JP6993255B2 - 二酸化塩素ガス殺菌装置及び二酸化塩素ガス殺菌方法 - Google Patents
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Description
拌装置によって生み出される気流が照射部分の近傍を通過する場合であっても、照射部分の近傍の温度が略一定となる場所のことであり、例えば、照射部分が室内の側面上方に位置する場合、室内の天面中央のことである。
外線照射部分を加熱してもよい。伝熱ヒータを用いる場合は、ヒータ部分を樹脂製カートリッジ4から隔離して熱輻射で樹脂製カートリッジ4内の亜塩素酸ナトリウムを加熱したり、ヒータ部分を樹脂製カートリッジ4に密着して熱伝導で樹脂製カートリッジ4内の亜塩素酸ナトリウムを加熱したりしてもよい。加熱装置が電磁誘導加熱器の場合は、樹脂製カートリッジ4の一部に金属のような導体を含み、電磁誘導加熱器を樹脂製カートリッジ4の金属導体に密着または近接することで、導体内に渦電流を発生させ電気抵抗熱を生じさせて、樹脂製カートリッジ4内部の亜塩素酸ナトリウムを加熱してもよい。また、赤外線サーモグラフィ8は、例えば、アビオニクス社製のInfReC R300であってもよい。
また、粒子除去フィルタ16は、ダンパ付き吸込み口15を通過した空気が温湿度調節器12へ吸込まれる前に、吸込み空気から埃や塵等の粒子を除去する。また、ファン9は、備えられても備えられていなくてもよい。また、例えば、密閉チャンバ3内の空気の温度が15‐30度、相対湿度が40‐70%RHとなるように温湿度調節された空気を吹出してもよい。
上記の二酸化塩素殺菌装置100を用いて、密閉チャンバ3内の二酸化塩素ガスが均一に充満するか実験を行った。樹脂製カートリッジ4から1分間当たり約100ppm/m3相当の二酸化塩素ガスを発生させ、60分間を要して密閉チャンバ3内に二酸化塩素ガスを充満させた。その後、密閉チャンバ3内を温湿度25度60%RHに保ち、3時間の殺菌消毒を1ヶ月にわたって5回繰り返した。
、密閉チャンバ3内の二酸化塩素ガスの濃度は均一になることが確認された。つまり、ステンレス製ラック2の表面の腐食は防止され、密閉チャンバ3内は万遍なく殺菌される。
Claims (11)
- 二酸化塩素ガス殺菌装置であって、
亜塩素酸塩を含む固形物に紫外線を照射し、二酸化塩素ガスを発生させる紫外線照射装置と、
前記紫外線が前記亜塩素酸塩を含む固形物に照射される際に、前記亜塩素酸塩を含む固形物の照射部分を加熱する加熱装置と、
前記照射部分から発生した前記二酸化塩素ガスを含む空気を撹拌させる撹拌装置と、
殺菌対象物が置かれた室内の温度が15度以上30度以下の範囲、及び前記室内の相対湿度が40%RH以上70%RH未満の範囲となるように、前記室内の温湿度を調節する温湿度調節器と、を備える、
二酸化塩素ガス殺菌装置。 - 前記撹拌装置は、前記照射部分から所定距離離れた場所に設けられる、
請求項1に記載の二酸化塩素ガス殺菌装置。 - 前記所定距離離れた場所とは、前記撹拌装置によって生み出される気流が、前記照射部分の熱を奪わない場所のことである、
請求項2に記載の二酸化塩素ガス殺菌装置。 - 前記亜塩素酸塩を含む固形物は、前記室内の側面近傍且つ上方に設けられ、
前記撹拌装置は、前記室内の天面中央に設けられ、前記室内の下部方向へ気流を生じさせる、
請求項1から3のうち何れか一項に記載の二酸化塩素ガス殺菌装置。 - 前記温湿度調節器は、温湿度が調節された空気を前記室内に吹出す、
請求項1から4のうち何れか一項に記載の二酸化塩素ガス殺菌装置。 - 前記照射部分は、前記加熱装置によって40度以上90度以下の温度範囲まで加熱される、
請求項1から5のうちいずれか1項に記載の二酸化塩素ガス殺菌装置。 - 二酸化塩素ガス殺菌装置であって、
亜塩素酸塩を含む固形物に紫外線を照射し、二酸化塩素ガスを発生させる紫外線照射装置と、
前記紫外線が前記亜塩素酸塩を含む固形物に照射される際に、前記亜塩素酸塩を含む固形物の照射部分を加熱し、前記照射部分において発生した前記二酸化塩素ガスを熱拡散させる加熱装置と、
熱拡散した前記二酸化塩素ガスを含む空気を撹拌させる撹拌装置と、を備え、
二酸化塩素ガス殺菌装置。 - 前記加熱装置は、前記二酸化塩素ガスを前記熱拡散させるために前記照射部分を40度以上90度以下の温度範囲まで加熱する、
請求項7に記載の二酸化塩素ガス殺菌装置。 - 二酸化塩素ガス殺菌方法であって、
亜塩素酸塩を含む固形物に紫外線を照射し、二酸化塩素ガスを発生させる紫外線照射工程と、
前記紫外線が前記亜塩素酸塩を含む固形物に照射される際に、前記亜塩素酸塩を含む固形物の照射部分を加熱する加熱工程と、
前記照射部分から発生した前記二酸化塩素ガスを含む空気を撹拌させる撹拌工程と、
殺菌対象物が置かれた室内の温度が15度以上30度以下の範囲、及び前記室内の相対湿度が40%RH以上70%RH未満の範囲となるように、前記室内の温湿度を調節する温湿度調節工程と、を含む、
二酸化塩素ガス殺菌方法。 - 二酸化塩素ガス殺菌方法であって、
亜塩素酸塩を含む固形物に紫外線を照射し、二酸化塩素ガスを発生させ、
前記紫外線が前記亜塩素酸塩を含む固形物に照射される際に、前記亜塩素酸塩を含む固形物の照射部分を40度以上90度以下の温度範囲で加熱し、
室内の温度を15度以上30度以下の範囲、及び室内の相対湿度が40%RH以上70%RH未満の範囲となるように温湿度を調節し、
前記照射部分から発生した前記二酸化塩素ガスを含む空気を撹拌させる、
二酸化塩素ガス殺菌方法。 - 二酸化塩素ガス殺菌方法であって、
亜塩素酸塩を含む固形物に紫外線を照射し、二酸化塩素ガスを発生させる紫外線照射工程と、
前記紫外線が前記亜塩素酸塩を含む固形物に照射される際に、前記亜塩素酸塩を含む固形物の照射部分を加熱し、前記照射部分において発生した前記二酸化塩素ガスを熱拡散させる加熱工程と、
前記加熱工程において熱拡散した前記二酸化塩素ガスを含む空気を撹拌させる撹拌工程と、を含む、
二酸化塩素ガス殺菌方法。
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