JP6970961B2

JP6970961B2 - ベースブロック、流体制御機器、および流体制御装置

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Publication number: JP6970961B2
Application number: JP2017166828A
Authority: JP
Inventors: 純木村; 努篠原
Original assignee: Fujikin Inc
Current assignee: Fujikin Inc
Priority date: 2017-08-31
Filing date: 2017-08-31
Publication date: 2021-11-24
Anticipated expiration: 2037-08-31
Also published as: JP2019044821A

Description

本発明は、半導体製造装置等に使用されるベースブロック、流体制御機器、および流体制御装置に関する。

半導体製造装置向けの流体制御装置は、近年小型化が進められている。ガスラインの幅を狭くするために、流体制御弁を流路ブロックへ取り付けるための取付ボルトと、流路のポートとを平面視で一直線上に並ぶように構成する流体制御装置が提案されている（例えば、特許文献１参照。）

特開２０１５−１７８８９２号公報

しかし、特許文献１に開示された流体制御装置では、シール部材によるシール性を確保しながら流体制御弁を流路ブロックに強固に取り付けるためには、１つの流体制御弁の上流側接続部と下流側接続部との間について、流路ブロックに高い剛性を必要とする。このため、小さな流路ブロックを複数並べるという従前の手法が使えず、長手方向に連なる流路ブロックを一体的に構成しているが、流路の開口部の損傷等の一箇所の不適合により巨大な流路ブロック全体が不適合となってしまうために歩留まりが良くなく、かつ装置毎に専用の流路ブロックを作成する必要があり汎用化が困難であった。

そこで本発明は、容易に製造でき、シール部材によるシール性を容易に確保することが可能で、さらなる小型化が可能なベースブロック、流体制御機器、および流体制御装置を提供することを目的の一つとする。

上記目的を解決するために、本発明の一態様であるベースブロックは、機器保持部と、前記機器保持部に対し隣り合うように位置し流路が形成された流路形成部と、を有し、前記機器保持部には、所定の方向の両側に、前記所定の方向の端面および前記機器保持部の前記流路形成部に対する反対側の面に開口する一対の保持凹部が形成され、前記流路の両端は、それぞれ前記一対の保持凹部に向かって開口し、前記一対の保持凹部には、それぞれネジ部が形成されている。

また、前記保持凹部は、前記反対側の面に開口する円柱状凹部と、前記円柱状凹部に対し長手方向の外側に位置し前記反対側の面および長手方向の端面に開口する開口凹部と、を有し、前記流路の両端は、それぞれ前記円柱状凹部に向かって開口し、前記ネジ部は、前記円柱状凹部の内周に形成されていてもよい。

また、本発明の一態様である流体制御装置は、所定の方向の両側に一対の保持凹部が形成されたベースブロックに固定される流体制御機器であって、機器本体と、前記機器本体の前記所定の方向の両側に設けられ、流路が形成され、隣り合う前記ベースブロックの前記所定の方向において互いに対向する各保持凹部に挿入される一対の被保持部と、を備える。

また、前記被保持部は、円柱状部と、接続部とを有し、前記接続部は、前記円柱状部と前記機器本体との間に位置し、平面視で、前記所定の方向に垂直な方向の幅が、前記円柱状部の最大幅よりも小さいくびれ部を持っていてもよい。

また、本発明の一態様である流体制御装置は、ベースと、長手方向に沿って複数並べられた状態で前記ベースに固定されたベースブロックと、隣り合う前記ベースブロックに固定される流体制御機器と、前記流体制御機器を隣り合う前記ベースブロックに固定するための一対の固定ネジと、一対のシール部材と、を備え、前記ベースブロックは、前記流体制御機器を保持する機器保持部と、前記機器保持部よりも前記ベース側に位置し流路が形成された流路形成部と、を有し、前記機器保持部には、長手方向の両側に、前記ベースに対し直交する方向に延び、長手方向の端面および前記機器保持部の前記流路形成部に対する反対側に開口する一対の保持凹部が形成され、前記流路の両端は、それぞれ前記一対の保持凹部に向かって開口し、前記流体制御機器は、機器本体と、前記機器本体の長手方向の両端に設けられ流路が形成された一対の被保持部とを有し、各被保持部が、隣り合う前記ベースブロックの長手方向において互いに対向する各保持凹部に、前記ベースブロックの前記流路の開口の周囲に配置されたシール部材を挟むように挿入され、各保持凹部に形成されたネジ部に各固定ネジが螺合されることにより、前記流体制御機器が前記ベースブロックに固定されている。

