JP7067181B2 - プラント制御調整装置 - Google Patents

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Description

本発明は、プラント設備におけるプラント制御調整装置に関する。
PIDコントローラの調整は、まず、プラント出力(計測値)の参照先である目標応答を定め、この目標応答の実現に最も近いパラメータへと最適化している(下記特許文献1,2)。
このとき、規範モデルは必ず1次遅れのN乗の形で表されることで、目標応答が絶対にオーバーシュートしないように定義されている。
特願2017‐075036 特願2017‐118335
実際の現場では、高速な応答を実現する調整が要求される場合がある。このような場合、高速な立ち上がりが得られるような最適化設定を作業者が組むことで対応可能ではあるが、目標応答の波形そのものはオーバーシュートが発生しない状態のままであるため、必ずしも狙い通りの応答が得られるとは限らず、最適化設定そのものにもコツが必要になってしまう。また、最適化前に波形を見ながら作業者が予想を付けるのは難しい。
本発明は、上記技術的課題に鑑み、高速な応答に対応した目標応答を生成することができるプラント制御調整装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するための第1の発明に係るプラント制御調整装置は、
プラントにフィードバック接続されるPIDコントローラの制御パラメータを調整するプラント制御調整装置であって、
前記PIDコントローラから出力される操作量、及び、前記プラントの計測値に基づき、前記プラントの伝達関数を求める同定部と、
時定数及び前記伝達関数に基づき規範モデルを生成し、該規範モデルに単位ステップ入力を行うことで目標応答を生成する条件設定部と、
前記目標応答に基づき、前記制御パラメータを調整するパラメータ最適化部とを備え、
前記条件設定部は、前記目標応答がオーバーシュートするように前記規範モデルを生成する
ことを特徴とする。
上記課題を解決するための第2の発明に係るプラント制御調整装置は、
上記第1の発明に係るプラント制御調整装置において、
前記条件設定部は、下記(A)式、下記(B)式及び下記(C)式に基づき前記規範モデルを生成する
ことを特徴とする。
Figure 0007067181000001
ただし、P(s):前記規範モデル、Tref:前記時定数、N:前記伝達関数から決まる次数、L:前記伝達関数から決まるむだ時間、ξ:減衰係数
上記課題を解決するための第3の発明に係るプラント制御調整装置は、
上記第2の発明に係るプラント制御調整装置において、
前記条件設定部は、下記(D)式及び下記(E)式に基づき前記減衰係数を算出する
ことを特徴とする。
Figure 0007067181000002
上記課題を解決するための第4の発明に係るプラント制御調整装置は、
上記第2又は3の発明に係るプラント制御調整装置において、
前記条件設定部は、前記時定数が所定値以上か否かを判断し、該所定値未満の場合は、下記(F)式に基づき前記規範モデルを生成し、該所定値以上の場合は、前記(A)式、前記(B)式及び前記(C)式に基づき前記規範モデルを生成する
ことを特徴とする。
Figure 0007067181000003
上記課題を解決するための第5の発明に係るプラント制御調整装置は、
上記第4の発明に係るプラント制御調整装置において、
前記所定値は、システム同定によって得られたシステム全体の時定数、あるいは、カスケード接続など、システム全体が複数ループによって成立している場合においては、最も高速なループシステムの時定数を用いる
ことを特徴とする。
本発明に係るプラント制御調整装置によれば、高速な応答に対応した目標応答を生成することができる。
本発明の実施例1に係るプラント制御調整装置とPIDコントローラとプラントとの関係性を示すブロック図である。 本発明の実施例1に係るプラント制御調整装置の構成を示すブロック図である。 2次の目標応答が時定数の値によって変化する様子を表すグラフである。 時定数の値を固定した目標応答が、次数の値によって変化する様子を表すグラフである。 伝達関数を基に目標応答を作成し、次数を固定して減衰係数を変化させた様子を表すグラフである。 伝達関数を基に目標応答を作成し、減衰係数を固定して次数を増加させた様子を表すグラフである。 伝達関数を基に目標応答を作成し、次数を増加させ減衰係数を低下させた様子を表すグラフである。 本発明の実施例1に係るプラント制御調整装置によるオーバーシュート有りの目標応答、及び、オーバーシュート無しの目標応答それぞれの、単位ステップ応答との差の一例を表すグラフである。
