JP7030578B2 - Display device - Google Patents

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本発明の実施形態は、表示装置に関する。 Embodiments of the present invention relate to display devices.

近年、タッチセンサを内蔵した表示装置が種々提案されている。一例では、表示パネルに形成された複数の電極がタッチセンシングモードである場合にセンサ電極の役割を果たし、表示モードである場合に共通電極の役割を果たす表示装置が開示されている。タッチセンシング方式としては、相互容量方式及び自己容量方式のいずれかが適用される。タッチセンシングモードでは、タッチ駆動電圧が信号ラインを通じてセンサ電極に印加されることにより、センシングが行われるものである。 In recent years, various display devices having a built-in touch sensor have been proposed. As an example, a display device is disclosed in which a plurality of electrodes formed on a display panel serve as sensor electrodes when in the touch sensing mode and as common electrodes when in the display mode. As the touch sensing method, either a mutual capacity method or a self-capacity method is applied. In the touch sensing mode, sensing is performed by applying a touch drive voltage to a sensor electrode through a signal line.

特開2015-122057号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-12257

本実施形態の目的は、信頼性の向上が可能な表示装置を提供することにある。 An object of the present embodiment is to provide a display device capable of improving reliability.

本実施形態によれば、画像を表示する表示部、及び、前記表示部を囲む非表示部を有する表示パネルを備え、前記表示パネルは、第1有機絶縁膜と、前記第1有機絶縁膜の上に配置された第2有機絶縁膜と、前記非表示部において前記第1有機絶縁膜及び前記第2有機絶縁膜を有する土手部と、を備える第1基板と、前記第1基板と対向する第2基板と、前記第1基板と前記第2基板とを接着するシールと、を備え、前記土手部は、前記第1有機絶縁膜と前記第2有機絶縁膜を貫通する第1スリットと、前記第1スリットによって分割された第1分割部及び第2分割部と、を有し、前記シールは、前記第1スリット内に配置される、表示装置が提供される。 According to the present embodiment, a display panel having a display unit for displaying an image and a non-display unit surrounding the display unit is provided, and the display panel includes a first organic insulating film and the first organic insulating film. A first substrate having a second organic insulating film arranged above, a bank portion having the first organic insulating film and the second organic insulating film in the non-display portion, and the first substrate facing each other. The second substrate is provided with a seal for adhering the first substrate and the second substrate, and the bank portion includes a first slit penetrating the first organic insulating film and the second organic insulating film. A display device is provided which has a first divided portion and a second divided portion divided by the first slit, and the seal is arranged in the first slit.

図1は、本実施形態の表示装置の外観を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing the appearance of the display device of the present embodiment. 図2は、タッチセンサの一構成例を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing an example of a configuration of a touch sensor. 図3は、画素と図2に示したセンサ電極との関係を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing the relationship between the pixel and the sensor electrode shown in FIG. 2. 図4は、画素の基本構成及び等価回路を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a basic configuration of pixels and an equivalent circuit. 図5は、画素レイアウトの一例を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing an example of the pixel layout. 図6は、図5に示した画素の一例を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing an example of the pixels shown in FIG. 図7は、図6に示したA-B線に沿った第1基板の断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of the first substrate along the line AB shown in FIG. 図8は、図6に示したC-D線に沿った表示パネルの断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view of the display panel along the CD line shown in FIG. 図9は、図6に示したE-F線に沿った第1基板の断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of the first substrate along the line EF shown in FIG. 図10は、図1に示したG-H線に沿った表示パネルの断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of the display panel taken along the line GH shown in FIG. 図11は、図10に示した領域の詳細な断面図である。FIG. 11 is a detailed cross-sectional view of the region shown in FIG. 図12は、図11に示した土手部のスリットの位置を示す平面図である。FIG. 12 is a plan view showing the position of the slit in the bank portion shown in FIG. 図13は、図11に示した本実施形態の第1変形例を示す断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view showing a first modification of the present embodiment shown in FIG. 図14は、図13に示したスペーサのスリットの位置を示す平面図である。FIG. 14 is a plan view showing the position of the slit of the spacer shown in FIG. 図15は、図11に示した本実施形態の第2変形例を示す断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view showing a second modification of the present embodiment shown in FIG.

以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。 Hereinafter, this embodiment will be described with reference to the drawings. It should be noted that the disclosure is merely an example, and those skilled in the art can easily conceive of appropriate changes while maintaining the gist of the invention, which are naturally included in the scope of the present invention. Further, in order to clarify the explanation, the drawings may schematically represent the width, thickness, shape, etc. of each part as compared with the actual embodiment, but this is merely an example, and the present invention is used. It does not limit the interpretation. Further, in the present specification and each figure, the same reference reference numerals may be given to the components exhibiting the same or similar functions as those described above with respect to the above-mentioned figures, and the overlapping detailed description may be omitted as appropriate. ..

まず、本実施形態に係る表示装置DSPについて詳細に説明する。本実施形態においては、表示装置DSPが液晶表示装置である場合について説明する。 First, the display device DSP according to the present embodiment will be described in detail. In this embodiment, a case where the display device DSP is a liquid crystal display device will be described.

図1は、本実施形態の表示装置DSPの外観を示す平面図である。
一例では、第1方向X、第2方向Y、及び、第3方向Zは、互いに直交しているが、90度以外の角度で交差していてもよい。第1方向X及び第2方向Yは、表示装置DSPを構成する基板の主面と平行な方向に相当し、第3方向Zは、表示装置DSPの厚さ方向に相当する。本明細書において、第3方向Zを示す矢印の先端に向かう方向を上方(あるいは、単に上)と称し、矢印の先端から逆に向かう方向を下方(あるいは、単に下)と称する。また、第3方向Zを示す矢印の先端側に表示装置DSPを観察する観察位置があるものとし、この観察位置から、第1方向X及び第2方向Yで規定されるX-Y平面に向かって見ることを平面視という。
FIG. 1 is a plan view showing the appearance of the display device DSP of the present embodiment.
In one example, the first direction X, the second direction Y, and the third direction Z are orthogonal to each other, but may intersect at an angle other than 90 degrees. The first direction X and the second direction Y correspond to the directions parallel to the main surface of the substrate constituting the display device DSP, and the third direction Z corresponds to the thickness direction of the display device DSP. In the present specification, the direction toward the tip of the arrow indicating the third direction Z is referred to as upward (or simply upward), and the direction opposite from the tip of the arrow is referred to as downward (or simply downward). Further, it is assumed that there is an observation position for observing the display device DSP on the tip side of the arrow indicating the third direction Z, and the observation position is directed toward the XY plane defined by the first direction X and the second direction Y. Seeing is called plan view.

ここでは、X-Y平面における表示装置DSPの平面図を示している。表示装置DSPは、表示パネルPNLと、フレキシブルプリント回路基板1と、ICチップ2と、回路基板3と、を備えている。 Here, a plan view of the display device DSP in the XY plane is shown. The display device DSP includes a display panel PNL, a flexible printed circuit board 1, an IC chip 2, and a circuit board 3.

表示パネルPNLは、液晶表示パネルであり、第1基板SUB1と、第2基板SUB2と、シールSEと、遮光層BMと、スペーサSP1乃至SP4と、後述する液晶層LCと、を備えている。また、表示パネルPNLは、画像を表示する表示部DAと、表示部DAを囲む額縁状の非表示部NDAと、を備えている。第2基板SUB2は、第1基板SUB1と対向している。第1基板SUB1は、第2基板SUB2よりも第2方向Yに延出した実装部MAを有している。 The display panel PNL is a liquid crystal display panel and includes a first substrate SUB1, a second substrate SUB2, a seal SE, a light-shielding layer BM, spacers SP1 to SP4, and a liquid crystal layer LC described later. Further, the display panel PNL includes a display unit DA for displaying an image and a frame-shaped non-display unit NDA surrounding the display unit DA. The second substrate SUB2 faces the first substrate SUB1. The first substrate SUB1 has a mounting portion MA extending in the second direction Y from the second substrate SUB2.

シールSEは、非表示部NDAに位置し、第1基板SUB1と第2基板SUB2とを接着している。遮光層BMは、非表示部NDAに位置している。シールSEは、平面視で、遮光層BMと重畳する位置に設けられている。図1において、シールSEが配置された領域と、遮光層BMが配置された領域とでは、互いに異なる斜線で示し、シールSEと遮光層BMとが重畳する領域はクロスハッチングで示している。遮光層BMは、第2基板SUB2に設けられている。 The seal SE is located in the non-display portion NDA and adheres the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2. The light-shielding layer BM is located in the non-display portion NDA. The seal SE is provided at a position where it overlaps with the light-shielding layer BM in a plan view. In FIG. 1, the region where the seal SE is arranged and the region where the light-shielding layer BM is arranged are shown by different diagonal lines, and the region where the seal SE and the light-shielding layer BM overlap is shown by cross-hatching. The light-shielding layer BM is provided on the second substrate SUB2.

スペーサSP1乃至SP4は、いずれも非表示部NDAに位置している。スペーサSP1は、表示パネルPNLの最外周に位置している。スペーサSP2は、スペーサSP1よりも表示部DA側に位置している。スペーサSP1及びSP2は、シールSEと重畳している。スペーサSP3及びSP4は、シールSEよりも表示部DA側に位置している。 All of the spacers SP1 to SP4 are located in the non-display portion NDA. The spacer SP1 is located on the outermost circumference of the display panel PNL. The spacer SP2 is located closer to the display unit DA than the spacer SP1. The spacers SP1 and SP2 are superimposed on the seal SE. The spacers SP3 and SP4 are located closer to the display unit DA than the seal SE.

表示部DAは、遮光層BMによって囲まれた内側に位置している。表示部DAは、第1方向X及び第2方向Yにマトリクス状に配置された複数の画素PXを備えている。 The display unit DA is located inside surrounded by the light-shielding layer BM. The display unit DA includes a plurality of pixels PX arranged in a matrix in the first direction X and the second direction Y.

フレキシブルプリント回路基板1は、実装部MAに実装され、回路基板3に接続されている。ICチップ2は、フレキシブルプリント回路基板1に実装されている。なお、ICチップ2は、実装部MAに実装されてもよい。ICチップ2は、画像を表示する表示モードにおいて画像表示に必要な信号を出力するディスプレイドライバDDを内蔵している。また、図示した例では、ICチップ2は、表示装置DSPへの物体の接近又は接触を検出するタッチセンシングモードを制御するタッチコントローラTCを内蔵している。図中において、ICチップ2は一点鎖線で示し、ディスプレイドライバDD及びタッチコントローラTCは点線で示している。 The flexible printed circuit board 1 is mounted on the mounting unit MA and connected to the circuit board 3. The IC chip 2 is mounted on the flexible printed circuit board 1. The IC chip 2 may be mounted on the mounting unit MA. The IC chip 2 has a built-in display driver DD that outputs a signal necessary for displaying an image in a display mode for displaying an image. Further, in the illustrated example, the IC chip 2 has a built-in touch controller TC that controls a touch sensing mode for detecting the approach or contact of an object with the display device DSP. In the figure, the IC chip 2 is shown by a alternate long and short dash line, and the display driver DD and the touch controller TC are shown by a dotted line.

本実施形態の表示パネルPNLは、第1基板SUB1の背面側からの光を選択的に透過させることで画像を表示する透過表示機能を備えた透過型、第2基板SUB2の前面側からの光を選択的に反射させることで画像を表示する反射表示機能を備えた反射型、あるいは、透過表示機能及び反射表示機能を備えた半透過型のいずれであってもよい。 The display panel PNL of the present embodiment is a transmissive type having a transmissive display function for displaying an image by selectively transmitting light from the back side of the first substrate SUB1, and light from the front side of the second substrate SUB2. It may be either a reflection type having a reflection display function for displaying an image by selectively reflecting the light, or a semi-transmissive type having a transmission display function and a reflection display function.

