JP6999390B2 - Cleaning equipment and cleaning method - Google Patents

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Description

本発明は、洗浄装置及び洗浄方法に関する。より特定的には、本発明は、球体を洗浄するための洗浄装置及び球体の洗浄方法に関する。 The present invention relates to a cleaning device and a cleaning method. More specifically, the present invention relates to a cleaning device for cleaning spheres and a method for cleaning spheres.

従来から、球体の洗浄方法としては、例えば、キャビテーション内に配置した球体に衝撃波を印加することにより球体を洗浄する方法(第1の方法)、円盤状の保持器内に球体を配置し、ブラシで球体を擦ることにより球体を洗浄する方法(第2の方法)、球体をスポンジ上で転がすことにより球体を洗浄する方法(第3の方法)及び手もみやスポンジを用いて人力で球体を洗浄する方法(第4の方法)が知られている。 Conventionally, as a method for cleaning a sphere, for example, a method of cleaning the sphere by applying a shock wave to the sphere arranged in the cavitation (first method), a method of arranging the sphere in a disk-shaped cage, and a brush. A method of cleaning the sphere by rubbing the sphere with (second method), a method of cleaning the sphere by rolling the sphere on a sponge (third method), and a method of manually cleaning the sphere using a hand fir tree or a sponge. (Fourth method) is known.

その他の球体の洗浄装置及び洗浄方法としては、例えば特開平7-100229号公報(特許文献1)、特開2003-144889号公報(特許文献2)、特開2006-159088号公報(特許文献3)及び特開2012-029850号公報(特許文献4)に記載の構成が、従来から知られている。 Examples of other sphere cleaning devices and cleaning methods include JP-A-7-100229 (Patent Document 1), JP-A-2003-144889 (Patent Document 2), and JP-A-2006-159888 (Patent Document 3). ) And Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-029850 (Patent Document 4) are conventionally known.

特開平7-100229号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-100229 特開2003-144889号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-144889 特開2006-159088号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-159088 特開2012-029850号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-029850

しかしながら、上記の第1ないし第4の方法においては、洗浄後における球体の清浄度が不十分となるおそれがある。なお、特許文献1ないし特許文献4に記載の洗浄装置及び洗浄方法によると、洗浄中に洗浄対象となる球体に傷がつくおそれがある。 However, in the above-mentioned first to fourth methods, the cleanliness of the sphere after washing may be insufficient. According to the cleaning apparatus and cleaning method described in Patent Documents 1 to 4, there is a possibility that the sphere to be cleaned may be damaged during cleaning.

本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものである。より具体的には、本発明は、洗浄対象となる球体の洗浄後における清浄度を改善することができる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。 The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art. More specifically, the present invention provides a cleaning device and a cleaning method capable of improving the cleanliness of the sphere to be cleaned after cleaning.

本発明の一態様に係る洗浄装置は、球体を洗浄するための洗浄装置である。本発明の一態様に係る洗浄装置は、第1面を有する第1部材と、第2面を有し、第2面が第1面に対向するように配置される第2部材とを備える。第1部材は、第1面と第2面とが対向した状態で、第2部材に対して相対的に回転可能に構成されている。第1面には、第1端と、第1端の反対側の端である第2端とを有する溝が設けられている。球体は、溝と第2面との間に挟持される。溝は、平面視において、らせん形状を有している。溝は、第1面に連なる第1側壁と、第1面に連なり、かつ第1側壁に対向して配置される第2側壁とを有する。第1側壁と第2側壁との間隔は、第1面から遠ざかるにつれて狭くなる。溝の延在方向に直交する断面における第1側壁の延長線と第2側壁の延長線とが交差する位置は、溝上における第1端からの距離に応じて変化する。 The cleaning device according to one aspect of the present invention is a cleaning device for cleaning a sphere. The cleaning device according to one aspect of the present invention includes a first member having a first surface and a second member having a second surface and arranged so that the second surface faces the first surface. The first member is configured to be rotatable relative to the second member with the first surface and the second surface facing each other. The first surface is provided with a groove having a first end and a second end that is the opposite end of the first end. The sphere is sandwiched between the groove and the second surface. The groove has a spiral shape in a plan view. The groove has a first side wall that is continuous with the first surface and a second side wall that is continuous with the first surface and is arranged so as to face the first side wall. The distance between the first side wall and the second side wall becomes narrower as the distance from the first side wall increases. The position where the extension line of the first side wall and the extension line of the second side wall intersect in the cross section orthogonal to the extending direction of the groove changes depending on the distance from the first end on the groove.

本発明の一態様に係る洗浄装置によると、洗浄対象となる球体の洗浄後における清浄度を改善することができる。 According to the cleaning device according to one aspect of the present invention, it is possible to improve the cleanliness of the sphere to be cleaned after cleaning.

上記の洗浄装置において、記溝の延在方向に直交する断面における第1側壁の延長線と第2側壁の延長線とが交差する位置は、溝上における第1端からの距離に応じて左右に変化していてもよい。 In the above cleaning device, the position where the extension line of the first side wall and the extension line of the second side wall intersect in the cross section orthogonal to the extending direction of the groove is left and right depending on the distance from the first end on the groove. It may be changing.

この場合には、洗浄対象となる球体の洗浄後における清浄度をさらに改善することができる。 In this case, the cleanliness of the sphere to be cleaned after cleaning can be further improved.

上記の洗浄装置において、溝の延在方向に直交する断面における第1側壁の延長線と第2側壁の延長線とが交差する位置は、溝上における第1端からの距離に応じて上下に変化していてもよい。 In the above cleaning device, the position where the extension line of the first side wall and the extension line of the second side wall intersect in the cross section orthogonal to the extending direction of the groove changes up and down depending on the distance from the first end on the groove. You may be doing it.

この場合には、洗浄対象となる球体の洗浄後における清浄度をさらに改善することができる。 In this case, the cleanliness of the sphere to be cleaned after cleaning can be further improved.

上記の洗浄装置において、第1部材は、第2部材の下方に配置されていてもよい。この場合には、洗浄中に球体に傷がつくことを抑制できる。 In the above cleaning device, the first member may be arranged below the second member. In this case, it is possible to prevent the sphere from being damaged during cleaning.

