JP7054458B2 - 投影装置、投影制御方法及びプログラム - Google Patents
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Description
ことを特徴とする。
本発明の他の投影装置は、第一波長帯域光が出射される第一光源素子と、前記第一光源素子から照射された前記第一波長帯域光を調光する複数の領域が形成された第一ホイールと、前記第一ホイールから出射された光を調光する複数の領域が形成された第二ホイールと、前記第二ホイールから出射された光が照射され、画像光を形成する表示素子と、前記第一光源素子、前記第一ホイール、前記第二ホイール及び前記表示素子を同期制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数を、前記第一周波数の整数倍よりも前記第二周波数の整数倍に近い所定の値に変化させる際、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数の変動が、第一閾値以下の状態から、前記第一閾値より大きい第二閾値以上の状態へ変化することに伴って開始させた前記画像光へのマスク処理を、前記第二周波数の整数倍を基準とした値に対して所定の範囲内で所定の時間経過した場合に解除する、ことを特徴とする。
本発明の他の投影制御方法は、投影装置における投影制御方法であって、前記投影装置は、第一波長帯域光が出射される第一光源素子と、前記第一光源素子から照射された前記第一波長帯域光を調光する複数の領域が形成された第一ホイールと、前記第一ホイールから出射された光を調光する複数の領域が形成された第二ホイールと、前記第二ホイールから出射された光が照射され、画像光を形成する表示素子と、を備え、前記第一光源素子、前記第一ホイール、前記第二ホイール及び前記表示素子を同期制御するとともに、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数を、前記第一周波数の整数倍よりも前記第二周波数の整数倍に近い所定の値に変化させる際、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数の変動が、第一閾値以下の状態から、前記第一閾値より大きい第二閾値以上の状態へ変化することに伴って開始させた前記画像光へのマスク処理を、前記第二周波数の整数倍を基準とした値に対して所定の範囲内で所定の時間経過した場合に解除する、制御手段を含む、ことを特徴とする。
本発明の他のプログラムは、第一波長帯域光が出射される第一光源素子と、前記第一光源素子から照射された前記第一波長帯域光を調光する複数の領域が形成された第一ホイールと、前記第一ホイールから出射された光を調光する複数の領域が形成された第二ホイールと、前記第二ホイールから出射された光が照射され、画像光を形成する表示素子と、前記第一光源素子、前記第一ホイール、前記第二ホイール及び前記表示素子を同期制御する制御部と、を備えたコンピュータが実行するプログラムであって、前記コンピュータを、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数を、前記第一周波数の整数倍よりも前記第二周波数の整数倍に近い所定の値に変化させる際、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数の変動が、第一閾値以下の状態から、前記第一閾値より大きい第二閾値以上の状態へ変化することに伴って開始させた前記画像光へのマスク処理を、前記第二周波数の整数倍を基準とした値に対して所定の範囲内で所定の時間経過した場合に解除する制御手段として機能させる、ことを特徴とする。
[1] 第一波長帯域光が出射される第一光源素子と、
前記第一光源素子から照射された前記第一波長帯域光を調光する複数の領域が形成された第一ホイールと、
前記第一ホイールから出射された光を調光する複数の領域が形成された第二ホイールと、
前記第二ホイールから出射された光が照射され、画像光を形成する表示素子と、
前記第一光源素子、前記第一ホイール、前記第二ホイール及び前記表示素子を同期制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記第一ホイールの回転周波数の変動又は前記第二ホイールの回転周波数の変動を検出し、前記第一ホイールの回転周波数の変動又は前記第二ホイールの回転周波数の変動が閾値未満の状態から閾値以上の状態へ変化した場合に、前記画像光にマスク処理を行う、
ことを特徴とする投影装置。
[2] 前記制御部は、前記第一ホイール又は前記第二ホイールの回転周波数の変動が第一閾値以下の状態から、前記第一閾値より大きい第二閾値以上の状態へ変化した場合に、前記画像光にマスク処理を行う、
ことを特徴とする前記[1]に記載の投影装置。
[3] 前記制御部は、過去の第一判定期間において前記回転周波数の変動が前記第一閾値以下であり、前記第一判定期間よりも直近の第二判定期間において前記回転周波数の変動が前記第二閾値以上である場合に、前記マスク処理を行うことを特徴とする前記[2]に記載の投影装置。
