JP7083340B2 - Optical film, polarizing plate, and image display device - Google Patents

Optical film, polarizing plate, and image display device Download PDF

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Description

本発明は、光学フィルム、偏光板、および画像表示装置に関する。 The present invention relates to an optical film, a polarizing plate, and an image display device.

近年、アクリル系樹脂からなる基材フィルムの片側に、ハードコート層、防眩層、反射防止層等の機能性層(表面処理層)を形成した光学フィルムが知られている(特許文献1)。表面処理層は、基材フィルムの片側に樹脂組成物を塗布し、乾燥または硬化することにより形成され得る。このような光学フィルムは、例えば、偏光子の保護フィルム、または、画像表示装置の前面板として用いられ得る。 In recent years, an optical film in which a functional layer (surface treatment layer) such as a hard coat layer, an antiglare layer, and an antireflection layer is formed on one side of a base film made of an acrylic resin is known (Patent Document 1). .. The surface treatment layer can be formed by applying the resin composition to one side of the base film and drying or curing it. Such an optical film can be used, for example, as a protective film for a polarizing element or as a front plate of an image display device.

特開2016-218478号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-218478

しかしながら、上記のような従来の光学フィルムは、樹脂組成物を乾燥させる工程において、基材フィルムに熱収縮によるシワが生じ、外観不良の原因となる場合がある。上記のような熱収縮による不具合を防止するために樹脂組成物を低温で乾燥させた場合、基材フィルムと表面処理層との密着性が不十分になるという問題がある。 However, in the conventional optical film as described above, wrinkles may occur in the base film due to heat shrinkage in the step of drying the resin composition, which may cause a poor appearance. When the resin composition is dried at a low temperature in order to prevent the above-mentioned problems due to heat shrinkage, there is a problem that the adhesion between the base film and the surface treatment layer becomes insufficient.

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、基材フィルムと表面処理層との密着性が高い光学フィルム、そのような光学フィルムを備えた偏光板、および、そのような偏光板を備えた画像表示装置を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and the main object thereof is an optical film having high adhesion between a base film and a surface treatment layer, a polarizing plate provided with such an optical film, and the like. Further, it is an object of the present invention to provide an image display device provided with such a polarizing plate.

本発明の光学フィルムは、アクリル系樹脂を含有する延伸フィルムである基材フィルムと、該基材フィルムの片側に形成された表面処理層と、を含む光学フィルムであり、上記光学フィルム中の基材フィルムは、10cm×10cmに裁断して粘着材を介してガラス板に貼り合わせた状態で100℃/120時間静置した際の寸法変化率が-2.0%~0%である。
1つの実施形態においては、上記基材フィルムが、上記アクリル系樹脂と、上記アクリル系樹脂に分散されたコアシェル型粒子と、を含む。
1つの実施形態においては、上記基材フィルムが、上記アクリル系樹脂100重量部に対して、上記コアシェル型粒子を5重量部~50重量部含有する。
1つの実施形態においては、上記アクリル系樹脂が、グルタルイミド単位、ラクトン環単位、無水マレイン酸単位、マレイミド単位および無水グルタル酸単位からなる群から選択される少なくとも1つを有する。
1つの実施形態においては、上記表面処理層が、上記基材フィルム上に塗布された樹脂組成物の硬化層である。
1つの実施形態においては、上記表面処理層が、ハードコート層、防眩層および反射防止層からなる群から選択される少なくとも1つである。
本発明の別の局面によれば、偏光板が提供される。この偏光板は、偏光子と、上記偏光子の片側に配置された保護層と、を含み、上記保護層が上記光学フィルムである。
本発明の別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、上記偏光板を備える。
The optical film of the present invention is an optical film including a base film which is a stretched film containing an acrylic resin and a surface treatment layer formed on one side of the base film, and is a base in the optical film. The material film has a dimensional change rate of −2.0% to 0% when it is cut into 10 cm × 10 cm and left to stand at 100 ° C./120 hours in a state where it is attached to a glass plate via an adhesive material.
In one embodiment, the base film comprises the acrylic resin and core-shell particles dispersed in the acrylic resin.
In one embodiment, the base film contains 5 parts by weight to 50 parts by weight of the core-shell type particles with respect to 100 parts by weight of the acrylic resin.
In one embodiment, the acrylic resin has at least one selected from the group consisting of glutarimide units, lactone ring units, maleic anhydride units, maleimide units and glutaric anhydride units.
In one embodiment, the surface-treated layer is a cured layer of the resin composition coated on the base film.
In one embodiment, the surface treatment layer is at least one selected from the group consisting of a hardcoat layer, an antiglare layer and an antireflection layer.
According to another aspect of the invention, a polarizing plate is provided. This polarizing plate includes a polarizing element and a protective layer arranged on one side of the polarizing element, and the protective layer is the optical film.
According to another aspect of the present invention, an image display device is provided. This image display device includes the above-mentioned polarizing plate.

本発明によれば、上記寸法変化率が-2.0%~0%である基材フィルムを用いることにより、基材フィルムと表面処理層との密着性が高い光学フィルム、そのような光学フィルムを備えた偏光板、および、そのような偏光板を備えた画像表示装置を提供し得る。 According to the present invention, by using a base film having a dimensional change rate of −2.0% to 0%, an optical film having high adhesion between the base film and the surface treatment layer, such an optical film A polarizing plate provided with the above-mentioned plate, and an image display device provided with such a polarizing plate may be provided.

本発明の1つの実施形態による光学フィルムの概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of an optical film according to one embodiment of the present invention.

以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these embodiments.

A.光学フィルムの全体構成
図1は、本発明の1つの実施形態による光学フィルムの概略断面図である。光学フィルム100は、基材フィルム10と、基材フィルム10の片側に形成された表面処理層20と、を含む。基材フィルム10はアクリル系樹脂を含有する延伸フィルムである。基材フィルム10は、10cm×10cmに裁断して粘着材を介してガラス板に貼り合わせた状態で100℃/120時間静置した際の所定方向に沿った寸法変化率が-2.0%~0%である。基材フィルム10の形状は特に限定されないが、例えば基材フィルムが長尺状または長方形状である場合、上記寸法変化率は、代表的には、基材フィルムをその長手方向および短手方向(長手方向に直交する方向)に沿って10cm×10cmに裁断し、測定することができる。上記所定方向は、代表的には、10cm×10cmに裁断された基材フィルムの各辺に沿った方向である。1つの実施形態においては、基材フィルム10は、アクリル系樹脂と、アクリル系樹脂に分散されたコアシェル型粒子と、を含む。この場合、基材フィルム10は、好ましくは、アクリル系樹脂100重量部に対して、コアシェル型粒子を5重量部~50重量部含有する。アクリル系樹脂は、好ましくは、グルタルイミド単位、ラクトン環単位、無水マレイン酸単位、マレイミド単位および無水グルタル酸単位からなる群から選択される少なくとも1つを有する。表面処理層20は、代表的には、基材フィルム10上に塗布された樹脂組成物の硬化層である。表面処理層20は、好ましくは、ハードコート層、防眩層および反射防止層からなる群から選択される少なくとも1つである。上記光学フィルムによれば、表面処理層を形成した状態での収縮(特に、延伸方向に沿った収縮)が抑制され得る。その結果、基材フィルム10と表面処理層20との密着性が向上し得る。特に、基材フィルム10上に樹脂組成物を塗布し、樹脂組成物を乾燥および硬化させることにより表面処理層20を形成する場合に、上記樹脂組成物を低温乾燥させた場合であっても基材フィルム10と表面処理層20との十分な密着性を実現し得る。したがって、樹脂組成物を乾燥する際の熱によって基材フィルムにシワが発生することを抑制し得る。
A. Overall Configuration of Optical Film FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an optical film according to one embodiment of the present invention. The optical film 100 includes a base film 10 and a surface treatment layer 20 formed on one side of the base film 10. The base film 10 is a stretched film containing an acrylic resin. The base film 10 has a dimensional change rate of −2.0% along a predetermined direction when it is cut into 10 cm × 10 cm and left to stand at 100 ° C./120 hours in a state where it is attached to a glass plate via an adhesive material. ~ 0%. The shape of the base film 10 is not particularly limited, but for example, when the base film has an elongated shape or a rectangular shape, the dimensional change rate is typically the longitudinal direction and the lateral direction (longitudinal direction) of the base film. It can be cut into 10 cm × 10 cm along the direction orthogonal to the longitudinal direction) and measured. The predetermined direction is typically a direction along each side of the base film cut into 10 cm × 10 cm. In one embodiment, the base film 10 includes an acrylic resin and core-shell type particles dispersed in the acrylic resin. In this case, the base film 10 preferably contains 5 parts by weight to 50 parts by weight of core-shell type particles with respect to 100 parts by weight of the acrylic resin. The acrylic resin preferably has at least one selected from the group consisting of glutarimide units, lactone ring units, maleic anhydride units, maleimide units and glutaric anhydride units. The surface treatment layer 20 is typically a cured layer of the resin composition coated on the base film 10. The surface treatment layer 20 is preferably at least one selected from the group consisting of a hard coat layer, an antiglare layer and an antireflection layer. According to the optical film, shrinkage (particularly, shrinkage along the stretching direction) in the state where the surface treatment layer is formed can be suppressed. As a result, the adhesion between the base film 10 and the surface treatment layer 20 can be improved. In particular, when the resin composition is applied onto the base film 10 and the surface-treated layer 20 is formed by drying and curing the resin composition, even when the resin composition is dried at a low temperature, the base film 10 is used. Sufficient adhesion between the material film 10 and the surface treatment layer 20 can be realized. Therefore, it is possible to suppress the generation of wrinkles on the base film due to the heat generated when the resin composition is dried.

B.基材フィルム
B-1.基材フィルムの特性
基材フィルムは、上記のとおり、アクリル系樹脂を含有する延伸フィルムであり、基材フィルムの長手方向及びその直交方向に沿って10cm×10cmに裁断して粘着材を介してガラス板に貼り合わせた状態で100℃/120時間静置した際の寸法変化率が-2.0%~2.0%である。上記寸法変化率は、好ましくは-1.8%~1.0%であり、より好ましくは-1.0%~0.0%であり、特に好ましくは-0.5%~0.0%である。1つの実施形態においては、基材フィルムは、アクリル系樹脂と、アクリル系樹脂に分散されたコアシェル型粒子と、を含む。基材フィルムの厚みは、好ましくは5μm~150μmであり、より好ましくは10μm~100μmである。
B. Base film B-1. Characteristics of the base film As described above, the base film is a stretched film containing an acrylic resin, cut into 10 cm × 10 cm along the longitudinal direction of the base film and its orthogonal direction, and via an adhesive material. The dimensional change rate when left at 100 ° C./120 hours in a state of being attached to a glass plate is −2.0% to 2.0%. The dimensional change rate is preferably -1.8% to 1.0%, more preferably -1.0% to 0.0%, and particularly preferably -0.5% to 0.0%. Is. In one embodiment, the substrate film comprises an acrylic resin and core-shell particles dispersed in the acrylic resin. The thickness of the base film is preferably 5 μm to 150 μm, more preferably 10 μm to 100 μm.

基材フィルムは、好ましくは、実質的に光学的に等方性を有する。本明細書において「実質的に光学的に等方性を有する」とは、面内位相差Re(550)が0nm~10nmであり、厚み方向の位相差Rth(550)が-10nm~+10nmであることをいう。面内位相差Re(550)は、より好ましくは0nm~5nmであり、さらに好ましくは0nm~3nmであり、特に好ましくは0nm~2nmである。厚み方向の位相差Rth(550)は、より好ましくは-5nm~+5nmであり、さらに好ましくは-3nm~+3nmであり、特に好ましくは-2nm~+2nmである。基材フィルムのRe(550)およびRth(550)がこのような範囲であれば、光学フィルムを画像表示装置に適用した場合に表示特性に対する悪影響を防止することができる。なお、Re(550)は、23℃における波長550nmの光で測定したフィルムの面内位相差である。Re(550)は、式:Re(550)=(nx-ny)×dによって求められる。Rth(550)は、23℃における波長550nmの光で測定したフィルムの厚み方向の位相差である。Rth(550)は、式:Rth(550)=(nx-nz)×dによって求められる。ここで、nxは面内の屈折率が最大になる方向(すなわち、遅相軸方向)の屈折率であり、nyは面内で遅相軸と直交する方向(すなわち、進相軸方向)の屈折率であり、nzは厚み方向の屈折率であり、dはフィルムの厚み(nm)である。 The substrate film is preferably substantially optically isotropic. As used herein, "substantially optically isotropic" means that the in-plane retardation Re (550) is 0 nm to 10 nm and the thickness direction retardation Rth (550) is -10 nm to +10 nm. Say something. The in-plane retardation Re (550) is more preferably 0 nm to 5 nm, further preferably 0 nm to 3 nm, and particularly preferably 0 nm to 2 nm. The phase difference Rth (550) in the thickness direction is more preferably −5 nm to +5 nm, further preferably -3 nm to +3 nm, and particularly preferably −2 nm to +2 nm. When the Re (550) and Rth (550) of the base film are in such a range, it is possible to prevent an adverse effect on the display characteristics when the optical film is applied to an image display device. Re (550) is an in-plane phase difference of the film measured with light having a wavelength of 550 nm at 23 ° C. Re (550) is obtained by the formula: Re (550) = (nx-ny) × d. Rth (550) is a phase difference in the thickness direction of the film measured with light having a wavelength of 550 nm at 23 ° C. Rth (550) is obtained by the formula: Rth (550) = (nx-nz) × d. Here, nx is the refractive index in the direction in which the refractive index in the plane is maximized (that is, the slow phase axis direction), and ny is the direction orthogonal to the slow phase axis in the plane (that is, the phase advance axis direction). It is the refractive index, nz is the refractive index in the thickness direction, and d is the thickness (nm) of the film.

