JP6955385B2 - 粒子分析装置における光照射を調整するためのモニター装置 - Google Patents
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Description
本発明は、粒子分析装置における照射光の調整に使用可能なモニター装置に関するものである。
試料液中に分散する粒子（例えば、血液中の血液細胞など）を光学的に分析する方法として、フローサイトメトリーが知られている。フローサイトメトリーは、フローセルの流路を進む試料液中の粒子に所定の照射光を照射し、その結果得られる光散乱や光吸収度などの光学的特性から、該粒子の識別や計数などの分析を行なう手法である（例えば、特許文献１、２）。
フローサイトメトリーに基づいて試料液中の粒子の分析を行う粒子分析装置は、フローサイトメーターと呼ばれ、その主たる構成は、図６に例示するように、フローセル１１０と、光学装置（図６の例では、光源装置ＯＰ１１、照射側の光学要素（レンズなど）ＯＰ１２、受光側の光学要素ＯＰ１３、受光装置ＯＰ１４）と、制御装置（図示せず）とを有するものである。図６の粒子分析装置において、粒子Ｘ１０を含んだ試料液Ｍ１０がフローセル１１０内の流路１１１を流れ、光学装置が該フローセルに対して照射光Ｌ１０の照射と、該照射の結果得られる光Ｌ２０の受光とを行い、制御装置が、受光装置から得られる受光信号を処理し、粒子の大きさ、該大きさに基づいた粒子の分類、度数分布などの分析を行う。尚、図６に例示する粒子分析装置では、試料液Ｍ１０の周囲をシース液Ｍ２０、Ｍ３０の流れが２重に取り巻く構成となっており、それにより、粒子が１つずつ安定して流路を流れるようになっている。
また、図６に例示する粒子分析装置では、フローセル内において、インピーダンス法（電気抵抗法）に基づいた粒子の測定も可能であるように、電極Ｅ１０、Ｅ２０が流路の上流側と下流側に設けられている。粒子Ｘ１０がアパーチャ（細孔）１１２を通過するとき、前記電極間の電圧や電流が変化する。インピーダンス法は、その電圧や電流の値に基いて、粒子の大きさを特定する方法である。このようなフローサイトメトリーとインピーダンス法とを同時に行う方法（集光型フローインピーダンス法とも呼ばれる）を実施する粒子分析装置も、フローサイトメトリーに基づいて試料液中の粒子の分析を行う粒子分析装置に含まれる。以下、本明細書でいう粒子分析装置は、フローサイトメトリーに基づいて試料液中の粒子の分析を行う構成を少なくとも備えた分析装置である。
粒子分析装置の製造時やメンテナンス時などにおいては、フローセルの流路の中心軸と光学装置の照射光の光軸との位置合わせ（以下、「光軸調整」ともいう）が行われ、また、受光信号のゲイン調整（受光信号の増幅や受光感度の調節など）が行われる。
光軸調整では、通常、標準粒子を含んだフローサイトメトリー用の標準液が用いられ、流路を流れる標準粒子に照射光が照射された時の受光信号の強度（＝透過光の強度）が、光の吸収や散乱等によって最も低くなるように（即ち、照射光が粒子によって最もよく遮られるように）、受光信号の強度を見ながら、フローセルの移動調整（または、光学装置の移動調整）を行う必要がある。このため、光軸調整時には、受光信号の強度を高いリアルタイム性で確認するために、オシロスコープが利用される。
光軸調整では、通常、標準粒子を含んだフローサイトメトリー用の標準液が用いられ、流路を流れる標準粒子に照射光が照射された時の受光信号の強度（＝透過光の強度）が、光の吸収や散乱等によって最も低くなるように（即ち、照射光が粒子によって最もよく遮られるように）、受光信号の強度を見ながら、フローセルの移動調整（または、光学装置の移動調整）を行う必要がある。このため、光軸調整時には、受光信号の強度を高いリアルタイム性で確認するために、オシロスコープが利用される。
しかしながら、オシロスコープでは、受光信号の強度しか見ることができず、受光信号のゲイン調整が適切であるかどうかは、別の手法、例えば、コントロール血液などの基準物質を測定し、その測定値などによって確認する必要がある。よって、粒子分析装置における光照射の調整（光軸調整とゲイン調整）は、複数の測定装置の準備や操作を必要とする手間のかかるものであった。
本発明の課題は、上記問題を解決し、フローサイトメーターにおける光照射の調整の手間をより少なくする新たな装置を提供することにある。
上記課題を解決するための本発明の主たる構成は次のとおりである。
〔１〕粒子分析装置における光照射を調整するためのモニター装置であって、
前記粒子分析装置は、粒子を含んだ試料液を流すためのフローセルと、前記フローセルに対し照射光の投光と受光を行い受光信号を出力する光学装置と、前記受光信号を処理し粒子の分析を行う制御部とを有するものであり、
当該モニター装置は、モニター用制御部を有し、
前記モニター用制御部は、
前記粒子分析装置におけるフローセルと照射光の光軸との相対位置に応じて変化する指示値として、該粒子分析装置から得られる前記受光信号の強度を示す第１の指示値を生成する、第１のデータ処理部と、
前記粒子分析装置における前記受光信号のゲイン調整に応じて変化する指示値として、前記第１の指示値とは異なる、前記受光信号の強度を示す第２の指示値を生成する、第２のデータ処理部と、
第１の指示値と第２の指示値を表示装置に出力する、指示値出力部と
を有する、
前記モニター装置。
〔２〕第１の指示値が、経過する時間ｔを所定時間長Ｔ１で区切ってなる時間区間ｔ１、ｔ２、ｔ３、．．．．ｔｎ（ｎは自然数）における各時間区間ごとに定められる値であって、かつ、各時間区間においてフローセルを通過した粒子に対応する粒子通過信号の強度のうちの、各時間区間内での最大値またはそれに対応する値であり、
第２の指示値が、前記と同じ時間区間ｔ１、ｔ２、ｔ３、．．．．ｔｎ（ｎは自然数）における各時間区間ごとに定められる値であって、かつ、各時間区間においてフローセルを通過した粒子の大きさの度数分布のうちの、各時間区間内での最も高い度数を持った大きさまたはそれに対応する値である、
前記〔１〕に記載のモニター装置。
〔３〕表示装置が表示画面を持っており、
指示値出力部が、前記各時間区間ごとの第１の指示値と第２の指示値を、前記表示装置の表示画面上の同じ１つのグラフにプロットして表示させる、前記〔１〕または〔２〕に記載のモニター装置。
〔４〕当該モニター装置のデータ処理部が第１の指示値および第２の指示値を生成する際に、前記粒子分析装置のフローセルに流される試料液が、標準粒子を含んだフローサイトメトリー用の標準液である、前記〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載のモニター装置。
〔５〕前記表示装置が、当該モニター装置に付帯する装置である、前記〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載のモニター装置。