また、表示パネルPNLの詳細な構成について、ここでは説明を省略するが、表示パネルPNLは、基板主面に沿った横電界を利用する表示モード、基板主面の法線に沿った縦電界を利用する表示モード、基板主面に対して斜め方向に傾斜した傾斜電界を利用する表示モード、さらには、上記の横電界、縦電界、及び、傾斜電界を適宜組み合わせて利用する表示モードに対応したいずれの構成を備えていてもよい。ここでの基板主面とは、第1方向X及び第2方向Yで規定されるX-Y平面と平行な面である。 Further, although the detailed configuration of the display panel PNL will be omitted here, the display panel PNL has a display mode using a lateral electric field along the main surface of the substrate and a vertical electric field along the normal of the main surface of the substrate. It corresponds to the display mode to be used, the display mode to use the gradient electric field inclined in the diagonal direction with respect to the main surface of the substrate, and the display mode to use the above-mentioned transverse electric field, longitudinal electric field, and gradient electric field in combination as appropriate. Any configuration may be provided. The substrate main surface here is a surface parallel to the XY plane defined by the first direction X and the second direction Y.

表示パネルPNLは、第1方向Xに延出した第1端部EG1及び第2端部EG2と、第2方向Yに延出した第3端部EG3及び第4端部EG4と、を有している。第1端部EG1は、表示部DAを介して第2端部EG2と対向している。第3端部EG3は、表示部DAを介して第4端部EG4と対向している。また、実装部MAは、表示部DAと第1端部EG1との間に位置している。第2基板SUB2は、実装部MA側の第5端部EG5を有している。 The display panel PNL has a first end EG1 and a second end EG2 extending in the first direction X, and a third end EG3 and a fourth end EG4 extending in the second direction Y. ing. The first end portion EG1 faces the second end portion EG2 via the display unit DA. The third end EG3 faces the fourth end EG4 via the display DA. Further, the mounting portion MA is located between the display portion DA and the first end portion EG1. The second substrate SUB2 has a fifth end portion EG5 on the mounting portion MA side.

図2は、タッチセンサTSの一構成例を示す平面図である。ここでは、自己容量方式のタッチセンサTSについて説明するが、タッチセンサTSは相互容量方式であってもよい。 FIG. 2 is a plan view showing a configuration example of the touch sensor TS. Here, the self-capacity type touch sensor TS will be described, but the touch sensor TS may be a mutual capacity type.

タッチセンサTSは、マトリクス状に配置された複数のセンサ電極Rx(Rx1、Rx2…)と、複数のセンサ配線L(L1、L2…)と、を備えている。複数のセンサ電極Rxは、表示部DAに位置し、第1方向X及び第2方向Yにマトリクス状に配置されている。1つのセンサ電極Rxは、1つのセンサブロックBを構成している。センサブロックBとは、タッチセンシングが可能な最小単位である。複数のセンサ配線Lは、表示部DAにおいて、それぞれ第2方向Yに沿って延出し、第1方向Xに並んでいる。センサ配線Lの各々は、例えば後述する信号線Sと重畳する位置に設けられている。また、センサ配線Lの各々は、非表示部NDAに引き出され、フレキシブルプリント回路基板1を介してICチップ2に電気的に接続されている。 The touch sensor TS includes a plurality of sensor electrodes Rx (Rx1, Rx2 ...) Arranged in a matrix, and a plurality of sensor wirings L (L1, L2 ...). The plurality of sensor electrodes Rx are located on the display unit DA and are arranged in a matrix in the first direction X and the second direction Y. One sensor electrode Rx constitutes one sensor block B. The sensor block B is the smallest unit capable of touch sensing. The plurality of sensor wirings L extend along the second direction Y in the display unit DA, and are arranged in the first direction X. Each of the sensor wirings L is provided at a position superimposing on the signal line S described later, for example. Further, each of the sensor wirings L is drawn out to the non-display unit NDA and electrically connected to the IC chip 2 via the flexible printed circuit board 1.

ここで、第1方向Xに並んだセンサ配線L1乃至L3と、第2方向Yに並んだセンサ電極Rx1乃至Rx3との関係に着目する。センサ配線L1は、センサ電極Rx1乃至Rx3と重畳し、センサ電極Rx1と電気的に接続されている。 Here, attention is paid to the relationship between the sensor wirings L1 to L3 arranged in the first direction X and the sensor electrodes Rx1 to Rx3 arranged in the second direction Y. The sensor wiring L1 overlaps with the sensor electrodes Rx1 to Rx3 and is electrically connected to the sensor electrodes Rx1.

センサ配線L2は、センサ電極Rx2及びRx3と重畳し、センサ電極Rx2と電気的に接続されている。ダミー配線D20は、センサ配線L2から離間している。ダミー配線D20は、センサ電極Rx1と重畳し、センサ電極Rx1と電気的に接続されている。センサ配線L2及びダミー配線D20は、同一の信号線上に位置している。 The sensor wiring L2 overlaps with the sensor electrodes Rx2 and Rx3 and is electrically connected to the sensor electrodes Rx2. The dummy wiring D20 is separated from the sensor wiring L2. The dummy wiring D20 overlaps with the sensor electrode Rx1 and is electrically connected to the sensor electrode Rx1. The sensor wiring L2 and the dummy wiring D20 are located on the same signal line.

センサ配線L3は、センサ電極Rx3と重畳し、センサ電極Rx3と電気的に接続されている。ダミー配線D31は、センサ電極Rx1と重畳し、センサ電極Rx1と電気的に接続されている。ダミー配線D32は、ダミー配線D31及びセンサ配線L3から離間している。ダミー配線D32は、センサ電極Rx2と重畳し、センサ電極Rx2と電気的に接続されている。センサ配線L3、ダミー配線D31及びD32は、同一の信号線上に位置している。 The sensor wiring L3 overlaps with the sensor electrode Rx3 and is electrically connected to the sensor electrode Rx3. The dummy wiring D31 overlaps with the sensor electrode Rx1 and is electrically connected to the sensor electrode Rx1. The dummy wiring D32 is separated from the dummy wiring D31 and the sensor wiring L3. The dummy wiring D32 overlaps with the sensor electrode Rx2 and is electrically connected to the sensor electrode Rx2. The sensor wiring L3 and the dummy wirings D31 and D32 are located on the same signal line.

タッチセンシングモードにおいては、タッチコントローラTCは、センサ配線Lにタッチ駆動電圧を印加する。これにより、センサ電極Rxにはタッチ駆動電圧が印加され、センサ電極Rxでのセンシングが行われる。センサ電極Rxでのセンシング結果に対応したセンサ信号は、センサ配線Lを介してタッチコントローラTCに出力される。タッチコントローラTCあるいは外部のホストは、センシング信号に基づいて、表示装置DSPへの物体の接近又は接触の有無及び物体の位置座標を検出する。
なお、表示モードにおいては、センサ電極Rxは、コモン電圧(Vcom)が印加された共通電極として機能する。コモン電圧は、例えばディスプレイドライバDDに含まれる電圧供給部からセンサ配線Lを介して印加される。
In the touch sensing mode, the touch controller TC applies a touch drive voltage to the sensor wiring L. As a result, a touch drive voltage is applied to the sensor electrode Rx, and sensing is performed on the sensor electrode Rx. The sensor signal corresponding to the sensing result at the sensor electrode Rx is output to the touch controller TC via the sensor wiring L. The touch controller TC or an external host detects whether or not the object is approaching or touching the display device DSP and the position coordinates of the object based on the sensing signal.
In the display mode, the sensor electrode Rx functions as a common electrode to which a common voltage (Vcom) is applied. The common voltage is applied from the voltage supply unit included in the display driver DD, for example, via the sensor wiring L.

図3は、画素PXと図2に示したセンサ電極Rxとの関係を示す平面図である。図3において、第2方向Yに対して反時計回りに鋭角に交差する方向を方向D1と定義し、第2方向Yに対して時計回りに鋭角に交差する方向を方向D2と定義する。なお、第2方向Yと方向D1とのなす角度θ1は、第2方向Yと方向D2とのなす角度θ2とほぼ同一である。 FIG. 3 is a plan view showing the relationship between the pixel PX and the sensor electrode Rx shown in FIG. In FIG. 3, the direction that intersects the second direction Y at an acute angle counterclockwise is defined as the direction D1, and the direction that intersects the second direction Y at an acute angle clockwise is defined as the direction D2. The angle θ1 formed by the second direction Y and the direction D1 is substantially the same as the angle θ2 formed by the second direction Y and the direction D2.

1つのセンサ電極Rxは、複数の画素PXに亘って配置されている。図示した例では、第2方向Yに沿って奇数行目に位置する画素PXは、方向D1に沿って延出している。また、第2方向Yに沿って偶数行目に位置する画素PXは、方向D2に沿って延出している。なお、ここでの画素PXとは、画素信号に応じて個別に制御することができる最小単位を示し、副画素と称する場合がある。また、カラー表示を実現するための最小単位を主画素MPと称する場合がある。主画素MPは、互いに異なる色を表示する複数の副画素PXを備えて構成されるものである。一例では、主画素MPは、副画素PXとして、赤色を表示する赤画素、緑色を表示する緑画素、及び、青色を表示する青画素を備えている。また、主画素MPは、白色を表示する白画素を備えていてもよい。
一例では、1つのセンサ電極Rxには、第1方向Xに沿って60~70個の主画素MPが配置され、第2方向に沿って60~70個の主画素MPが配置されている。
One sensor electrode Rx is arranged over a plurality of pixels PX. In the illustrated example, the pixel PX located in the odd-numbered rows along the second direction Y extends along the direction D1. Further, the pixel PX located on the even-numbered rows along the second direction Y extends along the direction D2. The pixel PX here indicates a minimum unit that can be individually controlled according to a pixel signal, and may be referred to as a sub-pixel. Further, the minimum unit for realizing color display may be referred to as a main pixel MP. The main pixel MP is configured to include a plurality of sub-pixels PX that display different colors from each other. In one example, the main pixel MP includes a red pixel that displays red, a green pixel that displays green, and a blue pixel that displays blue as sub-pixel PX. Further, the main pixel MP may include a white pixel that displays white.
In one example, 60 to 70 main pixel MPs are arranged along the first direction X, and 60 to 70 main pixel MPs are arranged along the second direction in one sensor electrode Rx.

図4は、画素PXの基本構成及び等価回路を示す図である。
複数の走査線Gは、走査線駆動回路GDに接続されている。複数の信号線Sは、信号線駆動回路SDに接続されている。なお、走査線G及び信号線Sは、必ずしも直線的に延出していなくてもよく、それらの一部が屈曲していてもよい。例えば、信号線Sは、その一部が屈曲していたとしても、第2方向Yに延出しているものとする。
FIG. 4 is a diagram showing a basic configuration of a pixel PX and an equivalent circuit.
The plurality of scanning lines G are connected to the scanning line driving circuit GD. The plurality of signal lines S are connected to the signal line drive circuit SD. The scanning line G and the signal line S do not necessarily have to extend linearly, and a part of them may be bent. For example, it is assumed that the signal line S extends in the second direction Y even if a part of the signal line S is bent.

共通電極CEは、センサブロックB毎にそれぞれ設けられている。共通電極CEは、コモン電圧(Vcom)の電圧供給部CDに接続され、複数の画素PXに亘って配置されている。また、共通電極CEは、それぞれ上記の通りタッチコントローラTCにも接続され、タッチセンシングモードにおいてタッチ駆動電圧が印加されるセンサ電極Rxを形成している。 The common electrode CE is provided for each sensor block B. The common electrode CE is connected to a voltage supply unit CD of a common voltage (Vcom) and is arranged over a plurality of pixels PX. Further, the common electrode CE is also connected to the touch controller TC as described above, and forms the sensor electrode Rx to which the touch drive voltage is applied in the touch sensing mode.

各画素PXは、スイッチング素子SW、画素電極PE、共通電極CE、液晶層LC等を備えている。スイッチング素子SWは、例えば薄膜トランジスタ(TFT)によって構成され、走査線G及び信号線Sと電気的に接続されている。走査線Gは、第1方向Xに並んだ画素PXの各々におけるスイッチング素子SWと接続されている。信号線Sは、第2方向Yに並んだ画素PXの各々におけるスイッチング素子SWと接続されている。画素電極PEは、スイッチング素子SWと電気的に接続されている。画素電極PEの各々は、共通電極CEと対向し、画素電極PEと共通電極CEとの間に生じる電界によって液晶層LCを駆動している。保持容量CSは、例えば、共通電極CEと同電位の電極、及び、画素電極PEと同電位の電極の間に形成される。 Each pixel PX includes a switching element SW, a pixel electrode PE, a common electrode CE, a liquid crystal layer LC, and the like. The switching element SW is composed of, for example, a thin film transistor (TFT), and is electrically connected to the scanning line G and the signal line S. The scanning line G is connected to the switching element SW in each of the pixels PX arranged in the first direction X. The signal line S is connected to the switching element SW in each of the pixels PX arranged in the second direction Y. The pixel electrode PE is electrically connected to the switching element SW. Each of the pixel electrode PEs faces the common electrode CE, and the liquid crystal layer LC is driven by the electric field generated between the pixel electrode PE and the common electrode CE. The holding capacitance CS is formed, for example, between an electrode having the same potential as the common electrode CE and an electrode having the same potential as the pixel electrode PE.

