JP7037172B2 - 水素の製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、水素の製造方法に関する。
太陽光を集光して得られる熱を利用して水熱分解により水素を製造する方法として、酸化セリウム(CeO、セリア)による二段階水熱分解サイクルが有望視されている(例えば、非特許文献1、2参照)。
この二段階水熱分解サイクルでは、加熱によりCeOを構成する酸素原子の一部を引き抜き、不定比酸化物を得る熱還元の工程と、当該不定比酸化物と水蒸気との反応(水分解反応)により水素を得る工程とを行う。
熱還元の工程は下記式(1)で示され、水分解反応の工程は下記式(2)で示される。
CeO → CeO2-δ+(δ/2)O ・・・(1)
CeO2-δ+δHO → CeO+δH ・・・(2)
(ただし、式(1)、式(2)中、0<δ≦0.5である。)
酸化セリウム(CeO)による二段階水熱分解サイクルでは、熱力学的な観点から、熱還元の工程は1500℃以上、水分解反応の工程は1000℃以下の温度で行われていた。
しかし、従来においては、エネルギー効率が十分に高いとは言い難く、エネルギー効率の向上が求められていた。
本発明の目的は、エネルギー効率に優れた水素の製造方法を提供することにある。
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の水素の製造方法は、CeOにCe以外の金属をドープした反応媒体を熱還元する第1の工程と、
熱還元された前記反応媒体を水と接触させ、前記反応媒体を酸化するとともに水素を発生させる第2の工程とを有し、
前記反応媒体を構成する前記金属がMnおよび/またはCoであり、前記反応媒体中における前記CeO を構成するCeに対する前記金属の置換率が12mol%以上40mol%以下であり、
前記第1の工程での反応温度をT1[℃]、前記第2の工程での反応温度をT2[℃]としたとき、T1-T2≦150の関係を満足することを特徴とする。
本発明の水素の製造方法では、前記第1の工程と前記第2の工程とを含む一連の処理を繰り返し行うことが好ましい。
本発明の水素の製造方法では、前記T1が1250℃超1400℃以下であることが好ましい。
本発明の水素の製造方法では、前記T2が1100℃超1400℃以下であることが好ましい。
本発明の水素の製造方法では、前記反応媒体を構成する前記金属がCoであり、
前記反応媒体中における前記CeOを構成するCeに対する前記Coの置換率が22mol%以上34mol%以下であることが好ましい。
本発明の水素の製造方法では、前記第1の工程および前記第2の工程を、同一の容器内で行うことが好ましい。
本発明の水素の製造方法では、前記第1の工程および前記第2の工程を、粉末状の前記反応媒体を含む流動層を反応容器内で循環させつつ行うことが好ましい。
本発明によれば、エネルギー効率に優れた水素の製造方法を提供することができる。
水素製造装置の好適な実施形態を示す模式図である。 実施例A1の水素製造方法を実施した際の温度プロファイルと反応媒体の質量変化との関係を示すグラフである。 比較例A1および実施例A1~A4について、第1サイクル~第4サイクルでの第1の工程および第2の工程におけるそれぞれの反応媒体の転換率を示すグラフである。 比較例A1および実施例A1~A4について、第2サイクル~第4サイクルでの第1の工程および第2の工程におけるそれぞれの反応媒体の転換率を示すグラフである。 比較例A1および実施例A1~A4について、第2サイクル~第4サイクルでの第1の工程および第2の工程における反応媒体の転換率の平均値を示すグラフである。 比較例A1および実施例B1~B5について、第2サイクル~第3サイクルでの第1の工程および第2の工程における反応媒体の転換率の平均値を示すグラフである。
以下、本発明の好適な実施形態について説明する。
[水素の製造方法]
本発明の水素の製造方法は、CeO(セリア)にCe以外の金属をドープした反応媒体を熱還元する第1の工程と、熱還元された前記反応媒体を水と接触させ、前記反応媒体を酸化するとともに水素を発生させる第2の工程とを有している。そして、第1の工程での反応温度をT1[℃]、第2の工程での反応温度をT2[℃]としたとき、T1-T2≦150の関係を満足する。
