JP7016022B2 - Terminal - Google Patents

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Description

本開示は、端子に関する。 The present disclosure relates to terminals.

従来、コイル端末(金属ワイヤ)が巻きつけられることで当該コイル端末に接続された端子(柱状金属端子)が特許文献1に開示されている。 Conventionally, Patent Document 1 discloses a terminal (columnar metal terminal) connected to the coil terminal by winding the coil terminal (metal wire).

特開平11-186023号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 11-186023

ところで、金属ワイヤを柱状金属端子に巻き付ける際に、金属ワイヤと柱状金属端子との密着性が低いと、金属ワイヤと柱状金属端子との接合強度が低下してしまうおそれがある。 By the way, when the metal wire is wound around the columnar metal terminal, if the adhesion between the metal wire and the columnar metal terminal is low, the bonding strength between the metal wire and the columnar metal terminal may decrease.

そこで本開示は、柱状金属端子に対して金属ワイヤを巻き付ける際の作業性を高めることで、巻き付け時における金属ワイヤと柱状金属端子との密着性を高めて、両者の接合強度を確保することができる端子を提供することを目的とする。 Therefore, in the present disclosure, by improving the workability when winding the metal wire around the columnar metal terminal, the adhesion between the metal wire and the columnar metal terminal at the time of winding is improved, and the bonding strength between the two can be ensured. The purpose is to provide a terminal that can be used.

上記目的を達成するために、本開示の一形態に係る端子は、柱状金属端子と、柱状金属端子に対して巻きつけられた金属ワイヤとを備え、金属ワイヤをなす第一金属の融点は、柱状金属端子をなす第二金属の融点よりも低く、金属ワイヤと柱状金属端子との界面には、第一金属と、第二金属との金属間化合物層が設けられている。 In order to achieve the above object, the terminal according to one embodiment of the present disclosure includes a columnar metal terminal and a metal wire wound around the columnar metal terminal, and the melting point of the first metal forming the metal wire is set. It is lower than the melting point of the second metal forming the columnar metal terminal, and an intermetal compound layer between the first metal and the second metal is provided at the interface between the metal wire and the columnar metal terminal.

本開示によれば、柱状金属端子に対して金属ワイヤを巻き付ける際の作業性を高めることができ、結果的に金属ワイヤと柱状金属端子との接合強度を確保することができる。 According to the present disclosure, workability when winding a metal wire around a columnar metal terminal can be enhanced, and as a result, the bonding strength between the metal wire and the columnar metal terminal can be ensured.

図1は、実施の形態に係る端子を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic view showing terminals according to an embodiment. 図2は、実施の形態に係る端子を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a terminal according to an embodiment. 図3は、実施の形態に係り、柱状金属端子に金属ワイヤを絡げた状態を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing a state in which a metal wire is entwined with a columnar metal terminal according to an embodiment. 図4は、実施の形態に係り、柱状金属端子に金属ワイヤを絡げる工程を示すフロー図である。FIG. 4 is a flow chart showing a process of entwining a metal wire around a columnar metal terminal according to an embodiment. 図5は、実施の形態に係り、組立品の作成、熱圧着及び接合の工程を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a process of making an assembly, thermocompression bonding, and joining according to an embodiment. 図6は、実施の形態に係り、組立品の柱状金属端子に対して金属ワイヤを接合する工程を示すフロー図である。FIG. 6 is a flow chart showing a process of joining a metal wire to a columnar metal terminal of an assembly according to an embodiment. 図7は、実施の形態に係る抵抗溶接時における導通経路を例示した説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating a conduction path during resistance welding according to the embodiment. 図8は、実施の形態に係る端子の金属間化合物層及びその周辺を拡大して示す画像である。FIG. 8 is an enlarged image showing the intermetallic compound layer of the terminal and its periphery according to the embodiment. 図9は、実施の形態に係る端子であって、界面長さに対するクラック長さの比率と、金属間化合物の厚さとの関係を示すグラフである。FIG. 9 is a graph showing the relationship between the ratio of the crack length to the interface length and the thickness of the intermetallic compound in the terminal according to the embodiment. 図10は、変形例1に係る端子を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing the terminal according to the modified example 1. 図11は、変形例2に係る端子を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing the terminal according to the modified example 2. 図12は、変形例3に係る端子を示す断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view showing the terminal according to the modified example 3. 図13は、変形例4に係る端子の概略構成を示す正面図である。FIG. 13 is a front view showing a schematic configuration of the terminal according to the modified example 4. 図14は、変形例4に係る端子であって、線径の異なる複数の金属ワイヤが金属接合された状態を示す断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view showing a terminal according to the modified example 4 in which a plurality of metal wires having different wire diameters are metal-bonded.

以下、本開示の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。以下で説明する実施の形態は、いずれも包括的又は具体的な例を示すものである。以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態、ステップ、ステップの順序などは、一例であり、本開示を限定する主旨ではない。また、以下の実施の形態における構成要素のうち、最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。 Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described with reference to the drawings. Each of the embodiments described below is a comprehensive or specific example. The numerical values, shapes, materials, components, arrangement positions and connection forms of the components, steps, the order of steps, etc. shown in the following embodiments are examples, and are not intended to limit the present disclosure. Further, among the components in the following embodiments, the components not described in the independent claim indicating the highest level concept are described as arbitrary components.

なお、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、各図において、実質的に同一の構成に対しては同一の符号を付しており、重複する説明は省略又は簡略化する。 It should be noted that each figure is a schematic view and is not necessarily exactly illustrated. Further, in each figure, the same reference numerals are given to substantially the same configurations, and duplicate explanations will be omitted or simplified.

以下、本開示の実施の形態に係る端子及び端子の接合方法について説明する。 Hereinafter, the terminal and the method of joining the terminal according to the embodiment of the present disclosure will be described.

[構成]
図1は、実施の形態に係る端子1を示す概略図である。図1に示すように、端子1は、モータの一部であるステータ100に対して設けられている。具体的には、端子1は、ステータ100を構成する複数のコイル101に設けられている。端子1は、モータに対して電力を供給する電源部に搭載された回路基板からコイル101に電力供給を行う。端子1は、柱状金属端子10と、金属ワイヤ20とを備えている。
[Constitution]
FIG. 1 is a schematic view showing a terminal 1 according to an embodiment. As shown in FIG. 1, the terminal 1 is provided with respect to the stator 100 which is a part of the motor. Specifically, the terminal 1 is provided on a plurality of coils 101 constituting the stator 100. The terminal 1 supplies electric power to the coil 101 from a circuit board mounted on a power supply unit that supplies electric power to the motor. The terminal 1 includes a columnar metal terminal 10 and a metal wire 20.

図2は、実施の形態に係る端子1を示す断面図である。具体的には、図2は、図1におけるII-II線を含む切断面を見た断面図である。 FIG. 2 is a cross-sectional view showing the terminal 1 according to the embodiment. Specifically, FIG. 2 is a cross-sectional view of the cut surface including the line II-II in FIG.

図2に示すように、柱状金属端子10は、コイル101と電気的に接続された柱状の金属部材である。柱状金属端子10は、金属ワイヤ20の一部である金属線21と電気的に接続されている。具体的には、柱状金属端子10は、金属線21が巻き付けられた状態で金属線21に対して接合されている。柱状金属端子10は、例えば、鉄(Fe)を主成分とする母材層11の周囲を、銅(Cu)を主成分とする第二金属からなるメッキ層12で被覆した部材である。本実施の形態では、金属線21が柱状金属端子10に絡げられた状態で、金属線21と柱状金属端子10とが接合されている。ここで「絡げる」とは、対象物に対して線材が巻き付けられた状態で結ばれていることをいい、結わえられたことで金属線21同士が重なった部分(交差部23:図3参照)が存在していることをいう。金属線21は、交差部23を除き、柱状金属端子10に対して一重で巻き付けられている。 As shown in FIG. 2, the columnar metal terminal 10 is a columnar metal member electrically connected to the coil 101. The columnar metal terminal 10 is electrically connected to the metal wire 21 which is a part of the metal wire 20. Specifically, the columnar metal terminal 10 is joined to the metal wire 21 in a state in which the metal wire 21 is wound. The columnar metal terminal 10 is, for example, a member in which the periphery of a base metal layer 11 containing iron (Fe) as a main component is coated with a plating layer 12 made of a second metal containing copper (Cu) as a main component. In the present embodiment, the metal wire 21 and the columnar metal terminal 10 are joined in a state where the metal wire 21 is entwined with the columnar metal terminal 10. Here, "entangled" means that the wire is tied around the object in a wound state, and the portion where the metal wires 21 overlap each other due to the tied (intersection 23: FIG. 3). See) means that it exists. The metal wire 21 is singly wound around the columnar metal terminal 10 except for the intersection 23.