基材フィルムの厚み30μmにおける380nmでの光線透過率は、高ければ高いほど好ましい。具体的には、光線透過率は、好ましくは85%以上、より好ましくは88%以上、さらに好ましくは90%以上である。光線透過率がこのような範囲であれば、所望の透明性を確保することができる。光線透過率は、例えば、ASTM-D-1003に準じた方法で測定され得る。 The higher the light transmittance at 380 nm at a thickness of 30 μm of the base film, the more preferable. Specifically, the light transmittance is preferably 85% or more, more preferably 88% or more, still more preferably 90% or more. If the light transmittance is in such a range, the desired transparency can be ensured. The light transmittance can be measured, for example, by a method according to ASTM-D-1003.

基材フィルムのヘイズは、低ければ低いほど好ましい。具体的には、ヘイズは、好ましくは5%以下、より好ましくは3%以下、さらに好ましくは1.5%以下、特に好ましくは1%以下である。ヘイズが5%以下であると、フィルムに良好なクリヤー感を与えることができる。さらに、光学フィルムを画像表示装置の視認側偏光板の保護層として使用する場合でも、表示内容が良好に視認できる。 The lower the haze of the base film, the more preferable. Specifically, the haze is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, still more preferably 1.5% or less, and particularly preferably 1% or less. When the haze is 5% or less, a good clear feeling can be given to the film. Further, even when the optical film is used as a protective layer of the polarizing plate on the visual recognition side of the image display device, the displayed contents can be visually recognized satisfactorily.

基材フィルムの厚み30μmにおけるYIは、好ましくは1.27以下、より好ましくは1.25以下、さらに好ましくは1.23以下、特に好ましくは1.20以下である。YIが1.3を超えると、光学的透明性が不十分となる場合がある。なお、YIは、例えば、高速積分球式分光透過率測定機(商品名DOT-3C:村上色彩技術研究所製)を用いた測定で得られる色の三刺激値(X、Y、Z)より、次式によって求めることができる。
YI=[(1.28X-1.06Z)/Y]×100
The YI at a thickness of 30 μm of the base film is preferably 1.27 or less, more preferably 1.25 or less, still more preferably 1.23 or less, and particularly preferably 1.20 or less. If the YI exceeds 1.3, the optical transparency may be insufficient. The YI is obtained from, for example, the tristimulus values (X, Y, Z) of the color obtained by measurement using a high-speed integrating sphere type spectral transmittance measuring device (trade name: DOT-3C: manufactured by Murakami Color Technology Research Institute). , Can be calculated by the following equation.
YI = [(1.28X-1.06Z) / Y] × 100

基材フィルムの厚み30μmにおけるb値(ハンターの表色系に準じた色相の尺度)は、好ましくは1.5未満、より好ましくは1.0以下である。b値が1.5以上である場合、所望でない色味が出る場合がある。なお、b値は、例えば、基材フィルムサンプルを3cm角に裁断し、高速積分球式分光透過率測定機(商品名DOT-3C:村上色彩技術研究所製)を用いて色相を測定し、当該色相をハンターの表色系に準じて評価することにより得られ得る。 The b value (a measure of hue according to the Munsell color system of the hunter) at a thickness of 30 μm of the base film is preferably less than 1.5, more preferably 1.0 or less. When the b value is 1.5 or more, an undesired color may appear. For the b value, for example, a base film sample is cut into 3 cm squares, and the hue is measured using a high-speed integrating sphere type spectral transmittance measuring machine (trade name: DOT-3C: manufactured by Murakami Color Technology Laboratory). It can be obtained by evaluating the hue according to the color system of the hunter.

基材フィルムの透湿度は、好ましくは300g/m・24hr以下、より好ましくは250g/m・24hr以下、さらに好ましくは200g/m・24hr以下、特に好ましくは150g/m・24hr以下、最も好ましくは100g/m・24hr以下である。基材フィルムの透湿度がこのような範囲であれば、偏光子の保護層として用いた場合に、耐久性および耐湿性に優れた偏光板が得られ得る。The moisture permeability of the base film is preferably 300 g / m 2.24 hr or less, more preferably 250 g / m 2.24 hr or less, still more preferably 200 g / m 2.24 hr or less, and particularly preferably 150 g / m 2.24 hr or less. Most preferably, it is 100 g / m 2.24 hr or less. When the moisture permeability of the base film is within such a range, a polarizing plate having excellent durability and moisture resistance can be obtained when used as a protective layer for a polarizing element.

基材フィルムの引張強度は、好ましくは10MPa以上100MPa未満であり、より好ましくは30MPa以上100MPa未満である。10MPa未満の場合には、十分な機械的強度を発現できない場合がある。100MPaを超えると、加工性が不十分となるおそれがある。引張強度は、例えば、ASTM-D-882-61Tに準じて測定され得る。 The tensile strength of the base film is preferably 10 MPa or more and less than 100 MPa, and more preferably 30 MPa or more and less than 100 MPa. If it is less than 10 MPa, sufficient mechanical strength may not be exhibited. If it exceeds 100 MPa, the workability may be insufficient. The tensile strength can be measured according to, for example, ASTM-D-882-61T.

基材フィルムの引張伸びは、好ましくは1.0%以上、より好ましくは3.0%以上、さらに好ましくは5.0%以上である。引張伸びの上限は、例えば100%である。引張伸びが1%未満である場合には、靭性が不十分となる場合がある。引張伸びは、例えば、ASTM-D-882-61Tに準じて測定され得る。 The tensile elongation of the base film is preferably 1.0% or more, more preferably 3.0% or more, still more preferably 5.0% or more. The upper limit of tensile elongation is, for example, 100%. If the tensile elongation is less than 1%, the toughness may be insufficient. The tensile elongation can be measured according to, for example, ASTM-D-882-61T.

基材フィルムの引張弾性率は、好ましくは0.5GPa以上、より好ましくは1GPa以上、さらに好ましくは2GPa以上である。引張弾性率の上限は、例えば20GPaである。引張弾性率が0.5GPa未満である場合には、十分な機械的強度を発現できない場合がある。引張弾性率は、例えば、ASTM-D-882-61Tに準じて測定され得る。 The tensile elastic modulus of the base film is preferably 0.5 GPa or more, more preferably 1 GPa or more, and further preferably 2 GPa or more. The upper limit of the tensile elastic modulus is, for example, 20 GPa. If the tensile modulus is less than 0.5 GPa, sufficient mechanical strength may not be exhibited. The tensile modulus can be measured, for example, according to ASTM-D-882-61T.

基材フィルムは、目的に応じて任意の適切な添加剤を含んでいてもよい。添加剤の具体例としては、紫外線吸収剤;ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤;耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤;ガラス繊維、炭素繊維等の補強材;近赤外線吸収剤;トリス(ジブロモプロピル)ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤;アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤;無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤;有機フィラーまたは無機フィラー;樹脂改質剤;有機充填剤や無機充填剤;可塑剤;滑剤;などが挙げられる。添加剤はアクリル系樹脂の重合時に添加されてもよく、フィルム形成時に添加されてもよい。添加剤の種類、数、組み合わせ、添加量等は、目的に応じて適切に設定され得る。 The base film may contain any suitable additive depending on the intended purpose. Specific examples of additives include ultraviolet absorbers; antioxidants such as hindered phenols, phosphorus and sulfur; stabilizers such as light-resistant stabilizers, weather-resistant stabilizers and heat-stabilizing agents; glass fibers, carbon fibers and the like. Reinforcing materials; Near-infrared absorbers; Flame-retardant agents such as tris (dibromopropyl) phosphate, triallyl phosphate, antimony oxide; Antistatic agents such as anionic, cationic and nonionic surfactants; Inorganic pigments and organic pigments , Colorants such as dyes; organic fillers or inorganic fillers; resin modifiers; organic fillers and inorganic fillers; plasticizers; lubricants; and the like. The additive may be added at the time of polymerization of the acrylic resin, or may be added at the time of film formation. The type, number, combination, amount of additive, etc. of the additive can be appropriately set according to the purpose.

B-2.アクリル系樹脂
B-2-1.アクリル系樹脂の構成
アクリル系樹脂としては、任意の適切なアクリル系樹脂が採用され得る。アクリル系樹脂は、代表的には、モノマー単位として、アルキル(メタ)アクリレートを主成分として含有する。本明細書において「(メタ)アクリル」とは、アクリルおよび/またはメタクリルを意味する。アクリル系樹脂の主骨格を構成するアルキル(メタ)アクリレートとしては、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基の炭素数1~18のものを例示できる。これらは単独であるいは組み合わせて使用することができる。さらに、アクリル系樹脂には、任意の適切な共重合モノマーを共重合により導入してもよい。このような共重合モノマーの種類、数、共重合比等は目的に応じて適切に設定され得る。アクリル系樹脂の主骨格の構成成分(モノマー単位)については、一般式(2)を参照しながら後述する。
B-2. Acrylic resin B-2-1. Composition of Acrylic Resin As the acrylic resin, any suitable acrylic resin can be adopted. Acrylic resins typically contain an alkyl (meth) acrylate as a main component as a monomer unit. As used herein, the term "(meth) acrylic" means acrylic and / or methacrylic. Examples of the alkyl (meth) acrylate constituting the main skeleton of the acrylic resin include linear or branched alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms. These can be used alone or in combination. Further, any suitable copolymerization monomer may be introduced into the acrylic resin by copolymerization. The type, number, copolymerization ratio, etc. of such copolymerization monomers can be appropriately set according to the purpose. The constituent components (monomer unit) of the main skeleton of the acrylic resin will be described later with reference to the general formula (2).

アクリル系樹脂は、好ましくは、グルタルイミド単位、ラクトン環単位、無水マレイン酸単位、マレイミド単位および無水グルタル酸単位から選択される少なくとも1つを有する。ラクトン環単位を有するアクリル系樹脂は、例えば特開2008-181078号公報に記載されており、当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。グルタルイミド単位は、好ましくは、下記一般式(1)で表される: The acrylic resin preferably has at least one selected from glutarimide units, lactone ring units, maleic anhydride units, maleimide units and glutaric anhydride units. Acrylic resins having a lactone ring unit are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-181078, and the description in this publication is incorporated herein by reference. The glutarimide unit is preferably represented by the following general formula (1):

Figure 0007083340000001
Figure 0007083340000001

一般式(1)において、RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1~8のアルキル基を示し、Rは、水素原子、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~12のシクロアルキル基、または炭素数6~10のアリール基を示す。一般式(1)において、好ましくは、RおよびRは、それぞれ独立して水素原子またはメチル基であり、Rは水素原子、メチル基、ブチル基またはシクロヘキシル基である。より好ましくは、Rはメチル基であり、Rは水素原子であり、Rはメチル基である。In the general formula (1), R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and carbon. It indicates a cycloalkyl group having a number of 3 to 12 or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. In the general formula (1), preferably, R 1 and R 2 are independently hydrogen atoms or methyl groups, and R 3 is a hydrogen atom, a methyl group, a butyl group or a cyclohexyl group, respectively. More preferably, R 1 is a methyl group, R 2 is a hydrogen atom and R 3 is a methyl group.

上記アルキル(メタ)アクリレートは、代表的には、下記一般式(2)で表される: The alkyl (meth) acrylate is typically represented by the following general formula (2):

Figure 0007083340000002
Figure 0007083340000002

一般式(2)において、Rは、水素原子またはメチル基を示し、Rは、水素原子、あるいは、置換されていてもよい炭素数1~6の脂肪族または脂環式炭化水素基を示す。置換基としては、例えば、ハロゲン、水酸基が挙げられる。アルキル(メタ)アクリレートの具体例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸n-ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸クロロメチル、(メタ)アクリル酸2-クロロエチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2,3,4,5,6-ペンタヒドロキシヘキシルおよび(メタ)アクリル酸2,3,4,5-テトラヒドロキシペンチルが挙げられる。一般式(2)において、Rは、好ましくは、水素原子またはメチル基である。したがって、特に好ましいアルキル(メタ)アクリレートは、アクリル酸メチルまたはメタクリル酸メチルである。In the general formula (2), R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 5 is a hydrogen atom or an aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted. show. Examples of the substituent include halogens and hydroxyl groups. Specific examples of alkyl (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, and t-butyl (meth) acrylate. Butyl, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, chloromethyl (meth) acrylate, 2-chloroethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylate Examples include 3-hydroxypropyl, (meth) acrylic acid 2,3,4,5,6-pentahydroxyhexyl and (meth) acrylic acid 2,3,4,5-tetrahydroxypentyl. In the general formula ( 2 ), R5 is preferably a hydrogen atom or a methyl group. Therefore, a particularly preferred alkyl (meth) acrylate is methyl acrylate or methyl methacrylate.

上記アクリル系樹脂は、単一のグルタルイミド単位のみを含んでいてもよいし、上記一般式(1)におけるR、RおよびRが異なる複数のグルタルイミド単位を含んでいてもよい。The acrylic resin may contain only a single glutarimide unit, or may contain a plurality of glutarimide units having different R1 , R2 and R3 in the general formula (1).