〔６〕当該モニター装置が、前記粒子分析装置の一部として、該粒子分析装置に付帯する装置である、前記〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載のモニター装置。
〔１〕粒子分析装置における光照射を調整するためのモニター装置であって、
前記粒子分析装置は、粒子を含んだ試料液を流すためのフローセルと、前記フローセルに対し照射光の投光と受光を行い受光信号を出力する光学装置と、前記受光信号を処理し粒子の分析を行う制御部とを有するものであり、
当該モニター装置は、モニター用制御部を有し、
前記モニター用制御部は、
前記粒子分析装置におけるフローセルと照射光の光軸との相対位置に応じて変化する指示値として、該粒子分析装置から得られる前記受光信号の強度を示す第１の指示値を生成する、第１のデータ処理部と、
前記粒子分析装置における前記受光信号のゲイン調整に応じて変化する指示値として、前記第１の指示値とは異なる、前記受光信号の強度を示す第２の指示値を生成する、第２のデータ処理部と、
第１の指示値と第２の指示値を表示装置に出力する、指示値出力部と
を有する、
前記モニター装置。
〔２〕第１の指示値が、経過する時間ｔを所定時間長Ｔ１で区切ってなる時間区間ｔ１、ｔ２、ｔ３、．．．．ｔｎ（ｎは自然数）における各時間区間ごとに定められる値であって、かつ、各時間区間においてフローセルを通過した粒子に対応する粒子通過信号の強度のうちの、各時間区間内での最大値またはそれに対応する値であり、
第２の指示値が、前記と同じ時間区間ｔ１、ｔ２、ｔ３、．．．．ｔｎ（ｎは自然数）における各時間区間ごとに定められる値であって、かつ、各時間区間においてフローセルを通過した粒子の大きさの度数分布のうちの、各時間区間内での最も高い度数を持った大きさまたはそれに対応する値である、
前記〔１〕に記載のモニター装置。
〔３〕表示装置が表示画面を持っており、
指示値出力部が、前記各時間区間ごとの第１の指示値と第２の指示値を、前記表示装置の表示画面上の同じ１つのグラフにプロットして表示させる、前記〔１〕または〔２〕に記載のモニター装置。
〔４〕当該モニター装置のデータ処理部が第１の指示値および第２の指示値を生成する際に、前記粒子分析装置のフローセルに流される試料液が、標準粒子を含んだフローサイトメトリー用の標準液である、前記〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載のモニター装置。
〔５〕前記表示装置が、当該モニター装置に付帯する装置である、前記〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載のモニター装置。
〔６〕当該モニター装置が、前記粒子分析装置の一部として、該粒子分析装置に付帯する装置である、前記〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載のモニター装置。
本発明によるモニター装置によれば、フローセルと照射光の光軸との相対位置に応じて変化する指示値として、該粒子分析装置から得られる受光信号の強度を示す第１の指示値と、前記粒子分析装置における前記受光信号のゲイン調整に応じて変化する指示値として、前記受光信号の強度を示す第２の指示値（第１の指示値とは異なる指示値）とが、表示装置へと出力されるので、光軸調整とゲイン調整とを行うことができ、照射光の調整作業の効率が上がる。また、照射光の調整のために、オシロスコープ等を含んだ複数の測定装置を準備する必要がなくなる。
以下、本発明のモニター装置を、実施例を挙げながら詳細に説明する。
図１は、当該モニター装置の主要部分の構成の一例を示すブロック図であり、粒子分析装置１００における光照射を調整するために、該粒子分析装置に当該モニター装置が接続された状態を示している。図１に示すように、本発明のモニター装置によって調整すべき粒子分析装置１００は、フローサイトメトリーに基づいて試料液中の粒子の分析を行うことができるように、フローセル１１０と、光学装置ＯＰ１０と、制御部１２０とを有する装置である。
図１は、当該モニター装置の主要部分の構成の一例を示すブロック図であり、粒子分析装置１００における光照射を調整するために、該粒子分析装置に当該モニター装置が接続された状態を示している。図１に示すように、本発明のモニター装置によって調整すべき粒子分析装置１００は、フローサイトメトリーに基づいて試料液中の粒子の分析を行うことができるように、フローセル１１０と、光学装置ＯＰ１０と、制御部１２０とを有する装置である。
〔照射光を調整すべき粒子分析装置〕
先に、調整すべき粒子分析装置を説明する。
図１の例では、粒子分析装置は、図６に示した粒子分析装置と同様、粒子を含んだ試料液を流すための流路を持ったフローセル１１０を有する。光学装置ＯＰ１０は、光源装置ＯＰ１１、照射側の光学要素（レンズやスリットなど）ＯＰ１２、受光側の光学要素（レンズなど）ＯＰ１３、受光装置ＯＰ１４を有し、フローセル１１０に対して照射光の投光と受光を行い受光信号を出力する。図１の例では、該粒子分析装置の光学装置ＯＰ１０は、光学ベンチＯＰ２０上に配置されており、該光学装置内での光源装置ＯＰ１１から受光装置ＯＰ１４までの光軸ａ２０の調整は完了している。また、図１の例では、光学装置ＯＰ１０は光学ベンチＯＰ２０を介してベース板（図示せず）に固定されており、フローセル１１０は移動機構（位置合わせ機構）上に配置されており、該フローセルを移動させることによって、該フローセルの流路の中心軸ａ１０と、光学装置における照射光の光軸ａ２０とが交差するように、または、交差する状態により近づくように、光軸調整が行われる。該フローセルを高精度に移動させる移動機構は、図示を省略しているが、従来公知の機構であってよい。光軸調整の代替的な態様として、フローセルが固定され、光学装置が移動機構上に配置された態様であってもよい。光軸調整では、フローセル１１０（または、光学装置）を図１の紙面に垂直な方向（流路の幅方向）に移動させることが重要である。該粒子分析装置の制御部１２０は、前記受光装置ＯＰ１４から出力される受光信号を処理し、粒子の分析のための演算を行う。図６に示すような、フローセルにインピーダンス法を実施するための一対の電極が備えられている場合には、該制御部は、該電極によって得られる電気的な測定信号をも処理し、フローサイトメトリーと併せて粒子の分析を行う。
先に、調整すべき粒子分析装置を説明する。