金属接合は、例えば、接合対象同士によって構成される金属間化合物層を、接合対象同士の界面に形成可能な接合方法のことである。金属接合には、熱圧着、超音波接合、拡散接合及び抵抗溶接などが含まれる。本実施の形態では、金属接合の一例である抵抗溶接によって、金属線21を柱状金属端子10に溶接する場合について説明する。抵抗溶接は、柱状金属端子10に金属線21を金属接合することに関して、他の接合方法と比べても好適である。 Metal bonding is, for example, a bonding method capable of forming an intermetallic compound layer composed of bonding objects at an interface between bonding objects. Metal bonding includes thermocompression bonding, ultrasonic bonding, diffusion bonding and resistance welding. In this embodiment, a case where the metal wire 21 is welded to the columnar metal terminal 10 by resistance welding, which is an example of metal bonding, will be described. Resistance welding is more suitable than other joining methods in terms of metal joining the metal wire 21 to the columnar metal terminal 10.

母材層11は、例えば、軸方向視において短辺が約0.4mm、長辺が0.6mmの長方形であり、メッキ層12の厚みは約25μmとなっている。また、金属ワイヤ20では、金属線21の線径は約0.15mmである。 The base metal layer 11 is, for example, a rectangle having a short side of about 0.4 mm and a long side of 0.6 mm in the axial direction, and the thickness of the plating layer 12 is about 25 μm. Further, in the metal wire 20, the wire diameter of the metal wire 21 is about 0.15 mm.

柱状金属端子10は、軸方向視において四角形である。なお、柱状金属端子10は、軸方向視において四角形であることに限定されず、例えば、四角形以外の多角形状、円形状、楕円形状、長円形状などであってもよい。 The columnar metal terminal 10 is a quadrangle in the axial direction. The columnar metal terminal 10 is not limited to a quadrangle in the axial direction, and may be, for example, a polygonal shape other than the quadrangle, a circular shape, an elliptical shape, an oval shape, or the like.

この柱状金属端子10は、柱状金属端子10の軸方向と直交する方向の断面が長方形であり、一対の長辺面と、一対の短辺面とを有する。長辺面は、断面が長方形の長辺側を構成する面であり、短辺面は、断面が長方形の短辺側を構成する面である。柱状金属端子10の長辺面は、金属線21が金属接合される接合端子面110である。なお、柱状金属端子10の軸方向と直交する方向の断面は、長辺と短辺の区別がない形状、つまり正方形であってもよい。この場合、柱状金属端子における対向する一対の側面を、接合端子面とすることができる。 The columnar metal terminal 10 has a rectangular cross section in a direction orthogonal to the axial direction of the columnar metal terminal 10, and has a pair of long side surfaces and a pair of short side surfaces. The long side surface is a surface whose cross section constitutes the long side of a rectangle, and the short side surface is a surface whose cross section constitutes the short side of a rectangle. The long side surface of the columnar metal terminal 10 is a joint terminal surface 110 to which the metal wire 21 is metal-bonded. The cross section of the columnar metal terminal 10 in the direction orthogonal to the axial direction may have a shape in which there is no distinction between a long side and a short side, that is, a square. In this case, the pair of facing side surfaces of the columnar metal terminal can be the joint terminal surface.

金属線21は、金属ワイヤ20の一部を構成し、金属製の線材である。具体的には、金属線21は、アルミニウム(Al)を主成分とする第一金属から形成されている。金属線21は、当該金属線21同士が柱状金属端子10の周方向に重なりあう交差部23を形成している。交差部23は、いずれかの短辺面と接触するように形成されている。 The metal wire 21 constitutes a part of the metal wire 20 and is a metal wire. Specifically, the metal wire 21 is formed of a first metal containing aluminum (Al) as a main component. The metal wire 21 forms an intersection 23 in which the metal wires 21 overlap each other in the circumferential direction of the columnar metal terminal 10. The intersection 23 is formed so as to be in contact with either short side surface.

柱状金属端子10の接合端子面110と、金属線21との界面には、金属接合により形成された金属間化合物層24が形成されている。金属間化合物層24は、メッキ層12を形成する第二金属と、金属線21を形成する第一金属との合金からなる。具体的には、金属間化合物層24は、第一金属と第二金属とが、抵抗溶接によって一時的に混ざり合った後に再硬化することで形成されている。金属間化合物層24の厚み(層厚)は、5μm以下であるとよい。 An intermetallic compound layer 24 formed by metal bonding is formed at the interface between the bonding terminal surface 110 of the columnar metal terminal 10 and the metal wire 21. The intermetallic compound layer 24 is made of an alloy of the second metal forming the plating layer 12 and the first metal forming the metal wire 21. Specifically, the intermetallic compound layer 24 is formed by temporarily mixing the first metal and the second metal by resistance welding and then re-curing. The thickness (layer thickness) of the intermetallic compound layer 24 is preferably 5 μm or less.

[端子の接合方法]
柱状金属端子10への金属ワイヤ20の接合方法について説明する。
[Terminal joining method]
A method of joining the metal wire 20 to the columnar metal terminal 10 will be described.

まず、接合前の、柱状金属端子10と金属ワイヤ20とについて説明をする。 First, the columnar metal terminal 10 and the metal wire 20 before joining will be described.

柱状金属端子10は、軸方向視長方形状の四角柱状であり、その側面のうち、一対の長辺面が接合端子面110である。また、この接合端子面110には、金属線21の交差部23は配置されず、柱状金属端子10の一対の短辺面に対してのみ交差部23が配置される。柱状金属端子10は、例えば、母材層11の周囲をメッキ層12で被覆した部材であり、接合前の時点では金属間化合物層24は形成されていない。上述したように、メッキ層12は、銅を主成分とする第二金属から形成されているために、銅の融点(1083℃)に準じた融点となっている。 The columnar metal terminal 10 is a rectangular columnar shape having a rectangular shape in the axial direction, and a pair of long side surfaces thereof are joint terminal surfaces 110. Further, the intersecting portion 23 of the metal wire 21 is not arranged on the joint terminal surface 110, and the intersecting portion 23 is arranged only on the pair of short side surfaces of the columnar metal terminal 10. The columnar metal terminal 10 is, for example, a member in which the periphery of the base metal layer 11 is covered with the plating layer 12, and the intermetallic compound layer 24 is not formed at the time before joining. As described above, since the plating layer 12 is formed of a second metal containing copper as a main component, it has a melting point according to the melting point of copper (1083 ° C.).

また、金属ワイヤ20は、金属線21に絶縁性の樹脂からなる樹脂層22が被膜されている。金属ワイヤ20は、例えば、エナメル線、リード線等である。金属線21は、例えば、アルミニウムを主成分とする第一金属で構成されている。樹脂層22は、例えばウレタン、ポリエステル、ポリエステルイミド、ポリアミドイミド等の樹脂材料で構成されている。また、上述したように、金属線21は、アルミニウムを主成分とする第一金属から形成されているために、アルミニウムの融点(660℃)に準じた融点となっている。 Further, in the metal wire 20, the metal wire 21 is coated with a resin layer 22 made of an insulating resin. The metal wire 20 is, for example, an enamel wire, a lead wire, or the like. The metal wire 21 is made of, for example, a first metal containing aluminum as a main component. The resin layer 22 is made of a resin material such as urethane, polyester, polyesterimide, or polyamideimide. Further, as described above, since the metal wire 21 is formed of a first metal containing aluminum as a main component, it has a melting point according to the melting point of aluminum (660 ° C.).