上記アクリル系樹脂におけるグルタルイミド単位の含有割合は、好ましくは2モル%~50モル%、より好ましくは2モル%~45モル%、さらに好ましくは2モル%~40モル%、特に好ましくは2モル%~35モル%、最も好ましくは3モル%~30モル%である。含有割合が2モル%より少ないと、グルタルイミド単位に由来して発現される効果(例えば、高い光学的特性、高い機械的強度、偏光子との優れた接着性、薄型化)が十分に発揮されないおそれがある。含有割合が50モル%を超えると、例えば、耐熱性、透明性が不十分となるおそれがある。 The content ratio of the glutarimide unit in the acrylic resin is preferably 2 mol% to 50 mol%, more preferably 2 mol% to 45 mol%, further preferably 2 mol% to 40 mol%, and particularly preferably 2 mol. % To 35 mol%, most preferably 3 mol% to 30 mol%. When the content ratio is less than 2 mol%, the effects exhibited from the glutarimide unit (for example, high optical properties, high mechanical strength, excellent adhesion to the modulator, thinning) are sufficiently exhibited. It may not be done. If the content ratio exceeds 50 mol%, for example, heat resistance and transparency may be insufficient.

上記アクリル系樹脂は、単一のアルキル(メタ)アクリレート単位のみを含んでいてもよいし、上記一般式(2)におけるRおよびRが異なる複数のアルキル(メタ)アクリレート単位を含んでいてもよい。The acrylic resin may contain only a single alkyl (meth) acrylate unit, or may contain a plurality of alkyl (meth) acrylate units having different R4 and R5 in the general formula ( 2 ). May be good.

上記アクリル系樹脂におけるアルキル(メタ)アクリレート単位の含有割合は、好ましくは50モル%~98モル%、より好ましくは55モル%~98モル%、さらに好ましくは60モル%~98モル%、特に好ましくは65モル%~98モル%、最も好ましくは70モル%~97モル%である。含有割合が50モル%より少ないと、アルキル(メタ)アクリレート単位に由来して発現される効果(例えば、高い耐熱性、高い透明性)が十分に発揮されないおそれがある。上記含有割合が98モル%よりも多いと、樹脂が脆くて割れやすくなり、高い機械的強度が十分に発揮できず、生産性に劣るおそれがある。 The content ratio of the alkyl (meth) acrylate unit in the acrylic resin is preferably 50 mol% to 98 mol%, more preferably 55 mol% to 98 mol%, still more preferably 60 mol% to 98 mol%, and particularly preferably. Is 65 mol% to 98 mol%, most preferably 70 mol% to 97 mol%. If the content ratio is less than 50 mol%, the effects expressed from the alkyl (meth) acrylate unit (for example, high heat resistance and high transparency) may not be sufficiently exhibited. If the content ratio is more than 98 mol%, the resin is brittle and easily cracked, high mechanical strength cannot be sufficiently exhibited, and productivity may be inferior.

上記アクリル系樹脂は、グルタルイミド単位およびアルキル(メタ)アクリレート単位以外の単位を含んでいてもよい。 The acrylic resin may contain a unit other than the glutarimide unit and the alkyl (meth) acrylate unit.

1つの実施形態においては、アクリル系樹脂は、後述する分子内イミド化反応に関与していない不飽和カルボン酸単位を例えば0~10重量%含有することができる。不飽和カルボン酸単位の含有割合は、好ましくは0~5重量%であり、より好ましくは0~1重量%である。含有量がこのような範囲であれば、透明性、滞留安定性および耐湿性を維持することができる。 In one embodiment, the acrylic resin can contain, for example, 0 to 10% by weight of unsaturated carboxylic acid units that are not involved in the intramolecular imidization reaction described below. The content ratio of the unsaturated carboxylic acid unit is preferably 0 to 5% by weight, more preferably 0 to 1% by weight. When the content is in such a range, transparency, retention stability and moisture resistance can be maintained.

1つの実施形態においては、アクリル系樹脂は、上記以外の共重合可能なビニル系単量体単位(他のビニル系単量体単位)を含有することができる。その他のビニル系単量体としては、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリル、アリルグリシジルエーテル、無水マレイン酸、無水イタコン酸、N-メチルマレイミド、N-エチルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、アクリル酸アミノエチル、アクリル酸プロピルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸エチルアミノプロピル、メタクリル酸シクロヘキシルアミノエチル、N-ビニルジエチルアミン、N-アセチルビニルアミン、アリルアミン、メタアリルアミン、N-メチルアリルアミン、2-イソプロペニル-オキサゾリン、2-ビニル-オキサゾリン、2-アクロイル-オキサゾリン、N-フェニルマレイミド、メタクリル酸フェニルアミノエチル、スチレン、α-メチルスチレン、p-グリシジルスチレン、p-アミノスチレン、2-スチリル-オキサゾリンなどがあげられる。これらは、単独で用いてもよく併用してもよい。好ましくは、スチレン、α-メチルスチレンなどのスチレン系単量体である。他のビニル系単量体単位の含有割合は、好ましくは0~1重量%であり、より好ましくは0~0.1重量%である。このような範囲であれば、所望でない位相差の発現および透明性の低下を抑制することができる。 In one embodiment, the acrylic resin can contain a copolymerizable vinyl-based monomer unit (another vinyl-based monomer unit) other than the above. Examples of other vinyl-based monomers include acrylonitrile, methacrylic acid, etacrylonitrile, allylglycidyl ether, maleic anhydride, itaconic anhydride, N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, and acrylic acid. Aminoethyl acid, propylaminoethyl acrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, ethylaminopropyl methacrylate, cyclohexylaminoethyl methacrylate, N-vinyldiethylamine, N-acetylvinylamine, allylamine, methallylamine, N-methylallylamine, 2 -Isopropenyl-oxazoline, 2-vinyl-oxazoline, 2-acroyl-oxazoline, N-phenylmaleimide, phenylaminoethyl methacrylate, styrene, α-methylstyrene, p-glycidylstyrene, p-aminostyrene, 2-styryl- Examples include oxazoline. These may be used alone or in combination. Styrene-based monomers such as styrene and α-methylstyrene are preferable. The content ratio of the other vinyl-based monomer unit is preferably 0 to 1% by weight, more preferably 0 to 0.1% by weight. Within such a range, it is possible to suppress the appearance of an undesired phase difference and the decrease in transparency.

上記アクリル系樹脂におけるイミド化率は、好ましくは2.5%~20.0%である。イミド化率がこのような範囲であれば、耐熱性、透明性および成形加工性に優れた樹脂が得られ、フィルム成形時のコゲの発生や機械的強度の低下が防止され得る。上記アクリル系樹脂において、イミド化率は、グルタルイミド単位とアルキル(メタ)アクリレート単位との比で表される。この比は、例えば、アクリル系樹脂のNMRスペクトル、IRスペクトル等から得ることができる。本実施形態においては、イミド化率は、HNMR BRUKER AvanceIII(400MHz)を用いて、樹脂のH-NMR測定により求めることができる。より具体的には、3.5から3.8ppm付近のアルキル(メタ)アクリレートのO-CHプロトン由来のピーク面積をAとし、3.0から3.3ppm付近のグルタルイミドのN-CHプロトン由来のピークの面積をBとして、次式により求められる。
イミド化率Im(%)={B/(A+B)}×100
The imidization rate of the acrylic resin is preferably 2.5% to 20.0%. When the imidization ratio is within such a range, a resin having excellent heat resistance, transparency and moldability can be obtained, and the generation of kogation and the decrease in mechanical strength during film molding can be prevented. In the acrylic resin, the imidization ratio is represented by the ratio of the glutarimide unit and the alkyl (meth) acrylate unit. This ratio can be obtained from, for example, an NMR spectrum, an IR spectrum, or the like of an acrylic resin. In this embodiment, the imidization ratio can be determined by 1 1 H-NMR measurement of the resin using 1 1 HNMR BRUKER Avance III (400 MHz). More specifically, the peak area derived from the O-CH 3 proton of the alkyl (meth) acrylate around 3.5 to 3.8 ppm is defined as A, and the peak area of glutarimide near 3.0 to 3.3 ppm is N-CH 3 . It is calculated by the following equation, where B is the area of the peak derived from the proton.
Imidization rate Im (%) = {B / (A + B)} × 100

上記アクリル系樹脂の酸価は、好ましくは0.10mmol/g~0.50mmol/gである。酸価がこのような範囲であれば、耐熱性、機械物性および成形加工性のバランスに優れた樹脂を得ることができる。酸価が小さすぎると、所望の酸価に調整するための変性剤の使用によるコストアップ、変性剤の残存によるゲル状物の発生といった問題が生じる場合がある。酸価が大きすぎると、フィルム成形時(例えば、溶融押出時)の発泡が起こりやすくなり、成形品の生産性が低下する傾向がある。上記アクリル系樹脂において、酸価は、当該アクリル系樹脂におけるカルボン酸単位およびカルボン酸無水物単位の含有量である。本実施形態においては、酸価は、例えば、WO2005/054311または特開2005-23272号公報に記載の滴定法により算出することができる。 The acid value of the acrylic resin is preferably 0.10 mmol / g to 0.50 mmol / g. When the acid value is in such a range, a resin having an excellent balance of heat resistance, mechanical properties and molding processability can be obtained. If the acid value is too small, problems such as cost increase due to the use of a denaturant for adjusting to a desired acid value and generation of a gel-like substance due to residual denaturant may occur. If the acid value is too high, foaming tends to occur during film molding (for example, during melt extrusion), and the productivity of the molded product tends to decrease. In the acrylic resin, the acid value is the content of the carboxylic acid unit and the carboxylic acid anhydride unit in the acrylic resin. In the present embodiment, the acid value can be calculated by, for example, WO2005 / 054311 or the titration method described in JP-A-2005-23272.

上記アクリル系樹脂の重量平均分子量は、好ましくは1000~2000000、より好ましくは5000~1000000、さらに好ましくは10000~500000、特に好ましくは50000~500000、最も好ましくは60000~150000である。重量平均分子量は、例えば、ゲル浸透クロマトグラフ(GPCシステム,東ソー製)を用いて、ポリスチレン換算により求めることができる。なお、溶剤としてはテトラヒドロフランが用いられ得る。 The weight average molecular weight of the acrylic resin is preferably 1,000,000 to 2000000, more preferably 5000 to 1,000,000, still more preferably 10,000 to 500,000, particularly preferably 50,000 to 500,000, and most preferably 60,000 to 150,000. The weight average molecular weight can be determined by polystyrene conversion using, for example, a gel permeation chromatograph (GPC system, manufactured by Tosoh). Tetrahydrofuran can be used as the solvent.

上記アクリル系樹脂は、Tg(ガラス転移温度)が、好ましくは110℃以上、より好ましくは115℃以上、さらに好ましくは120℃以上、特に好ましくは125℃以上、最も好ましくは130℃以上である。Tgが110℃以上であれば、このような樹脂から得られた基材フィルムを含む偏光板は、耐久性に優れたものとなりやすい。Tgの上限値は、好ましくは300℃以下、より好ましくは290℃以下、さらに好ましくは285℃以下、特に好ましくは200℃以下、最も好ましくは160℃以下である。Tgがこのような範囲であれば、成形性に優れ得る。 The acrylic resin has a Tg (glass transition temperature) of preferably 110 ° C. or higher, more preferably 115 ° C. or higher, still more preferably 120 ° C. or higher, particularly preferably 125 ° C. or higher, and most preferably 130 ° C. or higher. When the Tg is 110 ° C. or higher, the polarizing plate containing the base film obtained from such a resin tends to have excellent durability. The upper limit of Tg is preferably 300 ° C. or lower, more preferably 290 ° C. or lower, still more preferably 285 ° C. or lower, particularly preferably 200 ° C. or lower, and most preferably 160 ° C. or lower. When Tg is in such a range, formability can be excellent.

B-2-2.アクリル系樹脂の重合
上記アクリル系樹脂は、例えば、以下の方法で製造することができる。この方法は、(I)一般式(2)で表されるアルキル(メタ)アクリレート単位に対応するアルキル(メタ)アクリレート単量体と、不飽和カルボン酸単量体および/またはその前駆体単量体と、を共重合して共重合体(a)を得ること;および、(II)該共重合体(a)をイミド化剤にて処理することにより、当該共重合体(a)中のアルキル(メタ)アクリレート単量体単位と不飽和カルボン酸単量体および/またはその前駆体単量体単位の分子内イミド化反応を行い、一般式(1)で表されるグルタルイミド単位を共重合体中に導入すること;を含む。
B-2-2. Polymerization of Acrylic Resin The acrylic resin can be produced, for example, by the following method. In this method, (I) an alkyl (meth) acrylate monomer corresponding to an alkyl (meth) acrylate unit represented by the general formula (2) and an unsaturated carboxylic acid monomer and / or a precursor thereof are used alone. The body and the copolymer are copolymerized to obtain the copolymer (a); and (II) the copolymer (a) is treated with an imidizing agent to obtain the copolymer (a) in the copolymer (a). An intramolecular imidization reaction was carried out between the alkyl (meth) acrylate monomer unit and the unsaturated carboxylic acid monomer and / or its precursor monomer unit, and the glutarimide unit represented by the general formula (1) was used together. Introducing into the polymer;

不飽和カルボン酸単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α-置換アクリル酸、α-置換メタクリル酸が挙げられる。その前駆体単量体としては、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミドなどが挙げられる。これらは、単独で用いてもよく併用してもよい。好ましい不飽和カルボン酸単量体はアクリル酸またはメタクリル酸であり、好ましい前駆体単量体はアクリルアミドである。 Examples of the unsaturated carboxylic acid monomer include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-substituted acrylic acid, and α-substituted methacrylic acid. Examples of the precursor monomer include acrylamide and methacrylamide. These may be used alone or in combination. The preferred unsaturated carboxylic acid monomer is acrylic acid or methacrylic acid, and the preferred precursor monomer is acrylamide.

