JP6963569B2 - プラズマ溶射装置 - Google Patents

プラズマ溶射装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6963569B2
JP6963569B2 JP2018563690A JP2018563690A JP6963569B2 JP 6963569 B2 JP6963569 B2 JP 6963569B2 JP 2018563690 A JP2018563690 A JP 2018563690A JP 2018563690 A JP2018563690 A JP 2018563690A JP 6963569 B2 JP6963569 B2 JP 6963569B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
anode
plasma spraying
spraying apparatus
load
plasma
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018563690A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2019533077A (ja
Inventor
ケラー シルヴァノ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AMT AG
Original Assignee
AMT AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by AMT AG filed Critical AMT AG
Publication of JP2019533077A publication Critical patent/JP2019533077A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6963569B2 publication Critical patent/JP6963569B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/32Plasma torches using an arc
    • H05H1/34Details, e.g. electrodes, nozzles
    • H05H1/3452Supplementary electrodes between cathode and anode, e.g. cascade
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/32Plasma torches using an arc
    • H05H1/34Details, e.g. electrodes, nozzles
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/28Cooling arrangements
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/32Plasma torches using an arc
    • H05H1/42Plasma torches using an arc with provisions for introducing materials into the plasma, e.g. powder, liquid
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/32Plasma torches using an arc
    • H05H1/34Details, e.g. electrodes, nozzles
    • H05H1/3478Geometrical details

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)
  • Nozzles (AREA)