図3は、実施の形態に係り、柱状金属端子10に金属ワイヤ20を絡げた状態を示す説明図である。図3の(a)は、柱状金属端子10の軸方向と直交する方向から見た、柱状金属端子10に金属ワイヤ20を絡げた状態を示す。図3の(b)は、柱状金属端子10の軸方向から見た、柱状金属端子10に金属ワイヤ20を絡げた状態を示す。また、図4は、実施の形態に係り、柱状金属端子10に金属ワイヤ20を絡げる工程を示すフロー図である。 FIG. 3 is an explanatory diagram showing a state in which the metal wire 20 is entwined with the columnar metal terminal 10 according to the embodiment. FIG. 3A shows a state in which the metal wire 20 is entwined with the columnar metal terminal 10 as viewed from a direction orthogonal to the axial direction of the columnar metal terminal 10. FIG. 3B shows a state in which the metal wire 20 is entwined with the columnar metal terminal 10 as viewed from the axial direction of the columnar metal terminal 10. Further, FIG. 4 is a flow chart showing a process of entwining the metal wire 20 with the columnar metal terminal 10 according to the embodiment.

図3及び図4に示すように、まず、柱状金属端子10は、図示しない治具に対して固定される。これにより、柱状金属端子10は、金属ワイヤ20を巻き付けることが可能な状態となる(S111)。その後、金属ワイヤ20は、一定の張力を受けながら、柱状金属端子10の周囲に対して巻き付けられる。上述したように、金属ワイヤ20の金属線21は、アルミニウムを主成分とする第一金属で形成されている。第一金属の融点は、メッキ層12をなす第二金属の融点よりも低い。具体的には、第一金属の融点は、第二金属の融点よりも300℃以上も低い。つまり、同じ環境温度下にある場合には、金属線21は、メッキ層12よりも柔軟な状態である。金属線21を被覆する樹脂層22も、金属よりも柔軟であるため、金属ワイヤ20は全体的にメッキ層12よりも柔軟である。巻き付け時においては、比較的柔軟な金属ワイヤ20を、比較的高硬度なメッキ層12に巻き付けることとなるため、簡単に金属ワイヤ20をメッキ層12に密着させることが可能である。 As shown in FIGS. 3 and 4, first, the columnar metal terminal 10 is fixed to a jig (not shown). As a result, the columnar metal terminal 10 is in a state where the metal wire 20 can be wound (S111). After that, the metal wire 20 is wound around the columnar metal terminal 10 while receiving a constant tension. As described above, the metal wire 21 of the metal wire 20 is formed of a first metal containing aluminum as a main component. The melting point of the first metal is lower than the melting point of the second metal forming the plating layer 12. Specifically, the melting point of the first metal is 300 ° C. or higher lower than the melting point of the second metal. That is, when the temperature is the same, the metal wire 21 is more flexible than the plating layer 12. Since the resin layer 22 covering the metal wire 21 is also more flexible than the metal, the metal wire 20 is generally more flexible than the plating layer 12. At the time of winding, the relatively flexible metal wire 20 is wound around the plating layer 12 having a relatively high hardness, so that the metal wire 20 can be easily brought into close contact with the plating layer 12.

また、金属ワイヤ20は、1ターン目、2ターン目と巻き付けられる際には、金属ワイヤ20における巻き始め箇所に重なるように柱状金属端子10に巻き付けられる。これにより、金属ワイヤ20同士が交差した交差部23が形成される(S112)。交差部23は、柱状金属端子10の接合端子面110を避けて、いずれかの短辺面と接触するように配置されている。 Further, when the metal wire 20 is wound around the first turn and the second turn, the metal wire 20 is wound around the columnar metal terminal 10 so as to overlap the winding start portion of the metal wire 20. As a result, an intersection 23 in which the metal wires 20 intersect with each other is formed (S112). The intersection 23 is arranged so as to avoid the joint terminal surface 110 of the columnar metal terminal 10 and come into contact with any of the short side surfaces.

さらに、金属ワイヤ20は柱状金属端子10に対して数ターン巻き付けられる(S113)。金属ワイヤ20は、交差部23を除けば概ねコイル状となるように、柱状金属端子10に巻きつけられることとなる。その後、金属ワイヤ20の不要な箇所がニッパ等で切断されて、金属ワイヤ20が整えられることで、図5に示す組立品200が得られる。図5は、実施の形態に係り、組立品200の作成、熱圧着及び接合の工程を示す図である。 Further, the metal wire 20 is wound around the columnar metal terminal 10 for several turns (S113). The metal wire 20 is wound around the columnar metal terminal 10 so as to be substantially coiled except for the intersection 23. After that, unnecessary parts of the metal wire 20 are cut with nippers or the like, and the metal wire 20 is arranged to obtain the assembly 200 shown in FIG. FIG. 5 is a diagram showing steps of making, thermocompression bonding, and joining the assembly 200 according to the embodiment.

次に、金属ワイヤ20は、柱状金属端子10に対して接合される。本実施の形態では、金属ワイヤ20を柱状金属端子10に対して熱圧着及び抵抗溶接を行うことで実現している。 Next, the metal wire 20 is joined to the columnar metal terminal 10. In the present embodiment, the metal wire 20 is realized by thermocompression bonding and resistance welding to the columnar metal terminal 10.

図6は、実施の形態に係り、組立品200の柱状金属端子10に対して金属ワイヤ20を接合する工程を示すフロー図である。図5及び図6に示すように、まず、上述の組立品200は、抵抗溶接機に備わる一対の溶接電極30の間に配置される(S121)。具体的には、柱状金属端子10の一対の接合端子面110aと一対の溶接電極30とが一対一で対向するように、組立品200が一対の溶接電極30の間に配置される。 FIG. 6 is a flow chart showing a step of joining the metal wire 20 to the columnar metal terminal 10 of the assembly 200 according to the embodiment. As shown in FIGS. 5 and 6, first, the above-mentioned assembly 200 is arranged between a pair of welding electrodes 30 provided in a resistance welder (S121). Specifically, the assembly 200 is arranged between the pair of welding electrodes 30 so that the pair of bonding terminal surfaces 110a of the columnar metal terminals 10 and the pair of welding electrodes 30 face each other on a one-to-one basis.

次に、組立品は、一対の溶接電極30によって熱圧着される(S122)。この際に、抵抗溶接機は、一対の溶接電極30に対して、図5の矢印Y1で示すような電流を流す。同時に、抵抗溶接機は、金属線21が潰れるように、一対の溶接電極30で金属線21を挟持し荷重をかける。これにより、一対の溶接電極30が発熱して金属ワイヤ20を加熱するので、金属ワイヤ20の樹脂層22は溶融し、金属ワイヤ20の金属線21から剥離し除去される。一対の溶接電極30は、所定の押込み量だけ、金属線21を押込む。また、一対の溶接電極30により金属線21と柱状金属端子10とが圧着されているため、金属線21と柱状金属端子10とが接触する。 Next, the assembly is thermocompression bonded by a pair of welding electrodes 30 (S122). At this time, the resistance welder passes a current as shown by an arrow Y1 in FIG. 5 through the pair of welding electrodes 30. At the same time, the resistance welder sandwiches the metal wire 21 with a pair of welding electrodes 30 and applies a load so that the metal wire 21 is crushed. As a result, the pair of welding electrodes 30 generate heat to heat the metal wire 20, so that the resin layer 22 of the metal wire 20 is melted and peeled off from the metal wire 21 of the metal wire 20 to be removed. The pair of welding electrodes 30 pushes the metal wire 21 by a predetermined pushing amount. Further, since the metal wire 21 and the columnar metal terminal 10 are crimped by the pair of welding electrodes 30, the metal wire 21 and the columnar metal terminal 10 come into contact with each other.

次に、抵抗溶接機は、一対の溶接電極30に図5の矢印Y2で示すように電流を流すことで、柱状金属端子10と金属線21との電気抵抗に起因して、金属線21及び柱状金属端子10にジュール熱が生じる。これにより、金属線21が溶融することで、金属線21が柱状金属端子10に抵抗溶接される(S123)。 Next, the resistance welding machine causes the metal wire 21 and the metal wire 21 to flow due to the electric resistance between the columnar metal terminal 10 and the metal wire 21 by passing an electric current through the pair of welding electrodes 30 as shown by the arrow Y2 in FIG. Joule heat is generated in the columnar metal terminal 10. As a result, the metal wire 21 is melted, and the metal wire 21 is resistance welded to the columnar metal terminal 10 (S123).

そして、抵抗溶接機は、一対の溶接電極30が組立品にかけていた荷重を解除する。こうして、金属線21が柱状金属端子10と電気的に接続された端子1を得ることができる。 Then, the resistance welder releases the load applied to the assembly by the pair of welding electrodes 30. In this way, the terminal 1 in which the metal wire 21 is electrically connected to the columnar metal terminal 10 can be obtained.

