JP7017572B2 - 選択的触媒還元システム - Google Patents
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Description
また、前記制御部は、前記第2の制御モードの完了後、前記空気供給部を動作させ、前記反応器及び前記再循環流路の内部圧力を、予め設定された圧力に維持させる、流路ベント制御モードをさらに含むことができる。
図面においては、各構成要素を理解し易くするために縮尺を適宜調節して示しており、図面に示される各構成要素の縮尺と実際の構成要素の縮尺とは必ずしも一致していない。2つ以上の図面において同じ構成要素又は部材には、類似した特性を有することを示すため、同じ参照符号が付してある。
以下、図1~図4を参照して、本発明の一実施例に係る選択的触媒還元システム101について説明する。
従って、制御部900が還元剤ファジー制御モードである時、還元剤供給ライン630に残留する還元剤は、洗浄水供給部640から供給された洗浄水によって、再循環流路350に希釈されて供給され、このような再循環流路350に供給された還元剤は、流路ファジー制御モードである時、反応器200を通過した後、外部に排出されるようになる。
制御部における還元剤ファジー制御モード(S100)を優先して、その過程について順次説明する。
又は、洗浄水供給弁の開放時間が、予め設定された洗浄水供給弁の開放時間を超過する場合は、洗浄水供給弁を閉鎖する(S140)。
又は、洗浄空気供給弁の開放時間が、予め設定された洗浄空気供給弁の開放時間を超過する場合は、洗浄空気供給弁を閉鎖する(S170)。
又は、再循環ブロワの動作時間が、予め設定された再循環ブロワの動作時間を超過する場合は、再循環ブロワの動作を中止させる(S270)。
検出された圧力と制御部に予め設定された第1の設定圧力との比較を行う(S330)。
又は、検出された圧力が第1の設定圧力を超過する場合、閉鎖された第1の弁と閉鎖された第2の弁との間の反応器及び再循環流路の内部への空気供給を中止させる。
又は、再検出された圧力が第2の設定圧力未満である場合、閉鎖された第1の弁と閉鎖された第2の弁との間の反応器及び再循環流路の内部への空気供給を再開する(S310)。
101:選択的触媒還元システム
110:第1の弁
120:第2の弁
200:反応器
300:迂回流路
310:迂回弁
350:再循環流路
400:再循環ブロワ
410:新気供給弁
500:加熱部材
510:燃焼空気供給部材
550:新気供給部
610:分解チャンバ
630:還元剤供給ライン
640:洗浄水供給部
650:洗浄空気供給部
700:スートブロワ
800:微粒化空気供給部材
900:制御部
Claims (13)
- 排ガス中の窒素酸化物を除去する選択的触媒還元システムであって、
前記排ガスが通過するメイン流路と、
前記メイン流路の上に設けられ、内部に触媒が設置された反応器と、
前記反応器の後方のメイン流路から分岐され、前記反応器を通過した排ガスが前記反応器の前方のメイン流路に流入されるように再循環させる再循環流路と、前記再循環流路に設けられ、前記反応器を通過した排ガスを前記再循環流路に流入させる再循環ブロワと、
前記再循環流路に還元剤を供給する還元剤供給ラインと、
前記還元剤供給ラインに向けて洗浄水を供給する洗浄水供給部と、
前記還元剤供給ラインへの還元剤の供給を遮断した後、前記洗浄水供給部を制御して前記還元剤供給ラインに残留する還元剤又は異物を除去する第1の制御モードと、前記再循環ブロワを動作させて前記反応器及び前記再循環流路の内部に残留する排ガスが前記反応器を通過した後に前記反応器の後方に排出されるように、前記排ガスを除去する第2の制御モードとを含み、前記第1の制御モードを行った後、前記第2の制御モードを行う制御部と、を含む、選択的触媒還元システム。 - 前記反応器又は前記再循環流路に空気を供給させる空気供給部をさらに含む、請求項1に記載の選択的触媒還元システム。
- 前記制御部は、
前記第2の制御モードの完了後、前記空気供給部を動作させ、前記反応器及び前記再循環流路の内部圧力を、予め設定された圧力に維持させる、流路ベント制御モードをさらに含む、請求項2に記載の選択的触媒還元システム。 - 前記還元剤供給ラインに洗浄空気を供給する洗浄空気供給部をさらに含み、