図１の例では、粒子分析装置は、図６に示した粒子分析装置と同様、粒子を含んだ試料液を流すための流路を持ったフローセル１１０を有する。光学装置ＯＰ１０は、光源装置ＯＰ１１、照射側の光学要素（レンズやスリットなど）ＯＰ１２、受光側の光学要素（レンズなど）ＯＰ１３、受光装置ＯＰ１４を有し、フローセル１１０に対して照射光の投光と受光を行い受光信号を出力する。図１の例では、該粒子分析装置の光学装置ＯＰ１０は、光学ベンチＯＰ２０上に配置されており、該光学装置内での光源装置ＯＰ１１から受光装置ＯＰ１４までの光軸ａ２０の調整は完了している。また、図１の例では、光学装置ＯＰ１０は光学ベンチＯＰ２０を介してベース板（図示せず）に固定されており、フローセル１１０は移動機構（位置合わせ機構）上に配置されており、該フローセルを移動させることによって、該フローセルの流路の中心軸ａ１０と、光学装置における照射光の光軸ａ２０とが交差するように、または、交差する状態により近づくように、光軸調整が行われる。該フローセルを高精度に移動させる移動機構は、図示を省略しているが、従来公知の機構であってよい。光軸調整の代替的な態様として、フローセルが固定され、光学装置が移動機構上に配置された態様であってもよい。光軸調整では、フローセル１１０（または、光学装置）を図１の紙面に垂直な方向（流路の幅方向）に移動させることが重要である。該粒子分析装置の制御部１２０は、前記受光装置ＯＰ１４から出力される受光信号を処理し、粒子の分析のための演算を行う。図６に示すような、フローセルにインピーダンス法を実施するための一対の電極が備えられている場合には、該制御部は、該電極によって得られる電気的な測定信号をも処理し、フローサイトメトリーと併せて粒子の分析を行う。
照射光の調整をすべき粒子分析装置における制御部１２０は、該装置の各部の動作を制御し、かつ、光学装置から送られてくる受光信号を分析のために処理（演算）し、分析結果を出力するように構成されていることが好ましい。該制御部は、ロジック回路等によって構築されたものであってもよいが、コンピューターが適切である。
〔本発明のモニター装置の構成〕
図１に示すように、当該モニター装置は、モニター用制御部１０を有する。表示装置２０は、外付けの別個の装置であってもよいし、当該モニター装置に付帯する表示部であってもよい。モニター用制御部１０は、データ処理部１１と指示値出力部１２とを有する。図１の例では、データ処理部１１は、粒子分析装置の制御部１２０から受光信号等の検出信号を受け入れている。該データ処理部１１は、第１のデータ処理部１１ａと、第２のデータ処理部１１ｂとを有する。
第１のデータ処理部１１ａは、粒子分析装置１００から得られる受光信号の強度を示す第１の指示値を生成する。第１の指示値は、粒子分析装置１００におけるフローセル１１０の流路の中心軸ａ１０と、光学装置ＯＰ１０における照射光の光軸ａ２０との相対位置に応じて変化する指示値である。例えば、第１の指示値を粒子の吸光度とする場合、光軸調整が進むにつれて、照射光は、粒子によってより大きく遮られるので、吸光度もより大きくなり、個々の粒子に固有の値へと近づく。よって、このような受光信号の強度を示す第１の指示値は、粒子分析装置の光軸調整のためのモニター用として利用可能である。
一方、第２のデータ処理部１１ｂもまた、粒子分析装置１００から得られる受光信号の強度を示す第２の指示値を生成する。ただし、第２の指示値は、第１の指示値とは異なる指示値であって、粒子分析装置１００における受光信号のゲイン調整に応じて好ましく変化する指示値である。例えば、粒子分析装置における照射光の調整では、標準粒子を含んだフローサイトメトリー用の標準液が用いられる。第２の指示値を、粒子の大きさの度数分布の範囲をよく反映する指示値（例えば、度数分布のピーク付近における受光信号の強度）とすれば、ゲイン調整が進むにつれて、該指示値は、該標準液を用いて予め調べておいた既知の目標値へと近づく。よって、このような受光信号の強度を示す第２の指示値は、粒子分析装置のゲイン調整のためのモニター用として利用可能である。
指示値出力部１２は、第１のデータ処理部１１ａで生成された第１の指示値と、第２のデータ処理部１１ｂで生成された第２の指示値を、表示装置２０に出力する。図１の例では、第１、第２の指示値は、表示装置２０の表示画面２１に表示される。
以上の構成を有することにより、ユーザー（当該モニター装置を用いて粒子分析装置を調整する者）は、第１、第２の指示値を表示装置を通じて確認しながら、粒子分析装置の光軸調整とゲイン調整を行うことができる。
図１に示すように、当該モニター装置は、モニター用制御部１０を有する。表示装置２０は、外付けの別個の装置であってもよいし、当該モニター装置に付帯する表示部であってもよい。モニター用制御部１０は、データ処理部１１と指示値出力部１２とを有する。図１の例では、データ処理部１１は、粒子分析装置の制御部１２０から受光信号等の検出信号を受け入れている。該データ処理部１１は、第１のデータ処理部１１ａと、第２のデータ処理部１１ｂとを有する。
第１のデータ処理部１１ａは、粒子分析装置１００から得られる受光信号の強度を示す第１の指示値を生成する。第１の指示値は、粒子分析装置１００におけるフローセル１１０の流路の中心軸ａ１０と、光学装置ＯＰ１０における照射光の光軸ａ２０との相対位置に応じて変化する指示値である。例えば、第１の指示値を粒子の吸光度とする場合、光軸調整が進むにつれて、照射光は、粒子によってより大きく遮られるので、吸光度もより大きくなり、個々の粒子に固有の値へと近づく。よって、このような受光信号の強度を示す第１の指示値は、粒子分析装置の光軸調整のためのモニター用として利用可能である。
一方、第２のデータ処理部１１ｂもまた、粒子分析装置１００から得られる受光信号の強度を示す第２の指示値を生成する。ただし、第２の指示値は、第１の指示値とは異なる指示値であって、粒子分析装置１００における受光信号のゲイン調整に応じて好ましく変化する指示値である。例えば、粒子分析装置における照射光の調整では、標準粒子を含んだフローサイトメトリー用の標準液が用いられる。第２の指示値を、粒子の大きさの度数分布の範囲をよく反映する指示値（例えば、度数分布のピーク付近における受光信号の強度）とすれば、ゲイン調整が進むにつれて、該指示値は、該標準液を用いて予め調べておいた既知の目標値へと近づく。よって、このような受光信号の強度を示す第２の指示値は、粒子分析装置のゲイン調整のためのモニター用として利用可能である。
指示値出力部１２は、第１のデータ処理部１１ａで生成された第１の指示値と、第２のデータ処理部１１ｂで生成された第２の指示値を、表示装置２０に出力する。図１の例では、第１、第２の指示値は、表示装置２０の表示画面２１に表示される。
以上の構成を有することにより、ユーザー（当該モニター装置を用いて粒子分析装置を調整する者）は、第１、第２の指示値を表示装置を通じて確認しながら、粒子分析装置の光軸調整とゲイン調整を行うことができる。
〔調整手順の例〕
当該モニター装置を用いて粒子分析装置の光照射を調整する際の調整手順としては、次の手順が例示される。
（ｉ）粒子分析装置のフローセルに、標準粒子を含んだフローサイトメトリー用の標準液を流し、該粒子分析装置において標準粒子の測定を行う。その時に該粒子分析装置の受光装置または制御部から出力される受光信号を、当該モニター装置のデータ処理部１１が受け取り、第１のデータ処理部１１ａと第２のデータ処理部１１ｂが処理し、第１、第２の指示値を生成する。生成された第１、第２の指示値は、指示値出力部１２を通じて表示装置２０に出力される。図１の例では、表示装置２０は、表示画面２１を有する液晶ディスプレイなどの装置であって、第１、第２の指示値は、該表示画面２１に表示される。