次に、図6のステップS122で行われる熱圧着の際の押込み量について、具体的に説明する。抵抗溶接機は、一対の溶接電極30が互いに近づく方向に、金属線21を押込む。具体的には、抵抗溶接機は、金属ワイヤ20の径、ターン数、耐力を用いて算出される規定の荷重以上で、一対の溶接電極30によって金属ワイヤ20に荷重をかけ金属ワイヤ20を押込み、変形させる。金属ワイヤ20の径から金属ワイヤ20が押込まれた押込み量を差し引いた位置が、柱状金属端子10からの金属ワイヤ20の高さとなる。 Next, the pushing amount at the time of thermocompression bonding performed in step S122 of FIG. 6 will be specifically described. The resistance welder pushes the metal wire 21 in the direction in which the pair of welding electrodes 30 approach each other. Specifically, the resistance welder applies a load to the metal wire 20 by a pair of welding electrodes 30 and pushes the metal wire 20 with a specified load calculated by using the diameter, the number of turns, and the withstand force of the metal wire 20 or more. , Transform. The position obtained by subtracting the pushing amount of the metal wire 20 from the diameter of the metal wire 20 is the height of the metal wire 20 from the columnar metal terminal 10.

また、一対の溶接電極30により金属ワイヤ20を適切に熱圧着するために、ロードセルを用いて、金属線21と一対の溶接電極30とが接触したことを検知する。これにより、抵抗溶接機は、金属線21と接触した地点からの押込み量で金属線21を押込むことができる。 Further, in order to appropriately thermocompression-bond the metal wire 20 by the pair of welding electrodes 30, a load cell is used to detect that the metal wire 21 and the pair of welding electrodes 30 are in contact with each other. As a result, the resistance welder can push the metal wire 21 with the pushing amount from the point of contact with the metal wire 21.

金属線21は、一方側の溶接電極30に所定の押込み量だけ押込まれると、押込み量の分に応じて変形する。こうして、端子1の外周側の金属線21の表面が平坦化され、数ターン巻き付けられた金属線21と溶接電極30の複数の接触面が均等に接触し、全ての接触面を介して通電が可能となる。 When the metal wire 21 is pushed into the welding electrode 30 on one side by a predetermined pushing amount, the metal wire 21 is deformed according to the pushing amount. In this way, the surface of the metal wire 21 on the outer peripheral side of the terminal 1 is flattened, the metal wire 21 wound for several turns and the plurality of contact surfaces of the welding electrode 30 are evenly contacted, and electricity is supplied through all the contact surfaces. It will be possible.

柱状金属端子10に金属線21を複数ターン巻き付けることで溶接電極30と組立品200の平行度を確保することが可能となる。さらに、個々の金属線21にかかる荷重を分散させることが可能となる。金属線21にかかる荷重を分散させることにより金属線21の変形量が荷重に対して鈍感になる。荷重に対して鈍感であれば、大荷重でも変形しにくいので、熱圧着及び抵抗溶接時の荷重が制御しやすくなる。つまり、熱圧着及び抵抗溶接時における金属線の変形量を荷重で制御することが容易となる。 By winding the metal wire 21 around the columnar metal terminal 10 for a plurality of turns, it is possible to secure the parallelism between the welding electrode 30 and the assembly 200. Further, it becomes possible to disperse the load applied to each metal wire 21. By dispersing the load applied to the metal wire 21, the amount of deformation of the metal wire 21 becomes insensitive to the load. If it is insensitive to a load, it is unlikely to be deformed even with a large load, so that it becomes easy to control the load during thermocompression bonding and resistance welding. That is, it becomes easy to control the amount of deformation of the metal wire during thermocompression bonding and resistance welding by a load.

次に、図6のステップS123での接合について、具体的に説明する。 Next, the joining in step S123 of FIG. 6 will be specifically described.

まず、金属ワイヤ20を柱状金属端子10に抵抗溶接する際に、金属線21の温度が上がり過ぎると、金属線21が潰れることで、断線したり溶断したりすることがある。このため、抵抗溶接機は、断線または溶断などの不具合が金属線21に発生しないように、一対の溶接電極30に流す電流を制御する。 First, when the metal wire 20 is resistance-welded to the columnar metal terminal 10, if the temperature of the metal wire 21 rises too high, the metal wire 21 may be crushed, resulting in disconnection or melting. Therefore, the resistance welder controls the current flowing through the pair of welding electrodes 30 so that defects such as disconnection or fusing do not occur in the metal wire 21.

一対の溶接電極30の間に配置した組立品200を図7に示す。図7は、実施の形態に係る抵抗溶接時における導通経路を例示した説明図である。図7は、組立品200を軸方向視で見た図である。 FIG. 7 shows an assembly 200 arranged between the pair of welding electrodes 30. FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating a conduction path during resistance welding according to the embodiment. FIG. 7 is a view of the assembly 200 as viewed in the axial direction.

図7に示すように、一方の溶接電極30から組立品200を介して他方の溶接電極30まで直線的に電流が流れる経路を導通経路D1とし、一方の溶接電極30から他方の溶接電極30まで柱状金属端子10を迂回して金属線21を流れる電流の経路を導通経路D2、D3とする。 As shown in FIG. 7, the path through which the current flows linearly from one welding electrode 30 to the other welding electrode 30 via the assembly 200 is defined as the conduction path D1, and from one welding electrode 30 to the other welding electrode 30. The paths of the current flowing through the metal wire 21 bypassing the columnar metal terminal 10 are the conduction paths D2 and D3.

ここで、一方の溶接電極30から他方の溶接電極30に電流を流すと、一方側の金属ワイヤ20の金属線21と柱状金属端子10との間の電気抵抗値と、他方側の金属ワイヤ20の金属線21と柱状金属端子10との間の電気抵抗値とにより、金属線21及び柱状金属端子10にジュール熱が生じる。加えて、金属線21及び柱状金属端子10を構成する各要素の電気抵抗値に起因するジュール熱が生じる。そして次第に、柱状金属端子10の母材層11に生じたジュール熱が柱状金属端子10のメッキ層12及び金属線21に伝播していく。これにより、金属線21と柱状金属端子10との接触面で、柱状金属端子10のメッキ層12及び金属線21が局所的に溶融する。これにより、金属線21の主成分であるアルミニウムと、メッキ層12の主成分である銅とが混ざり合う。その後、電流の供給が停止されると、金属線21と柱状金属端子10との界面には、アルミニウムと銅との金属間化合物層24が形成される(図2参照)。 Here, when a current is passed from one welding electrode 30 to the other welding electrode 30, the electric resistance value between the metal wire 21 of the metal wire 20 on one side and the columnar metal terminal 10 and the metal wire 20 on the other side are obtained. Due to the electric resistance value between the metal wire 21 and the columnar metal terminal 10, Joule heat is generated in the metal wire 21 and the columnar metal terminal 10. In addition, Joule heat is generated due to the electric resistance value of each element constituting the metal wire 21 and the columnar metal terminal 10. Gradually, the Joule heat generated in the base metal layer 11 of the columnar metal terminal 10 propagates to the plating layer 12 and the metal wire 21 of the columnar metal terminal 10. As a result, the plating layer 12 and the metal wire 21 of the columnar metal terminal 10 are locally melted on the contact surface between the metal wire 21 and the columnar metal terminal 10. As a result, aluminum, which is the main component of the metal wire 21, and copper, which is the main component of the plating layer 12, are mixed. After that, when the supply of electric current is stopped, an intermetallic compound layer 24 of aluminum and copper is formed at the interface between the metal wire 21 and the columnar metal terminal 10 (see FIG. 2).

柱状金属端子10に金属線21を複数ターン巻き付けることで個々の金属線21に流れる電流を分散させることが可能となる。金属線21に流れる電流を分散させることにより金属線21の発熱量が電流値に対して鈍感になる。抵抗溶接時の電流に対して鈍感であれば、大きな電流でも溶けにくいので、抵抗溶接時の電流値を制御しやすくすることができる。つまり、抵抗溶接時における第一金属及び第二金属の溶融状態を電流値で制御することが容易となる。 By winding the metal wire 21 around the columnar metal terminal 10 for a plurality of turns, it is possible to disperse the current flowing through the individual metal wires 21. By dispersing the current flowing through the metal wire 21, the calorific value of the metal wire 21 becomes insensitive to the current value. If it is insensitive to the current during resistance welding, it is difficult to melt even with a large current, so it is possible to easily control the current value during resistance welding. That is, it becomes easy to control the molten state of the first metal and the second metal at the time of resistance welding by the current value.