[4] 前記第一判定期間と前記第二判定期間とは離間しており、
前記制御部は、さらに、前記第一判定期間よりも前の期間を含む第三判定期間に前記マスク処理を行っていない場合に、前記マスク処理を行うことを特徴とする前記[3]に記載の投影装置。
[5] 前記制御部は、前記第一ホイール及び前記第二ホイールの前記回転周波数の変動が、所定時間第三閾値以下である場合に、前記マスク処理を解除することを特徴とする前記[2]乃至前記[4]の何れかに記載の投影装置。
[6] 前記第一閾値と前記第三閾値とは、略同一の周波数であることを特徴とする前記[5]に記載の投影装置。
[7] 前記第一ホイールの前記複数の領域の一つは、前記第一波長帯域光が照射されて異なる波長帯域の光を出射する光源セグメントであることを特徴とする前記[1]乃至前記[6]の何れかに記載の投影装置。
[8] 前記制御部は、
単位期間に前記異なる波長帯域の光を時分割で出射させ、
前記マスク処理を、前記単位期間のうち意図しない色が出射される一部の期間行う、
ことを特徴とする前記[1]乃至前記[7]の何れかに記載の投影装置。
[9] 前記制御部は、前記マスク処理として、前記第一光源素子を消灯させる、前記表示素子により投影される前記画像光を黒画像とする、前記画像光の明るさを下げる、の何れかであることを特徴とする前記[1]乃至前記[8]の何れかに記載の投影装置。
[10] 前記第一ホイールは、前記第一波長帯域光を透過する第一透過領域と、前記第一波長帯域光が照射されて第二波長帯域光を蛍光として出射する蛍光発光領域とを周方向に並設しており、
前記第一波長帯域光及び前記第二波長帯域光と異なる波長帯域の第三波長帯域光を出射する第二光源素子をさらに備え、
前記第二ホイールは、前記第一波長帯域光乃至前記第三波長帯域光を透過する第二透過領域と、前記第一波長帯域光及び前記第三波長帯域光並びに前記第二波長帯域光の長波長側の一部の光を透過する第三透過領域とを、周方向に並設している、
ことを特徴とする前記[1]乃至前記[9]の何れかに記載の投影装置。
[11] 投影装置における投影制御方法であって、
前記投影装置は、
第一波長帯域光が出射される第一光源素子と、
前記第一光源素子から照射された前記第一波長帯域光を調光する複数の領域が形成された第一ホイールと、
前記第一ホイールから出射された光を調光する複数の領域が形成された第二ホイールと、
前記第二ホイールから出射された光が照射され、画像光を形成する表示素子と、
を備え、
前記第一光源素子、前記第一ホイール、前記第二ホイール及び前記表示素子を同期制御するとともに、前記第一ホイールの回転周波数の変動又は前記第二ホイールの回転周波数の変動を検出し、前記第一ホイールの回転周波数の変動又は前記第二ホイールの回転周波数の変動が閾値未満の状態から閾値以上の状態へ変化した場合に、前記画像光にマスク処理を行う、制御手段を含む、
ことを特徴とする投影制御方法。
[12]
第一波長帯域光が出射される第一光源素子と、前記第一光源素子から照射された前記第一波長帯域光を調光する複数の領域が形成された第一ホイールと、前記第一ホイールから出射された光を調光する複数の領域が形成された第二ホイールと、前記第二ホイールから出射された光が照射され、画像光を形成する表示素子と、前記第一光源素子、前記第一ホイール、前記第二ホイール及び前記表示素子を同期制御する制御部と、を備えたコンピュータが実行するプログラムであって、
前記コンピュータを、前記第一ホイールの回転周波数の変動又は前記第二ホイールの回転周波数の変動を検出し、前記第一ホイールの回転周波数の変動又は前記第二ホイールの回転周波数の変動が閾値未満の状態から閾値以上の状態へ変化した場合に、前記画像光にマスク処理を行う制御手段として機能させる、
ことを特徴とするプログラム。
12a 光出射部 15 左側パネル
15a 投影画像調整部 21 入出力コネクタ部
22 入出力インターフェース 23 画像変換部
24 表示エンコーダ 25 ビデオRAM
26 表示駆動部 31 画像圧縮/伸長部
32 メモリカード 35 Ir受信部
36 Ir処理部 37 キー/インジケータ部
38 制御部 40 映像処理
41 光源制御回路 43 排気ファン駆動制御回路
45 レンズモータ 47 音声処理部
48 スピーカ 51 表示素子
60 光源装置 70 励起光照射装置
71 青色レーザダイオード 73 コリメータレンズ
77 集光レンズ 78 集光レンズ
79 拡散板 80 緑色光源装置
90 合成光 90a 赤色波長帯域光
90b 緑色波長帯域光 90c 青色波長帯域光
90d 黄色波長帯域光 90e 橙色波長帯域光
100 蛍光ホイール装置 101 蛍光ホイール
110 モータ 111 集光レンズ群
112 軸受 113 軸受
115 集光レンズ 120 赤色光源装置
121 赤色発光ダイオード 125 集光レンズ群
140 導光光学系 141 第一ダイクロイックミラー
142 第二ダイクロイックミラー 143 第三ダイクロイックミラー
144 反射ミラー 145 集光レンズ
146 集光レンズ 147 集光レンズ
170 光源側光学系 173 集光レンズ
175 ライトトンネル 178 集光レンズ