このように、本発明においては、反応媒体を熱還元する工程(第1の工程)と、熱還元された前記反応媒体を水と接触させ、水分解により前記反応媒体を酸化するとともに水素を発生させる工程(第2の工程)との温度差を、従来に比べて飛躍的に縮小することにより、エネルギー効率に優れた水素の製造方法を提供することができる。より具体的には、2つでの工程の温度差が大きいと、例えば、反応器での温度サイクルをする際のエネルギー損失が大きくなり、エネルギー効率が低下するが、本発明では、2つの工程での温度差を十分に小さくしているので、このような問題を生ぜず、水素製造におけるエネルギー効率を優れたものとすることができる。
また、本発明では2つの工程での温度差が小さいため、各工程において好適な温度に調整するのに要する時間を短縮することができる。したがって、水素の生産性が向上する。
また、本発明では2つの工程での温度差が小さいため、水素の製造に用いる装置(反応器)への負担も抑制することができる。その結果、長期間にわたって安定的に水素製造を行うことができ、また、水素の製造に用いる装置の長寿命化やメンテナンスの簡略化等の効果も得られる。
また、繰り返しの大きな温度変化による衝撃に対して高い耐性が要求されず反応器の構成材料の選択の幅が広がり、特殊な装置構成(例えば、2つの工程を異なる反応器の異なる部位で行う構成等)でなく比較的単純な装置構成であっても、水素製造時のエネルギー効率や水素の生産性を十分に優れたものとすることができるため、水素製造装置の製造コストを抑制することができる。
また、水素製造装置のランニングコストの低減にも寄与することができる。
前述したように第1の工程での反応温度と第2の工程での反応温度との差(T1-T2)は、150℃以下であればよいが、0℃以上130℃以下であるのが好ましく、0℃以上120℃以下であるのがより好ましく、0℃以上100℃以下であるのがさらに好ましい。
これにより、前述した効果がより顕著に発揮され、水素の生産性を特に優れたものとすることができる。
本発明の水素の製造方法では、反応に用いる熱は、いかなるものであってもよく、太陽光を集光して得られる熱でなくてもよいが、以下、太陽光を集光して得られる熱である場合について中心的に説明する。
本発明においては、第1の工程および第2の工程は、それぞれ、少なくとも1回行えばよいが、第1の工程と第2の工程とを含む一連の処理を繰り返し行うのが好ましい。
これにより、全体としての処理される水(水蒸気)の量を増やすことができ、水素の生産性をより向上させることができるとともに、2つの工程間での温度差を小さくすることによる効果が繰り返し発揮されるため、前述したような本発明による効果がより顕著に発揮される。
なお、本発明においては、第1の工程の前処理工程を有していてもよいし、第1の工程と第2の工程との間に中間処理工程を有していてもよいし、第2の工程の後処理工程を有していてもよい。前処理工程、後処理工程は、前記一連の処理に含まれるものであってもよいし、前記一連の処理に含まれないものであってもよい。
また、前記一連の処理を繰り返し行う場合、各サイクルで、少なくとも1つの工程において処理条件を変更してもよい。
<第1の工程>
第1の工程(熱還元工程)では、反応媒体を熱還元する。
反応媒体としては、CeO(セリア)にCe以外の金属をドープしたものであればよく、前記金属(ドープ金属)としては、例えば、Mn、Co、Fe、Ni、La、Gd、Hf等が挙げられ、これらから選択される1種または2種以上を組み合わせて用いることができるが、特に、MnおよびCoのうちの少なくとも一方であるのが好ましい。
これにより、第1の工程および第2の工程での反応活性をより向上させ、水素製造のエネルギー効率、水素の生産性をより向上させることができる。
本工程での反応は、下記式(3)で示すことができる。
Ce1-x → MCe1-xy-δ+(δ/2)O ・・・(3)
(ただし、式(3)中、Mはドープ金属を示し、0<x<1、1≦y≦2、0<δ≦yである。)
