JP7010235B2 - 反射型表示装置 - Google Patents
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Description
本願は、2016年11月17日に日本に出願された特願2016-224321号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
例えば、透過型表示装置として、バックライトを使用した透過型液晶表示装置が知られている。透過型液晶表示装置は、使用者がカラーフィルタを透過した光を直接見ることになるため、使用者の目にかかる負担が大きい。
これに対して、反射型表示装置は、例えば、カラーフィルタに入射する自然光などの外光を、カラーフィルタに対向された反射型表示部によって反射することで、カラー表示が行われる。このため、反射型表示装置は、透過型表示装置に比べると使用者の目にかかる負担が小さくなり、使用者が表示画面を長時間見続ける作業により適している。反射型表示装置は、表示用光源を内蔵しなくても構成できるため、電力消費も少ない。
反射型表示装置の例として、例えば、電子泳動方式、ツイストボール方式などの反射型表示部を備えた装置が提案されている。このような反射型表示装置は、印刷された紙面と同様に外光の反射光によって文字や画像を表示するため、紙表示媒体に近い表示装置として注目されている。
特許文献2には、少なくとも一方が透明な一対の基板間に、電界の印加により移動または回転する粒子を含む表示体を配置した多色表示パネルにおいて、一対の基板の少なくとも一方の透明な基板上に、カラーフィルタを形成した多色表示パネルが提案されている。
特許文献2には、カラーフィルタの構成として、三原色に着色された正方形状の3つの着色層が正方格子状に配列された構成と、三原色に着色され、一方向に延びた細長いストライプ状の着色層が配列された構成と、が記載されている。
特許文献1、2の各装置において、互いに隣り合う着色層は、製造時の混色を避けるため、互いに離間して配置されている。
隣り合う着色層がバンクで仕切られる場合、外光の反射光がバンクによって遮光されるため表示光の光量が低下してしまうという問題がある。
隣り合う着色層が隙間を有する場合、着色層間の隙間は外光を反射することができるため、明るい表示画面が得られる。しかし、単位画素において、着色層が占める面積が相対的に低下するため、表示色の彩度が劣ってしまうという問題がある。
前記複数の着色層は、前記対向方向から見て2以上の前記サブ画素に重なる横断着色層を含んでおり、前記第2列に並ぶ前記着色層は、前記第1列に並ぶ前記着色層から前記第1の配列方向に沿って前記第1の配列方向における前記画素の寸法分だけずれた位置に配置されており、前記横断着色層は、第1の画素に含まれる第1のサブ画素と、前記第1の画素と隣り合う第2の画素に含まれる第2のサブ画素と、前記第1のサブ画素と前記第2のサブ画素との間の領域とに重なっている。
本発明の第1の実施形態に係る反射型表示装置について説明する。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る反射型表示装置の主要部の構成を示す模式的な縦断面図である。図2は、本発明の第1の実施形態に係る反射型表示装置の着色層の配列を示す模式的な平面図である。図3は、本発明の第1の実施形態に係る反射型表示装置の駆動状態の一例を説明する模式図である。
反射型表示パネル1Aは、外部からの入射光をカラーフィルタ層17で第1色、第2色、第3色、および無彩色に分割し、画像信号に基づいて駆動される反射表示層13によりこれら4色の反射光量を調整することによってフルカラー画像を表示することができる反射型表示装置である。
第1の電極層11は、各画素内において第1色、第2色、第3色、および無彩色の階調を制御するために、後述する反射表示層13を駆動する駆動電圧を印加する駆動電極である。
図2に二点鎖線で示すように、複数の第1の電極層11のそれぞれは、第1色用サブ画素電極11r、第2色用サブ画素電極11g、第3色用サブ画素電極11b、および無彩色用サブ画素電極11nを備える。以下では、説明を簡単にするため、第1色用サブ画素電極11r、第2色用サブ画素電極11g、第3色用サブ画素電極11b、無彩色用サブ画素電極11nを総称する場合、「各駆動電極」あるいは「各サブ画素電極」と表記する場合がある。
第1の電極層11は、例えば、ITO等の酸化インジウム系、酸化スズ系、酸化亜鉛系のような透明性を有する導電性酸化物、又はカーボンナノチューブやチオフェン系化合物などによって形成されてもよい。
接着層12の材質は、第1の電極層11と反射表示層13の表面13bとを互いに接着することができれば、特に限定されない。
本実施形態では、反射表示層13は、電界の大きさに応じて反射率が最小値(黒)から最大値(白)に漸次変化する構成が用いられている。このため、反射表示層13は、白黒の階調表現が可能になっている。
反射表示層13の反射率は、表面13bと反対側の表面13aにおいて変化すればよい。
例えば、反射表示層13は、反射型液晶方式、コレスティック液晶方式、電気泳動方式(マイクロカプセル方式等)、マイクロカップ方式、エレクトロクロミック方式等から選ばれた方式の構成が用いられてもよい。
本実施形態では、第2の電極層14は、第1の電極層11の全体を覆う領域に配置されている。
第1の電極層11における各駆動電極と、第2の電極層14とは、図示略のスイッチング素子を介して図示略の駆動電源に接続されている。このため、画像信号に応じてスイッチング素子が駆動されると、画像信号に応じた駆動電圧による電界が各駆動電極と第2の電極層14との間に発生するようになっている。
第2の電極層14の材質としては、例えば、酸化インジウム錫(ITO)などの導電性を有する透明材料が用いられてもよい。
基材15の材質としては、例えば、ガラス基材が用いられてもよいし、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム、PEN(ポリエチレンナフタレート)フィルム等のフィルム基材が用いられてもよい。
インク定着層16は、基材15において第2の電極層14と接する表面と反対側の表面15a上に積層されている。
インク定着層16の材質は、基材15および後述するカラーフィルタ層17の材質に応じて適宜の材質が用いられる。
インク定着層16の材質の例としては、例えば、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ビニルアルコール樹脂等が挙げられる。
インク定着層16は、後述するカラーフィルタ層17を形成する各インクの溶媒の吸収性を高めるため、合成シリカやアルミナなどの多孔質物質を含有していてもよい。
例えば、インク定着層16は、インク定着層16を形成するためインク定着層形成用塗液が基材15上に塗工された後、乾燥されることによって、形成されてもよい。
インク定着層16が枚葉処理によって形成される場合、インク定着層形成用塗液は、例えば、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、スピンコート法、およびダイによる間歇塗工などによって塗工されてもよい。
インク定着層16がロール・トゥ・ロールによる連続処理によって形成される場合、インク定着層形成用塗液は、例えば、ダイコーティング、コンマコート、カーテンコート、グラビアコートなどによって塗工されてもよい。
後述するように、本実施形態では、基板10上に、第1の電極層11、接着層12、反射表示層13、第2の電極層14、および基材15が積層された後、インク定着層16が形成される。インク定着層形成用塗液の乾燥工程は、これらの層に許容範囲外の熱変形が生じない程度の温度環境で行われる。例えば、基板10および基材15の少なくとも一方に熱可塑性樹脂フィルムが用いられる場合には、この熱可塑性樹脂フィルムのガラス転移点以下の温度で乾燥工程が行われることがより好ましい。
図2に示すように、複数のカラーフィルタ層17のそれぞれは、着色層として、第1着色層17r、第2着色層17g、および第3着色層17bを備える。
第1着色層17rは、第1色の波長成分のみを透過する透過波長帯域を有する。第2着色層17gは、第2色の波長成分のみを透過する透過波長帯域を有する。第3着色層17bは、第3色の波長成分のみを透過する透過波長帯域を有する。
第1色、第2色、および第3色は、互いに波長帯域が異なり、かつこれらの色の組み合わせによってフルカラー表示が可能であれば特に限定されない。
第1色、第2色、および第3色の組み合わせは、各色の透過光が混合したとき白色光になるように選ばれることが好ましい。
例えば、第1色、第2色、および第3色は、赤、緑、および青とされてもよい。赤、緑、および青は第1色、第2色、および第3色と対応する順序が適宜入れ替えられてもよい。
例えば、第1色、第2色、および第3色は、シアン、マゼンタ、およびイエローとされてもよい。シアン、マゼンタ、およびイエローは第1色、第2色、および第3色と対応する順序が適宜入れ替えられてもよい。
以下では、説明を簡単にするため、第1着色層17r、第2着色層17g、および第3着色層17bを総称する場合、「各着色層」と表記する場合がある。
図1に示すように、本実施形態では、各着色層と反射表示層13の表面13aとの間は、第2の電極層14、基材15、およびインク定着層16が積層された光透過層19によって離隔されている。
光透過層19は、第1色、第2色、第3色、および白色の光を良好に透過することができる。
図2は、反射型表示パネル1Aの一部を、保護層18を省略して示した模式的な平面図になっている。図2におけるA-A断面は、図1において保護層18を除去したのと同様の断面になる。
ただし、各サブ画素電極の平面視形状は、互いに同じ大きさを有する長方形、または大きさが一致していない矩形であってもよい。さらに、例えばスイッチング素子の配置位置などによっては、各サブ画素電極の形状は、矩形の一部に、凹部または凸部が形成された疑似的な矩形であってもよい。
反射型表示パネル1Aの有効表示画面の形状が矩形の場合、X方向、Y方向は、それぞれ有効表示画面の水平方向、垂直方向であってもよい。