図5は、画素レイアウトの一例を示す平面図である。
走査線G1乃至G3は、それぞれ第1方向Xに沿って直線的に延出し、第2方向Yに間隔を置いて並んでいる。信号線S1乃至S3は、それぞれ概ね第2方向Yに沿って延出し、第1方向Xに間隔を置いて並んでいる。
FIG. 5 is a plan view showing an example of the pixel layout.
The scanning lines G1 to G3 extend linearly along the first direction X, respectively, and are arranged at intervals in the second direction Y. The signal lines S1 to S3 extend substantially along the second direction Y, and are arranged at intervals in the first direction X.

画素電極PE1及びPE2は、走査線G1及びG2の間に配置されている。画素電極PE1及びPE2は、第1方向Xに沿って並んでいる。画素電極PE3及びPE4は、走査線G2及びG3の間に配置されている。画素電極PE3及びPE4は、第1方向Xに沿って並んでいる。画素電極PE1及びPE3は信号線S1及びS2の間に配置され、画素電極PE2及びPE4は信号線S2及びS3の間に配置されている。 The pixel electrodes PE1 and PE2 are arranged between the scanning lines G1 and G2. The pixel electrodes PE1 and PE2 are arranged along the first direction X. The pixel electrodes PE3 and PE4 are arranged between the scanning lines G2 and G3. The pixel electrodes PE3 and PE4 are arranged along the first direction X. The pixel electrodes PE1 and PE3 are arranged between the signal lines S1 and S2, and the pixel electrodes PE2 and PE4 are arranged between the signal lines S2 and S3.

画素電極PE1及びPE2は、それぞれ方向D1に沿って延出した帯電極Pa1及びPa2を有している。画素電極PE3及びPE4は、それぞれ方向D2に沿って延出した帯電極Pa3及びPa4を有している。図示した例では、帯電極Pa1乃至Pa4は、2本であるが、1本でもよいし、3本以上であってもよい。 The pixel electrodes PE1 and PE2 have band electrodes Pa1 and Pa2 extending along the direction D1, respectively. The pixel electrodes PE3 and PE4 have band electrodes Pa3 and Pa4 extending along the direction D2, respectively. In the illustrated example, the number of band electrodes Pa1 to Pa4 is two, but it may be one or three or more.

共通電極CE1は、画素PX1及びPX2に亘って配置されている。共通電極CE2は、画素PX3及びPX4に亘って配置されている。共通電極CE1及びCE2は、第2方向Yに並んでいる。共通電極CE1及びCE2は、図2に示した1つのセンサ電極Rxに含まれている。共通電極CE1は、信号線S1乃至S3の上に重畳している。画素電極PE1及びPE2は、共通電極CE1の上に重畳している。共通電極CE2は、信号線S1乃至S3の上に重畳している。画素電極PE3及びPE4は、共通電極CE2の上に重畳している。図示した例では、走査線G2は、共通電極CE1及びCE2の間に位置している。 The common electrode CE1 is arranged over the pixels PX1 and PX2. The common electrode CE2 is arranged over the pixels PX3 and PX4. The common electrodes CE1 and CE2 are arranged in the second direction Y. The common electrodes CE1 and CE2 are included in one sensor electrode Rx shown in FIG. The common electrode CE1 is superimposed on the signal lines S1 to S3. The pixel electrodes PE1 and PE2 are superimposed on the common electrode CE1. The common electrode CE2 is superimposed on the signal lines S1 to S3. The pixel electrodes PE3 and PE4 are superimposed on the common electrode CE2. In the illustrated example, the scan line G2 is located between the common electrodes CE1 and CE2.

ブリッジ部BRは、図中に斜線で示された領域に相当する。ブリッジ部BRは、共通電極CE1と共通電極CE2との間に位置し、信号線S2に重畳している。ブリッジ部BRは、共通電極CE1及び共通電極CE2と一体的に形成され、共通電極CE1及び共通電極CE2を電気的に接続している。ブリッジ部BRは、共通電極CE1及び共通電極CE2と同様にセンサ電極Rxに含まれている。 The bridge portion BR corresponds to the area shown by diagonal lines in the figure. The bridge portion BR is located between the common electrode CE1 and the common electrode CE2, and is superimposed on the signal line S2. The bridge portion BR is integrally formed with the common electrode CE1 and the common electrode CE2, and electrically connects the common electrode CE1 and the common electrode CE2. The bridge portion BR is included in the sensor electrode Rx as well as the common electrode CE1 and the common electrode CE2.

図6は、図5に示した画素の一例を示す平面図である。ここでは、図5に示した走査線G1及びG2と信号線S1及びS2とで囲まれた画素PX1に着目して、主要部について説明する。なお、図6は、第1基板SUB1上の構成を示している。 FIG. 6 is a plan view showing an example of the pixels shown in FIG. Here, the main part will be described by focusing on the pixel PX1 surrounded by the scanning lines G1 and G2 and the signal lines S1 and S2 shown in FIG. Note that FIG. 6 shows the configuration on the first substrate SUB1.

スイッチング素子SWは、第1基板SUB1に配置されている。スイッチング素子SWは、走査線G2及び信号線S2と電気的に接続されている。スイッチング素子SWは、半導体層SCと、ドレイン電極DEと、を備えている。 The switching element SW is arranged on the first substrate SUB1. The switching element SW is electrically connected to the scanning line G2 and the signal line S2. The switching element SW includes a semiconductor layer SC and a drain electrode DE.

半導体層SCは、その一部分が信号線S2と重なるように配置され、他の部分が信号線S1及びS2の間に延出し、略U字状に形成されている。半導体層SCは、信号線S2と重なる位置において走査線G2と交差し、信号線S1とS2との間においても走査線G2と交差している。走査線G2において、半導体層SCと重畳する領域がそれぞれゲート電極GE1及びGE2として機能する。すなわち、図示した例のスイッチング素子SWは、ダブルゲート構造を有している。半導体層SCは、その一端部SCAにおいて貫通孔CH1を通じて信号線S2と電気的に接続され、また、その他端部SCBにおいて貫通孔CH2を通じてドレイン電極DEと電気的に接続されている。 A part of the semiconductor layer SC is arranged so as to overlap the signal line S2, and the other part extends between the signal lines S1 and S2 and is formed in a substantially U shape. The semiconductor layer SC intersects the scanning line G2 at a position overlapping the signal line S2, and also intersects the scanning line G2 between the signal lines S1 and S2. In the scanning line G2, the region superimposing on the semiconductor layer SC functions as the gate electrodes GE1 and GE2, respectively. That is, the switching element SW of the illustrated example has a double gate structure. The semiconductor layer SC is electrically connected to the signal line S2 through the through hole CH1 at one end SCA, and is electrically connected to the drain electrode DE through the through hole CH2 at the other end SCB.

ドレイン電極DEは、島状に形成され、信号線S1と信号線S2との間に配置されている。なお、スイッチング素子SWにおいて、ドレイン電極DEはソース電極と称される場合がある。 The drain electrode DE is formed in an island shape and is arranged between the signal line S1 and the signal line S2. In the switching element SW, the drain electrode DE may be referred to as a source electrode.

画素電極PE1は、複数の帯電極Pa1と一体の基部BSを備えている。基部BSは、ドレイン電極DEと重畳し、ドレイン電極DEと電気的に接続される。 The pixel electrode PE1 includes a base BS integrated with a plurality of band electrodes Pa1. The base BS overlaps with the drain electrode DE and is electrically connected to the drain electrode DE.

図7は、図6に示したA-B線に沿った第1基板SUB1の断面図である。
第1基板SUB1は、絶縁基板10、絶縁膜11乃至16、半導体層SC、走査線G2、信号線S2、金属配線ML2、共通電極CE1、ブリッジ部BR、配向膜AL1などを備えている。
FIG. 7 is a cross-sectional view of the first substrate SUB1 along the line AB shown in FIG.
The first substrate SUB1 includes an insulating substrate 10, insulating films 11 to 16, semiconductor layer SC, scanning line G2, signal line S2, metal wiring ML2, common electrode CE1, bridge portion BR, alignment film AL1, and the like.

絶縁基板10は、ガラス基板や可撓性の樹脂基板などの光透過性を有する基板である。絶縁膜11は、絶縁基板10の上に位置している。半導体層SCは、絶縁膜11の上に位置し、絶縁膜12によって覆われている。半導体層SCは、例えば、多結晶シリコンによって形成されているが、アモルファスシリコンや酸化物半導体によって形成されていてもよい。 The insulating substrate 10 is a substrate having light transmittance such as a glass substrate or a flexible resin substrate. The insulating film 11 is located on the insulating substrate 10. The semiconductor layer SC is located on the insulating film 11 and is covered with the insulating film 12. The semiconductor layer SC is formed of, for example, polycrystalline silicon, but may be formed of amorphous silicon or an oxide semiconductor.

走査線G2の一部であるゲート電極GE1は、絶縁膜12の上に位置し、絶縁膜13によって覆われている。なお、図示しない他の走査線も、走査線G2と同一層に位置している。走査線G2は、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、銀(Ag)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、銅(Cu)、クロム(Cr)などの金属材料や、これらの金属材料を組み合わせた合金などによって形成され、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。一例では、走査線G2は、モリブデン-タングステン合金によって形成されている。 The gate electrode GE1 which is a part of the scanning line G2 is located on the insulating film 12 and is covered with the insulating film 13. Other scanning lines (not shown) are also located on the same layer as the scanning line G2. The scanning line G2 includes metal materials such as aluminum (Al), titanium (Ti), silver (Ag), molybdenum (Mo), tungsten (W), copper (Cu), and chromium (Cr), and these metal materials. It is formed of a combined alloy or the like, and may have a single-layer structure or a multi-layer structure. In one example, the scan line G2 is formed of a molybdenum-tungsten alloy.

信号線S2は、絶縁膜13の上に位置し、絶縁膜(第1有機絶縁膜)14によって覆われている。なお、図示しない他の信号線も、信号線S2と同一層に位置している。信号線S2は、上記の金属材料や、上記の金属材料を組み合わせた合金などによって形成され、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。一例では、信号線S2は、チタン(Ti)を含む第1層、アルミニウム(Al)を含む第2層、及び、チタン(Ti)を含む第3層がこの順に積層された積層体である。信号線S2は、絶縁膜12及び絶縁膜13を貫通する貫通孔CH1を通じて半導体層SCにコンタクトしている。 The signal line S2 is located on the insulating film 13 and is covered with the insulating film (first organic insulating film) 14. Other signal lines (not shown) are also located on the same layer as the signal line S2. The signal line S2 is formed of the above-mentioned metal material, an alloy in which the above-mentioned metal materials are combined, or the like, and may have a single-layer structure or a multi-layer structure. In one example, the signal line S2 is a laminate in which a first layer containing titanium (Ti), a second layer containing aluminum (Al), and a third layer containing titanium (Ti) are laminated in this order. The signal line S2 is in contact with the semiconductor layer SC through the through hole CH1 penetrating the insulating film 12 and the insulating film 13.

金属配線ML2は、絶縁膜14の上に位置し、絶縁膜(第2有機絶縁膜)15によって覆われている。金属配線ML2は、上記の金属材料や、上記の金属材料を組み合わせた合金などによって形成され、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。一例では、金属配線ML2は、チタン(Ti)を含む第1層、アルミニウム(Al)を含む第2層、及び、チタン(Ti)を含む第3層がこの順に積層された積層体、あるいは、モリブデン(Mo)を含む第1層、アルミニウム(Al)を含む第2層、及び、モリブデン(Mo)を含む第3層がこの順に積層された積層体である。 The metal wiring ML2 is located on the insulating film 14 and is covered with the insulating film (second organic insulating film) 15. The metal wiring ML2 is formed of the above-mentioned metal material, an alloy in which the above-mentioned metal materials are combined, or the like, and may have a single-layer structure or a multi-layer structure. In one example, the metal wiring ML2 is a laminate in which a first layer containing titanium (Ti), a second layer containing aluminum (Al), and a third layer containing titanium (Ti) are laminated in this order, or The first layer containing molybdenum (Mo), the second layer containing aluminum (Al), and the third layer containing molybdenum (Mo) are laminated in this order.