Description

本発明は、一般的なプラズマ溶射装置のための、請求項1のプリアンブルに従って構成されたプラズマ溶射装置と、請求項16に従って構成されたアノードと、請求項18に従って構成されたニュートロードと、に関する。
プラズマ溶射装置は最新技術から知られており、プラズマ溶射装置のトーチヘッドはカソードと、カソードから離間したアノードと、互いに絶縁された多数のニュートロードを含む中間ニュートロード装置と、を有する。アノードは、通常、丸形ノズルの形態で設計される。動作中、カソードとアノードとの間にアークが発生する。この場合のアークは、インプット側の領域、即ち、トーチヘッドの内側に面する領域に存在する。この領域では、温度は非常に高く、10’000ケルビン以上に達し得る。従って、アノードとは別に、アノードに境を接する他の部品、特に隣接するニュートロードは、熱的に高い応力がかかり、かつ高い摩耗に曝される。
一般的なプラズマ溶射装置は、欧州特許出願公開第500492(A1)号(特許文献1)から公知である。そのトーチヘッドには、カソード装置と、環状アノードと、電気的に絶縁された多数のニュートロードと、が設けられている。個々のニュートロード間には間隙が存在し、絶縁材料からの環状ディスクがその間隙内に挿入される。これらのニュートロードは、狭窄部を設けたプラズマチャネルを形成する。環状ディスクの内径は、プラズマチャネルの内径に一致する。アノードおよびニュートロードを冷却するために、その外側には冷却水が流れる冷却チャネル(キャビティ)が配置される。最前のニュートロードとアノードとの間に配置されたこれらの環状ディスクの最前部は、最前のニュートロードと併せて、高い熱応力に曝露され、それ故に高い摩耗に曝されるが、これは、特に、アノードおよび最前のニュートロードの外側のみが冷却水によって冷却されるからである。
欧州特許出願公開第1875785(A1)号(特許文献2)は、プラズマキャノンのためのインタフェースを開示している。これは、とりわけ、プラズマキャノン上にノズル取付部のためのホルダを含む。プラズマチャネルは、ノズル取付部と共に複数のニュートロードによって形成される。この目的のために、ノズル取付部およびニュートロードには、円筒形の穴が設けられている。ノズル取付部は、プラズマキャノン上にクランプ装置によって固定される。クランプ装置およびノズル取付部の冷却は、液体を冷却するためのチャネルが、プラズマキャノンから導かれて、最初にクランプ装置を通過し、続いてノズル取付部を通過することによって達成される。チャネルは、ノズル取付部からニュートロードの外側に沿って導かれ、プラズマキャノンに戻る。内側には、ノズルのインサートまで半径方向に到達する封止リングが、最前のニュートロードとノズルとの間に配置される。この封止リングの外側には、Oリングが配置される。
最後に、欧州特許出願公開第0289961(A2)号(特許文献3)は、調整可能なカソードを有するアーク放電装置と呼ばれるプラズマトーチを開示している。プラズマトーチは、3つのモジュール、即ち、ピストル本体群、アノードが設けられたノズル群、およびカソード群から構成される。カソード群は、軸方向に移動可能なピストンに接続されたロッド状のカソードを含む。このピストンによって、カソードを軸方向に前進または後退させることができる。ピストル本体群は、4つのパイプ状セグメントを含む。これらのセグメントの最前部はアノードに隣接している。最前のセグメントとアノードとの間には間隙があり、この間隙には絶縁リングが配置される。
欧州特許出願公開第500492(A1)号明細書 欧州特許出願公開第1875785(A1)号明細書 欧州特許出願公開第0289961(A2)号明細書
本発明の目的は、請求項1のプリアンブルに従って構成されたプラズマ溶射装置を提案することであり、トーチヘッドの熱的に高い応力を受ける部分を、特に隣接するニュートロードと共にアノードを、同じ公称電力においてより長い耐用年数を有するように、または、同じ耐用年数に対して公称電力を増加させることができるように構成する。
この目的は、請求項1の特徴部分に記載された特徴を含むプラズマ溶射装置によって達成される。
最前のニュートロードとアノードとの間に延在する間隙が、少なくとも2つの部分にあって、この2つの部分の間に半径方向および/または軸方向の距離が存在し、かつ2つの部分のそれぞれに絶縁ディスクが配置されるという事実により、プラズマ溶射装置の熱的に最も応力がかかる領域、特に、隣接するニュートロードと共にアノードにおける摩耗点が、同じ公称電力においてより長い耐用年数を有するか、または同じ長さの耐用年数に対して公称電力を増加させることができるという基本的な必須条件が提供される。
最前のニュートロードとアノードとの間の間隙が主に直線状に延在し、1つのみの絶縁ディスクが設けられる従来のプラズマ溶射装置と比較して、本発明によって引用される特徴によって、最前のニュートロードとアノードとの間に長期間にわたり安定した電気絶縁が確保される。間隙を異なる部分に分割することによって、かつ、それぞれに絶縁ディスクが設けられた2つの部分の間に半径方向および/または軸方向の距離を設けることによって、特に第2の、または外側の絶縁ディスク、即ち、プラズマチャネルから離れて面する絶縁ディスクに対する応力は、比較的小さくなる。更に、間隙を封止するために設けられたシールがより僅かな熱応力に曝露される故に、冷却液が前記チャネルを介してプラズマチャネル内に浸透することができない故に、液密封止が改善される。
プラズマ溶射装置の好ましい実施形態は、従属クレーム2〜15に概説されている。
好適な更なる発展形態では、前記間隙は、第1内側部分と、第2中間部分と、第3外側部分とを含み、第1部分は、半径方向および軸方向に第3部分に対してオフセットされ、第1部分および第3部分の両方に絶縁ディスクが配置される。このようなオフセットにより、第3部分を熱応力のより少ない領域に再配置することができる。更に、中間部分は断熱材として機能する。
特に好ましくは、間隙の中間部分は、内側および/または外側部分に対して角度をなして延在している。この措置により、外側部分の熱遮蔽が更に良好になる。