図1に、第2色用サブ画素電極11gと第1色用サブ画素電極11rとの場合の例を示すように、各サブ画素電極は、サブ画素電極のそれぞれが対向する反射表示層13の部位(図1に示された二点鎖線を参照)に電圧を印加することによって、反射表示層13のそれぞれの部位の反射率を変えることができる。
例えば、図3には、各第1色用サブ画素電極11rに電圧が印加され、第1色用サブ画素電極11rのそれぞれが対向する反射表示層13の部位に白色部13Wが形成された様子が模式的に示されている。
各サブ画素電極は、反射表示層13を、反射率が変更可能な駆動単位であるサブ画素に分割している。
本実施形態におけるサブ画素は、各サブ画素電極が矩形状でありX方向およびY方向においてそれぞれ均等なピッチで配列されていることに対応して、反射表示層13の表面13aを2次元の矩形格子状に区画する。
各サブ画素のX方向幅をWX、Y方向幅をWYと表記する。本実施形態では、各サブ画素のX方向の配列ピッチはWX、Y方向の配列ピッチはWYである。
以下では、各画素Pにおける各サブ画素を、サブ画素Q1、Q2、Q3、Q4(図2に示された細かい破線を参照)と表記する。各画素Pにおける各サブ画素の相対的な位置関係はすべて同一である。ただし、図2では、説明を簡単にするため、画素P1のサブ画素のみ符号を記載している。
各画素Pにおけるサブ画素Q2は、サブ画素Q1に対してX方向と反対方向に隣り合っている。各画素Pにおけるサブ画素Q3は、サブ画素Q2に対してY方向に隣り合っている。各画素Pにおけるサブ画素Q4は、サブ画素Q3(Q1)に対してX(Y)方向に隣り合っている。
例えば、図2における画素P1では、サブ画素Q1、Q2、Q3、Q4は、それぞれ第3色用サブ画素電極11b、無彩色用サブ画素電極11n、第1色用サブ画素電極11r、第2色用サブ画素電極11gと対向している。
画素P1に対してX方向と反対方向に隣り合っている画素P2では、サブ画素Q1、Q2、Q3、Q4は、それぞれ無彩色用サブ画素電極11n、第3色用サブ画素電極11b、第2色用サブ画素電極11g、第1色用サブ画素電極11rと対向している。画素P2における各サブ画素電極の配置パターンは、画素P1における配置パターンをX方向において反転したパターンである。
図2においては他の画素Pにおける各サブ画素電極の符号が省略されているが、各サブ画素と各サブ画素電極との対応は以下の通りである。
画素P2に対してY方向に隣り合っている画素P3では、サブ画素Q1、Q2、Q3、Q4は、それぞれ第1色用サブ画素電極11r、第2色用サブ画素電極11g、第3色用サブ画素電極11b、無彩色用サブ画素電極11nと対向している。画素P3における各サブ画素電極の配置パターンは、画素P2における配置パターンをY方向において反転したパターンである。
画素P3(P1)に対してX方向(Y方向)に隣り合っている画素P4では、サブ画素Q1、Q2、Q3、Q4は、それぞれ第2色用サブ画素電極11g、第1色用サブ画素電極11r、無彩色用サブ画素電極11n、第3色用サブ画素電極11bと対向している。
画素P4における各サブ画素電極の配置パターンは、画素P3(P1)における配置パターンをX(Y)方向において反転したパターンである。
ただし、本実施形態では、反射型表示パネル1Aの有効表示画面は矩形であるため、有効表示画面の外周部には、繰り返し単位Uのうち、半分(2画素)または4分の1(1画素)の部分のみが配置される箇所がある。
各着色層におけるX方向幅(Y方向幅)は、着色層によって異なっていてもよい。ただし、図2には、各着色層におけるX方向幅(Y方向幅)が互いに等しい場合の例が示されている。
各着色層の平面視外形は、図2に示すような厳密な矩形には限定されない。例えば、各着色層の角部は丸められていてもよい。
第1着色層17rは、画素P1、P2の境界をなす辺S12、画素P2、P3の境界をなす辺S23、画素P3、P4の境界をなす辺S34、画素P4、P1の境界をなす辺S41をそれぞれ横断して配置されている。
このように第1着色層17rは、4つの画素P1、P2、P3、P4に跨がっている。
例えば、第1着色層17rは、画素P1を第1の画素としたとき、第1のサブ画素であるサブ画素Q3と重なっている。第1着色層17rは、画素P1と隣り合う第2の画素である画素P2(P4)における第2のサブ画素であるサブ画素Q4(Q2)と重なっている。このため、第1着色層17rは画素境界横断着色層になっている。例えば、第1の画素として、画素P2、P3、P4を選んでも同様である。
なお、画素境界横断着色層は、必ず2以上のサブ画素に重なるため、横断着色層を構成している。
本実施形態では、第1着色層17rは、対向するサブ画素Q3、Q4、Q1、Q2上に均等に重なっている。このため、第1着色層17rの図心は、繰り返し単位Uの中心(辺S12、S23、S34、S41の交点)に位置している。
第1着色層17rは、繰り返し単位Uと同様、X方向にはピッチ4・WXで、Y方向にはピッチ4・WYで矩形格子状に配列されている。
第2着色層17gは、中点M1(M2)の周りに配置された繰り返し単位Uの画素P1、P4(P3、P2)と、繰り返し単位Uの図示右隣(左隣)の繰り返し単位UのP3、P2(P1、P4)とをそれぞれ横断する画素境界横断着色層になっている。
第3着色層17bは、繰り返し単位Uの外形の4つの頂点の周りにそれぞれ配置された画素P1、P2、P3、P4をそれぞれ横断する画素境界横断着色層になっている。
さらに、Y方向(第2の配列方向)において第2着色層17gと第3着色層17bとが交互に配列された帯状の領域がX方向においてピッチ4・WXで平行に並んでいる。Y方向において隣り合う第2着色層17gと第3着色層17bとの間には、サブ画素の外形の辺を挟んで隙間があけられている。
このため、繰り返し単位Uにおいて、画素P1のサブ画素Q2、画素P2のサブ画素Q1、画素P3のサブ画素Q4、画素P4のサブ画素Q3は、いずれの着色層も対向されていない非着色サブ画素を構成している。
図4Aは、本発明の第1の実施形態に係る反射型表示装置における画素と着色層との位置関係を示す模式的な平面図である。
同様に画素P3内の第2着色層17gは、画素P3の外形に対しては隙間なく配置されている。しかし、画素P3内の第2着色層17gは、サブ画素Q1、Q3との境界に対して隙間δ(ただし、δ>0)をあけた状態で配置されている。
同様に画素P3内の第3着色層17bは、画素P3の外形に対しては隙間なく配置されている。しかし、画素P3内の第3着色層17bは、サブ画素Q2、Q4との境界に対して隙間δ(ただし、δ>0)をあけた状態で配置されている。
各着色層の面積は、(WX-δ)・(WY-δ)になっている。画素P3において非着色サブ画素の面積と隙間δの分を含めた非着色領域の総面積は、4・WX・WY-3・(WX-δ)・(WY-δ)である。
ここで、各着色層間の2・δの隙間は、製造誤差が生じても隣り合う着色層同士の接触を確実に防止できる大きさに設定されている。
第1着色層17rと第3着色層17bとは、画素P3の対角方向において互いに離間して配置されている。
サブ画素の面積に対するサブ画素に対向する部分の着色層の面積を着色部面積率αとすると、本実施形態における着色部面積率αは下記式(1)で表される。
着色部面積率αが25%未満であると、第1着色層17r、第2着色層17g、および第3着色層17bを透過する光量が低下することで、色表示時の鮮やかさ(彩度)が低くなりすぎるおそれがある。
着色部面積率αは高いほどよいが、着色部面積率αが100%に近くなると、カラーフィルタ層17の製造方法によっては隣り合う着色層に混色が起こりやすくなる。このため、着色部面積率αは、製造工程において混色が起こらない着色部面積率にすることがより好ましい。例えば、インクジェット印刷法によってカラーフィルタ層17を形成する場合には、面積率は、99%以下とされてもよい。
カラーフィルタ層17は、例えば、透過型液晶表示装置用のカラーフィルタにおいて行われているように、着色レジスト膜をフォトリソグラフィーによってパターニングする方法によって形成されてもよい。この場合には、インク定着層16を設けることなく基材15上に、直接的にカラーフィルタ層17を形成することも可能である。
この場合、インクを第1着色層17r、第2着色層17g、および第3着色層17bの各形成領域に塗布する塗り分けが行われることによって、ブラックマトリックスを形成することなくカラーフィルタ層17が形成される。このカラーフィルタ層17は、ブラックマトリックスによる光量損失がなくなるため、カラーフィルタ層17の透過光量がより向上する。
カラーフィルタ層17の形成に好適なインク塗布方法の例としては、例えば、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法などが挙げられる。特に、インクジェット印刷法は、第1の電極層11に対するカラーフィルタ層17の配置位置の位置合わせがより容易となり、生産性も高い点で、より好ましい。
インク定着層16上に塗工された後のインクの固化方法の例としては、加熱、送風、減圧などによって乾燥させる方法が挙げられる。例えば、インクがUVインク等のエネルギー線硬化型インクの場合には、UV光等のエネルギー線を照射する方法が挙げられる。
特に、UVインクが使用される場合、インク定着層16を設けず、基材15の表面にUVインクを直接塗布しても、カラーフィルタ層17を形成することが可能である。
インクジェット印刷法に用いるインクジェット装置としては、インク吐出方法の相違によりピエゾ変換方式と熱変換方式とが知られているが、ピエゾ変換方式のインクジェット装置を用いることがより好ましい。
インクジェット装置のインクの粒子化周波数は5kHz以上100kHz以下とされてもよい。
インクジェット装置のノズル径は、5μm以上80μm以下とされてもよい。
インクジェット装置は、インクジェットヘッドを複数個備え、1つのインクジェットヘッドには60個~500個程度ノズルが組み込まれていることがより好ましい。
着色剤には、必要な色相が得られるように、2種以上の材料が混合されてもよい。
インクの表面張力が35mN/mより大きいとインク吐出時のドット形状の安定性が悪くなるおそれがある。
インクの沸点が130℃未満であるとノズルに近い位置における乾燥性が著しく高くなるおそれがある。このため、ノズル詰まり等を起こすおそれがある。
溶剤は、必要に応じて2種類以上の溶剤が混合して用いられてもよい。