前記金属(ドープ金属)の好適なドープ量は、前記金属の種類等により異なるが、前記金属がMnおよびCoのうちの少なくとも一方である場合、反応媒体中におけるCeOを構成するCeに対する前記金属の置換率(上記式(3)中のxに100を乗じた値)は、12mol%以上40mol%以下であるのが好ましい。
これにより、第1の工程および第2の工程での反応活性をさらに向上させ、水素製造のエネルギー効率、水素の生産性をさらに向上させることができる。
特に、前記金属(ドープ金属)がMnである場合、反応媒体中におけるCeOを構成するCeに対するMnの置換率は、13mol%以上28mol%以下であるのが好ましく、14mol%以上25mol%以下であるのがより好ましい。
これにより、前述した効果がより顕著に発揮される。
また、前記金属(ドープ金属)がCoである場合、反応媒体中におけるCeOを構成するCeに対するCoの置換率は、22mol%以上34mol%以下であるのが好ましく、26mol%以上33mol%以下であるのがより好ましい。
これにより、前述した効果がより顕著に発揮される。
反応媒体の体積基準の平均粒径は、10μm以上300μm以下であるのが好ましい。
これにより、反応媒体の流動性、取り扱いのし易さをより航行させることができるとともに、反応媒体を容器内に収納した際に、粒子間に適度な隙間を形成することができ、第1の工程および第2の工程において、ガス(反応ガス、キャリアガス、生成ガス)をより好適に流通させることができる。
なお、反応媒体の平均粒径は、例えば、サンプルをメタノールに添加し、超音波分散器で3分間分散した分散液をコールターカウンター法粒度分布測定器(COULTER ELECTRONICS INS製TA-II型)にて、50μmのアパチャーを用いて測定することにより求めることができる。
反応媒体は、表面の少なくとも一部が上記の材料(CeOにCe以外の金属をドープしたもの)で構成されていればよく、例えば、上記の材料(CeOにCe以外の金属をドープしたもの)以外の材料で構成された基部(担体)の表面に、上記の材料(CeOにCe以外の金属をドープしたもの)が被覆された構成のものであってもよい。この場合、基部(担体)としては、例えば、ジルコニアを用いることができる。
本工程での反応温度(T1)は、1250℃超1400℃以下であるのが好ましく、1260℃以上1370℃以下であるのがより好ましく、1270℃以上1350℃以下であるのがさらに好ましい。
これにより、本工程での反応率を十分に高くしつつ、本発明の水素の製造方法全体としてのエネルギー効率をより向上させることができる。
また、このように、従来の太陽光を利用した二段階水熱分解サイクルに比べて、熱還元反応を低い温度で行うことにより、従来では二段階水熱分解サイクルの実施に不適であったサンベルト以外の地域(太陽光の光量が比較的少ない地域)でも、二段階水熱分解サイクルによる水素の製造を好適に行うことができる。すなわち、従来に比べて、水素製造を好適に行うことが可能な地域を拡大することができる。
また、従来の太陽光を利用した二段階水熱分解サイクルに比べて、熱還元反応を低い温度で行うことにより、反応媒体の温度を好適な温度まで上昇させるのに要する時間を短縮することができ、水素の生産性がさらに向上する。また、水素の製造に用いる装置(反応器)への負担も抑制することができる。
なお、本工程における処理温度が経時的に変化する場合、T1としては、本工程での最高処理温度を採用することができる。
本工程での処理時間(前記一連の処理を繰り返し行う場合は、1回の第1の工程での処理時間)は、20分間以上180分間以下であるのが好ましく、30分間以上120分間以下であるのがより好ましく、40分間以上90分間以下であるのがさらに好ましい。
これにより、反応媒体の熱還元反応を十分に進行させることができるとともに、短時間の処理での水素の製造が可能となり、水素の生産性をより向上させることができる。
なお、本工程での処理時間としては、水蒸気を含むガス(水蒸気の分圧が10kPa以上のガス)を供給していない状態で、かつ、反応媒体の温度が1100℃以上である時間を採用することができる。
