JP7077727B2 - 光偏向素子 - Google Patents

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Description

本発明は、光偏向素子に関する。
非特許文献1には、大規模ナノフォトニックアレイを用いたアンテナが開示されている。このようなアンテナは、測定対象物との距離を測定するレーザレーダ装置に適用される。
Large-scale nanophotonic phased array(Nature Vol.493, P195-199, 2013)
しかしながら、非特許文献1に開示されたアンテナは、ナノフォトニックアレイのピッチが大きいので、所望方向以外にも強い指向性を有するグレーティングローブと呼ばれるビームが発生しやすいという問題があり、その結果、レーザレーダ装置のスキャン角が狭くなるおそれがあった。
また、レーザによる走査方向が、1次元、例えばX軸方向及びY軸方向のいずれか一方向に限定されるという問題があった。
本発明は、上記に示した問題点を鑑みてなされたものであり、従来よりも簡便な構造で、グレーティングローブの発生を抑制すると共に、レーザ光を2次元で偏向可能な光偏向素子を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、レーザ光源から出力されたレーザ光を複数の光路に分配する分配器と、不純物半導体で構成され、レーザ光を前記光路に導く導波路と、通電により前記光路を通過するレーザ光の位相を変化させる移相器と、前記分配器で複数の光路に分配されたレーザ光を散乱させて出射すると共に、通電により屈折率が変更可能な回折格子と、前記導波路の前記分配器側にビアを介して電気的に接続された第1電極と、前記回折格子のレーザ光が入射する側の端部とは反対側の端部を越えて延伸された前記導波路の前記反対側の端部に、ビアを介して電気的に接続された第2電極と、を備え、前記第1電極及び前記第2電極を介した前記導波路及び前記回折格子への通電により、前記導波路及び前記回折格子の各々の屈折率を変化させる。
請求項2に記載の発明は、前記回折格子は、導電性を有する不物半導体の薄膜の上に、前記薄膜と同じ不純物半導体で構成され、前記薄膜への通電で前記薄膜と共に発熱することにより、前記屈折率を変更する。
請求項3に記載の発明は、前記第1電極及び前記第2電極から通電された電流が前記導波路及び前記薄膜を介して前記回折格子に供給される。
また、請求項4に記載の発明のように、前記移相器は、前記導波路を加熱するヒータを含む構成でもよい。
また、請求項に記載の発明のように、前記回折格子の上層に、前記回折格子よりも屈折率が高く、かつ前記回折格子に対応するピッチを有する他の回折格子を備えてもよい。
また、請求項に記載の発明のように、前記回折格子の下層に、前記回折格子よりも屈折率が高く、かつ前記回折格子に対応するピッチを有する回折格子を備えてもよい。
以上説明したように、従来よりも簡便な構造で、グレーティングローブの発生を抑制すると共に、レーザ光を2次元で偏向可能になる、という効果を奏する。
本発明の第1の実施の形態に係る光偏向素子の構成例を示す図である。 本発明の第1の実施の形態に係る光偏向素子の動作原理を示した説明図である。 (A)は、一方のヒータを発熱させると共に、半導体薄膜に電流を通電した場合のレーザ光の出射方向を示した概略図であり、(B)は、他方のヒータを発熱させると共に、半導体薄膜に電流を通電した場合のレーザ光の出射方向を示した概略図である。 本発明の第1の実施の形態に係る光偏向素子の製造工程を示した説明図である。 本発明の第2の実施の形態に係る光偏向素子の回折格子に係る部分を示した概略図である。 本発明の第3の実施の形態に係る光偏向素子の概略図である。 本発明の第4の実施の形態に係る光偏向素子の概略図である。 本発明の第4の実施の形態に係る光偏向素子の電極及び導波路の位置関係を示した斜視図である。 本発明の第5の実施の形態に係る光偏向素子の概略図である。 図9のA-A線で位相変調器を切断した場合の断面図である。
[第1の実施の形態]