本発明の一態様に係る洗浄方法は、球体を洗浄するための洗浄方法である。本発明の一態様に係る洗浄方法は、球体を準備する工程と、球体を洗浄するための洗浄装置を準備する工程とを備える。洗浄装置は、第1面を有する第1部材と、第2面を有する第2部材とを備える。第2部材は、第2面が第1面に対向するように配置される。第1面には、平面視においてらせん形状を有する溝が設けられている。溝は、第1面に連なる第1側壁と、第1面に連なり、かつ第1側壁に対向して配置される第2側壁とを有する。第1側壁と第2側壁との間隔は、第1面から遠ざかるにつれて狭くなる。本発明の一態様に係る洗浄方法は、溝と第2面との間に挟持されるように、洗浄装置に前記球体を供給する工程と、第1面が第2面と対向した状態で、第2部材に対して第1部材を相対的に回転することにより、球体を洗浄する工程とをさらに備える。 The cleaning method according to one aspect of the present invention is a cleaning method for cleaning spheres. The cleaning method according to one aspect of the present invention includes a step of preparing a sphere and a step of preparing a cleaning device for cleaning the sphere. The cleaning device includes a first member having a first surface and a second member having a second surface. The second member is arranged so that the second surface faces the first surface. The first surface is provided with a groove having a spiral shape in a plan view. The groove has a first side wall that is continuous with the first surface and a second side wall that is continuous with the first surface and is arranged so as to face the first side wall. The distance between the first side wall and the second side wall becomes narrower as the distance from the first side wall increases. The cleaning method according to one aspect of the present invention includes a step of supplying the sphere to the cleaning device so as to be sandwiched between the groove and the second surface, and a state in which the first surface faces the second surface. A step of cleaning the sphere is further provided by rotating the first member relative to the second member.

本発明の一態様に係る洗浄方法によると、洗浄対象となる球体の洗浄後における清浄度を改善することができる。 According to the cleaning method according to one aspect of the present invention, it is possible to improve the cleanliness of the sphere to be cleaned after cleaning.

上記の洗浄方法において、溝は、第1端と、第1端と反対側の端である第2端とを有していてもよい。上記の洗浄方法において、溝の延在方向に直交する断面における第1側壁の延長線と第2側壁の延長線とが交差する位置は、溝上における第1端からの距離に応じて左右に変化していてもよい。 In the above cleaning method, the groove may have a first end and a second end which is an end opposite to the first end. In the above cleaning method, the position where the extension line of the first side wall and the extension line of the second side wall intersect in the cross section orthogonal to the extending direction of the groove changes left and right depending on the distance from the first end on the groove. You may be doing it.

この場合、洗浄対象となる球体の洗浄後における清浄度をさらに改善することができる。 In this case, the cleanliness of the sphere to be cleaned after cleaning can be further improved.

上記の洗浄方法において、溝は、第1端と、第1端と反対側の端である第2端とを有していてもよい。上記の洗浄方法において、溝の延在方向に直交する断面における第1側壁の延長線と第2側壁の延長線とが交差する位置は、溝上における第1端からの距離に応じて上下に変化していてもよい。 In the above cleaning method, the groove may have a first end and a second end which is an end opposite to the first end. In the above cleaning method, the position where the extension line of the first side wall and the extension line of the second side wall intersect in the cross section orthogonal to the extending direction of the groove changes up and down depending on the distance from the first end on the groove. You may be doing it.

この場合、洗浄対象となる球体の洗浄後における清浄度をさらに改善することができる。 In this case, the cleanliness of the sphere to be cleaned after cleaning can be further improved.

上記の洗浄方法において、第1部材は、第2部材の下方に配置されていてもよい。この場合には、洗浄中に球体に傷がつくことを抑制できる。 In the above cleaning method, the first member may be arranged below the second member. In this case, it is possible to prevent the sphere from being damaged during cleaning.

本発明の一態様に係る洗浄装置及び洗浄方法によると、洗浄対象となる球体の洗浄後における清浄度を改善することができる。 According to the cleaning device and the cleaning method according to one aspect of the present invention, it is possible to improve the cleanliness of the sphere to be cleaned after cleaning.

第1実施形態に係る洗浄装置の斜視図である。It is a perspective view of the cleaning apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る洗浄装置の上面図である。It is a top view of the cleaning apparatus which concerns on 1st Embodiment. 図2のIII-III断面における断面図である。It is sectional drawing in the section III-III of FIG. 図2のIV-IV断面における断面図である。It is sectional drawing in the IV-IV cross section of FIG. 第1実施形態に係る洗浄方法を示す工程図である。It is a process drawing which shows the cleaning method which concerns on 1st Embodiment. 球体5が溝11の第1端11a近傍に位置している際の球体5の自転状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the rotation state of the sphere 5 when the sphere 5 is located in the vicinity of the first end 11a of the groove 11. 球体5が溝11の第1端11aと第2端11bの中間に位置している際の球体5の自転状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the rotation state of the sphere 5 when the sphere 5 is located between the 1st end 11a and the 2nd end 11b of the groove 11. 球体5が溝11の第2端11b近傍に位置している際の球体5の自転状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the rotation state of the sphere 5 when the sphere 5 is located near the 2nd end 11b of the groove 11. 第2実施形態に係る洗浄装置の上面図である。It is a top view of the cleaning apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 図9のX-X断面における断面図である。It is sectional drawing in the XX cross section of FIG. 図9のXI-XIにおける断面図である。9 is a cross-sectional view taken along the line XI-XI of FIG.

以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。以下の図面においては、同一又は相当する部分に同一の参照番号を付し、その説明は繰り返さないものとする。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following drawings, the same or corresponding parts shall be given the same reference number, and the description thereof shall not be repeated.

なお、以下において、下方とは、重力方向に沿う方向をいい、上方とは、下方の反対方向をいう。以下において、左右とは、重力方向に直交する方向をいう。 In the following, the lower direction means the direction along the direction of gravity, and the upper side means the opposite direction to the lower side. In the following, left and right means a direction orthogonal to the direction of gravity.