更に好ましい設計では、封止リングが外側部分の半径方向外側に配置される。従って、このような封止リングは、熱応力がそれほど高くない領域に配置される。
プラズマ溶射装置のこのような更に好ましい更なる発展形態では、最前のニュートロードには、アノードに面するリング状の突出部が設けられ、アノードには、最前のニュートロードに面するリング状の窪みが設けられ、前記突出部と前記窪みとの間には間隙が延在している。これらの特徴により、いくつかの部分に分割された間隙を比較的容易に実現することができる。
好ましくは、内側部分は外側部分内に半径方向に配置され、プラズマチャネルに対して半径方向に後退する内側部分に絶縁ディスクが配置される。その結果、前記絶縁ディスクは、動作中に存在するアークから幾分か離間し、外側部分は特に良好に熱遮蔽される。
好ましい更なる発展形態では、最前のニュートロードの内径は、少なくともアノードに面する端部領域において、アノードの内径よりも少なくとも10%、特に少なくとも20%、好ましくは少なくとも30%大きい。この設計により、アークは最前のニュートロードにおけるほど早くは始まらないが、後でアノードに到達したときにのみ開始することを確実にする。この設計は、最前のニュートロードとアノードとの間の間隙の領域における温度を比較的低くするのにも寄与しており、最前のニュートロードでは認識可能なバーンオフを形成せず、最終的には、特に最前のニュートロードの耐用年数の向上に寄与する。
好ましい更なる発展形態では、アノードはリング状に成形され、内側には高融点インサートを備え、この高融点インサートは、プラズマチャネルの長手方向軸の方向に、最前のニュートロードとアノードとの間の間隙まで少なくともほぼ到達している。このタイプの設計では、アークが始まる地点は間隙の領域内に移動してもよい。
特に、好ましくは、最前のニュートロードには、冷却リブを形成するための溝が形成されたリング状のカラーが設けられている。このような冷却リブは、ニュートロードを冷却液によって非常に効率的に冷却することができるように大きな表面を有する。
特に、好ましくは、全てのニュートロードにリング状のカラーが設けられ、複数の冷却リブが形成されるように各カラーには複数の軸方向の溝が設けられており、このように形成された冷却リブは、冷却液が循環するチャネルまたは環状空間に連結される。この設計により、全てのニュートロードを効率的に冷却することができる。
特に好ましくは、前記溝は、カラーの円周の少なくとも5%、特に好ましくはカラーの円周の少なくとも10%の深さを有する。このようにして形成された溝は、関連するニュートロードの良好な冷却効果の観点から有利な、特に大きな表面を有する冷却リブを形成する。
好ましい更なる発展形態で特定されるように、各溝が各ニュートロードの軸方向長さ全体にわたって実質的に延在するという事実は、対応するニュートロードに対する冷却効果が特に良好であることを保証する。
好ましくは、プラズマ溶射装置は、冷却液を受容するために、ニュートロードを完全に包囲する環状空間を有する。この種の環状空間は、ニュートロードをその全周に沿って冷却することができることを保証する。
特に好ましくは、環状空間は、冷却液がニュートロードおよびアノードの両方に沿って軸方向に流れるように配置および成形される。冷却液の軸流により、特に良好な放熱を達成することができる。
プラズマ溶射装置の更なる有利な発展形態では、カソードに面する第1ニュートロードには、プラズマチャネルの一部を形成する円錐状の先細部分が設けられる。その結果、プラズマジェットの流れに所望の方法で影響を与えることができる一種の狭窄部が形成される。
請求項16および17には、一般的なプラズマ溶射装置用のアノードが追加的に主張される一方、請求項18〜20には、一般的なプラズマ溶射装置用のニュートロードが主張される。
次に、本発明の好ましい例示的な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
プラズマ溶射装置のトーチヘッドの長手方向断面図である。 図1の拡大断面図である。 第1ニュートロードの斜視断面図である。 第2ニュートロードの斜視断面図である。 第3ニュートロードの断面図である。 第3ニュートロードの斜視断面図である。 アノードの断面図である。 第3ニュートロードの第1の代替的な実施形態の説明図である。 第3ニュートロードの第2の代替的な実施形態の説明図である。 第3ニュートロードの第3の代替的な実施形態の説明図である。
一般的なプラズマ溶射装置は公知である故、以下には、特に、本発明の文脈において不可欠な特徴および要素に焦点を当てる。
図1は、全体的に1と表示されたプラズマ溶射装置のトーチヘッド2の長手方向断面図を示す一方、図1aは、図1の拡大断面図を示す。次に、本発明に従って構成されたプラズマ溶射装置/関連するトーチヘッド2の設計を、図1および図1aを参照して詳細に説明する。
トーチヘッド2は、カソード3と、カソード3から離間したアノード7と、3つのニュートロード4,5,6の間に配置され、かつ3つのニュートロード4,5,6から構成されるニュートロード装置とを備える。ニュートロード4,5,6は、本質的に中空の円筒形状のアノード7と共に、プラズマチャネル10を形成する。出口側端部では、アノード7は、粉末供給要素44を備え、この粉末供給要素44には半径方向に延在するチャネル45が設けられており、このチャネル45を介してコーティング粉末を供給することができる。アノード7は、3つのニュートロード4,5,6と共に、キャップナット46によって固定され、キャップナット46のクランプラグ47は、粉末供給要素44の領域においてアノード7を押圧する。アノード7は、同様に、ニュートロード4,5,6を軸方向に押圧し、ニュートロード4,5,6を軸方向にも固定する。
第1の、または最後部のニュートロード4は内部空間11を含み、部分11aは流れ方向に前方に向けて円錐状に狭まる。この円錐形部分11aは、プラズマチャネル10の一部を形成する。この円錐形部分11aにより、狭窄部が形成され、この狭窄部によって、プラズマジェットの流れに所望の様式で影響を与えることができる。