以下、図面を参照して本発明の第1の実施の形態を詳細に説明する。図1は、本実施の形態に係る光偏向素子10の構成例を示す図である。光偏向素子10は、レーザレーダ装置の光フェーズドアレイアンテナ等に用いられる素子である。
図1に示すように、光偏向素子10は、レーザ光源(図示せず)から照射されたレーザ光を後述する回折格子40まで導く導波路32と、導波路32を加熱するヒータ38A、38Bと、回折効果により散乱させたレーザ光を測定対象物(図示せず)に投光する回折格子40と、を含む。
導波路32は、ヒータ38A、38Bの手前で複数の導波路32-1~32-8に分岐し、レーザ光を分配する分配器として機能する。以下では、導波路32-1から導波路32-8を一括して「導波路32」と称する場合がある。
導波路32-1~32-8の端部には回折格子40が各々設けられている。導波路32を伝播した送信光は、回折格子40から測定対象物に向けて放射される。
また、ヒータ38A、38Bに通電して導波路32を加熱することにより、導波路32を伝播する光の屈折率を変化させ、複数の回折格子40(回折格子アレイ)から放射される光の方向を変えることができる。
ヒータ38Aは、導波路32-1から導波路32-8に向かうに従って、導波路32を加熱する面積が大きくなるような形状を有する。一例として、図1ではヒータ38Aが三角形の形状である場合について示した。逆に、ヒータ38Bは、導波路32-1から導波路32-8に向かうに従って、導波路32を加熱する面積が小さくなるような形状を有する。一例として、図1ではヒータ38Bが逆三角形の形状である場合について示した。ヒータ38A、38Bは、Si基板上にチタン、白金等の導電率が比較的低い金属を蒸着して生成してもよいし、P型半導体又はN型半導体等の不純物半導体で構成してもよい。
導波路32を構成するSiO2の光の屈折率は、導波路32に供給される熱量(ヒータ38A、38Bの発熱量)に比例して増大する。従って、ヒータ38A、38Bにより導波路32が加熱されると、ヒータ38A、38Bの発熱量に対して導波路32を通過する光の位相が線形的に変化し、結果的に、ヒータ38A、38Bは光の位相を変化させる移相器として機能する。その結果、導波路32-1~32-8の各々から放射されるレーザ光は、加熱によって増大した屈折率に応じて伝播方向が変化する。
回折格子40の基部には、Si単結晶にホウ素又はアルミニウム等の微量の三価元素を添加(ドープ)して得たP型半導体の薄膜が設けられており、P型半導体の薄膜上にはP型半導体で構成された回折格子40が設けられている。当該薄膜に電流Iが通電されると、薄膜と回折格子40にはジュール熱が生じる。かかるジュール熱により、回折格子40の屈折率は回折格子40のピッチ(回折格子の各格子の間隔)が変化した場合と同様に変化し、レーザ光の伝播方向が変化する。電流Iの通電方向は、図1の方向に限定されず、図1とは逆方向の通電でもよい。
回折格子40の基部に設けられる不純物半導体の薄膜は、N型半導体でもよい。かかる場合には、Si単結晶にリン又はヒ素等の微量の五価元素をドープすることにより、N型半導体の薄膜を得る。
図2は、本実施の形態に係る光偏向素子10の動作原理を示した説明図である。図2に示したように、回折格子40は、P型半導体又はN型半導体で構成された半導体薄膜42の上に設けられている。
ヒータ38A、38Bが作動(発熱)せず、半導体薄膜42に電流Iが通電されない場合、導波路32に入射したレーザ光は、出射方向44に示したY軸に平行となる。図2では、出射方向44のY軸は、半導体薄膜42及び回折格子40の上端部の各面に対して略垂直に描かれている。実際には、出射方向44のY軸は、回折格子40のピッチ等の要素が影響し、半導体薄膜42及び回折格子40の上端部の各面に対して略垂直とはならないが、ヒータ38A、38B及び電流Iの通電の効果の説明を簡易化するために、便宜上は略垂直であるとする。
図2において、ヒータ38A、38Bを発熱させると、導波路32の屈折率の増大により、出射方向44は、X軸方向に変化する。また、半導体薄膜42に電流Iを通電すると、出射方向44は、Z軸方向に変化する。
図3(A)は、ヒータ38Aを発熱させると共に、半導体薄膜42に電流Iを通電した場合のレーザ光の出射方向44を示した概略図であり、図3(B)は、ヒータ38Bを発熱させると共に、半導体薄膜42に電流Iを通電した場合のレーザ光の出射方向44を示した概略図である。