本工程は、通常、酸素ガス分圧の低い雰囲気下で行う。
具体的には、本工程を行う際の雰囲気中の酸素ガス分圧は、1kPa以下であるのが好ましく、0.1kPa以下であるのがより好ましい。
これにより、反応媒体の還元反応を好適に進行させることができ、また、一旦還元された反応媒体が本工程において不本意に再度酸化されてしまうことを効果的に防止することができる。
本工程は、通常、反応媒体を収容する容器(反応器)内に、アルゴン等の不活性ガスや窒素ガスを供給しつつ行う。
これにより、反応媒体の還元反応により生じた酸素を、反応媒体を含む系から効率よく排出することができ、当該酸素がいったん還元された反応媒体を、不本意に酸化してしまうことをより効果的に防止することができる。また、反応媒体が粒子状をなすものである場合に、当該反応媒体を収容する容器内において、当該反応媒体を効率よく流動させることができ、本工程での反応効率をより向上させることができる。
なお、本工程は、真空環境下、減圧環境下(例えば、10kPa以下の環境下)で行ってもよい。
<第2の工程>
第2の工程(水分解工程)では、第1の工程で熱還元された反応媒体を水と接触させ、反応媒体を酸化するとともに水素を発生させる。
本工程での反応は、下記式(4)で示すことができる。
Ce1-xy-δ+δHO → MCe1-x+δH ・・・(4)
(ただし、式(4)中、Mはドープ金属を示し、0<x<1、1≦y≦2、0<δ≦yである。)
本工程での反応温度(T2)は、1100℃超1400℃以下であるのが好ましく、1160℃以上1300℃以下であるのがより好ましく、1170℃以上1250℃以下であるのがさらに好ましい。
これにより、本工程での反応率を十分に高くしつつ、本発明の水素の製造方法全体としてのエネルギー効率をより向上させることができる。
なお、本工程における処理温度が経時的に変化する場合、T2としては、本工程での最高処理温度を採用することができる。
本工程での処理時間(前記一連の処理を繰り返し行う場合は、1回の第2の工程での処理時間)は、10分間以上150分間以下であるのが好ましく、20分間以上100分間以下であるのがより好ましく、40分間以上80分間以下であるのがさらに好ましい。
これにより、水分解反応(水素の生成、反応媒体の酸化反応)を十分に進行させることができるとともに、短時間の処理での水素の製造が可能となり、水素の生産性をより向上させることができる。
なお、本工程での処理時間としては、水蒸気を含むガスを供給している状態で、かつ、反応媒体の温度が1050℃以上である時間を採用することができる。
本工程は、通常、反応媒体を収容する容器(反応器)内に、水蒸気を供給しつつ行う。
これにより、熱還元された反応媒体と水との反応をより安定的に進行させることができ、水素の発生効率をより優れたものとすることができる。また、発生した水素の回収が容易となる。また、反応媒体が粒子状をなすものである場合に、当該反応媒体を収容する容器内において、当該反応媒体を効率よく流動させることができ、本工程での反応効率をより向上させることができる。
本工程を行う際の雰囲気中の水蒸気分圧は、1kPa以上1MPa以下であるのが好ましく、10kPa以上100kPa以下であるのがより好ましい。
これにより、目的とする反応をより好適に進行させることができ、水素の生産性をより向上させることができる。
また、本工程は、反応媒体を収容する容器(反応器)内に、水蒸気とともに不活性ガス、窒素ガス等の本工程での反応において不活性なガス(キャリアガス)を供給しつつ行うのが好ましい。
これにより、熱還元された反応媒体と水との反応をさらに安定的に進行させることができ、水素の発生効率をさらに優れたものとすることができる。また、発生した水素の回収がより容易となる。
本工程において反応媒体を収容する容器(反応器)内に供給するガス中における水蒸気の分圧をP1[Pa]、キャリアガスの分圧をP2[Pa]としたとき、0.2≦P1/P2≦0.999の関係を満足するのが好ましく、0.3≦P1/P2≦0.995の関係を満足するのがより好ましい。
これにより、目的とする反応をより好適に進行させることができ、水素の生産性をより向上させることができる。