共重合体(a)をイミド化剤により処理する方法としては、任意の適切な方法を用いることができる。具体例としては、押出機を用いる方法、バッチ式反応槽(圧力容器)を用いる方法が挙げられる。押出機を用いる方法は、押出機を用いて共重合体(a)を加熱溶融し、これをイミド化剤で処理することを含む。この場合、押出機としては、任意の適切な押出機を用いることができる。具体例としては、単軸押出機、二軸押出機、多軸押出機が挙げられる。バッチ式反応槽(圧力容器)を用いる方法においては、任意の適切なバッチ式反応槽(圧力容器)を用いることができる。 Any suitable method can be used as the method for treating the copolymer (a) with the imidizing agent. Specific examples include a method using an extruder and a method using a batch type reaction vessel (pressure vessel). The method using an extruder includes heating and melting the copolymer (a) using an extruder and treating the copolymer (a) with an imidizing agent. In this case, any suitable extruder can be used as the extruder. Specific examples include a single-screw extruder, a twin-screw extruder, and a multi-screw extruder. In the method using a batch type reaction vessel (pressure vessel), any suitable batch type reaction vessel (pressure vessel) can be used.

イミド化剤としては、上記一般式(1)で表されるグルタルイミド単位を生成できる限りにおいて任意の適切な化合物を用いることができる。イミド化剤の具体例としては、メチルアミン、エチルアミン、n-プロピルアミン、i-プロピルアミン、n-ブチルアミン、i-ブチルアミン、tert-ブチルアミン、n-ヘキシルアミン等の脂肪族炭化水素基含有アミン、アニリン、ベンジルアミン、トルイジン、トリクロロアニリン等の芳香族炭化水素基含有アミン、シクロヘキシルアミン等などの脂環式炭化水素基含有アミンが挙げられる。さらに、例えば加熱によりこのようなアミンを発生する尿素系化合物を用いることもできる。尿素化合物としては、例えば、尿素、1,3-ジメチル尿素、1,3-ジエチル尿素、1,3-ジプロピル尿素が挙げられる。イミド化剤は、好ましくはメチルアミン、アンモニア、シクロヘキシルアミンであり、より好ましくはメチルアミンである。 As the imidizing agent, any suitable compound can be used as long as the glutarimide unit represented by the above general formula (1) can be produced. Specific examples of the imidizing agent include aliphatic hydrocarbon group-containing amines such as methylamine, ethylamine, n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, i-butylamine, tert-butylamine and n-hexylamine. Examples thereof include aromatic hydrocarbon group-containing amines such as aniline, benzylamine, toluidine and trichloroaniline, and alicyclic hydrocarbon group-containing amines such as cyclohexylamine. Further, for example, a urea-based compound that generates such an amine by heating can also be used. Examples of the urea compound include urea, 1,3-dimethylurea, 1,3-diethylurea and 1,3-dipropylurea. The imidizing agent is preferably methylamine, ammonia, cyclohexylamine, and more preferably methylamine.

イミド化においては、上記イミド化剤に加えて、必要に応じて、閉環促進剤を添加してもよい。 In imidization, a ring closure promoter may be added, if necessary, in addition to the imidizing agent.

イミド化におけるイミド化剤の使用量は、共重合体(a)100重量部に対して、好ましくは0.5重量部~10重量部であり、より好ましくは0.5重量部~6重量部である。イミド化剤の使用量が0.5重量部より少ないと、所望のイミド化率が達成されない場合が多い。その結果、得られる樹脂の耐熱性がきわめて不十分となり、成形後のコゲなどの外観欠陥を誘発する場合がある。イミド化剤の使用量が10重量部を超えると、樹脂中にイミド化剤が残存し、当該イミド化剤により成形後のコゲなどの外観欠陥や発泡を誘発する場合がある。 The amount of the imidizing agent used in imidization is preferably 0.5 parts by weight to 10 parts by weight, more preferably 0.5 parts by weight to 6 parts by weight, based on 100 parts by weight of the copolymer (a). Is. If the amount of the imidizing agent used is less than 0.5 parts by weight, the desired imidization rate is often not achieved. As a result, the heat resistance of the obtained resin becomes extremely insufficient, which may induce appearance defects such as kogation after molding. If the amount of the imidizing agent used exceeds 10 parts by weight, the imidizing agent may remain in the resin, and the imidizing agent may induce appearance defects such as kogation after molding and foaming.

本実施形態の製造方法は、必要に応じて、上記イミド化に加え、エステル化剤による処理を含むことができる。 If necessary, the production method of the present embodiment can include treatment with an esterifying agent in addition to the above-mentioned imidization.

エステル化剤としては、例えば、ジメチルカーボネート、2,2-ジメトキシプロパン、ジメチルスルホキシド、トリエチルオルトホルメート、トリメチルオルトアセテート、トリメチルオルトホルメート、ジフェニルカーボネート、ジメチルサルフェート、メチルトルエンスルホネート、メチルトリフルオロメタンスルホネート、メチルアセテート、メタノール、エタノール、メチルイソシアネート、p-クロロフェニルイソシアネート、ジメチルカルボジイミド、ジメチル-t-ブチルシリルクロライド、イソプロペニルアセテート、ジメチルウレア、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ジメチルジエトキシシラン、テトラ-N-ブトキシシラン、ジメチル(トリメチルシラン)フォスファイト、トリメチルフォスファイト、トリメチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、ジアゾメタン、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、2-エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ベンジルグリシジルエーテルが挙げられる。これらの中でも、コストおよび反応性などの観点から、ジメチルカーボネートが好ましい。 Examples of the esterifying agent include dimethyl carbonate, 2,2-dimethoxypropane, dimethyl sulfoxide, triethyl orthoformate, trimethyl orthoacetate, trimethyl orthoformate, diphenyl carbonate, dimethyl sulfate, methyl toluene sulfonate, and methyl trifluoromethane sulfonate. Methylacetate, methanol, ethanol, methylisocyanate, p-chlorophenylisocyanate, dimethylcarbodiimide, dimethyl-t-butylsilyl chloride, isopropenylacetate, dimethylurea, tetramethylammonium hydroxide, dimethyldiethoxysilane, tetra-N-butoxysilane , Dimethyl (trimethylsilane) phosphite, trimethylphosphite, trimethylphosphate, tricresyl phosphate, diazomethane, ethylene oxide, propylene oxide, cyclohexene oxide, 2-ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, benzyl glycidyl ether. .. Among these, dimethyl carbonate is preferable from the viewpoint of cost and reactivity.

エステル化剤の添加量は、アクリル系樹脂の酸価が所望の値になるように設定され得る。 The amount of the esterifying agent added can be set so that the acid value of the acrylic resin becomes a desired value.

B-2-3.他の樹脂の併用
本発明の実施形態においては、上記アクリル系樹脂と他の樹脂とを併用してもよい。すなわち、アクリル系樹脂を構成するモノマー成分と他の樹脂を構成するモノマー成分とを共重合し、当該共重合体をB-4項で後述するフィルム形成に供してもよく;アクリル系樹脂と他の樹脂とのブレンドをフィルム形成に供してもよい。他の樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリエーテルイミドなどの他の熱可塑性樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂などの熱硬化性樹脂が挙げられる。併用する樹脂の種類および配合量は、目的および得られるフィルムに所望される特性等に応じて適切に設定され得る。例えば、スチレン系樹脂(好ましくは、アクリロニトリル-スチレン共重合体)は、位相差制御剤として併用され得る。
B-2-3. Concomitant use of other resins In the embodiment of the present invention, the above acrylic resin and other resins may be used in combination. That is, the monomer component constituting the acrylic resin and the monomer component constituting another resin may be copolymerized, and the copolymer may be used for forming a film described later in Section B-4; the acrylic resin and others. The blend with the resin of the above may be used for film formation. Examples of other resins include styrene resins, polyethylene, polypropylene, polyamides, polyphenylene sulfides, polyether ether ketones, polyesters, polysulfones, polyphenylene oxides, polyacetals, polyimides, polyetherimides and the like, and other thermoplastic resins and phenolic resins. Examples thereof include thermoplastic resins such as resins, melamine-based resins, polyester-based resins, silicone-based resins, and epoxy-based resins. The type and blending amount of the resin to be used in combination can be appropriately set according to the purpose and the properties desired for the obtained film. For example, a styrene resin (preferably an acrylonitrile-styrene copolymer) can be used in combination as a retardation control agent.

アクリル系樹脂と他の樹脂とを併用する場合、アクリル系樹脂と他の樹脂とのブレンドにおけるアクリル系樹脂の含有量は、好ましくは50重量%~100重量%、より好ましくは60重量%~100重量%、さらに好ましくは70重量%~100重量%、特に好ましくは80重量%~100重量%である。含有量が50重量%未満である場合には、アクリル系樹脂が本来有する高い耐熱性、高い透明性が十分に反映できないおそれがある。 When the acrylic resin is used in combination with another resin, the content of the acrylic resin in the blend of the acrylic resin and the other resin is preferably 50% by weight to 100% by weight, more preferably 60% by weight to 100% by weight. By weight%, more preferably 70% by weight to 100% by weight, and particularly preferably 80% by weight to 100% by weight. If the content is less than 50% by weight, the high heat resistance and high transparency inherent in the acrylic resin may not be sufficiently reflected.

B-3.コアシェル型粒子
上記基材フィルムにおいて、コアシェル型粒子は、アクリル系樹脂100重量部に対して、好ましくは5重量部~50重量部、より好ましくは5重量部~40重量部配合される。これにより、基材フィルムの寸法変化率が低減され得る。その結果、表面処理層を形成した状態での収縮が抑制され得、基材フィルムと表面処理層との密着性が高い光学フィルムが得られ得る。
B-3. Core-shell type particles In the base film, the core-shell type particles are preferably blended in an amount of 5 parts by weight to 50 parts by weight, more preferably 5 parts by weight to 40 parts by weight, based on 100 parts by weight of the acrylic resin. As a result, the dimensional change rate of the base film can be reduced. As a result, shrinkage in the state where the surface-treated layer is formed can be suppressed, and an optical film having high adhesion between the base film and the surface-treated layer can be obtained.

コアシェル型粒子は、代表的には、ゴム状重合体で構成されたコアと、ガラス状重合体で構成され該コアを被覆する被覆層と、を有する。コアシェル型粒子は、最内層または中間層として、ガラス状重合体で構成された層を一層以上有していてもよい。 The core-shell type particles typically have a core made of a rubber-like polymer and a coating layer made of a glass-like polymer and covering the core. The core-shell type particles may have one or more layers made of a glassy polymer as the innermost layer or the intermediate layer.

コアを構成するゴム状重合体のTgは、好ましくは20℃以下であり、より好ましくは-60℃~20℃であり、さらに好ましくは-60℃~10℃である。コアを構成するゴム状重合体のTgが20℃を超えると、アクリル系樹脂の機械的強度の向上が十分ではないおそれがある。被覆層を構成するガラス状重合体(硬質重合体)のTgは、好ましくは50℃以上であり、より好ましくは50℃~140℃であり、さらに好ましくは60℃~130℃である。被覆層を構成するガラス状重合体のTgが50℃より低いと、アクリル系樹脂の耐熱性が低下するおそれがある。 The Tg of the rubber-like polymer constituting the core is preferably 20 ° C. or lower, more preferably −60 ° C. to 20 ° C., and further preferably −60 ° C. to 10 ° C. If the Tg of the rubber-like polymer constituting the core exceeds 20 ° C., the improvement in the mechanical strength of the acrylic resin may not be sufficient. The Tg of the glassy polymer (hard polymer) constituting the coating layer is preferably 50 ° C. or higher, more preferably 50 ° C. to 140 ° C., and further preferably 60 ° C. to 130 ° C. If the Tg of the glassy polymer constituting the coating layer is lower than 50 ° C., the heat resistance of the acrylic resin may decrease.

コアシェル型粒子におけるコアの含有割合は、好ましくは30重量%~95重量%、より好ましくは50重量%~90重量%である。コアにおけるガラス状重合体層の割合は、コアの総量100重量%に対して0~60重量%、好ましくは0~45重量%、より好ましくは10重量%~40重量%である。コアシェル型粒子における被覆層の含有割合は、好ましくは5重量%~70重量%、より好ましくは10重量%~50重量%である。 The content ratio of the core in the core-shell type particles is preferably 30% by weight to 95% by weight, more preferably 50% by weight to 90% by weight. The proportion of the glassy polymer layer in the core is 0 to 60% by weight, preferably 0 to 45% by weight, and more preferably 10% by weight to 40% by weight with respect to 100% by weight of the total amount of the core. The content ratio of the coating layer in the core-shell type particles is preferably 5% by weight to 70% by weight, more preferably 10% by weight to 50% by weight.