(第1実施形態)
以下に、第1実施形態に係る洗浄装置の構成について説明する。図1は、第1実施形態に係る洗浄装置の斜視図である。図2は、第1実施形態に係る洗浄装置の上面図である。図3は、図2のIII-III断面における断面図である。図4は、図2のIV-IV断面における断面図である。なお、図2においては、第1部材1の平面形状を明らかにするため、第2部材2の図示は省略してある。
(First Embodiment)
The configuration of the cleaning device according to the first embodiment will be described below. FIG. 1 is a perspective view of the cleaning device according to the first embodiment. FIG. 2 is a top view of the cleaning device according to the first embodiment. FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III of FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the IV-IV cross section of FIG. In addition, in FIG. 2, in order to clarify the planar shape of the first member 1, the illustration of the second member 2 is omitted.

第1実施形態に係る洗浄装置は、第1部材1と、第2部材2とを有している。第1部材1は、第1面1aを有している。第2部材2は、第2面2aを有している。第1部材1は、第2部材2よりも下方に配置されていることが好ましい。第2部材2は、第2面2aが第1面1aに対向するように配置されている。 The cleaning device according to the first embodiment has a first member 1 and a second member 2. The first member 1 has a first surface 1a. The second member 2 has a second surface 2a. The first member 1 is preferably arranged below the second member 2. The second member 2 is arranged so that the second surface 2a faces the first surface 1a.

第1部材1は、平面視において(第1面1aに直交する方向からみて)、円形となっている。第2部材2は、平面視において(第2面2aに直交する方向からみて)、円形となっている。第1部材1の平面視における直径は、第2部材2の平面視における直径と同一であってもよいし、異なっていてもよい。第1部材1は、平面視における中心が、第2部材2の平面視における中心と一致していてもよいし、異なっていてもよい。 The first member 1 has a circular shape in a plan view (viewed from a direction orthogonal to the first surface 1a). The second member 2 has a circular shape in a plan view (viewed from a direction orthogonal to the second surface 2a). The diameter of the first member 1 in the plan view may be the same as or different from the diameter of the second member 2 in the plan view. The center of the first member 1 in the plan view may be the same as or different from the center in the plan view of the second member 2.

第1部材1は、第1面1aと第2面2aとが対向している状態において、第2部材2に対して相対的に回転可能に構成されている。より具体的には、第1部材1には、回転軸3が取り付けられている。回転軸3は、第1部材1の第1面1aとは反対側の面に取り付けられている。回転軸3は、中心軸が第1面1aと直交するように取り付けられている。第2部材2には、回転軸4が取り付けられている。回転軸4は、第2部材2の第2面2aと反対側の面に、中心軸が第2面2aと直交するように取り付けられている。 The first member 1 is configured to be rotatable relative to the second member 2 in a state where the first surface 1a and the second surface 2a face each other. More specifically, the rotating shaft 3 is attached to the first member 1. The rotating shaft 3 is attached to a surface of the first member 1 opposite to the first surface 1a. The rotation axis 3 is attached so that the central axis is orthogonal to the first surface 1a. A rotating shaft 4 is attached to the second member 2. The rotation shaft 4 is attached to a surface of the second member 2 opposite to the second surface 2a so that the central axis is orthogonal to the second surface 2a.

回転軸3を中心軸周りに回転させるとともに、回転軸4を回転軸3と反対方向に中心軸周りに回転させることにより、第1部材1は、第1面1aと第2面2aとが対向している状態において、第2部材2に対して相対的に回転することができる。なお、回転軸3及び回転軸4のいずれか一方を中心軸周りに回転させるとともに、回転軸3及び回転軸4の他方の固定することによっても、第1面1aと第2面2aとが対向している状態において、第1部材1は第2部材2に対して相対的に回転することができる。 By rotating the rotating shaft 3 around the central axis and rotating the rotating shaft 4 around the central axis in the direction opposite to the rotating shaft 3, the first member 1 faces the first surface 1a and the second surface 2a. In this state, it can rotate relative to the second member 2. By rotating either one of the rotating shaft 3 and the rotating shaft 4 around the central axis and fixing the other of the rotating shaft 3 and the rotating shaft 4, the first surface 1a and the second surface 2a face each other. In this state, the first member 1 can rotate relative to the second member 2.

第1部材1の第1面1aには、溝11が設けられている。溝11は、第1端11aと、第2端11bとを有している。第2端11bは、溝11の第1端11aの反対側の端である。第1端11aは、第1面1aの中心付近に位置していることが好ましい。第2端11bは、第1面1aの外周に達している。 A groove 11 is provided on the first surface 1a of the first member 1. The groove 11 has a first end 11a and a second end 11b. The second end 11b is the opposite end of the first end 11a of the groove 11. The first end 11a is preferably located near the center of the first surface 1a. The second end 11b reaches the outer circumference of the first surface 1a.

溝11は、平面視において(第1面1aに直交する方向からみて)、らせん状に設けられている。らせん状とは、溝11上における第1端11aからの距離が増加するにつれ、溝11と第1部材1の平面視における中心との距離が長くなるような形状をいう。らせん状の形状は、例えば、代数らせん(アルキメデスらせん)又は対数らせん(ベルヌーイらせん)である。らせん状の形状は、数学的に規則正しく形成されるものでなくてもよい。らせん状の形状は、曲線によって構成されるものでなくてもよい。 The groove 11 is provided in a spiral shape in a plan view (viewed from a direction orthogonal to the first surface 1a). The spiral shape means a shape in which the distance between the groove 11 and the center of the first member 1 in a plan view increases as the distance from the first end 11a on the groove 11 increases. The spiral shape is, for example, an algebraic spiral (Archimedes spiral) or a logarithmic spiral (Bernouy spiral). The spiral shape does not have to be mathematically regularly formed. The spiral shape does not have to be composed of curves.

溝11のらせん形状の回転方向は、平面視において(第1面1aに直交する方向からみて)、時計回りであってもよく、反時計回りであってもよい。 The direction of rotation of the spiral shape of the groove 11 may be clockwise or counterclockwise in a plan view (viewed from a direction orthogonal to the first surface 1a).

溝11は、第1側壁11cと、第2側壁11dとを有している。溝11は、底壁11eをさらに有していてもよい。第1側壁11c及び第2側壁11dは、第1面1aに連なっている。底壁11eは、第1側壁11c及び第2側壁11dに連なっている。 The groove 11 has a first side wall 11c and a second side wall 11d. The groove 11 may further have a bottom wall 11e. The first side wall 11c and the second side wall 11d are connected to the first surface 1a. The bottom wall 11e is connected to the first side wall 11c and the second side wall 11d.

