して連通する第1室と、前記第1室と第2通路を介して連通し、かつ、前記複数の通気孔を有する第2室とを備えることを特徴とするポッド。The planar purge section is a first chamber that communicates with the gas supply section via the first passage, and a first chamber that communicates with the first chamber and the second passage and has a plurality of ventilation holes. A pod characterized by having two rooms.
前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、An opening provided on one side of the pod body and
前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、A lid that can be detachably attached to the opening so as to seal the pod body,
前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けてパージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、At least one of an inner surface facing the opening of the pod body and a pair of inner surfaces adjacent thereto having a plurality of ventilation holes for ejecting purge gas toward the contained object juxtaposed in the height direction. A planar purge section arranged on one surface or between the at least one surface and the contained object.
前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第1通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、The purge gas is supplied to the planar purge portion through a first passage while standing upright toward the inside of the pod body from a gas supply hole provided on the inner bottom surface of the pod body and to which the purge gas is supplied from the outside. Has a gas supply unit
前記面状パージ部は、前記ガス供給部と前記第1通路を介して連通する第1室と、前記第1室と第2通路を介して連通し、かつ、前記複数の通気孔を有する第2室とを備え、The planar purge section is a first chamber that communicates with the gas supply section via the first passage, and a first chamber that communicates with the first chamber and the second passage and has a plurality of ventilation holes. With 2 rooms
前記第2通路は、前記面状パージ部の幅方向における略中央部に配置され、The second passage is arranged at a substantially central portion in the width direction of the planar purge portion.
前記第2通路には、調圧部材が配置されることを特徴とするポッド。A pod characterized in that a pressure regulating member is arranged in the second passage.
前記ポッドは、The pod is
平板状の被収容物を高さ方向に並置して収容可能なポッド本体と、A pod body that can accommodate flat plates of objects placed side by side in the height direction,
前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、An opening provided on one side of the pod body and
前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、A lid that can be detachably attached to the opening so as to seal the pod body,
前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けて前記パージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、At least one of an inner surface facing the opening of the pod body and a pair of inner surfaces adjacent thereto is provided with a plurality of ventilation holes for ejecting the purge gas toward the contained object juxtaposed in the height direction. A planar purge section arranged on one surface or between the at least one surface and the object to be contained.
前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第1通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、The purge gas is supplied to the planar purge portion through a first passage while standing upright toward the inside of the pod body from a gas supply hole provided on the inner bottom surface of the pod body and to which the purge gas is supplied from the outside. Has a gas supply unit
前記第1通路には、調圧部材が配置され、A pressure regulating member is arranged in the first passage.
前記ポッド本体の内部には、少なくとも2つの前記ガス供給部が配置され、At least two gas supply units are arranged inside the pod body.
前記面状パージ部は、一対の前記ガス供給部の間に配置され、かつ一対の前記ガス供給部の両方から連通され、The planar purge section is arranged between the pair of gas supply sections and communicates with both of the pair of gas supply sections.
前記パージ本体部は、The purge body is
ガス供給源と、Gas source and
前記ガス供給源から一対の前記ガス供給部にそれぞれ接続される配管と、Piping connected to each of the pair of gas supply units from the gas supply source, and
前記配管を介して一対の前記ガス供給部にそれぞれ供給される前記パージガスの流量を調整する流量調整手段とを有するパージ装置。A purge device having a flow rate adjusting means for adjusting the flow rate of the purge gas supplied to each of the pair of gas supply units via the pipe.
前記ポッドは、The pod is
平板状の被収容物を高さ方向に並置して収容可能なポッド本体と、A pod body that can accommodate flat plates of objects placed side by side in the height direction,
前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、An opening provided on one side of the pod body and
前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、A lid that can be detachably attached to the opening so as to seal the pod body,
前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けて前記パージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、At least one of an inner surface facing the opening of the pod body and a pair of inner surfaces adjacent thereto is provided with a plurality of ventilation holes for ejecting the purge gas toward the contained object juxtaposed in the height direction. A planar purge section arranged on one surface or between the at least one surface and the object to be contained.
前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第1通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、The purge gas is supplied to the planar purge portion through a first passage while standing upright toward the inside of the pod body from a gas supply hole provided on the inner bottom surface of the pod body and to which the purge gas is supplied from the outside. Has a gas supply unit
前記第1通路は、前記面状パージ部の前記高さ方向における略中央部に配置され、The first passage is arranged at a substantially central portion of the planar purge portion in the height direction.
前記ポッド本体の内部には、少なくとも2つの前記ガス供給部が配置され、At least two gas supply units are arranged inside the pod body.
前記面状パージ部は、一対の前記ガス供給部の間に配置され、かつ一対の前記ガス供給部の両方から連通され、The planar purge section is arranged between the pair of gas supply sections and communicates with both of the pair of gas supply sections.
前記パージ本体部は、The purge body is
ガス供給源と、Gas source and
前記ガス供給源から一対の前記ガス供給部にそれぞれ接続される配管と、Piping connected to each of the pair of gas supply units from the gas supply source, and
前記配管を介して一対の前記ガス供給部にそれぞれ供給される前記パージガスの流量を調整する流量調整手段とを有するパージ装置。A purge device having a flow rate adjusting means for adjusting the flow rate of the purge gas supplied to each of the pair of gas supply units via the pipe.
前記ポッドは、The pod is
平板状の被収容物を高さ方向に並置して収容可能なポッド本体と、A pod body that can accommodate flat plates of objects placed side by side in the height direction,
前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、An opening provided on one side of the pod body and
前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、A lid that can be detachably attached to the opening so as to seal the pod body,
前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けて前記パージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、At least one of an inner surface facing the opening of the pod body and a pair of inner surfaces adjacent thereto is provided with a plurality of ventilation holes for ejecting the purge gas toward the contained object juxtaposed in the height direction. A planar purge section arranged on one surface or between the at least one surface and the object to be contained.
前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第1通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、The purge gas is supplied to the planar purge portion through a first passage while standing upright toward the inside of the pod body from a gas supply hole provided on the inner bottom surface of the pod body and to which the purge gas is supplied from the outside. Has a gas supply unit
前記面状パージ部は、前記ガス供給部と前記第1通路を介して連通する第1室と、前記第1室と第2通路を介して連通し、かつ、前記複数の通気孔を有する第2室とを備え、The planar purge section is a first chamber that communicates with the gas supply section via the first passage, and a first chamber that communicates with the first chamber and the second passage and has a plurality of ventilation holes. With 2 rooms
前記第2通路は、前記面状パージ部の幅方向における略中央部に配置され、The second passage is arranged at a substantially central portion in the width direction of the planar purge portion.
前記ポッド本体の内部には、少なくとも2つの前記ガス供給部が配置され、At least two gas supply units are arranged inside the pod body.
前記面状パージ部は、一対の前記ガス供給部の間に配置され、かつ一対の前記ガス供給部の両方から連通され、The planar purge section is arranged between the pair of gas supply sections and communicates with both of the pair of gas supply sections.
前記パージ本体部は、The purge body is
ガス供給源と、Gas source and
前記ガス供給源から一対の前記ガス供給部にそれぞれ接続される配管と、Piping connected to each of the pair of gas supply units from the gas supply source, and
前記配管を介して一対の前記ガス供給部にそれぞれ供給される前記パージガスの流量を調整する流量調整手段とを有するパージ装置。A purge device having a flow rate adjusting means for adjusting the flow rate of the purge gas supplied to each of the pair of gas supply units via the pipe.
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- 2017-11-28 JP JP2017228354A patent/JP7087357B2/en active Active
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