JP7038621B2 - 位置測定装置および位置測定方法 - Google Patents
位置測定装置および位置測定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7038621B2 JP7038621B2 JP2018136764A JP2018136764A JP7038621B2 JP 7038621 B2 JP7038621 B2 JP 7038621B2 JP 2018136764 A JP2018136764 A JP 2018136764A JP 2018136764 A JP2018136764 A JP 2018136764A JP 7038621 B2 JP7038621 B2 JP 7038621B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- straight line
- emitted
- incident
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S7/00—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
- G01S7/48—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
- G01S7/481—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements
- G01S7/4816—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements of receivers alone
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S17/00—Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
- G01S17/02—Systems using the reflection of electromagnetic waves other than radio waves
- G01S17/06—Systems determining position data of a target
- G01S17/08—Systems determining position data of a target for measuring distance only
- G01S17/32—Systems determining position data of a target for measuring distance only using transmission of continuous waves, whether amplitude-, frequency-, or phase-modulated, or unmodulated
- G01S17/34—Systems determining position data of a target for measuring distance only using transmission of continuous waves, whether amplitude-, frequency-, or phase-modulated, or unmodulated using transmission of continuous, frequency-modulated waves while heterodyning the received signal, or a signal derived therefrom, with a locally-generated signal related to the contemporaneously transmitted signal
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S7/00—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
- G01S7/48—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
- G01S7/481—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements
- G01S7/4811—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements common to transmitter and receiver
- G01S7/4812—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements common to transmitter and receiver transmitted and received beams following a coaxial path
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S7/00—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
- G01S7/48—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
- G01S7/481—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements
- G01S7/4818—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements using optical fibres
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/262—Optical details of coupling light into, or out of, or between fibre ends, e.g. special fibre end shapes or associated optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/32—Optical coupling means having lens focusing means positioned between opposed fibre ends
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/34—Optical coupling means utilising prism or grating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/245—Detection characterised by the variable being measured
- H01J2237/24571—Measurements of non-electric or non-magnetic variables
- H01J2237/24578—Spatial variables, e.g. position, distance
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32917—Plasma diagnostics
- H01J37/32935—Monitoring and controlling tubes by information coming from the object and/or discharge
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Remote Sensing (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
図1は、実施形態の位置測定装置1の一例を示す斜視図である。位置測定装置1は、図1に示されているように、チャンバ外装置2とチャンバ内装置3とを備えている。チャンバ外装置2は、測定器5と複数のコリメータ6-1~6-3と複数の光ファイバ7-1~7-3とを備えている。複数のコリメータ6-1~6-3のうちのコリメータ6-1は、複数の光ファイバ7-1~7-3のうちの光ファイバ7-1を介して測定器5に接続されている。