第1ニュートロード4は、ロッド状のカソード3を包囲している。中間ニュートロード5は本質的にリング状であり、その内部空間12はアノード7の方向に僅かに広がっている。最後または最前のニュートロード6は、本質的に円筒形の内部空間13を有する。最後部のニュートロード4と中間ニュートロード5との間、および、中間ニュートロード5と最前ニュートロード6との間の両方に、環状の間隙15,20が存在している。これらの2つの間隙15,20は、本質的に半径方向に直線的に外側に延在している。環状の絶縁ディスク16,21はそれぞれ、前記2つの間隙15,20内に挿入される。各絶縁ディスク16,21は、比較的薄く形成され、平坦であるが均等に環状である支持リング17,22によって外側に境界付けられている。この外側支持リング17,22にはそれぞれ、Oリング18,23が後に続き、以下でより詳細に説明するように、このOリング18,23が冷却液のシールとして機能する。
最前のニュートロード6とアノード7との間にも間隙26が存在している。しかしながら、この間隙26は直線的には延在しておらず、本質的に半径方向に延在する第1内側部分27と、本質的に軸方向に延在する第2中間部分28と、本質的に半径方向に延在する第3外側部分29と、から構成される。第1内側部分27は、第3外側部分29に対して半径方向および軸方向の両方にオフセットされている。中間部分28は、本質的に、第1および第3部分27,29に対して90°の角度で延在している。当然、例えば30°、45°または60°等の任意の他の角度も可能である。
絶縁ディスク30,31はそれぞれ、内側部分27および外側部分29に受容される。2つの絶縁ディスク30,31は離間しており、中間部分28の中間部分は断熱材として機能する。外側絶縁ディスク31にもOリング32が後に続き、このOリング32は冷却液のためのシールとして機能し、それと同時に気密シールを形成する。3つの絶縁ディスク16,21,30は、プラズマチャネル10に対して僅かに後退しており、これにより絶縁ディスクの耐用年数にプラスの影響を及ぼす。第3間隙26に配置された内側絶縁ディスク31は、その内側がインサート8の外側に延在する程度に、2つの他の絶縁ディスク16,21よりも更に後退している。
本質的に中空円筒状のアノード7の内側には、例えばタングステンのような高融点を有する導電材料からなるインサート8が設けられている。
トーチヘッドの要素を冷却するのに役立つ冷却液は、前方接続フランジ49を介してトーチヘッド2に導入される。この接続フランジ49から、図1および図1aに示される図では認識不能な傾斜したチャネルが、第1環状空間50内に通じている。環状空間50は、3つのニュートロード4,5,6の周囲に延在し、ニュートロード4,5,6を冷却する機能を有する環状空間として成形された第2の流れ空間51に通じている。端部では、流れ空間51は、アノード7に形成された傾斜したチャネル40に通じており、この傾斜したチャネル40は、アノード7の前端の領域まで延在している。傾斜したチャネル40は、アノード7に形成された環状チャネル41を横断し、この環状チャネル41から、冷却液を上方に、更なる環状空間として形成された更なる戻り空間52内に流すことができ、この戻り空間52は、トーチヘッド内のいくつかのチャネル(図示せず)を介して後方接続フランジ53に接続されている。この後方接続フランジ53は、冷却液がトーチヘッドから排出される地点である。トーチにガスを供給することができる更なる中央接続フランジ55が設けられている。
前記Oリング18,23,32は、冷却液が流れ空間51からそれぞれの間隙15,20,26を介してプラズマチャネル10内に流れるのを防ぐ。電気絶縁だけでなく断熱材としても、特に絶縁ディスク16,21,30,31が使用される。絶縁ディスク16,21,30,31は、窒化ケイ素のような非導電性かつ耐熱性材料から製造される。更に、絶縁ディスク16,21,30,31は、Viton(登録商標)のような弾性および耐熱性材料からなるOリング18,23,32を過度の熱応力から保護する。
プラズマ溶射装置が作動しているとき、電気アークがカソード3とアノード7との間に存在する。このアークは、カソード3からアノード7またはインサート8の開始領域25に延在している。この開始領域25では、インサート8に丸みを付けることが好ましく、これは耐用年数の長期化の観点において有利である。アークは、通常、この開始領域25内を僅かに動き回っている。いずれにせよ、アノード7の開始領域25、ひいては隣接する絶縁ディスク27の周囲の領域も、プラズマ溶射装置の最も応力を受ける領域である。最前のニュートロード6とアノード7との間の間隙26、および、この間隙26に配置された2つの絶縁ディスク30,31の特定の設計により、この問題は特定の方法で説明され、また、最前の間隙26に配置されたOリング32は、熱的に特に良好に遮蔽される。第3間隙26の中間部分28は、2つの絶縁ディスク30,31の間の断熱材として機能する。更に、内側絶縁ディスク30は、アノード7/アノードインサート8の内側に対して幾分か後退しており、これは、それらの耐用年数にプラスの影響を与える。同時に、以下に詳細に説明するように、3つのニュートロード5,6,7およびアノード7は効率的に冷却される。いずれにせよ、こうしたトーチヘッド2を用いた実験は、内側絶縁ディスク30が省略されるか、または故障あるいは焼損しても、Oリング32が、数百から千時間超の期間にわたり、油圧による気密状態を保持することを示し、従って、信頼性の高い機能を保証し、冷却剤のプラズマチャネル10への浸透を防止する。この文脈において、作動中、プラズマチャネル10への冷却剤の浸透は、トーチヘッドの破壊と同等であることに言及すべきである。