1つの実施形態においては、アクリル系樹脂中に分散されたコアシェル型粒子は扁平形状を有し得る。コアシェル型粒子は、B-4項で後述する延伸によって扁平化され得る。扁平化されたコアシェル型粒子の長さ/厚みの比は7.0以下である。長さ/厚みの比は、好ましくは6.5以下であり、より好ましくは6.3以下である。一方、長さ/厚みの比は、好ましくは4.0以上であり、より好ましくは4.5以上であり、さらに好ましくは5.0以上である。本明細書において「長さ/厚みの比」とは、コアシェル型粒子の平面視形状の代表長さと厚みとの比を意味する。ここで、「代表長さ」とは、平面視形状が円形の場合には直径、楕円形の場合には長径、矩形または多角形の場合には対角線の長さをいう。当該比は、例えば、以下の手順で求められ得る。得られたフィルム断面を透過型電子顕微鏡(例えば、加速電圧80kV、RuO染色超薄切片法)で撮影し、得られた写真に存在するコアシェル型粒子のうち長いもの(代表長さに近い断面が得られているもの)から順に30個を抽出し、(長さの平均値)/(厚みの平均値)を算出することにより、当該比が得られ得る。In one embodiment, the core-shell type particles dispersed in the acrylic resin may have a flat shape. The core-shell type particles can be flattened by the stretching described later in Section B-4. The length / thickness ratio of the flattened core-shell particles is 7.0 or less. The length / thickness ratio is preferably 6.5 or less, more preferably 6.3 or less. On the other hand, the length / thickness ratio is preferably 4.0 or more, more preferably 4.5 or more, and further preferably 5.0 or more. As used herein, the "length / thickness ratio" means the ratio between the representative length and the thickness of the plan-view shape of the core-shell type particles. Here, the "representative length" means a diameter when the shape in a plan view is circular, a major axis when the shape is elliptical, and a diagonal length when the shape is rectangular or polygonal. The ratio can be determined, for example, by the following procedure. The cross section of the obtained film was photographed with a transmission electron microscope (for example, acceleration voltage 80 kV, RuO4 stained ultrathin section method), and among the core-shell type particles present in the obtained photograph, the long one (cross section close to the representative length). The ratio can be obtained by extracting 30 pieces in order from the one in which is obtained) and calculating (average value of length) / (average value of thickness).

コアシェル型粒子のコアを構成するゴム状重合体、被覆層を構成するガラス状重合体(硬質重合体)、これらの重合方法、およびその他の構成の詳細については、例えば特開2016-33552号公報に記載されている。この公報の記載は、本明細書に参考として援用される。 For details of the rubber-like polymer constituting the core of the core-shell type particles, the glass-like polymer (hard polymer) constituting the coating layer, the polymerization method thereof, and other configurations, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2016-33552. It is described in. The description of this publication is incorporated herein by reference.

B-4.基材フィルムの形成
本発明の実施形態による基材フィルムは、代表的には、上記アクリル系樹脂(その他の樹脂を併用する場合には、当該その他の樹脂とのブレンド)およびコアシェル型粒子を含む組成物をフィルム形成することを含む方法により形成され得る。さらに、基材フィルムを形成する方法は、上記フィルムを延伸することを含み得る。
B-4. Formation of Base Film The base film according to the embodiment of the present invention typically contains the above acrylic resin (in the case of using other resins in combination, a blend with the other resins) and core-shell type particles. The composition can be formed by a method comprising forming a film. Further, the method of forming the base film may include stretching the film.

フィルム形成に用いられるコアシェル型粒子の平均粒子径は、好ましくは1nm~500nmである。コアの平均粒子径は、好ましくは50nm~300nmであり、より好ましくは70nm~300nmである。 The average particle size of the core-shell type particles used for film formation is preferably 1 nm to 500 nm. The average particle size of the core is preferably 50 nm to 300 nm, more preferably 70 nm to 300 nm.

フィルムを形成する方法としては、任意の適切な方法を採用することができる。具体例としては、キャスト塗工法(例えば、流延法)、押出成形法、射出成形法、圧縮成形法、トランスファー成形法、ブロー成形法、粉末成形法、FRP成形法、カレンダー成形法、熱プレス法が挙げられる。好ましくは、押出成形法またはキャスト塗工法である。得られるフィルムの平滑性を高め、良好な光学的均一性を得ることができるからである。特に好ましくは、押出成形法である。残存溶媒による問題を考慮する必要がないからである。中でも、Tダイを用いた押出成形法が、フィルムの生産性および以降の延伸処理の容易性の観点から好ましい。成形条件は、使用される樹脂の組成や種類、得られるフィルムに所望される特性等に応じて適宜設定され得る。 Any suitable method can be adopted as the method for forming the film. Specific examples include a cast coating method (for example, casting method), an extrusion molding method, an injection molding method, a compression molding method, a transfer molding method, a blow molding method, a powder molding method, an FRP molding method, a calendar molding method, and a hot press. The law is mentioned. An extrusion molding method or a cast coating method is preferable. This is because the smoothness of the obtained film can be enhanced and good optical uniformity can be obtained. A particularly preferable method is an extrusion molding method. This is because it is not necessary to consider the problem caused by the residual solvent. Above all, the extrusion molding method using a T-die is preferable from the viewpoint of film productivity and ease of subsequent stretching treatment. The molding conditions can be appropriately set according to the composition and type of the resin used, the properties desired for the obtained film, and the like.

延伸方法としては、任意の適切な延伸方法、延伸条件(例えば、延伸温度、延伸倍率、延伸速度、延伸方向)が採用され得る。延伸方法の具体例としては、自由端延伸、固定端延伸、自由端収縮、固定端収縮が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、同時に用いてもよく、逐次に用いてもよい。アクリル系樹脂に対するコアシェル型粒子の配合量が適切に調整されたフィルムを適切な延伸条件で延伸することにより、得られる基材フィルムの寸法変化率が低減され得る。その結果、表面処理層を形成した状態での収縮が抑制され得、基材フィルムと表面処理層との密着性が高い光学フィルムが得られ得る。 As the stretching method, any appropriate stretching method and stretching conditions (for example, stretching temperature, stretching ratio, stretching speed, stretching direction) can be adopted. Specific examples of the stretching method include free-end stretching, fixed-end stretching, free-end shrinkage, and fixed-end shrinkage. These may be used alone, simultaneously, or sequentially. By stretching a film in which the blending amount of the core-shell type particles with respect to the acrylic resin is appropriately adjusted under appropriate stretching conditions, the dimensional change rate of the obtained base film can be reduced. As a result, shrinkage in the state where the surface-treated layer is formed can be suppressed, and an optical film having high adhesion between the base film and the surface-treated layer can be obtained.

延伸方向は、目的に応じて適切な方向が採用され得る。具体的には、長さ方向、幅方向、厚さ方向、斜め方向が挙げられる。延伸方向は、一方向であってもよく(一軸延伸)、二方向であってもよく(二軸延伸)、三方向以上であってもよい。本発明の実施形態においては、代表的には、長さ方向の一軸延伸、長さ方向および幅方向の同時二軸延伸、長さ方向および幅方向の逐次二軸延伸が採用され得る。好ましくは、二軸延伸(同時または逐次)である。面内位相差の制御が容易であり、光学的等方性を実現しやすいからである。 As the stretching direction, an appropriate direction may be adopted depending on the purpose. Specific examples thereof include a length direction, a width direction, a thickness direction, and an oblique direction. The stretching direction may be one direction (uniaxial stretching), bidirectional stretching (biaxial stretching), or three or more directions. In the embodiment of the present invention, typically, uniaxial stretching in the length direction, simultaneous biaxial stretching in the length direction and width direction, and sequential biaxial stretching in the length direction and width direction can be adopted. Biaxial stretching (simultaneous or sequential) is preferred. This is because it is easy to control the in-plane phase difference and it is easy to realize optical anisotropy.

延伸温度は、基材フィルムに所望される光学的特性、機械的特性および厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸方法(一軸延伸または二軸延伸)、延伸倍率、延伸速度等に応じて変化し得る。具体的には、延伸温度は、好ましくはTg~Tg+50℃、さらに好ましくはTg+15℃~Tg+50℃、最も好ましくはTg+35℃~Tg+50℃である。このような温度で延伸することにより、適切な特性を有する基材フィルムが得られ得る。具体的な延伸温度は、例えば110℃~200℃であり、好ましくは120℃~190℃であり、さらに好ましくは150℃~190℃である。延伸温度がこのような範囲であれば、延伸倍率および延伸速度を適切に調整することにより、シェル型粒子の配合量が適切に調整されたフィルムを適切な延伸条件で延伸することにより、得られる基材フィルムの寸法変化率が低減され得る。その結果、表面処理層を形成した状態での収縮が抑制され得、基材フィルムと表面処理層との密着性が高い光学フィルムが得られ得る。 The stretching temperature is the desired optical properties, mechanical properties and thickness of the base film, the type of resin used, the thickness of the film used, the stretching method (uniaxial stretching or biaxial stretching), the stretching ratio, and the stretching. It may change depending on the speed and the like. Specifically, the stretching temperature is preferably Tg to Tg + 50 ° C, more preferably Tg + 15 ° C to Tg + 50 ° C, and most preferably Tg + 35 ° C to Tg + 50 ° C. By stretching at such a temperature, a base film having appropriate properties can be obtained. The specific stretching temperature is, for example, 110 ° C. to 200 ° C., preferably 120 ° C. to 190 ° C., and more preferably 150 ° C. to 190 ° C. When the stretching temperature is within such a range, it can be obtained by stretching a film in which the blending amount of shell-type particles is appropriately adjusted under appropriate stretching conditions by appropriately adjusting the stretching ratio and the stretching speed. The dimensional change rate of the base film can be reduced. As a result, shrinkage in the state where the surface-treated layer is formed can be suppressed, and an optical film having high adhesion between the base film and the surface-treated layer can be obtained.

延伸倍率もまた、延伸温度と同様に、光学的特性、機械的特性および厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸方法(一軸延伸または二軸延伸)、延伸温度、延伸速度等に応じて変化し得る。二軸延伸を採用する場合、幅方向(TD)の延伸倍率と長さ方向(MD)の延伸倍率との比(TD/MD)は、好ましくは1.0~1.5であり、より好ましくは1.0~1.4であり、さらに好ましくは1.0~1.3である。また、二軸延伸を採用する場合の面倍率(長さ方向の延伸倍率と幅方向の延伸倍率との積)は、好ましくは2.0~6.0であり、より好ましくは3.0~5.5であり、さらに好ましくは3.5~5.2である。延伸倍率がこのような範囲であれば、延伸温度および延伸速度を適切に調整することにより、得られる基材フィルムの寸法変化率が低減され得る。その結果、表面処理層を形成した状態での収縮が抑制され得、基材フィルムと表面処理層との密着性が高い光学フィルムが得られ得る。 The draw ratio is also the same as the draw temperature, optical properties, mechanical properties and thickness, type of resin used, thickness of film used, stretching method (uniaxial stretching or biaxial stretching), stretching temperature, stretching. It may change depending on the speed and the like. When biaxial stretching is adopted, the ratio (TD / MD) of the stretching ratio in the width direction (TD) and the stretching ratio in the length direction (MD) is preferably 1.0 to 1.5, which is more preferable. Is 1.0 to 1.4, more preferably 1.0 to 1.3. Further, when biaxial stretching is adopted, the surface magnification (the product of the stretching magnification in the length direction and the stretching magnification in the width direction) is preferably 2.0 to 6.0, and more preferably 3.0 to 6.0. It is 5.5, more preferably 3.5 to 5.2. When the stretching ratio is in such a range, the dimensional change rate of the obtained base film can be reduced by appropriately adjusting the stretching temperature and the stretching speed. As a result, shrinkage in the state where the surface-treated layer is formed can be suppressed, and an optical film having high adhesion between the base film and the surface-treated layer can be obtained.

延伸速度もまた、延伸温度と同様に、光学的特性、機械的特性および厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸方法(一軸延伸または二軸延伸)、延伸温度、延伸倍率等に応じて変化し得る。延伸速度は、好ましくは3%/秒~20%/秒であり、より好ましくは3%/秒~15%/秒であり、さらに好ましくは3%/秒~10%/秒である。二軸延伸を採用する場合、1つの方向の延伸速度ともう1つの方向の延伸速度とは、同一であってもよく異なっていてもよい。延伸速度がこのような範囲であれば、延伸温度および延伸倍率を適切に調整することにより、得られる基材フィルムの寸法変化率が低減され得る。その結果、表面処理層を形成した状態での収縮が抑制され得、基材フィルムと表面処理層との密着性が高い光学フィルムが得られ得る。 The stretching speed, as well as the stretching temperature, is also the optical properties, mechanical properties and thickness, the type of resin used, the thickness of the film used, the stretching method (uniaxial stretching or biaxial stretching), stretching temperature, stretching. It may change depending on the magnification and the like. The stretching speed is preferably 3% / sec to 20% / sec, more preferably 3% / sec to 15% / sec, and even more preferably 3% / sec to 10% / sec. When biaxial stretching is adopted, the stretching speed in one direction and the stretching speed in the other direction may be the same or different. When the stretching speed is in such a range, the dimensional change rate of the obtained base film can be reduced by appropriately adjusting the stretching temperature and the stretching ratio. As a result, shrinkage in the state where the surface-treated layer is formed can be suppressed, and an optical film having high adhesion between the base film and the surface-treated layer can be obtained.

以上のようにして、基材フィルムが形成され得る。 As described above, the base film can be formed.

C.表面処理層
表面処理層は、光学フィルムに求められる機能に応じて基材フィルムの片側に形成された任意の適切な機能層である。表面処理層の具体例としては、ハードコート層、防眩層、および反射防止層等が挙げられる。表面処理層の厚みは、好ましくは3μm~20μmであり、より好ましくは5μm~15μmである。
C. Surface-treated layer The surface-treated layer is any suitable functional layer formed on one side of the base film according to the function required for the optical film. Specific examples of the surface treatment layer include a hard coat layer, an antiglare layer, an antireflection layer and the like. The thickness of the surface treatment layer is preferably 3 μm to 20 μm, more preferably 5 μm to 15 μm.