円筒状の管部と、被保持部とを有し、プロセスガスの入口となる入口管をさらに備え、前記入口管の被保持部は、前記ベースブロックの前記保持凹部に、前記ベースブロックの前記流路の開口の周囲に配置されたシール部材を挟むように挿入され、前記保持凹部に形成されたネジ部に固定ネジが螺合されることにより、前記入口管が前記ベースブロックに固定されていてもよい。

円筒状の管部と、被保持部とを有し、プロセスガスの出口となる出口管をさらに備え、前記出口管の被保持部は、前記ベースブロックの前記保持凹部に、前記ベースブロックの前記流路の開口の周囲に配置されたシール部材を挟むように挿入され、前記保持凹部に形成されたネジ部に固定ネジが螺合されることにより、前記出口管が前記ベースブロックに固定されていてもよい。

前記シール部材の軸と、前記固定ネジの軸とが同軸上に位置してもよい。

本発明によれば、容易に製造でき、シール部材によるシール性を容易に確保することが可能で、さらなる小型化が可能なベースブロック、流体制御機器、および流体制御装置を提供することができる。

本発明の実施形態に係る流体制御装置の斜視図を示す。流体制御装置の平面図を示す。図２に示した流体制御装置のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図を示す。（ａ）は、ベースブロックの斜視図、図４（ｂ）は、ベースブロックの平面図を示す。（ａ）は、入口管（出口管）の斜視図、図５（ｂ）は、入口管（出口管）の断面図を示す。（ａ）は、バルブの斜視図を示し、図６（ｂ）は、ボディのみ断面であるバルブの斜視図を示す。レギュレータ（圧力計）の斜視図を示す。（ａ）は、ブロックバルブの斜視図を示し、図８（ｂ）は、ブロックバルブの平面図を示し、図８（ｃ）は、ブロックバルブのボディの一部断面図を示す。ＭＦＣの斜視図を示す。（ａ）は、マニホールドの斜視図を示し、図９（ｂ）は、マニホールドに側面図を示す。バルブのベースブロックへの取り付け方についての説明図を示す。

本発明の第１の実施形態に係る継手および流体制御装置について、図面を参照して説明する。

図１は、本実施形態に係る流体制御装置１の斜視図を示している。図２は、流体制御装置１の平面図を示している。図３は、図２に示した流体制御装置１のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図を示している。

流体制御装置１は、ベース２と、複数のガスライン３とを備える。ベース２は、鋼材等により構成され、平板状をなしている。ベース２には、複数の図示せぬボルト螺合孔が形成されている。各ガスライン３の構成は同じであるので、以下では複数のガスライン３のうちの一つのガスライン３についてのみ説明を行う。

図１〜図３に示すように、各ガスライン３は、複数のベースブロック１０と、入口管１１と、複数の流体制御機器１２〜１７と、出口管１８と、マニホールド１９と、複数のボルト２０と、複数のイモネジ２１と、複数のガスケット２２（図１０（ｂ）参照）とを備える。なお、図の簡略化のために、複数のボルト２０および複数のイモネジ２１については、一つのボルト２０およびイモネジ２１にのみ参照番号を付している。ガスケット２２は、シール部材であり、例えば金属または樹脂等により構成される。イモネジ２１は、六角穴付き止めネジである。なお、イモネジ２１に形成された穴は、六角穴に限らず＋形状や−形状であったり、イモネジ２１ではなくキャップボルトや鍋ネジ等の通常のボルトであったりしてもよい。

図４（ａ）は、ベースブロック１０の斜視図、図４（ｂ）は、ベースブロック１０の平面図を示している。

複数のベースブロック１０は、ガスライン３の長手方向に沿って一列に並ぶように配置されている。図４に示すように、ベースブロック１０は、略直方体形状をなし、機器保持部１０Ａと、機器保持部１０Ａに対し隣り合うように位置する流路形成部１０Ｂとを有している。

機器保持部１０Ａには、所定の方向である長手方向の両側に、一対の保持凹部１０ｃが形成されている。各保持凹部１０ｃは、ベース２に対し直交する方向（長手方向に直交する方向）に延び、円柱状凹部１０ｄと、開口凹部１０ｅとを有している。円柱状凹部１０ｄは、円柱状をなし、機器保持部１０Ａの上方（機器保持部１０Ａの前記流路形成部１０Ｂに対する反対側の面）に開口している。開口凹部１０ｅは、円柱状凹部１０ｄに対し長手方向の外側に位置して、円柱状凹部１０ｄに連なり、機器保持部１０Ａの上方および長手方向の端面に開口している。円柱状凹部１０ｄの上側部の内周には、雌ネジ部１０Ｆが形成されている。開口凹部１０ｅは、平面視で、円柱状凹部１０ｄから機器保持部１０Ａの長手方向の端面に向かうにつれて、機器保持部１０Ａの幅方向（短手方向）の端面に向かって徐々に広がるように開口している。

図１１（ｂ）に示すように、流路形成部１０Ｂには、略Ｖ字状をなす流路１０ｇが形成されている。図４に示すように、流路１０ｇの両端は、それぞれ流路形成部１０Ｂの上面１０Ｈにおいて、円柱状凹部１０ｄに向かって開口している。流路形成部１０Ｂの上面１０Ｈであって、流路１０ｇの各端部が開口する周りには、ガスケット２２を受け入れる受入凹部１０ｉが形成されている。

流路形成部１０Ｂの下端であって長手方向の両側には、長手方向に突出する一対の固定部１０Ｊが設けられている。一方の固定部１０Ｊは、幅方向の一方側の方が他方側よりも突出量が多く、他方の固定部１０Ｊは、幅方向の他方側の方が一方側よりも突出量が多く構成されている。よって、図４（ｂ）に示すように、ベースブロック１０は、平面視で略平行四辺形をなしている。このため、長手方向において隣り合うベースブロック１０の固定部１０Ｊは、幅方向から見て互いに重なるように配置可能である。また、各固定部１０Ｊには、挿通孔１０ｋが形成されている。各固定部１０Ｊの挿通孔１０ｋにボルト２０が挿通され、ボルト２０がベース２の図示せぬボルト螺合孔に螺合されることにより、ベースブロック１０はベース２に固定される。

図５（ａ）は、入口管１１（出口管１８）の斜視図、図５（ｂ）は、入口管１１（出口管１８）の断面図を示している。

入口管１１は、円筒状の管部１１Ａと、被保持部１１Ｂとを備える。被保持部１１Ｂは、円柱状部１１Ｃと、接続部１１Ｄとを有する。円柱状部１１Ｃは、その径がベースブロック１０の円柱状凹部１０ｄの径よりも僅かに小さく構成されている。また、円柱状部１１Ｃの高さは、ベースブロック１０の流路形成部１０Ｂの上面１０Ｈから、雌ネジ部１０Ｆの下端までの距離よりも僅かに高く構成されている。接続部１１Ｄは、ベースブロック１０の開口凹部１０ｅに沿った形状を有し、平面視で略台形形状をなしている。接続部１１Ｄは、長手方向における一方側に円柱状部１１Ｃが接続され、他方側に管部１１Ａが接続されている。接続部１１Ｄは、平面視で、長手方向に垂直な方向の幅が円柱状部１１Ｃの最大幅よりも小さくなるくびれ部を有している。当該構成により、ベースブロック１０の保持凹部１０ｃに、入口管１１の被保持部１１Ｂが保持されると、入口管１１の長手方向へのずれを抑制することができる。

図５（ｂ）に示すように、入口管１１には、管部１１Ａを貫通し、円柱状部１１Ｃの下面１１Ｅに開口する流路１１ｆが形成されている。円柱状部１１Ｃの下面１１Ｅあって、流路１１ｆの端部が開口する周りには、ガスケット２２を受け入れる受入凹部１１ｇが形成されている。

また、出口管１８も、入口管１１と同様の形状を有し、管部１８Ａと、被保持部１８Ｂとを備え、被保持部１８Ｂは、円柱状部１８Ｃと、接続部１８Ｄとを有する。出口管１８には、流路１８ｆが形成され、円柱状部１８Ｃの下面１８Ｅあって、流路１８ｆの端部が開口する周りには、ガスケット２２を受け入れる受入凹部１８ｇが形成されている。

複数の流体制御機器１２〜１７は、自動弁（例えば流体駆動式の自動弁）であるバルブ１２、１７と、レギュレータ（減圧弁）１３と、圧力計１４と、ブロックバルブ１５と、流量制御機器（例えば、マスフローコントローラ（ＭＦＣ：ＭａｓｓＦｌｏｗＣｏｎｔｒｏｌｌｅｒ））１６とにより構成されている。

図６（ａ）は、バルブ１２、１７の斜視図を示し、図６（ｂ）は、ボディ１２Ａ、１７Ａのみ断面であるバルブ１２の斜視図を示している。

バルブ１２は、ボディ１２Ａと、アクチュエータ１２Ｂとを備える。ボディ１２Ａは、略直方体形状の本体部１２Ｃと、一対の被保持部１２Ｄとを備える。各被保持部１２Ｄは、本体部１２Ｃの長手方向の両端にそれぞれ設けられている。各被保持部１２Ｄは、入口管１１の被保持部１１Ｂと同様の形状を有している。すなわち、各被保持部１２Ｄは、円柱状部１２Ｅと、接続部１２Ｆとを有し、接続部１２Ｆは、平面視で長手方向に垂直な方向の幅が円柱状部１２Ｅの最大幅よりも小さいくびれ部１２Ｌを持つ。円柱状部１２Ｅは、円柱状凹部１０ｄよりも僅かに小さな径を有し、接続部１２Ｆは、円柱状部１２Ｅと本体部１２Ｃとの間に位置し、円柱状部１２Ｅから本体部１２Ｃに向かうにつれて、平面視で、本体部１２Ｃの幅方向（短手方向）の端面（長手方向に平行な端面）に向かって徐々に広がる形状をなしている。当該構成により、ベースブロック１０の保持凹部１０ｃに、バルブ１２の被保持部１２Ｄが保持されると、バルブ１２の長手方向へのずれを抑制することができる。

また、図６（ｂ）に示すように、ボディ１２Ａには、第１流路１２ｇおよび第２流路１２ｈが形成されている。ボディ１２Ａの下面１２Ｊあって、第１流路１２ｇおよび第２流路１２ｈの端部が開口する周りには、それぞれガスケット２２を受け入れる受入凹部１２ｉ、１２ｋが形成されている。

また、バルブ１７も、バルブ１２と同様の形状を有し、ボディ１７Ａとアクチュエータ１７Ｂを備え、ボディ１７Ａは、本体部１７Ｃと、一対の被保持部１７Ｄとを備える。各被保持部１７Ｄは、円柱状部１７Ｅと、接続部１７Ｆとを有し、接続部１７Ｆはくびれ部１７Ｌを持つ。ボディ１７Ａには、第１流路１７ｇおよび第２流路１７ｈが形成され、ボディ１７Ａの下面１７Ｊには、受入凹部１７ｉ、１７ｋが形成されている。

図７は、レギュレータ１３（圧力計１４）の斜視図を示している。

レギュレータ１３は、ボディ１３Ａと、機能部１３Ｂとを備える。ボディ１３Ａは、バルブ１２のボディ１２Ａと同様の形状を有する。よって、ボディ１３Ａは、本体部１３Ｃと、一対の被保持部１３Ｄとを備える。各被保持部１３Ｄは、円柱状部１３Ｅと、接続部１３Ｆとを有する。ボディ１３Ａには、第１流路１３ｇおよび第２流路１３ｈが形成され、ボディ１３Ａの下面１３Ｊには、受入凹部１３ｉ、１３ｋが形成されている（図３参照）。圧力計１４については、レギュレータ１３と同様の形状を有するので、図７、図３において、レギュレータ１３と対応する参照番号を付して説明を省略する。

図８（ａ）は、ブロックバルブ１５の斜視図を示し、図８（ｂ）は、ブロックバルブ１５の平面図を示し、図８（ｃ）は、ブロックバルブ１５のボディ１５Ａの一部断面図を示している。

ブロックバルブ１５は、二つのバルブを備える。ブロックバルブ１５は、ボディ１５Ａと、２つのアクチュエータ１５Ｂとを有する。

ボディ１５Ａは、本体部１５Ｃと、一対の被保持部１５Ｄとを備える。本体部１５Ｃは、基部１５Ｅと、２つのアクチュエータ１５Ｂに対応する２つの突出部１５Ｆとを有する。各突出部１５Ｆは、基部１５Ｅの上面１５Ｔから上方に突出している。２つの突出部１５Ｆの長手方向において互いに対向する側には、それぞれ螺合部１５Ｇが設けられている。各螺合部１５Ｇの内周の上側部には、雌ネジ部１５Ｈが形成されている。

各被保持部１５Ｄは、本体部１５Ｃの基部１５Ｅの長手方向の両端にそれぞれ設けられている。各被保持部１５Ｄは、バルブ１２の被保持部１２Ｄと同様の形状を有している。すなわち、各被保持部１５Ｄは、円柱状部１５Ｊと、接続部１５Ｋとを有する。

図８（ｃ）に示すように、ボディ１５Ａには、第１流路１５ｉ、中継流路１５ｍ、第２流路１５ｎ、およびパージガス流路１５ｐが形成されている。中継流路１５ｍの一端は、一方のアクチュエータ１５Ｂに、中継流路１５ｍの他端は、他方のアクチュエータ１５Ｂに通じている。パージガス流路１５ｐの一端は、ボディ１５Ａの基部１５Ｅの上面１５Ｔであって、互いに対向する螺合部１５Ｇの間の位置に開口している。パージガス流路１５ｐの他端は、他方のアクチュエータ１５Ｂに通じている。よって、他方のアクチュエータ１５Ｂは、三方弁として機能する。

また、ボディ１５Ａの下面１５Ｌであって、第１流路１５ｉおよび第２流路１５ｎの端部が開口する周りには、それぞれガスケット２２を受け入れる受入凹部１５ｑ、１５ｒが形成されている。ボディ１５Ａの基部１５Ｅの上面１５Ｔであって、パージガス流路１５ｐの一端が開口する周りには、ガスケット２２を受け入れる受入凹部１５ｓが形成されている。

図９は、ＭＦＣ１６の斜視図を示している。

ＭＦＣ１６は、ＭＦＣ本体１６Ａと、一対の被保持部１６Ｂとを備える。各被保持部１６Ｂは、ＭＦＣ本体１６Ａの長手方向の両端にそれぞれ設けられている。各被保持部１６Ｂは、バルブ１２の被保持部１２Ｄと同様の形状を有している。すなわち、各被保持部１６Ｂは、円柱状部１６Ｃと、接続部１６Ｄとを有する。また、一方の被保持部１６Ｂには、第１流路１６ｅ、他方の被保持部１６Ｂには第２流路１６ｆが形成され、各被保持部１６Ｂの下面であって、第１流路１６ｅおよび第２流路１６ｆの端部が開口する周りには、それぞれガスケット２２を受け入れる受入凹部１６ｇ、１６ｈが形成されている。

各流体制御機器１２〜１７において、一対の被係合部１２Ｄ、１３Ｄ、１４Ｄ、１６Ｂ、１７Ｄの間に位置する部分が機器本体に相当する。

図１０（ａ）は、マニホールド１９の斜視図を示し、図１０（ｂ）は、マニホールド１９に側面図を示している。

マニホールド１９は、円筒状の管部１９Ａと、流路部１９Ｂとを有する。流路部１９Ｂは、複数の直方体部１９Ｃと、複数の円柱状部１９Ｄとを備え、それらが交互に接続されて構成されている。円柱状部１９Ｄは、その径がブロックバルブ１５の互いに対向する螺合部１５Ｇの間の距離よりも僅かに小さく構成されている。マニホールド１９には、管部１９Ａを貫通し、流路部１９Ｂの下面１９Ｅであって各円柱状部１９Ｄの下側に開口する流路１９ｆが形成されている。流路部１９Ｂの下面１９Ｅであって、流路１１ｆの各円柱状部１９Ｄの下側に開口する周りには、ガスケット２２を受け入れる受入凹部１９ｇが形成されている。

また、マニホールド１９は、その円柱状部１９Ｄが、各ガスライン３のブロックバルブ１５の螺合部１５Ｇの間に嵌り、各ガスライン３を跨ぐように配置される。よって、跨ぐガスライン３の数に応じて、流路部１９Ｂの長さ、すなわち直方体部１９Ｃと円柱状部１９Ｄの数が変化する。

次に、入口管１１、流体制御機器１２〜１７、および出口管１８のベースブロック１０への取り付け方について、図１１を参照して説明する。

各部材（入口管１１、流体制御機器１２〜１７、および出口管１８）のベースブロック１０への取り付け方は同じであるので、代表してバルブ１２のベースブロック１０への取り付け方について説明する。

図１１は、バルブ１２のベースブロック１０への取り付け方についての説明図を示している。

図１１（ａ）に示すように、ベース２（図１、２）に固定されたベースブロック１０の受入凹部１０ｉにガスケット２２を配置し、バルブ１２の各被保持部１２Ｄを対応するベースブロック１０の保持凹部１０ｃに挿入する。イモネジ２１を円柱状凹部１０ｄの雌ネジ部１０Ｆに螺合させて締め付けることにより、受入凹部１０ｉ、１２ｉ、１２ｋ内のガスケット２２がその軸方向に押しつぶされる。

このようにして、バルブ１２がベースブロック１０へ取り付けられ、図１１（ｂ）に示すように、バルブ１２の第１流路１２ｇ、第２流路１２ｈと、ベースブロック１０の流路１０ｇとが連通する。同様に、入口管１１等がベースブロック１０へ取り付けられることにより、図２に示すように、入口管１１から出口管１８に至るプロセスガスの流路が形成される。

そして、入口管１１から流入するプロセスガスは、流体制御機器１２〜１７、複数のベースブロック１０、出口管１８を通過して、図示せぬチャンバへ供給される。また、図示せぬパージガス配管から供給されるパージガス（例えば、窒素）は、マニホールド１９の流路１９ｆに流入し、ブロックバルブ１５のパージガス流路１５ｐを通過して、中継流路１５ｍから入口管１１側へ、第２流路１５ｎから出口管１８側へ流れる。

上記のような流体制御装置１によれば、流体制御機器１２〜１７を固定するイモネジ２１と、ガスケット２２の配置される流路開口部とを、平面視で同じ位置に配置することができるため、ガスケット２２によるシール性を容易に確保することができ、ベースブロック１０および流体制御機器１２〜１７の小型化を図ることができる。ひいては、流体制御装置１の小型化を図ることができる。また、異なる設計の流体制御装置１に対しても同じベースブロック１０の並べ方を変えることで対応できるため、部品を共用化できる。さらに、複数のベースブロック１０が互いに高い剛性で接続されている必要がないため、ベースブロック１０とボルト２０との間にゴムワッシャを配置することができる。これにより、ベースブロック１０の高さの公差をゴムワッシャの潰れにより吸収することができ、シール部の信頼性を高めることができる。

なお、本発明は、上述した実施例に限定されない。当業者であれば、本発明の範囲内で、種々の追加や変更等を行うことができる。

例えば、イモネジ２１と被保持部１２Ｄとの間に板バネまたはゴムワッシャ等を配置してもよい。これにより、被保持部１２Ｄに対する押圧力を増加させることができる。

円柱状部１１Ｃ、１２Ｅ、１３Ｅ、１４Ｅ、１５Ｊ、１６Ｃ、１７Ｅ、１８Ｃ、１９Ｄの上面はイモネジ２１によって押されるために、本実施形態では組立時にイモネジ２１の軸に対し垂直な平面としたが、例えばイモネジ２１の軸の位置に突起部を設けるなどの凹凸を設けても良い。また、この上面とイモネジ２１との間にスラストベアリングを配置しても良い。これらにより、イモネジ２１の回転に伴う摩擦を軽減し、パーティクルの発生を抑えたり、振動に伴うイモネジ２１の緩みを防止したりする効果がある。

上記の実施形態では、流体制御装置１は、流体制御機器として開閉弁（バルブ）、レギュレータ、圧力計およびマスフローコントローラを備えていたが、これらの他に、フィルタ、逆止弁等を備えていても良い。

１：流体制御装置、２：ベース、３：ガスライン、１０：ベースブロック、１０Ａ：機器保持部、１０Ｂ：流路形成部、１０ｃ：保持凹部、１０ｄ：円柱状凹部、１０ｅ：開口凹部、１０ｇ：流路、１１：入口管、１１Ａ、１８Ａ：管部、１１Ｂ、１８Ｂ：被保持部、１８：出口管、１２、１７：バルブ、１３：レギュレータ、１４：圧力計、１５：ブロックバルブ、１６：ＭＦＣ、１２Ｄ、１３Ｄ、１４Ｄ、１５Ｄ、１６Ｂ、１７Ｄ：被保持部、１２Ｅ、１３Ｅ、１４Ｅ、１５Ｅ、１６Ｃ、１７Ｅ：円柱状部、１２Ｆ、１３Ｆ、１４Ｆ、１５Ｆ、１６Ｄ、１７Ｆ：接続部、２１：イモネジ、２２：ガスケット

Claims

機器保持部と、前記機器保持部に対し隣り合うように位置し流路が形成された流路形成部と、を有し、
前記機器保持部には、所定の方向の両側に、前記所定の方向の端面および前記機器保持部の前記流路形成部に対する反対側の面に開口する一対の保持凹部が形成され、
前記流路の両端は、それぞれ前記一対の保持凹部に向かって開口し、
前記一対の保持凹部には、それぞれネジ部が形成されているベースブロック。
前記保持凹部は、前記反対側の面に開口する円柱状凹部と、前記円柱状凹部に対し長手方向の外側に位置し前記反対側の面および長手方向の端面に開口する開口凹部と、を有し、
前記流路の両端は、それぞれ前記円柱状凹部に向かって開口し、
前記ネジ部は、前記円柱状凹部の内周に形成されている、請求項１に記載のベースブロック。
所定の方向の両側に一対の保持凹部が形成されたベースブロックに固定される流体制御機器であって、
機器本体と、
前記機器本体の前記所定の方向の両側に設けられ、流路が形成され、隣り合う前記ベースブロックの前記所定の方向において互いに対向する各保持凹部に挿入される一対の被保持部と、を備える流体制御機器。
前記被保持部は、円柱状部と、接続部とを有し、
前記接続部は、前記円柱状部と前記機器本体との間に位置し、平面視で、前記所定の方向に垂直な方向の幅が、前記円柱状部の最大幅よりも小さいくびれ部を持つことを特徴とする、請求項３に記載の流体制御機器。
ベースと、
長手方向に沿って複数並べられた状態で前記ベースに固定されたベースブロックと、
隣り合う前記ベースブロックに固定される流体制御機器と、
前記流体制御機器を隣り合う前記ベースブロックに固定するための一対の固定ネジと、
一対のシール部材と、を備え、
前記ベースブロックは、前記流体制御機器を保持する機器保持部と、前記機器保持部よりも前記ベース側に位置し流路が形成された流路形成部と、を有し、
前記機器保持部には、長手方向の両側に、前記ベースに対し直交する方向に延び、長手方向の端面および前記機器保持部の前記流路形成部に対する反対側に開口する一対の保持凹部が形成され、
前記流路の両端は、それぞれ前記一対の保持凹部に向かって開口し、
前記流体制御機器は、機器本体と、前記機器本体の長手方向の両端に設けられ流路が形成された一対の被保持部とを有し、
各被保持部が、隣り合う前記ベースブロックの長手方向において互いに対向する各保持凹部に、前記ベースブロックの前記流路の開口の周囲に配置されたシール部材を挟むように挿入され、各保持凹部に形成されたネジ部に各固定ネジが螺合されることにより、前記流体制御機器が前記ベースブロックに固定されている、流体制御装置。
円筒状の管部と、被保持部とを有し、プロセスガスの入口となる入口管をさらに備え、
前記入口管の被保持部は、前記ベースブロックの前記保持凹部に、前記ベースブロックの前記流路の開口の周囲に配置されたシール部材を挟むように挿入され、前記保持凹部に形成されたネジ部に固定ネジが螺合されることにより、前記入口管が前記ベースブロックに固定されている、請求項５に記載の流体制御装置。
円筒状の管部と、被保持部とを有し、プロセスガスの出口となる出口管をさらに備え、
前記出口管の被保持部は、前記ベースブロックの前記保持凹部に、前記ベースブロックの前記流路の開口の周囲に配置されたシール部材を挟むように挿入され、前記保持凹部に形成されたネジ部に固定ネジが螺合されることにより、前記出口管が前記ベースブロックに固定されている、請求項５または請求項６に記載の流体制御装置。
前記シール部材の軸と、前記固定ネジの軸とが同軸上に位置する、請求項５から請求項７のいずれか一項に記載の流体制御装置。