第1側壁11cと第2側壁11dとは、溝11の延在方向に垂直な断面視において、互いに間隔を置いて対向している。溝11の延在方向に垂直な断面視における溝11の形状は、V字型となっている。すなわち、溝11の延在方向に垂直な断面視において、第1側壁11cと第2側壁11dとの間隔は、第1面1aから遠ざかるにつれて狭くなっている。 The first side wall 11c and the second side wall 11d face each other at a distance from each other in a cross-sectional view perpendicular to the extending direction of the groove 11. The shape of the groove 11 in the cross-sectional view perpendicular to the extending direction of the groove 11 is V-shaped. That is, in the cross-sectional view perpendicular to the extending direction of the groove 11, the distance between the first side wall 11c and the second side wall 11d becomes narrower as the distance from the first surface 1a increases.

溝11の延在方向に垂直な断面視において、第1側壁11cの延長線と第2側壁11dの延長線とは、位置Cにおいて交差している。位置Cは、溝11上における第1端11aからの距離に応じて変化している。このことを別の観点からいえば、溝11の延在方向に垂直な断面における断面形状は、溝11上における第1端11aからの距離に応じて変化している。具体的には、位置Cは、溝11上における第1端11aからの距離に応じて、左右方向に変化している。このことを別の観点からいえば、第1側壁11c及び第2側壁11dの中間線MLと第1面1aとのなす角度φは、溝11上における第1端11aからの距離に応じて変化している。第1端11aにおける角度φをφ1とし、第2端11bにおける角度φをφ2とする。なお、第1側壁11cと第2側壁11dとは、角度θをなしている。 In a cross-sectional view perpendicular to the extending direction of the groove 11, the extension line of the first side wall 11c and the extension line of the second side wall 11d intersect at the position C. The position C changes according to the distance from the first end 11a on the groove 11. From another point of view, the cross-sectional shape of the groove 11 in the cross section perpendicular to the extending direction changes according to the distance from the first end 11a on the groove 11. Specifically, the position C changes in the left-right direction according to the distance from the first end 11a on the groove 11. From another point of view, the angle φ formed by the intermediate line ML of the first side wall 11c and the second side wall 11d and the first surface 1a changes according to the distance from the first end 11a on the groove 11. is doing. The angle φ at the first end 11a is φ1, and the angle φ at the second end 11b is φ2. The first side wall 11c and the second side wall 11d form an angle θ.

なお、溝11が底壁11eを有しない場合、第1側壁11cと第2側壁11dとが、第1面1aに連なっている側とは反対側の端において、互いに連なることになる。 When the groove 11 does not have the bottom wall 11e, the first side wall 11c and the second side wall 11d are connected to each other at the end opposite to the side connected to the first surface 1a.

第2部材2には、穴2bが設けられている。穴2bは、第2面2aから第2面2aの反対側の面に向かって設けられている。穴2bは、第2部材2を貫通している。穴2bは、溝11の第1端11aと対向する位置に設けられている。穴2bからは、洗浄対象となる球体5が、第1面1aと第2面2aとの間に供給される。より具体的には、洗浄対象となる球体5は、溝11と第2面2aとの間に供給される。洗浄対象となる球体5は、洗浄後に、溝11の第2端11bから外部に排出される。なお、球体5は、例えば軸受に用いられる鋼球等の金属球又は窒化珪素球等のセラミックス球である。 The second member 2 is provided with a hole 2b. The hole 2b is provided from the second surface 2a toward the surface opposite to the second surface 2a. The hole 2b penetrates the second member 2. The hole 2b is provided at a position facing the first end 11a of the groove 11. From the hole 2b, the sphere 5 to be cleaned is supplied between the first surface 1a and the second surface 2a. More specifically, the sphere 5 to be cleaned is supplied between the groove 11 and the second surface 2a. After cleaning, the sphere 5 to be cleaned is discharged to the outside from the second end 11b of the groove 11. The sphere 5 is, for example, a metal sphere such as a steel sphere used for a bearing or a ceramic sphere such as a silicon nitride sphere.

第1部材1には、例えば金属材料、樹脂材料等が用いられる。第1部材1に用いられる樹脂材料は、例えばポリ塩化ビニル(PVC)である。第2部材2は、例えば第1層21と、第2層22とを有している。第1層21は、第2面2aを構成している。第2層22は、第1層21の第2面2aを構成している側とは反対側の面の上に配置されている。第1層21には、不織布等の布が用いられる。第1層21には、球体5を洗浄するための洗浄液が含浸されている。なお、洗浄液には、白灯油等が用いられる。第2層22には、例えばスポンジ等の多孔質の弾性部材が用いられる。 For the first member 1, for example, a metal material, a resin material, or the like is used. The resin material used for the first member 1 is, for example, polyvinyl chloride (PVC). The second member 2 has, for example, a first layer 21 and a second layer 22. The first layer 21 constitutes the second surface 2a. The second layer 22 is arranged on a surface opposite to the side constituting the second surface 2a of the first layer 21. A cloth such as a non-woven fabric is used for the first layer 21. The first layer 21 is impregnated with a cleaning liquid for cleaning the sphere 5. White kerosene or the like is used as the cleaning liquid. A porous elastic member such as a sponge is used for the second layer 22.

以下に、第1実施形態に係る洗浄方法について説明する。図5は、第1実施形態に係る洗浄方法を示す工程図である。図5に示すように、第1実施形態に係る洗浄方法は、第1工程S1と、第2工程S2と、第3工程S3と、第4工程S4とを有している。 The cleaning method according to the first embodiment will be described below. FIG. 5 is a process diagram showing a cleaning method according to the first embodiment. As shown in FIG. 5, the cleaning method according to the first embodiment includes a first step S1, a second step S2, a third step S3, and a fourth step S4.

第1工程S1においては、球体5の準備が行われる。第1工程S1において準備される球体5は、研磨加工を終えた後の状態である。この研磨加工は、例えば砥粒及び水系又は油系のクーラント液を用いて行われる。そのため、第1工程S1における球体5の表面には、砥粒やクーラント液が付着している場合がある。 In the first step S1, the sphere 5 is prepared. The sphere 5 prepared in the first step S1 is in a state after finishing the polishing process. This polishing process is performed using, for example, abrasive grains and a water-based or oil-based coolant. Therefore, abrasive grains or a coolant may adhere to the surface of the sphere 5 in the first step S1.