表面処理層は、代表的には、基材フィルム上に形成された樹脂組成物の硬化層である。表面処理層を形成する工程は、基材フィルム上に表面処理層形成用の樹脂組成物を塗布して塗布層を形成することと、上記塗布層を乾燥および硬化して表面処理層とすることを含み得る。上記塗布層を乾燥および硬化することは、上記塗布層を加熱することを含み得る。 The surface treatment layer is typically a cured layer of the resin composition formed on the base film. The steps of forming the surface treatment layer are to apply the resin composition for forming the surface treatment layer on the base film to form the coating layer, and to dry and cure the coating layer to obtain the surface treatment layer. May include. Drying and curing the coating layer may include heating the coating layer.

樹脂組成物の塗布方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。例えば、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、スロットオリフィスコート法、カーテンコート法、ファウンテンコート法、コンマコート法が挙げられる。塗布を容易にする観点から、樹脂組成物は希釈用の溶剤を含むことが好ましい。 Any suitable method can be adopted as the method for applying the resin composition. For example, a bar coat method, a roll coat method, a gravure coat method, a rod coat method, a slot orifice coat method, a curtain coat method, a fountain coat method, and a comma coat method can be mentioned. From the viewpoint of facilitating application, the resin composition preferably contains a solvent for dilution.

塗布層の加熱温度は、樹脂組成物の組成に応じた任意の適切な温度に設定され得、好ましくは、基材フィルムに含まれるアクリル系樹脂のガラス転移温度以下に設定される。基材フィルムに含まれるアクリル系樹脂のガラス転移温度以下の温度で加熱すれば、加熱による変形が抑制された光学フィルムが得られ得る。塗布層の加熱温度は、例えば、50℃~140℃であり、好ましくは60℃~100℃である。このような加熱温度で加熱することにより、基材フィルムと表面処理層との密着性に優れた光学フィルムが得られ得る。 The heating temperature of the coating layer can be set to an arbitrary appropriate temperature depending on the composition of the resin composition, and is preferably set to be equal to or lower than the glass transition temperature of the acrylic resin contained in the base film. By heating at a temperature equal to or lower than the glass transition temperature of the acrylic resin contained in the base film, an optical film in which deformation due to heating is suppressed can be obtained. The heating temperature of the coating layer is, for example, 50 ° C to 140 ° C, preferably 60 ° C to 100 ° C. By heating at such a heating temperature, an optical film having excellent adhesion between the base film and the surface treatment layer can be obtained.

C-1.ハードコート層
ハードコート層は、基材フィルムの表面に耐擦傷性および耐薬品性等を付与する層である。ハードコート層は、鉛筆硬度試験で好ましくはH以上、より好ましくは3H以上の硬度を有する。鉛筆硬度試験は、JIS K 5400に準じて測定され得る。ハードコート層形成用の樹脂組成物は、例えば、熱、光(紫外線等)または電子線等により硬化し得る硬化性化合物を含み得る。ハードコート層およびハードコート層形成用の樹脂組成物の詳細は、例えば特開2014-240955号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
C-1. Hardcoat layer The hardcoat layer is a layer that imparts scratch resistance, chemical resistance, and the like to the surface of the base film. The hard coat layer has a hardness of preferably H or higher, more preferably 3H or higher in the pencil hardness test. The pencil hardness test can be measured according to JIS K 5400. The resin composition for forming a hard coat layer may contain, for example, a curable compound that can be cured by heat, light (ultraviolet rays, etc.), an electron beam, or the like. Details of the hard coat layer and the resin composition for forming the hard coat layer are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-240955. The entire description of the publication is incorporated herein by reference.

C-2.防眩層
防眩層は、光を散乱して反射させることで、外光の映り込みを防止するための層である。防眩層形成用の樹脂組成物は、例えば、熱、光(紫外線等)または電子線等により硬化し得る硬化性化合物を含み得る。防眩層は、代表的には、表面に微細凹凸形状を有する。このような微細凹凸形状を形成する方法としては、例えば、上記硬化性化合物に微粒子を含有させる方法が挙げられる。防眩層および防眩層形成用の樹脂組成物の詳細は、例えば特開2017-32711号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
C-2. Anti-glare layer The anti-glare layer is a layer for preventing reflection of external light by scattering and reflecting light. The resin composition for forming the antiglare layer may contain, for example, a curable compound that can be cured by heat, light (ultraviolet rays, etc.), an electron beam, or the like. The antiglare layer typically has a fine uneven shape on the surface. Examples of the method for forming such a fine uneven shape include a method in which fine particles are contained in the curable compound. Details of the antiglare layer and the resin composition for forming the antiglare layer are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-32711. The entire description of the publication is incorporated herein by reference.

C-3.反射防止層
反射防止層は、外光の反射を防止するための層である。反射防止層形成用の樹脂組成物は、例えば、熱、光(紫外線等)または電子線等により硬化し得る硬化性化合物を含み得る。反射防止層は、1層のみからなる単層であっても良いし、2層以上からなる複数層であっても良い。反射防止層および反射防止層形成用の樹脂組成物の詳細は、例えば特開2012-155050号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
C-3. Antireflection layer The antireflection layer is a layer for preventing the reflection of external light. The resin composition for forming the antireflection layer may contain, for example, a curable compound that can be cured by heat, light (ultraviolet rays, etc.), an electron beam, or the like. The antireflection layer may be a single layer composed of only one layer, or may be a plurality of layers composed of two or more layers. Details of the antireflection layer and the resin composition for forming the antireflection layer are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-155050. The entire description of the publication is incorporated herein by reference.

D.偏光板
上記AからC項に記載の光学フィルムは、偏光板に適用され得る。したがって、本発明は、そのような光学フィルムを用いた偏光板も包含する。代表的には、偏光板は、偏光子と、偏光子の片側に配置された本発明の光学フィルムと、を有する。光学フィルムは、その基材フィルム側が偏光子と貼り合わせられ、偏光子の保護層として機能し得る。
D. Polarizer The optical film according to the above items A to C can be applied to a polarizing plate. Therefore, the present invention also includes a polarizing plate using such an optical film. Typically, the polarizing plate has a polarizing element and an optical film of the present invention arranged on one side of the polarizing element. The base film side of the optical film is bonded to the polarizing element, and can function as a protective layer for the polarizing element.

偏光子としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。 As the polarizing element, any suitable polarizing element may be adopted. For example, the resin film forming the polarizing element may be a single-layer resin film or a laminated body having two or more layers.

単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、ポリビニルアルコール(PVA)系フィルム、部分ホルマール化PVA系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理および延伸処理が施されたもの、PVAの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。好ましくは、光学特性に優れることから、PVA系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子が用いられる。 Specific examples of the polarizing element composed of a single-layer resin film include a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol (PVA) -based film, a partially formalized PVA-based film, and an ethylene / vinyl acetate copolymer-based partially saponified film. Examples thereof include those which have been dyed and stretched with a bicolor substance such as iodine and a bicolor dye, and polyene-based oriented films such as a dehydrated product of PVA and a dehydrogenated product of polyvinyl chloride. Preferably, since the PVA-based film is excellent in optical properties, a polarizing element obtained by dyeing a PVA-based film with iodine and uniaxially stretching it is used.

上記ヨウ素による染色は、例えば、PVA系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは3~7倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、PVA系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にPVA系フィルムを水に浸漬して水洗することで、PVA系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、PVA系フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。 The dyeing with iodine is performed, for example, by immersing a PVA-based film in an aqueous iodine solution. The draw ratio of the uniaxial stretching is preferably 3 to 7 times. The stretching may be performed after the dyeing treatment or may be performed while dyeing. Further, it may be dyed after being stretched. If necessary, the PVA-based film is subjected to a swelling treatment, a crosslinking treatment, a cleaning treatment, a drying treatment and the like. For example, by immersing the PVA-based film in water and washing it with water before dyeing, it is possible not only to clean the dirt and blocking inhibitor on the surface of the PVA-based film, but also to swell the PVA-based film to prevent uneven dyeing. Can be prevented.

積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたPVA系樹脂層(PVA系樹脂フィルム)との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたPVA系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたPVA系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、PVA系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にPVA系樹脂層を形成して、樹脂基材とPVA系樹脂層との積層体を得ること;当該積層体を延伸および染色してPVA系樹脂層を偏光子とすること;により作製され得る。本実施形態においては、延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温(例えば、95℃以上)で空中延伸することをさらに含み得る。得られた樹脂基材/偏光子の積層体はそのまま用いてもよく(すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく)、樹脂基材/偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開2012-73580号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。 Specific examples of the polarizing element obtained by using the laminate include a laminate of a resin base material and a PVA-based resin layer (PVA-based resin film) laminated on the resin base material, or a resin base material and the resin. Examples thereof include a polarizing element obtained by using a laminate with a PVA-based resin layer coated and formed on a base material. The polarizing element obtained by using the laminate of the resin base material and the PVA-based resin layer coated and formed on the resin base material is, for example, a resin base material obtained by applying a PVA-based resin solution to the resin base material and drying it. It is produced by forming a PVA-based resin layer on the PVA-based resin layer to obtain a laminate of a resin base material and a PVA-based resin layer; and stretching and dyeing the laminate to make the PVA-based resin layer a stator. obtain. In the present embodiment, stretching typically includes immersing the laminate in an aqueous boric acid solution for stretching. Further, stretching may further comprise, if necessary, stretching the laminate in the air at a high temperature (eg, 95 ° C. or higher) prior to stretching in boric acid aqueous solution. The obtained resin base material / polarizing element laminate may be used as it is (that is, the resin base material may be used as a protective layer for the polarizing element), and the resin base material is peeled off from the resin base material / polarizing element laminate. Then, an arbitrary appropriate protective layer according to the purpose may be laminated on the peeled surface and used. Details of the method for producing such a polarizing element are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-73580. The entire description of the publication is incorporated herein by reference.

偏光子の厚みは、例えば1μm~80μmである。1つの実施形態においては、偏光子の厚みは、好ましくは1μm~20μmであり、さらに好ましくは3μm~15μmである。 The thickness of the splitter is, for example, 1 μm to 80 μm. In one embodiment, the thickness of the stator is preferably 1 μm to 20 μm, more preferably 3 μm to 15 μm.

E.画像表示装置
上記D項に記載の偏光板は、画像表示装置に適用され得る。したがって、本発明は、そのような偏光板を用いた画像表示装置も包含する。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネセンス(EL)表示装置が挙げられる。画像表示装置は業界で周知の構成が採用されるので、詳細な説明は省略する。
E. Image display device The polarizing plate according to the above item D can be applied to an image display device. Therefore, the present invention also includes an image display device using such a polarizing plate. Typical examples of the image display device include a liquid crystal display device and an organic electroluminescence (EL) display device. Since the image display device adopts a configuration well known in the industry, detailed description thereof will be omitted.

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。各特性の測定方法は以下の通りである。なお、特に明記しない限り、実施例における「部」および「%」は重量基準である。
(1)基材フィルムの寸法変化率
基材フィルムを、その長手方向および短手方向に沿って10cm×10cmに裁断して測定サンプルとした。上記測定サンプルを、粘着材を介してガラス板に貼り合わせ、100℃の環境試験機内に120時間静置し、ミツトヨ製QVA606-PRO-AE10を用いて基材フィルムの寸法変化率を測定した。
測定サンプルとガラス板との貼り合わせには、ブチルアクリレート95部、アクリル酸5部、2-ヒドロキシエチルアクリレート0.1部、及び2-2アゾビスイソブチルニトリル0.05部を含む粘着剤を使用した。
なお、寸法変化率は、環境試験機に静置した後の測定サンプルについて、端部より内側1cmの位置を、裁断面と平行な方向(測定サンプルの各辺)に沿って寸法測定し、下記式を用いて寸法変化率を計算した。基材フィルムの長手方向に対応する方向の寸法変化率と、短手方向に対応する方向の寸法変化率とをそれぞれ測定した。
寸法変化率(%)=(100℃120時間後の寸法-初期寸法)/初期寸法×100
(2)密着性評価
表面処理層の基材フィルムに対する密着性を、JIS K-5400の碁盤目剥離試験(碁盤目数:100個)に準じて評価し、以下の指標により判定した。
〇:碁盤目剥離数が0個
△:碁盤目剥離数が1個以上10個未満
×:碁盤目剥離数が10個以上
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. The measurement method of each characteristic is as follows. Unless otherwise specified, "parts" and "%" in the examples are based on weight.
(1) Dimensional change rate of the base film The base film was cut into 10 cm × 10 cm along the longitudinal direction and the lateral direction thereof to prepare a measurement sample. The above measurement sample was attached to a glass plate via an adhesive, allowed to stand in an environmental tester at 100 ° C. for 120 hours, and the dimensional change rate of the base film was measured using Mitutoyo's QVA606-PRO-AE10.
A pressure-sensitive adhesive containing 95 parts of butyl acrylate, 5 parts of acrylic acid, 0.1 part of 2-hydroxyethyl acrylate, and 0.05 part of 2-2 azobisisobutylnitrile was used for bonding the measurement sample and the glass plate. did.
The dimensional change rate is determined by measuring the measurement sample after standing in an environmental tester at a position 1 cm inside from the end along the direction parallel to the cut surface (each side of the measurement sample). The dimensional change rate was calculated using the formula. The dimensional change rate in the direction corresponding to the longitudinal direction of the base film and the dimensional change rate in the direction corresponding to the lateral direction were measured, respectively.
Dimensional change rate (%) = (Dimensions after 120 hours at 100 ° C-Initial dimensions) / Initial dimensions x 100
(2) Adhesion evaluation The adhesion of the surface treatment layer to the base film was evaluated according to the JIS K-5400 grid peeling test (number of grids: 100), and was judged by the following index.
〇: The number of grid peels is 0 △: The number of grid peels is 1 or more and less than 10 ×: The number of grid peels is 10 or more

