JP7001258B2 - Tube surface treatment equipment and plasma treatment equipment - Google Patents
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Description
本発明は、弾性変形可能又はコイル状のチューブ内をプラズマ照射により表面改質するチューブの表面処理装置に係り、特に、省スペースで弾性変形可能又はコイル状のチューブの内面をプラズマ照射で表面改質するのに好適なチューブの表面処理装置及びプラズマ処理装置に関する。 The present invention relates to a tube surface treatment device that modifies the surface of an elastically deformable or coiled tube by plasma irradiation, and in particular, surface-treats the inner surface of an elastically deformable or coiled tube by plasma irradiation in a space-saving manner. The present invention relates to a tube surface treatment device and a plasma treatment device suitable for quality.
試験管やピペットの内壁面をプラズマ照射により親水性の改善を図る表面処理方法として、例えば、開口端を塞いた試験管内を真空状態に維持し、試験管の両端に配置した電極に所定電圧の直流パルス電圧を所定時間印加することが提案されている(特許文献1)。 As a surface treatment method for improving the hydrophilicity of the inner wall surface of a test tube or pipette by irradiating it with plasma, for example, the inside of the test tube with the open end closed is maintained in a vacuum state, and a predetermined voltage is applied to electrodes arranged at both ends of the test tube. It has been proposed to apply a DC pulse voltage for a predetermined time (Patent Document 1).
特許文献1に開示された表面処理方法により、弾性変形可能な長尺チューブの内面を表面処理する場合、長尺チューブを真っ直ぐに延ばさなければならず、スペース確保等の点から非現実的であった。
When the inner surface of an elastically deformable long tube is surface-treated by the surface treatment method disclosed in
また、コイル状のチューブの内面をプラズマ照射により表面改質処理する場合、特許文献1の電極配置ではプラズマの発生が困難である。
Further, when the inner surface of the coiled tube is surface-modified by plasma irradiation, it is difficult to generate plasma with the electrode arrangement of
そこで、本発明は、このような従来の技術の有する未解決の課題に着目してなされたものであって、省スペースで弾性変形可能又はコイル状のチューブの内面をプラズマ照射で表面改質するのに好適なチューブの表面処理装置及びプラズマ処理装置を提供することを目的としている。 Therefore, the present invention has been made by paying attention to the unsolved problems of such conventional techniques, and the inner surface of a space-saving, elastically deformable or coiled tube is surface-modified by plasma irradiation. It is an object of the present invention to provide a tube surface treatment device and a plasma treatment device suitable for the above.
〔発明1〕 上記目的を達成するために、発明1のチューブの表面処理装置は、弾性変形可能又はコイル状のチューブの内面をプラズマ照射により表面処理するチューブの表面処理装置であって、真空チャンバーと、前記真空チャンバー内に配置され、塔本体の外周に前記弾性変形可能なチューブが螺旋状に巻回されて取り付けられ、又は前記コイル状のチューブが取り付けられる支持塔と、前記塔本体の外周に周方向に沿って配置された複数の第1電極体と、前記塔本体の外周に周方向に沿って前記第1電極体の間に配置された複数の第2電極体と、前記第1電極体と前記第2電極体に所定電圧を印加する電源部と、前記塔本体に取り付けられるチューブに接続されて前記チューブ内の気体を排気し、前記チューブ内にプラズマが発生する気圧に減圧する第1真空ポンプ部と、を有する。
[Invention 1] In order to achieve the above object, the tube surface treatment device of the
ここで、真空とは、大気圧より低い圧力の気体で満たされた空間内の状態をいう。以下、本願明細書において同じである。 Here, the vacuum means a state in a space filled with a gas having a pressure lower than the atmospheric pressure. Hereinafter, the same applies to the specification of the present application.