3つのニュートロード4,5,6には(認識不能な)リング状の周方向カラーが設けられている。これらのカラーはそれぞれ、冷却リブを形成するためにカラー内に成形された複数の軸方向に延在する凹部または溝を有する。冷却液は、環状空間50から環状空間として形成された流れ空間51に流入し、この流れ空間51を通じて流れる。流れ空間51は、冷却液が、ニュートロード4,5,6に沿って、またアノード7に沿って軸方向に流れることができるように配置および設計されている。冷却液は、冷却リブを形成する役割を果たすニュートロード4,5,6の軸方向の溝を通じて軸方向にも流れる。ニュートロード4,5,6には軸方向に延在する溝が設けられている故、冷却液は、ニュートロードに沿って長手方向に循環することができ、効率的な冷却が保証される。最前のニュートロード6の後、冷却液は、傾斜して延在するアノード7の穴40を介して、アノード7の環状チャネル41に流入する。環状チャネル41の後部には、傾斜して延在する穴40が、更に前方に、アノード7の基本体に延在している。冷却液は、環状チャネル41から、更に上方に、ニュートロード装置を包囲する戻り空間52内に入り、続いて、冷却液はそこから後方接続フランジ53内に上方に流れ、この後方接続フランジ53を介して、冷却液をトーチヘッド2から排出することができる。冷却水の貫通流方向を逆転させることも可能である。更に、ニュートロード4,5,6が流れ空間51内に挿入された際に半径方向に正確に整列するように、流れ空間51の内径は、好ましくは、各ニュートロード4,5,6の周方向カラーの外径に適するように適合される。
図2は、第1ニュートロード4の斜視断面図を示している。入口側領域において、このニュートロード4の外側には、溝状の軸方向に斜めに延在する窪み56が設けられており、この窪み56を介して、ニュートロード4を包囲する環状チャネル57に冷却液を流入させることができる。環状チャネル57は、リング状の周方向カラー58によって、第2ニュートロードに対向する前面に境界付けられている。このカラー58には、複数の冷却リブ60が形成されるように、溝59の形状の軸方向に延在する凹部が設けられている。このようにして設計されたカラー58は、対応する大きな冷却面を有する大きな表面を有し、第1ニュートロードの良好な冷却を可能にする。各溝59は、好ましくは、カラー円周の少なくとも5%、特に好ましくはカラー円周の少なくとも10%の深さを有する。第1ニュートロード4のカソードに面した内側には、プラズマチャネルの一部を形成する円錐状の先細部分が設けられている。
図3は、第2ニュートロード5の斜視断面図を示している。第2ニュートロード5は、同様に、その中に形成された溝63を有するリング状の周方向カラー62を含む。このようにして形成された冷却リブ64もまた、第2ニュートロード5の良好な冷却を可能にする。この場合も、スロット63は、好ましくは、カラー円周の少なくとも5%、特に好ましくは各カラーの円周の少なくとも10%に一致する深さを有する。
図4aは、第3または最前のニュートロード6の断面図を示す一方、図4bは、第3ニュートロード6の斜視断面図を示している。最前のニュートロード6のアノードに面した前側には、リング状の周方向突出部が設けられており、その後側には窪みが形成されている。窪み67と共にリング状の周方向突出部66は、外側絶縁ディスク31(図2)が受容される第3間隙(図2)の一部を形成する。第3ニュートロード6にも、その中に形成された溝70を有するリング状の周方向カラー69が設けられている。更に、穴68は、各溝70の床からニュートロード6の基体の内部に更に延在している。これらの穴68は、この最も熱応力を受けるニュートロード6の冷却面を拡大し、このニュートロード6の特に効率的な冷却を可能にする。動作時にアークがこの領域に非常に近い故に、突出部66の内側は丸みを帯びた形状であることが好ましい。各溝70もまた、カラー69の円周の少なくとも5%、特に好ましくはカラー69の円周の少なくとも10%の深さを有することが好ましい。ニュートロード6のD2と表示された内径は、以下で更に詳細に説明するように、アノードの内径にほぼ一致している。
本実施例では、各ニュートロード4,5,6のカラーに15個の溝が形成されているが、この数は勿論可変である。しかしながら、少なくとも8つの溝が設けられることが好ましい。当然、溝の形状およびサイズも可変であるが、勿論、ニュートロードからニュートロードまでの数は異なっていてもよい。「絶縁ディスク」という用語は、必ずしもディスク形状である必要はなく、あらゆる種類の絶縁体を表す。
最後に、図5は、アノード7の断面図を示す。アノードには、第3ニュートロード6に面するその背面に、第3ニュートロード6の突出部66が延在することができるリング状の窪み73が設けられている。図2から分かるように、アノード7と第3ニュートロード6との間の間隙26の内側および中間部分27,28は、第3ニュートロード6の突出部と、アノード7のリング状の窪み73との間に形成される。第3ニュートロード6上に配置される突出部66と、アノード7のリング状の窪みとの組み合わせに基づいて、多段階の間隙が、簡単な特徴を有し、かつコスト効率の良い方法で形成され、絶縁ディスクと組み合わせることで、上述した利点を有する。この例示的な実施形態では、アノード7のインサート8の内径D1は、隣接するニュートロード6の内径D2(図4a)におおよそ一致する。しかしながら、図6および図7を参照して以下に説明するように、他の実施形態もまた提供される。アノード7には、軸方向に延在する延長部43が設けられており、この延長部43は、プラズマチャネル10の外側に半径方向に延在している。これらの延長部43は、コーティング粉末を供給するための粉末供給チャネル45を含む。この実施例では、2つの粉末供給チャネル45が描写されているが、3つまたは4つの粉末供給チャネルが設けられてもよい。あるいは、単一の粉末供給チャネルのみを設けてもよい。
図5には、環状チャネル41に通じる2つの斜めに延在するアノード7の穴40が示されている。全体で少なくとも10個のこのような穴40がアノード7に設けられている。更に、斜めに延在する穴40は、環状チャネル41を超えてアノード7の基体に延在し、従って、アノード7の冷却面を拡大することが分かる。
この時点で注目すべき点の1つに、3つのニュートロード4,5,6およびアノード7は、プラズマ溶射装置を一定期間使用した後に交換されるか、または交換しなければならない摩耗部品である点が挙げられる。同時に、Oリングおよび絶縁ディスクは、通常、交換される。