上記のモノマーは、上記複数のモノマーのうちの1種類が単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。さらに、これらアクリレートと共重合可能なスチレン、シクロヘキシルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、フェニルマレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、n-ブチルマレイミド、ラウリルマイレミド等の化合物が共重合された樹脂が用いられてもよい。
アクリル系樹脂にエチレン性不飽和基を付加させる方法の例としては、例えば、グリシジルメタクリレート等のエポキシ含有樹脂にアクリル酸等のエチレン性不飽和基とカルボン酸含有化合物を付加する方法、メタアクリル酸等のカルボン酸含有樹脂にグリシジルメタアクリレート等のエポキシ含有アクリレートを付加する方法、ヒドロキシメタアクリレート等の水酸基含有樹脂にメタクリロイルオキシエチルイソシアネート等のイソシアネート基含有アクリレートを付加する方法等が挙げられる。
メラミン樹脂は、1種類が単独で用いられてもよいし、2種類以上が混合して用いられてもよい。メラミン樹脂には、必要に応じて、さらにエポキシ樹脂が混合されてもよい。
エポキシ樹脂は、1種類が単独で用いられてもよいし、2種類以上が混合して用いられてもよい。
バインダー樹脂の質量平均分子量が10000を超えると、カラーフィルタ層17の乾燥工程時にインクの流動性が不足し、パターン平坦性が劣ってしまうおそれがある。
バインダー樹脂の質量平均分子量が300未満では、耐溶剤性、耐熱性などの物性を劣ってしまうおそれがある。
分散剤として、例えば、イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤などが用いられてもよい。
分散剤の具体例としては、例えば、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリ脂肪酸塩、脂肪酸塩アルキルリン酸塩、テトラアルキルアンモニウム塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル等が挙げられる。分散剤としては、有機顔料誘導体、ポリエステルなどが用いられてもよい。
分散剤は、1種類が単独で用いられてもよいし、2種類以上が混合して用いられてもよい。
インクの粘度が20mPa・sを超えると、インクの吐出時にインクが所定の位置に着弾しない不良や、ノズル詰りといった不良を招くおそれがある。
インクの粘度が1mPa・s未満であると、インクの吐出時に、飛散しやすくなるおそれがある。
例えば、溶剤を増やすと、インクの流動性が大きくなり、かつ、インク吐出量も多くなる。このため、インク液滴で形成されるドットの中心部よりもドットの周辺に着色剤が集まり易くなり、ドットの中心部の色濃度が低下しやすくなって、カラーフィルタ層17の色むらが生じやすくなる。
インク吐出量を少量にする場合には、インク液滴によるドット径が小さくなるため、ドット間に隙間が生じやすくなるため、良好なカラーフィルタ層17が形成しにくくなる。
保護層18の材質は、例えば、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、ポリカーボネート、アクリル系、シリコーン系等の有機樹脂やSi3N4、SiO2、SiO、Al2O3、Ta2O3等の無機物などが用いられてもよい。
保護層18は、カラーフィルタ層17を形成した後、例えば、スピンコート、ロールコート、印刷法などの塗布法、あるいは蒸着法などにより形成することができる。
図4Bは、比較例の反射型表示装置における画素と着色層との位置関係を示す模式的な平面図である。
図3は模式図であるため、黒色部13B、白色部13Wは層厚の全体に形成されているように描かれているが、黒色部13B、白色部13Wは、反射表示層13の表面13aのみ、あるいは、表面13aに近い位置のみに形成されていてもよい。
これに対して、第1着色層17rに入射した入射光Lは、第1色成分のみが第1着色層17rを透過し、さらに光透過層19を透過して白色部13Wに到る。光透過層19は、白色光を良好に透過する光透過性を有するため、透過率に応じて光量が減衰するのみで、波長成分はほとんど変化しない。白色部13Wに到達した入射光Lは、白色部13Wの反射率に応じて、第1色成分のみからなる反射光Lrとして外部に反射される。
各サブ画素において、着色層と重ならない領域に入射した入射光Lは、同様に黒色部13Bで吸収され、白色部13Wで白色の反射光Lnとして外部に反射される。
反射光において、有彩色の反射光の光量が多くなるほど、彩度が高い鮮やかなカラー表示が得られる。このため、各サブ画素において着色部面積率αが大きい程、表示色の彩度が向上できる。したがって、着色層は隙間δをできるだけ小さくすることが好ましい。しかし、隙間δが小さくなりすぎると、製造上の混色が生じるため、隙間δは許容限度未満にはできない。
本実施形態では、着色層を横断着色層とすることによって着色部面積率αが大きくなるようにしている。この点について、比較例と対比して説明する。
反射型表示パネル201の各画素Pは、本実施形態の画素Pと同様のサブ画素Q1、Q2、Q3、Q4を備える。各画素Pにおいて、サブ画素Q1、Q2、Q3と重なるように、それぞれ第1着色層217r、第2着色層217g、第3着色層217bが配置されている。各着色層は、(WX-2・δ)×(WY-2・δ)の矩形であり、着色層のそれぞれが配置されたサブ画素の外形に対して、それぞれδの隙間をあけて配置されている。
比較例の反射型表示パネル201では、このような画素PがX方句およびY方向に2次元的に配置されている。このように画素Pに横断着色層がなく、着色層がサブ画素の外形の各辺に対してδだけ離間しているため、着色部面積率βは下記式(2)で表される。
本実施形態では、画素P内の各着色層が画素境界横断着色層からなる。このため、着色層が跨ぐ画素(サブ画素)の境界においては隙間が形成されない。これにより、各着色層が配置された各サブ画素における着色部面積率αが比較例の着色部面積率βを上回る。このため、反射型表示パネル1Aによれば、比較例に比べて、表示色の彩度の低下を低減することができる。この結果、反射型表示パネル1Aによれば、表示画面の彩度が向上し、色が濃く鮮やかなカラー表示が可能となる。
次に、上記第1の実施形態の変形例(第1変形例)の反射型表示装置について説明する。
図5Aは、本発明の第1の実施形態の変形例(第1変形例)の反射型表示装置の主要部の構成を示す模式的な平面図である。
以下、上記第1の実施形態と異なる点を中心に説明する。
第4着色層27yは、第4色の波長成分のみを透過する透過波長帯域を有する。第4色としては、第1色、第2色、および第3色と波長帯域が異なり、かつこれらの組み合わせによってフルカラー表示が可能であれば特に限定されない。例えば、第4色は、黄であってもよい。
第4着色層27yの平面視形状は、第1着色層17r、第2着色層17g、第3着色層17bと同様、X方向幅が2・(WX-δ)、Y方向幅が2・(WY-δ)の矩形である。
第4着色層27yは、上記第1の実施形態における非着色領域17nの中心に第4着色層27yの図心が一致するように配置されている。このため、第4着色層27yが重なる4つのサブ画素の外形をなす辺との間には、それぞれ隙間δが空いている。
本変形例の反射型表示パネル1Bによれば、4つの着色層がすべて画素境界横断着色層であるため、上記第1の実施形態と同様に、表示色の彩度の低下を低減することができる。
本変形例は、各画素におけるサブ画素において非着色サブ画素を含まない場合の例になっている。
次に、上記第1の実施形態の変形例(第2変形例)の反射型表示装置について説明する。
図5Bは、本発明の第1の実施形態の変形例(第2変形例)の反射型表示装置の主要部の構成を示す模式的な平面図である。
以下、上記第1の実施形態と異なる点を中心に説明する。
第2列R2に並ぶ複数の第2のカラーフィルタユニットCF2のそれぞれは、右上部分に位置する第1着色層17rと、右下部分に位置する非着色領域17nと、左上部分に位置する第2着色層17gと、左下部分に位置する第3着色層17bとを備える。
また、矢印Bが示すように、第1着色層17r、第2着色層17g、及び第3着色層17bは、Y方向に1列分だけ移動(第2列R2から第3列R1に移動)するとともにX方向に一画素分だけ左にずらした位置(第1のカラーフィルタユニットCF1)にも配置されている。
即ち、各着色領域は、Y方向に沿って1列おきに、X方向に1画素分ずらして、Y方向に沿ってジグザグ状に配置されている。
これに対し、本変形例によれば、第1列R1における第2着色層17g及び第3着色層17bと、第2列R2における第1着色層17r及び非着色領域17nとが互い違いにY方向に並んでいる(ジグザグパターン)。このため、縦ラインが全て黒色表示にならず、第1の実施形態において生じうる問題を解決することができる。
なお、本変形例における着色部面積率及び色指標のNTSC比の値は、第1の実施形態と同じ値を示す。
次に、本発明の第2の実施形態に係る反射型表示装置について説明する。
図6は、本発明の第2の実施形態に係る反射型表示装置の主要部の構成を示す模式的な平面図である。
以下、上記第1の実施形態と異なる点を中心に説明する。
例えば、画素P1では、サブ画素Q1、Q2、Q3、Q4に対向して、それぞれ第2色用サブ画素電極11g、無彩色用サブ画素電極11n、第1色用サブ画素電極11r、第3色用サブ画素電極11bが配置されている。
画素P4における各サブ画素電極の配置パターンは、画素P1における配置パターンをY方向において反転したパターンである。
画素P2(P3)における各サブ画素電極の配置パターンは、画素P4(P1)における配置パターンと同じである。
以下では、説明を簡単にするため、第1着色層37r、第2着色層37g、および第3着色層37bを総称する場合、「本実施形態における各着色層」あるいは単に「各着色層」と表記する場合がある。
第1着色層37r(第2着色層37g、第3着色層37b)は、平面視形状がY方向に長い矩形である点と、配置位置が異なる点とを除いて、上記第1の実施形態における第1着色層17r(第2着色層17g、第3着色層17b)と同様に構成される。
各着色層のX方向幅はWX-2・δ、Y方向幅は2・(WY-δ)である。
このようなX方向の配列は、X方向に2・WXずつずれた状態で、Y方向にピッチ2・WYで反復されている。このため、Y方向においては、第2着色層37gと第3着色層37bとがピッチ2・WYで交互に現れる第1の列と、第1着色層37rと非着色領域37nとがピッチ2・WYで交互に現れる第2の列とが形成されている。第1の列と第2の列とは、X方向において交互に現れる。
例えば、画素P1のサブ画素Q3と、繰り返し単位U内の画素P4のサブ画素Q2とには、第1着色層37rが重なっている。
例えば、画素P1のサブ画素Q4と、繰り返し単位U内の画素P4のサブ画素Q1とには、第3着色層37bが重なっている。
これら第1着色層37r、第3着色層37bは、画素P1において繰り返し単位U内の画素P4との境界をなす辺S4を横断する画素境界横断着色層になっている。
例えば、画素P1のサブ画素Q1と、繰り返し単位Uに対して図6が示す上側部分に隣接する画素P4のサブ画素Q4とには、第2着色層37gが重なっている。
第2着色層37gは、画素P1において繰り返し単位Uに対して図6が示す上側部分に隣接する画素P4との境界をなす辺S2を横断する画素境界横断着色層になっている。
すなわち、本実施形態における各着色層は、2つの画素に重なる画素境界横断着色層からなる。
非着色領域37nが形成されたサブ画素は非着色サブ画素になっている。
同様に、画素P2、P3、P4内における第1着色層37r、第2着色層37g、第3着色層37bも、それぞれ、第1色用サブ画素電極11r、第2色用サブ画素電極11g、第3色用サブ画素電極11b、および無彩色用サブ画素電極11nによって駆動される各サブ画素に重なっている。
各着色層が配置された各サブ画素における着色部面積率γは下記式(3)で表される。
次に、本発明の第2の実施形態の変形例(第3変形例)の反射型表示装置について説明する。
図7は、本発明の第2の実施形態の変形例(第3変形例)の反射型表示装置の主要部の構成を示す模式的な平面図である。
以下、上記第2の実施形態と異なる点を中心に説明する。
例えば、画素P1では、サブ画素Q1、Q2、Q3、Q4に対向して、それぞれ無彩色用サブ画素電極11n、第3色用サブ画素電極11b、第2色用サブ画素電極11g、第1色用サブ画素電極11rが配置されている。
画素P2、P4における各サブ画素電極の配置パターンは、画素P1における配置パターンを図7において反時計回りに90°回転したパターンに相当する。すなわち画素P2、P4では、サブ画素Q2、Q3、Q4、Q1に対向して、それぞれ無彩色用サブ画素電極11n、第3色用サブ画素電極11b、第2色用サブ画素電極11g、第1色用サブ画素電極11rが配置されている。
画素P3における各サブ画素電極の配置パターンは、画素P1における配置パターンと同じである。
以下では、説明を簡単にするため、第1着色層37r、第2着色層47g、および第3着色層37bを総称する場合、「本変形例における各着色層」あるいは単に「各着色層」と表記する場合がある。
第2着色層47gは、平面視形状がX方向に長い矩形である。第2着色層47gのX方向幅は2・(WX-δ)、Y方向幅はWY-2・δである。
第2着色層47gは、上記第2の実施形態における第2着色層37gを90°回転して、X方向に隣接する図7が示す上側部分に位置する2つのサブ画素に重なるように配置したような位置関係に配置されている。
第2着色層47gは、このような平面視形状と配置位置とを有する点とを除いて、上記第2の実施形態における第2着色層37gと同様に構成される。
第2着色層47gが重ねられた2つのサブ画素のY方向(図7が示す下側部分)に隣り合う2つのサブ画素は、着色層が重ねられていない非着色領域47nを構成する。
このようなX方向の配列は、X方向に2・WXずつずれた状態で、Y方向にピッチ2・WYで反復されている。
Y方向においては、第1着色層37rおよび第3着色層37bのY方向側に、第2着色層47g、非着色領域47nがこの順に配置された配列が、Y方向に延びる各列で反復されている。
第2着色層47gは、X方向において互いに隣り合う2つのサブ画素の外形の辺から隙間δをあけて、2つのサブ画素と重なるように配置されている。
本変形例では、例えば、画素P1のサブ画素Q4と、繰り返し単位U内の画素P4のサブ画素Q1とには、第1着色層37rが重なっている。
本変形例における第1着色層37rは、画素P1において繰り返し単位U内の画素P4との境界をなす辺S4を横断する横断着色層になっている。
例えば、画素P1のサブ画素Q3と、繰り返し単位U内の画素P2のサブ画素Q4とには、第2着色層47gが重なっている。
第2着色層47gは、画素P1において繰り返し単位U内の画素P2との境界をなす辺S3を横断する横断着色層になっている。
例えば、画素P1のサブ画素Q2と、繰り返し単位Uに対して図7が示す上側部分に隣接する画素P4のサブ画素Q3とには、第3着色層37bが重なっている。
本変形例における第3着色層37bは、画素P1において繰り返し単位Uに隣接する画素P4との境界をなす辺S2を横断する横断着色層になっている。
すなわち、本変形例における各着色層は、2つの画素に重なる画素境界横断着色層からなる。
非着色領域47nが形成されたサブ画素は非着色サブ画素になっている。
同様に、画素P2、P3、P4内における第1着色層37r、第2着色層47g、第3着色層37b、および非着色領域47nも、それぞれ、第1色用サブ画素電極11r、第2色用サブ画素電極11g、第3色用サブ画素電極11b、および無彩色用サブ画素電極11nによって駆動される各サブ画素に重なっている。
ただし、第2着色層47gが配置されたサブ画素における着色部面積率ηは下記式(4)で表される。
次に、本発明の第3の実施形態に係る反射型表示装置について説明する。
図8は、本発明の第3の実施形態に係る反射型表示装置の主要部の構成を示す模式的な平面図である。
以下、上記第1の実施形態と異なる点を中心に説明する。
以下では、説明を簡単にするため、第1色用サブ画素電極51r、第2色用サブ画素電極51g、第3色用サブ画素電極51b、無彩色用サブ画素電極51nを総称する場合、「本実施形態における各サブ画素電極」あるいは単に「各サブ画素電極」と表記する場合がある。
本実施形態における各サブ画素電極は、上記第1の実施形態における各サブ画素電極と平面視の形状および配置位置が異なる。
各サブ画素電極は、画素Pを対角線で4つに分割したときの各々の二等辺三角形と略同じ形状を有する。このため、各サブ画素電極の面積は均等である。ただし、画素Pの外形が正方形でない場合には、サブ画素電極の底辺の長さおよび底辺からの高さが異なる。
各サブ画素電極の平面視形状は、例えばスイッチング素子の配置位置などによっては、二等辺三角形の一部に凹部または凸部が形成された疑似的な二等辺三角形であってもよい。
各サブ画素電極は、反射表示層13を、反射率が変更可能な駆動単位であるサブ画素に分割している。
本実施形態におけるサブ画素は、各サブ画素電極が各画素の対角線による分割形状に沿う二等辺三角形であることに対応して、反射表示層13の表面13aを2次元パターンに区画する。この2次元パターンは、X方向およびY方向に沿う矩形格子状に配置された画素Pの内側がさらに各画素Pの各対角線によってX字状に4分割された繰り返しパターンである。
各画素Pにおけるサブ画素T3、T1は、画素PのY方向に延びる辺S3、S1を底辺とする。サブ画素T3、T1は、X方向においてこの順に隣り合っている。
各画素Pにおけるサブ画素T2、T4は、画素PのX方向に延びる辺S2、S4を底辺とする。サブ画素T2、T4は、Y方向においてこの順に隣り合っている。
サブ画素T1、T2、T3、T4は、図8において画素Pの中心に関する反時計回りにこの順に配置されている。
例えば、図8における画素P1では、サブ画素T1、T2、T3、T4は、それぞれ第2色用サブ画素電極51g、第3色用サブ画素電極51b、無彩色用サブ画素電極51n、第1色用サブ画素電極51rと対向している。
図8においては他の画素Pにおける各サブ画素電極の符号が省略されているが、各サブ画素と各サブ画素電極との対応は以下の通りである。
画素P2では、サブ画素T1、T2、T3、T4は、それぞれ無彩色用サブ画素電極51n、第1色用サブ画素電極51r、第2色用サブ画素電極51g、第3色用サブ画素電極51bと対向している。画素P2における各サブ画素電極の配置パターンは、画素P1における配置パターンをX方向およびY方向において反転したパターンである。
画素P3における各サブ画素の配列パターンは画素P1と同じパターンである。
画素P4における各サブ画素の配列パターンは画素P2と同じパターンである。
以下では、説明を簡単にするため、第1着色層57r、第2着色層57g、および第3着色層57bを総称する場合、「本実施形態における各着色層」あるいは単に「各着色層」と表記する場合がある。
第1着色層57r(第2着色層57g、第3着色層57b)は、配列方向と平面視形状とが異なる点とを除いて、上記第1の実施形態における第1着色層17r(第2着色層17g、第3着色層17b)と同様に構成される。
このため、x方向およびy方向は、それぞれ画素Pの対角方向である。
各着色層の平面視形状は菱形である。
ただし配列ピッチは、いずれの方向においてもピッチ2・wである。ここで、wは、画素Pの対角線の長さの半分であり、下記式(5)で表される。
例えば、画素P1のサブ画素T4と、繰り返し単位U内の画素P4のサブ画素T2とには、第1着色層57rが重なっている。
例えば、画素P1のサブ画素T1と、繰り返し単位Uの図8が示す右側部分に位置する画素P2のサブ画素T3とには、第2着色層57gが重なっている。
例えば、画素P1のサブ画素T2と、繰り返し単位Uの図8が示す上側部分に位置する画素P4のサブ画素T4とには、第3着色層57bが重なっている。
第1着色層57r、第2着色層57g、第3着色層57bは、それぞれ画素P1の辺S4、S1、S2を横断する横断着色層になっている。
すなわち、本実施形態における各着色層は、2つの画素に重なる横断着色層からなる。
非着色領域57nが形成されたサブ画素は非着色サブ画素になっている。