（ｉｉ）前記（ｉ）における標準粒子の測定を続けながら、当該モニター装置に表示される第１の指示値が所定の範囲になるように、前記粒子分析装置とフローセルとの相対位置を変更して光軸調整を行う。粒子分析装置の位置合わせ機構によっては、光軸調整は、フローセルの移動であってもよいし、光学装置の移動であってもよい。光軸調整が適切でないと、粒子の大きさに適切に対応した受光信号が得られない。
（ｉｉｉ）前記（ｉ）における標準粒子の測定を続けながら、表示装置に表示される第２の指示値が所定の範囲になるように、ゲイン調整をする。ゲイン調整は、感度調整とも呼ばれ、受光信号が適切な強度となるよう該受光信号を増幅（または減衰）する調整である。具体的なゲイン調整の操作は、粒子分析装置によっても異なるが、例えば、デジタルポテンショメータの制御によってゲイン調整が可能であるよう構成された増幅回路では、粒子分析装置の制御部の操作盤からデジタルポテンショメータの値を変更し、ゲイン調整を行うことができる。また、該制御部に接続された当該モニター装置によって、デジタルポテンショメータの値を変更し、ゲイン調整を行うことができるように、当該モニター装置における制御用のプログラムを構成することも可能である。ゲイン調整が適切でないと、例えば、受光信号の強度の全幅が狭くなり、誤った測定値が出力される場合がある。
上記（ｉｉ）の光軸調整と、上記（ｉｉｉ）のゲイン調整は、後述のとおり、互いに密接に関係する。よって、どちらの調整を先に行ってもよく、また、同時に行ってもよく、また、交互に繰り返し行なってもよいが、先に光軸調整を行って、受光信号の強度を上げておき、次にその受光信号についてゲイン調整を行うことが、調整を効率良く行う点で好ましい順番である。
当該モニター装置を用いて粒子分析装置の光照射を調整する際の調整手順としては、次の手順が例示される。
（ｉ）粒子分析装置のフローセルに、標準粒子を含んだフローサイトメトリー用の標準液を流し、該粒子分析装置において標準粒子の測定を行う。その時に該粒子分析装置の受光装置または制御部から出力される受光信号を、当該モニター装置のデータ処理部１１が受け取り、第１のデータ処理部１１ａと第２のデータ処理部１１ｂが処理し、第１、第２の指示値を生成する。生成された第１、第２の指示値は、指示値出力部１２を通じて表示装置２０に出力される。図１の例では、表示装置２０は、表示画面２１を有する液晶ディスプレイなどの装置であって、第１、第２の指示値は、該表示画面２１に表示される。
（ｉｉ）前記（ｉ）における標準粒子の測定を続けながら、当該モニター装置に表示される第１の指示値が所定の範囲になるように、前記粒子分析装置とフローセルとの相対位置を変更して光軸調整を行う。粒子分析装置の位置合わせ機構によっては、光軸調整は、フローセルの移動であってもよいし、光学装置の移動であってもよい。光軸調整が適切でないと、粒子の大きさに適切に対応した受光信号が得られない。
（ｉｉｉ）前記（ｉ）における標準粒子の測定を続けながら、表示装置に表示される第２の指示値が所定の範囲になるように、ゲイン調整をする。ゲイン調整は、感度調整とも呼ばれ、受光信号が適切な強度となるよう該受光信号を増幅（または減衰）する調整である。具体的なゲイン調整の操作は、粒子分析装置によっても異なるが、例えば、デジタルポテンショメータの制御によってゲイン調整が可能であるよう構成された増幅回路では、粒子分析装置の制御部の操作盤からデジタルポテンショメータの値を変更し、ゲイン調整を行うことができる。また、該制御部に接続された当該モニター装置によって、デジタルポテンショメータの値を変更し、ゲイン調整を行うことができるように、当該モニター装置における制御用のプログラムを構成することも可能である。ゲイン調整が適切でないと、例えば、受光信号の強度の全幅が狭くなり、誤った測定値が出力される場合がある。
上記（ｉｉ）の光軸調整と、上記（ｉｉｉ）のゲイン調整は、後述のとおり、互いに密接に関係する。よって、どちらの調整を先に行ってもよく、また、同時に行ってもよく、また、交互に繰り返し行なってもよいが、先に光軸調整を行って、受光信号の強度を上げておき、次にその受光信号についてゲイン調整を行うことが、調整を効率良く行う点で好ましい順番である。
〔調整時の粒子分析装置に使用される試料液〕
粒子分析装置の照射光を調整する際には、標準粒子を含んだフローサイトメトリー用の標準液をフローセルに流しながら調整を行うことが好ましい。そのような標準液は、従来公知のものを用いてよく、調整すべき粒子分析装置が分析の対象とする粒子の平均的な粒子径に応じたものを選択することができる。例えば、粒子分析装置が、血液細胞の計数や分類などの分析を行う血液分析装置である場合、標準液としては、標準粒子（平均粒子径；１μｍ〜２０μｍ程度、材料；ポリスチレンやシリカなど）が、分散媒（水など）に分散したものが例示される。
粒子分析装置の照射光を調整する際には、標準粒子を含んだフローサイトメトリー用の標準液をフローセルに流しながら調整を行うことが好ましい。そのような標準液は、従来公知のものを用いてよく、調整すべき粒子分析装置が分析の対象とする粒子の平均的な粒子径に応じたものを選択することができる。例えば、粒子分析装置が、血液細胞の計数や分類などの分析を行う血液分析装置である場合、標準液としては、標準粒子（平均粒子径；１μｍ〜２０μｍ程度、材料；ポリスチレンやシリカなど）が、分散媒（水など）に分散したものが例示される。
〔本発明のモニター装置におけるモニター用制御部〕
モニター用制御部は、粒子分析装置の制御部から送られてくる受光信号を処理し、第１の指示値と第２の指示値として、表示装置に出力し得るように構成されていることが好ましい。該制御部は、ロジック回路等によって構築されたものであってもよいが、コンピューターが適切である。モニター用制御部は、粒子分析装置の制御部にデータ通信可能に接続され得ることが好ましい。
また、後述のように、当該モニター装置が粒子分析装置の一部である場合には、該粒子分析装置の制御部と、当該モニター装置のモニター用制御部とは、同じ１つの筐体内、同じ１つの制御回路内、または、同じ１つの制御プログラム内に含まれていてもよく、また、同じ装置であっても、互いに別個の制御部（別個の筐体に分かれた制御部、同じ１つの筐体内の別系統の制御回路、制御モード毎に別個に実行される別の制御プログラムなど）として構成されていてもよい。
モニター用制御部は、粒子分析装置の制御部から送られてくる受光信号を処理し、第１の指示値と第２の指示値として、表示装置に出力し得るように構成されていることが好ましい。該制御部は、ロジック回路等によって構築されたものであってもよいが、コンピューターが適切である。モニター用制御部は、粒子分析装置の制御部にデータ通信可能に接続され得ることが好ましい。