共通電極CE1及びブリッジ部BRは、絶縁膜15の上に位置し、絶縁膜(無機絶縁膜)16によって覆われている。共通電極CE1及びブリッジ部BRは、インジウム・ティン・オキサイド(ITO)やインジウム・ジンク・オキサイド(IZO)などの透明な導電材料によって形成された透明電極である。共通電極CE1は、絶縁膜15を貫通する貫通孔CH3を通じて金属配線ML2にコンタクトしている。配向膜AL1は、絶縁膜16の上に位置している。 The common electrode CE1 and the bridge portion BR are located on the insulating film 15 and are covered with the insulating film (inorganic insulating film) 16. The common electrode CE1 and the bridge portion BR are transparent electrodes formed of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO). The common electrode CE1 is in contact with the metal wiring ML2 through the through hole CH3 penetrating the insulating film 15. The alignment film AL1 is located on the insulating film 16.

絶縁膜11乃至13、及び、絶縁膜16は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物などの無機絶縁材料によって形成された無機絶縁膜であり、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。絶縁膜14及び15は、例えば、アクリル樹脂などの有機絶縁材料によって形成された有機絶縁膜である。 The insulating films 11 to 13 and the insulating film 16 are inorganic insulating films formed of an inorganic insulating material such as silicon oxide, silicon nitride, or silicon oxynitride, and may have a single-layer structure. It may have a multi-layer structure. The insulating films 14 and 15 are organic insulating films formed of an organic insulating material such as acrylic resin.

上記の通り、共通電極CE1はセンサ電極Rxとしても機能し、金属配線ML2はセンサ電極Rxと電気的に接続されるセンサ配線Lとしても機能する。 As described above, the common electrode CE1 also functions as the sensor electrode Rx, and the metal wiring ML2 also functions as the sensor wiring L electrically connected to the sensor electrode Rx.

図8は、図6に示したC-D線に沿った表示パネルPNLの断面図である。図示した例は、横電界を利用する表示モードが適用された例に相当する。 FIG. 8 is a cross-sectional view of the display panel PNL along the CD line shown in FIG. The illustrated example corresponds to an example to which a display mode using a transverse electric field is applied.

第1基板SUB1において、信号線S1及びS2は、絶縁膜13の上に位置し、絶縁膜14によって覆われている。金属配線ML1及びML2は、それぞれ信号線S1及びS2の直上に位置している。画素電極PE1は、絶縁膜16の上に位置し、配向膜AL1によって覆われている。画素電極PE1は、ITOやIZOなどの透明な導電材料によって形成された透明電極である。 In the first substrate SUB1, the signal lines S1 and S2 are located on the insulating film 13 and are covered with the insulating film 14. The metal wirings ML1 and ML2 are located directly above the signal lines S1 and S2, respectively. The pixel electrode PE1 is located on the insulating film 16 and is covered with the alignment film AL1. The pixel electrode PE1 is a transparent electrode formed of a transparent conductive material such as ITO or IZO.

第2基板SUB2は、絶縁基板20、遮光層BM、カラーフィルタCF、オーバーコート層OC、配向膜AL2などを備えている。 The second substrate SUB2 includes an insulating substrate 20, a light-shielding layer BM, a color filter CF, an overcoat layer OC, an alignment film AL2, and the like.

絶縁基板20は、絶縁基板10と同様に、ガラス基板や樹脂基板などの光透過性を有する基板である。遮光層BM及びカラーフィルタCFは、絶縁基板20の第1基板SUB1と対向する側に位置している。カラーフィルタCFは、画素電極PE1と対向する位置に配置され、その一部が遮光層BMに重なっている。カラーフィルタCFは、赤色のカラーフィルタCFR、緑色のカラーフィルタCFG、青色のカラーフィルタCFBを有している。オーバーコート層OCは、カラーフィルタCFを覆っている。オーバーコート層OCは、透明な樹脂によって形成されている。配向膜AL2は、オーバーコート層OCを覆っている。配向膜AL1及び配向膜AL2は、例えば、水平配向性を呈する材料によって形成されている。 Like the insulating substrate 10, the insulating substrate 20 is a substrate having light transmittance such as a glass substrate or a resin substrate. The light-shielding layer BM and the color filter CF are located on the side of the insulating substrate 20 facing the first substrate SUB1. The color filter CF is arranged at a position facing the pixel electrode PE1, and a part of the color filter CF overlaps the light-shielding layer BM. The color filter CF includes a red color filter CFR, a green color filter CFG, and a blue color filter CFB. The overcoat layer OC covers the color filter CF. The overcoat layer OC is formed of a transparent resin. The alignment film AL2 covers the overcoat layer OC. The alignment film AL1 and the alignment film AL2 are formed of, for example, a material exhibiting horizontal orientation.

上述した第1基板SUB1及び第2基板SUB2は、配向膜AL1及び配向膜AL2が対向するように配置されている。第1基板SUB1及び第2基板SUB2は、所定のセルギャップが形成された状態でシールによって接着されている。液晶層LCは、配向膜AL1と配向膜AL2との間に保持されている。液晶層LCは、液晶分子LMを備えている。液晶層LCは、ポジ型(誘電率異方性が正)の液晶材料、あるいは、ネガ型(誘電率異方性が負)の液晶材料によって構成されている。 The first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 described above are arranged so that the alignment film AL1 and the alignment film AL2 face each other. The first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 are adhered by a seal with a predetermined cell gap formed. The liquid crystal layer LC is held between the alignment film AL1 and the alignment film AL2. The liquid crystal layer LC includes a liquid crystal molecule LM. The liquid crystal layer LC is composed of a positive type (positive dielectric anisotropy) liquid crystal material or a negative type (negative dielectric anisotropy) liquid crystal material.

偏光板PL1を含む光学素子OD1は、絶縁基板10に接着されている。偏光板PL2を含む光学素子OD2は、絶縁基板20に接着されている。なお、光学素子OD1及び光学素子OD2は、必要に応じて位相差板、散乱層、反射防止層などを備えていてもよい。 The optical element OD1 including the polarizing plate PL1 is adhered to the insulating substrate 10. The optical element OD2 including the polarizing plate PL2 is adhered to the insulating substrate 20. The optical element OD1 and the optical element OD2 may be provided with a retardation plate, a scattering layer, an antireflection layer, and the like, if necessary.

このような表示パネルPNLにおいては、画素電極PEと共通電極CEとの間に電界が形成されていないオフ状態において、液晶分子LMは、配向膜AL1及び配向膜AL2の間で所定の方向に初期配向している。このようなオフ状態では、照明装置ILから表示パネルPNLに向けて照射された光は、光学素子OD1及び光学素子OD2によって吸収され、暗表示となる。一方、画素電極PEと共通電極CEとの間に電界が形成されたオン状態においては、液晶分子LMは、電界により初期配向方向とは異なる方向に配向し、その配向方向は電界によって制御される。このようなオン状態では、照明装置ILからの光の一部は、光学素子OD1及び光学素子OD2を透過し、明表示となる。 In such a display panel PNL, in an off state in which an electric field is not formed between the pixel electrode PE and the common electrode CE, the liquid crystal molecule LM is initially placed in a predetermined direction between the alignment film AL1 and the alignment film AL2. It is oriented. In such an off state, the light emitted from the lighting device IL toward the display panel PNL is absorbed by the optical element OD1 and the optical element OD2, resulting in dark display. On the other hand, in the on state where an electric field is formed between the pixel electrode PE and the common electrode CE, the liquid crystal molecule LM is oriented in a direction different from the initial orientation direction by the electric field, and the orientation direction is controlled by the electric field. .. In such an on state, a part of the light from the illuminating device IL passes through the optical element OD1 and the optical element OD2 and becomes a bright display.

図9は、図6に示したE-F線に沿った第1基板SUB1の断面図である。なお、図示した第1基板SUB1において、絶縁膜13より下方の層及び配向膜AL1の図示を省略している。 FIG. 9 is a cross-sectional view of the first substrate SUB1 along the line EF shown in FIG. In the illustrated first substrate SUB1, the layer below the insulating film 13 and the alignment film AL1 are not shown.

第1基板SUB1は、上記したドレイン電極DE、信号線S1及びS2、金属電極ME、透明電極TE、金属配線ML1及びML2、絶縁膜13乃至16、画素電極PE1、ブリッジ部BRを備えている。 The first substrate SUB1 includes the above-mentioned drain electrodes DE, signal lines S1 and S2, metal electrodes ME, transparent electrodes TE, metal wirings ML1 and ML2, insulating films 13 to 16, pixel electrodes PE1, and a bridge portion BR.

信号線S1及びS2、ドレイン電極DEは、絶縁膜13の上に位置し、絶縁膜14によって覆われている。ドレイン電極DEは、信号線S1及びS2と同一層に位置し、信号線S1及びS2と同一材料によって形成されている。絶縁膜14は、ドレイン電極DEまで貫通した貫通孔(第1貫通孔)CH11を有している。 The signal lines S1 and S2 and the drain electrode DE are located on the insulating film 13 and are covered with the insulating film 14. The drain electrode DE is located in the same layer as the signal lines S1 and S2, and is formed of the same material as the signal lines S1 and S2. The insulating film 14 has a through hole (first through hole) CH 11 that penetrates to the drain electrode DE.

金属配線ML1及びML2、金属電極MEは、絶縁膜14の上に位置し、絶縁膜15によって覆われている。金属電極MEは、貫通孔CH11においてドレイン電極DEに接している。金属電極MEは、金属配線ML1及びML2と同一層に位置し、金属配線ML1及びML2と同一の金属材料によって形成されている。絶縁膜15は、絶縁膜14の上に位置し、金属電極MEまで貫通した貫通孔(第2貫通孔)CH21を有している。なお、本実施形態においては、絶縁膜14の膜厚は約2.5μmであり、絶縁膜15の膜厚は約1.5μmである。 The metal wirings ML1 and ML2 and the metal electrode ME are located on the insulating film 14 and are covered with the insulating film 15. The metal electrode ME is in contact with the drain electrode DE in the through hole CH11. The metal electrode ME is located in the same layer as the metal wirings ML1 and ML2, and is formed of the same metal material as the metal wirings ML1 and ML2. The insulating film 15 is located on the insulating film 14 and has a through hole (second through hole) CH 21 that penetrates to the metal electrode ME. In the present embodiment, the film thickness of the insulating film 14 is about 2.5 μm, and the film thickness of the insulating film 15 is about 1.5 μm.

透明電極TE、ブリッジ部BRは、絶縁膜15の上に位置し、絶縁膜16によって覆われている。透明電極TEは、貫通孔CH21において金属電極MEに接している。透明電極TE及びブリッジ部BRは、図5に示した共通電極CE1及びCE2と同一層に位置し、共通電極CE1及びCE2と同一の透明な導電材料によって形成されている。ブリッジ部BRは、信号線S2及び金属配線ML2の直上に位置している。絶縁膜16は、絶縁膜15の上に位置し、透明電極TEまで貫通した貫通孔(第3貫通孔)CH31を有している。 The transparent electrode TE and the bridge portion BR are located on the insulating film 15 and are covered with the insulating film 16. The transparent electrode TE is in contact with the metal electrode ME in the through hole CH21. The transparent electrode TE and the bridge portion BR are located in the same layer as the common electrodes CE1 and CE2 shown in FIG. 5, and are formed of the same transparent conductive material as the common electrodes CE1 and CE2. The bridge portion BR is located directly above the signal line S2 and the metal wiring ML2. The insulating film 16 is located on the insulating film 15 and has a through hole (third through hole) CH 31 penetrating to the transparent electrode TE.

画素電極PE1の基部BSは、絶縁膜16の上に位置し、図示しない配向膜AL1によって覆われている。画素電極PE1は、貫通孔CH31において透明電極TEに接している。また、画素電極PE1は、金属電極MEと電気的に接続されている。 The base BS of the pixel electrode PE1 is located on the insulating film 16 and is covered with an alignment film AL1 (not shown). The pixel electrode PE1 is in contact with the transparent electrode TE in the through hole CH31. Further, the pixel electrode PE1 is electrically connected to the metal electrode ME.