〔発明2〕 さらに、発明2のチューブの表面処理装置は、発明1のチューブの表面処理装置において、前記チューブの両端部は、前記チューブの両端部に取り付けられるチューブ止め手段により前記塔本体の外周面に取り外し可能に止められる。
[Invention 2] Further, the surface treatment device for the tube of the
〔発明3〕 さらに、発明3のチューブの表面処理装置は、発明1のチューブの表面処理装置において、前記塔本体の外周面に前記チューブが嵌合する嵌合溝を螺旋状に形成した。
[Invention 3] Further, in the tube surface treatment device of the invention 3, in the tube surface treatment device of the
〔発明4〕 さらに、発明4のチューブの表面処理装置は、発明1乃至3のいずれか1のチューブの表面処理装置において、前記支持塔は、前記真空チャンバー内に取り出し可能に取り付けられている。
[Invention 4] Further, the tube surface treatment device of the invention 4 is the tube surface treatment device of any one of the
〔発明5〕 さらに、発明5のチューブの表面処理装置は、発明1乃至4のいずれか1のチューブの表面処理装置において、前記真空チャンバー内の気体を排気して、前記チューブ内の気圧よりも高く前記真空チャンバー内でプラズマが発生しない圧力に減圧し、前記チューブ内の気圧との間に生じる差圧を調節可能とする第2真空ポンプ部を有する。
[Invention 5] Further, the tube surface treatment device of the
〔発明6〕 さらに、発明6のチューブの表面処理装置は、発明1乃至5のいずれか1のチューブの表面処理装置において、前記真空チャンバーは、縦長有底の筒体形状に形成されたチャンバー本体と、前記チャンバー本体の上端開口を塞ぐ蓋体と、を有し、前記上端開口を通して前記支持塔を取り出し可能とする。
[Invention 6] Further, the tube surface treatment device of the invention 6 is the tube surface treatment device of any one of the
〔発明7〕 一方、上記目的を達成するために、発明7のプラズマ処理装置は、被処理対象物の内面及び外面のうち一方の面をプラズマ照射により処理するプラズマ処理装置であって、気圧をそれぞれ調整可能な2つの空間のうち一方の空間に前記被処理対象物の内面を、他方の空間に前記被処理対象物の外面を配置した状態で前記2つの空間の差圧が所定条件となるように前記一方の空間の気圧及び前記他方の空間の気圧を減圧するとともに、前記一方の空間の気圧を前記他方の空間の気圧よりも低くする。
[Invention 7] On the other hand, in order to achieve the above object, the plasma processing apparatus of the
以上説明したように、発明1のチューブの表面処理装置によれば、弾性変形可能なチューブの長さに関係なく、又はコイル状のチューブでも塔本体の外周に巻き付けた状態で配置できるので、装置の省スペース化を図ることができる。また、第1電極体と第2電極体をチューブを挟んで対向配置せず、塔本体の外周に周方向に沿って交互に配置してプラズマを発生させることができるので、第1電極体と第2電極体の配置の自由度が増し、装置のコンパクト化を図ることができる。
As described above, according to the tube surface treatment device of the
さらに、発明2のチューブの表面処理装置によれば、チューブの長短に合わせて塔本体の外周面にチューブを適切に取り付けることができる。
Further, according to the tube surface treatment device of the
さらに、発明3のチューブの表面処理装置によれば、同一長さのチューブを容易に取り付けできるので、多数本の同一な長さのチューブを効率よく処理することができる。 Further, according to the tube surface treatment apparatus of the invention 3, since tubes of the same length can be easily attached, a large number of tubes of the same length can be efficiently treated.
さらに、発明4のチューブの表面処理装置によれば、予めチューブを取り付けた支持塔を用意しておけば、処理終了から次の処理までの支持塔の交換時間を短縮することができ、処理効率をアップさせることができる。 Further, according to the tube surface treatment apparatus of the present invention 4, if a support tower to which the tube is attached is prepared in advance, the replacement time of the support tower from the end of the treatment to the next treatment can be shortened, and the treatment efficiency can be shortened. Can be up.
さらに、発明5のチューブの表面処理装置によれば、第2真空ポンプ部により、チューブの変形強度の大小に応じてチューブの内外の差圧を調節することで、チューブの圧潰を防止して、チューブ内の内周表面のみに表面改質処理を施すことができる。
Further, according to the tube surface treatment device of the
さらに、発明6のチューブの表面処理装置によれば、支持塔の交換は、蓋体をチャンバー本体から取り外し、チャンバー本体の開口から支持塔をチャンバー本体内に降ろす操作と引き上げる簡単な操作で支持塔の交換操作を行うことができる。 Further, according to the tube surface treatment device of the invention 6, the support tower can be replaced by removing the lid from the chamber body, lowering the support tower from the opening of the chamber body into the chamber body, and pulling it up. Can be replaced.
一方、発明7のプラズマ処理装置によれば、被処理対象物の変形を抑制し被処理対象物の内面及び外面のうち一方の面を処理することができる。
On the other hand, according to the plasma processing apparatus of the
〔第1実施形態〕
以下、本発明の第1実施形態を説明する。図1乃至図6は、本実施形態を示す図である。
[First Embodiment]
Hereinafter, the first embodiment of the present invention will be described. 1 to 6 are diagrams showing the present embodiment.