実施形態の位置測定方法は、既述の位置測定装置1を用いて実行される。位置測定方法では、まず、搬出入口36が開放されているときに、図5に示されているように、ロードロックチャンバに設けられるロボットハンド51により、ロードロックチャンバからチャンバ32の内部空間35にチャンバ内装置3が搬入される。図5は、実施形態の位置測定装置1のチャンバ内装置3が基板処理装置31の内部空間35に搬入されるときのチャンバ32の一例を示す断面図である。ロボットハンド51は、基板処理装置31により基板処理されるウェハをロードロックチャンバから内部空間35に搬出入することにも利用される。
実施形態の位置測定装置1は、チャンバ外装置2とベースウェハ11と光回路12-1とを備えている。チャンバ外装置2は、内部空間35が形成されるチャンバ32に形成される窓37を介してチャンバ32の外部から内部空間35に出射光を出射する。ベースウェハ11は、内部空間35に配置される載置台33に載置される。光回路12-1は、ベースウェハ11に固定され、出射光が沿う直線10-1と平行でない直線24-1に沿う入射光にその出射光を変換し、その入射光が入射された対象を反射した反射光を、直線10-1に沿う測定光に変換する。直線10-1は、「第1直線」の一例であり、直線24-1は、「第2直線」の一例である。チャンバ外装置2は、窓37を介してその測定光を受光する。このような位置測定装置1は、チャンバ32の内部空間35を大気解放することなく、上部電極34に例示される対象の位置を容易に測定することができる。
2 :チャンバ外装置
3 :チャンバ内装置
5 :測定器
6-1~6-3:複数のコリメータ
7-1~7-3:複数の光ファイバ
11 :ベースウェハ
12-1~12-3:複数の光回路
14 :ノッチ
15-1~15-3:複数のコリメータ
16-1~16-3:複数の垂直フォーカサ
17-1~17-3:複数の光ファイバ
31 :基板処理装置
32 :チャンバ
33 :載置台
37 :窓
Claims (7)
- 内部空間が形成されるチャンバに形成される窓を介して前記チャンバの外部から前記内部空間に出射光を出射するチャンバ外装置と、
前記内部空間に配置される載置台に載置されるベースウェハと、
前記ベースウェハに固定される光回路とを備え、
前記光回路は、
前記出射光が沿う第1直線と平行でない第2直線に沿う入射光に前記出射光を変換し、
前記入射光を対象に入射させ、
前記入射光が前記対象で反射した反射光を、前記第1直線に沿う測定光に変換し、
前記チャンバ外装置は、前記窓を介して前記測定光を受光する
位置測定装置。 - 前記光回路は、
前記出射光を第1伝送光に変換する第1光学機器と、
前記第1伝送光を第2光学機器に伝送する光伝送部とを備え、
前記第2光学機器は、前記第1伝送光を前記入射光に変換し、前記反射光を第2伝送光に変換し、
前記光伝送部は、さらに、前記第2伝送光を前記第1光学機器に伝送し、
前記第1光学機器は、前記第2伝送光を前記測定光に変換する
請求項1に記載の位置測定装置。 - 前記ベースウェハに固定される第1光回路と、
前記ベースウェハに固定される第2光回路とをさらに備え、
前記第1光回路は、
前記チャンバ外装置から出射される第1出射光が沿う第3直線と平行でない第4直線に沿う第1入射光に前記第1出射光を変換し、
前記第1入射光を前記対象に入射させ、
前記第1入射光が前記対象で反射した第1反射光を、前記第3直線に沿う第1測定光に変換し、
前記第2光回路は、
前記チャンバ外装置から出射される第2出射光が沿う第5直線と平行でない第6直線に沿う第2入射光に前記第2出射光を変換し、
前記第2入射光を前記対象に入射させ、
前記第2入射光が前記対象で反射した第2反射光を、前記第5直線に沿う第2測定光に変換する
請求項2に記載の位置測定装置。 - 前記対象のうちの前記入射光と前記第1入射光と前記第2入射光とがそれぞれ反射する3つの領域は、1つの直線上に配置される
請求項3に記載の位置測定装置。 - 前記チャンバ外装置は、
前記出射光を出射し、前記測定光を受光する第1出射受光部と、
前記第1出射光を出射し、前記第1測定光を受光する第2出射受光部と、
前記第2出射光を出射し、前記第2測定光を受光する第3出射受光部とを有し、
前記第2出射受光部と前記第3出射受光部とは、前記第1出射受光部に固定される
請求項3または請求項4に記載の位置測定装置。 - 前記ベースウェハは、周縁にノッチまたはオリエンテーションフラットが形成される
請求項1~請求項5のいずれか一項に記載の位置測定装置。 - 請求項1~請求項6のいずれか一項に記載の位置測定装置を用いて実行される位置測定方法であり、
前記ベースウェハが前記載置台に載置されるように前記ベースウェハを前記外部から前記内部空間に搬入することと、
前記ベースウェハが前記載置台に載置された状態で、前記チャンバ外装置から前記光回路に前記出射光を出射することと、
前記測定光に基づいて前記対象の位置を算出すること
とを備える位置測定方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018136764A JP7038621B2 (ja) | 2018-07-20 | 2018-07-20 | 位置測定装置および位置測定方法 |
US16/516,481 US11513194B2 (en) | 2018-07-20 | 2019-07-19 | Ranging apparatus and method using the ranging apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018136764A JP7038621B2 (ja) | 2018-07-20 | 2018-07-20 | 位置測定装置および位置測定方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020012785A JP2020012785A (ja) | 2020-01-23 |
JP2020012785A5 JP2020012785A5 (ja) | 2021-03-25 |
JP7038621B2 true JP7038621B2 (ja) | 2022-03-18 |
Family
ID=69162386
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018136764A Active JP7038621B2 (ja) | 2018-07-20 | 2018-07-20 | 位置測定装置および位置測定方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11513194B2 (ja) |
JP (1) | JP7038621B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7038621B2 (ja) * | 2018-07-20 | 2022-03-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 位置測定装置および位置測定方法 |
AU2020251989A1 (en) | 2019-03-29 | 2021-10-21 | Aurora Operations, Inc. | Switchable coherent pixel array for frequency modulated continuous wave light detection and ranging |
US11560235B2 (en) * | 2021-02-09 | 2023-01-24 | Joby Aero, Inc. | Aircraft propulsion unit |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070298522A1 (en) | 2006-06-26 | 2007-12-27 | Tevet Pct Ltd. | Method and apparatus for process control with in-die metrology |
JP2015052537A (ja) | 2013-09-06 | 2015-03-19 | キヤノン株式会社 | 計測装置 |
JP2018054500A (ja) | 2016-09-29 | 2018-04-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 位置検出システム及び処理装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4611919A (en) * | 1984-03-09 | 1986-09-16 | Tegal Corporation | Process monitor and method thereof |