同様に、画素P2、P3、P4内における第1着色層57r、第2着色層57g、第3着色層57bも、それぞれ、第1色用サブ画素電極51r、第2色用サブ画素電極51g、第3色用サブ画素電極51b、および無彩色用サブ画素電極51nによって駆動される各サブ画素に重なっている。
次に、本発明の第4の実施形態に係る反射型表示装置について説明する。
図9は、本発明の第4の実施形態に係る反射型表示装置の主要部の構成を示す模式的な平面図である。
ただし、反射型表示パネル1Fは、画素Pに代えて、フルカラー表示の表示単位である画素pを備える。各画素pは正方形を含む菱形とされている。各画素pは、X方向およびY方向に対して斜めの2方向に配列されて、反射表示層13の表面13aを2次元的に区画している。
画素pの配列方向は特に限定されないが、以下では、上記第3の実施形態におけるx方向およびy方向と同様の方向であるとして説明する。
以下、上記第1の実施形態と異なる点を中心に説明する。
以下では、説明を簡単にするため、第1色用サブ画素電極61r、第2色用サブ画素電極61g、第3色用サブ画素電極61b、無彩色用サブ画素電極61nを総称する場合、「本実施形態における各サブ画素電極」あるいは単に「各サブ画素電極」と表記する場合がある。
本実施形態における各サブ画素電極は、上記第1の実施形態における各サブ画素電極と平面視の形状および配置位置が異なる。
非着色領域17nが形成されたサブ画素は非着色サブ画素になっている。
各サブ画素電極の平面視形状は、例えばスイッチング素子の配置位置などによっては、直角三角形の一部に凹部または凸部が形成された疑似的な直角三角形であってもよい。
各サブ画素電極は、反射表示層13を、反射率が変更可能な駆動単位であるサブ画素に分割している。
本実施形態におけるサブ画素は、各サブ画素電極が各画素の対角線による分割形状に沿う直角三角形であることに対応して、反射表示層13の表面13aを2次元パターンに区画する。この2次元パターンは、画素pの内側がさらに各画素pの各対角線によって十字状に4分割された繰り返しパターンである。
各画素pにおけるサブ画素t1、t3は、画素pのx方向に延びる辺s1、s3を底辺とする。サブ画素t1、t3は、y方向においてこの順に隣り合っている。
各画素pにおけるサブ画素t2、t4は、画素pのy方向に延びる辺s2、s4を底辺とする。サブ画素t2、t4は、x方向においてこの順に隣り合っている。
サブ画素t1、t2、t3、t4は、図9において画素pの中心に関する反時計回りにこの順に配置されている。
例えば、図9における画素p1では、サブ画素t1、t2、t3、t4は、それぞれ第2色用サブ画素電極61g、第1色用サブ画素電極61r、無彩色用サブ画素電極61n、第3色用サブ画素電極61bと対向している。
図9においては他の画素pにおける各サブ画素電極の符号が省略されているが、各サブ画素と各サブ画素電極との対応は以下の通りである。
画素p2では、サブ画素t1、t2、t3、t4は、それぞれ無彩色用サブ画素電極61n、第3色用サブ画素電極61b、第2色用サブ画素電極61g、第1色用サブ画素電極61rと対向している。画素p2における各サブ画素電極の配置パターンは、画素P1における配置パターンをX方向およびY方向において反転したパターンである。
画素p3における各サブ画素の配列パターンは画素p1と同じパターンである。
画素p4における各サブ画素の配列パターンは画素p2と同じパターンである。
例えば、画素p1のサブ画素t4と、繰り返し単位u内の画素p4のサブ画素t2とには、第3着色層17bが重なっている。
例えば、画素p1のサブ画素t1と、繰り返し単位uの図9に示された斜め右上の画素p2のサブ画素t3とには、第2着色層17gが重なっている。
例えば、画素p1のサブ画素t2と、繰り返し単位uの図9に示された斜め左上の画素p4のサブ画素t4とには、第1着色層17rが重なっている。
第1着色層17r、第2着色層17g、第3着色層17bは、それぞれ画素p1の辺s2、s1、s4を横断する画素境界横断着色層になっている。
すなわち、本実施形態における各着色層は、2つの画素に重なる画素境界横断着色層からなる。
同様に、画素p2、p3、p4内における第1着色層17r、第2着色層17g、第3着色層17bも、それぞれ、第1色用サブ画素電極61r、第2色用サブ画素電極61g、第3色用サブ画素電極61b、および無彩色用サブ画素電極61nによって駆動される各サブ画素に重なっている。
本実施形態における平面視における各画素、各着色層、各サブ画素、および各サブ画素電極の間の相対的な位置関係は、上記第3の実施形態におけるそれぞれの位置関係を図8において時計回りに45°回転してから左右方向において反転した場合に相当する。
次に、本発明の第5の実施形態に係る反射型表示装置について説明する。
図10は、本発明の第5の実施形態に係る反射型表示装置の主要部の構成を示す模式的な平面図である。
本実施形態に係る反射型表示パネル1Gは、上記第1の実施形態に係る反射型表示パネル1Aが画素Pにおいて3色の組み合わせによってフルカラー表示を行うのに対して、画素Pにおいて2色の組み合わせによってカラー表示(以下、ダブルカラー表示と表記する)を行う点が異なる。
以下、上記第1の実施形態と異なる点を中心に説明する。
ダブルカラー表示に用いる2色の例としては、例えば、赤とシアン、マゼンタと緑、黄と青、オレンジと緑などの例を挙げることができる。これら2色の組は、いずれが第1色、第2色として用いられてもよい。
ただし、2色は、これらの組み合わせに限定されることはない。ダブルカラー表示における2色は、必要とする表示色の色相に応じた適宜の2色の組み合わせが用いられてよい。
以下では、説明を簡単にするため、第1色用サブ画素電極71r、第2色用サブ画素電極71c、無彩色用サブ画素電極11n、71nを総称する場合、「本実施形態における各サブ画素電極」あるいは単に「各サブ画素電極」と表記する場合がある。
無彩色用サブ画素電極71nは、無彩色用サブ画素電極11nと同様、無彩色の階調を制御する駆動電極である。
本実施形態における各サブ画素電極は、ダブルカラー表示の画像信号によって駆動される以外は、上記第1の実施形態における各サブ画素電極と同様に構成される。
第1着色層77r(第2着色層77c)は、ダブルカラー表示に用いる第1色(第2色)の波長成分のみを透過する透過波長帯域を有する。
第1着色層77r、第2着色層77cは、上記第1の実施形態における第1着色層17r、第3着色層17bと同様、4つの画素に重なる画素境界横断着色層になっている。
非着色領域17n、77nが形成されたサブ画素は非着色サブ画素になっている。
次に、本発明の第6の実施形態に係る反射型表示装置について説明する。
図11は、本発明の第6の実施形態に係る反射型表示装置の主要部の構成を示す模式的な平面図である。
本実施形態に係る反射型表示パネル1Hは、上記第2の実施形態に係る反射型表示パネル1Bが画素Pにおいて3色の組み合わせによってフルカラー表示を行うのに対して、画素Pにおいてダブルカラー表示を行う点が異なる。
以下、上記第2の実施形態および第5の実施形態と異なる点を中心に説明する。
以下では、説明を簡単にするため、第1色用サブ画素電極81r、第2色用サブ画素電極81c、無彩色用サブ画素電極11n、81nを総称する場合、「本実施形態における各サブ画素電極」あるいは単に「各サブ画素電極」と表記する場合がある。
無彩色用サブ画素電極81nは、無彩色用サブ画素電極11nと同様、無彩色の階調を制御する駆動電極である。
本実施形態における各サブ画素電極は、ダブルカラー表示の画像信号によって駆動される以外は、上記第2の実施形態における各サブ画素電極と同様に構成される。
第1着色層87r、第2着色層87cは、上記第2の実施形態における第1着色層37r、第2着色層37gと同様、4つの画素に重なる画素境界横断着色層になっている。
非着色領域87nが形成されたサブ画素は非着色サブ画素になっている。
次に、本発明の第6の実施形態の変形例(第4変形例)の反射型表示装置について説明する。
図12は、本発明の第6の実施形態の変形例(第4変形例)の反射型表示装置の主要部の構成を示す模式的な平面図である。
本変形例の反射型表示パネル1Jは、上記第6の実施形態に係る反射型表示パネル1Hのカラーフィルタ層97に、上記第2の実施形態の第3変形例と同様の変形を施して構成される。
以下、上記第6の実施形態および第3変形例と異なる点を中心に説明する。
例えば、画素P1では、サブ画素Q1、Q2、Q3、Q4に対向して、それぞれ無彩色用サブ画素電極81n、11n、第2色用サブ画素電極81c、第1色用サブ画素電極81rが配置されている。
画素P2、P4における各サブ画素電極の配置パターンは、画素P1における配置パターンを図12において反時計回りに90°回転したパターンに相当する。すなわち画素P2、P4では、サブ画素Q2、Q3、Q4、Q1に対向して、無彩色用サブ画素電極81n、11n、第2色用サブ画素電極81c、第1色用サブ画素電極81rが配置されている。
画素P3における各サブ画素電極の配置パターンは、画素P1における配置パターンと同じである。
以下では、説明を簡単にするため、第1着色層87r、および第2着色層97cを総称する場合、「本変形例における各着色層」あるいは単に「各着色層」と表記する場合がある。
第2着色層97cは、平面視形状がX方向に長い矩形である。第2着色層97cの平面視形状は、上記第3変形例における第2着色層47gと同様である。
第2着色層97cは、上記第6の実施形態における第2着色層87cを90°回転して、X方向に隣接する2つのサブ画素に重なるように配置したような位置関係に配置されている。
第2着色層97cは、このような平面視形状と配置位置とを有する点とを除いて、上記第6の実施形態における第2着色層87cと同様に構成される。
第2着色層97cが重ねられた2つのサブ画素のY方向に隣り合う2つのサブ画素は、上記第3変形例と同様、着色層が重ねられていない非着色領域47nを構成する。
第1着色層87rと、第2着色層97cおよび非着色領域47nとの間に挟まれ、Y方向に隣り合う2つのサブ画素は、非着色領域97nを構成する。
これらの第1の繰り返し単位および第2の繰り返し単位は、各画素Pに対して、X方向にWX、Y方向にWYだけずらされている。
第1着色層87r、第2着色層97cは、上記第6の実施形態における第1着色層87r、第2着色層87gと同様、2つの画素に重なる画素境界横断着色層になっている。