図10は、図1に示したG-H線に沿った表示パネルPNLの断面図である。図10は、表示パネルPNLの非表示部NDAを示している。
第1基板SUB1は、非表示部NDAにおいて周辺配線WR1乃至WR3と、周辺電極PREと、を備えている。周辺配線WR1は、絶縁膜12の上に配置され絶縁膜13によって覆われている。周辺配線WR1は、走査線と同層に配置され、走査線と同一材料によって形成されている。周辺配線WR2は、絶縁膜13の上に配置され絶縁膜14によって覆われている。周辺配線WR2は、信号線と同層に配置され、信号線と同一材料によって形成されている。周辺配線WR3及び周辺電極PREは、絶縁膜16の上に配置され、配向膜AL1によって覆われている。周辺配線WR3及び周辺電極PREは、画素電極と同層に配置され、画素電極と同一材料によって形成されている。
FIG. 10 is a cross-sectional view of the display panel PNL along the line GH shown in FIG. FIG. 10 shows the non-display unit NDA of the display panel PNL.
The first substrate SUB1 includes peripheral wirings WR1 to WR3 and peripheral electrodes PRE in the non-display unit NDA. The peripheral wiring WR1 is arranged on the insulating film 12 and covered with the insulating film 13. The peripheral wiring WR1 is arranged in the same layer as the scanning line, and is formed of the same material as the scanning line. The peripheral wiring WR2 is arranged on the insulating film 13 and covered with the insulating film 14. The peripheral wiring WR2 is arranged in the same layer as the signal line, and is formed of the same material as the signal line. The peripheral wiring WR3 and the peripheral electrode PRE are arranged on the insulating film 16 and covered with the alignment film AL1. The peripheral wiring WR3 and the peripheral electrode PRE are arranged in the same layer as the pixel electrode and are formed of the same material as the pixel electrode.

第1基板SUB1は、非表示部NDAにおいて絶縁膜14及び15を絶縁膜13まで貫通する溝部GRを有している。溝部GRは、シールSEと重なる領域に位置している。本実施形態においては、溝部GRの幅W1は約90μmである。溝部GRによって、表示パネルPNLの外部から絶縁膜14及び15を伝わる水分の侵入経路を遮断することができる。 The first substrate SUB1 has a groove GR that penetrates the insulating films 14 and 15 to the insulating film 13 in the non-display portion NDA. The groove GR is located in a region overlapping the seal SE. In the present embodiment, the width W1 of the groove portion GR is about 90 μm. The groove GR can block the intrusion route of moisture transmitted through the insulating films 14 and 15 from the outside of the display panel PNL.

絶縁膜16は、絶縁膜15の上に配置され、溝部GRの内部にも配置されている。絶縁膜16は、溝部GRの側面に接している。溝部GRの側面は、絶縁膜14及び15によって段差が形成されているため、絶縁膜16は、溝部GRの側面に付着しやすい。また、周辺電極PRE及び配向膜AL1は、溝部GRの内部にも配置されている。 The insulating film 16 is arranged on the insulating film 15 and is also arranged inside the groove GR. The insulating film 16 is in contact with the side surface of the groove GR. Since the side surface of the groove GR has a step formed by the insulating films 14 and 15, the insulating film 16 easily adheres to the side surface of the groove GR. Further, the peripheral electrode PRE and the alignment film AL1 are also arranged inside the groove GR.

第1基板SUB1は、非表示部NDAにおいて、絶縁膜14及び15から構成された土手部BAを有している。土手部BAは、表示パネルPNLの第3端部EG3と溝部GRとの間に位置し、第2基板SUB2側に突出している。土手部BAは、スペーサSP1と対向している。また、土手部BAは、スリットSL1乃至SL3を有している。本実施形態においては、土手部BAの幅W2は約60μmである。 The first substrate SUB1 has a bank portion BA composed of insulating films 14 and 15 in the non-display portion NDA. The bank portion BA is located between the third end portion EG3 of the display panel PNL and the groove portion GR, and projects toward the second substrate SUB2 side. The bank portion BA faces the spacer SP1. Further, the bank portion BA has slits SL1 to SL3. In the present embodiment, the width W2 of the bank portion BA is about 60 μm.

遮光層BMは、絶縁基板20まで貫通するスリットSL11を有している。遮光層BMを伝わる水分の侵入経路をスリットSL11によって遮断することができる。なお、第1基板SUB1は、スリットSL11と重なる位置において、周辺配線WR1を備えているため、スリットSL11からの光漏れを抑制することができる。 The light-shielding layer BM has a slit SL11 that penetrates to the insulating substrate 20. The intrusion path of moisture transmitted through the light-shielding layer BM can be blocked by the slit SL11. Since the first substrate SUB1 is provided with the peripheral wiring WR1 at a position overlapping the slit SL11, light leakage from the slit SL11 can be suppressed.

遮光層BMは、液晶層LCと重なる領域においてスリットSL12を有している。このため、遮光層BMを介した表示部DAへの電荷の移動経路をスリットSL12において遮断することができる。これにより、表示パネルPNLの製造工程において、静電気が表示部DAに集中するのを抑制し、表示パネルPNLが損傷するのを抑制することが可能である。なお、第1基板SUB1は、スリットSL12と重なる位置において、周辺配線WR2を備えているため、スリットSL12からの光漏れを抑制することができる。また、カラーフィルタCFR及びCFBは、スリットSL12内に第3方向Zに重なって配置されている。このため、周辺配線WR2の周囲を透過した光に対してもスリットSL12からの光漏れを抑制することができる。 The light-shielding layer BM has a slit SL12 in a region overlapping the liquid crystal layer LC. Therefore, the transfer path of the electric charge to the display unit DA via the light-shielding layer BM can be blocked by the slit SL12. Thereby, in the manufacturing process of the display panel PNL, it is possible to suppress the concentration of static electricity on the display unit DA and prevent the display panel PNL from being damaged. Since the first substrate SUB1 is provided with the peripheral wiring WR2 at a position overlapping the slit SL12, light leakage from the slit SL12 can be suppressed. Further, the color filters CFR and CFB are arranged in the slit SL12 so as to overlap each other in the third direction Z. Therefore, it is possible to suppress light leakage from the slit SL12 even for the light transmitted around the peripheral wiring WR2.

スペーサSP1乃至SP4は、第2基板SUB2に配置され、第1基板SUB1側に突出している。スペーサSP1乃至SP4は、樹脂材料によって形成されている。また、スペーサSP1及びSP2と重なる位置に高さ調整のためのカラーフィルタCFBが配置されている。本実施形態においては、スペーサSP1の幅W3は約50μmである。なお、配向膜AL2は、スペーサSP1乃至SP4を覆っていない。 The spacers SP1 to SP4 are arranged on the second substrate SUB2 and project to the first substrate SUB1 side. The spacers SP1 to SP4 are made of a resin material. Further, a color filter CFB for height adjustment is arranged at a position overlapping the spacers SP1 and SP2. In this embodiment, the width W3 of the spacer SP1 is about 50 μm. The alignment film AL2 does not cover the spacers SP1 to SP4.

土手部BAの端部BAE、及び、スペーサSP1の端部SPEは、表示パネルPNLの第3端部EG3に位置している。すなわち、土手部BA及びスペーサSP1は、製造工程において表示パネルPNLが大判から単個にカットされる際に、表示パネルPNLを支持するための部材としてカットライン上に配置されている。そのため、表示パネルPNLのカット時にかかる力によって表示パネルPNLが変形するのを抑制し、カット不良を抑制することが可能となる。なお、図1に示した表示パネルPNLの第2端部EG2及び第4端部EG4や、第2基板SUB2の第5端部EG5についても同様に、カットライン上に土手部BA及びスペーサSP1が位置している。 The end BAE of the bank portion BA and the end SPE of the spacer SP1 are located at the third end portion EG3 of the display panel PNL. That is, the bank portion BA and the spacer SP1 are arranged on the cut line as members for supporting the display panel PNL when the display panel PNL is cut from a large size to a single piece in the manufacturing process. Therefore, it is possible to suppress the deformation of the display panel PNL due to the force applied when the display panel PNL is cut, and to suppress the cutting defect. Similarly, the bank portion BA and the spacer SP1 are placed on the cut line of the second end portion EG2 and the fourth end portion EG4 of the display panel PNL shown in FIG. 1 and the fifth end portion EG5 of the second substrate SUB2. positioned.

図11は、図10に示した領域ARの詳細な断面図である。
スリットSL1乃至SL3は、絶縁膜14及び15を絶縁膜13まで貫通している。シールSEは、スリットSL1乃至SL3内に入り込んでいる。また、土手部BAは、スリットSL1乃至SL3によって分割された分割部DD1乃至DD4を有している。分割部DD1は、第3端部EG3の表示部DA側に位置している。分割部DD2は、分割部DD1の表示部DA側に位置している。分割部DD3は、分割部DD2の表示部DA側に位置している。分割部DD4は、分割部DD3の表示部DA側に位置している。スリットSL1は、分割部DD1と分割部DD2との間に位置している。スリットSL2は、分割部DD2と分割部DD3との間に位置している。スリットSL3は、分割部DD3と分割部DD4との間に位置している。
FIG. 11 is a detailed cross-sectional view of the region AR shown in FIG.
The slits SL1 to SL3 penetrate the insulating films 14 and 15 to the insulating film 13. The seal SE has entered the slits SL1 to SL3. Further, the bank portion BA has divided portions DD1 to DD4 divided by the slits SL1 to SL3. The divided portion DD1 is located on the display portion DA side of the third end portion EG3. The division unit DD2 is located on the display unit DA side of the division unit DD1. The division unit DD3 is located on the display unit DA side of the division unit DD2. The division unit DD4 is located on the display unit DA side of the division unit DD3. The slit SL1 is located between the divided portion DD1 and the divided portion DD2. The slit SL2 is located between the divided portion DD2 and the divided portion DD3. The slit SL3 is located between the divided portion DD3 and the divided portion DD4.

絶縁膜16は、分割部DD1乃至DD4を覆い、第3端部EG3まで延出している。また、配向膜AL1は、図示した例では、分割部DD3及びDD4を覆いスリットSL2まで延出し、分割部DD1及びDD2は覆っていない。なお、配向膜AL1は、図示した例に限らず、分割部DD1及びDD2を覆い第3端部EG3まで延出していても良い。 The insulating film 16 covers the divided portions DD1 to DD4 and extends to the third end portion EG3. Further, in the illustrated example, the alignment film AL1 covers the divided portions DD3 and DD4 and extends to the slit SL2, and does not cover the divided portions DD1 and DD2. The alignment film AL1 is not limited to the illustrated example, and may cover the divided portions DD1 and DD2 and extend to the third end portion EG3.

絶縁膜14は、スリットSL1乃至SL3によって、分割部DD41乃至DD44に分割されている。絶縁膜15は、スリットSL1乃至SL3によって、分割部DD51乃至DD54に分割されている。すなわち、分割部DD1は分割部D41及びD51によって構成され、分割部DD2は分割部D42及びD52によって構成され、分割部DD3は分割部D43及びD53によって構成され、分割部DD4は分割部D44及びD54によって構成されている。 The insulating film 14 is divided into the divided portions DD41 to DD44 by the slits SL1 to SL3. The insulating film 15 is divided into the divided portions DD51 to DD54 by the slits SL1 to SL3. That is, the divided portion DD1 is composed of the divided portions D41 and D51, the divided portion DD2 is composed of the divided portions D42 and D52, the divided portion DD3 is composed of the divided portions D43 and D53, and the divided portion DD4 is composed of the divided portions D44 and D54. It is composed of.