図6は、第3の、または最前のニュートロード6aの第1の代替設計の断面図を示す。このニュートロード6aの内部には、その内径D3がアノードに向けて増加するように、凹部75が設けられている。この凹部により、内径D3は、隣接するアノードの内径D1(図5)よりも大きい直径D2に拡大され、従って、アノードのインサートもまた拡大される。この設計により、アークはこの最前のニュートロード6aにおけるほど早く始動しないが、後にアノードにて始動することが保証される。この設計はまた、第3間隙26(図1a)の領域の温度が比較的低く、最前のニュートロード6aにバーンオフが生じないという事実に寄与し、これは、最終的には、特に最前のニュートロード6aの耐用年数の長期化に寄与する。好ましくは、アノードに隣接する領域におけるこの第3ニュートロード6aの内径は、アノードの内径よりも少なくとも10%、特に少なくとも20%、特に好ましくは少なくとも30%大きい。例えば、アノードの内径を10ミリメートルにて始動させると、アノードに隣接する領域におけるこの第3ニュートロード6aの内径は、アノードの内径よりも少なくとも1ミリメートル、特に少なくとも2ミリメートル、特に好ましくは少なくとも3ミリメートル大きい。他の変形例では、第3ニュートロードの内径は、アノードの内径よりも全体的に大きくてもよい。
図7は、第3の、または最前のニュートロード6bの第2の代替設計の断面図を示す。このニュートロード6bの内径は、アノードに面する出口領域の内径D3が、アノード7の内径D1よりも少なくとも10%、特に少なくとも20%、特に好ましくは少なくとも30%大きくなるように、正面に向けて連続的に拡大している(図5)。この設計により、ここでも、アークは最前のニュートロード6bにおけるほど早く始動しないが、後にアノードにて始動することが確実となる。図7に示されるように、この最前のニュートロード6bの内径D3は、出口側に丸みを付けて設けられる故に、拡大される。丸み付けの代わりに、面取りあるいは円錐形、または、丸み付けと組み合わせた面取りあるいは円錐形を設けることができる。
最後に、図8は、第3の、または最前のニュートロード6cの第3の代替設計の断面図を示す。このニュートロード6cの内径は、2つの円錐形部分を通じて前方に向けて拡大される。第1の円錐形部分は、鋭角を包囲する一方、第2の円錐形部分は鋭角または鈍角を包囲することが好ましい。好ましくは、第1の円錐形部分は、約20°〜30°の間の角度を包囲する一方、第2の円錐形部分は、約80°〜100°の間の角度を包囲する。第1の円錐形部分は、その出口側端部において、アノード7(図5)の内径D1よりも少なくとも10%大きい直径D4を含む一方、第2の円錐形部分は、アノードの内径D1よりも少なくとも20%、特に少なくとも30%大きい。この設計もまた、アークがアノードにて始動し、最前のニュートロード6cにおけるほど早く始動しないことを確実にする。
結論として、本発明に従って構成されたプラズマ溶射装置を使用することにより、プラズマ溶射装置の熱的に最も応力のかかる領域における摩耗部品、特に隣接するニュートロード6と共にアノード7は、同一の電力定格における耐用年数を延長させることができ、または同一の耐用年数に対して電力定格を増加させることができる。これは、特に、最前のニュートロード6とアノード7との間の間隙26が、少なくとも2つの部分27,29を含み、部分27,29の間に半径方向および/または軸方向の距離が存在し、各部分27,29に絶縁ディスク30,31が配置される場合に達成される。既知のプラズマ溶射装置と比較して、特に、最前のニュートロードおよびアノードの効率的な冷却を確実にする特徴と組み合わせた前記特徴により、摩耗部品の耐用年数をより長くし、または、同じ耐用年数に対して電力定格を増加させることができる。カソードに使用される材料は、好ましくは、タングステンまたはW/Cuのようなタングステン基複合材料である。アノードに使用される材料は、好ましくは、THO(二酸化トリウム)である一方、ニュートロードは、好ましくは、銅または銅合金からなる。
ここで、本発明に従って構成されたプラズマ溶射装置の利点の一部を再度要約する。
−最前のニュートロードと隣接するアノードとの間の長期間の安定した電気絶縁
−最前のニュートロードと隣接するアノードとの間の間隙の、信頼性のある、長期間にわたり安定した水圧による封止
−ニュートロード、特に最前のニュートロードの特に効率的な冷却
−アノードの効率的な冷却
−アノードおよびニュートロードの耐用年数の長期化
−非常に安定した電気アーク
−一般のプラズマ溶射装置と比較した場合の、摩耗部品の同等の耐用年数に対するより高い出力定格の達成
−一般のプラズマ溶射装置と比較した場合の、同等の電力定格に対する摩耗部品の耐用年数の長期化
−トーチヘッドの簡単な構造化および簡単かつ迅速に交換可能な摩耗部品
−トーチヘッドの費用対効果の高い方法での製造
−供給される電気エネルギーに関連した、トーチヘッドの効率の向上
上記の実施形態は、プラズマ溶射装置/トーチヘッド2の可能なまたは好ましい設計を単に示しており、この実施形態から逸脱した設計も完璧に可能であることが理解される。従って、3つではなく、2つ、4つまたはそれ以上のニュートロードを代わりに使用することができる。ニュートロード/最前のニュートロードとアノードとの間の間隙の設計もまた、図示の実施形態から逸脱してもよい。最前のニュートロード6とアノード7との間の間隙26は、例えば、最前のニュートロードが2つの突出部を含み、アノードには2つの対応する窪みが設けられているという点で、更なる段階を含むことができる。また、記載した最前のニュートロードとアノードとの間の間隙を、代替的に、アノードに最前のニュートロードに面するリング状の突出部を設けることによって、かつ、最前のニュートロードをアノードに面するリング状の窪みと対応するように形成することによって、形成することもできる。アノード7を粉末供給要素44上に成形する代わりに、粉末供給要素を別個の部品として設計することができる。