以下、本発明に係るプラント制御調整装置について、実施例にて図面を用いて説明する。
[実施例1]
本実施例に係るプラント制御調整装置の構成について説明する。まず、図1は、本実施例に係るプラント制御調整装置とPIDコントローラとプラントとの関係性を示すブロック図である。
図1に示すように、PIDコントローラ1及びその制御対象であるプラント2はシングルループ接続され、フィードバック制御系のシステムを構成している。本実施例に係るプラント制御調整装置(プラント制御調整装置10)は、このフィードバック制御系のシステムに接続されるものである。
図1に示すフィードバック制御系では、まず作業者により、PIDコントローラ1に設定値SVが入力される。PIDコントローラ1は、設定値SVに基づきプラント2へ指令値(操作量MV)を出力し、操作量MVが入力されたプラント2のプラント出力(計測値PV)に基づき、操作量MVを変更する。
プラント制御調整装置10は、操作量MV及び計測値PVを同時に受信し、システム同定及び最適化を行って得られたPIDパラメータ(制御パラメータ)を、PIDコントローラ1に送信するものである。
図2は、プラント制御調整装置10の構成を示すブロック図である。図2に示すように、プラント制御調整装置10は、データ入力部11、設定読込部12、設定入力部13、記憶部14、条件記憶部14a、同定部15、及び、最適化部16を備えている。
データ入力部11は、図1に記載したPIDコントローラ1から、計測値PV及び操作量MVのデータを読み込む。また、設定読込部12は、PIDコントローラ1からコントローラ内の設定を読み込む。なお、この「設定」とは、制約条件の基となるパラメータ上・下限値、MVリミッタ、及び、レートリミッタ等を指す。
設定入力部13は、予め作業者によって各条件が入力される。入力された各条件は、条件記憶部14aに保存される。この「各条件」とは、PIDコントローラ1のパラメータに対し設定可能な範囲、設定読込部12で読み込まなかった分の各種設定、最適化手法(例えばPSO(粒子群最適化))、及び、最適化そのもののパラメータ(粒子数、反復回数、探索の慣性等)となる条件設定を指す。制約条件は、MV係数、位相余裕、終点誤差係数等の条件群である。なお、上記データ入力部11は、この設定入力部13において作業者が入力していない条件を読み込む仕様になっている。
そして、データ入力部11に入力された上記データは、記憶部14に保存され、設定読込部12及び設定入力部13に入力された上記設定及び上記各条件は、記憶部14内の特に条件記憶部14aに保存される。
同定部15は、上述のごとくデータ入力部11に入力され記憶部14に保存されたデータである計測値PV及び操作量MVから、プラント2のシステム同定を行う。同定されたプラントモデルすなわち伝達関数は、最適化部16内の条件設定部17へ出力する。
最適化部16は、同定部15から入力した伝達関数に基づき、PIDコントローラ1の各制御パラメータを調整するものであり、条件設定部17及びパラメータ最適化部18を備えている。
条件設定部17は、時定数を決定し、決定した時定数及び同定部15から入力した伝達関数に基づき、伝達関数及びPIDコントローラ1をひっくるめた規範モデルを生成する。なお、時定数の決定は、作業者が決定するものであっても、あるいは特願2017‐075036に説明しているように自動的に決定するものであってもよい。
条件設定部17は、規範モデルに単位ステップ入力を行うことで、計測値PVの参照先である目標応答を生成し、生成した目標応答を、記憶部14及びパラメータ最適化部18に出力する。また、条件設定部17は、設定(設定読込部12及び設定入力部13から入力した上述の設定)に基づき、制約条件を決定する。
そして、条件設定部17は、条件記憶部14aから入力した上記設定以外の上記各条件に基づき、重点的にパラメータ探索を行う範囲(重点探索範囲)を決定する。例えば、初期値としてジーグラー・ニコルス法(ZN法)等の古典的経験的手法によって求められる解を中心に展開する。これは伝達関数に応じて計算し決定する。さらに条件設定部17は、解の初期配置を行う。すなわち、重点探索範囲内にランダムに複数の解を配置(初期解配置)する。この初期解配置は、パラメータ最適化部18へ出力する。なお、制約条件は条件設定部17からパラメータ最適化部18へ送られる。
パラメータ最適化部18は、上述した目標応答、初期解配置、制約条件、及び、上記各条件を用いて、評価及びパラメータ探索を行うことによって、PIDコントローラ1の各制御パラメータの調整(最適化)を行う。
