JP6963569B2 - プラズマ溶射装置 - Google Patents
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Description
−最前のニュートロードと隣接するアノードとの間の長期間の安定した電気絶縁
−最前のニュートロードと隣接するアノードとの間の間隙の、信頼性のある、長期間にわたり安定した水圧による封止
−ニュートロード、特に最前のニュートロードの特に効率的な冷却
−アノードの効率的な冷却
−アノードおよびニュートロードの耐用年数の長期化
−非常に安定した電気アーク
−一般のプラズマ溶射装置と比較した場合の、摩耗部品の同等の耐用年数に対するより高い出力定格の達成
−一般のプラズマ溶射装置と比較した場合の、同等の電力定格に対する摩耗部品の耐用年数の長期化
−トーチヘッドの簡単な構造化および簡単かつ迅速に交換可能な摩耗部品
−トーチヘッドの費用対効果の高い方法での製造
−供給される電気エネルギーに関連した、トーチヘッドの効率の向上
Claims (20)
- 少なくとも1つのカソード(3)とアノード(7)との間に延在するプラズマチャネル(10)と、前記プラズマチャネル(10)に境を接する複数のニュートロード(4,5,6)とを有するプラズマ溶射装置(1)であって、前記ニュートロード(4,5,6)は、互いに電気的に絶縁されており、前記最前のニュートロード(6)と前記アノード(7)との間に間隙(26)が延在しており、前記間隙(26)には絶縁ディスク(30)が配置されており、前記最前のニュートロード(6)と前記アノード(7)との間の間隙(26)は、少なくとも2つの部分(27,29)を含み、前記2つの部分(27,29)の間には半径方向および/または軸方向の距離が存在し、前記2つの部分(27,29)の各々に絶縁ディスク(30,31)が配置されていることを特徴とする、プラズマ溶射装置。
- 前記間隙(26)は、第1内側部分(27)、第2中間部分(28)および第3外側部分(29)を備え、前記第1部分(27)は、前記第3部分(29)に対して半径方向および軸方向にオフセットされており、絶縁ディスク(30,31)は、それぞれ前記第1および前記第3部分(27,29)に配置されていることを特徴とする、請求項1に記載のプラズマ溶射装置。
- 前記間隙(26)の中間部分(28)は、前記内側および/または外側部分(27,29)に対して角度を成して延在していることを特徴とする、請求項1または2に記載のプラズマ溶射装置。
- 封止リング(32)は、最外部分(29)の半径方向外側に配置されていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
- 前記最前のニュートロード(6)には、前記アノード(7)に面するリング状の突出部(66)が設けられており、また、前記アノード(7)には、前記最前のニュートロード(6)に面するリング状の窪み(73)が設けられており、前記間隙(26)は、前記突出部(66)と前記窪み(73)との間に延在することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
- 前記内側部分(27)は、前記外側部分(29)内に半径方向に配置され、絶縁ディスク(30)は、前記内側部分(27)に配置され、前記内側部分(27)は、前記プラズマチャネル(10)に対して半径方向に後退していることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
- 前記最前のニュートロード(6a,6b,6c)の内径(D2,D3,D5)は、少なくとも前記アノード(7)に面する端部領域において、前記アノード(7)の内径(D1)よりも少なくとも10%、特に少なくとも20%、好ましくは少なくとも30%大きいことを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
- 前記アノード(7)はリング状であり、内側に高融点インサート(8)が設けられており、前記高融点インサート(8)は、前記プラズマチャネル(10)の長手方向軸の方向に、前記最前のニュートロード(6)と前記アノード(7)との間の前記間隙(26)まで少なくともほぼ到達していることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
- 前記最前のニュートロード(6)には、リング状のカラー(69)が設けられており、前記カラー(69)には、冷却リブを形成するための溝(70)が形成されていることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