図3(A)、(B)に示したように、半導体薄膜42に電流Iを通電すると、回折格子40の屈折率が変化し、レーザ光の出射方向44は、Z+方向にシフトする。かかる状態で、ヒータ38Aを発熱させると、レーザ光の出射方向44は、X+方向にシフトし、図3(A)に示したような態様となる。また、ヒータ38Bを発熱させると、レーザ光の出射方向44は、X-方向にシフトし、図3(B)に示したような態様となる。
本実施の形態では、ヒータ38A、38Bの通電と、半導体薄膜42への通電を制御することにより、レーザ光を様々な方向へ投光することが可能となる。
図4は、本実施の形態に係る光偏向素子10の製造工程を示した説明図である。図4(A)に示したように第1Si層50に第1SiO2層と第2Si層54とを積層させてウエハ状のSOI基板を作成する。次に、図4(B)に示したように、第2Si層54上の一部をフォトレジスト56でマスクする。さらに、図4(C)に示したように、イオン58をドープして、第2Si層54の一部を不純物半導体にする。第2Si層54を、P型半導体にする場合は、アルミニウム又はホウ素等のイオンをドープし、N型半導体にする場合は、リン又はヒ素等のイオンをドープする。
図4(D)の工程では、フォトレジスト56を除去し、基板を加熱するアニーリングにより、残存するフォトレジスト56を完全に除去する。図4(E)に示した工程では、第2Si層54のイオン58をドープした部分をフォトレジスト60でマスクした後、図4(F)に示したように、ドライエッチングでフォトレジスト60によって保護されていない第2Si層54を除去し、さらにフォトレジスト60を除去して、不純物半導体層62を生成する。
図4(G)に示した工程では、回折格子40のパターンとなるように、不純物半導体層62の表面をフォトレジスト64でマスクし、図4(H)に示したように、ドライエッチングを行って、格子66と半導体薄膜68とを生成する。
図4(I)に示した工程では、フォトレジスト64を除去後、第1SiO2層52、半導体薄膜68、格子66上に、CVD(Chemical Vapor Deposition:プラズマ化学気相成長)等によって第2SiO2層70を堆積させる。図4(J)に示した工程では、エッチングにより第2SiO2層70を蝕刻して、コンタクトホール72を形成する。
図4(K)に示した工程では、半導体薄膜68と電気的に接続するようにスパッタリング等によってアルミ層74を堆積させ、図4(L)に示した工程では、エッチングでアルミ層74の一部を除去し、半導体薄膜68と電気的に接続された電極74A、74Bを各々生成して、光偏向素子10を製造する。
以上説明したように、本実施の形態に係る光偏向素子10は、Si基板を、半導体素子の製造で一般に用いられるフォトリソグラフィにより製造する。フォトリソグラフィであれば、精密かつ微細な回折格子40の製造は容易であり、簡易な方法で、グレーティングローブの発生を抑制することができる。また、ヒータ38A、38B及び半導体薄膜42への電流Iの通電により、レーザ光を2次元で偏向させることができる。
[第2の実施の形態]
続いて本発明の第2の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第1回折格子40A、と第2回折格子40Bとを備える点で第1の実施の形態と相違するが、その他の構成については第1の実施の形態と同じなので、その他の構成についての詳細な説明は省略する。
図5は、本実施の形態に係る光偏向素子の回折格子に係る部分を示した概略図である。図5に示したように、本実施の形態に係る光偏向素子は、第1の実施の形態と同様に、電流Iが通電される半導体薄膜42上に設けられた第1回折格子40Aの上に第1回折格子40Aより屈折率が高く、かつ第1回折格子40Aに対応するピッチを有する第2回折格子40Bが設けられている。
第1回折格子40Aで散乱されたレーザ光は、第2回折格子40Bによってさらに散乱されるので、第1の実施の形態に係る光偏向素子10よりも、広範囲にレーザ光を拡散させることができる。