第2工程S2においては、洗浄装置の準備が行われる。第2工程S2は、第1工程S1と並行して行われる。この洗浄装置は、上記の第1実施形態に係る洗浄装置である。 In the second step S2, the cleaning device is prepared. The second step S2 is performed in parallel with the first step S1. This cleaning device is the cleaning device according to the first embodiment described above.

第1工程S1及び第2工程S2が行われた後、第3工程S3が行われる。第3工程S3においては、第1工程S1において準備された球体5が、第2工程S2で準備された洗浄装置内に供給される。より具体的には、第1工程S1において準備された球体5が、穴2bに供給される。その結果、第1工程S1において準備された球体5は、溝11と第2面2aとの間に挟持された状態となる。 After the first step S1 and the second step S2 are performed, the third step S3 is performed. In the third step S3, the sphere 5 prepared in the first step S1 is supplied into the cleaning device prepared in the second step S2. More specifically, the sphere 5 prepared in the first step S1 is supplied to the hole 2b. As a result, the sphere 5 prepared in the first step S1 is in a state of being sandwiched between the groove 11 and the second surface 2a.

なお、複数の球体5を連続して洗浄する場合、各々の球体5相互の衝突を避けるため、各々の球体5は、所定の間隔を置いて洗浄装置内に供給される。この所定の間隔は、例えば0.5秒である。 When a plurality of spheres 5 are continuously washed, each sphere 5 is supplied into the washing device at a predetermined interval in order to avoid collision between the spheres 5 and each other. This predetermined interval is, for example, 0.5 seconds.

第3工程S3が行われた後、第4工程S4が行われる。第4工程S4においては、球体5の洗浄が行われる。より具体的には、第4工程S4においては、第1部材1が、第1面1aと第2面2aとが対向し、かつ溝11と第2面2aとの間に球体5を挟持された状態で、第2部材2に対して相対的に回転される。これにより、球体5は、第1端11a側から第2端11b側に向かって、溝11内で移送される。この際、球体5は、球体5と第2面2a、第1側壁11c及び第2側壁11dとの間に差動滑りが発生する。この差動滑りで球体5の表面が第2面2a、第1側壁11c及び第2側壁11dに擦りつけられることにより、球体5の表面の洗浄が行われる。 After the third step S3 is performed, the fourth step S4 is performed. In the fourth step S4, the sphere 5 is washed. More specifically, in the fourth step S4, the first member 1 has the first surface 1a and the second surface 2a facing each other, and the sphere 5 is sandwiched between the groove 11 and the second surface 2a. In this state, it is rotated relative to the second member 2. As a result, the sphere 5 is transferred in the groove 11 from the first end 11a side to the second end 11b side. At this time, the sphere 5 causes differential slip between the sphere 5 and the second surface 2a, the first side wall 11c, and the second side wall 11d. The surface of the sphere 5 is washed by rubbing the surface of the sphere 5 against the second surface 2a, the first side wall 11c, and the second side wall 11d by this differential sliding.

図6は、球体5が溝11の第1端11a近傍に位置している際の球体5の自転状態を示す模式図である。図7は、球体5が溝11の第1端11aと第2端11bの中間に位置している際の球体5の自転状態を示す模式図である。図8は、球体5が溝11の第2端11b近傍に位置している際の球体5の自転状態を示す模式図である。図6に示すように、球体5が溝11の溝11の第1端11a近傍に位置している際、球体5の自転軸Pは、第2面2aに対して略直交している。 FIG. 6 is a schematic view showing the rotation state of the sphere 5 when the sphere 5 is located in the vicinity of the first end 11a of the groove 11. FIG. 7 is a schematic view showing the rotation state of the sphere 5 when the sphere 5 is located between the first end 11a and the second end 11b of the groove 11. FIG. 8 is a schematic diagram showing the rotation state of the sphere 5 when the sphere 5 is located near the second end 11b of the groove 11. As shown in FIG. 6, when the sphere 5 is located in the vicinity of the first end 11a of the groove 11 of the groove 11, the rotation axis P of the sphere 5 is substantially orthogonal to the second surface 2a.

球体5は、溝11内において第1端11a側から第2端11b側へと移送されている際に、第1側壁11c及び第2側壁11dから摩擦力を受ける。図7及び図8に示すように、球体5の自転軸Pは、この摩擦力に起因して、溝11内において第11a側から第2端11b側へ移送されていくにしたがい、第2面2aに対して略水平となるように傾いていく。 The sphere 5 receives frictional force from the first side wall 11c and the second side wall 11d when being transferred from the first end 11a side to the second end 11b side in the groove 11. As shown in FIGS. 7 and 8, the rotation axis P of the sphere 5 is transferred from the 11a side to the second end 11b side in the groove 11 due to this frictional force, and thus has a second surface. It tilts so that it is almost horizontal to 2a.

上記のとおり、溝11の第2端11bは、第1部材1の外周面まで達しているため、第4工程S4を終えた後には、球体5は、溝11の第2端11bから洗浄装置の外部へと排出される。 As described above, since the second end 11b of the groove 11 reaches the outer peripheral surface of the first member 1, after the fourth step S4 is completed, the sphere 5 is cleaned from the second end 11b of the groove 11. It is discharged to the outside of.

以下に、第1実施形態に係る洗浄装置及び洗浄方法の効果について説明する。第1実施形態に係る洗浄装置においては、溝11がらせん状に設けられている。また、上記のとおり、溝11中を移送される球体5の自転軸Pは第1側壁11c及び第2側壁11dから受ける摩擦力に起因して変化する。この摩擦力が球体5に作用する方向は、第1側壁11c及び第2側壁11dの傾きによって決定される。上記のとおり、位置Cは溝11上における第1端11aからの距離に応じて左右方向に変化するため、第1側壁11c及び第2側壁11dの傾き及び球体5が第1側壁11c及び第2側壁11dから受ける摩擦力が、第1端11aからの距離に応じて変化する。 The effects of the cleaning device and the cleaning method according to the first embodiment will be described below. In the cleaning device according to the first embodiment, the grooves 11 are provided in a spiral shape. Further, as described above, the rotation axis P of the sphere 5 transferred in the groove 11 changes due to the frictional force received from the first side wall 11c and the second side wall 11d. The direction in which this frictional force acts on the sphere 5 is determined by the inclination of the first side wall 11c and the second side wall 11d. As described above, since the position C changes in the left-right direction according to the distance from the first end 11a on the groove 11, the inclination of the first side wall 11c and the second side wall 11d and the sphere 5 are the first side wall 11c and the second side wall. The frictional force received from the side wall 11d changes according to the distance from the first end 11a.