非着色領域97n、47nが形成されたサブ画素は非着色サブ画素になっている。
次に、本発明の第7の実施形態に係る反射型表示装置について説明する。
図13は、本発明の第7の実施形態に係る反射型表示装置の主要部の構成を示す模式的な平面図である。
本実施形態に係る反射型表示パネル1Kは、上記第3の実施形態に係る反射型表示パネル1Eが画素Pにおいて3色の組み合わせによってフルカラー表示を行うのに対して、画素Pにおいてダブルカラー表示を行う点が異なる。
以下、上記第3の実施形態と異なる点を中心に説明する。
以下では、説明を簡単にするため、第1色用サブ画素電極101r、第2色用サブ画素電極101c、無彩色用サブ画素電極51n、101nを総称する場合、「本実施形態における各サブ画素電極」あるいは単に「各サブ画素電極」と表記する場合がある。
無彩色用サブ画素電極101nは、無彩色用サブ画素電極51nと同様、無彩色の階調を制御する駆動電極である。
本実施形態における各サブ画素電極は、ダブルカラー表示の画像信号によって駆動される以外は、上記第3の実施形態における各サブ画素電極と同様に構成される。
例えば、画素P1では、サブ画素T1、T2、T3、T4に対向して、それぞれ第2色用サブ画素電極101c、無彩色用サブ画素電極101n、51n、第1色用サブ画素電極101rが配置されている。
画素P2、P4における各サブ画素電極の配置パターンは、画素P1における配置パターンを180°回転したパターンに相当する。
画素P3における各サブ画素電極の配置パターンは、画素P1における配置パターンと同じである。
カラーフィルタ層107では、y方向において第1着色層107rおよび第2着色層107cが交互に配列された第1の配列と、y方向において非着色領域107nのみが配列された第2の配列とが、x方向において交互に配列されている。
さらに、カラーフィルタ層107では、x方向において第1着色層107rおよび非着色領域107nが交互に配列された第3の配列と、x方向において第2着色層107cおよび非着色領域107nが交互に配列された第3の配列とが、y方向において交互に配列されている。
第1着色層107r、第2着色層107cは、上記第3の実施形態における第1着色層57r、第2着色層57gと同様、2つの画素に重なる画素境界横断着色層になっている。
非着色領域57n、107nが形成されたサブ画素は非着色サブ画素になっている。
次に、本発明の第7の実施形態の変形例(第5変形例)の反射型表示装置について説明する。
図14は、本発明の第7の実施形態の変形例(第5変形例)の反射型表示装置の主要部の構成を示す模式的な平面図である。
本変形例の反射型表示パネル1Lは、上記第7の実施形態に係る反射型表示パネル1Kにおける第1の電極層101、カラーフィルタ層107における各サブ画素電極、各着色層の配置位置を変えて構成される。
以下、上記第7の実施形態と異なる点を中心に説明する。
例えば、画素P1では、サブ画素T1、T2、T3、T4に対向して、それぞれ無彩色用サブ画素電極111n、第2色用サブ画素電極111c、無彩色用サブ画素電極51n、第1色用サブ画素電極111rが配置されている。
画素P2、P4における各サブ画素電極の配置パターンは、画素P1における配置パターンを180°回転したパターンに相当する。
画素P3における各サブ画素電極の配置パターンは、画素P1における配置パターンと同じである。
このため、本変形例におけるカラーフィルタ層117では、x方向においては第1着色層107r同士に挟まれ、y方向においては第2着色層107c同士に挟まれる2つのサブ画素の領域に、上記第3の実施形態と同様の非着色領域57nが形成されている。
第1着色層107r、第2着色層107cは、上記第7の実施形態におけると同様、2つの画素に重なる画素境界横断着色層になっている。
非着色領域57nが形成されたサブ画素は非着色サブ画素になっている。
次に、本発明の第8の実施形態に係る反射型表示装置について説明する。
図15は、本発明の第8の実施形態に係る反射型表示装置の主要部の構成を示す模式的な平面図である。
以下、上記第1の実施形態と異なる点を中心に説明する。
第1の電極層121は、第1色用サブ画素電極121r、第2色用サブ画素電極121c、および無彩色用サブ画素電極121nを備える。
第1色用サブ画素電極121r、第2色用サブ画素電極121cは、上記第5の実施形態における第1色用サブ画素電極71r、第2色用サブ画素電極71cと同様、ダブルカラー表示に用いる第1色、第2色の階調を制御する駆動電極である。
無彩色用サブ画素電極121nは、上記第5の実施形態における無彩色用サブ画素電極71nと同様、ダブルカラー表示に用いる無彩色の階調を制御する駆動電極である。
X方向において、第2色用サブ画素電極121c、2つの無彩色用サブ画素電極121n、第1色用サブ画素電極121rがこの順に配列された領域に対向する4つのサブ画素は、反射型表示パネル1Mにおけるダブルカラー表示の表示単位である画素PR(図15に示太破線を参照)を構成する。各画素PRのX方向幅は4・WX、Y方向幅はWYである。
以下では、各画素PL、PRを総称して、画素Pと称する場合がある。各画素Pにおける各サブ画素は、X方向における順に、サブ画素q1、q2、q3、q4(図15に示された細かい破線を参照)と表記する。
画素PLの外形は、Y方向に延びる辺S3、S1がX方向にこの順に並んでそれぞれ対向している。画素PLの外形は、X方向に延びる辺S2、S4がY方向にこの順に並んでそれぞれ対向している。特に図示しないが、画素PRの外形も同様である。
第1着色層127r(第2着色層127c)は、上記第5の実施形態の第1着色層77r(第2着色層77c)と同様、ダブルカラー表示に用いる第1色(第2色)の波長成分のみを透過する透過波長帯域を有する。
第1着色層127r(第2着色層127c)の平面視形状は、X方向幅が2・(WX-δ)で、Y方向に延びるストライプ状に形成されている。第1着色層127r(第2着色層127c)は、Y方向において反射型表示パネル1Mの有効表示画面を横断している。
第1着色層127r、第2着色層127cは、X方向において、ピッチ4・WXで、交互に平行に配列されている。
第1着色層127rは、画素PL(画素PR)のサブ画素q4(q1)の外形に対しては隙間δをあけてサブ画素q4(q1)と重なっている。
第1着色層127rは、画素PL、PRの境界をなす画素PLの辺S1(画素PRの辺S3)を横断する画素境界横断着色層になっている。さらに、第1着色層127rは、Y方向においては、Y方向に隣り合う各画素PL、PRをすべて横断している。
第2着色層127cは、画素PL(画素PR)のサブ画素q1(q4)の外形に対しては隙間δをあけてサブ画素q1(q4)と重なっている。
第2着色層127cは、画素PL、PRの境界をなす画素PLの辺S1(画素PRの辺S4)を横断する画素境界横断着色層になっている。さらに、第2着色層127cは、Y方向においては、Y方向に隣り合う各画素PL、PRをすべて横断している。
以下では、説明を簡単にするため、第1着色層127rおよび第2着色層127cを総称する場合、「本実施形態における各着色層」あるいは単に「各着色層」と表記する場合がある。
本実施形態の第1着色層127r、第2着色層127cは、X方向(第1の配列方向)において隙間をあけて1次元的に配列され、画素Pに対向する領域では、互いに離間しかつサブ画素ごとにサブ画素の領域を超えることなくサブ画素に重なって配置された複数の着色層を構成している。
非着色領域127nが形成されたサブ画素は非着色サブ画素になっている。
各着色層が配置された各サブ画素における着色部面積率νは下記式(7)で表される。
次に、本発明の第8の実施形態の変形例(第6変形例)の反射型表示装置について説明する。
図16は、本発明の第8の実施形態の変形例(第6変形例)の反射型表示装置の主要部の構成を示す模式的な平面図である。
本変形例の反射型表示パネル1Nは、上記第8の実施形態に係る反射型表示パネル1Nの各画素Pが、4つのサブ画素で構成されているのに対して、3つのサブ画素で構成した点が異なる。具体的には、上記第8の実施形態においてサブ画素q3を削除したのと同様の構成である。
以下、上記第8の実施形態と異なる点を中心に説明する。
ただし、第1の電極層131では、X方向において、2つの第1色用サブ画素電極121rと、1つの無彩色用サブ画素電極121nと、2つの第2色用サブ画素電極121cとがこの順に繰り返して配置されている点が異なる。
X方向において、第2色用サブ画素電極121c、無彩色用サブ画素電極121n、第1色用サブ画素電極121rがこの順に配列された領域に対向する3つのサブ画素q1、q2、q3は、反射型表示パネル1Nにおけるダブルカラー表示の表示単位である画素PR(図16に示された太破線を参照)を構成する。各画素PRのX方向幅は3・WX、Y方向幅はWYである。
以下では、各画素PL、PRを総称して、画素Pと称する場合がある。
本変形例における各画素Pは、上記第8の実施形態におけるX方向幅が2・WXの非着色領域127nが、X方向幅がWXの非着色領域137nに代えられた点が異なる。
画素PLの外形は、Y方向に延びる辺S3、S1がX方向にこの順に並んでそれぞれ対向している。画素PLの外形は、X方向に延びる辺S2、S4がY方向にこの順に並んでそれぞれ対向している。特に図示しないが、画素PRの外形も同様である。
各着色層が配置された各サブ画素における着色部面積率は、上記第8の実施形態と同様である。このため、反射型表示パネル1Nによれば、第1の実施形態において上述した比較例に比べて、表示色の彩度の低下を低減することができる。
次に、本発明の第9の実施形態に係る反射型表示装置について説明する。
図17Aは、本発明の第9の実施形態に係る反射型表示装置の主要部の構成を示す模式的な平面図である。図17Bは、図17Aにおける部分拡大図である。
本実施形態に係る反射型表示パネル1Pは、上記第6変形例の着色層がY方向において有効表示画面を横断していたのに対して、Y方向に細長い平面視矩形状の着色層がX方向およびY方向に隙間をあけて2次元的に配列されている点と、各画素においてフルカラー表示が行われる点とが異なる。
以下、上記第6変形例と異なる点を中心に説明する。