分割部D41は幅W41を有し、分割部D42は幅W42を有し、分割部D43は幅W43を有し、分割部D44は幅W44を有している。本実施形態においては、幅W41乃至W44は、それぞれ10μm以上である。また、スリットSL1は分割部D41と分割部D42との間において幅W45を有し、スリットSL2は分割部D42と分割部D43との間において幅W46を有し、スリットSL3は分割部D43と分割部D44との間において幅W47を有している。本実施形態においては、幅W45乃至W47は、それぞれ3.5μm以上である。また、図10に示したように、幅W41乃至W47を足し合わせた幅W2は、約60μmとなる。 The split portion D41 has a width W41, the split portion D42 has a width W42, the split portion D43 has a width W43, and the split portion D44 has a width W44. In the present embodiment, the widths W41 to W44 are 10 μm or more, respectively. Further, the slit SL1 has a width W45 between the split portion D41 and the split portion D42, the slit SL2 has a width W46 between the split portion D42 and the split portion D43, and the slit SL3 is split with the split portion D43. It has a width W47 with the portion D44. In the present embodiment, the widths W45 to W47 are 3.5 μm or more, respectively. Further, as shown in FIG. 10, the width W2 obtained by adding the widths W41 to W47 is about 60 μm.

分割部D51は幅W51を有し、分割部D52は幅W52を有し、分割部D53は幅W53を有し、分割部D54は幅W54を有している。本実施形態においては、幅W51乃至W54は、それぞれ8μm以上である。また、スリットSL1は分割部D51と分割部D52との間において幅W55を有し、スリットSL2は分割部D52と分割部D53との間において幅W56を有し、スリットSL3は分割部D53と分割部D54との間において幅W57を有している。本実施形態においては、幅W55乃至W57は、それぞれ4μm以上である。 The split portion D51 has a width W51, the split portion D52 has a width W52, the split portion D53 has a width W53, and the split portion D54 has a width W54. In the present embodiment, the widths W51 to W54 are 8 μm or more, respectively. Further, the slit SL1 has a width W55 between the split portion D51 and the split portion D52, the slit SL2 has a width W56 between the split portion D52 and the split portion D53, and the slit SL3 is split with the split portion D53. It has a width W57 with and from the portion D54. In the present embodiment, the widths W55 to W57 are 4 μm or more, respectively.

分割部DD1において、分割部D41の幅W41は、分割部D51の幅W51より大きい。分割部DD2において、分割部D42の幅W42は、分割部D52の幅W52より大きい。分割部DD3において、分割部D43の幅W43は、分割部D53の幅W53より大きい。分割部DD4において、分割部D44の幅W44は、分割部D54の幅W54より大きい。また、スリットSL1において絶縁膜15を貫通する部分の幅W55は、絶縁膜14を貫通する部分の幅W45より大きい。同様に、スリットSL2において、幅W56は幅W46より大きい。スリットSL3において、幅W57は幅W47より大きい。 In the divided portion DD1, the width W41 of the divided portion D41 is larger than the width W51 of the divided portion D51. In the divided portion DD2, the width W42 of the divided portion D42 is larger than the width W52 of the divided portion D52. In the divided portion DD3, the width W43 of the divided portion D43 is larger than the width W53 of the divided portion D53. In the divided portion DD4, the width W44 of the divided portion D44 is larger than the width W54 of the divided portion D54. Further, the width W55 of the portion of the slit SL1 penetrating the insulating film 15 is larger than the width W45 of the portion penetrating the insulating film 14. Similarly, in the slit SL2, the width W56 is larger than the width W46. In the slit SL3, the width W57 is larger than the width W47.

スリットSL1は、側面SS1及びSS2を有している。スリットSL2は、側面SS3及びSS4を有している。スリットSL3は、側面SS5及びSS6を有している。側面SS1乃至SS6は、それぞれ絶縁膜14と絶縁膜15との間の段差を有している。絶縁膜14及び15が別々にパターニングされることでスリットSL1乃至SL3が形成されるため、側面SS1乃至SS6は段差を有している。 The slit SL1 has side surfaces SS1 and SS2. The slit SL2 has side surfaces SS3 and SS4. The slit SL3 has side surfaces SS5 and SS6. The side surfaces SS1 to SS6 each have a step between the insulating film 14 and the insulating film 15. Since the slits SL1 to SL3 are formed by separately patterning the insulating films 14 and 15, the side surfaces SS1 to SS6 have a step.

複数のフィラー100は、シールSE中に拡散されている。フィラー100は、それぞれ径DMを有している。分割部DD1とスペーサSP1との間の間隔GP1、分割部DD2とスペーサSP1との間の間隔GP2、分割部DD3とスペーサSP1との間の間隔GP3、分割部DD4とスペーサSP1との間の間隔GP4は、フィラー100の径DMと略等しい。そのため、分割部DD1乃至DD4とスペーサSP1との間には、フィラー100が互いに第3方向Zに重ならずに介在している。径DMは、例えば、約0.5μmである。なお、フィラー100は接着力を有さず、第1基板SUB1及び第2基板SUBはシールSEの接着力によって接着される。 The plurality of fillers 100 are diffused in the seal SE. Each of the fillers 100 has a diameter DM. Spacing between the split section DD1 and the spacer SP1, GP1, spacing between the split section DD2 and the spacer SP1, GP2, spacing between the split section DD3 and the spacer SP1, GP3, spacing between the split section DD4 and the spacer SP1. GP4 is substantially equal to the diameter DM of the filler 100. Therefore, the fillers 100 are interposed between the divided portions DD1 to DD4 and the spacer SP1 without overlapping each other in the third direction Z. The diameter DM is, for example, about 0.5 μm. The filler 100 has no adhesive force, and the first substrate SUB1 and the second substrate SUB are adhered by the adhesive force of the seal SE.

例えば、土手部BAがスリットSL1乃至SL3を有していない場合には、第1基板SUB1と第2基板SUB2とを接着する際に、土手部BAとスペーサSP1の間からシールSEが押し出され、フィラー100が土手部BAとスペーサSP1との間に密集してしまう。そのため、第1基板SUB1と第2基板SUB2との間の接着力が低下してしまう恐れがある。 For example, when the bank portion BA does not have the slits SL1 to SL3, the seal SE is extruded from between the bank portion BA and the spacer SP1 when the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 are bonded. The filler 100 is densely packed between the bank portion BA and the spacer SP1. Therefore, there is a risk that the adhesive force between the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 will decrease.

本実施形態によれば、土手部BAは、絶縁膜14及び絶縁膜15を貫通するスリットSL1乃至SL3を有している。シールSEは、スリットSL1乃至SL3の内部に入り込んでいる。そのため、フィラー100をシールSEとともにスリットSL1乃至SL3内に均等に分散させることができ、フィラー100が土手部BAとスペーサSP1との間に密集して配置されるのを抑制することができる。また、スリットSL1乃至SL3によって、シールSEと土手部BAとの間の接着面積を拡大することができる。したがって、第1基板SUB1と第2基板SUB2との間の接着力が低下するのを抑制することができる。また、土手部BAがスリットSL1乃至SL3を有している場合にも、表示パネルPNLが大判から単個にカットされる際の土手部BAの支持機能を保つことができる。よって、表示装置DSPの信頼性を向上することができる。
なお、図示した例では、土手部BAは3本のスリットSL1乃至SL3を有しているが、土手部BAは1本又は2本のスリットを有していても良いし、4本以上のスリットを有していても良い。
According to the present embodiment, the bank portion BA has the insulating film 14 and the slits SL1 to SL3 penetrating the insulating film 15. The seal SE has entered the inside of the slits SL1 to SL3. Therefore, the filler 100 can be evenly dispersed in the slits SL1 to SL3 together with the seal SE, and the filler 100 can be prevented from being densely arranged between the bank portion BA and the spacer SP1. Further, the slits SL1 to SL3 can increase the adhesive area between the seal SE and the bank portion BA. Therefore, it is possible to suppress a decrease in the adhesive force between the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2. Further, even when the bank portion BA has the slits SL1 to SL3, the support function of the bank portion BA can be maintained when the display panel PNL is cut into a single piece from a large size. Therefore, the reliability of the display device DSP can be improved.
In the illustrated example, the bank portion BA has three slits SL1 to SL3, but the bank portion BA may have one or two slits, or four or more slits. May have.

図12は、図11に示した土手部BAのスリットSL1乃至SL3の位置を示す平面図である。図12においては、溝部GRは右上がり斜線で示され、土手部BAは左上がり斜線で示されている。また、シールSEは、点線で示されている。
土手部BAは、第1方向Xに延出した第1部分BA1及び第2部分BA2と、第2方向Yに延出した第3部分BA3及び第4部分BA4と、を有している。第1部分BA1及び第2部分BA2は、それぞれ第3部分BA3及び第4部分BA4と繋がっている。第1部分BA1は、表示部DAと第1端部EG1との間に位置している。第2部分BA2は、表示部DAと第2端部EG2との間に位置している。第3部分BA3は、表示部DAと第3端部EG3との間に位置している。第4部分BA4は、表示部DAと第4端部EG4との間に位置している。土手部BAは、第2部分BA2、第3部分BA3、第4部分BA4において、スリットSL1乃至SL3を有している。すなわち、スリットSL1乃至SL3は、第2端部EG2と表示部DAとの間、第3端部EG3と表示部DAとの間、第4端部EG4と表示部DAとの間に位置している。
FIG. 12 is a plan view showing the positions of the slits SL1 to SL3 of the bank portion BA shown in FIG. In FIG. 12, the groove portion GR is indicated by an upward-sloping diagonal line, and the bank portion BA is indicated by an upward-sloping diagonal line. Further, the seal SE is shown by a dotted line.
The bank portion BA has a first portion BA1 and a second portion BA2 extending in the first direction X, and a third portion BA3 and a fourth portion BA4 extending in the second direction Y. The first part BA1 and the second part BA2 are connected to the third part BA3 and the fourth part BA4, respectively. The first portion BA1 is located between the display portion DA and the first end portion EG1. The second portion BA2 is located between the display portion DA and the second end portion EG2. The third portion BA3 is located between the display portion DA and the third end portion EG3. The fourth portion BA4 is located between the display portion DA and the fourth end portion EG4. The bank portion BA has slits SL1 to SL3 in the second portion BA2, the third portion BA3, and the fourth portion BA4. That is, the slits SL1 to SL3 are located between the second end portion EG2 and the display unit DA, between the third end portion EG3 and the display unit DA, and between the fourth end portion EG4 and the display unit DA. There is.

溝部GRは、第1方向Xに延出した第1部分GR1及び第2部分GR2と、第2方向Yに延出した第3部分GR3及び第4部分GR4と、を有している。第1部分GR1及び第2部分GR2は、それぞれ第3部分GR3及び第4部分GR4と繋がっている。第1部分GR1は、土手部BAの第1部分BA1の表示部DA側に位置している。第2部分GR2は、土手部BAの第2部分BA2の表示部DA側に位置している。第3部分GR3は、土手部BAの第3部分BA3の表示部DA側に位置している。第4部分GR4は、土手部BAの第4部分BA4の表示部DA側に位置している。 The groove portion GR has a first portion GR1 and a second portion GR2 extending in the first direction X, and a third portion GR3 and a fourth portion GR4 extending in the second direction Y. The first portion GR1 and the second portion GR2 are connected to the third portion GR3 and the fourth portion GR4, respectively. The first portion GR1 is located on the display portion DA side of the first portion BA1 of the bank portion BA. The second portion GR2 is located on the display portion DA side of the second portion BA2 of the bank portion BA. The third portion GR3 is located on the display portion DA side of the third portion BA3 of the bank portion BA. The fourth portion GR4 is located on the display portion DA side of the fourth portion BA4 of the bank portion BA.

シールSEは、第1方向Xに延出した第1部分SE1及び第2部分SE2と、第2方向Yに延出した第3部分SE3及び第4部分SE4と、を有している。第1部分SE1及び第2部分SE2は、それぞれ第3部分SE3及び第4部分SE4と繋がっている。図示した例では、第1部分SE1は、溝部GRの第1部分GR1には重なっているが、土手部BAの第1部分BA1には重なっていない。第2部分SE2は、溝部GRの第2部分GR2及び土手部BAの第2部分BA2に重なっている。第3部分SE3は、溝部GRの第3部分GR3及び土手部BAの第3部分BA3に重なっている。第4部分SE4は、溝部GRの第4部分GR4及び土手部BAの第4部分BA4に重なっている。また、第1部分SE1の幅W21は、第2部分SE2の幅W22、第3部分SE3の幅W23、第4部分SE4の幅W24よりも大きい。 The seal SE has a first portion SE1 and a second portion SE2 extending in the first direction X, and a third portion SE3 and a fourth portion SE4 extending in the second direction Y. The first portion SE1 and the second portion SE2 are connected to the third portion SE3 and the fourth portion SE4, respectively. In the illustrated example, the first portion SE1 overlaps the first portion GR1 of the groove portion GR, but does not overlap with the first portion BA1 of the bank portion BA. The second portion SE2 overlaps the second portion GR2 of the groove portion GR and the second portion BA2 of the bank portion BA. The third portion SE3 overlaps the third portion GR3 of the groove portion GR and the third portion BA3 of the bank portion BA. The fourth portion SE4 overlaps the fourth portion GR4 of the groove portion GR and the fourth portion BA4 of the bank portion BA. Further, the width W21 of the first portion SE1 is larger than the width W22 of the second portion SE2, the width W23 of the third portion SE3, and the width W24 of the fourth portion SE4.