また、第1の実施の形態と同様に、半導体薄膜42に電流Iを通電することにより、レーザ光の出射方向44を、図3のようにZ+方向にシフトさせることができる。
[第3の実施の形態]
続いて本発明の第3の実施の形態について説明する。本実施の形態は、回折格子40の下層に、回折格子40より屈折率が高く、かつ第1回折格子40Aに対応するピッチを有する反射回折格子40Cを備える点で第1の実施の形態と相違するが、その他の構成については第1の実施の形態と同じなので、その他の構成についての詳細な説明は省略する。
図6は、本実施の形態に係る光偏向素子の概略図である。導波路32から入射したレーザ光は、回折格子40で散乱され、出射方向44に出射されるが、レーザ光の一部は半導体薄膜42を透過して、出射方向44には出射されず、結果として、回折格子40から出射されるレーザ光の強度が低下する場合がある。
本実施の形態に係る光偏向素子は、半導体薄膜42を透過したレーザ光を反射回折格子40Cで反射して出射方向44に出射させることにより、回折格子40から出射されるレーザ光の強度の低下を抑制することができる。
また、第1の実施の形態と同様に、半導体薄膜42に電流Iを通電することにより、レーザ光の出射方向44を、図3のようにZ+方向にシフトさせることができる。また、ヒータ38A、38Bを制御することにより、レーザ光の出射方向44を図3のように、X+方向又はX-方向にシフトさせることができる。
[第4の実施の形態]
続いて本発明の第4の実施の形態について説明する。本実施の形態は、電極172A、172Bと、P型又はN型の不純物半導体で構成され、電極172Aから電極172Bに電流Iが通電される導波路178を有する点で第1の実施の形態と相違するが、その他の構成については第1の実施の形態と同じなので、その他の構成についての詳細な説明は省略する。
図7は、本実施の形態に係る光偏向素子の概略図である。電極172Aから導波路178を介して電極172Bに電流Iが通電されると、回折格子40の屈折率が変化して、回折格子40から出射されるレーザ光の出射方向44を、図3のようにZ+方向にシフトさせることができる。また、第1の実施の形態と同様に、ヒータ38A、38Bを制御することにより、レーザ光の出射方向44を図3のように、X+方向又はX-方向にシフトさせることができる。
図8は、本実施の形態に係る光偏向素子の電極172A、172B及び導波路178の位置関係を示した斜視図である。図8では、電極172A、172B及び導波路178の位置関係を明確にするため、光偏向素子を構成するSi基板、SiO2層等の図示を省略している。
電流Iが電極172Aから通電された場合、電流Iは、アルミビア174を介しレーザ光を分岐させる方向性結合器180近くで導波路178に流れ、アルミビア176を介して電極172Bに流れるようになっている。電流Iは、電極172Bから通電され、アルミビア176を介して導波路178に流れ、アルミビア174を介して電極172Aに流れるようでもよい。
導波路178を流れる電流Iにより、導波路178は加熱され、屈折率が変化する。また、導波路178を流れる電流Iの一部は、半導体薄膜42を介して不純物半導体で構成された回折格子40にも流れ、ジュール熱を生じさせる。その結果、レーザ光の出射方向44をZ軸方向にシフトさせることが可能になる。
以上説明したように、本実施の形態によれば、導電性を有する導波路178に通電することにより、導波路178の屈折率と回折格子40の屈折率を変更でき、グレーティングローブの発生を抑制すると共に、レーザ光を2次元で偏向することができる。
本実施の形態に係る光偏向素子は、第2の実施の形態のように、回折格子40の上層に第2回折格子40Bを備えていてもよい。また、第3の実施の形態のように、回折格子40の下層に、反射回折格子40Cを備えていてもよい。
[第5の実施の形態]
続いて本発明の第5の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第1の実施の形態の導波路32及びヒータ38A、38Bに代えて、位相変調器130を有する点で第1の実施の形態と相違するが、その他の構成については第1の実施の形態と同じなので、その他の構成についての詳細な説明は省略する。