本工程は、通常、酸素ガス分圧の低い雰囲気下で行う。
具体的には、本工程を行う際の雰囲気中の酸素ガス分圧は、1kPa以下であるのが好ましく、0.1kPa以下であるのがより好ましい。
これにより、第1の工程で熱還元された反応媒体が水素の発生に寄与しない酸化反応(酸素ガスによる酸化反応)により酸化されてしまうことを効果的に防止することができ、熱還元された反応媒体と水との反応をより好適に進行させることができる。
[製造装置]
以下、本発明の水素の製造方法に用いることのできる水素製造装置について説明する。
図1は、水素製造装置の好適な実施形態を示す模式図である。
水素製造装置100は、ヘリオスタットと呼ばれる地上に設置された地上反射鏡(太陽光集光手段)20と、図示しないタワーに設置されたタワー反射鏡(太陽光集光手段)30と、タワー反射鏡30で反射された光が入射して、前述した反応媒体の反応が行われる反応器(容器)10とを備えている。
図示の水素製造装置100では、地上反射鏡20とタワー反射鏡30とによりビームダウン型の集光システムが構成されている。
そして、このビームダウン型の集光システムにより、太陽光Sが集光されて反応器10に収容された流動層2の上面中央部照射されるように構成されている。
反応器10は、前述した第1の工程、第2の工程での温度に耐えうる耐熱性の材料で構成されている。反応器10としては、例えば、ステンレス合金およびインコネル合金で構成されたものが挙げられる。
反応器10には、前述した反応媒体を含む流動層2が収容されている。
また、反応器10の底部には、流動層2を構成する反応媒体の粒子を反応器10内に保持することができるとともに、ガス導入手段4、5から導かれたガスを反応器10の内部に導入するガス導入板3が設けられている。
ガス導入板3には、微小な多数の開口部が設けられている。
ガス導入手段(低酸素分圧ガス導入手段)4は、反応器10内に第1の工程で用いるガスを導入する流路(管路)であり、ガス導入手段(水蒸気含有ガス導入手段)5は、反応器10内に第2の工程で用いるガスを導入する流路(管路)である。
反応器10の上部には、太陽光が透過できるように、光透過性を有するとともに、耐熱性を有する窓6が設けられている。窓6の構成材料としては、例えば、石英等が挙げられる。
反応器10の上部の側方には、流動を通過したガスを取り出すための取り出し口8、9が設けられている。
より具体的には、反応器10には、第1の工程において流動層2を通過したガス(反応により生じた酸素ガスを含むガス)を取り出す取り出し口(酸素含有ガス取り出し口)8と、第2の工程において流動層2を通過したガス(反応により生じた水素ガスを含むガス)を取り出す取り出し口(水素含有ガス取り出し口)9とが設けられている。
取り出し口8、9には、それぞれ、シャッター(図示せず)が設けられている。
これにより、第1の工程において流動層2を通過したガスと、第2の工程において流動層2を通過したガスとを、分離して回収することができる。
より具体的には、第1の工程においては、取り出し口8を開いておき、取り出し口9を閉じておくことにより、反応により生じた酸素ガスを含むガスを取り出し口8から回収し、第2の工程においては、取り出し口8を閉じておき、取り出し口9を開いておくことにより、反応により生じた水素ガスを含むガスを取り出し口9から回収する。
これにより、回収されるガスにおいて、酸素ガスを含むガスと、水素ガスを含むガスとが、不本意に混合してしまうことを効果的に防止することができる。
以下、水素製造装置100を用いた水素の製造について説明する。
まず、前述した第1の工程を開始する前に、ガス導入手段(低酸素分圧ガス導入手段)4から導かれた低酸素分圧ガスを、ガス導入板3を介して、反応媒体を収容する反応器10内に流入させ、流動層2を流動させて内循環流を形成する。
次に、反応器10内に低酸素分圧ガスを流入させつつ、窓6を介して、太陽光集光手段20、30により集光した太陽光Sを反応器10内の反応媒体(流動層2)内部に照射することにより、流動層2が所望の温度となるように加熱し、第1の工程での反応を進行させる。