US4969200A (en) * | 1988-03-25 | 1990-11-06 | Texas Instruments Incorporated | Target autoalignment for pattern inspector or writer |
US5364187A (en) * | 1993-03-08 | 1994-11-15 | Micron Semiconductor, Inc. | System for repeatable temperature measurement using surface reflectivity |
US6782337B2 (en) * | 2000-09-20 | 2004-08-24 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for determining a critical dimension an a presence of defects on a specimen |
JP2002195819A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-10 | Nikon Corp | 形状測定方法、形状測定装置、露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP4842175B2 (ja) * | 2007-03-07 | 2011-12-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 温度測定装置及び温度測定方法 |
JP6180909B2 (ja) * | 2013-12-06 | 2017-08-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 距離を求める方法、静電チャックを除電する方法、及び、処理装置 |
JP6656200B2 (ja) * | 2017-04-12 | 2020-03-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 位置検出システム及び処理装置 |
JP6948873B2 (ja) * | 2017-07-31 | 2021-10-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 測定器を較正する方法、及び、ケース |
JP7038621B2 (ja) * | 2018-07-20 | 2022-03-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 位置測定装置および位置測定方法 |
JP7270509B2 (ja) * | 2019-09-06 | 2023-05-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置を検査するシステム及び方法 |
TW202145839A (zh) * | 2020-05-14 | 2021-12-01 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 校正方法及校正系統 |
-
2018
- 2018-07-20 JP JP2018136764A patent/JP7038621B2/ja active Active
-
2019
- 2019-07-19 US US16/516,481 patent/US11513194B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070298522A1 (en) | 2006-06-26 | 2007-12-27 | Tevet Pct Ltd. | Method and apparatus for process control with in-die metrology |
JP2015052537A (ja) | 2013-09-06 | 2015-03-19 | キヤノン株式会社 | 計測装置 |
JP2018054500A (ja) | 2016-09-29 | 2018-04-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 位置検出システム及び処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020012785A (ja) | 2020-01-23 |
US11513194B2 (en) | 2022-11-29 |
US20200025884A1 (en) | 2020-01-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7038621B2 (ja) | 位置測定装置および位置測定方法 | |
US8986494B2 (en) | Plasma processing apparatus and temperature measuring method and apparatus used therein | |
KR100327141B1 (ko) | 광산란에기초한실시간웨이퍼온도측정용장치시스템및방법 | |
US10627339B2 (en) | Modular photoacoustic detection device | |
TWI820327B (zh) | 用於原位光學腔室表面及處理感應器的光學感應器系統、方法及光學感應陣列 | |
JP2016119473A (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の運転方法 | |
JP2001519596A (ja) | 半導体ウェハのプロセスモニタリング装置およびその製造方法 | |
KR20150070025A (ko) | 소모량 측정 장치, 온도 측정 장치, 소모량 측정 방법, 온도 측정 방법 및 기판 처리 시스템 | |
KR20200137029A (ko) | 다수의 광학 프로브들을 갖는 다중-스폿 분석 시스템 | |
KR102336091B1 (ko) | 열 유속 측정 방법, 기판 처리 시스템 및 열 유속 측정용 부재 | |
US11841278B2 (en) | Temperature measurement sensor, temperature measurement system, and temperature measurement method | |
JP6329790B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2002122480A (ja) | 温度測定方法および装置、並びにプラズマ処理装置 | |
JP7441944B2 (ja) | プラズマ対向センサを有するプロセスセンサ及び光学壁 | |
KR20180082185A (ko) | 종료점 검출 방법 및 그 장치 | |
TWI836157B (zh) | 光學感測器系統、光學感測器及電漿處理腔室 | |
US10748749B1 (en) | Plasma monitoring apparatus, and plasma processing apparatus including the same | |
JP2024037509A (ja) | 異常箇所を判定する方法 | |
JPS62260078A (ja) | 膜厚変動量測定器 | |
JP2013053921A (ja) | エリプソメータ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210204 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210204 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20211228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220121 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220208 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220308 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7038621 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |