JP6974418B2 - 応力除去層を有する多層x線源ターゲット - Google Patents
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Description
14 X線源
16 X線
18 被写体
20 投射X線照射
22 検出器
23 光スポット
24 データ収集システム
26 X線コントローラ
28 画像再構成器
30 コンピュータ
32 大容量記憶装置
34 コンソール
40 ディスプレイ
50 エミッタコイル
52 電子ビーム
54 多層線源ターゲット/陽極
56 X線発生材料/層
57 熱伝導層
58 基板層
59 応力除去層
Claims (12)
- 電子ビームによって衝突されると、X線を発生するように構成された構造を含み、前記構造が、
X線発生材料を含むX線発生層(56)と、
前記X線発生層(56)に隣接し、それと熱伝達している熱伝導層(57)と、
前記熱伝導層(57)に隣接している応力除去層(59)と
熱伝導基板(58)とを含み、
前記X線発生層(56)、前記熱伝導層(57)、および前記応力除去層(59)のすべてが、前記熱伝導基板(58)内に埋め込まれ、前記熱伝導基板(58)によって支持され、
前記熱伝導層(57)が、前記X線発生層(56)と前記応力除去層(59)との間に挟まれ、
前記応力除去層(59)が、タングステンで形成される、X線源ターゲット(54)。 - 前記X線発生層(56)が、タングステン、レニウム、ロジウム、およびモリブデンのうちの1つまたは複数を含む、請求項1に記載のX線源ターゲット(54)。
- 前記熱伝導層(57)が、高配向性熱分解グラファイト(HOPG)、ダイヤモンド、酸化ベリリウム、ベリリウム、および窒化アルミニウムのうちの1つまたは複数を含む、請求項1に記載のX線源ターゲット(54)。
- 前記X線発生層(56)がタングステンを含み、前記熱伝導層(57)がダイヤモンドを含む、請求項1に記載のX線源ターゲット(54)。
- 前記X線発生層(56)がタングステンの単層を含み、前記熱伝導層(57)がダイヤモンドの単層を含み、前記応力除去層(59)がタングステンの単層を含む、請求項1に記載のX線源ターゲット(54)。
- 前記熱伝導基板(58)が銅からなる、請求項1〜5のいずれか1項に記載のX線源ターゲット(54)。
- 電子ビームによって衝突されると、X線を発生するように構成された構造を含み、前記構造が、
基板(58)と、
前記基板(58)上に形成された応力除去層(59)と、
前記応力除去層(59)上に形成された熱伝導層(57)と、
X線発生材料を含むX線発生層(56)であって、前記熱伝導層(57)上に形成された、X線発生層(56)とを含み、
前記X線発生層(56)、前記熱伝導層(57)、および前記応力除去層(59)のすべてが、前記基板(58)内に埋め込まれ、
前記熱伝導層(57)が、前記X線発生層(56)と前記応力除去層(59)との間に挟まれ、
前記応力除去層(59)が、タングステンで形成される、X線源ターゲット(54)。 - 前記X線発生層(56)が、タングステン、レニウム、ロジウム、およびモリブデンのうちの1つまたは複数を含む、請求項7に記載のX線源ターゲット(54)。
- 前記熱伝導層(57)が、高配向性熱分解グラファイト(HOPG)、ダイヤモンド、酸化ベリリウム、ベリリウム、および窒化アルミニウムのうちの1つまたは複数を含む、請求項8に記載のX線源ターゲット(54)。
- 前記X線発生層(56)がタングステンを含み、前記熱伝導層(57)がダイヤモンドを含む、請求項6に記載のX線源ターゲット(54)。
- 前記X線発生層(56)がタングステンの単層を含み、前記熱伝導層(57)がダイヤモンドの単層を含み、前記応力除去層(59)がタングステンの単層を含む、請求項6に記載のX線源ターゲット(54)。
- 多層X線源ターゲットを製造するための方法(60)であって、
凹部を含む熱伝導基板(58)を形成するステップ(62)と、
前記熱伝導基板(58)中の前記凹部の底面上に応力除去層(59)を形成するステップ(64)と、
前記応力除去層(59)上に熱伝導層(57)を形成するステップ(66)と、
前記熱伝導層(57)上にX線発生層(56)を形成するステップ(68)と
を含み、
前記X線発生層(56)、前記熱伝導層(57)、および前記応力除去層(59)のすべてが、前記熱伝導基板(58)内に埋め込まれ、
前記熱伝導層(57)が、前記X線発生層(56)と前記応力除去層(59)との間に挟まれ、
前記応力除去層(59)が、タングステンで形成される、方法(60)。
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