次に、反応器10へ投入する太陽光Sの量(単位時間当たりの量)を減らし粒子反応媒体(流動層2)の温度を所望の温度となるように低下させるとともに、反応器10の内部に供給するガスを低酸素分圧ガスから水蒸気含有ガスに切り替える。すなわち、ガス導入手段4からのガスの供給を中断するとともに、ガス導入板3を介してガス導入手段5から反応器10の内部に水蒸気含有ガスを供給する。これにより、第2の工程を進行させることができる。
その後、第1の工程と第2の工程とを含む一連の処理を所望の回数だけ繰り返し行う。
第2の工程の後に再び第1の工程を行う場合、反応器10へ投入する太陽光Sの量(単位時間当たりの量)を増やし粒子反応媒体(流動層2)の温度を所望の温度となるように上昇させるとともに、反応器10の内部に供給するガスを水蒸気含有ガスから低酸素分圧ガスに切り替える。すなわち、ガス導入手段5からのガスの供給を中断するとともに、ガス導入板3を介してガス導入手段4から反応器10の内部に低酸素分圧ガスを供給する。
上記のように、第1の工程および第2の工程を同一の容器内で行うこと(特に、同一の容器の同一の部位で行うこと)により、水素製造装置の構成を単純化することができ、水素製造装置の製造コストを抑制することができるとともに、水素製造装置の設置等が容易になる。
また、上記のように、第1の工程および第2の工程を、粉末状の反応媒体を含む流動層2を反応容器内で循環させつつ行うことにより、水素の生産性をより向上させることができる。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、本発明の水素の製造方法は、前述した水素製造装置を用いて実施するものに限定されず、他の構成の水素製造装置を用いて実施してもよい。より具体的には、前述した実施形態では、第1の工程および第2の工程を水素製造装置(反応器)の同一の部位で行う場合について中心に説明したが、例えば、第1の工程と第2の工程とを水素製造装置(反応器)の異なる部位で行うようにしてもよい。
また、前述した実施形態では、反応媒体が粒子状(粉末状)である場合について、中心に説明したが、反応媒体は、いかなる形状のものであってもよく、例えば、多孔質体(例えば、発泡体)で構成された成形体等であってもよい。これにより、第1の工程、第2の工程において、反応媒体とガスとを好適に接触させることができ、目的とする反応を好適に進行させることができる。
また、前述した実施形態では、太陽光による熱を用いて反応を行う場合について中心に説明したが、本発明では、反応に利用する熱の少なくとも一部として、太陽光以外による熱を用いてもよい。
以下、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
なお、以下の説明において、特に温度条件を示していない処理は、室温(23℃)、相対湿度50%において行ったものである。また、各種測定条件についても、特に温度条件を示していないものは、室温(23℃)、相対湿度50%における数値である。
[反応媒体の製造]
以下のようにして、反応媒体を製造した。
(調製例1)
まず、所定量のCe(NO・6HOおよびMnSO・5HOを水中に投入し、室温下で撹拌し、これらの溶液を得た。
次に、この水溶液を撹拌しつつ、この水溶液に水酸化ナトリウム水溶液を滴下し、pHを8.5に調整した。これにより、沈殿物が生じた。
次に、沈殿物を遠心分離により回収し、精製水およびアセトンで洗浄し、室温で24時間乾燥させた。
その後、900℃×2時間の焼成処理を施し、MnがドープされたCeOで構成された反応媒体を得た。
このようにして得られた反応媒体は、体積基準の平均粒径が200μmであり、CeOを構成するCeに対するMnの置換率が15mol%のものであった。
(調製例2~4)
Ce(NO・6HOとMnSO・5HOとの配合比率を変更した以外は、前記調製例1と同様にして反応媒体を調製した。
このようにして得られた反応媒体は、それぞれ、CeOを構成するCeに対するMnの置換率が5mol%、10mol%、30mol%のものであった。
(調製例5)