<製造例1>
表面処理層形成用の樹脂組成物として、以下の組成物A~Cを用意した。
(1)組成物A
4-HBA(大阪有機化学工業(株)製)16重量部、NKオリゴUA-53H-80BK(新中村化学工業(株)製)32重量部、ビスコート#300(大阪有機化学工業(株)製)48重量部、A-GLY-9E(新中村化学工業(株)製)4重量部、IRGACURE907(BASF製)2.4重量部を混合し、それぞれMIBK:PGM=50:50の溶媒で固形分濃度42.0%となるよう希釈して得られるUV硬化性樹脂。
(2)組成物B
ビスコート#300(大阪有機化学工業(株)製)100重量部、IRGACURE907(BASF製)2.4重量部を混合し、MIBK:PGM=50:50の溶媒で固形分濃度42.0%となるよう希釈して得られるUV硬化性樹脂。
(3)組成物C
4-HBA(大阪有機化学工業(株)製)20重量部、NKオリゴUA-53H-80BK(新中村化学工業(株)製)40重量部、ビスコート#300(大阪有機化学工業(株)製)60重量部、IRGACURE907(BASF製)5重量部、テクポリマーSSX-103DXE(積水化成品工業(株)製)0.5重量部を混合し、それぞれトルエン:MEK=70:30の溶媒で固形分濃度40.0%となるよう希釈して得られるUV硬化性樹脂。
<Manufacturing example 1>
The following compositions A to C were prepared as the resin compositions for forming the surface treatment layer.
(1) Composition A
4-HBA (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) 16 parts by weight, NK Oligo UA-53H-80BK (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.) 32 parts by weight, Viscort # 300 (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) ) 48 parts by weight, A-GLY-9E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.) 4 parts by weight, IRGACURE907 (manufactured by BASF) 2.4 parts by weight, and solidified in a solvent of MIBK: PGM = 50: 50, respectively. A UV curable resin obtained by diluting to a component concentration of 42.0%.
(2) Composition B
Mix 100 parts by weight of Viscoat # 300 (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) and 2.4 parts by weight of IRGACURE907 (manufactured by BASF) to obtain a solid content concentration of 42.0% with a solvent of MIBK: PGM = 50: 50. UV curable resin obtained by diluting.
(3) Composition C
4-HBA (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) 20 parts by weight, NK Oligo UA-53H-80BK (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.) 40 parts by weight, Viscort # 300 (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) ) 60 parts by weight, IRGACURE907 (manufactured by BASF) 5 parts by weight, and techpolymer SSX-103DXE (manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd.) 0.5 parts by weight are mixed and solidified with a solvent of toluene: MEK = 70: 30 respectively. A UV curable resin obtained by diluting to a component concentration of 40.0%.

<実施例1>
1.基材フィルムの作製
MS樹脂(MS-200;メタクリル酸メチル/スチレン(モル比)=80/20の共重合体,新日鐵化学(株)製)をモノメチルアミンでイミド化(イミド化率:5%)した。得られたイミド化MS樹脂は、一般式(1)で表されるグルタルイミド単位(RおよびRはメチル基、Rは水素原子である)、一般式(2)で表される(メタ)アクリル酸エステル単位(RおよびRはメチル基である)、およびスチレン単位を有していた。なお、上記イミド化には、口径15mmの噛合い型同方向回転式二軸押出機を用いた。押出機の各温調ゾーンの設定温度を230℃、スクリュー回転数150rpmとし、MS樹脂を2.0kg/hrで供給し、モノメチルアミンの供給量はMS樹脂100重量部に対して2重量部とした。ホッパーからMS樹脂を投入し、ニーディングブロックによって樹脂を溶融および充満させた後、ノズルからモノメチルアミンを注入した。反応ゾーンの末端にはシールリングを入れて樹脂を充満させた。反応後の副生成物および過剰のメチルアミンを、ベント口の圧力を-0.08MPaに減圧して脱揮した。押出機出口に設けられたダイスからストランドとして出てきた樹脂は、水槽で冷却した後、ペレタイザでペレット化した。得られたイミド化MS樹脂のイミド化率は5.0%、酸価は0.5mmol/gであった。
上記で得られたイミド化MS樹脂100重量部とコアシェル型粒子10重量部とを単軸押出機に投入して溶融混合し、Tダイを通してフィルム形成することにより押出フィルムを得た。得られた押出フィルムを、延伸温度160℃で長さ方向および幅方向にそれぞれ2倍に同時二軸延伸した。延伸速度は、長さ方向および幅方向ともに10%/秒であった。
このようにして、基材フィルムAを作製した。得られた基材フィルムAの厚みは40μmであった。基材フィルムAの長手方向の寸法変化率および短手方向の寸法変化率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムAの片側に、硬化後の厚みが6μmとなるように組成物Aを塗布して塗布層を形成した。次いで、上記塗布層を、70℃で乾燥させるとともにUV硬化させることにより、基材フィルムAの片側にハードコート層が形成された光学フィルム1を得た。上記光学フィルム1を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Example 1>
1. 1. Preparation of base film MS resin (MS-200; copolymer of methyl methacrylate / styrene (molar ratio) = 80/20, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) is imidized with monomethylamine (imidization ratio:). 5%). The obtained imidized MS resin is represented by a glutarimide unit represented by the general formula (1) (R 1 and R 3 are methyl groups and R 2 is a hydrogen atom) and is represented by the general formula (2). It had a meta) acrylic acid ester unit (R 4 and R 5 are methyl groups), and a styrene unit. For the imidization, a meshing type co-rotating twin-screw extruder having a diameter of 15 mm was used. The set temperature of each temperature control zone of the extruder is set to 230 ° C., the screw rotation speed is 150 rpm, the MS resin is supplied at 2.0 kg / hr, and the supply amount of monomethylamine is 2 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the MS resin. did. The MS resin was charged from the hopper, the resin was melted and filled with the kneading block, and then monomethylamine was injected from the nozzle. A seal ring was placed at the end of the reaction zone to fill the resin. The by-products and excess methylamine after the reaction were devolatile by reducing the pressure at the vent port to −0.08 MPa. The resin that came out as a strand from the die provided at the outlet of the extruder was cooled in a water tank and then pelletized with a pelletizer. The imidized MS resin obtained had an imidization rate of 5.0% and an acid value of 0.5 mmol / g.
An extruded film was obtained by charging 100 parts by weight of the imidized MS resin obtained above and 10 parts by weight of core-shell type particles into a single-screw extruder, melting and mixing them, and forming a film through a T-die. The obtained extruded film was simultaneously biaxially stretched twice in the length direction and the width direction at a stretching temperature of 160 ° C. The stretching speed was 10% / sec in both the length direction and the width direction.
In this way, the base film A was produced. The thickness of the obtained base film A was 40 μm. The dimensional change rate in the longitudinal direction and the dimensional change rate in the lateral direction of the base film A were measured. The results are shown in Table 1.
2. 2. Preparation of Optical Film Composition A was applied to one side of the base film A so that the thickness after curing was 6 μm to form a coating layer. Next, the coating layer was dried at 70 ° C. and UV-cured to obtain an optical film 1 having a hard coat layer formed on one side of the base film A. The optical film 1 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<実施例2>
1.基材フィルムの作製
上記で得られたイミド化MS樹脂100重量部とコアシェル型粒子10重量部とを単軸押出機に投入して溶融混合し、Tダイを通してフィルム形成することにより押出フィルムを得た。得られた押出フィルムを、延伸温度160℃で長さ方向および幅方向にそれぞれ2倍に同時二軸延伸した。延伸速度は、長さ方向および幅方向ともに10%/秒であった。
このようにして、基材フィルムBを作製した。得られた基材フィルムBの厚みは35μmであった。基材フィルムBの長手方向の寸法変化率および短手方向の寸法変化率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムBを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムBの片側にハードコート層が形成された光学フィルム2を得た。上記光学フィルム2を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Example 2>
1. 1. Preparation of base film 100 parts by weight of the imidized MS resin obtained above and 10 parts by weight of core-shell type particles are put into a single-screw extruder, melt-mixed, and formed into a film through a T-die to obtain an extruded film. rice field. The obtained extruded film was simultaneously biaxially stretched twice in the length direction and the width direction at a stretching temperature of 160 ° C. The stretching speed was 10% / sec in both the length direction and the width direction.
In this way, the base film B was produced. The thickness of the obtained base film B was 35 μm. The dimensional change rate in the longitudinal direction and the dimensional change rate in the lateral direction of the base film B were measured. The results are shown in Table 1.
2. 2. Preparation of Optical Film An optical film 2 having a hard coat layer formed on one side of the base film B was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base film B was used. The optical film 2 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<実施例3>
1.基材フィルムの作製
上記で得られたイミド化MS樹脂を単軸押出機に投入して溶融混合し、Tダイを通してフィルム形成することにより押出フィルムを得た。得られた押出フィルムを、延伸温度160℃で長さ方向および幅方向にそれぞれ2倍に同時二軸延伸した。延伸速度は、長さ方向および幅方向ともに10%/秒であった。
このようにして、基材フィルムCを作製した。得られた基材フィルムCの厚みは30μmであった。基材フィルムCの長手方向の寸法変化率および短手方向の寸法変化率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムCを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムCの片側にハードコート層が形成された光学フィルム3を得た。上記光学フィルム3を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Example 3>
1. 1. Preparation of Base Film The imidized MS resin obtained above was put into a single-screw extruder, melt-mixed, and formed into a film through a T-die to obtain an extruded film. The obtained extruded film was simultaneously biaxially stretched twice in the length direction and the width direction at a stretching temperature of 160 ° C. The stretching speed was 10% / sec in both the length direction and the width direction.
In this way, the base film C was produced. The thickness of the obtained base film C was 30 μm. The dimensional change rate in the longitudinal direction and the dimensional change rate in the lateral direction of the base film C were measured. The results are shown in Table 1.
2. 2. Preparation of Optical Film An optical film 3 having a hard coat layer formed on one side of the base film C was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base film C was used. The optical film 3 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<実施例4>
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子の配合量を10重量部としたこと以外は実施例3と同様にして、基材フィルムDを作製した。基材フィルムDの長手方向の寸法変化率および短手方向の寸法変化率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムDを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムDの片側にハードコート層が形成された光学フィルム4を得た。上記光学フィルム4を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Example 4>
1. 1. Preparation of Base Film A base film D was prepared in the same manner as in Example 3 except that the blending amount of the core-shell type particles was 10 parts by weight. The dimensional change rate in the longitudinal direction and the dimensional change rate in the lateral direction of the base film D were measured. The results are shown in Table 1.
2. 2. Preparation of Optical Film An optical film 4 having a hard coat layer formed on one side of the base film D was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base film D was used. The optical film 4 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<実施例5>
上記基材フィルムDの片側に、組成物Bを塗布して乾燥および硬化させることによりハードコート層を形成したこと以外は実施例4と同様にして、基材フィルムDの片側にハードコート層が形成された光学フィルム5を得た。上記光学フィルム5を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Example 5>
The hard coat layer is formed on one side of the base film D in the same manner as in Example 4 except that the hard coat layer is formed by applying the composition B to one side of the base film D, drying and curing the composition B. The formed optical film 5 was obtained. The optical film 5 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<実施例6>
上記基材フィルムDの片側に、組成物Cを塗布して硬化させることにより防眩層を形成したこと以外は実施例4と同様にして、基材フィルムDの片側に防眩層が形成された光学フィルム6を得た。上記光学フィルム6を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Example 6>
An antiglare layer is formed on one side of the base film D in the same manner as in Example 4 except that the antiglare layer is formed by applying the composition C to one side of the base film D and curing the composition C. The optical film 6 was obtained. The optical film 6 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<実施例7>
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子の配合量を10重量部としたこと、および押出フィルムの延伸温度を150℃としたこと以外は実施例3と同様にして、基材フィルムEを作製した。基材フィルムEの長手方向の寸法変化率および短手方向の寸法変化率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムEを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムEの片側にハードコート層が形成された光学フィルム7を得た。上記光学フィルム7を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Example 7>
1. 1. Preparation of Base Film A base film E was prepared in the same manner as in Example 3 except that the blending amount of the core-shell type particles was 10 parts by weight and the stretching temperature of the extruded film was 150 ° C. The dimensional change rate in the longitudinal direction and the dimensional change rate in the lateral direction of the base film E were measured. The results are shown in Table 1.
2. 2. Preparation of Optical Film An optical film 7 having a hard coat layer formed on one side of the base film E was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base film E was used. The optical film 7 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<実施例8>
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子の配合量を15重量部としたこと、および押出フィルムの延伸温度を152℃としたこと以外は実施例3と同様にして、基材フィルムFを作製した。基材フィルムFの長手方向の寸法変化率および短手方向の寸法変化率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムFを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムFの片側にハードコート層が形成された光学フィルム8を得た。上記光学フィルム8を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Example 8>
1. 1. Preparation of Base Film A base film F was prepared in the same manner as in Example 3 except that the blending amount of the core-shell type particles was 15 parts by weight and the stretching temperature of the extruded film was 152 ° C. The dimensional change rate in the longitudinal direction and the dimensional change rate in the lateral direction of the base film F were measured. The results are shown in Table 1.
2. 2. Preparation of Optical Film An optical film 8 having a hard coat layer formed on one side of the base film F was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base film F was used. The optical film 8 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<実施例9>
1.基材フィルムの作製
押出フィルムの延伸温度を155℃としたこと以外は実施例3と同様にして、基材フィルムGを作製した。基材フィルムGの長手方向の寸法変化率および短手方向の寸法変化率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムGを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムGの片側にハードコート層が形成された光学フィルム9を得た。上記光学フィルム9を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Example 9>
1. 1. Preparation of Base Film A base film G was prepared in the same manner as in Example 3 except that the stretching temperature of the extruded film was 155 ° C. The dimensional change rate in the longitudinal direction and the dimensional change rate in the lateral direction of the base film G were measured. The results are shown in Table 1.
2. 2. Preparation of Optical Film An optical film 9 having a hard coat layer formed on one side of the base film G was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base film G was used. The optical film 9 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<実施例10>
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子の配合量を10重量部としたこと、および押出フィルムの延伸温度を140℃としたこと以外は実施例3と同様にして、基材フィルムHを作製した。基材フィルムHの長手方向の寸法変化率および短手方向の寸法変化率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムHを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムHの片側にハードコート層が形成された光学フィルム10を得た。上記光学フィルム10を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Example 10>
1. 1. Preparation of Base Film The base film H was prepared in the same manner as in Example 3 except that the blending amount of the core-shell type particles was 10 parts by weight and the stretching temperature of the extruded film was 140 ° C. The dimensional change rate in the longitudinal direction and the dimensional change rate in the lateral direction of the base film H were measured. The results are shown in Table 1.
2. 2. Preparation of Optical Film An optical film 10 having a hard coat layer formed on one side of the base film H was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base film H was used. The optical film 10 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<実施例11>
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子の配合量を23重量部としたこと、および押出フィルムの延伸温度を152℃としたこと以外は実施例3と同様にして、基材フィルムIを作製した。基材フィルムIの長手方向の寸法変化率および短手方向の寸法変化率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムIを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムIの片側にハードコート層が形成された光学フィルム11を得た。上記光学フィルム11を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Example 11>
1. 1. Preparation of Base Film The base film I was prepared in the same manner as in Example 3 except that the blending amount of the core-shell type particles was 23 parts by weight and the stretching temperature of the extruded film was 152 ° C. The dimensional change rate in the longitudinal direction and the dimensional change rate in the lateral direction of the base film I were measured. The results are shown in Table 1.
2. 2. Preparation of Optical Film An optical film 11 having a hard coat layer formed on one side of the base film I was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base film I was used. The optical film 11 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<実施例12>
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子の配合量を5重量部としたこと、および押出フィルムの延伸温度を140℃としたこと以外は実施例3と同様にして、基材フィルムJを作製した。基材フィルムJの長手方向の寸法変化率および短手方向の寸法変化率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムJを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムJの片側にハードコート層が形成された光学フィルム12を得た。上記光学フィルム12を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Example 12>
1. 1. Preparation of Base Film A base film J was prepared in the same manner as in Example 3 except that the blending amount of the core-shell type particles was 5 parts by weight and the stretching temperature of the extruded film was 140 ° C. The dimensional change rate in the longitudinal direction and the dimensional change rate in the lateral direction of the base film J were measured. The results are shown in Table 1.
2. 2. Preparation of Optical Film An optical film 12 having a hard coat layer formed on one side of the base film J was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base film J was used. The optical film 12 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<実施例13>
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子の配合量を23重量部としたこと、および押出フィルムの延伸温度を140℃としたこと以外は実施例3と同様にして、基材フィルムKを作製した。基材フィルムKの長手方向の寸法変化率および短手方向の寸法変化率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムKを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムKの片側にハードコート層が形成された光学フィルム13を得た。上記光学フィルム13を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Example 13>
1. 1. Preparation of Base Film A base film K was prepared in the same manner as in Example 3 except that the blending amount of the core-shell type particles was 23 parts by weight and the stretching temperature of the extruded film was 140 ° C. The dimensional change rate in the longitudinal direction and the dimensional change rate in the lateral direction of the base film K were measured. The results are shown in Table 1.
2. 2. Preparation of Optical Film An optical film 13 having a hard coat layer formed on one side of the base film K was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base film K was used. The optical film 13 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<実施例14>
1.基材フィルムの作製
押出フィルムの延伸温度を150℃としたこと以外は実施例3と同様にして、基材フィルムLを作製した。基材フィルムLの長手方向の寸法変化率および短手方向の寸法変化率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムLを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムLの片側にハードコート層が形成された光学フィルム14を得た。上記光学フィルム14を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Example 14>
1. 1. Preparation of Base Film A base film L was prepared in the same manner as in Example 3 except that the stretching temperature of the extruded film was 150 ° C. The dimensional change rate in the longitudinal direction and the dimensional change rate in the lateral direction of the base film L were measured. The results are shown in Table 1.
2. 2. Preparation of Optical Film An optical film 14 having a hard coat layer formed on one side of the base film L was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base film L was used. The optical film 14 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<比較例1>
1.基材フィルムの作製
押出フィルムの延伸温度を130℃としたこと以外は実施例3と同様にして、基材フィルムMを作製した。基材フィルムMの長手方向の寸法変化率および短手方向の寸法変化率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムMを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムMの片側にハードコート層が形成された光学フィルム15を得た。上記光学フィルム15を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Comparative Example 1>
1. 1. Preparation of Base Film A base film M was prepared in the same manner as in Example 3 except that the stretching temperature of the extruded film was set to 130 ° C. The dimensional change rate in the longitudinal direction and the dimensional change rate in the lateral direction of the base film M were measured. The results are shown in Table 1.
2. 2. Preparation of Optical Film An optical film 15 having a hard coat layer formed on one side of the base film M was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base film M was used. The optical film 15 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<比較例2>
1.基材フィルムの作製
押出フィルムの延伸温度を140℃としたこと以外は実施例3と同様にして、基材フィルムNを作製した。基材フィルムNの長手方向の寸法変化率および短手方向の寸法変化率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムNを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムNの片側にハードコート層が形成された光学フィルム16を得た。上記光学フィルム16を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Comparative Example 2>
1. 1. Preparation of Base Film A base film N was prepared in the same manner as in Example 3 except that the stretching temperature of the extruded film was 140 ° C. The dimensional change rate in the longitudinal direction and the dimensional change rate in the lateral direction of the base film N were measured. The results are shown in Table 1.
2. 2. Preparation of Optical Film An optical film 16 having a hard coat layer formed on one side of the base film N was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base film N was used. The optical film 16 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<比較例3>
上記基材フィルムNの片側に、組成物Bを塗布して乾燥および硬化させることによりハードコート層を形成したこと以外は比較例2と同様にして、基材フィルムNの片側にハードコート層が形成された光学フィルム17を得た。上記光学フィルム17を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Comparative Example 3>
The hard coat layer is formed on one side of the base film N in the same manner as in Comparative Example 2 except that the hard coat layer is formed by applying the composition B to one side of the base film N and drying and curing the composition B. The formed optical film 17 was obtained. The optical film 17 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<比較例4>
上記基材フィルムNの片側に、組成物Cを塗布して乾燥および硬化させることにより防眩層を形成したこと以外は比較例2と同様にして、基材フィルムNの片側に防眩層が形成された光学フィルム18を得た。上記光学フィルム18を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Comparative Example 4>
The antiglare layer is formed on one side of the base film N in the same manner as in Comparative Example 2 except that the antiglare layer is formed by applying the composition C to one side of the base film N and drying and curing the composition C. The formed optical film 18 was obtained. The optical film 18 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