また、後述のように、当該モニター装置が粒子分析装置の一部である場合には、該粒子分析装置の制御部と、当該モニター装置のモニター用制御部とは、同じ１つの筐体内、同じ１つの制御回路内、または、同じ１つの制御プログラム内に含まれていてもよく、また、同じ装置であっても、互いに別個の制御部（別個の筐体に分かれた制御部、同じ１つの筐体内の別系統の制御回路、制御モード毎に別個に実行される別の制御プログラムなど）として構成されていてもよい。
〔第１の指示値〕
上記したように、第１の指示値は、粒子分析装置から得られる受光信号の強度を示す指示値であり、光軸調整のためのモニター用として利用可能な指示値である。好ましい第１の指示値としては、フローセルの光照射部を粒子（標準粒子）が通過したときの受光信号である粒子通過信号の強度が挙げられる。粒子通過信号の強度に基づいた吸光度や光透過度を示す指示値であれば、光軸調整に応じて変化するので、光軸調整のためのモニター用として好ましく利用できる。とりわけ、粒子通過信号の強度の最大値は、数値が大きいので、ユーザーにとって分かり易く、光軸調整のために好ましく利用可能な指示値である。
粒子通過信号の強度や吸光度や光透過度を示す指示値は、その値の最小値（ゼロであってもよい）から最大値までの全幅を２５６段階（０〜２５５）や１０２４段階（０〜１０２３）などに区分することが好ましい。これにより、制御部（コンピューター）によって度数分布を求める処理を行う際のデータの取り扱いが容易になる。前記のように区分された各区間は、チャンネルとも呼ばれ、各区間の名称として、０チャンネル〜２５５チャンネル（または、１チャンネル〜２５６チャンネル）が用いられる。以下の説明では、粒子通過信号の強度や光透過度（または吸光度）を示す指示値を２５６段階に区分し、各区間の名称として０チャンネル〜２５５チャンネルを用いる。
粒子分析装置を調整するユーザーにとって、第１の指示値のより好ましい態様は、第２の指示値のより好ましい態様と共に後述する。
上記したように、第１の指示値は、粒子分析装置から得られる受光信号の強度を示す指示値であり、光軸調整のためのモニター用として利用可能な指示値である。好ましい第１の指示値としては、フローセルの光照射部を粒子（標準粒子）が通過したときの受光信号である粒子通過信号の強度が挙げられる。粒子通過信号の強度に基づいた吸光度や光透過度を示す指示値であれば、光軸調整に応じて変化するので、光軸調整のためのモニター用として好ましく利用できる。とりわけ、粒子通過信号の強度の最大値は、数値が大きいので、ユーザーにとって分かり易く、光軸調整のために好ましく利用可能な指示値である。
粒子通過信号の強度や吸光度や光透過度を示す指示値は、その値の最小値（ゼロであってもよい）から最大値までの全幅を２５６段階（０〜２５５）や１０２４段階（０〜１０２３）などに区分することが好ましい。これにより、制御部（コンピューター）によって度数分布を求める処理を行う際のデータの取り扱いが容易になる。前記のように区分された各区間は、チャンネルとも呼ばれ、各区間の名称として、０チャンネル〜２５５チャンネル（または、１チャンネル〜２５６チャンネル）が用いられる。以下の説明では、粒子通過信号の強度や光透過度（または吸光度）を示す指示値を２５６段階に区分し、各区間の名称として０チャンネル〜２５５チャンネルを用いる。
粒子分析装置を調整するユーザーにとって、第１の指示値のより好ましい態様は、第２の指示値のより好ましい態様と共に後述する。
〔第２の指示値〕
上記したように、第２の指示値もまた、粒子分析装置から得られる受光信号の強度を示す指示値であるが、第１の指示値とは異なる指示値であって、粒子分析装置における受光信号のゲイン調整に応じて好ましく変化し、該受光信号のゲイン調整のためのモニター用として利用可能な指示値である。好ましい第２の指示値としては、例えば、所定時間内にフローセルの流路を流れる粒子（標準粒子）の大きさの度数分布（即ち、粒子通過信号の強度から生成された吸光度や光透過度の度数分布）において最も高い度数を持ったチャンネル（以下、ピークチャンネルとも呼ぶ）が挙げられる。標準粒子の度数分布のピークチャンネルは既知であるから、調整に標準粒子を用い、その該ピークチャンネルを知ることで、ゲイン調整が適切であるかどうかを知ることができる。また、標準粒子の大きさにはばらつきがあるので、粒子通過信号の強度の最大値も前記ばらつきに起因して変動する。これに対して、各粒子の粒子通過信号の度数分布のピークチャンネルは、サンプル数が十分であれば、粒子通過信号の強度の最大値（第１の指示値）に比べると変動が小さく、粒子の大きさの度数分布の位置をよく反映した指示値となり得る。よって、該ピークチャンネルは、粒子分析装置における前記受光信号のゲイン調整に応じて好ましく変化する指示値として、ゲイン調整のためのモニター用として好ましく利用できる。尚、ピークチャンネルの替りに、度数分布において、２番目や３番目に高い度数を持ったチャンネルを用いることもできる。
粒子分析装置を調整するユーザーにとって、第２の指示値のより好ましい態様は、第１の指示値のより好ましい態様と共に後述する。
上記したように、第２の指示値もまた、粒子分析装置から得られる受光信号の強度を示す指示値であるが、第１の指示値とは異なる指示値であって、粒子分析装置における受光信号のゲイン調整に応じて好ましく変化し、該受光信号のゲイン調整のためのモニター用として利用可能な指示値である。好ましい第２の指示値としては、例えば、所定時間内にフローセルの流路を流れる粒子（標準粒子）の大きさの度数分布（即ち、粒子通過信号の強度から生成された吸光度や光透過度の度数分布）において最も高い度数を持ったチャンネル（以下、ピークチャンネルとも呼ぶ）が挙げられる。標準粒子の度数分布のピークチャンネルは既知であるから、調整に標準粒子を用い、その該ピークチャンネルを知ることで、ゲイン調整が適切であるかどうかを知ることができる。また、標準粒子の大きさにはばらつきがあるので、粒子通過信号の強度の最大値も前記ばらつきに起因して変動する。これに対して、各粒子の粒子通過信号の度数分布のピークチャンネルは、サンプル数が十分であれば、粒子通過信号の強度の最大値（第１の指示値）に比べると変動が小さく、粒子の大きさの度数分布の位置をよく反映した指示値となり得る。よって、該ピークチャンネルは、粒子分析装置における前記受光信号のゲイン調整に応じて好ましく変化する指示値として、ゲイン調整のためのモニター用として好ましく利用できる。尚、ピークチャンネルの替りに、度数分布において、２番目や３番目に高い度数を持ったチャンネルを用いることもできる。
粒子分析装置を調整するユーザーにとって、第２の指示値のより好ましい態様は、第１の指示値のより好ましい態様と共に後述する。