[効果など]
以上のように、本実施の形態に係る端子1は、柱状金属端子10と、柱状金属端子10に対して巻きつけられた金属ワイヤ20とを備え、金属ワイヤ20をなす第一金属の融点は、柱状金属端子10をなす第二金属の融点よりも低く、金属ワイヤ20と柱状金属端子10との界面には、第一金属と、第二金属との金属間化合物層24が設けられている。
[Effects, etc.]
As described above, the terminal 1 according to the present embodiment includes the columnar metal terminal 10 and the metal wire 20 wound around the columnar metal terminal 10, and the melting point of the first metal forming the metal wire 20 is The interface between the metal wire 20 and the columnar metal terminal 10 is provided with an intermetal compound layer 24 between the first metal and the second metal, which is lower than the melting point of the second metal forming the columnar metal terminal 10. ..

これによれば、金属ワイヤ20をなす第一金属の融点が、柱状金属端子10をなす第二金属の融点よりも低いので、同じ環境温度下にある場合には、金属ワイヤ20は、柱状金属端子10よりも柔軟な状態である。巻き付け時においては、比較的柔軟な金属ワイヤ20を、比較的高硬度な柱状金属端子10に巻き付けることとなるため、柱状金属端子10に対して金属ワイヤ20を巻き付ける際の作業性を高めることができる。 According to this, the melting point of the first metal forming the metal wire 20 is lower than the melting point of the second metal forming the columnar metal terminal 10. Therefore, when the metal wire 20 is under the same environmental temperature, the metal wire 20 is a columnar metal. It is in a more flexible state than the terminal 10. At the time of winding, the relatively flexible metal wire 20 is wound around the columnar metal terminal 10 having a relatively high hardness, so that the workability when winding the metal wire 20 around the columnar metal terminal 10 can be improved. can.

また、比較的柔軟な金属ワイヤ20を、比較的高硬度な柱状金属端子10に巻き付けることにより、簡単に金属ワイヤ20を柱状金属端子10に密着させることが可能である。金属ワイヤ20と柱状金属端子10との密着性が高ければ、熱圧着及び抵抗溶接を安定して行うことができるので、結果的に金属ワイヤ20と柱状金属端子10との接合強度を確保することができる。 Further, by winding the relatively flexible metal wire 20 around the columnar metal terminal 10 having a relatively high hardness, the metal wire 20 can be easily brought into close contact with the columnar metal terminal 10. If the adhesion between the metal wire 20 and the columnar metal terminal 10 is high, thermocompression bonding and resistance welding can be stably performed. As a result, the bonding strength between the metal wire 20 and the columnar metal terminal 10 is ensured. Can be done.

また、第一金属の融点は、第二金属の融点よりも300度以上低い。 Further, the melting point of the first metal is 300 degrees or more lower than the melting point of the second metal.

これによれば、第一金属の融点が、第二金属の融点よりも300度以上低いので、同じ環境温度下にある場合には、金属ワイヤ20を、柱状金属端子10よりも一層柔軟な状態とすることができる。したがって、巻き付け時における作業性をより高めることができる。 According to this, since the melting point of the first metal is 300 degrees or more lower than the melting point of the second metal, the metal wire 20 is in a more flexible state than the columnar metal terminal 10 under the same environmental temperature. Can be. Therefore, the workability at the time of winding can be further improved.

また、第一金属の主成分はアルミニウムであり、第二金属の主成分は銅である。 The main component of the first metal is aluminum, and the main component of the second metal is copper.

これによれば、アルミニウム及び銅は、一般的に電気抵抗が低い金属である。電気抵抗が低い金属は、抵抗溶接時の電流に対して鈍感であり、溶接しにくい金属とも言える。電気抵抗が高い金属であると、抵抗溶接時の電流に敏感であるので、一定の電流が付加されれば瞬時に溶けてしまう。一方、抵抗溶接時の電流に対して鈍感であれば、大きな電流でも溶けにくいので、抵抗溶接時の電流値を制御しやすくすることができる。つまり、抵抗溶接時における第一金属及び第二金属の溶融状態を電流値で制御することが容易となる。 According to this, aluminum and copper are generally metals having low electrical resistance. A metal with low electrical resistance is insensitive to the current during resistance welding and can be said to be a metal that is difficult to weld. A metal with high electrical resistance is sensitive to the current during resistance welding, so if a constant current is applied, it will melt instantly. On the other hand, if it is insensitive to the current during resistance welding, it is difficult to melt even with a large current, so that it is possible to easily control the current value during resistance welding. That is, it becomes easy to control the molten state of the first metal and the second metal at the time of resistance welding by the current value.

また、第一金属の主成分がアルミニウムであり、第二金属の主成分が銅であるので、比較的廉価なアルミニウム及び銅によって柱状金属端子10及び金属ワイヤ20を形成することができる。したがって、製造コストを抑制することができる。 Further, since the main component of the first metal is aluminum and the main component of the second metal is copper, the columnar metal terminal 10 and the metal wire 20 can be formed of relatively inexpensive aluminum and copper. Therefore, the manufacturing cost can be suppressed.

また、金属間化合物層24の厚みは、5μm以下である。 The thickness of the intermetallic compound layer 24 is 5 μm or less.

図8は、実施の形態に係る端子1の金属間化合物層24及びその周辺を拡大して示す画像である。具体的には、図8では、図2における破線L1に囲まれた領域を示している。図8では、下から順に、柱状金属端子10の母材層11、メッキ層12、金属間化合物層24及び金属線21という順で並んでいる。図8に示すように、金属間化合物層24には、クラックCが発生する場合がある。クラックCは、金属間化合物層24内で柱状金属端子10の軸方向に沿って延びている。ここで、柱状金属端子10の軸方向での金属間化合物層24の長さを界面長さとし、同方向におけるクラックCの長さをクラック長さとする。また、柱状金属端子10の軸方向に直交する方向での金属間化合物層24の長さを、厚さ(層厚)とする。 FIG. 8 is an enlarged image showing the intermetallic compound layer 24 of the terminal 1 and its periphery according to the embodiment. Specifically, FIG. 8 shows a region surrounded by the broken line L1 in FIG. In FIG. 8, the base metal layer 11, the plating layer 12, the intermetallic compound layer 24, and the metal wire 21 of the columnar metal terminal 10 are arranged in this order from the bottom. As shown in FIG. 8, crack C may occur in the intermetallic compound layer 24. The crack C extends along the axial direction of the columnar metal terminal 10 in the intermetallic compound layer 24. Here, the length of the intermetallic compound layer 24 in the axial direction of the columnar metal terminal 10 is defined as the interface length, and the length of the crack C in the same direction is defined as the crack length. Further, the length of the intermetallic compound layer 24 in the direction orthogonal to the axial direction of the columnar metal terminal 10 is defined as the thickness (layer thickness).

図9は、実施の形態に係る端子1であって、界面長さに対するクラック長さの比率と、金属間化合物層24の厚さとの関係を示すグラフである。図9に示すように、金属間化合物層24の厚さが5μmより大きいと、界面長さに対するクラック長さの比率が100%となるクラックCが発生していることが分かる。一方、金属間化合物層24の厚さが5μm以下であれば、界面長さに対するクラック長さの比率が100%となるクラックCが発生していないことが分かる。つまり、金属間化合物層24の厚さが5μm以下であれば、クラックCが、界面長さと同程度まで成長してしまうことを抑制することができる。 FIG. 9 is a graph showing the relationship between the ratio of the crack length to the interface length and the thickness of the intermetallic compound layer 24 in the terminal 1 according to the embodiment. As shown in FIG. 9, when the thickness of the intermetallic compound layer 24 is larger than 5 μm, it can be seen that crack C is generated in which the ratio of the crack length to the interface length is 100%. On the other hand, when the thickness of the intermetallic compound layer 24 is 5 μm or less, it can be seen that crack C in which the ratio of the crack length to the interface length is 100% does not occur. That is, if the thickness of the intermetallic compound layer 24 is 5 μm or less, it is possible to prevent the crack C from growing to the same level as the interface length.