Claims (20)

  1. 少なくとも1つのカソード(3)とアノード(7)との間に延在するプラズマチャネル(10)と、前記プラズマチャネル(10)に境を接する複数のニュートロード(4,5,6)とを有するプラズマ溶射装置(1)であって、前記ニュートロード(4,5,6)は、互いに電気的に絶縁されており、前記最前のニュートロード(6)と前記アノード(7)との間に間隙(26)が延在しており、前記間隙(26)には絶縁ディスク(30)が配置されており、前記最前のニュートロード(6)と前記アノード(7)との間の間隙(26)は、少なくとも2つの部分(27,29)を含み、前記2つの部分(27,29)の間には半径方向および/または軸方向の距離が存在し、前記2つの部分(27,29)の各々に絶縁ディスク(30,31)が配置されていることを特徴とする、プラズマ溶射装置。
  2. 前記間隙(26)は、第1内側部分(27)、第2中間部分(28)および第3外側部分(29)を備え、前記第1部分(27)は、前記第3部分(29)に対して半径方向および軸方向にオフセットされており、絶縁ディスク(30,31)は、それぞれ前記第1および前記第3部分(27,29)に配置されていることを特徴とする、請求項1に記載のプラズマ溶射装置。
  3. 前記間隙(26)の中間部分(28)は、前記内側および/または外側部分(27,29)に対して角度を成して延在していることを特徴とする、請求項1または2に記載のプラズマ溶射装置。
  4. 封止リング(32)は、最外部分(29)の半径方向外側に配置されていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
  5. 前記最前のニュートロード(6)には、前記アノード(7)に面するリング状の突出部(66)が設けられており、また、前記アノード(7)には、前記最前のニュートロード(6)に面するリング状の窪み(73)が設けられており、前記間隙(26)は、前記突出部(66)と前記窪み(73)との間に延在することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
  6. 前記内側部分(27)は、前記外側部分(29)内に半径方向に配置され、絶縁ディスク(30)は、前記内側部分(27)に配置され、前記内側部分(27)は、前記プラズマチャネル(10)に対して半径方向に後退していることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
  7. 前記最前のニュートロード(6a,6b,6c)の内径(D2,D3,D5)は、少なくとも前記アノード(7)に面する端部領域において、前記アノード(7)の内径(D1)よりも少なくとも10%、特に少なくとも20%、好ましくは少なくとも30%大きいことを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
  8. 前記アノード(7)はリング状であり、内側に高融点インサート(8)が設けられており、前記高融点インサート(8)は、前記プラズマチャネル(10)の長手方向軸の方向に、前記最前のニュートロード(6)と前記アノード(7)との間の前記間隙(26)まで少なくともほぼ到達していることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
  9. 前記最前のニュートロード(6)には、リング状のカラー(69)が設けられており、前記カラー(69)には、冷却リブを形成するための溝(70)が形成されていることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
  10. 全てのニュートロード(4,5,6)には、リング状のカラー(58,62,69)が設けられ、各カラー(58,62,69)には、複数の冷却リブ(60,64,71)が形成されるように、複数の軸方向の溝(59,63,70)が設けられ、このように形成された冷却リブ(60,64,71)は、冷却液が循環するチャネルまたは環状空間(52)に連結されていることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
  11. 前記各溝(59,63,70)は、前記各カラー(58,62,69)の円周の少なくとも5%、特に好ましくは前記各カラー(58,62,69)の円周の少なくとも10%の深さを有することを特徴とする、請求項10に記載のプラズマ溶射装置。
  12. 前記各溝(63,70)は、前記各ニュートロード(5,6)の軸方向長さ全体に沿って実質的に延在していることを特徴とする、請求項9〜11のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
  13. 前記プラズマ溶射装置(1)は、冷却液を受容するために前記ニュートロード(4,5,6)を完全に包囲する環状空間(51)を含むことを特徴とする、請求項1〜12のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
  14. 前記環状空間(51)は、前記冷却液が前記ニュートロード(4,5,6)に沿って、かつ前記アノード(7)に沿って軸方向に流れるように配置および形成されていることを特徴とする、請求項13に記載のプラズマ溶射装置。
  15. 前記カソード(3)に面した前記第1ニュートロード(4)には、前記プラズマチャネル(10)の一部を形成する円錐状の先細部分(11a)が設けられていることを特徴とする、請求項1〜14のいずれか一項に記載のプラズマ溶射装置。
  16. 少なくとも1つのカソード(3)とアノード(7)との間に延在するプラズマチャネル(10)と、前記プラズマチャネル(10)に境を接する複数のニュートロード(4,5,6)とが設けられたプラズマ溶射装置(1)用のアノード(7)であって、前記ニュートロード(4,5,6)は互いに電気的に絶縁されており、少なくとも2つの部分(27,29)を含む間隙(26)は、前記最前のニュートロード(6)と前記アノード(7)との間に延在し、絶縁ディスク(30,31)は前記2つの部分(27,29)のそれぞれに配置されており、前記アノード(7)の後部には、少なくとも2つの部分を有する間隙を形成するために、前記最前のニュートロードに面するリング状の隆起部またはリング状の窪み(73)が設けられていることを特徴とする、アノード(7)。
  17. 前記アノード(7)には、冷却液を導入するための環状チャネル(41)が設けられ、複数の傾斜したチャネル(40)は、前記冷却液を供給および排出するために前記環状チャネル(41)に通じていることを特徴とする、請求項16に記載のアノード(7)。
  18. 少なくとも1つのカソード(3)とアノード(7)との間に延在するプラズマチャネル(10)と、前記アノードに隣接し、ニュートロード装置の一部を形成するニュートロード(6)とを設けたプラズマ溶射装置(1)用のニュートロードであって、少なくとも2つの部分(27,29)を含む間隙(26)は、この最前のニュートロード(6)と前記アノード(7)との間に延在し、絶縁ディスク(30,31)は、前記2つの部分(27,29)のそれぞれに配置されており、前記ニュートロード(6)の前方には、少なくとも2つの部分を含む間隙を形成するために前記アノードに面したリング状の突出部(66)またはリング状の窪みが設けられていることを特徴とする、ニュートロード。
  19. 前記ニュートロード(6a,6b,6c)の内径(D2,D3,D5)は、少なくとも前記アノード(7)に面する端部領域において、前記アノード(7)の内径(D1)よりも少なくとも10%、特に少なくとも20%、好ましくは少なくとも30%大きいことを特徴とする、請求項18に記載のニュートロード。
  20. 前記ニュートロード(6)は、少なくとも8個、特に少なくとも12個の軸方向の溝(70)が形成されているリング状のカラー(69)を備え、前記各溝(70)は、前記カラー(69)の円周の少なくとも5%、特に好ましくは、前記カラー(69)の円周の少なくとも10%に対応する深さを有することを特徴とする、請求項18または19に記載のニュートロード。
JP2018563690A 2016-08-26 2017-08-21 プラズマ溶射装置 Active JP6963569B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH01092/16 2016-08-26
CH01092/16A CH712835A1 (de) 2016-08-26 2016-08-26 Plasmaspritzvorrichtung.
PCT/CH2017/000075 WO2018035619A1 (de) 2016-08-26 2017-08-21 Plasmaspritzvorrichtung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019533077A JP2019533077A (ja) 2019-11-14
JP6963569B2 true JP6963569B2 (ja) 2021-11-10