上記したように、粒子分析装置を調整する場合の、第１の指示値および第２の指示値の目標値は、例えば、予め従来どおりの調整手法にて粒子分析装置の光軸調整とゲイン調整を行い、該粒子分析装置に標準液を流し、そのときの第１の指示値および第２の指示値を取得しておけば、それら第１の指示値および第２の指示値を、該標準液についての調整時の目標値として利用することが可能である。
〔第１の指示値、第２の指示値の好ましい態様〕
第１、第２の指示値の好ましい態様では、図２に示すように、フローセルに粒子（標準粒子）を流しながら、そのときの経過する時間ｔを所定時間長Ｔ１で区切って、時間区間ｔ１、ｔ２、ｔ３、．．．．ｔｎ（ｎは自然数）とし、各時間区間ごとに生成された第１、第２の指示値を、それぞれ時間の経過に沿って表示装置の表示画面に表示する。ここで、前記ｎの値は特に限定はされず、ユーザーが調整を完了して粒子分析装置の作動を停止するまで（または、当該モニター装置の作動を停止するまで）、該ｎの値は自動的かつ継続的に増大してよい。また、該ｎの値として所定の値が設定され、ユーザーが調整を完了して粒子分析装置の作動を停止するまで（または、当該モニター装置の作動を停止するまで）、ｔ１〜ｔｎが繰り返されてもよい。
第１、第２の指示値の好ましい態様では、図２に示すように、フローセルに粒子（標準粒子）を流しながら、そのときの経過する時間ｔを所定時間長Ｔ１で区切って、時間区間ｔ１、ｔ２、ｔ３、．．．．ｔｎ（ｎは自然数）とし、各時間区間ごとに生成された第１、第２の指示値を、それぞれ時間の経過に沿って表示装置の表示画面に表示する。ここで、前記ｎの値は特に限定はされず、ユーザーが調整を完了して粒子分析装置の作動を停止するまで（または、当該モニター装置の作動を停止するまで）、該ｎの値は自動的かつ継続的に増大してよい。また、該ｎの値として所定の値が設定され、ユーザーが調整を完了して粒子分析装置の作動を停止するまで（または、当該モニター装置の作動を停止するまで）、ｔ１〜ｔｎが繰り返されてもよい。
時間長Ｔ１は、特に限定はされないが、人間が各時間区間ごとの第１、第２の指示値をモニターしながら光軸等を調整する操作の速度を考慮すると、３００ミリ秒〜５００ミリ秒程度が好ましい。実際に製作したモニター装置の例では、時間長Ｔ１＝４００ミリ秒程度において、良好な調整が可能となっている。時間長Ｔ１が３００ミリ秒を下回ると、粒子分析装置によっては、時間区間の数が多くなり過ぎて、調整期間全体にわたって指示値を示すグラフを表示することが困難になり、５００ミリ秒を超えると、応答性が悪く調整が容易ではなくなる。
所定時間長Ｔ１が上記の範囲である場合、通常の粒子分析装置では、時間区間ｔ１、ｔ２、ｔ３、．．．．ｔｎにおけるｎの値が６０〜７０程度となるまでに、ユーザーは光軸とゲインの調整を完了し得る。
所定時間長Ｔ１が上記の範囲である場合、通常の粒子分析装置では、時間区間ｔ１、ｔ２、ｔ３、．．．．ｔｎにおけるｎの値が６０〜７０程度となるまでに、ユーザーは光軸とゲインの調整を完了し得る。
各時間区間（ｔ１、ｔ２、．．．．）ごとにフローセルを流れる粒子の数（粒子通過信号の数）は、フローセルにおける流速と、試料液（標準液）中の粒子（標準粒子）の密度によっても異なるが、例えば、１つの時間区間当たり５０〜１００個程度が挙げられる。
〔各時間区間ごとの第１の指示値の好ましい態様〕
各時間区間（ｔ１、ｔ２、．．．．）ごとの第１の指示値の好ましい態様としては、各時間区間においてフローセルを通過した粒子に対応する粒子通過信号の強度のうちの、各時間区間内での最大値またはそれに対応する値が挙げられる。以下、粒子通過信号の強度のうちの最大値またはそれに対応する値を「最大チャンネル」と呼ぶ。
「最大チャンネル」は、ゲイン調整によっても変動する。
ゲイン調整が適切に行われ、かつ、粒子通過信号の強度や光透過度（または吸光度）を示す指示値が０チャンネル〜２５５チャンネルに区分され、かつ、標準粒子を含んだフローサイトメトリー用の標準液を用いた場合、調整後の最大チャンネルは、例えば、１５０〜１７０程度となる。ユーザーは、表示装置に表示される第２の指示値をモニターして、ゲイン調整を行いながら、第１の指示値が前記の範囲内となるように、光軸調整を行うことができる。
各時間区間（ｔ１、ｔ２、．．．．）ごとの第１の指示値の好ましい態様としては、各時間区間においてフローセルを通過した粒子に対応する粒子通過信号の強度のうちの、各時間区間内での最大値またはそれに対応する値が挙げられる。以下、粒子通過信号の強度のうちの最大値またはそれに対応する値を「最大チャンネル」と呼ぶ。
「最大チャンネル」は、ゲイン調整によっても変動する。
ゲイン調整が適切に行われ、かつ、粒子通過信号の強度や光透過度（または吸光度）を示す指示値が０チャンネル〜２５５チャンネルに区分され、かつ、標準粒子を含んだフローサイトメトリー用の標準液を用いた場合、調整後の最大チャンネルは、例えば、１５０〜１７０程度となる。ユーザーは、表示装置に表示される第２の指示値をモニターして、ゲイン調整を行いながら、第１の指示値が前記の範囲内となるように、光軸調整を行うことができる。
〔各時間区間ごとの第２の指示値の好ましい態様〕
各時間区間ごとの第２の指示値の好ましい態様としては、上記した第１の指示値と同じ時間区間（ｔ１、ｔ２、ｔ３、．．．．）においてフローセルを通過した粒子の大きさの度数分布のうち、各時間区間内での最も高い度数を持った大きさまたはそれに対応する値が挙げられる。粒子が大きいということは、吸光度が高いことを意味する。
各時間区間ごとのピークチャンネルをモニターしてゲイン調整を行う場合、光軸が適切に調整されていることも重要な条件となる。適切な光軸調整のもとで得られる適切な度数分布におけるピークチャンネルが、ゲイン調整のための好ましい指示値となる。
粒子通過信号の強度や吸光度を示す指示値が０チャンネル〜２５５チャンネルに区分され、かつ、標準液を用いた場合、調整後のピークチャンネルは、例えば、１３０〜１５０程度となる。ユーザーは、表示装置に表示される第１の指示値をモニターして光軸調整を行いながら、第２の指示値が前記の範囲内となるように、ゲイン調整を行うことができる。
各時間区間ごとの第２の指示値の好ましい態様としては、上記した第１の指示値と同じ時間区間（ｔ１、ｔ２、ｔ３、．．．．）においてフローセルを通過した粒子の大きさの度数分布のうち、各時間区間内での最も高い度数を持った大きさまたはそれに対応する値が挙げられる。粒子が大きいということは、吸光度が高いことを意味する。
各時間区間ごとのピークチャンネルをモニターしてゲイン調整を行う場合、光軸が適切に調整されていることも重要な条件となる。適切な光軸調整のもとで得られる適切な度数分布におけるピークチャンネルが、ゲイン調整のための好ましい指示値となる。
粒子通過信号の強度や吸光度を示す指示値が０チャンネル〜２５５チャンネルに区分され、かつ、標準液を用いた場合、調整後のピークチャンネルは、例えば、１３０〜１５０程度となる。ユーザーは、表示装置に表示される第１の指示値をモニターして光軸調整を行いながら、第２の指示値が前記の範囲内となるように、ゲイン調整を行うことができる。