以上がプラント制御調整装置10による主な処理の説明である。以下では、条件設定部17及びパラメータ最適化部18における処理についてさらに詳しく説明する。
まず、パラメータ最適化部18の処理について詳述する。
パラメータ最適化部18では、PIDコントローラ1の制御パラメータ(制御モデル)、及び、同定部15による伝達関数Gを用いて、図1の(現実の)構成に対応したシミュレーションモデルを構築し、このシミュレーションモデルに対して単位ステップ入力を行い、単位ステップ応答を求める(ステップ応答シミュレーション)。なお、制御モデルの初期値は、初期解配置に基づいて作成される。
また、上述のシミュレーションモデルの単位ステップ応答(の時系列データ)と、条件設定部17で求めた目標応答(の時系列データ)との残差平方和を演算し、これを最適化の評価関数とする。そして、上記最適化の評価関数に基づき、制御モデルのパラメータを変更する。
パラメータを変更した制御モデルに基づき、再度、上記ステップ応答シミュレーションから上記最適化の評価を行う。そして、これを繰り返し行うことで、PIDコントローラ1の最適な制御パラメータを求める。そして、最適化された制御パラメータは、図1のPIDコントローラ1に送信する。
次に、条件設定部17の処理(特に目標応答の生成)について詳述する。
一般的には、下記(1)式の伝達関数で表される規範モデルPのステップ応答を目標応答としている。
Figure 0007067181000004
上記規範モデルPのうち、NとLはそれぞれ次数とむだ時間であり、伝達関数(同定されたプラントモデル)の同パラメータより決まる。また、Trefはこの応答を決定する唯一のパラメータである時定数である。
図3は、上記(1)式によって生成した2次(N=2)の目標応答が時定数Trefの値によって変化する様子を表すグラフであり、縦軸が振幅、横軸が時間である。図3に示すように、時定数Trefが増加するにつれて目標応答の波形は緩やかになる(振幅0から1まで上昇するまでにかかる時間が長くなる)。
図4は、上記(1)式によって生成し、時定数Trefの値を固定した目標応答が、次数Nの値(1~5次)によって変化する様子を表すグラフであり、縦軸が振幅、横軸が時間である。図4に示すように、次数Nが増加するにつれて目標応答の波形は緩やかになる。
一方で、2次系の一般的な伝達関数Gは、下記(2)式で表される。
Figure 0007067181000005
ξは、減衰係数またはその由来から減衰比と呼ばれる定数である。減衰係数ξ=1のときに上記(2)式は上記(1)式がN=2のときと等しくなる。
図5は、伝達関数Gを基に目標応答を作成し、次数Nを固定して減衰係数ξを変化させた様子を表すグラフであり、縦軸が振幅、横軸が時間である。図5に示すように、ξが低下するにつれて目標応答の波形が振動的になる。特に、減衰係数ξを1より小さくすると、減衰が効きづらくなり、波形の振動が大きくなることにより、オーバーシュート(振幅が1より大きくなる状態)が発生する。
そこで、条件設定部17では、上記(1)式と上記(2)式とを組み合わせ、上記規範モデルPを下記(3)式で表現する。
Figure 0007067181000006
一般に、図1におけるプラント2は1次以上、PIDコントローラ1はI制御を用いる場合に1次となるので、システム全体では2次以上(2≦N)となる。よって、条件設定部17では、I制御が入る場合にのみ上記(3)式で表される規範モデルPを用いて、オーバーシュート有りの目標応答を生成する。
また、上記(3)式では、減衰係数ξの値がパラメータとして追加されているが、減衰係数ξは、1よりも小さく設定する。しかし、小さすぎるとあまりに振動的になること等を考慮し、特定の値、たとえば0.6といった数値を予め入れておく。
ただし、伝達関数Gを基に目標応答を作成し、減衰係数ξを固定して次数Nを増加させた様子(縦軸が振幅、横軸が時間)を表すグラフである図6のように、同じ減衰係数ξであっても規範モデルPの次数Nが増加するにつれて、オーバーシュートが弱まることになるため、条件設定部17では、次数Nの増加に応じて減衰係数ξを低下させる。
図7は、伝達関数Gを基に目標応答を作成し、次数Nを増加させ減衰係数ξを低下させた様子を表すグラフであり、縦軸が振幅、横軸が時間である。次数Nの増加に応じて減衰係数ξを低下させることで、図7のように、ある程度行き過ぎ量(オーバーシュートのピーク値)を維持することができる。よって、条件設定部17では、減衰係数ξを下記(4)式から算出する。
Figure 0007067181000007
高次系において上記(4)式を用いると減衰係数ξが0以下になるが、目標応答自体が低次系への近似を主体としており、単一時定数による応答波形(すなわち時定数Trefが一定の場合の応答波形)では、どうしても粗い近似となりずれが大きくなるため、上記(3)式自体を適用しない。したがって、上記(3),(4)式ではN<5とする。
このようにすることで、プラント制御調整装置10では、時定数Tref及び減衰係数ξのみで目標応答を構成することができ、かつ、その減衰係数ξは次数Nによって上記(4)式で決定されるため、オーバーシュート無しの目標応答を生成する場合と同じようにして、オーバーシュート有りの目標応答を生成することができる。
ただし、上記(4)式の右辺における「0.6」は既に述べたごとく一例である。したがって、上記(4)式の「0.6」をMとし、0.3≦M<1.0としてもよい。なお、このうち「1.0」については、上述の「減衰係数ξは、1よりも小さく設定する」との記載に基づくものであり、「0.3」については、仮にN=5を上記(4)式に代入した場合にξ=0となるようにした(上述のごとく実際にはN<5であり、N=5のときξ=0ならば、N<5のときξ<0となる)ものである。
図8は、プラント制御調整装置10によるオーバーシュート有りの目標応答、及び、オーバーシュート無しの目標応答それぞれの、単位ステップ応答(実応答)との差の一例を表すグラフであり、縦軸が出力値、横軸が時間である。図8中にあるように、実線がオーバーシュート有り(OS有り)の目標応答、一点鎖線がオーバーシュート無し(OS無し)の目標応答、破線が単位ステップ応答を示している。
図8の例では、オーバーシュート有りの目標応答を示す実線と、単位ステップ応答を示す破線との間の面積を100とすると、オーバーシュート無しの目標応答を示す一点鎖線と、単位ステップ応答を示す破線との間の面積は132.4となる。
この結果から、プラント制御調整装置10により生成したオーバーシュート有りの目標応答は、実際に計算するとオーバーシュートが発生するようなシステムにおいて、オーバーシュート無しの目標応答よりも、視覚的に良好な類似性を持ち、数値的にも良好な評価を得ることができることがわかる。
特に、応答波形の形状差によって一定の誤差が生じてしまい、設定以上の評価を得ることができない場合においても、評価設定自体の見直しが不要となり、最適化アルゴリズムが必要以上に演算することも抑制することができるため、制御パラメータ算出速度が向上する。
以上のように、プラント制御調整装置10では、制御パラメータの最適化アルゴリズムへ供する目標応答の生成において、従来どおりに1パラメータのみの設定で自動的に減衰係数を用いてオーバーシュートした波形を生成することができ、生成した波形を用いて最適化を行うことで、従来手法よりも視覚的及び数値的に良好な評価を得ることができ、制御パラメータ算出速度が向上する。
なお、本実施例では図1を用いてフィードバック系がシングルループ接続の場合を説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、カスケード接続の場合にも適用可能である。
このようにして本実施例では、PIDコントローラの入出力PV及びMVを用いて、システム同定及びPIDパラメータの最適化を行うプラント制御調整装置において、最適化の評価を行うために生成する目標応答を、オーバーシュートを敢えて発生させた状態の波形として生成させることで、どの程度の最適化を行うことができたのかを視覚的に把握しやすくし、より正確な評価を行うとともに、従来よりも高速に制御パラメータの算出を行うことができる。
[実施例2]
実施例1において、そもそもの目的は高速な応答を実現することであり、その場合、まず先に目標応答の時定数Trefを小さくすることによって、高速な目標応答を生成するので、時定数Trefがある一定の値を下回るときにのみ、実施例1の方式を用いてオーバーシュートを発生させる。
以下では、実施例1と異なる構成を中心に説明する。
プラント制御調整装置10は、条件設定部17において、実施例1で説明した時定数Trefの値が所定値以上か否かを判断する。
この所定値は、システム同定によって得られたシステム全体の時定数(プラント時定数)を用い、カスケード接続など、システム全体が複数ループによって成立している場合においては、最も高速なループシステムの時定数(最小のプラント時定数)を用いる。