図9は、本実施の形態に係る光偏向素子の概略図である。後述するように、位相変調器130は、導波路132(132-1~132-8)にSiのN型拡散領域132AとSiのP型拡散領域132Bとで構成されたPN接合を含み、当該PN接合に通電するためのN電極138A、P電極138Bを有している。
図10は、図9のA-A線で位相変調器130を切断した場合の断面図である。位相変調器130は、一例として、Siの基板134、Siの導波路132、導波路132の両側に配置されたSiのN型拡散領域132A、SiのP型拡散領域132B、SiO2で構成されたクラッド136、およびN電極138A、P電極138Bを含んで構成されている。
導波路132内には、N型拡散領域132A及びP型拡散領域132BによるPN接合が形成されており、N電極138A及びP電極138Bを介して該PN接合に電流を流すことにより、導波路132を伝搬する光の位相を変えることができ、結果的に、レーザ光の出射方向44をX軸方向にシフトさせる。
第1の実施の形態等のヒータ38A、38Bに白金等の希少金属を使用した場合、製品の製造コストが嵩むが、本実施の形態では、リソグラフィーによって容易かつ安価に形成できるPN接合によるので、第1の実施の形態よりも製品の製造コストを抑制することが可能になる。
本実施の形態では、N型拡散領域132A及びP型拡散領域132Bを共にP型半導体、又はN型半導体で構成し、PP接合又はNN接合で導波路132を形成してもよい。
本実施の形態に係る光偏向素子は、第2の実施の形態のように、回折格子40の上層に第2回折格子40Bを備えていてもよい。また、第3の実施の形態のように、回折格子40の下層に、反射回折格子40Cを備えていてもよい。
なお、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能であることはいうまでもない。
10 光偏向素子
32 導波路
38A、38B ヒータ
40、40A、40B 回折格子
40C 反射回折格子
42 半導体薄膜
44 出射方向
130 位相変調器
132 導波路
132A N型拡散領域
132B P型拡散領域
138A N電極
138B P電極
172A、172B 電極
174、176 アルミビア
178 導波路
180 方向性結合器
I 電流

Claims (6)

  1. レーザ光源から出力されたレーザ光を複数の光路に分配する分配器と、
    不純物半導体で構成され、レーザ光を前記光路に導く導波路と、
    通電により前記光路を通過するレーザ光の位相を変化させる移相器と、
    前記分配器で複数の光路に分配されたレーザ光を散乱させて出射すると共に、通電により屈折率が変更可能な回折格子と、
    前記導波路の前記分配器側にビアを介して電気的に接続された第1電極と、
    前記回折格子のレーザ光が入射する側の端部とは反対側の端部を越えて延伸された前記導波路の前記反対側の端部に、ビアを介して電気的に接続された第2電極と、
    を備え、
    前記第1電極及び前記第2電極を介した前記導波路及び前記回折格子への通電により、前記導波路及び前記回折格子の各々の屈折率を変化させる光偏向素子。
  2. 前記回折格子は、導電性を有する不純物半導体の薄膜の上に、前記薄膜と同じ不純物半導体で構成され、前記薄膜への通電で前記薄膜と共に発熱することにより、前記屈折率を変更する請求項1に記載の光偏向素子。
  3. 前記第1電極及び前記第2電極から通電された電流が前記導波路及び前記薄膜を介して前記回折格子に供給される請求項2に記載の光偏向素子。
  4. 前記移相器は、前記導波路を加熱するヒータを含む請求項1~3のいずれか1項に記載の光偏向素子。
  5. 前記回折格子の上層に、前記回折格子より屈折率が高く、かつ、前記回折格子に対応するピッチを有する他の回折格子を備えた請求項1~4のいずれか1項に記載の光偏向素子。
  6. 前記回折格子の下層に、前記回折格子より屈折率が高く、かつ、前記回折格子に対応するピッチを有する他の回折格子を備えた請求項1~4のいずれか1項に記載の光偏向素子。
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