〔第１、第２の指示値の好ましい表示態様〕
本発明の好ましい態様では、前記した各時間区間ごとの第１、第２の指示値は、指示値出力部を通じて、表示装置の表示画面に、１つのグラフおよび１つの表のいずれか一方または両方の形態にて表示される。該第１、第２の指示値は、該表示画面の表示内容を切り替えて、別々に表示されてもよいし、１つの画面内に同時に表示されてもよい。
図３、図４は、第１、第２の指示値を１つの画面内の１つのグラフ上および１つの表中に同時に表示した場合の表示画面を例示する図である。図３は、光軸とゲインを調整する前の状態を示しており、図４は、光軸とゲインを調整した後の状態を示している。グラフの横軸および表の左端の数字は、時間区間（ｔ１、ｔ２、ｔ３、．．．．）に付与された番号を示している。グラフの横軸は、吸光度を示すチャンネルの数値を表している。また、これらの図に例示するグラフでは、第１の指示値（最大チャンネル）は点線で示されており、第２の指示値（ピークチャンネル）は実線で示されており、これにより２つの折れ線の識別が可能になっている（詳細は後述する）。また、図３、図４の例では、表示画面の上側にグラフが表示され、表示画面の下側に表が表示されている。グラフに示された２つの折れ線では、新たな指示値がグラフの右端から現れ、２つの折れ線が時間の経過と共に全体的にグラフの左方向に移動して、古い指示値から順に画面から消え去ってもよい。同様に、表では、第１の指示値（最大チャンネルを「Max ch」と表記している）と第２の指示値（ピークチャンネルを「Peak ch」と表記している）は、新たな指示値が表の上端に現れ、過去の指示値は順に下方に移動し、古い指示値から順に画面から消え去ってもよい。古い指示値は、スクロールによって、画面内に表示させることも可能である。
また、時間区間の最大値を予め設定しておき、時間区間がその最大値を超えると、それまでの表示が削除され、以降の第１、第２の指示値が時間区間１から新たなグラフおよび表に表示される構成としてもよい。
本発明の好ましい態様では、前記した各時間区間ごとの第１、第２の指示値は、指示値出力部を通じて、表示装置の表示画面に、１つのグラフおよび１つの表のいずれか一方または両方の形態にて表示される。該第１、第２の指示値は、該表示画面の表示内容を切り替えて、別々に表示されてもよいし、１つの画面内に同時に表示されてもよい。
図３、図４は、第１、第２の指示値を１つの画面内の１つのグラフ上および１つの表中に同時に表示した場合の表示画面を例示する図である。図３は、光軸とゲインを調整する前の状態を示しており、図４は、光軸とゲインを調整した後の状態を示している。グラフの横軸および表の左端の数字は、時間区間（ｔ１、ｔ２、ｔ３、．．．．）に付与された番号を示している。グラフの横軸は、吸光度を示すチャンネルの数値を表している。また、これらの図に例示するグラフでは、第１の指示値（最大チャンネル）は点線で示されており、第２の指示値（ピークチャンネル）は実線で示されており、これにより２つの折れ線の識別が可能になっている（詳細は後述する）。また、図３、図４の例では、表示画面の上側にグラフが表示され、表示画面の下側に表が表示されている。グラフに示された２つの折れ線では、新たな指示値がグラフの右端から現れ、２つの折れ線が時間の経過と共に全体的にグラフの左方向に移動して、古い指示値から順に画面から消え去ってもよい。同様に、表では、第１の指示値（最大チャンネルを「Max ch」と表記している）と第２の指示値（ピークチャンネルを「Peak ch」と表記している）は、新たな指示値が表の上端に現れ、過去の指示値は順に下方に移動し、古い指示値から順に画面から消え去ってもよい。古い指示値は、スクロールによって、画面内に表示させることも可能である。
また、時間区間の最大値を予め設定しておき、時間区間がその最大値を超えると、それまでの表示が削除され、以降の第１、第２の指示値が時間区間１から新たなグラフおよび表に表示される構成としてもよい。
第１、第２の指示値は、グラフおよび表のいずれか一方として表示してもよいが、グラフと表として同時に表示することで、表で数値を確認しながら、グラフで調整の度合いを視覚的に理解することができるので、ユーザーは効率良く調整することができる。
グラフ中に示される第１、第２の指示値は、互いに識別可能であるように表示することが好ましく、例えば、図３、図４のような点線（または破線）と実線の他、細い線と太い線、互いに異なる色の線（例えば、第１の指示値を赤い線で表し、第２の指示値を青い線で表すなど）、互いに異なる模様のドット、または、これらの組合せによって表示することが例示される。
グラフ中に示される第１、第２の指示値は、互いに識別可能であるように表示することが好ましく、例えば、図３、図４のような点線（または破線）と実線の他、細い線と太い線、互いに異なる色の線（例えば、第１の指示値を赤い線で表し、第２の指示値を青い線で表すなど）、互いに異なる模様のドット、または、これらの組合せによって表示することが例示される。
図３、図４の例では、各時間区間における第１の指示値（Max ch；最大チャンネル）と。第２の指示値（Peak ch；ピークチャンネル）の他に、確認用として、各時間区間における第１の指示値に対応する実際の受光信号の値（電圧値）として、最大の吸光度の電圧値（瞬時値）をも、「LMNE(V)」という項目の欄に示している。
また、図３、図４の例では、図６に示した集光型フローインピーダンス法を実施する粒子分析装置において、アパーチャ１１２（インピーダンス測定の位置）から光照射の位置までの粒子の移動時間をも、確認用として「Transfer time」という項目の欄に示している。
これら第１、第２の指示値以外の指示値や測定値を並列的に表示することで、照射光に関する調整を行いながらも、フローセルにおける試料液（標準液）の流速を確認することが可能になる。
また、図３、図４の例では、図６に示した集光型フローインピーダンス法を実施する粒子分析装置において、アパーチャ１１２（インピーダンス測定の位置）から光照射の位置までの粒子の移動時間をも、確認用として「Transfer time」という項目の欄に示している。
これら第１、第２の指示値以外の指示値や測定値を並列的に表示することで、照射光に関する調整を行いながらも、フローセルにおける試料液（標準液）の流速を確認することが可能になる。
図５は、光軸調整とゲイン調整とが適切に行われた粒子分析装置による粒子分析の一例を示すスキャッターグラムである。同図の例における粒子分析装置は、図６に例示した集光型フローインピーダンス法を実施する粒子分析装置である。図５のようなスキャッターグラムを得るためには、先ず、全血に溶血、希釈、染色の処理を施した試料液を用い、個々の血球ごとに、フローサイトメトリーの受光信号から吸光度を算出し、電気抵抗法による測定出力から容積を算出する。次に、個々の血球ごとの算出値（容積、吸光度）を、Ｘ軸（容積に対応する横軸）とＹ軸（吸光度に対応する縦軸）とからなるＸ−Ｙ平面上にプロットする。図５のスキャッターグラムは、ＬＭＮＥマトリクスとも呼ばれており、４種類の白血球、即ち、リンパ球（Ｌ：Lymphocyte）、単球（Ｍ：Monocyte）、好中球（Ｎ：Neutrophil）、好酸球（Ｅ：Eosinophil）の分布の様子を好ましく示すものである。