前記制御部は、
前記第1の制御モードである時、前記洗浄水供給部の動作後、前記空気供給部を制御し、前記還元剤供給ラインに残留する洗浄水又は異物を除去することを特徴とする、請求項2に記載の選択的触媒還元システム。 - 前記再循環流路に設けられ、前記還元剤供給ラインを介して還元剤が噴射される分解チャンバと、
前記制御部により制御され、前記還元剤供給ラインに供給される洗浄水の供給を制御する洗浄水制御弁と、
前記制御部により制御され、前記還元剤供給ラインに供給される洗浄空気の供給を制御する洗浄空気制御弁と、を含む、請求項4に記載の選択的触媒還元システム。 - 前記反応器の前方のメイン流路から分岐され、前記排ガスを、前記反応器を迂回して前記反応器の後方のメイン流路に合流させる迂回流路と、
前記迂回流路への排ガスの流入を選択的に遮蔽可能な迂回弁と、
前記反応器の前方のメイン流路に設けられた第1の弁と、
前記反応器の後方のメイン流路に設けられた第2の弁と、をさらに含み、
前記制御部は、
前記第2の制御モードである時、前記迂回弁を開放し、前記第1の弁を閉鎖し、前記第2の弁を一部開放した後、前記再循環ブロワを動作させることを特徴とする、請求項3に記載の選択的触媒還元システム。 - 前記制御部は、
前記再循環ブロワの作動時に、前記空気供給部を動作させ、前記反応器の前方及び前記再循環流路の上に残留する排ガスを、前記反応器を通過して前記反応器の後方のメイン流路に排出させることを特徴とする、請求項6に記載の選択的触媒還元システム。 - 前記制御部は、
前記再循環ブロワを、予め設定された再循環ブロワ動作時間の間に動作させた後、前記再循環ブロワの動作を中止させ、前記第2の弁を閉鎖し、前記空気供給部の動作を停止させた後、前記第2の制御モードを完了することを特徴とする、請求項7に記載の選択的触媒還元システム。 - 閉鎖された前記第1の弁と閉鎖された第2の弁との間の前記メイン流路又は前記再循環流路の内部圧力を検出する圧力検出センサをさらに含む、請求項8に記載の選択的触媒還元システム。
- 前記再循環流路の上に設けられ、前記再循環流路を通過する排ガスを昇温可能な加熱部材をさらに含む、請求項2に記載の選択的触媒還元システム。
- 前記空気供給部は、
前記加熱部材の燃焼時に必要な外気を供給する燃焼空気供給部材、及び、前記再循環流路に供給された還元剤の微粒化又は前記加熱部材に噴射される燃料の微粒化を行うための空気を供給する微粒化空気供給部材のうちのいずれか1つであることを特徴とする、請求項10に記載の選択的触媒還元システム。 - 前記空気供給部は、
前記反応器内の触媒に向けて流体を供給するスートブロワ、又は、前記再循環流路に新気を供給する新気供給弁のうちのいずれか1つであることを特徴とする、請求項2に記載の選択的触媒還元システム。 - 排ガス中の窒素酸化物を除去する選択的触媒還元システムであって、
前記排ガスが通過するメイン流路と、
前記メイン流路の上に設けられ、内部に触媒が設置された反応器と、
前記反応器の後方のメイン流路から分岐され、前記反応器を通過した排ガスが前記反応器の前方のメイン流路に流入されるように再循環させる再循環流路と、
前記再循環流路に設けられ、前記反応器を通過した排ガスを前記再循環流路に流入させる再循環ブロワと、
前記再循環流路に還元剤を供給する還元剤供給ラインと、
前記還元剤供給ラインに向けて洗浄水を供給する洗浄水供給部と、
前記反応器又は前記再循環流路に空気を供給させ、かつ、前記反応器内の触媒に向けて流体を供給するスートブロワ又は前記再循環流路に新気を供給する新気供給弁のうちのいずれか1つを含む空気供給部と、
前記還元剤供給ラインへの還元剤の供給を遮断した後、前記洗浄水供給部を制御して前記還元剤供給ラインに残留する還元剤又は異物を除去する第1の制御モードと、前記再循環ブロワを動作させて前記反応器及び前記再循環流路の内部に残留する排ガスを除去する第2の制御モードと、前記空気供給部を動作させて前記反応器又は前記再循環流路の内部圧力を増大させる流路ベント制御モードとを含み、前記第1の制御モードと前記第2の制御モードと前記流路ベント制御モードとを順に行う制御部と、を含む、選択的触媒還元システム。
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