その結果、球体5の自転軸Pの傾きは、溝11中において第1端11a側から第2端11b側に向かって移送されるにつれて変化する。そのため、球体5の表面は、第2面2a、第1側壁11c及び第2側壁11dに対してまんべんなく擦りつけられる。 As a result, the inclination of the rotation axis P of the sphere 5 changes as it is transferred from the first end 11a side to the second end 11b side in the groove 11. Therefore, the surface of the sphere 5 is evenly rubbed against the second surface 2a, the first side wall 11c, and the second side wall 11d.

第1実施形態に係る洗浄装置においては、溝11の断面形状がV字形状となっているため、球体5の表面が、第2面2a、第1側壁11c及び第2側壁11dの3点で接触する。なお、例えば溝11の断面形状が矩形形状である場合、球体5の表面は、溝11の底壁と第2面2aの2点にしか接触しない。したがって、第1実施形態に係る洗浄装置及び洗浄方法によると、洗浄対象となる球体5の表面をより均一かつ効率的に清浄にすることができる。 In the cleaning device according to the first embodiment, since the cross-sectional shape of the groove 11 is V-shaped, the surface of the sphere 5 has three points of the second surface 2a, the first side wall 11c, and the second side wall 11d. Contact. For example, when the cross-sectional shape of the groove 11 is rectangular, the surface of the sphere 5 contacts only two points, the bottom wall of the groove 11 and the second surface 2a. Therefore, according to the cleaning device and the cleaning method according to the first embodiment, the surface of the sphere 5 to be cleaned can be cleaned more uniformly and efficiently.

表1に、第1実施形態に係る洗浄装置における洗浄試験の結果を示す。なお、洗浄試験の条件は、表2に示されるとおりである。 Table 1 shows the results of the cleaning test in the cleaning apparatus according to the first embodiment. The conditions of the cleaning test are as shown in Table 2.

Figure 0006999390000001
Figure 0006999390000001

Figure 0006999390000002
Figure 0006999390000002

なお、表1における「OK」は、レーザ検査機を用いた測定の結果、球体5の表面から50μm以上の異物が検出されなかった場合をいい、「NG」は、レーザ検査機を用いた測定の結果、球体5の表面から50μm以上の異物が1つ以上検出された場合をいう。 In Table 1, "OK" means that no foreign matter of 50 μm or more is detected from the surface of the sphere 5 as a result of measurement using a laser inspection machine, and “NG” means measurement using a laser inspection machine. As a result, it means that one or more foreign substances having a size of 50 μm or more are detected from the surface of the sphere 5.

表1に示すように、比較例においては、洗浄を2回行った段階においても「NG」となる球体5があり、全ての球体5が「OK」となるためには3回の洗浄を要した。他方、実施例1においては、洗浄を1回行った段階において、既に全ての球体5が「OK」となった。このような試験結果から、第1実施形態に係る洗浄装置及び洗浄装置によると、洗浄対象となる球体5の表面をより均一かつ効率的に洗浄することができることが実験的にも明らかとされた。 As shown in Table 1, in the comparative example, there are spheres 5 that are “NG” even after being washed twice, and it is necessary to wash three times in order for all the spheres 5 to be “OK”. did. On the other hand, in Example 1, all the spheres 5 were already "OK" at the stage where the washing was performed once. From such test results, it has been clarified experimentally that the surface of the sphere 5 to be cleaned can be cleaned more uniformly and efficiently according to the cleaning device and the cleaning device according to the first embodiment. ..

また、第1実施形態に係る洗浄装置によると、球体5を移送させる距離が短くても十分に球体5の洗浄が可能であるため、洗浄装置を小型化が可能であることが実験的に明らかにされた。 Further, according to the cleaning device according to the first embodiment, it is experimentally clear that the cleaning device can be miniaturized because the sphere 5 can be sufficiently cleaned even if the distance for transferring the sphere 5 is short. Was made.

上記のとおり、第1工程S1を終えた段階における球体5の表面には、砥粒が残留している場合がある。この砥粒は、一旦球体5の表面から離脱した後に球体5の表面と第2面2a、第1側壁11c及び第2側壁11dとの間に噛み込まれることにより、球体5の表面を傷つける可能性がある。 As described above, abrasive grains may remain on the surface of the sphere 5 at the stage where the first step S1 is completed. The abrasive grains can damage the surface of the sphere 5 by being bitten between the surface of the sphere 5 and the second surface 2a, the first side wall 11c and the second side wall 11d after once separating from the surface of the sphere 5. There is sex.

第1実施形態に係る洗浄装置において、第1部材1が第2部材2よりも下方に配置されている場合、球体5の表面から離脱した砥粒は、重力の影響により、球体5の下方に位置する溝11の底にたまりやすい。そのため、一旦球体5の表面から離脱した砥粒が、球体5の表面と第2面2a、第1側壁11c及び第2側壁11dとの間に噛み込まれる可能性が低下する。したがって、この場合、洗浄対象となる球体5の表面に傷がつくことを抑制できる。 In the cleaning device according to the first embodiment, when the first member 1 is arranged below the second member 2, the abrasive grains separated from the surface of the sphere 5 are below the sphere 5 due to the influence of gravity. It tends to collect at the bottom of the located groove 11. Therefore, the possibility that the abrasive grains once separated from the surface of the sphere 5 are bitten between the surface of the sphere 5 and the second surface 2a, the first side wall 11c, and the second side wall 11d is reduced. Therefore, in this case, it is possible to prevent the surface of the sphere 5 to be cleaned from being scratched.

(第2実施形態)
以下に、第2実施形態について説明する。なお、以下においては、第1実施形態と異なる点について主に説明し、重複する説明は繰り返さない。
(Second Embodiment)
The second embodiment will be described below. In the following, the points different from those of the first embodiment will be mainly described, and duplicate explanations will not be repeated.

