JP2020012785A - 位置測定装置および位置測定方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、実施形態の位置測定装置1の一例を示す斜視図である。位置測定装置1は、図1に示されているように、チャンバ外装置2とチャンバ内装置3とを備えている。チャンバ外装置2は、測定器5と複数のコリメータ6−1〜6−3と複数の光ファイバ7−1〜7−3とを備えている。複数のコリメータ6−1〜6−3のうちのコリメータ6−1は、複数の光ファイバ7−1〜7−3のうちの光ファイバ7−1を介して測定器5に接続されている。
実施形態の位置測定方法は、既述の位置測定装置1を用いて実行される。位置測定方法では、まず、搬出入口36が開放されているときに、図5に示されているように、ロードロックチャンバに設けられるロボットハンド51により、ロードロックチャンバからチャンバ32の内部空間35にチャンバ内装置3が搬入される。図5は、実施形態の位置測定装置1のチャンバ内装置3が基板処理装置31の内部空間35に搬入されるときのチャンバ32の一例を示す断面図である。ロボットハンド51は、基板処理装置31により基板処理されるウェハをロードロックチャンバから内部空間35に搬出入することにも利用される。
実施形態の位置測定装置1は、チャンバ外装置2とベースウェハ11と光回路12−1とを備えている。チャンバ外装置2は、内部空間35が形成されるチャンバ32に形成される窓37を介してチャンバ32の外部から内部空間35に出射光を出射する。ベースウェハ11は、内部空間35に配置される載置台33に載置される。光回路12−1は、ベースウェハ11に固定され、出射光が沿う直線10−1と平行でない直線24−1に沿う入射光にその出射光を変換し、その入射光が入射された対象を反射した反射光を、直線10−1に沿う測定光に変換する。直線10−1は、「第1直線」の一例であり、直線24−1は、「第2直線」の一例である。チャンバ外装置2は、窓37を介してその測定光を受光する。このような位置測定装置1は、チャンバ32の内部空間35を大気解放することなく、上部電極34に例示される対象の位置を容易に測定することができる。
2 :チャンバ外装置
3 :チャンバ内装置
5 :測定器
6−1〜6−3:複数のコリメータ
7−1〜7−3:複数の光ファイバ
11 :ベースウェハ
12−1〜12−3:複数の光回路
14 :ノッチ
15−1〜15−3:複数のコリメータ
16−1〜16−3:複数の垂直フォーカサ
17−1〜17−3:複数の光ファイバ
31 :基板処理装置
32 :チャンバ
33 :載置台
37 :窓
Claims (7)
- 内部空間が形成されるチャンバに形成される窓を介して前記チャンバの外部から前記内部空間に出射光を出射するチャンバ外装置と、
前記内部空間に配置される載置台に載置されるベースウェハと、
前記ベースウェハに固定される光回路とを備え、
前記光回路は、
前記出射光が沿う第1直線と平行でない第2直線に沿う入射光に前記出射光を変換し、
前記入射光が入射された対象を反射した反射光を、前記第1直線に沿う測定光に変換し、
前記チャンバ外装置は、前記窓を介して前記測定光を受光する
位置測定装置。 - 前記光回路は、
前記出射光を第1伝送光に変換する第1光学機器と、
前記第1伝送光を第2光学機器に伝送する光伝送部とを備え、
前記第2光学機器は、前記第1伝送光を前記出射光に変換し、前記反射光を第2伝送光に変換し、
前記光伝送部は、さらに、前記第2伝送光を前記第1光学機器に伝送し、
前記第1光学機器は、前記第2伝送光を前記測定光に変換する
請求項1に記載の位置測定装置。 - 前記ベースウェハに固定される第1光回路と、
前記ベースウェハに固定される第2光回路とをさらに備え、
前記第1光回路は、
前記チャンバ外装置から出射される第1出射光が沿う第3直線と平行でない第4直線に沿う第1入射光に前記第1出射光を変換し、
前記第1入射光が入射された前記対象を反射した第1反射光を、前記第3直線に沿う第1測定光に変換し、
前記第2光回路は、
前記チャンバ外装置から出射される第2出射光が沿う第5直線と平行でない第6直線に沿う第2入射光に前記第2出射光を変換し、
前記第2入射光が入射された前記対象を反射した第2反射光を、前記第5直線に沿う第2測定光に変換する
請求項2に記載の位置測定装置。 - 前記対象のうちの前記入射光と前記第1入射光と前記第2入射光とがそれぞれ反射する3つの領域は、1つの直線上に配置される
請求項3に記載の位置測定装置。 - 前記チャンバ外装置は、
前記出射光を出射し、前記測定光を受光する第1出射受光部と、
前記第1出射光を出射し、前記第1測定光を受光する第2出射受光部と、
前記第2出射光を出射し、前記第2測定光を受光する第3出射受光部とを有し、
前記第2出射受光部と前記第3出射受光部とは、前記第1出射受光部に固定される
請求項3または請求項4に記載の位置測定装置。 - 前記ベースウェハは、周縁にノッチまたはオリエンテーションフラットが形成される
請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載の位置測定装置。 - 請求項1〜請求項6のいずれか一項に記載の位置測定装置を用いて実行される位置測定方法であり、
前記ベースウェハが前記載置台に載置されるように前記ベースウェハを前記外部から前記内部空間に搬入することと、
前記ベースウェハが前記載置台に載置された状態で、前記チャンバ外装置から前記光回路に前記出射光を出射することと、
前記測定光に基づいて前記対象の位置を算出すること
とを備える位置測定方法。
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