181 光軸変換ミラー 183 集光レンズ
185 照射ミラー 195 コンデンサレンズ
200 カラーホイール装置 201 カラーホイール
210 モータ 220 投影光学系
230 レンズ鏡筒 310 蛍光発光領域
320 透過領域 410 全色透過領域
420 青赤透過領域 P1 位相ずれ
SB システムバス
T1~T3,T5~T7 タイミング T10 単位画像フレーム
T11,T12 単位期間 T41 第一判定期間
T42 第二判定期間 T43 第三判定期間
Ta 第一出力期間 Tb 第二出力期間
Tc 第三出力期間 Td 期間
Te 期間
Claims (14)
- 第一波長帯域光が出射される第一光源素子と、
前記第一光源素子から照射された前記第一波長帯域光を調光する複数の領域が形成された第一ホイールと、
前記第一ホイールから出射された光を調光する複数の領域が形成された第二ホイールと、
前記第二ホイールから出射された光が照射され、画像光を形成する表示素子と、
前記第一光源素子、前記第一ホイール、前記第二ホイール及び前記表示素子を同期制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、入力される入力画像のフレーム周波数が第一周波数から第二周波数へ変化した後に、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数を、前記第一周波数の整数倍を基準とする所定の範囲内から、前記第一周波数の整数倍よりも前記第二周波数の整数倍に近い所定の値に変化させる際、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数の変動が、第一閾値以下の状態から、前記第一閾値より大きい第二閾値以上の状態へ変化した場合に、前記画像光に所定の期間、マスク処理を行う、
ことを特徴とする投影装置。 - 第一波長帯域光が出射される第一光源素子と、
前記第一光源素子から照射された前記第一波長帯域光を調光する複数の領域が形成された第一ホイールと、
前記第一ホイールから出射された光を調光する複数の領域が形成された第二ホイールと、
前記第二ホイールから出射された光が照射され、画像光を形成する表示素子と、
前記第一光源素子、前記第一ホイール、前記第二ホイール及び前記表示素子を同期制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数を、前記第一周波数の整数倍よりも前記第二周波数の整数倍に近い所定の値に変化させる際、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数の変動が、第一閾値以下の状態から、前記第一閾値より大きい第二閾値以上の状態へ変化することに伴って開始させた前記画像光へのマスク処理を、前記第二周波数の整数倍を基準とした値に対して所定の範囲内で所定の時間経過した場合に解除する、
ことを特徴とする投影装置。 - 前記制御部は、過去の第一判定期間において前記回転周波数の変動が前記第一閾値以下であり、前記第一判定期間よりも直近の第二判定期間において前記回転周波数の変動が前記第二閾値以上である場合に、前記マスク処理を行うことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の投影装置。
- 前記第一判定期間と前記第二判定期間とは離間しており、
前記制御部は、さらに、前記第一判定期間よりも前の期間を含む第三判定期間に前記マスク処理を行っていない場合に、前記マスク処理を行うことを特徴とする請求項3に記載の投影装置。 - 前記制御部は、前記第一ホイール及び前記第二ホイールの前記回転周波数の変動が、所定時間第三閾値以下である場合に、前記マスク処理を解除することを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れかに記載の投影装置。
- 前記第一閾値と前記第三閾値とは、略同一の周波数であることを特徴とする請求項5に記載の投影装置。
- 前記第一ホイールの前記複数の領域の一つは、前記第一波長帯域光が照射されて異なる波長帯域の光を出射する光源セグメントであることを特徴とする請求項1乃至請求項6の何れかに記載の投影装置。
- 前記制御部は、単位期間に異なる波長帯域の光を時分割で出射させ、
前記マスク処理を、前記単位期間のうち意図しない色が出射される一部の期間行う、
ことを特徴とする請求項1乃至請求項7の何れかに記載の投影装置。 - 前記制御部は、前記マスク処理として、前記第一光源素子を消灯させる、前記表示素子により投影される前記画像光を黒画像とする、前記画像光の明るさを下げる、の何れかであることを特徴とする請求項1乃至請求項8の何れかに記載の投影装置。
- 前記第一ホイールは、前記第一波長帯域光を透過する第一透過領域と、前記第一波長帯域光が照射されて第二波長帯域光を蛍光として出射する蛍光発光領域とを周方向に並設しており、
前記第一波長帯域光及び前記第二波長帯域光と異なる波長帯域の第三波長帯域光を出射する第二光源素子をさらに備え、
前記第二ホイールは、前記第一波長帯域光乃至前記第三波長帯域光を透過する第二透過領域と、前記第一波長帯域光及び前記第三波長帯域光並びに前記第二波長帯域光の長波長側の一部の光を透過する第三透過領域とを、周方向に並設している、
ことを特徴とする請求項1乃至請求項9の何れかに記載の投影装置。 - 投影装置における投影制御方法であって、
前記投影装置は、
第一波長帯域光が出射される第一光源素子と、
前記第一光源素子から照射された前記第一波長帯域光を調光する複数の領域が形成された第一ホイールと、
前記第一ホイールから出射された光を調光する複数の領域が形成された第二ホイールと、
前記第二ホイールから出射された光が照射され、画像光を形成する表示素子と、
を備え、
前記第一光源素子、前記第一ホイール、前記第二ホイール及び前記表示素子を同期制御するとともに、入力される入力画像のフレーム周波数が第一周波数から第二周波数へ変化した後に、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数を、前記第一周波数の整数倍を基準とする所定の範囲内から、前記第一周波数の整数倍よりも前記第二周波数の整数倍に近い所定の値に変化させる際、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数の変動が、第一閾値以下の状態から、前記第一閾値より大きい第二閾値以上の状態へ変化した場合に、前記画像光に所定の期間、マスク処理を行う、制御手段を含む、
ことを特徴とする投影制御方法。 - 投影装置における投影制御方法であって、
前記投影装置は、
第一波長帯域光が出射される第一光源素子と、
前記第一光源素子から照射された前記第一波長帯域光を調光する複数の領域が形成された第一ホイールと、
前記第一ホイールから出射された光を調光する複数の領域が形成された第二ホイールと、
前記第二ホイールから出射された光が照射され、画像光を形成する表示素子と、
を備え、
前記第一光源素子、前記第一ホイール、前記第二ホイール及び前記表示素子を同期制御するとともに、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数を、前記第一周波数の整数倍よりも前記第二周波数の整数倍に近い所定の値に変化させる際、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数の変動が、第一閾値以下の状態から、前記第一閾値より大きい第二閾値以上の状態へ変化することに伴って開始させた前記画像光へのマスク処理を、前記第二周波数の整数倍を基準とした値に対して所定の範囲内で所定の時間経過した場合に解除する、制御手段を含む、
ことを特徴とする投影制御方法。 - 第一波長帯域光が出射される第一光源素子と、前記第一光源素子から照射された前記第一波長帯域光を調光する複数の領域が形成された第一ホイールと、前記第一ホイールから出射された光を調光する複数の領域が形成された第二ホイールと、前記第二ホイールから出射された光が照射され、画像光を形成する表示素子と、前記第一光源素子、前記第一ホイール、前記第二ホイール及び前記表示素子を同期制御する制御部と、を備えたコンピュータが実行するプログラムであって、
前記コンピュータを、入力される入力画像のフレーム周波数が第一周波数から第二周波数へ変化した後に、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数を、前記第一周波数の整数倍を基準とする所定の範囲内から、前記第一周波数の整数倍よりも前記第二周波数の整数倍に近い所定の値に変化させる際、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数の変動が、第一閾値以下の状態から、前記第一閾値より大きい第二閾値以上の状態へ変化した場合に、前記画像光に所定の期間、マスク処理を行う制御手段として機能させる、
ことを特徴とするプログラム。 - 第一波長帯域光が出射される第一光源素子と、前記第一光源素子から照射された前記第一波長帯域光を調光する複数の領域が形成された第一ホイールと、前記第一ホイールから出射された光を調光する複数の領域が形成された第二ホイールと、前記第二ホイールから出射された光が照射され、画像光を形成する表示素子と、前記第一光源素子、前記第一ホイール、前記第二ホイール及び前記表示素子を同期制御する制御部と、を備えたコンピュータが実行するプログラムであって、
前記コンピュータを、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数を、前記第一周波数の整数倍よりも前記第二周波数の整数倍に近い所定の値に変化させる際、前記第一ホイールの回転周波数又は前記第二ホイールの回転周波数の変動が、第一閾値以下の状態から、前記第一閾値より大きい第二閾値以上の状態へ変化することに伴って開始させた前記画像光へのマスク処理を、前記第二周波数の整数倍を基準とした値に対して所定の範囲内で所定の時間経過した場合に解除する制御手段として機能させる、
ことを特徴とするプログラム。
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