なお、土手部BAは、第1部分BA1において、スリットSL1乃至SL3を有していない。非表示部NDAの第1端部EG1側の幅が、非表示部NDAの第2端部EG2乃至第4端部EG4側の幅より広いため、シールSEの第1部分SE1は土手部BAの第1部分BA1と重なる位置まで延出していない。そのため、第1部分BA1にはスリットSL1乃至SL3が形成されていなくても良い。また、シールSEの第1部分SE1は、第2部分SE2乃至第4部分SE4より大きい幅を有しているため、第1部分SE1の接着強度は、第2部分SE2乃至第4部分SE4のそれぞれの接着強度より強い。よって、第1部分SE1が土手部BAの第1部分BA1と重なっていたとしても、第1部分BA1にスリットSL1乃至SL3が形成されていなくても良い。 The bank portion BA does not have slits SL1 to SL3 in the first portion BA1. Since the width of the non-display portion NDA on the first end EG1 side is wider than the width of the non-display portion NDA on the second end EG2 to the fourth end EG4 side, the first portion SE1 of the seal SE is the bank portion BA. It does not extend to the position where it overlaps with the first part BA1. Therefore, the slits SL1 to SL3 may not be formed in the first portion BA1. Further, since the first portion SE1 of the seal SE has a width larger than that of the second portion SE2 to the fourth portion SE4, the adhesive strength of the first portion SE1 is higher than that of the second portion SE2 to the fourth portion SE4, respectively. Stronger than the adhesive strength of. Therefore, even if the first portion SE1 overlaps with the first portion BA1 of the bank portion BA, the slits SL1 to SL3 may not be formed in the first portion BA1.

次に、本実施形態の変形例について詳細に説明する。
図13は、図11に示した本実施形態の第1変形例を示す断面図である。図13は、図11に示した構成と比較して、スペーサSP1がスリットSL21及びSL22を有している点で相違している。
スリットSL21及びSL22は、スペーサSP1をオーバーコート層OCまで貫通している。シールSEは、スリットSL21及びSL22内に入り込んでいる。また、スペーサSP1は、スリットSL21及びSL22によって分割された分割部SP11、SP12、SP13を有している。分割部SP11は、第3端部EG3の表示部DA側に位置している。分割部SP12は、分割部SP11の表示部DA側に位置している。分割部SP13は、分割部SP12の表示部DA側に位置している。スリットSL21は、分割部SP11と分割部SP12との間に位置している。スリットSL22は、分割部SP12と分割部SP13との間に位置している。
Next, a modification of the present embodiment will be described in detail.
FIG. 13 is a cross-sectional view showing a first modification of the present embodiment shown in FIG. 13 is different from the configuration shown in FIG. 11 in that the spacer SP1 has slits SL21 and SL22.
The slits SL21 and SL22 penetrate the spacer SP1 to the overcoat layer OC. The seal SE has entered the slits SL21 and SL22. Further, the spacer SP1 has divided portions SP11, SP12, and SP13 divided by the slits SL21 and SL22. The split portion SP11 is located on the display portion DA side of the third end portion EG3. The division unit SP12 is located on the display unit DA side of the division unit SP11. The division unit SP13 is located on the display unit DA side of the division unit SP12. The slit SL21 is located between the split portion SP11 and the split portion SP12. The slit SL22 is located between the split portion SP12 and the split portion SP13.

分割部SP11は幅W11を有し、分割部SP12は幅W12を有し、分割部SP13は幅W13を有している。本実施形態においては、幅W11乃至W13は、それぞれ7μm以上である。また、スリットSL21は分割部SP11と分割部SP12との間において幅W14を有し、スリットSL22は分割部SP12と分割部SP13との間において幅W15を有している。本実施形態においては、幅W14及びW15は、それぞれ10μm以上である。また、図10に示したように、幅W11乃至W15を足し合わせた幅W3は、約50μmとなる。 The split portion SP11 has a width W11, the split portion SP12 has a width W12, and the split portion SP13 has a width W13. In the present embodiment, the widths W11 to W13 are 7 μm or more, respectively. Further, the slit SL21 has a width W14 between the split portion SP11 and the split portion SP12, and the slit SL22 has a width W15 between the split portion SP12 and the split portion SP13. In the present embodiment, the widths W14 and W15 are 10 μm or more, respectively. Further, as shown in FIG. 10, the width W3 obtained by adding the widths W11 to W15 is about 50 μm.

分割部SP11は、土手部BAの分割部DD1と対向している。分割部SP12は、土手部BAの分割部DD2と対向している。分割部SP13は、土手部BAの分割部DD4と対向している。すなわち、スペーサSP1の分割部SP11乃至SP13は、それぞれ土手部BAの分割部DD1乃至DD4の何れかと対向する位置に配置される。 The split portion SP11 faces the split portion DD1 of the bank portion BA. The split portion SP12 faces the split portion DD2 of the bank portion BA. The split portion SP13 faces the split portion DD4 of the bank portion BA. That is, the divided portions SP11 to SP13 of the spacer SP1 are arranged at positions facing any of the divided portions DD1 to DD4 of the bank portion BA, respectively.

スペーサSP1がスリットSL21及びSL22を有している場合にも、フィラー100をシールSEとともにスリットSL21及びSL22内に均等に分散させることができる。また、スリットSL21及びSL22によって、シールSEとスペーサSP1との間の接着面積を拡大することができる。また、スペーサSP1がスリットSL21及びSL22を有している場合にも、表示パネルPNLが大判から単個にカットされる際のスペーサSP1の支持機能を保つことができる。なお、図示した例では、スペーサSP1は2本のスリットSL21及びSL22を有しているが、スペーサSP1は1本のスリットを有していても良いし、3本以上のスリットを有していても良い。
このような変形例においても上記したのと同様の効果を得ることができる。
Even when the spacer SP1 has the slits SL21 and SL22, the filler 100 can be evenly dispersed in the slits SL21 and SL22 together with the seal SE. Further, the slits SL21 and SL22 can increase the adhesive area between the seal SE and the spacer SP1. Further, even when the spacer SP1 has the slits SL21 and SL22, the support function of the spacer SP1 when the display panel PNL is cut into a single piece from a large size can be maintained. In the illustrated example, the spacer SP1 has two slits SL21 and SL22, but the spacer SP1 may have one slit or three or more slits. Is also good.
Even in such a modified example, the same effect as described above can be obtained.

図14は、図13に示したスペーサSPのスリットSL21及びSL22の位置を示す平面図である。図14においては、スペーサSP1は左上がり斜線で示されている。
スペーサSP1は、第1方向Xに延出した第1部分SPP1及び第2部分SPP2と、第2方向Yに延出した第3部分SPP3及び第4部分SPP4と、を有している。第1部分SPP1及び第2部分SPP2は、それぞれ第3部分SPP3及び第4部分SPP4と繋がっている。第1部分SPP1は、表示部DAと第1端部EG1との間に位置している。第2部分SPP2は、表示部DAと第2端部EG2との間に位置している。第3部分SPP3は、表示部DAと第3端部EG3との間に位置している。第4部分SPP4は、表示部DAと第4端部EG4との間に位置している。スペーサSP1は、第2部分SPP2、第3部分SPP3、第4部分SPP4において、スリットSL21及びSL22を有している。すなわち、スリットSL21及びSL22は、第2端部EG2と表示部DAとの間、第3端部EG3と表示部DAとの間、第4端部EG4と表示部DAとの間に位置している。
FIG. 14 is a plan view showing the positions of the slits SL21 and SL22 of the spacer SP shown in FIG. In FIG. 14, the spacer SP1 is shown by a diagonal line rising to the left.
The spacer SP1 has a first portion SPP1 and a second portion SPP2 extending in the first direction X, and a third portion SPP3 and a fourth portion SPP4 extending in the second direction Y. The first part SPP1 and the second part SPP2 are connected to the third part SPP3 and the fourth part SPP4, respectively. The first portion SPP1 is located between the display portion DA and the first end portion EG1. The second portion SPP2 is located between the display portion DA and the second end portion EG2. The third portion SPP3 is located between the display portion DA and the third end portion EG3. The fourth portion SPP4 is located between the display portion DA and the fourth end portion EG4. The spacer SP1 has slits SL21 and SL22 in the second portion SPP2, the third portion SPP3, and the fourth portion SPP4. That is, the slits SL21 and SL22 are located between the second end portion EG2 and the display unit DA, between the third end portion EG3 and the display unit DA, and between the fourth end portion EG4 and the display unit DA. There is.

図示した例では、シールSEの第1部分SE1は、スペーサSP1の第1部分SPP1に重なっていない。第2部分SE2は、スペーサSP1の第2部分SPP2に重なっている。第3部分SE3は、スペーサSP1の第3部分SPP3に重なっている。第4部分SE4は、スペーサSP1の第4部分SPP4に重なっている。 In the illustrated example, the first portion SE1 of the seal SE does not overlap the first portion SPP1 of the spacer SP1. The second portion SE2 overlaps the second portion SPP2 of the spacer SP1. The third portion SE3 overlaps with the third portion SPP3 of the spacer SP1. The fourth portion SE4 overlaps with the fourth portion SPP4 of the spacer SP1.

なお、スペーサSP1は、第1部分SPP1において、スリットSL21及びSL22を有していない。非表示部NDAの第1端部EG1側の幅が、非表示部NDAの第2端部EG2乃至第4端部EG4側の幅より広いため、シールSEの第1部分SE1はスペーサSP1の第1部分SPP1と重なる位置まで延出していない。そのため、第1部分SPP1にはスリットSL21及びSL22が形成されていなくても良い。また、シールSEの第1部分SE1は、第2部分SE2乃至第4部分SE4より大きい幅を有しているため、第1部分SE1の接着強度は、第2部分SE2乃至第4部分SE4のそれぞれの接着強度より強い。よって、第1部分SE1がスペーサSP1の第1部分SPP1と重なっていたとしても、第1部分SPP1にスリットSL21及びSL22が形成されていなくても良い。 The spacer SP1 does not have the slits SL21 and SL22 in the first portion SPP1. Since the width of the non-display portion NDA on the first end EG1 side is wider than the width of the non-display portion NDA on the second end EG2 to the fourth end EG4 side, the first portion SE1 of the seal SE is the first of the spacer SP1. It does not extend to the position where it overlaps with one partial SPP1. Therefore, the slits SL21 and SL22 may not be formed in the first portion SPP1. Further, since the first portion SE1 of the seal SE has a width larger than that of the second portion SE2 to the fourth portion SE4, the adhesive strength of the first portion SE1 is higher than that of the second portion SE2 to the fourth portion SE4, respectively. Stronger than the adhesive strength of. Therefore, even if the first portion SE1 overlaps with the first portion SPP1 of the spacer SP1, the slits SL21 and SL22 may not be formed in the first portion SPP1.

図15は、図11に示した本実施形態の第2変形例を示す断面図である。図15は、図11に示した構成と比較して、スリットSL1が絶縁膜14を貫通していない点で相違している。
すなわち、スリットSL1は、絶縁膜15を絶縁膜14まで貫通している。なお、スリットSL2及びSL3も、絶縁膜14を貫通していなくても良い。もしくは、スリットSL1乃至SL3のうち、何れか1つ又は2つのスリットが絶縁膜14を貫通しないスリットであっても良い。
このような変形例においても上記したのと同様の効果を得ることができる。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing a second modification of the present embodiment shown in FIG. FIG. 15 is different from the configuration shown in FIG. 11 in that the slit SL1 does not penetrate the insulating film 14.
That is, the slit SL1 penetrates the insulating film 15 to the insulating film 14. The slits SL2 and SL3 do not have to penetrate the insulating film 14. Alternatively, one or two of the slits SL1 to SL3 may be slits that do not penetrate the insulating film 14.
Even in such a modified example, the same effect as described above can be obtained.