また、柱状金属端子10は、多角柱状であり、金属ワイヤ20は、柱状金属端子に結ばれた少なくとも一つの交差部23を有し、交差部23は、柱状金属端子10における金属間化合物層24が形成されていない側面に配置されている。 Further, the columnar metal terminal 10 is a polygonal columnar shape, the metal wire 20 has at least one intersection 23 connected to the columnar metal terminal, and the intersection 23 is an intermetallic compound layer 24 in the columnar metal terminal 10. Is placed on the side where is not formed.

柱状金属端子10の接合端子面110に対して、金属ワイヤ20の交差部23が設けられる場合、熱圧着及び抵抗溶接時に交差部23が一対の溶接電極30に挟まれてしまう。交差部23は、金属ワイヤ20の他の部分よりも厚いので、当該他の部分では一対の溶接電極30に接触しない箇所も発生する。これにより、金属ワイヤ20における交差部23以外の部分においては、熱圧着及び抵抗溶接が確実に行えないおそれがある。 When the intersection 23 of the metal wire 20 is provided with respect to the joint terminal surface 110 of the columnar metal terminal 10, the intersection 23 is sandwiched between the pair of welding electrodes 30 during thermocompression bonding and resistance welding. Since the intersection 23 is thicker than the other parts of the metal wire 20, there are some parts that do not come into contact with the pair of weld electrodes 30 in the other parts. As a result, thermocompression bonding and resistance welding may not be reliably performed at the portion of the metal wire 20 other than the intersection 23.

一方、柱状金属端子10の接合端子面110以外の側面、つまり、金属間化合物層24が形成されていない側面に、金属ワイヤ20の交差部23が設けられる場合には、交差部23が一対の溶接電極30により挟まれない箇所に配置される。したがって、柱状金属端子10の接合端子面110には、金属ワイヤ20における一重に巻かれた部分のみが配置されるので、これらの部分に対して一対の溶接電極30を確実に接触させることができる。したがって、熱圧着及び抵抗溶接の確実性を高めることができる。 On the other hand, when the crossing portion 23 of the metal wire 20 is provided on the side surface of the columnar metal terminal 10 other than the joint terminal surface 110, that is, the side surface on which the intermetallic compound layer 24 is not formed, the crossing portions 23 are paired. It is arranged in a place not sandwiched by the welding electrode 30. Therefore, since only the single-wound portions of the metal wire 20 are arranged on the joint terminal surface 110 of the columnar metal terminal 10, the pair of welding electrodes 30 can be reliably brought into contact with these portions. .. Therefore, the certainty of thermocompression bonding and resistance welding can be improved.

また、上記実施の形態では、柱状金属端子10の母材層11が、比較的電気抵抗の高い鉄を主成分とした金属で形成されているので、抵抗溶接時にジュール熱を効率的に発生させることができる。一方、メッキ層12は、比較的電気抵抗の低い銅を主成分とした第二金属で形成されているので、抵抗溶接時に、柱状金属端子10の表層で電流が流れやすくなり、金属ワイヤ20の金属線21に集中して電気が流れることを抑制することができる。したがって、金属線21の溶断を抑制できる。 Further, in the above embodiment, since the base metal layer 11 of the columnar metal terminal 10 is formed of a metal containing iron as a main component having a relatively high electric resistance, Joule heat is efficiently generated during resistance welding. be able to. On the other hand, since the plating layer 12 is formed of a second metal whose main component is copper, which has a relatively low electrical resistance, current easily flows on the surface layer of the columnar metal terminal 10 during resistance welding, and the metal wire 20 It is possible to suppress the flow of electricity concentrated on the metal wire 21. Therefore, it is possible to suppress the fusing of the metal wire 21.

[変形例1]
上記実施の形態では、メッキ層12を有する柱状金属端子10に対して金属ワイヤ20が巻きつけられて金属接合された端子1を例示した。この変形例1では、メッキ層を有さない柱状金属端子10aに対して金属ワイヤ20が巻き付けられて金属接合された端子1Aについて説明する。なお、以降の説明において、上記実施の形態と同一の部分については、同一の符号を付してその説明を省略する場合がある。
[Modification 1]
In the above embodiment, the terminal 1 in which the metal wire 20 is wound around the columnar metal terminal 10 having the plating layer 12 and metal-bonded is exemplified. In this modification 1, a terminal 1A in which a metal wire 20 is wound around a columnar metal terminal 10a having no plating layer and metal-bonded to the terminal 1A will be described. In the following description, the same parts as those in the above embodiment may be designated by the same reference numerals and the description thereof may be omitted.

図10は、変形例1に係る端子1Aを示す断面図である。具体的には、図10は、図2に対応する図である。図10に示すように、端子1Aに備わる柱状金属端子10aは、銅を主成分とする第二金属から全体的に形成されており、その表面にはメッキ層が形成されていない。つまり、金属ワイヤ20の巻き付け前においては、柱状金属端子10aの表面は、全体として第二金属が露出した状態である。 FIG. 10 is a cross-sectional view showing the terminal 1A according to the modified example 1. Specifically, FIG. 10 is a diagram corresponding to FIG. 2. As shown in FIG. 10, the columnar metal terminal 10a provided in the terminal 1A is entirely formed of a second metal containing copper as a main component, and a plating layer is not formed on the surface thereof. That is, before the metal wire 20 is wound, the surface of the columnar metal terminal 10a is in a state where the second metal is exposed as a whole.

このような柱状金属端子10aに対して、金属ワイヤ20を巻き付けて、熱圧着、抵抗溶接を施すことで、金属ワイヤ20の金属線21が、柱状金属端子10aの接合端子面110aにある第二金属と金属間化合物層24aを形成し金属接合される。金属間化合物層24aは、金属線21をなす第一金属の主成分であるアルミニウムと、柱状金属端子10aをなす第二金属の主成分である銅からなる。 By winding the metal wire 20 around such a columnar metal terminal 10a and performing thermal pressure bonding and resistance welding, the metal wire 21 of the metal wire 20 is located on the joint terminal surface 110a of the columnar metal terminal 10a. A metal-to-metal compound layer 24a is formed and metal-bonded. The intermetallic compound layer 24a is composed of aluminum, which is the main component of the first metal forming the metal wire 21, and copper, which is the main component of the second metal forming the columnar metal terminal 10a.

[変形例2]
上記実施の形態では、銅を主成分とする第二金属によってメッキ層12が形成された柱状金属端子10を例示した。この変形例2では、ニッケル(Ni)を主成分とする第二金属によってメッキ層12bが形成された柱状金属端子10bについて説明する。
[Modification 2]
In the above embodiment, the columnar metal terminal 10 in which the plating layer 12 is formed of the second metal containing copper as a main component is exemplified. In this modification 2, the columnar metal terminal 10b in which the plating layer 12b is formed by the second metal containing nickel (Ni) as a main component will be described.

図11は、変形例2に係る端子1Bを示す断面図である。具体的には、図11は、図2に対応する図である。図11に示すように、端子1Bに備わる柱状金属端子10bは、ニッケルを主成分とする第二金属から形成されたメッキ層12bが、母材層11に対して被膜されている。 FIG. 11 is a cross-sectional view showing the terminal 1B according to the modified example 2. Specifically, FIG. 11 is a diagram corresponding to FIG. 2. As shown in FIG. 11, in the columnar metal terminal 10b provided in the terminal 1B, a plating layer 12b formed of a second metal containing nickel as a main component is coated on the base metal layer 11.

このような柱状金属端子10bに対して、金属ワイヤ20を巻き付けて、熱圧着、抵抗溶接を施すことで、金属ワイヤ20の金属線21が、柱状金属端子10bの接合端子面110bにおけるメッキ層12bと金属間化合物層24bを形成し金属接合される。金属間化合物層24bは、金属線21をなす第一金属の主成分であるアルミニウムと、柱状金属端子10aをなす第二金属の主成分であるニッケルからなる。メッキ層12bは、ニッケルを主成分とする第二金属から形成されているために、ニッケルの融点(1455℃)に準じた融点となっている。つまり、この場合においても、アルミニウムを主成分とする第一金属の融点は、第二金属の融点よりも300度以上低くなる。 By winding the metal wire 20 around such a columnar metal terminal 10b and performing thermal pressure bonding and resistance welding, the metal wire 21 of the metal wire 20 becomes a plating layer 12b on the joint terminal surface 110b of the columnar metal terminal 10b. And the metal-to-metal compound layer 24b are formed and metal-bonded. The intermetallic compound layer 24b is composed of aluminum, which is the main component of the first metal forming the metal wire 21, and nickel, which is the main component of the second metal forming the columnar metal terminal 10a. Since the plating layer 12b is formed of a second metal containing nickel as a main component, it has a melting point according to the melting point of nickel (1455 ° C.). That is, even in this case, the melting point of the first metal containing aluminum as a main component is 300 degrees or more lower than the melting point of the second metal.