MnSO・5HOの代わりに、CoSO・7HOを用い、Ce(NO・6HOとCoSO・7HOとの配合比を調整した以外は、前記調製例1と同様にして反応媒体を調製した。
このようにして得られた反応媒体は、CoがドープされたCeOで構成されたものであり、CeOを構成するCeに対するCoの置換率が5mol%のものであった。
(調製例6~9)
Ce(NO・6HOとCoSO・7HOとの配合比率を変更した以外は、前記調製例6と同様にして反応媒体を調製した。
このようにして得られた反応媒体は、それぞれ、CeOを構成するCeに対するCoの置換率が10mol%、15mol%、25mol%、30mol%のものであった。
(調製例10)
MnSO・5HOを用いなかった以外は、前記調製例1と同様にして反応媒体を調製した。
このようにして得られた反応媒体は、CeOで構成されたもの(Ce以外の金属がドープされていないもの)であった。
[水素の製造]
(実施例A1)
熱天秤(Rigaku社製、TG8120)を用いて、以下のようにして水素を製造した。
すなわち、まず、調製例1で製造した反応媒体を用いて、以下のようにして水素の製造を行った。
まず、調製例1で製造した反応媒体:0.1gを用意し加熱炉内に設置し、電気炉内の雰囲気を窒素ガスで置換した。
次に、電気炉内に窒素ガスを流入させつつ、1300℃まで昇温し、1300℃で10分間保持した。このとき、電気炉内の圧力が100kPaとなるように調整した。このとき用いた窒素ガスは、純度が99.9%以上のものであり、電気炉内における水蒸気の分圧、酸素ガスの分圧は、いずれも、0.1kPa以下であった。
その後、電気炉内の温度を降温させ、1200℃に到達した時点で、電気炉内への流入ガスを水蒸気と窒素ガスとの混合ガスに切り替えた。このとき、電気炉内の圧力が100kPaとなるように調整した。このときの電気炉内における窒素ガスの分圧は70kPa、水蒸気の分圧は30kPaであり、酸素ガスの分圧は、0.1kPa以下であった。
上記の窒素ガス雰囲気下での熱処理(特に、1100℃以上での熱処理)が反応媒体の熱還元反応を行う第1の工程であり、水蒸気と窒素ガスとの混合ガスの雰囲気下での熱処理が水分解反応を行う第2の工程である。
1200℃で第2の工程を20分間行った後、電気炉内への流入ガスを上記と同様の水蒸気と窒素ガスとの混合ガスに切り替えるとともに、1300℃まで昇温させ、以下、前記と同様の処理を繰り返し行い、合計で、第1の工程、第2の工程を、それぞれ、4回行った。言い換えると、第1の工程と第2の工程とのセットを、4サイクル繰り返して行った。このときの温度プロファイルと、反応媒体の質量変化の関係を図2に示す。
(実施例A2~A4)
それぞれ、反応媒体として、調製例2~4で製造した物を用いた以外は、前記実施例A1と同様にして水素を製造した。
(実施例A5~A8)
第1の工程での処理温度T1を1350℃とした以外は、それぞれ、前記実施例A1~A4と同様にして水素を製造した。
(実施例B1~B5)
それぞれ、反応媒体として、調製例5~9で製造した物を用いた以外は、前記実施例A1と同様にして水素を製造した。
(実施例B6~B10)
第1の工程での処理温度T1を1350℃とした以外は、それぞれ、前記実施例B1~B5と同様にして水素を製造した。
(比較例A1)
反応媒体として、調製例10で製造した物を用いた以外は、前記実施例A1と同様にして水素を製造した。
(比較例A2)
熱天秤の代わりに、赤外イメージ炉(アルバック理工社製、RHL-VHT-E44およびRHL-E45)を用いて、第1の工程での処理温度T1を1500℃とし、第2の工程での処理温度T2を1150℃とした以外は、前記実施例A1と同様にして水素を製造した。
(比較例A3~A5、B1~B4)
反応媒体の種類、第1の工程での処理温度T1、第2の工程での処理温度T2を表1に示すようにした以外は、前記比較例A2と同様にして水素を製造した。
前記各実施例および各比較例についての主な製造条件を表1にまとめて示す。
Figure 0007037172000001
[結果]
上記の各実施例および各比較例の水素の製造において求めた反応媒体の質量変化から、各サイクルの第1の工程、第2の工程での反応媒体の転換率を求めた。