まず、本実施形態の構成を説明する。
図1は、チューブの表面処理装置1の外観斜視図である。図2は、チューブの表面処理装置1の正面図である。図3は、チューブの表面処理装置1の右側面図である。
First, the configuration of this embodiment will be described.
FIG. 1 is an external perspective view of a tube
図1において、チューブの表面処理装置1は、縦長の筒体形状に形成された真空チャンバー2と、真空チャンバー2内に取り出し可能に設置された支持塔5と、支持塔5に螺旋状に巻回される弾性変形可能な長尺のチューブ7内の気体を排気する第1真空ポンプ部8と、真空チャンバー2内の気体を排気する第2真空ポンプ部9と、支持塔5に取付けた第1電極10と第2電極11に例えば直流のパルス電圧を印加する電源部12とを有する。
In FIG. 1, the tube
次に、真空チャンバー2の構成を説明する。
真空チャンバー2は、底部20を有する縦長円筒形状のチャンバー本体21の上端に形成された開口22を円盤形状の蓋体23により閉塞している。チャンバー本体21の側面に、チャンバー本体21の内外を連通する第1排気ポート24と第2排気ポート25が取付けられている。第1排気ポート24と第2排気ポート25は第1真空ポンプ部4と不図示の接続パイプを介して接続される。
Next, the configuration of the
In the
底部20の中央部分に有底の円形形状の底穴部26が形成されている。底穴部26には、支持塔5を底部20に取付ける中空形状の取り付け台27が嵌合している。取り付け台27は、円筒形状の第1係合部28と第1係合部28よりも外径が大径の円盤形状の台本体部29が同一軸心上に一体的に形成され、台本体部29が底穴部26に嵌合する。台本体部29の上面30は、底部20の表面と一致している。
A bottomed
底穴部26には、周方向に一定角度間隔で4本の取り付けピン31a~31dが上方に向けて支出されている。台本体部29には、取り付けピン31a~31dに対応して係合孔32a~32dが形成されている。台本体部29の係合孔32a~32dを取り付けピン31a~31dに差し込んで接着剤等で接着することで取り付け台27が底部20に固定される。第1係合部28は、直径線を挟んで前部33の上面が後部34の上面よりも上下方向において低く形成され、前部33の上面と後部34の上面との間で上下方向に段差35が形成されている。
In the
蓋体23の内面の外周部は、開口22の上端面の全周面と密着状態で当接する。蓋体23には、チャンバー本体21の内外を連通する第3排気ポート36と、チャンバー本体21内の気圧を測定する圧力計37が取り付けられている。第3排気ポート36は第2真空ポンプ部9と不図示の接続パイプを介して接続される。第2真空ポンプ部9を駆動して真空チャンバー2内の気圧を減圧すると、蓋体23は差圧によりチャンバー本体21の開口に密着する。
The outer peripheral portion of the inner surface of the
次に、支持塔5の構成を説明する。
図4は、チューブの表面処理装置1の上面図である。図5は、支持塔5の外観斜視図である。図6は、(a)が支持塔5の上面図、(b)が支持塔5の右側面図、(c)が支持塔5の正面図である。
Next, the configuration of the
FIG. 4 is a top view of the tube
支持塔5は、円筒形状の塔本体50と、塔本体50の下端部が差し込まれる円筒形状に形成された第2係合部51とを有する。塔本体50は、外周面に軸方向に沿って第1凹溝52~第4凹溝55の4つの凹溝が等間隔(90度)に形成されている。対向する第1凹溝52と第3凹溝54には第1電極10のA電極体10AとB電極体10Bが装着される。第1電極10は、細幅の導電部材を平面コ字形状に折曲して形成され、中央部分の接続体100の両側に第1電極体をなすA電極体10AとB電極体10Bが対向配置される。第2電極11は、第1電極10と同様に構成され、中央部分の接続体110の両側に第2電極体をなすC電極体11CとD電極体11Dが対向配置される。そして、対向する第2凹溝53と第4凹溝55にC電極体11CとD電極体11Dが装着される。すなわち、前記第1電極体の間に前記第2電極体が配置される。
The
第2係合部51の内径孔56に塔本体50の下端部が密嵌合する。内径孔56の内面には、第1凹溝52~第4凹溝55の凹部に対応して第1係合片57~第4係合片60が内向きに形成されている。第1係合片57~第4係合片60は、第1凹溝52~第4凹溝55に装着されるA電極10A、B電極10B、C電極11C、D電極11Dの外面に達する位置までに延びている。
The lower end of the
第2係合部51は、直径線を挟んで後部61の下面が前部62の下面よりも上方に位置するように形成され、前部62の下面と後部61の下面との間で上下方向に段差63が形成されている。第2係合部51と第1係合部28は外径が同径に形成され、第2係合部51を第1係合部28に対し、互いの段差35と段差63が接するようにして重ねると、軸回りに回転不能に係合する。
The second engaging
塔本体50の下端部は、第2係合部51の段差63と一致するように切欠かれており、塔本体50の後部64の下端は第2係合部51の後部61の下面まで達し、塔本体50の前部65の下端は第2係合部51の前部62の下面まで達している。