[変形例3]
上記実施の形態では、メッキ層12を有する柱状金属端子10に対して金属ワイヤ20が巻きつけられて金属接合された端子1を例示した。この変形例3では、二重のメッキ層12、12cを有する柱状金属端子10cに対して金属ワイヤ20が巻き付けられて金属接合された端子1Cについて説明する。
[Modification 3]
In the above embodiment, the terminal 1 in which the metal wire 20 is wound around the columnar metal terminal 10 having the plating layer 12 and metal-bonded is exemplified. In the third modification, the terminal 1C in which the metal wire 20 is wound around the columnar metal terminal 10c having the double plating layers 12 and 12c and metal-bonded to the terminal 1C will be described.

図12は、変形例3に係る端子1Cを示す断面図である。具体的には、図12は、図2に対応する図である。図12に示すように、端子1Cに備わる柱状金属端子10cでは、メッキ層12の表層に、錫(Sn)を主成分とする第三金属からなるメッキ層12cが被膜されている。メッキ層12cは、金属ワイヤ20の巻き付け前においては、メッキ層12の全表面に対して積層されている。ここで、メッキ層12cは、錫を主成分とする第三金属から形成されているために、錫の融点(232℃)に準じた融点となっている。 FIG. 12 is a cross-sectional view showing the terminal 1C according to the modified example 3. Specifically, FIG. 12 is a diagram corresponding to FIG. 2. As shown in FIG. 12, in the columnar metal terminal 10c provided in the terminal 1C, the surface layer of the plating layer 12 is coated with a plating layer 12c made of a third metal containing tin (Sn) as a main component. The plating layer 12c is laminated on the entire surface of the plating layer 12 before the metal wire 20 is wound. Here, since the plating layer 12c is formed of a third metal containing tin as a main component, it has a melting point according to the melting point of tin (232 ° C.).

このような柱状金属端子10cに対して金属ワイヤ20を巻き付けて熱圧着する際には、柱状金属端子10c及び金属ワイヤ20が、第三金属の融点よりも高く、第一金属の融点よりも低い温度で加熱される。これにより、メッキ層12cが溶けた状態で一対の溶接電極30からの圧力を受けるために、メッキ層12cは、金属ワイヤ20とメッキ層12との界面からその外方へと押し出される。 When the metal wire 20 is wound around such a columnar metal terminal 10c and heat-bonded, the columnar metal terminal 10c and the metal wire 20 are higher than the melting point of the third metal and lower than the melting point of the first metal. It is heated to the temperature. As a result, the plating layer 12c is pushed outward from the interface between the metal wire 20 and the plating layer 12 in order to receive the pressure from the pair of welding electrodes 30 in the molten state of the plating layer 12c.

その後、抵抗溶接を施すことで、金属ワイヤ20の金属線21が、柱状金属端子10cの接合端子面110cにあるメッキ層12と金属間化合物層24cを形成し金属接合される。金属間化合物層24cは、金属線21をなす第一金属の主成分であるアルミニウムと、柱状金属端子10cをなす第二金属の主成分である銅からなる。メッキ層12cは、金属線21及び金属間化合物層24の外方で、メッキ層12の表面を覆っている。 After that, by performing resistance welding, the metal wire 21 of the metal wire 20 forms an intermetallic compound layer 24c with the plating layer 12 on the bonding terminal surface 110c of the columnar metal terminal 10c and is metal-bonded. The intermetallic compound layer 24c is composed of aluminum, which is the main component of the first metal forming the metal wire 21, and copper, which is the main component of the second metal forming the columnar metal terminal 10c. The plating layer 12c covers the surface of the plating layer 12 with the outer side of the metal wire 21 and the intermetallic compound layer 24.

このように、錫を主成分とする第三金属からなるメッキ層12cが柱状金属端子10cに備えられていれば、銅を主成分とする第二金属からなるメッキ層12の酸化を抑えることができる。また、メッキ層12cは、熱圧着時に溶けた際に、金属線21と柱状金属端子10cとの隙間を埋めることとなる。この隙間が埋められることで、抵抗溶接時の熱伝導が高められる。 As described above, if the columnar metal terminal 10c is provided with the plating layer 12c made of a third metal containing tin as a main component, the oxidation of the plating layer 12 made of a second metal containing copper as a main component can be suppressed. can. Further, the plating layer 12c fills the gap between the metal wire 21 and the columnar metal terminal 10c when it is melted during thermocompression bonding. By filling this gap, heat conduction during resistance welding is enhanced.

[変形例4]
上記実施の形態では、一本の金属ワイヤ20が柱状金属端子10に巻きつけられて金属接合されている場合を例示した。しかしながら、柱状金属端子に対して複数の金属ワイヤが巻き付けられていてもよい。この変形例4では、一例として二本の金属ワイヤ20d1、20d2が柱状金属端子10dに巻きつけられている場合を例示する。
[Modification 4]
In the above embodiment, a case where one metal wire 20 is wound around a columnar metal terminal 10 and metal-bonded is exemplified. However, a plurality of metal wires may be wound around the columnar metal terminals. In this modification 4, as an example, a case where two metal wires 20d1 and 20d2 are wound around a columnar metal terminal 10d will be illustrated.

図13は、変形例4に係る端子1Dの概略構成を示す正面図である。図13に示すように、端子1Dの柱状金属端子10dには、二本の金属ワイヤ20d1、20d2が巻きつけられている。具体的には、二本の金属ワイヤ20d1、20d2は、それぞれ交差部23d1、23d2を有しており、これらの交差部23d1、23d2は互いに重ならない位置に配置されている。また、二本の金属ワイヤ20d1、20d2は、互いに重ならないように、二重の螺旋状に柱状金属端子10dに巻きつけられて、柱状金属端子10dに対して金属接合されている。 FIG. 13 is a front view showing a schematic configuration of the terminal 1D according to the modified example 4. As shown in FIG. 13, two metal wires 20d1 and 20d2 are wound around the columnar metal terminal 10d of the terminal 1D. Specifically, the two metal wires 20d1 and 20d2 have intersections 23d1 and 23d2, respectively, and these intersections 23d1 and 23d2 are arranged at positions where they do not overlap each other. Further, the two metal wires 20d1 and 20d2 are wound around the columnar metal terminal 10d in a double spiral shape so as not to overlap each other, and are metal-bonded to the columnar metal terminal 10d.

このように、金属ワイヤ20d1、20d2は、複数本設けられており、それぞれが柱状金属端子10dに対して巻きつけられている。 As described above, a plurality of metal wires 20d1 and 20d2 are provided, and each of them is wound around the columnar metal terminal 10d.

これにより、複数の金属ワイヤ20d1、20d2を一つの柱状金属端子10dに巻き付けることで、柱状金属端子10dを共通化することができる。 Thereby, by winding the plurality of metal wires 20d1 and 20d2 around one columnar metal terminal 10d, the columnar metal terminal 10d can be made common.

ここで、複数の金属ワイヤ20d1、20d2の線径は、同じであっても異なっていてもよい。具体的には、複数の金属ワイヤ20d1、20d2のそれぞれに備わる金属線の線径は、同じであっても異なっていてもよい。 Here, the wire diameters of the plurality of metal wires 20d1 and 20d2 may be the same or different. Specifically, the wire diameters of the metal wires provided in each of the plurality of metal wires 20d1 and 20d2 may be the same or different.

図14は、変形例4に係る端子1Dであって、線径の異なる複数の金属ワイヤ20d1、20d2が金属接合された状態を示す断面図である。図14では、樹脂層が除去された金属線21d1、21d2のみを図示している。 FIG. 14 is a cross-sectional view of the terminal 1D according to the modified example 4 showing a state in which a plurality of metal wires 20d1 and 20d2 having different wire diameters are metal-bonded. In FIG. 14, only the metal wires 21d1 and 21d2 from which the resin layer has been removed are shown.