Family

ID=59761736

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018563690A Active JP6963569B2 (ja) 2016-08-26 2017-08-21 プラズマ溶射装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US10945330B2 (ja)
EP (1) EP3504943B1 (ja)
JP (1) JP6963569B2 (ja)
CH (1) CH712835A1 (ja)
ES (1) ES2953155T3 (ja)
PL (1) PL3504943T3 (ja)
WO (1) WO2018035619A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7149954B2 (ja) * 2017-03-16 2022-10-07 エリコン メテコ(ユーエス)インコーポレイテッド プラズマガン用のニュートロードスタックの最適化された冷却
WO2019164822A1 (en) * 2018-02-20 2019-08-29 Oerlikon Metco (Us) Inc. Single arc cascaded low pressure coating gun utilizing a neutrode stack as a method of plasma arc control
EP3742869A1 (en) * 2019-05-22 2020-11-25 Gulhfi Consulting AG Miniaturised plasma torch
DE102023200269A1 (de) * 2023-01-13 2024-07-18 Volkswagen Aktiengesellschaft Düsenplatte für eine Plasmaspritzmaschine zum atmosphärischen Plasmaspritzen sowie Plasmaspritzmaschine

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4430546A (en) * 1981-08-14 1984-02-07 Metco, Inc. Plasma spray gun nozzle
US4788408A (en) * 1987-05-08 1988-11-29 The Perkin-Elmer Corporation Arc device with adjustable cathode
DE4105407A1 (de) * 1991-02-21 1992-08-27 Plasma Technik Ag Plasmaspritzgeraet zum verspruehen von festem, pulverfoermigem oder gasfoermigem material
DE4105408C1 (ja) * 1991-02-21 1992-09-17 Plasma-Technik Ag, Wohlen, Ch
DE9215133U1 (de) * 1992-11-06 1993-01-28 Plasma-Technik Ag, Wohlen Plasmaspritzgerät
ATE185465T1 (de) * 1996-12-23 1999-10-15 Sulzer Metco Ag Indirektes plasmatron
US6114649A (en) * 1999-07-13 2000-09-05 Duran Technologies Inc. Anode electrode for plasmatron structure
US7030336B1 (en) * 2003-12-11 2006-04-18 Sulzer Metco (Us) Inc. Method of fixing anodic arc attachments of a multiple arc plasma gun and nozzle device for same
WO2006012165A2 (en) * 2004-06-25 2006-02-02 H.C. Starck Inc. Plasma jet generating apparatus and method of use thereof
US7759599B2 (en) 2005-04-29 2010-07-20 Sulzer Metco (Us), Inc. Interchangeable plasma nozzle interface
JP4641014B2 (ja) * 2006-09-11 2011-03-02 新明和工業株式会社 プラズマガンのチャンバへの取り付け構造
US7671294B2 (en) * 2006-11-28 2010-03-02 Vladimir Belashchenko Plasma apparatus and system
EP2819802A4 (en) * 2012-02-28 2015-08-19 Sulzer Metco Us Inc ADVANCED CASCADE PLASMA BURNER
US9150949B2 (en) * 2012-03-08 2015-10-06 Vladmir E. BELASHCHENKO Plasma systems and methods including high enthalpy and high stability plasmas
CN104602432A (zh) * 2015-02-05 2015-05-06 成都真火科技有限公司 阳极自冷却等离子体源

Also Published As

Publication number Publication date
CH712835A1 (de) 2018-02-28
US10945330B2 (en) 2021-03-09
EP3504943A1 (de) 2019-07-03
EP3504943B1 (de) 2023-06-07
JP2019533077A (ja) 2019-11-14
WO2018035619A1 (de) 2018-03-01
US20190141828A1 (en) 2019-05-09
PL3504943T3 (pl) 2024-03-25
ES2953155T3 (es) 2023-11-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6963569B2 (ja) プラズマ溶射装置
US8656577B2 (en) Method of manufacturing a high current electrode for a plasma arc torch
RU2556875C2 (ru) Электрод для плазменной горелки с новым способом сборки и улучшенной теплопередачей
US8109928B2 (en) Plasma-generating device, plasma surgical device and use of plasma surgical device
US8941026B2 (en) Nozzle for a liquid-cooled plasma torch, nozzle cap for a liquid-cooled plasma torch and plasma torch head comprising the same
RU2610138C2 (ru) Композиционные расходуемые детали горелки для сварки плазменной дугой
KR20070066948A (ko) 플라즈마 아크 토치, 및 플라즈마 아크 토치의 조립 및분해 방법
KR20110013376A (ko) 액체 냉각식 플라즈마 버너용 노즐, 노즐캡이 부착된 장치 및 이러한 장치를 포함하는 액체 냉각식 플라즈마 버너
US9730307B2 (en) Multi-component electrode for a plasma cutting torch and torch including the same
US3390292A (en) Fluid coolant system for a plasma-jet generator
US6559407B2 (en) Cathode assembly for an electric arc spray apparatus
CN110891724A (zh) 焊枪
RU2646858C2 (ru) Электродуговой плазмотрон
RU2614533C1 (ru) Электродуговой плазмотрон
RU2522702C1 (ru) Катод плазменного ускорителя (варианты)
JP6727731B2 (ja) プラズマアークトーチのためのノズル
JP6612626B2 (ja) プラズマ溶接トーチ
RU2684309C1 (ru) Плазменный полый катод
GB2355379A (en) Plasma torch electrode
JP2010043341A (ja) 複合トーチ型プラズマ発生装置
JP2016019986A (ja) プラズマ溶接トーチ
SU350232A1 (ru) Приварки шпилек
JP2023147512A (ja) プラズマ溶接トーチ
JP2020157374A (ja) 電極装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200605

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210423

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210525

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20211005

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20211015

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6963569

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150