The lower end of the
図6に示すように、第1電極10と第2電極11は、接続体100と接続体110を塔本体50の下側に互いに直交するように配置し、A電極体10Aを第1凹溝52、B電極体10Bを第3凹溝54、C電極体11Cを第2凹溝53、D電極体11Dを第4凹溝55に差し込むようにして装着する。第2電極11は塔本体50の後部64の下端に接続体110を配置し、第1電極10は塔本体50の前部65の下端に接続体100を配置している。したがって、第1電極10の接続体100は第2電極11の接続体110よりも下方に位置し、ショートすることがない。なお、第2電極11のC電極体11Cが装着される第2凹溝53は、塔本体50の前部65に設けられているので、第4凹溝55が設けられている塔本体50の後部64の下端と同レベルの位置まで切欠かれている。
As shown in FIG. 6, in the
A電極体10A、B電極体10B、C電極体11C、D電極体11Dには塔本体50を貫通して高圧パルス側給電ピン(不図示)とグランド側給電ピン(不図示)が差し込まれる給電ピン差込孔66が下方位置にそれぞれ形成されている。A電極体10A、B電極体10B、C電極体11C、D電極体11Dは、給電ピン差込孔66の上方に複数設けたねじ孔(不図示)を通してねじ(不図示)が塔本体50にねじ込まれ、第1電極板10と第2電極板11が塔本体50に固定される。
A high-pressure pulse side feeding pin (not shown) and a ground side feeding pin (not shown) are inserted into the
前記高圧パルス側給電ピンとグランド側給電ピンは、例えばチャンバー本体21に取付けた高圧パルス接続端子(不図示)と、グランド接続端子(不図示)にそれぞれ不図示の給電線を介して接続される。電源部12は、不図示の接続線を介して前記高圧パルス接続端子とグランド接続端子に接続される。
The high-voltage pulse-side feeding pin and the ground-side feeding pin are connected to, for example, a high-voltage pulse connection terminal (not shown) attached to the
塔本体50の外周面には、上下方向に沿って螺旋状のガイド溝67が形成されている。ガイド溝67には、軟弾性を有するチューブ7が嵌合して巻回される。チューブ7としては、輸血用、点滴用等の医療用チューブを例示することができるがこれに限定されるものではない。塔本体50の外周に巻回支持されるチューブ7の下端側に位置する一端開口7aと上端側に位置する他端開口7bは、第1排気ポート24と第2排気ポート25にそれぞれ不図示の接続パイプを介して接続される。なお、チューブ7の他端開口7bを閉塞し、一端開口7aからのみ排気するようにしても良い。その際、第2排気ポート25を閉栓する。
A
次に、チューブ7の表面処理操作を説明する。
本実施形態において、チューブ7の内周面を表面改質する場合、支持塔5にチューブ7をガイド溝67に嵌合して予め保持する。また、前記高圧パルス側給電ピンとグランド側給電ピンをそれぞれ第1電極板10と第2電極板11の給電ピン差込孔66に差し込む。さらに、チューブ7の一端開口7aに不図示の接続パイプを接続し、第1真空ポンプ部8との接続を行う。なお、チューブ7の他端開口7bを予め閉塞する。
Next, the surface treatment operation of the
In the present embodiment, when the inner peripheral surface of the
そして、真空チャンバー2の蓋体23を取り外してチャンバー本体21の開口22を開放し、チューブ7が巻回保持された支持塔5を開口22からチャンバー本体21内の底部20に向けて差し入れる。支持塔5の第2係合部51を取り付け台部27の第1係合部28に係合させることにより、支持塔5が真空チャンバー2の底部20に回転不能に取付けられる。支持塔5の取付け終了後に、蓋体23をチャンバー本体21の上端に載置して開口22を閉じる。
Then, the
その後、第1真空ポンプ部8と第2真空ポンプ部9を駆動し、処理対象物であるチューブ7の処理対象面である内面側の気圧(P1)と処理対象物の非処理対象面側をなす真空チャンバー2内の気圧(P2)に差圧(P1<P2)が生じるように、チューブ7の内側の気圧(P1)を真空チャンバー2内の気圧(P2)よりも低くする。真空チャンバー2内の気圧(P2)は、チューブ7の外面側でプラズマが発生しない気圧に設定する。
After that, the first
塔本体50の外周面には、第1電極10のA電極体10AとB電極体10Bが対向配置され、周方向に90度の角度をずらして第2電極11のC電極体11CとD電極体11Dが配置される。
The