以下では、説明を簡単にするため、第1色用サブ画素電極141r、第2色用サブ画素電極141g、第3色用サブ画素電極141bを総称する場合、「本実施形態における各サブ画素電極」あるいは単に「各サブ画素電極」と表記する場合がある。
本実施形態における各サブ画素電極は、フルカラー表示の画像信号によって駆動される点と、後述する着色層の配置に応じて画素内の位置が異なる点以外は、上記第6変形例における各サブ画素電極と同様に構成される。
図17Aに示すように、本実施形態における画素Pは、上記第6変形例における画素Pと同様、平面視形状がX方向に細長い矩形状である。このため、本実施形態における画素Pは、X方向に並んだ3つのサブ画素電極によって、3つのサブ画素に分割されている。ただし、本実施形態の画素Pは、各サブ画素電極の配列に応じて、画素PA、PB、PCの3種類に分かれる。
画素PB、PCも、画素PAと同様に、Y方向に3つ配置されており、それぞれ第2の画素群、第3の画素群を構成している。第2の画素群および第3の画素群は、第1の画素群と同様のピッチの繰り返し単位になっている。
第1、第2、および第3の画素群の配列順序は限定されない。本実施形態では、一例として、X方向には第1、第2、および第3の画素群の順で、Y方向には第1、第3、および第2の画素群の順で配列されている。
以下、第1、第2、および第3の画素群を総称する場合には、「各画素群」と表記する場合がある。
以下では、説明を簡単にするため、第1着色層147r、第2着色層147g、および第3着色層147bを総称する場合、「本実施形態における各着色層」あるいは単に「各着色層」と表記する場合がある。
第1着色層147r(第2着色層147g、第3着色層147b)は、平面視形状がY方向に長い矩形である点と、配置位置が異なる点とを除いて、上記第1の実施形態における第1着色層17r(第2着色層17g、第3着色層17b)と同様に構成される。
各着色層のX方向幅はWX-2・δ、Y方向幅は3・WY-2・δである。
例えば、第1の画素群の3つの画素PAに対応する3個ずつのサブ画素を、Y方向の順に(q1,q2,q3)、(q4,q5,q6)、(q7,q8,q9)とする。かっこ内に示された符号の順序はX方向における順序を表す。
このとき、平面視において、第1着色層147rは、サブ画素q3、q6、q9に重なるように配置されている。第2着色層147gは、サブ画素q2、q5、q8に重なるように配置されている。第3着色層147bは、サブ画素q1、q4、q7に重なるように配置されている。
第1着色層147r(第2着色層147g、第3着色層147b)は、各画素群において、Y方向に並んだ3つの画素Pに重なり、かつ各画素群内の画素P間の2つの境界を横断する画素境界横断着色層になっている。
各着色層が配置された各サブ画素における着色部面積率は、各着色層のY方向の両端部が重なるサブ画素q1、q2、q3、q7、q8、q9においては、上記式(3)に示すγとなる。
各着色層の中間部が重なるサブ画素q4、q5、q6においては、下記式(8)に示すμとなる。
次に、本発明の第10の実施形態に係る反射型表示装置について説明する。
図18は、本発明の第10の実施形態に係る反射型表示装置の主要部の構成を示す模式的な平面図である。
ただし、図18には、本実施形態における1つの画素Pの平面視の構成が示されている。後述するように、本実施形態の画素Pは、上記第1の実施形態とサブ画素の構成は異なるが、上記第1の実施形態と同様、X方向およびY方向をそれぞれ第1および第2の配列方向とする矩形格子状に配列されている。このため、本実施形態の画素Pは、X方向およびY方向における繰り返し単位Vを構成している。
以下、上記第1の実施形態と異なる点を中心に説明する。
以下では、説明を簡単にするため、第1色用サブ画素電極151r、第2色用サブ画素電極151g、第3色用サブ画素電極151b、無彩色用サブ画素電極151nを総称する場合、「本実施形態における各サブ画素電極」あるいは単に「各サブ画素電極」と表記する場合がある。
本実施形態における各サブ画素電極は、後述する着色層の配置に応じて画素内の位置が異なる点以外は、上記第1の実施形態における各サブ画素電極と同様に構成される。
図18に示すように、画素Pには、上記第1~第4のサブ画素電極群が平面視にて2×2の矩形格子状に配置されている。第2のサブ画素電極群と第1のサブ画素電極群とは、X方向においてこの順に配置されている。第2のサブ画素電極群と第3のサブ画素電極群とは、Y方向においてこの順に配置されている。第3のサブ画素電極群と第4のサブ画素電極群とは、X方向においてこの順に配置されている。このため、第1~第4のサブ画素電極群は、図18において反時計回りにこの順に配置されている。
各サブ画素電極群に含まれる各サブ画素電極は、同一の駆動電圧が印加されてもよいし、非同一の駆動電圧が印加されてもよい。非同一の駆動電圧が印加される場合、サブ画素電極群に対応する表示色は、各サブ画素電極が有する階調数の4倍の階調数で表現されることが可能である。
第1色用サブ画素電極151rからなる第1のサブ画素電極群は、第1のサブ画素群であるサブ画素Q3、Q4、Q7、Q8の反射率を、第1色に対応する画像信号に応じて制御する。
第2色用サブ画素電極151gからなる第2のサブ画素電極群は、第2のサブ画素群であるサブ画素Q1、Q2、Q5、Q6の反射率を第2色に対応する画像信号に応じて制御する。
第3色用サブ画素電極151bからなる第3のサブ画素電極群は、第3のサブ画素群であるサブ画素Q9、Q10、Q13、Q14の反射率を第3色に対応する画像信号に応じて制御する。
無彩色用サブ画素電極151nからなる第4のサブ画素電極群は、第4のサブ画素群であるサブ画素Q11、Q12、Q15、Q16の反射率を無彩色に対応する画像信号に応じて制御する。
以下では、説明を簡単にするため、第1~第4のサブ画素電極群、第1~第4のサブ画素群を総称する場合、「各サブ画素電極群」、「各サブ画素群」と表記する場合がある。
以下では、説明を簡単にするため、第1着色層157r、第2着色層157g、および第3着色層157bを総称する場合、「本実施形態における各着色層」あるいは単に「各着色層」と表記する場合がある。
第1着色層157r(第2着色層157g、第3着色層157b)は、平面視の大きさが異なる点を除いて、上記第1の実施形態における第1着色層17r(第2着色層17g、第3着色層17b)と同様に構成される。
各着色層の、X方向幅は2・(WX-δ)、Y方向幅は2・(WY-δ)である。
このため、各着色層と、着色層のそれぞれが対向する各サブ画素群の外形境界と、の間には隙間δが形成されている。
さらに、各着色層は、平面視において、各サブ画素群を構成する4つのサブ画素の内部境界を跨いで、4つのサブ画素と重なっている。このため、本実施形態における各着色層は、反射表示層13に対する対向方向から見て4つのサブ画素に重なる横断着色層を構成している。
第4のサブ画素群の各サブ画素は、いずれの着色層も対向されていないため、非着色サブ画素を構成している。第4のサブ画素群の領域は、非着色領域になっている。
各着色層が配置された各サブ画素における着色部面積率は、上記第1の実施形態と同様、上記式(1)に示すαとなる。
このため、各サブ画素群を構成する4つのサブ画素に対向して、互いに離間する4つの着色層を配置する場合に比べて、着色部面積率が向上する。
次に、本発明の第11の実施形態に係る反射型表示装置について説明する。
図19Aは、本発明の第10の実施形態に係る反射型表示装置の主要部の構成を示す模式的な平面図である。図19Bは、図19Aにおける部分拡大図である。
以下、上記第9の実施形態と異なる点を中心に説明する。
これに対して、本実施形態では、図19Bに画素Pbの場合の例で示すように、上記第9の実施形態におけるサブ画素q1~q9に対応するサブ画素Q1~Q9が1つの画素Pを構成している。
画素Pa、Pb、Pcの間の相違は、それぞれにおける各着色層の配列順序である。画素Pa(Pb、Pc)における各着色層のX方向の配列順序は、上記第9の実施形態における画素PA(PB、PC)における各着色層のX方向の配列順序と同様である。
1つの着色層に重なる3つのサブ画素電極は、同一の駆動電圧が印加されてもよいし、非同一の駆動電圧が印加されてもよい。非同一の駆動電圧が印加される場合、1つの着色層に対応する表示色は、3つのサブ画素電極が有する階調数の3倍の階調数で表現されることが可能である。
本実施形態における第1着色層147r(第2着色層147g、第3着色層147b)は、各画素Pにおいて、Y方向に並んだ3つのサブ画素に重なる横断着色層になっている。
各着色層が配置された各サブ画素における着色部面積率は、上記第9の実施形態における着色部面積率と同様である。
下記[表1]に、実施例1、2、比較例1、2の構成と評価結果とを示す。
[表1]に示す実施例1は、上記第1の実施形態に係る反射型表示パネル1Aの実施例である。すなわち、フルカラー表示を行うため、カラーフィルタ層17の各着色層が4つの画素に重なっている実施例である。
実施例1の反射型表示パネル1Aは、以下のようにして製造された。
この後、ガラスからなる基板10上に、ITOからなる第1の電極層11が形成された。第1の電極層11上に、透明アクリル粘着剤からなる接着層12を介して、反射表示層13が貼り合わされた。
この状態の基材15上に、ポリエステル樹脂系のインクジェット受容層用樹脂NS-141LX(商品名;高松油脂(株)製)がコンマコーターを用いて連続塗工された。
この後、インクジェット受容層用樹脂が減圧乾燥機にて5分乾燥された。これにより、平均膜厚10μmのインク定着層16が形成された。
カラーフィルタ層17を形成するインクは、以下のようにして製造された。
本実施例では、第1色には赤(以下、R)、第2色には緑(以下、G)、第3色には青(以下、B)が用いられた。
まず、下記[表2]に示すように、R、G、Bの着色剤を含む赤(R)分散液、緑(G)分散液、青(B)分散液がそれぞれ作製された。
分散剤としては、ソルスパース(登録商標)20000(商品名;リューブリゾル社製)が用いられた。顔料としては、C.I.Pigment Red 254、C.I.Pigment Yellow 150が、それぞれ19重量部、1重量部用いられた。