<比較例5>
1.基材フィルムの作製
コアシェル型粒子の配合量を3重量部としたこと、および押出フィルムの延伸温度を140℃としたこと以外は実施例3と同様にして、基材フィルムOを作製した。基材フィルムOの長手方向の寸法変化率および短手方向の寸法変化率を測定した。結果を表1に示す。
2.光学フィルムの作製
上記基材フィルムOを用いたこと以外は実施例1と同様にして、基材フィルムOの片側にハードコート層が形成された光学フィルム19を得た。上記光学フィルム19を密着性評価に供した。結果を表1に示す。
<Comparative Example 5>
1. 1. Preparation of Base Film A base film O was prepared in the same manner as in Example 3 except that the blending amount of the core-shell type particles was 3 parts by weight and the stretching temperature of the extruded film was 140 ° C. The dimensional change rate in the longitudinal direction and the dimensional change rate in the lateral direction of the base film O were measured. The results are shown in Table 1.
2. 2. Preparation of Optical Film An optical film 19 having a hard coat layer formed on one side of the base film O was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base film O was used. The optical film 19 was subjected to adhesion evaluation. The results are shown in Table 1.

Figure 0007083340000003
Figure 0007083340000003

表1から明らかなように、長手方向の寸法変化率および短手方向の寸法変化率が-2.0%~0%である基材フィルムを用いた実施例1~14の光学フィルムは、表面処理層の基材フィルムに対する密着性が高かった。 As is clear from Table 1, the optical films of Examples 1 to 14 using the base film having the dimensional change rate in the longitudinal direction and the dimensional change rate in the lateral direction are -2.0% to 0% have surfaces. The adhesion of the treated layer to the base film was high.

本発明の光学フィルムは、偏光子の保護層として好適に用いられる。保護層として本発明の光学フィルムを有する偏光板は、画像表示装置に好適に用いられる。上記のような画像表示装置は、携帯情報端末(PDA)、スマートフォン、携帯電話、時計、デジタルカメラ、携帯ゲーム機などの携帯機器;パソコンモニター,ノートパソコン,コピー機などのOA機器;ビデオカメラ、テレビ、電子レンジなどの家庭用電気機器;バックモニター、カーナビゲーションシステム用モニター、カーオーディオなどの車載用機器;デジタルサイネージ、商業店舗用インフォメーション用モニターなどの展示機器;監視用モニターなどの警備機器;介護用モニター、医療用モニターなどの介護・医療機器;などの各種用途に用いることができる。 The optical film of the present invention is suitably used as a protective layer for a polarizing element. The polarizing plate having the optical film of the present invention as a protective layer is suitably used for an image display device. Image display devices such as those described above are portable devices such as mobile information terminals (PDAs), smartphones, mobile phones, watches, digital cameras, and portable game machines; OA devices such as personal computer monitors, laptop computers, and copy machines; video cameras, Household electrical equipment such as TVs and microwaves; in-vehicle equipment such as back monitors, car navigation system monitors, and car audio; exhibition equipment such as digital signage and commercial store information monitors; security equipment such as monitoring monitors; It can be used for various purposes such as nursing care / medical equipment such as nursing care monitors and medical monitors.

10 基材フィルム
20 表面処理層
100 光学フィルム
10 Base film 20 Surface treatment layer 100 Optical film

Claims (7)

アクリル系樹脂を含有する延伸フィルムである基材フィルムと、該基材フィルムの片側に形成された表面処理層と、を含む光学フィルムであり、
前記光学フィルム中の基材フィルムは、10cm×10cmに裁断して粘着材を介してガラス板に貼り合わせた状態で100℃/120時間静置した際の寸法変化率が-2.0%~0%であり、
前記表面処理層が、前記基材フィルム上に塗布された樹脂組成物の硬化層である、光学フィルム。
An optical film including a base film which is a stretched film containing an acrylic resin and a surface treatment layer formed on one side of the base film.
The base film in the optical film has a dimensional change rate of −2.0% or more when it is cut into 10 cm × 10 cm and left to stand at 100 ° C./120 hours in a state where it is attached to a glass plate via an adhesive material. 0% ,
An optical film in which the surface treatment layer is a cured layer of a resin composition coated on the base film.
前記基材フィルムが、前記アクリル系樹脂と、該アクリル系樹脂に分散されたコアシェル型粒子と、を含む、請求項1に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1, wherein the base film comprises the acrylic resin and core-shell type particles dispersed in the acrylic resin. 前記基材フィルムが、前記アクリル系樹脂100重量部に対して、前記コアシェル型粒子を5重量部~50重量部含有する、請求項2に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 2, wherein the base film contains 5 parts by weight to 50 parts by weight of the core-shell type particles with respect to 100 parts by weight of the acrylic resin. 前記アクリル系樹脂が、グルタルイミド単位、ラクトン環単位、無水マレイン酸単位、マレイミド単位および無水グルタル酸単位からなる群から選択される少なくとも1つを有する、請求項1から3のいずれかに記載の光学フィルム。 The invention according to any one of claims 1 to 3, wherein the acrylic resin has at least one selected from the group consisting of a glutarimide unit, a lactone ring unit, a maleic anhydride unit, a maleimide unit and a glutaric anhydride unit. Optical film. 前記表面処理層が、ハードコート層、防眩層および反射防止層からなる群から選択される少なくとも1つである、請求項1からのいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to any one of claims 1 to 4 , wherein the surface treatment layer is at least one selected from the group consisting of a hard coat layer, an antiglare layer and an antireflection layer. 偏光子と、該偏光子の片側に配置された保護層と、を含み、
前記保護層が請求項1からのいずれかに記載の光学フィルムである、偏光板。
Includes a polarizing element and a protective layer disposed on one side of the polarizing element.
A polarizing plate in which the protective layer is the optical film according to any one of claims 1 to 5 .
請求項に記載の偏光板を備える、画像表示装置。 An image display device including the polarizing plate according to claim 6 .
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