すなわち、塔本体50の周方向に、A電極体10A、B電極体10B、C電極体11C、D電極体11Dの順で配置される。電源部12から第1電極10にはプラス極性の高圧パルス電圧が印加され、第2電極11にはマイナス極性のグランド電圧が印加される。すなわち、塔本体50の外周には、プラス極性の電極体(10A、10B)とマイナス極性の電極体(11C、11D)が交互に配置される。このため、チューブ7内を所定の気圧値に減圧した状態で第1電極10と第2電極11に所定電圧を印加すると、隣接する電極体間でチューブ7内にプラズマが発生し、チューブ7の内周面をプラズマ照射により親水性等を向上させた改質処理を行うことができる。
That is, the
本実施形態において、真空チャンバー2内で被処理対象物であるチューブ7の処理対象面であるチューブ7の内側の気圧を非処理対象面である外側の気圧よりも低くして差圧状態を生成している。処理対象面と非処理対象面に生じる差圧は、被処理対象物が差圧で潰れない範囲に設定する。非処理対象面側の気圧は、プラズマが発生する気圧(閾値)を下回らない、すなわちプラズマが発生しない気圧よりも高い範囲で設定する。なお、前記閾値はプラズマの電源電圧に応じた値である。また、前記差圧の許容度は、被処理対象物の強度により異なるが、例えばペットボトルと試験管ではペットボトルの方が差圧は小さい。
In the present embodiment, a differential pressure state is generated by lowering the air pressure inside the
したがって、変形強度が高い潰れ難いチューブ7に対しては、内側だけ減圧することができる。一方、変形強度が低い潰れやすいチューブ7に対しては、チューブ7の内側と外側の両方を減圧する。例えば、チューブ7内の気圧(P1)を200Pa、チューブ7外の気圧(P2)を2000Paに設定し、チューブ7内のみにプラズマが発生し、チューブ7外にプラズマが発生しないようにチューブ7の外側、すなわち真空チャンバー2内の気圧をチューブ7内の気圧よりもやや高めに設定する。真空チャンバー2内の気圧は圧力計37によりチェックすることで、真空チャンバー2内にプラズマが発生しない気圧を維持することができる。
Therefore, the pressure can be reduced only on the inside of the
次に、本実施形態の効果を説明する。
本実施形態によれば、チューブ7を塔本体52に螺旋状に巻回するようにしているので、チューブ7が長くても小さなスペースでチューブ7の内表面をプラズマ照射により表面改質処理を行うことができる。
Next, the effect of this embodiment will be described.
According to the present embodiment, since the
また、塔本体50の外周面に螺旋状にガイド溝67を設けてチューブ7を嵌合して保持しているので、塔本体50へのチューブ7の取り付けが容易なので、所定長さのチューブ7を短時間に多数本処理することができる。
Further, since the
また、第2真空ポンプ部9により、チューブの変形強度の大小に応じてチューブ7の内外の差圧を調節することで、チューブの圧潰を防止して、チューブ7内の内周表面のみに表面改質処理を施すことができる。
Further, the second vacuum pump unit 9 adjusts the differential pressure inside and outside the
さらに、チューブ7が巻回される塔本体50の外周面に周方向に沿って正極と負極の電極板(A電極体、B電極体、C電極体、D電極体)10、11を交互に配置することで、隣接するA電極体10A、B電極体10B、C電極体11C、D電極体11D間でプラズマが発生する。このため、正極と負極の電極板10、11の配置を塔本体50に配置でき、電極板(電極体)の配置の自由度が増し、装置のコンパクト化を図ることができる。
Further, electrode plates (A electrode body, B electrode body, C electrode body, D electrode body) 10 and 11 of the positive electrode and the negative electrode are alternately arranged along the circumferential direction on the outer peripheral surface of the
また、支持塔5の交換は、蓋体23をチャンバー本体21から取り外し、チャンバー本体21の開口22から支持塔5をチャンバー本体21内に降ろすという簡単な操作で取り付け台部27に支持塔5が取り付けることができ、また逆に引き上げるだけで処理済みのチューブ7が取り付けられた支持塔5を容易に取り出すことができる。
Further, to replace the
さらに、予めチューブ7を取り付けた支持塔5を複数用意しておけば、処理終了から次の処理までの交換時間を短縮することができ、処理効率をアップさせることができる。
Further, if a plurality of
〔第2実施形態〕
次に、本発明の第2実施形態を説明する。図7及び図8は、本実施形態を示す図である。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the present invention will be described. 7 and 8 are diagrams showing the present embodiment.