時定数Trefが所定値未満であると判断した場合は実施例1で示した(1)式を用いて規範モデルPを生成し、時定数Trefの値が所定値以上であると判断した場合は、実施例1で示した(3),(4)式(ただし、減衰係数ξ<1、次数N<5)を用いて規範モデルPを生成する。
以上のようにして、プラント制御調整装置10によれば、オーバーシュートが不要な状況においては、従来どおりオーバーシュート無しの目標応答を生成することができる。
本発明は、プラント制御調整装置として好適である。
1 PIDコントローラ
2 プラント
10 プラント制御調整装置
11 データ入力部
12 設定読込部
13 設定入力部
14 記憶部
14a 条件記憶部
15 同定部
16 最適化部
17 条件設定部
18 パラメータ最適化部

Claims (4)

  1. プラントにフィードバック接続されるPIDコントローラの制御パラメータを調整するプラント制御調整装置であって、
    前記PIDコントローラから出力される操作量、及び、前記プラントの計測値に基づき、前記プラントの伝達関数を求める同定部と、
    時定数及び前記伝達関数に基づき規範モデルを生成し、該規範モデルに単位ステップ入力を行うことで目標応答を生成する条件設定部と、
    前記目標応答に基づき、前記制御パラメータを調整するパラメータ最適化部とを備え、
    前記条件設定部は、前記目標応答がオーバーシュートするように前記規範モデルを生成し、
    前記条件設定部は、下記(A)式、下記(B)式及び下記(C)式に基づき前記規範モデルを生成する
    ことを特徴とするプラント制御調整装置。
    Figure 0007067181000008
    ただし、P(s):前記規範モデル、Tref:前記時定数、N:前記伝達関数から決まる次数、L:前記伝達関数から決まるむだ時間、ξ:減衰係数
  2. 前記条件設定部は、下記(D)式及び下記(E)式に基づき前記減衰係数を算出する
    ことを特徴とする請求項に記載のプラント制御調整装置。
    Figure 0007067181000009
  3. 前記条件設定部は、前記時定数が所定値以上か否かを判断し、該所定値未満の場合は、下記(F)式に基づき前記規範モデルを生成し、該所定値以上の場合は、前記(A)式、前記(B)式及び前記(C)式に基づき前記規範モデルを生成する
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載のプラント制御調整装置。
    Figure 0007067181000010
  4. 前記所定値は、システム同定によって得られたシステム全体の時定数、あるいは、カスケード接続など、システム全体が複数ループによって成立している場合においては、最も高速なループシステムの時定数を用いる
    ことを特徴とする請求項に記載のプラント制御調整装置。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005258717A (ja) 2004-03-10 2005-09-22 Toshiba Corp 制御装置のパラメータ設定方法及び装置並びにプログラム
JP2007264720A (ja) 2006-03-27 2007-10-11 Yamatake Corp 状態判定装置および状態判定方法
JP6110503B2 (ja) 2013-09-24 2017-04-05 日立マクセル株式会社 テレビ通話装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06110503A (ja) * 1992-09-30 1994-04-22 Yamatake Honeywell Co Ltd 制御特性評価装置及びその方法及び制御特性最適化装置及びその方法
JP6165585B2 (ja) * 2013-10-11 2017-07-19 株式会社日立製作所 プラント制御装置の制御ゲイン最適化システム

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005258717A (ja) 2004-03-10 2005-09-22 Toshiba Corp 制御装置のパラメータ設定方法及び装置並びにプログラム
JP2007264720A (ja) 2006-03-27 2007-10-11 Yamatake Corp 状態判定装置および状態判定方法
JP6110503B2 (ja) 2013-09-24 2017-04-05 日立マクセル株式会社 テレビ通話装置

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