図14に示すように、線径の異なる複数の金属ワイヤ20d1、20d2では、金属線21d1、21d2が柱状金属端子10の接合端子面110dでメッキ層12と金属接合されている。このため、各金属線21d1、21d2と柱状金属端子10との境界には、金属間化合物層24d1、24d2が形成されている。ここで、金属接合された状態での金属線21d1、21d2の線径は、金属線21d1、21d2における柱状金属端子10の軸方向に沿う長さz1、z2である。ここでは、金属線21d1の線径が、金属線21d2よりも大きい場合を例示している。また、金属線21d1、21d2における柱状金属端子10の軸方向に直交する方向に沿う厚みh1、h2は同等となっている。 As shown in FIG. 14, in a plurality of metal wires 20d1 and 20d2 having different wire diameters, the metal wires 21d1 and 21d2 are metal-bonded to the plating layer 12 on the bonding terminal surface 110d of the columnar metal terminal 10. Therefore, the intermetallic compound layers 24d1 and 24d2 are formed at the boundary between the metal wires 21d1 and 21d2 and the columnar metal terminal 10. Here, the wire diameters of the metal wires 21d1 and 21d2 in the metal-bonded state are lengths z1 and z2 along the axial direction of the columnar metal terminals 10 in the metal wires 21d1 and 21d2. Here, the case where the wire diameter of the metal wire 21d1 is larger than that of the metal wire 21d2 is illustrated. Further, the thicknesses h1 and h2 of the metal wires 21d1 and 21d2 along the direction orthogonal to the axial direction of the columnar metal terminals 10 are the same.

金属接合前では、金属線21d1、21d2は、互いに線径の異なる円形状断面(図14における仮想線L11、L12)であった。端子1Dの製造時、線径の異なる金属線21d1、21d2は、まず熱圧着工程において厚みが均一化されメッキ層12に対して密着するように柱状金属端子10に対して押圧される。さらに抵抗溶接工程において押圧されることで、金属線21d1、21d2は厚みh1、h2に均一化されて柱状金属端子10と金属接合する。熱圧着工程において金属線21d1、21d2の厚みを均一化することにより抵抗溶接工程の品質が安定する。柱状金属端子10dに対し金属線21d1、21d2の融点が低いため、熱圧着工程において線径の異なる金属線21d1、21d2の厚みを容易に均一化することが可能となる。 Before the metal joining, the metal wires 21d1 and 21d2 had circular cross sections (virtual lines L11 and L12 in FIG. 14) having different wire diameters from each other. At the time of manufacturing the terminal 1D, the metal wires 21d1 and 21d2 having different wire diameters are first pressed against the columnar metal terminal 10 so that the thickness is made uniform in the thermocompression bonding step and the terminal 1D is in close contact with the plating layer 12. Further, by being pressed in the resistance welding step, the metal wires 21d1 and 21d2 are made uniform in thickness h1 and h2 and metal-bonded to the columnar metal terminal 10. By making the thicknesses of the metal wires 21d1 and 21d2 uniform in the thermocompression bonding process, the quality of the resistance welding process is stabilized. Since the melting points of the metal wires 21d1 and 21d2 are lower than those of the columnar metal terminals 10d, it is possible to easily make the thicknesses of the metal wires 21d1 and 21d2 having different wire diameters uniform in the thermocompression bonding step.

このように、複数の金属ワイヤ20d1、20d2の線径が異なっていても、金属間化合物層24d1、24d2を確実に形成することが可能である。 As described above, even if the wire diameters of the plurality of metal wires 20d1 and 20d2 are different, the intermetallic compound layers 24d1 and 24d2 can be reliably formed.

[その他]
以上、本発明について、実施の形態に基づいて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されるものではない。
[others]
Although the present invention has been described above based on the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments.

例えば、柱状金属端子に対して金属線が絡げられていない状態、つまり、金属線が交差部を有さず、単に1重で柱状金属端子に巻き付けられた状態で、柱状金属端子と金属線とが金属接合されてもよい。 For example, a columnar metal terminal and a metal wire in a state where the metal wire is not entwined with the columnar metal terminal, that is, in a state where the metal wire does not have an intersection and is simply wound around the columnar metal terminal in a single layer. And may be metal-bonded.

また、上記実施の形態では、金属間化合物層24が、アルミニウムを主成分とする第一金属と、銅を主成分とする第二金属とから形成されている場合を例示した。また、変形例2では、金属間化合物層24bが、アルミニウムを主成分とする第一金属と、ニッケルを主成分とする第二金属とから形成されている場合を例示した。しかしながら、金属ワイヤをなす第一金属の融点が、柱状金属端子をなす第二金属の融点よりも低いのであれば、第一金属の主成分及び第二金属の主成分は上記した例に限定されない。また、第一金属の融点が、第二金属の融点よりも低いのであれば、300度未満の差であってもよい。 Further, in the above embodiment, the case where the intermetallic compound layer 24 is formed of a first metal containing aluminum as a main component and a second metal containing copper as a main component is exemplified. Further, in the second modification, the case where the intermetallic compound layer 24b is formed of a first metal containing aluminum as a main component and a second metal containing nickel as a main component is exemplified. However, if the melting point of the first metal forming the metal wire is lower than the melting point of the second metal forming the columnar metal terminal, the main component of the first metal and the main component of the second metal are not limited to the above examples. .. Further, if the melting point of the first metal is lower than the melting point of the second metal, the difference may be less than 300 degrees.

その他、実施の形態に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で実施の形態における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。 In addition, there are also forms obtained by subjecting various modifications to the embodiments that can be conceived by those skilled in the art, and embodiments realized by arbitrarily combining the components and functions of the embodiments without departing from the spirit of the present invention. Included in the present invention.

1、1A、1B、1C、1D 端子
10、10a、10b、10c、10d 柱状金属端子
20、20d1、20d2 金属ワイヤ
23、23d1、23d2 交差部
24、24a、24b、24c、24d1、24d2 金属間化合物層
1,1A, 1B, 1C, 1D terminals 10, 10a, 10b, 10c, 10d Columnar metal terminals 20, 20d1, 20d2 Metal wires 23, 23d1, 23d2 Intermetallic compounds 24, 24a, 24b, 24c, 24d1, 24d2 layer

Claims (6)

多角柱状の柱状金属端子と、
前記柱状金属端子に対して巻きつけられた金属ワイヤとを備え、
前記金属ワイヤをなす第一金属の融点は、前記柱状金属端子をなす第二金属の融点よりも低く、
前記金属ワイヤと前記柱状金属端子との界面には、前記第一金属と、前記第二金属との金属間化合物層が設けられており、
前記金属ワイヤは、前記柱状金属端子に結ばれた少なくとも一つの交差部を有し、
前記交差部は、前記柱状金属端子における前記金属間化合物層が形成されていない側面に配置されている
端子。
Polygonar columnar columnar metal terminals and
A metal wire wound around the columnar metal terminal is provided.
The melting point of the first metal forming the metal wire is lower than the melting point of the second metal forming the columnar metal terminal.
An intermetallic compound layer between the first metal and the second metal is provided at the interface between the metal wire and the columnar metal terminal .
The metal wire has at least one intersection tied to the columnar metal terminal.
The intersection is arranged on the side surface of the columnar metal terminal where the intermetallic compound layer is not formed.
Terminal.
前記第一金属の融点は、前記第二金属の融点よりも300度以上低い
請求項1に記載の端子。
The terminal according to claim 1, wherein the melting point of the first metal is 300 degrees or more lower than the melting point of the second metal.
前記第一金属の主成分は、アルミニウムであり、
前記第二金属の主成分は、銅である
請求項2に記載の端子。
The main component of the first metal is aluminum.
The terminal according to claim 2, wherein the main component of the second metal is copper.
前記金属間化合物層の厚みは、5μm以下である
請求項1~3のいずれか一項に記載の端子。
The terminal according to any one of claims 1 to 3, wherein the thickness of the intermetallic compound layer is 5 μm or less.
前記金属ワイヤは、複数本設けられており、それぞれが前記柱状金属端子に対して巻きつけられている
請求項1~のいずれか一項に記載の端子。
The terminal according to any one of claims 1 to 4 , wherein a plurality of the metal wires are provided, and each of them is wound around the columnar metal terminal.
複数本の前記金属ワイヤは、線径が異なっている
請求項に記載の端子。
The terminal according to claim 5 , wherein the plurality of metal wires have different wire diameters.
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