図7は、支持塔200の分解斜視図である。図8は、図7のA-A線に沿った断面図である。なお、第1実施形態に示す部材と同じ部材には同じ符号を付してその説明を省略する。
FIG. 7 is an exploded perspective view of the
まず、支持塔200の構成を説明する。
図7及び図8において、第2実施形態の支持塔200は、円筒形状に形成された塔本体201の下端部に、第1実施形態の支持塔5に設けた第2係合部51と同構造の第3係合部(不図示)が設けられている。支持塔200は、図1に示す真空チャンバー2の取り付け台部27に設けた第1係合部28に係合し、真空チャンバー2の底部に取り出し可能に取付けられる。
First, the configuration of the
In FIGS. 7 and 8, the
支持塔200の塔本体201は、第1実施形態に示す第1電極板10と第2電極板11が取付けられる。塔本体201の外周面に第1凹溝202~第4凹溝205が等角度間隔で形成され、第1電極板10のA電極体10Aを第1凹溝202、B電極体10Bを第3凹溝204、第2電極板11のC電極体11Cを第2凹溝203、D電極体11Dを第4凹溝205に差し込むようにして装着する。
The
本実施形態では、高圧パルスが印加される第1電極板10を塔本体201の下側から装着し、グランド側電圧が印加される第2電極板11を塔本体201の上側から装着している。塔本体201は上端と下端の端面が共に平坦面に形成されているので、第1電極板10と第2電極板11を塔本体201の上端又は下端側から装着すると、第1電極10の接続体100と第2電極11の接続体110がショートする。しかし、本実施形態では第1電極板10と第2電極板11が塔本体201の上端側と下端側に別々に配置しているので、ショートすることがない。
In the present embodiment, the
塔本体201の外周面にチューブ7が螺旋状に巻回される。塔本体201の外周面に螺旋状に巻回されたチューブ7の両端部は、チューブ止め手段である第1チューブ端部押え体206と第2チューブ端部押え体207により取り外し可能に保持された状態で塔本体201の外周面に押し付けられて移動不能に止められる。
The
第1チューブ端部押え体206と第2チューブ端押え体207は同一構造に形成されており、第1チューブ端部押え体206の構成について説明し、第2チューブ端押え体207の構成については、同一部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。第1チューブ端部押え体206は、直方体形状の本体部208の一側面209の一端側にチューブ7が嵌合する半円形状の嵌合溝210が形成され、一側面209の他端に差込突起部211が前方に向けて突出している。
The first tube
第1チューブ押え体206の嵌合溝210にチューブ7の一端部を嵌合し、第2チューブ押え体207の嵌合溝210にチューブ7の他端部を嵌合させた状態で、塔本体201の外周面にチューブ7を螺旋状に巻回する。その際、巻回始端側の第1チューブ端部押え体206の差込突起部211を例えば塔本体201の外周面の下部に形成した差込孔212に取り外し可能に差し込んで固定する。チューブ7を塔本体201の外周面に対して螺旋状に巻き終えると、チューブ7の他端部に設けた第2チューブ押え体207の差込突起部211を塔本体201の外周面に形成した他の差込孔212に差し込んで固定する。
The tower main body is in a state where one end of the
塔本体201の外周面に螺旋状に巻回されたチューブ7は、下方に位置する一端部と上方に位置する他端部が第1チューブ押え体206と第2チューブ押え体207を介して塔本体201の外周面に固定されるので、チューブ7は塔本体201の外周面に螺旋状に巻回した状態に保持される。
The
次に、本実施形態の効果を説明する。
本実施形態では、チューブ7の長さに応じて巻回する際のピッチを変更することで、チューブ7を塔本体201に対して螺旋状に巻回した状態に保持することができる。チューブ7が長ければ、巻回するピッチを小さくし、短ければ巻回するピッチを大きくする。なお、差込突起部211が差し込まれる差込孔212を塔本体201の外周面に周方向及び上下方向に複数個所設けることにより、チューブ7の長さに関係なく同じピッチでチューブ7を塔本体201の外周面に取り付けることができる。
Next, the effect of this embodiment will be described.