光軸調整とゲイン調整とが適切に行われた粒子分析装置によれば、表示領域全体をプロットすべき領域として有効に利用した、見る者にとって分かり易い、図５のようなスキャッターグラムが得られる。
光軸調整とゲイン調整とが適切に行われた粒子分析装置によれば、表示領域全体をプロットすべき領域として有効に利用した、見る者にとって分かり易い、図５のようなスキャッターグラムが得られる。
粒子分析装置が分析すべき検体は、特に限定はされず、セラミック製の粒子や樹脂製のの粒子を含んだ液体などであってもよいが、分析すべき粒子として血液細胞（赤血球や白血球など）を含んだ血液であれば、本発明の有用性が顕著になる。
図１の実施例では、本発明のモニター装置を、調整すべき粒子分析装置とは別個の装置として説明したが、そのような態様だけでなく、当該モニター装置は、粒子分析装置の一部として該粒子分析装置に付帯する装置であってもよい。
表示装置は、本発明のモニター装置と一体的であってもよいし、該モニター装置に接続された別個の表示装置（液晶ディスプレイなど）であってもよい。また、表示装置は、プリンターや、メーター（指示値を、指針やランプで表示するインジケーター）であってもよい。
当該モニター装置と調整すべき粒子分析装置とが、１つの粒子分析装置として構成される場合、当該モニター装置のモニター用制御部と、粒子分析装置の制御部とは、１つの制御部として構成されていてもよいし、別個に分かれていてもよい。当該モニター装置のモニター用制御部と、粒子分析装置の制御部とが、別個に分かれている場合、これらの制御部を互いに接続し、受光信号や動作命令などを伝達するためのインターフェイスは、適宜設けられてよい。
当該モニター装置のモニター用制御部の第１、第２のデータ処理部は、粒子分析装置の制御部において度数分布を示すように処理されたデータを利用して、第１、第２の指示値を生成するように構成されてもよい。また、第１、第２のデータ処理部は、粒子分析装置の制御部による処理を利用せず、受光信号（粒子通過信号）を直接的に処理し、第１、第２の指示値を生成し得るように構成されてもよい。
表示装置は、本発明のモニター装置と一体的であってもよいし、該モニター装置に接続された別個の表示装置（液晶ディスプレイなど）であってもよい。また、表示装置は、プリンターや、メーター（指示値を、指針やランプで表示するインジケーター）であってもよい。
当該モニター装置と調整すべき粒子分析装置とが、１つの粒子分析装置として構成される場合、当該モニター装置のモニター用制御部と、粒子分析装置の制御部とは、１つの制御部として構成されていてもよいし、別個に分かれていてもよい。当該モニター装置のモニター用制御部と、粒子分析装置の制御部とが、別個に分かれている場合、これらの制御部を互いに接続し、受光信号や動作命令などを伝達するためのインターフェイスは、適宜設けられてよい。
当該モニター装置のモニター用制御部の第１、第２のデータ処理部は、粒子分析装置の制御部において度数分布を示すように処理されたデータを利用して、第１、第２の指示値を生成するように構成されてもよい。また、第１、第２のデータ処理部は、粒子分析装置の制御部による処理を利用せず、受光信号（粒子通過信号）を直接的に処理し、第１、第２の指示値を生成し得るように構成されてもよい。
本発明のモニター装置によって、粒子分析装置における光照射の調整の際に、１つの画面を見ながら光軸調整とゲイン調整とを同時に行うことができるようになり、照射光の調整作業の効率が上がり、該光照射の調整の手間をより少なくすることが可能になった。
１０ モニター用制御部
１１ データ処理部
１１ａ 第１のデータ処理部
１１ｂ 第２のデータ処理部
１２ 指示値出力部
２０ 表示装置
２１ 表示画面
１１ データ処理部
１１ａ 第１のデータ処理部
１１ｂ 第２のデータ処理部
１２ 指示値出力部
２０ 表示装置
２１ 表示画面
Claims (5)
- 粒子分析装置における光照射を調整するためのモニター装置であって、
前記粒子分析装置は、粒子を含んだ試料液を流すためのフローセルと、前記フローセルに対し照射光の投光と受光を行い受光信号を出力する光学装置と、前記受光信号を処理し粒子の分析を行う制御部とを有するものであり、
当該モニター装置は、モニター用制御部を有し、
前記モニター用制御部は、
前記粒子分析装置におけるフローセルと照射光の光軸との相対位置に応じて変化する指示値として、該粒子分析装置から得られる前記受光信号の強度を示す第１の指示値を生成する、第１のデータ処理部と、
前記粒子分析装置における前記受光信号のゲイン調整に応じて変化する指示値として、前記第１の指示値とは異なる、前記受光信号の強度を示す第２の指示値を生成する、第２のデータ処理部と、
第１の指示値と第２の指示値を表示装置に出力する、指示値出力部と
を有し、
第１の指示値が、経過する時間ｔを所定時間長Ｔ１で区切ってなる時間区間ｔ１、ｔ２、ｔ３、．．．．ｔｎ（ｎは自然数）における各時間区間ごとに定められる値であって、かつ、各時間区間においてフローセルを通過した粒子に対応する粒子通過信号の強度のうちの、各時間区間内での最大値またはそれに対応する値であり、
第２の指示値が、前記と同じ時間区間ｔ１、ｔ２、ｔ３、．．．．ｔｎ（ｎは自然数）における各時間区間ごとに定められる値であって、かつ、各時間区間においてフローセルを通過した粒子の大きさの度数分布のうちの、各時間区間内での最も高い度数を持った大きさまたはそれに対応する値である、
前記モニター装置。 - 表示装置が表示画面を持っており、
指示値出力部が、前記各時間区間ごとの第１の指示値と第２の指示値を、前記表示装置の表示画面上の同じ１つのグラフにプロットして表示させる、請求項１に記載のモニター装置。 - 当該モニター装置のデータ処理部が第１の指示値および第２の指示値を生成する際に、前記粒子分析装置のフローセルに流される試料液が、標準粒子を含んだフローサイトメトリー用の標準液である、請求項１または２に記載のモニター装置。
- 前記表示装置が、当該モニター装置に付帯する装置である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のモニター装置。
- 当該モニター装置が、前記粒子分析装置の一部として、該粒子分析装置に付帯する装置である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のモニター装置。
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