JP6979650B2 - 蛍光x線分析方法、蛍光x線分析装置またはプログラム - Google Patents
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- 全反射蛍光X線分析を行う蛍光X線分析方法であって、
測定対象である粒径100μm以下の複数の粒が基板上の少なくとも一部の領域に分散された試料を作製する工程と、
前記試料に対して全反射臨界角度より小さい角度でのみ1次X線を照射し、分析元素から出射される蛍光X線のピーク強度と、前記1次X線が前記試料により散乱された散乱線の強度である散乱線強度と、を測定する工程と、
前記試料の前記ピーク強度と前記散乱線強度との比率を計算する工程と、
前記比率を用いて前記試料に含まれる前記分析元素の濃度を算出する工程と、
を含むことを特徴とする蛍光X線分析方法。 - 前記試料を作製する工程は、
前記複数の粒を、液体状の高分子有機化合物と混合し混合液を作製する工程と、
前記混合液を基板に滴下し、スピンコート法により分散し、塗布する工程と、
前記混合液を乾燥させ、前記複数の粒が前記高分子有機化合物の膜に固定された前記試料を作製する工程と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の蛍光X線分析方法。 - 前記試料は、前記分析元素の濃度が既知である前記複数の粒が基板上の少なくとも一部の領域に分散された標準試料であり、
前記測定する工程は、前記標準試料に対して、全反射臨界角度より小さい角度でのみ前記1次X線を照射し、前記分析元素から出射される前記標準試料の蛍光X線のピーク強度と、前記1次X線が前記標準試料により散乱された散乱線の強度である前記標準試料の散乱線強度と、を測定する工程を含み、
さらに、前記既知の濃度と、前記標準試料の前記ピーク強度と前記標準試料の前記散乱線強度の比率と、の関係を示す検量線を作成する工程を含む、
ことを特徴とする請求項1または2に記載の蛍光X線分析方法。 - 前記試料は、前記分析元素の濃度が未知である前記複数の粒が基板上の少なくとも一部の領域に分散された分析試料であり、
前記測定する工程は、前記分析試料に対して、全反射臨界角度より小さい角度でのみ前記1次X線を照射し、前記分析元素から出射される前記分析試料の蛍光X線のピーク強度と、前記1次X線が前記分析試料により散乱された散乱線の強度である前記分析試料の散乱線強度と、を測定する工程を含み、
さらに、前記検量線と、前記分析試料の前記ピーク強度と前記分析試料の前記散乱線強度の比率と、に基づいて、前記未知の濃度を算出する工程を含む、
ことを特徴とする請求項3に記載の蛍光X線分析方法。 - 前記試料の前記散乱線強度は、前記分析元素の蛍光X線のエネルギーにおけるバックグラウンド強度であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の蛍光X線分析方法。
- 前記試料の前記散乱線強度は、前記1次X線の特性X線のコンプトン散乱または/及びトムソン散乱に起因する散乱線強度であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の蛍光X線分析方法。
- 前記高分子有機化合物の膜の厚さは1000nm以下であることを特徴とする請求項2に記載の蛍光X線分析方法。
- 全反射蛍光X線分析を行う蛍光X線分析装置であって、
測定対象である粒径100μm以下の複数の粒が基板上の少なくとも一部の領域に分散された試料に対して、全反射臨界角度より小さい角度でのみ1次X線を照射し、前記分析元素から出射される蛍光X線のピーク強度と、前記1次X線が前記試料により散乱された散乱線の強度である散乱線強度と、を測定する測定部と、
前記試料の前記ピーク強度と前記散乱線強度との比率を計算する計算部と、
前記比率を用いて前記試料に含まれる前記分析元素の濃度を算出する算出部と、
を含むことを特徴とする蛍光X線分析装置。 - 測定対象である粒径100μm以下の複数の粒が基板上の少なくとも一部の領域に分散された試料に対して、全反射臨界角度より小さい角度でのみ1次X線を照射し、前記分析元素から出射される蛍光X線のピーク強度と、前記1次X線が前記試料により散乱された散乱線の強度である散乱線強度と、を測定する測定部を備え、全反射蛍光X線分析を行う蛍光X線分析装置と接続されるコンピュータを、
前記試料の前記ピーク強度と前記散乱線強度との比率を計算する計算手段、
前記比率を用いて前記試料に含まれる前記分析元素の濃度を算出する算出手段、
として機能させるプログラム。
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JP2018045083A JP6979650B2 (ja) | 2018-03-13 | 2018-03-13 | 蛍光x線分析方法、蛍光x線分析装置またはプログラム |
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