In the present embodiment, the
本実施形態によれば、長さの異なるチューブ7を塔本体201に螺旋状に巻回保持することができる。このため、チューブ7の長さ毎に塔本体201を用意する必要がない。
According to the present embodiment, the
〔変形例〕
なお、上記第1及び第2実施形態において、平面コ字形状の第1電極10と第2電極11塔本体50に対して直交するように配置し、正極と負極のそれぞれ2本の電極体(10A、10B、11A、11B)を交互に配置しているが、正極と負極のそれぞれ3本又はそれ以上の電極体を交互に配置するようにしても良い。
[Modification example]
In the first and second embodiments, the
また、上記第1及び第2実施形態並びにその変形例においては、支持塔5、200は円筒形状に形成しているが、円柱形状でも良く、角筒形状、角柱形状であっても良い。 Further, in the first and second embodiments and modifications thereof, the support towers 5 and 200 are formed in a cylindrical shape, but may be in a cylindrical shape, or may be in a cylindrical shape or a prismatic shape.
また、上記第1及び第2実施形態並びにその変形例においては、支持塔5、200を真空チャンバー2の底部20に取付ける取付手段として、第1係合部28と第2係合部51とを係合させて上下方向の軸回りに回転不能としているが、この構成に限定されるものではなく、支持塔5、200が底部20に取り外し可能に取り付けできる構成であれば良い。
Further, in the first and second embodiments and modifications thereof, the first engaging
また、上記第1及び第2実施形態並びにその変形例においては、コイル状のチューブを塔本体200に取り付けても良い。
Further, in the first and second embodiments and modifications thereof, a coiled tube may be attached to the
1…チューブの表面処理装置、 2…真空チャンバー、 5…支持塔、 7…チューブ、 7a…一端開口、 7b…他端開口、 8…第1真空ポンプ部、 9…第2真空ポンプ部、 10…第1電極、 11…第2電極、 10A…A電極体、 10B…B電極体、 100…接続体、 110…接続体、 11C…C電極体、 11D…D電極体、 12…電源部、 20…底部、 21…チャンバー本体、 22…開口、 23…蓋体、 24…第1排気ポート、 25…第2排気ポート、 26…底穴部、 27…取り付け台、 28…第1係合部、 29…台本体部、 30…上面、 31a~31d…取り付けピン、 32a~32d…係合孔、 33…前部、 34…後部、 35…段差、 36…第3排気ポート、 37…圧力計、 50…塔本体、 51…第2係合部、 52~55…第1凹溝~第4凹溝、 56…内径孔、 57~60…第1係合片~第4係合片、 61…後部、 62…前部、 63…段差、 64…後部、 65…前部、 66…給電ピン差込孔、 67…ガイド溝、 200…支持塔、 201…塔本体、 202~205…第1凹溝~第4凹溝、 206…第1チューブ端部押え体、 207…第2チューブ端部押え体、 208…本体部、 209…一側面、 210…嵌合溝、 211…差込突起部、 212…差込孔、 213…高圧パルス側給電ピン、 214…グランド側給電ピン 1 ... tube surface treatment device, 2 ... vacuum chamber, 5 ... support tower, 7 ... tube, 7a ... one end opening, 7b ... other end opening, 8 ... first vacuum pump section, 9 ... second vacuum pump section, 10 ... 1st electrode, 11 ... 2nd electrode, 10A ... A electrode body, 10B ... B electrode body, 100 ... connection body, 110 ... connection body, 11C ... C electrode body, 11D ... D electrode body, 12 ... power supply unit, 20 ... bottom, 21 ... chamber body, 22 ... opening, 23 ... lid, 24 ... first exhaust port, 25 ... second exhaust port, 26 ... bottom hole, 27 ... mounting base, 28 ... first engaging part , 29 ... stand body, 30 ... top surface, 31a-31d ... mounting pin, 32a-32d ... engagement hole, 33 ... front, 34 ... rear, 35 ... step, 36 ... third exhaust port, 37 ... pressure gauge , 50 ... Tower body, 51 ... 2nd engaging part, 52-55 ... 1st concave groove to 4th concave groove, 56 ... Inner diameter hole, 57-60 ... 1st engaging piece to 4th engaging piece, 61 ... rear, 62 ... front, 63 ... step, 64 ... rear, 65 ... front, 66 ... power supply pin insertion hole, 67 ... guide groove, 200 ... support tower, 201 ... tower body, 202-205 ... first Recessed groove to 4th concave groove, 206 ... 1st tube end presser body, 207 ... 2nd tube end presser body, 208 ... Main body part, 209 ... One side surface, 210 ... Fitting groove, 211 ... Insertion protrusion , 212 ... Insert hole, 213 ... High pressure pulse side feeding pin, 214 ... Ground side feeding pin
Claims (6)
真空チャンバーと、
前記真空チャンバー内に配置され、塔本体の外周に前記弾性変形可能なチューブが螺旋状に巻回されて取り付けられ、又は前記コイル状のチューブが取り付けられる支持塔と、