以上説明したように、本実施形態によれば、信頼性の向上が可能な表示装置を得ることができる。 As described above, according to the present embodiment, it is possible to obtain a display device capable of improving reliability.

本実施形態にて開示した主要な構成は、液晶表示装置に適用可能である。また、本明細書中の、略等しい、という表現は製造工程上の誤差を考慮したものである。また、本実施形態において、土手部BA等の第1基板SUB1上に配置される部材の幅は、最も絶縁基板10側で計測するものとし、スペーサSP1等の第2基板SUB2上に配置される部材の幅は、最も絶縁基板20側で計測するものとする。 The main configuration disclosed in this embodiment is applicable to a liquid crystal display device. In addition, the expression "substantially equal" in the present specification takes into consideration errors in the manufacturing process. Further, in the present embodiment, the width of the member arranged on the first substrate SUB1 such as the bank portion BA is measured on the most insulating substrate 10 side, and is arranged on the second substrate SUB2 such as the spacer SP1. The width of the member shall be measured on the side of the insulating substrate 20 most.

また、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。 In addition, although some embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other embodiments, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and variations thereof are included in the scope and gist of the invention, and are also included in the scope of the invention described in the claims and the equivalent scope thereof.

DSP…表示装置、PNL…表示パネル、SUB1…第1基板、SUB2…第2基板、
SE…シール、DA…表示部、NDA…非表示部、14、15、16…絶縁膜、
BA…土手部、SL1、SL2、SL3、SL21、SL22…スリット、
DD1~DD4…分割部、DE…ドレイン電極、SW…スイッチング素子、
CH11、CH21、CH31…貫通孔、ME…金属電極、PE…画素電極、
TE…透明電極、GR…溝部、W41~W47、W51~W57…幅、
SS1~SS6…側面、EG1…第1端部、EG2…第2端部、EG3…第3端部、
EG4…第4端部、MA…実装部、SP1…スペーサ、100…フィラー、
DM…径、SP11、SP12、SP13…分割部。
DSP ... Display device, PNL ... Display panel, SUB1 ... 1st board, SUB2 ... 2nd board,
SE ... seal, DA ... display unit, NDA ... non-display unit, 14, 15, 16 ... insulating film,
BA ... Bank, SL1, SL2, SL3, SL21, SL22 ... Slit,
DD1 to DD4 ... Divided part, DE ... Drain electrode, SW ... Switching element,
CH11, CH21, CH31 ... Through holes, ME ... Metal electrodes, PE ... Pixel electrodes,
TE ... transparent electrode, GR ... groove, W41 to W47, W51 to W57 ... width,
SS1 to SS6 ... side surface, EG1 ... first end, EG2 ... second end, EG3 ... third end,
EG4 ... 4th end, MA ... mounting part, SP1 ... spacer, 100 ... filler,
DM ... Diameter, SP11, SP12, SP13 ... Divided part.

Claims (15)

画像を表示する表示部、及び、前記表示部を囲む非表示部を有する表示パネルを備え、
前記表示パネルは、
絶縁基板と、第1有機絶縁膜と、前記第1有機絶縁膜の上に配置された第2有機絶縁膜と、前記非表示部において前記第1有機絶縁膜及び前記第2有機絶縁膜によって構成された土手部と、を備える第1基板と、
前記第1基板と対向する第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板とを接着するシールと、を備え、
前記土手部は、前記第1有機絶縁膜と前記第2有機絶縁膜を貫通する第1スリットと、前記第1スリットによって分割された第1分割部及び第2分割部と、を有し、前記絶縁基板側から前記第2基板側に突出し、前記表示部よりも前記表示パネルの外形端部の近傍に位置し、
前記シールは、前記第1スリット内に配置され
前記第1スリットのうち前記第2有機絶縁膜を貫通する部分の幅は、前記第1スリットのうち前記第1有機絶縁膜を貫通する部分の幅より大きい、表示装置。
A display panel having a display unit for displaying an image and a non-display unit surrounding the display unit is provided.
The display panel is
It is composed of an insulating substrate, a first organic insulating film, a second organic insulating film arranged on the first organic insulating film, and the first organic insulating film and the second organic insulating film in the non-display portion. A first board with a bank, and
The second substrate facing the first substrate and
A seal for adhering the first substrate and the second substrate is provided.
The bank portion has a first organic insulating film, a first slit penetrating the second organic insulating film, and a first divided portion and a second divided portion divided by the first slit. It protrudes from the insulating substrate side to the second substrate side and is located closer to the outer peripheral end portion of the display panel than the display unit.
The seal is placed in the first slit and
A display device in which the width of the portion of the first slit penetrating the second organic insulating film is larger than the width of the portion of the first slit penetrating the first organic insulating film .
前記第1基板は、前記非表示部において前記第1有機絶縁膜及び前記第2有機絶縁膜を貫通する溝部を有し、
前記土手部は、前記表示パネルの端部と前記溝部との間に位置し、
前記溝部の前記第1有機絶縁膜を貫通する部分の幅は、前記第1スリットの前記第1有機絶縁膜を貫通する部分の幅より大きく、
前記溝部の前記第2有機絶縁膜を貫通する部分の幅は、前記第1スリットの前記第2有機絶縁膜を貫通する部分の幅より大きく、
前記溝部の幅は、前記土手部の幅より大きい、請求項1に記載の表示装置。
The first substrate has a groove portion that penetrates the first organic insulating film and the second organic insulating film in the non-display portion.
The bank portion is located between the end portion of the display panel and the groove portion .
The width of the portion of the groove portion penetrating the first organic insulating film is larger than the width of the portion of the first slit penetrating the first organic insulating film.
The width of the portion of the groove portion penetrating the second organic insulating film is larger than the width of the portion of the first slit penetrating the second organic insulating film.
The display device according to claim 1 , wherein the width of the groove portion is larger than the width of the bank portion .
前記第1基板は、前記表示部において、さらに、ドレイン電極を有するスイッチング素子と、
前記第1有機絶縁膜を前記ドレイン電極まで貫通する第1貫通孔において前記ドレイン電極に接する金属電極と、
前記金属電極と電気的に接続された画素電極と、を備える、請求項2に記載の表示装置。
The first substrate has a switching element having a drain electrode and a switching element in the display unit .
A metal electrode in contact with the drain electrode in the first through hole penetrating the first organic insulating film to the drain electrode,
The display device according to claim 2, further comprising a pixel electrode electrically connected to the metal electrode.
前記第1基板は、さらに、前記第2有機絶縁膜を前記金属電極まで貫通する第2貫通孔において前記金属電極に接する透明電極と、
前記第2有機絶縁膜の上に位置し、前記透明電極まで貫通した第3貫通孔を有する無機絶縁膜と、を備え、
前記画素電極は、前記無機絶縁膜の上に位置し、前記第3貫通孔において前記透明電極に接する、請求項3に記載の表示装置。
The first substrate further comprises a transparent electrode in contact with the metal electrode in a second through hole penetrating the second organic insulating film to the metal electrode.
An inorganic insulating film located on the second organic insulating film and having a third through hole penetrating to the transparent electrode is provided.
The display device according to claim 3, wherein the pixel electrode is located on the inorganic insulating film and is in contact with the transparent electrode in the third through hole.
前記第1分割部の前記第1有機絶縁膜の幅は、前記第1分割部の前記第2有機絶縁膜の幅より大きく、
前記第2分割部の前記第1有機絶縁膜の幅は、前記第2分割部の前記第2有機絶縁膜の幅より大きい、請求項1乃至4の何れか1項に記載の表示装置。
The width of the first organic insulating film of the first partitioning portion is larger than the width of the second organic insulating film of the first partitioning portion.
The display device according to any one of claims 1 to 4, wherein the width of the first organic insulating film of the second divided portion is larger than the width of the second organic insulating film of the second divided portion.
前記第1スリットの側面は、前記第1有機絶縁膜と前記第2有機絶縁膜との間で段差を有する、請求項1乃至の何れか1項に記載の表示装置。 The display device according to any one of claims 1 to 5 , wherein the side surface of the first slit has a step between the first organic insulating film and the second organic insulating film. 前記表示パネルは、第1方向に延出した第1端部及び第2端部と、前記第1方向と交差する第2方向に延出した第3端部及び第4端部と、前記表示部と前記第1端部との間の実装部と、を有し、
前記第1スリットは、前記第2端部と前記表示部との間、前記第3端部と前記表示部との間、及び、前記第4端部と前記表示部との間に位置する、請求項1乃至の何れか1項に記載の表示装置。
The display panel includes a first end portion and a second end portion extending in a first direction, a third end portion and a fourth end portion extending in a second direction intersecting the first direction, and the display. It has a mounting portion between the portion and the first end portion, and has.
The first slit is located between the second end and the display, between the third end and the display, and between the fourth end and the display. The display device according to any one of claims 1 to 6 .
前記土手部は、前記第1有機絶縁膜と前記第2有機絶縁膜を貫通する第2スリットと、前記第2スリットによって分割された第3分割部と、を有し、
前記シールは、前記第2スリット内に配置される、請求項1乃至の何れか1項に記載の表示装置。
The bank portion has a first organic insulating film, a second slit penetrating the second organic insulating film, and a third divided portion divided by the second slit.
The display device according to any one of claims 1 to 7 , wherein the seal is arranged in the second slit.
前記土手部は、前記第2有機絶縁膜を前記第1有機絶縁膜まで貫通する第3スリットを有する、請求項1乃至の何れか1項に記載の表示装置。 The display device according to any one of claims 1 to 8 , wherein the bank portion has a third slit that penetrates the second organic insulating film to the first organic insulating film. 前記第2基板は、前記表示パネルの前記外形端部の近傍に位置し、前記第1基板側に突出したスペーサを備え、
前記土手部は、前記スペーサと対向する、請求項1乃至の何れか1項に記載の表示装置。
The second substrate is located in the vicinity of the outer peripheral end portion of the display panel, and includes a spacer protruding toward the first substrate side.
The display device according to any one of claims 1 to 9 , wherein the bank portion faces the spacer.
さらに、前記シールに拡散された複数のフィラーを備え、
前記第1分割部と前記スペーサとの間の間隔、及び、前記第2分割部と前記スペーサとの間の間隔は、前記フィラーの径と略等しい、請求項10に記載の表示装置。
In addition, the seal is provided with a plurality of diffused fillers.
The display device according to claim 10 , wherein the distance between the first division portion and the spacer and the distance between the second division portion and the spacer are substantially equal to the diameter of the filler.
前記土手部の端部、及び、前記スペーサの端部は、前記表示パネルの端部に位置する、請求項10又は11に記載の表示装置。 The display device according to claim 10 , wherein the end portion of the bank portion and the end portion of the spacer are located at the end portion of the display panel. 前記スペーサは、前記スペーサを貫通する第4スリットと、前記第4スリットによって分割された第4分割部及び第5分割部と、を有し、
前記シールは、前記第4スリット内に配置される、請求項10乃至12の何れか1項に記載の表示装置。
The spacer has a fourth slit penetrating the spacer, and a fourth division portion and a fifth division portion divided by the fourth slit.
The display device according to any one of claims 10 to 12 , wherein the seal is arranged in the fourth slit.
前記表示パネルは、第1方向に延出した第1端部及び第2端部と、前記第1方向と交差する第2方向に延出した第3端部及び第4端部と、前記表示部と前記第1端部との間の実装部と、を有し、
前記第4スリットは、前記第2端部と前記表示部との間、前記第3端部と前記表示部との間、及び、前記第4端部と前記表示部との間に位置する、請求項13に記載の表示装置。
The display panel includes a first end portion and a second end portion extending in a first direction, a third end portion and a fourth end portion extending in a second direction intersecting the first direction, and the display. It has a mounting portion between the portion and the first end portion, and has.
The fourth slit is located between the second end and the display, between the third end and the display, and between the fourth end and the display. The display device according to claim 13 .
前記スペーサは、前記スペーサを貫通する第5スリットと、前記第5スリットによって分割された第6分割部と、を有し、
前記シールは、前記第5スリット内に配置される、請求項13又は14に記載の表示装置。
The spacer has a fifth slit penetrating the spacer and a sixth divided portion divided by the fifth slit.
The display device according to claim 13 , wherein the seal is arranged in the fifth slit.
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