その結果、本発明では、いずれも、高い転換率を示し、第1の工程および第2の工程において、目的とする反応が好適に進行していることが分かった。特に、本発明では、反応媒体の転換が安定する第2サイクル以降での転換率が比較例A1に比べて高く、また、第2サイクル以降の各サイクルでの転換率のばらつきが特に小さかった。
比較例A1および実施例A1~A4について、第1サイクル~第4サイクルでの第1の工程および第2の工程におけるそれぞれの反応媒体の転換率を示すグラフを図3として示し、比較例A1および実施例A1~A4について、第2サイクル~第4サイクルでの第1の工程および第2の工程におけるそれぞれの反応媒体の転換率を示すグラフを図4として示し、比較例A1および実施例A1~A4について、第2サイクル~第4サイクルでの第1の工程および第2の工程における反応媒体の転換率の平均値を示すグラフを図5として示し、比較例A1および実施例B1~B5について、第2サイクル~第3サイクルでの第1の工程および第2の工程における反応媒体の転換率の平均値を示すグラフを図6として示した。
また、本発明では、比較例A2~A5、B1~B4に比べて、第1の工程と第2の工程とでの温度差が小さいことから、反応器での温度サイクルをする際のエネルギー損失が小さいことが明らかであり、エネルギー効率に優れていることが分かる。
また、図1に示すような装置を用いた以外は、前述したのと同様の条件で水素の製造を行ったところ、前記と同様の結果が得られた。
本発明の水素の製造方法は、CeOにCe以外の金属をドープした反応媒体を熱還元する第1の工程と、熱還元された前記反応媒体を水と接触させ、前記反応媒体を酸化するとともに水素を発生させる第2の工程とを有し、前記第1の工程での反応温度をT1[℃]、前記第2の工程での反応温度をT2[℃]としたとき、T1-T2≦150の関係を満足する。そのため、エネルギー効率に優れた水素の製造方法を提供することができる。したがって、本発明の水素の製造方法は、産業上の利用可能性を有する。
100…水素製造装置
10…反応器(容器)
2…流動層
3…ガス導入板
4…ガス導入手段(低酸素分圧ガス導入手段)
5…ガス導入手段(水蒸気含有ガス導入手段)
6…窓
8…取り出し口(酸素含有ガス取り出し口)
9…取り出し口(水素含有ガス取り出し口)
20…地上反射鏡(太陽光集光手段)
30…タワー反射鏡(太陽光集光手段)
S…太陽光

Claims (7)

  1. CeOにCe以外の金属をドープした反応媒体を熱還元する第1の工程と、
    熱還元された前記反応媒体を水と接触させ、前記反応媒体を酸化するとともに水素を発生させる第2の工程とを有し、
    前記反応媒体を構成する前記金属がMnおよび/またはCoであり、前記反応媒体中における前記CeO を構成するCeに対する前記金属の置換率が12mol%以上40mol%以下であり、
    前記第1の工程での反応温度をT1[℃]、前記第2の工程での反応温度をT2[℃]としたとき、T1-T2≦150の関係を満足することを特徴とする水素の製造方法。
  2. 前記第1の工程と前記第2の工程とを含む一連の処理を繰り返し行う請求項1に記載の水素の製造方法。
  3. 前記T1が1250℃超1400℃以下である請求項1または2に記載の水素の製造方法。
  4. 前記T2が1100℃超1400℃以下である請求項1ないし3のいずれか1項に記載の水素の製造方法。
  5. 前記反応媒体を構成する前記金属がCoであり、
    前記反応媒体中における前記CeOを構成するCeに対する前記Coの置換率が22mol%以上34mol%以下である請求項1ないし4のいずれか1項に記載の水素の製造方法。
  6. 前記第1の工程および前記第2の工程を、同一の容器内で行う請求項1ないし5のいずれか1項に記載の水素の製造方法。
  7. 前記第1の工程および前記第2の工程を、粉末状の前記反応媒体を含む流動層を反応容器内で循環させつつ行う請求項1ないし6のいずれか1項に記載の水素の製造方法。
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