前記塔本体の外周に軸方向に沿って配置された複数の第1電極体と、
前記塔本体の外周に軸方向に沿って配置された複数の第2電極体と、
前記第1電極体と前記第2電極体に所定電圧を印加する電源部と、
前記塔本体に取り付けられるチューブに接続されて前記チューブ内の気体を排気し、前記チューブ内にプラズマが発生する気圧に減圧する第1真空ポンプ部と、
を有し、
前記複数の第1電極体と前記複数の第2電極体とは、前記塔本体の外周に周方向に沿って交互に配置され、
前記チューブは、前記複数の第1電極体及び前記複数の第2電極体の外側から取り付けられることを特徴とするチューブの表面処理装置。 A tube surface treatment device that surface-treats the inner surface of an elastically deformable or coiled tube by plasma irradiation.
With a vacuum chamber,
A support tower arranged in the vacuum chamber and attached by spirally winding the elastically deformable tube around the outer periphery of the tower body, or to which the coiled tube is attached.
A plurality of first electrode bodies arranged along the axial direction on the outer periphery of the tower body, and
A plurality of second electrode bodies arranged along the axial direction on the outer periphery of the tower body, and
A power supply unit that applies a predetermined voltage to the first electrode body and the second electrode body,
A first vacuum pump unit connected to a tube attached to the tower body to exhaust gas in the tube and reduce the pressure to the pressure at which plasma is generated in the tube.
Have,
The plurality of first electrode bodies and the plurality of second electrode bodies are alternately arranged along the circumferential direction on the outer periphery of the tower body.
The tube surface treatment device is characterized in that the tube is attached from the outside of the plurality of first electrode bodies and the plurality of second electrode bodies .
前記チューブの両端部は、前記チューブの両端部に取り付けられるチューブ止め手段により前記塔本体の外周面に取り外し可能に止められることを特徴とするチューブの表面処理装置。 In claim 1,
A tube surface treatment device, wherein both ends of the tube are removably fixed to the outer peripheral surface of the tower body by tube fixing means attached to both ends of the tube.
前記塔本体の外周面に前記チューブが嵌合する嵌合溝を螺旋状に形成したことを特徴とするチューブの表面処理装置。 In claim 1,
A tube surface treatment device characterized in that a fitting groove into which the tube is fitted is spirally formed on the outer peripheral surface of the tower body.
前記支持塔は、前記真空チャンバー内に取り出し可能に取り付けられていることを特徴とするチューブの表面処理装置。 In any one of claims 1 to 3,
The support tower is a tube surface treatment device, characterized in that it is detachably mounted in the vacuum chamber.
前記真空チャンバー内の気体を排気して、前記チューブ内の気圧よりも高く前記真空チャンバー内でプラズマが発生しない圧力に減圧し、前記チューブ内の気圧との間に生じる差圧を調節可能とする第2真空ポンプ部を有することを特徴とするチューブの表面処理装置。 In any one of claims 1 to 4,
The gas in the vacuum chamber is exhausted to a pressure higher than the air pressure in the tube so that plasma is not generated in the vacuum chamber, and the differential pressure generated between the pressure and the air pressure in the tube can be adjusted. A tube surface treatment device comprising a second vacuum pump section.
前記真空チャンバーは、縦長有底の筒体形状に形成されたチャンバー本体と、前記チャンバー本体の上端開口を塞ぐ蓋体と、を有し、前記上端開口を通して前記支持塔を取り出し可能とすることを特徴とするチューブの表面処理装置。 In any one of claims 1 to 5,
The vacuum chamber has a chamber body formed in a vertically long bottomed tubular shape and a lid body that closes the upper end opening of the chamber body, and the support tower can be taken out through the upper end opening. A featured tube surface treatment device .
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