この混合液において顔料を充分に分散させるために、ビーズミル分散の分散機が用いられた。このようにして、R分散液が作製された。
G分散液は、R分散液における顔料が、C.I.Pigment Green 58(15重量部)、C.I.Pigment Yellow 150(5重量部)に変更された以外は、R分散液と同様にして作製された。
B分散液は、R分散液における顔料が、C.I.Pigment Blue 15:6(19重量部)、C.I.Pigment Violet 23(1重量部)に変更された以外は、R分散液と同様にして作製された。
メラミン樹脂は、MW-22(商品名;(株)三和ケミカル製)が用いられた。
Gインク、Bインクは、RインクにおけるR分散液が、それぞれG分散液、B分散液に変更された以外は、Rインクと同様にして作製された。
インクジェット印刷装置としては、セイコーインスツルメンツ(株)製の12pl、180dpi(2.54cm当たり180ドット)のインクジェットヘッドが搭載されたインクジェット印刷装置が用いられた。
各着色層は、δ=7(μm)として、X方向幅が193μm、Y方向幅が193μmとされた。
この結果、[表1]に示すように、各着色層が配置された各サブ画素における着色部面積率は、93%であった。
塗工されたインクは、減圧乾燥機にて5分乾燥された。これにより、カラーフィルタ層17が形成された。
この後、カラーフィルタ層17の上に、ポリイミドからなる保護層18が積層された。
このようにして、上記第1の実施形態に対応する実施例1の反射型表示パネル1Aが製造された。
[表1]に示す実施例2は、上記第5の実施形態に係る反射型表示パネル1Gの実施例である。すなわち、ダブルカラー表示を行うため、カラーフィルタ層77の各着色層が4つの画素に重なっている実施例である。ダブルカラーの第1色、第2色は、それぞれ、赤、シアン(以下、C)とされた。
実施例2の反射型表示パネル1Gは、各着色層の種類、配置位置が異なる以外は、上記実施例1と同様にして製造された。各サブ画素電極、各サブ画素、各画素、および各着色層の平面視の大きさは、上記実施例1と同様である。
このため、[表1]に示すように、本実施例における各着色層が配置された各サブ画素における着色部面積率も実施例1と同様、93%であった。
本実施例における第1着色層77r、第2着色層77cを製造した赤(R)分散液、シアン(C)分散液、赤(R)インク、シアン(C)インクの構成について、下記[表4]、[表5]に記載した。
C分散液は、R分散液における分散剤がDISPER BYK(登録商標)-111(商品名;ビックケミー社製)、顔料が、C.I.Pigment Blue 15:3(20重量部)に変更された以外は、R分散液と同様にして作製された。
Cインクは、RインクにおけるR分散液が、C分散液に変更された以外は、Rインクと同様にして作製された。
[表1]に示す比較例1は、各着色層を上記第1の実施形態において比較例の配置および平面視形状にした点が実施例1と異なる。このため、比較例1における各着色部面積率は、87%であった。
比較例2は、比較例1において、第2着色層217gを削除し、第1着色層17r、第3着色層17bの材料を、それぞれ上記実施例2と同様のRインクおよびCインクに変更して作製された。このため、比較例2における各着色部面積率は、比較例1と同様、87%であった。
実施例1、2、比較例1、2の反射型表示パネルの評価は、色再現性の測定によって行われた。
フルカラー表示における色再現性は、NTSC比によって評価された。
NTSC比は、反射型表示パネルにおける白黒表示を行って反射率の測定値、および赤青緑の各色表示における色度の測定値から算出された。
測定機としては、分光色差計CM-700d(商品名;コニカミノルタ(株)製)が用いられた。光源はD65光源が用いられ、測定スポット径はΦ=8(mm)とされた。
ダブルカラー表示における色再現性は、R表示、C表示における彩度C*によって評価された。
彩度C*は、反射型表示パネルによるR表示、C表示における明度の測定値から算出された。明度は、上記フルカラー表示の場合と同様の測定機、測定条件で測定された。
彩度C*は、L*a*b*表色系で表現された彩度(C*=√{(a*)2+(b*)2})である。
[表1]に示すように、実施例1のNTSC比は10.2%となった。比較例1のNTSC比は9.0%であったので、実施例1の色再現性は比較例1に比べて良好であった。
実施例2における彩度C*は、R表示、C表示でそれぞれ17.2、16.3であった。比較例2では、R表示、C表示でそれぞれ16.0、15.2であったので、実施例2の色再現性は比較例2に比べて良好であった。
これは、実施例1、2では、着色部面積率が93%と高いため、サブ画素での反射光における有彩色成分が、着色部面積率87%の比較例1、2よりも増大したことによると考えられる。
このように、実施例1、2の反射型表示パネルによれば、比較例1、2に比べて彩度が高く、鮮やかな色を表示することができた。
また、本発明は前述した説明によって限定されることはなく、添付の特許請求の範囲によってのみ限定される。
例えば、無彩色用サブ画素電極に対向する非着色領域を有しない第9、第11の実施形態において、無彩色用サブ画素電極と、無彩色用サブ画素電極に対向する非着色領域とを付加することが可能である。
例えば、上記第1~第9の実施形態等のサブ画素を、上記第10、第11の実施形態と同様の複数のサブ画素に置換することによって、画素境界横断着色層でない横断着色層を付加することが可能である。
11、21、31、41、51、61、71、81、91、101、111、121、131、141、151 第1の電極層
11r、51r、61r、71r、81r、101r、111r、121r、141r、151r 第1色用サブ画素電極
11g、51g、61g、71c、81c、101c、111c、121c、141g、151g 第2色用サブ画素電極
11b、51b、61b、141b、151b 第3色用サブ画素電極
11n、51n、61n、71n、81n、101n、121n、151n 無彩色用サブ画素電極
13 反射表示層(反射型表示部)
13B 黒色部
13W 白色部
14 第2の電極層
16 インク定着層
17、27、37、47、57、77、87、97、107、117、127、137、147、157 カラーフィルタ層
19 光透過層
17r、37r、57r、77r、87r、107r、117r、127r、147r、157r 第1着色層(着色層、横断着色層、画素境界横断着色層)
17g、37g、47g、57g、77c、87c、97c、107c、127c、147g、157g 第2着色層(着色層、横断着色層、画素境界横断着色層)
17b、37b、57b、147b、157b 第3着色層(着色層、横断着色層、画素境界横断着色層)
17n、37n、47n、57n、77n、87n、97n、107n、127n、137n 非着色領域
21y 第4色用サブ画素電極
27y 第4着色層(着色層、横断着色層、画素境界横断着色層)
P、P1、P2、P3、P4、p1、p2、p3、p4、PR、PL、PA、PB、PC、Pa、Pb、Pc 画素
Q1、Q2、Q3、Q4、Q5、Q6、Q7、Q8、Q9、Q10、Q11、Q12、Q13、Q14、Q15、Q16、q1、q2、q3、q4、q5、q6、q7、q8、q9、T1、T2、T3、T4、t1、t2、t3、t4 サブ画素
U、u、V、v 繰り返し単位
R1 第1列
R2 第2列
CF1 第1のカラーフィルタユニット
CF2 第2のカラーフィルタユニット
Claims (5)
- 複数のサブ画素を有する画素を単位として2次元的に区画され、画像信号に基づいて前記サブ画素ごとに反射率を変えることができる反射型表示部と、
前記反射型表示部と対向し、対向方向から見て前記画素の一部と重なるように配置された複数の着色層と、
を備え、
前記複数の着色層は、前記対向方向から見て2以上の前記サブ画素に重なる横断着色層を含んでおり、
かつ前記複数の着色層は、前記対向方向から見て前記サブ画素当たり2以上の着色層が重なることがないように、第1の配列方向および前記第1の配列方向に交差する第2の配列方向において隙間をあけて2次元的に配列され、前記画素に対向する領域では、前記対向方向から見て互いに離間しかつ前記サブ画素ごとに前記サブ画素の範囲を超えることなく前記サブ画素に重なって配置されており、
前記横断着色層は、第1の画素に含まれる第1のサブ画素と、前記第1の画素と隣り合う第2の画素に含まれる第2のサブ画素と、前記第1のサブ画素と前記第2のサブ画素との間の領域と、に重なっている、
反射型表示装置。 - 前記画素は矩形状であり、
前記横断着色層は、矩形格子状に配列された4つの前記画素に対向して配置されている、
請求項1に記載の反射型表示装置。 - 前記画素における複数の前記サブ画素は、
前記対向方向から見て前記複数の着色層のいずれにも重ならない非着色サブ画素を含む、
請求項1または2に記載の反射型表示装置。 - 前記複数の着色層のうち、前記対向方向から見て前記画素に重なる着色層群は、互いに異なる色に着色されている、
請求項1から3のいずれか一項に記載の反射型表示装置。 - 複数のサブ画素を有する画素を単位として2次元的に区画され、画像信号に基づいて前記サブ画素ごとに反射率を変えることができる反射型表示部と、
前記反射型表示部と対向し、対向方向から見て前記画素の一部と重なるように配置された複数の着色層と、
を備え、
前記複数の着色層は、前記対向方向から見て2以上の前記サブ画素に重なる横断着色層を含んでおり、
前記複数の着色層は、
第1の配列方向に延在する複数の第1列及び複数の第2列に沿って配列され、
前記第1の配列方向に交差する第2の配列方向に沿って、前記複数の第1列は前記複数の第2列と隣接するように互い違いに並んでおり、
前記第2列に並ぶ前記着色層は、前記第1列に並ぶ前記着色層から前記第1の配列方向に沿って前記第1の配列方向における前記画素の寸法分だけずれた位置に配置されており、
前記横断着色層は、第1の画素に含まれる第1のサブ画素と、前記第1の画素と隣り合う第2の画素に含まれる第2のサブ画素と、前記第1のサブ画素と前記第2のサブ画素との間の領域と、に重なっている、
反射型表示装置。
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