第2実施形態に係る洗浄装置は、第1面1aを有する第1部材1と、第2面2aを有し、第2面2aが第1面1aに対向するように配置される第2部材2とを有している。第1部材1は、第1面1aと第2面2aとが対向した状態で、第2部材2に対して相対的に回転するように構成されている。 The cleaning device according to the second embodiment has a first member 1 having a first surface 1a and a second member having a second surface 2a and arranged so that the second surface 2a faces the first surface 1a. Has 2 and. The first member 1 is configured to rotate relative to the second member 2 with the first surface 1a and the second surface 2a facing each other.

図9は、第2実施形態に係る洗浄装置の上面図である。図10は、図9のX-X断面における断面図である。図11は、図9のXI-XIにおける断面図である。なお、図9においては、第2部材2の平面形状を明らかにするため、第1部材1の図示を省略している。図9に示すように、第1面1aには、平面視において、らせん状に溝11が設けられている。図10及び図11に示すように、溝11は、第1側壁11cと、第2側壁11dとを有している。位置Cは、溝11上における第1端11aからの距離に応じて変化している。第2実施形態に係る洗浄装置の構成は、これらの点において、第1実施形態に係る洗浄装置の構成と共通している。 FIG. 9 is a top view of the cleaning device according to the second embodiment. FIG. 10 is a cross-sectional view taken along the line XX of FIG. FIG. 11 is a cross-sectional view taken along the line XI-XI of FIG. In FIG. 9, in order to clarify the planar shape of the second member 2, the illustration of the first member 1 is omitted. As shown in FIG. 9, the first surface 1a is provided with a spiral groove 11 in a plan view. As shown in FIGS. 10 and 11, the groove 11 has a first side wall 11c and a second side wall 11d. The position C changes according to the distance from the first end 11a on the groove 11. The configuration of the cleaning device according to the second embodiment is common to the configuration of the cleaning device according to the first embodiment in these points.

第2実施形態に係る洗浄装置においては、位置Cは、溝11上における第1端11aからの距離に応じて、上下方向にも変化している。すなわち、第1側壁11cと第2側壁11dとがなす角度θも、溝11上における第1端11aからの距離に応じて変化している。この点において、第2実施形態に係る洗浄装置の構成は、第1実施形態に係る洗浄装置の構成と異なっている。 In the cleaning device according to the second embodiment, the position C also changes in the vertical direction according to the distance from the first end 11a on the groove 11. That is, the angle θ formed by the first side wall 11c and the second side wall 11d also changes according to the distance from the first end 11a on the groove 11. In this respect, the configuration of the cleaning device according to the second embodiment is different from the configuration of the cleaning device according to the first embodiment.

第2実施形態に係る洗浄方法は、第1工程S1と、第2工程S2と、第3工程S3と、第4工程S4とを有している。第2実施形態に係る洗浄方法は、第2工程S2において準備される洗浄装置が上記の第2実施形態に係る洗浄装置である点を除いて、第1実施形態に係る洗浄装置と共通している。 The cleaning method according to the second embodiment includes a first step S1, a second step S2, a third step S3, and a fourth step S4. The cleaning method according to the second embodiment is common to the cleaning device according to the first embodiment, except that the cleaning device prepared in the second step S2 is the cleaning device according to the second embodiment. There is.

第2実施形態に係る洗浄装置においては、位置Cが、溝11上における第1端11aからの距離に応じて、左右方向のみならず、上下方向にも変化している。そのため、第2実施形態に係る洗浄装置及び洗浄方法においては、第1側壁11c及び第2側壁11dの傾きをより大きく変化させることができる。その結果、第2実施形態に係る洗浄装置及び洗浄方法においては、球体5が第1端11a側から第2端11b側に移送されることに伴う自転軸Pの変化をより促すことができる。 In the cleaning device according to the second embodiment, the position C changes not only in the left-right direction but also in the up-down direction according to the distance from the first end 11a on the groove 11. Therefore, in the cleaning device and the cleaning method according to the second embodiment, the inclinations of the first side wall 11c and the second side wall 11d can be changed more greatly. As a result, in the cleaning device and the cleaning method according to the second embodiment, it is possible to further promote the change of the rotation axis P accompanying the transfer of the sphere 5 from the first end 11a side to the second end 11b side.

したがって、第2実施形態に係る洗浄装置及び洗浄方法によると、洗浄対象となる球体5の表面をさらに均一かつ効率的に清浄にすることができる。 Therefore, according to the cleaning device and the cleaning method according to the second embodiment, the surface of the sphere 5 to be cleaned can be cleaned more uniformly and efficiently.

以上のように本発明の実施形態について説明を行ったが、上述の実施形態を様々に変形することも可能である。また、本発明の範囲は上述の実施形態に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更を含むことが意図される。 Although the embodiment of the present invention has been described above, it is possible to modify the above-described embodiment in various ways. Moreover, the scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment. The scope of the present invention is indicated by the scope of claims and is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of claims.

上記の各実施形態は、球体の洗浄装置及び洗浄方法に特に有利に適用される。 Each of the above embodiments is particularly advantageously applied to a sphere cleaning device and cleaning method.

1 第1部材、1a 第1面、11 溝、11a 第1端、11b 第2端、11c 第1側壁、11d 第2側壁、11e 底壁、2 第2部材、2a 第2面、2b 穴、21 第1層、22 第2層、3,4 回転軸、5 球体、C1 位置、ML 中間線、P 自転軸、S1 第1工程、S2 第2工程、S3 第3工程、S4 第4工程、θ,φ,φ1,φ2 角度。 1 1st member, 1a 1st surface, 11 groove, 11a 1st end, 11b 2nd end, 11c 1st side wall, 11d 2nd side wall, 11e bottom wall, 2 2nd member, 2a 2nd surface, 2b hole, 21 1st layer, 22 2nd layer, 3,4 rotation axis, 5 sphere, C1 position, ML intermediate line, P rotation axis, S1 1st process, S2 2nd process, S3 3rd process, S4 4th process, θ, φ, φ1, φ2 angles.