- 全てのニュートロード(4,5,6)には、リング状のカラー(58,62,69)が設けられ、各カラー(58,62,69)には、複数の冷却リブ(60,64,71)が形成されるように、複数の軸方向の溝(59,63,70)が設けられ、このように形成された冷却リブ(60,64,71)は、冷却液が循環するチャネルまたは環状空間(52)に連結されていることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
- 前記各溝(59,63,70)は、前記各カラー(58,62,69)の円周の少なくとも5%、特に好ましくは前記各カラー(58,62,69)の円周の少なくとも10%の深さを有することを特徴とする、請求項10に記載のプラズマ溶射装置。
- 前記各溝(63,70)は、前記各ニュートロード(5,6)の軸方向長さ全体に沿って実質的に延在していることを特徴とする、請求項9〜11のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
- 前記プラズマ溶射装置(1)は、冷却液を受容するために前記ニュートロード(4,5,6)を完全に包囲する環状空間(51)を含むことを特徴とする、請求項1〜12のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
- 前記環状空間(51)は、前記冷却液が前記ニュートロード(4,5,6)に沿って、かつ前記アノード(7)に沿って軸方向に流れるように配置および形成されていることを特徴とする、請求項13に記載のプラズマ溶射装置。
- 前記カソード(3)に面した前記第1ニュートロード(4)には、前記プラズマチャネル(10)の一部を形成する円錐状の先細部分(11a)が設けられていることを特徴とする、請求項1〜14のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
- 少なくとも1つのカソード(3)とアノード(7)との間に延在するプラズマチャネル(10)と、前記プラズマチャネル(10)に境を接する複数のニュートロード(4,5,6)とが設けられたプラズマ溶射装置(1)用のアノード(7)であって、前記ニュートロード(4,5,6)は互いに電気的に絶縁されており、少なくとも2つの部分(27,29)を含む間隙(26)は、前記最前のニュートロード(6)と前記アノード(7)との間に延在し、絶縁ディスク(30,31)は前記2つの部分(27,29)のそれぞれに配置されており、前記アノード(7)の後部には、少なくとも2つの部分を有する間隙を形成するために、前記最前のニュートロードに面するリング状の隆起部またはリング状の窪み(73)が設けられていることを特徴とする、アノード(7)。
- 前記アノード(7)には、冷却液を導入するための環状チャネル(41)が設けられ、複数の傾斜したチャネル(40)は、前記冷却液を供給および排出するために前記環状チャネル(41)に通じていることを特徴とする、請求項16に記載のアノード(7)。
- 少なくとも1つのカソード(3)とアノード(7)との間に延在するプラズマチャネル(10)と、前記アノードに隣接し、ニュートロード装置の一部を形成するニュートロード(6)とを設けたプラズマ溶射装置(1)用のニュートロードであって、少なくとも2つの部分(27,29)を含む間隙(26)は、この最前のニュートロード(6)と前記アノード(7)との間に延在し、絶縁ディスク(30,31)は、前記2つの部分(27,29)のそれぞれに配置されており、前記ニュートロード(6)の前方には、少なくとも2つの部分を含む間隙を形成するために前記アノードに面したリング状の突出部(66)またはリング状の窪みが設けられていることを特徴とする、ニュートロード。
- 前記ニュートロード(6a,6b,6c)の内径(D2,D3,D5)は、少なくとも前記アノード(7)に面する端部領域において、前記アノード(7)の内径(D1)よりも少なくとも10%、特に少なくとも20%、好ましくは少なくとも30%大きいことを特徴とする、請求項18に記載のニュートロード。
- 前記ニュートロード(6)は、少なくとも8個、特に少なくとも12個の軸方向の溝(70)が形成されているリング状のカラー(69)を備え、前記各溝(70)は、前記カラー(69)の円周の少なくとも5%、特に好ましくは、前記カラー(69)の円周の少なくとも10%に対応する深さを有することを特徴とする、請求項18または19に記載のニュートロード。
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