Claims (8)

球体を洗浄するための洗浄装置であって、
第1面を有する第1部材と、
第2面を有し、前記第2面が前記第1面に対向するように配置される第2部材とを備え、
前記第1部材は、前記第1面と前記第2面とが対向した状態で、前記第2部材に対して相対的に回転可能に構成されており、
前記第1面には、第1端と、前記第1端の反対側の端である第2端とを有する溝が設けられており、
前記球体は、前記溝と前記第2面との間に挟持され、
前記溝は、平面視において、らせん形状を有しており、
前記溝は、前記第1面に連なる第1側壁と、前記第1面に連なり、かつ前記第1側壁に対向して配置される第2側壁とを有し、
前記第1側壁と前記第2側壁との間隔は、前記第1面から遠ざかるにつれて狭くなり、
前記溝の延在方向に直交する断面における前記第1側壁の延長線と前記第2側壁の延長線とが交差する位置は、前記溝上における前記第1端からの距離に応じて変化
前記溝の延在方向に直交する断面における前記第1側壁と前記第2側壁とがなす角度は、前記溝上における前記第1端からの距離に応じて変化する、洗浄装置。
A cleaning device for cleaning spheres,
The first member having the first surface and
It has a second surface, and includes a second member arranged so that the second surface faces the first surface.
The first member is configured to be rotatable relative to the second member in a state where the first surface and the second surface face each other.
The first surface is provided with a groove having a first end and a second end which is an end opposite to the first end.
The sphere is sandwiched between the groove and the second surface.
The groove has a spiral shape in a plan view and has a spiral shape.
The groove has a first side wall connected to the first surface and a second side wall connected to the first surface and arranged to face the first side wall.
The distance between the first side wall and the second side wall becomes narrower as the distance from the first side wall increases.
The position where the extension line of the first side wall and the extension line of the second side wall intersect in the cross section orthogonal to the extending direction of the groove changes according to the distance from the first end on the groove.
A cleaning device in which the angle formed by the first side wall and the second side wall in a cross section orthogonal to the extending direction of the groove changes depending on the distance from the first end on the groove .
前記溝の延在方向に直交する断面における前記第1側壁の延長線と前記第2側壁の延長線とが交差する位置は、前記溝上における前記第1端からの距離に応じて左右に変化する、請求項1に記載の洗浄装置。 The position where the extension line of the first side wall and the extension line of the second side wall intersect in the cross section orthogonal to the extending direction of the groove changes left and right depending on the distance from the first end on the groove. , The cleaning apparatus according to claim 1. 前記溝の延在方向に直交する断面における前記第1側壁の延長線と前記第2側壁の延長線とが交差する位置は、前記溝上における前記第1端からの距離に応じて上下に変化する、請求項1に記載の洗浄装置。 The position where the extension line of the first side wall and the extension line of the second side wall intersect in the cross section orthogonal to the extending direction of the groove changes up and down depending on the distance from the first end on the groove. , The cleaning apparatus according to claim 1. 前記第1部材は、前記第2部材の下方に配置される、請求項1~3のいずれか1項に記載の洗浄装置。 The cleaning device according to any one of claims 1 to 3, wherein the first member is arranged below the second member. 球体を洗浄するための洗浄方法であって、
前記球体を準備する工程と、
前記球体を洗浄するための洗浄装置を準備する工程とを備え、
前記洗浄装置は、
第1面を有する第1部材と、
第2面を有し、前記第2面が前記第1面に対向するように配置される第2部材とを備え、
前記第1面には、平面視においてらせん形状を有する溝が設けられ、
前記溝は、前記第1面に連なる第1側壁と、前記第1面に連なり、かつ前記第1側壁に対向して配置される第2側壁とを有し、
前記第1側壁と前記第2側壁との間隔は、前記第1面から遠ざかるにつれて狭くなり、
前記洗浄方法は、前記溝と前記第2面との間に挟持されるように、前記洗浄装置に前記球体を供給する工程と、
前記第1面が前記第2面と対向した状態で、前記第2部材に対して前記第1部材を相対的に回転することにより、前記球体を洗浄する工程とを備え、
前記溝の延在方向に直交する断面における前記第1側壁と前記第2側壁とがなす角度は、前記溝上における前記第1端からの距離に応じて変化する、洗浄方法。
It is a cleaning method for cleaning spheres.
The process of preparing the sphere and
A step of preparing a cleaning device for cleaning the sphere is provided.
The cleaning device is
The first member having the first surface and
It has a second surface, and includes a second member arranged so that the second surface faces the first surface.
A groove having a spiral shape in a plan view is provided on the first surface.
The groove has a first side wall connected to the first surface and a second side wall connected to the first surface and arranged to face the first side wall.
The distance between the first side wall and the second side wall becomes narrower as the distance from the first side wall increases.
The cleaning method includes a step of supplying the sphere to the cleaning device so as to be sandwiched between the groove and the second surface.
A step of cleaning the sphere by rotating the first member relative to the second member while the first surface faces the second surface is provided.
A cleaning method in which the angle formed by the first side wall and the second side wall in a cross section orthogonal to the extending direction of the groove changes depending on the distance from the first end on the groove .
前記溝は、第1端と、前記第1端と反対側の端である第2端とを有し、
前記溝の延在方向に直交する断面における前記第1側壁の延長線と前記第2側壁の延長線とが交差する位置は、前記溝上における前記第1端からの距離に応じて左右に変化する、請求項5に記載の洗浄方法。
The groove has a first end and a second end that is the end opposite to the first end.
The position where the extension line of the first side wall and the extension line of the second side wall intersect in the cross section orthogonal to the extending direction of the groove changes left and right depending on the distance from the first end on the groove. , The cleaning method according to claim 5.
前記溝は、第1端と、前記第1端と反対側の端である第2端とを有し、
前記溝の延在方向に直交する断面における前記第1側壁の延長線と前記第2側壁の延長線とが交差する位置は、前記溝上における前記第1端からの距離に応じて上下に変化する、請求項5に記載の洗浄方法。
The groove has a first end and a second end that is the end opposite to the first end.
The position where the extension line of the first side wall and the extension line of the second side wall intersect in the cross section orthogonal to the extending direction of the groove changes up and down depending on the distance from the first end on the groove. , The cleaning method according to claim 5.
前記第1部材は、前記第2部材の下方に配置される、請求項5~7のいずれか1項に記載の洗浄方法。 The cleaning method according to any one of claims 5 to 7, wherein the first member is arranged below the second member.
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