JP6942839B2 - 3次元の物体を付加製造する方法 - Google Patents
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Description
2 装置
3 チャンバ
4 流れデバイス
5 バルブ
6 測定ユニット
7 精製ユニット
8 中央制御ユニット
9 環境
10 別のチャンバ
11 貯蔵ユニット
22 収集ユニット
Claims (11)
- エネルギービームによって固化することができる粉末状の造形材料の層を連続して層ごとに選択的に照射及び固化することによって3次元の物体を付加製造する方法であって、
不活性ガスを含有するプロセスガスに、3次元の物体を付加製造することに関連した少なくとも1つの造形装置(2)の第1チャンバ(3、10)を通過させ、前記プロセスガスは、流体の特定の体積を前記第1チャンバ(3、10)から移動させ、
測定ユニット(6)によって、前記第1チャンバ(3、10)とバルブ(5)との間における前記第1チャンバ(3、10)から移動させられた精製前の前記流体中の前記プロセスガスの含有比を測定し、
測定された前記含有比と1つ以上の閾値との比較に基づいて、前記バルブ(5)を介して、
前記第1チャンバ(3、10)から移動させられた前記流体の少なくとも一部を1つまたは複数の貯蔵ユニット(11)の少なくとも1つへ流れ込ませ、且つ/又は
前記第1チャンバ(3、10)から移動させられた前記流体の少なくとも一部を少なくとも1つの造形装置の前記第1チャンバ(3、10)へ送り返す、及び/若しくは3次元の物体を付加製造することに関連した第2チャンバ(3、10)へ送り込む、且つ/又は、
前記第1チャンバ(3、10)から移動させられた前記流体の少なくとも一部に含有されるプロセスガスの比を増大させるように精製する精製ユニット(7)へ送り込む、
ことを含む、
方法。 - 前記第1チャンバ(3、10)は、粉末状の造形材料(3)の層を連続して層ごとに選択的に照射及び固化することによって3次元の物体を付加製造するように構成されている、
請求項1に記載の方法。 - 前記第2チャンバ(3、10)は、付加製造プロセスの少なくとも1つの前処理ステップを実行するように構成されている、
又は、
前記第2チャンバ(3、10)は、付加製造プロセスの少なくとも1つの後処理ステップを実行するように構成されている、
請求項1または2に記載の方法。 - 3次元の物体を付加製造することに関連した第1処理ステップについてプロセスガスの第1の最小の比を定義し、前記第1の最小の比に到達した場合、又はそれを超過した場合に、前記1つまたは複数の貯蔵ユニット(11)の少なくとも1つの内部での前記第1処理ステップの間に前記第1チャンバ(3、10)から移動させられた前記流体の少なくとも一部を収集し、
3次元の物体を付加製造することに関連した第2処理ステップについてプロセスガスの第2の最小の比を定義し、前記第2の最小の比に到達した場合、又はそれを超過した場合に、前記1つまたは複数の貯蔵ユニット(11)の少なくとも1つの内部での前記第2処理ステップの間に前記第1チャンバ(3、10)から移動させられた前記流体の少なくとも一部を収集する、
ことを含む、請求項1に記載の方法。 - 前記第1の最小の比に到達した場合、又はそれを超過した場合に、前記第1処理ステップの間に前記第1チャンバ(3、10)から移動させられた前記流体の少なくとも一部を 、第1貯蔵ユニット(11)の内部へ収集し、
及び/又は、
前記第2の最小の比に到達した場合、又はそれを超過した場合に、前記第2処理ステップの間に前記第1チャンバ(3、10)から移動させられた前記流体の少なくとも一部を、第2貯蔵ユニット(11)の内部へ収集する、
請求項4に記載の方法。 - 前記1つまたは複数の貯蔵ユニット(11)の少なくとも1つの内部に収集された前記流体を、定義された程度の、90%を超えるプロセスガスに精製することを含む、請求項1〜5のいずれか一つに記載の方法。
- 前記流体を精製することは、前記プロセスガスから分岐した流体内容物を除去又は低減することを含み、
精製度は、少なくとも1つの処理ステップにとって必要なプロセスガスの比に応じて定義され、
前記少なくとも1つの処理ステップは、前処理ステップ、付加製造処理ステップ、及び/又は後処理ステップを含む、
請求項6に記載の方法。 - 収集された前記流体を、3次元の物体を付加製造することに関連した少なくとも1つの後続の処理ステップのために貯蔵することを含む、請求項1〜7のいずれか一つに記載の方法。
- エネルギービームによって固化することができる粉末状の造形材料の層を連続して層ごとに選択的に照射及び固化することによって3次元の物体を付加製造するプラント(1)であって、3次元の物体を付加製造することに関連した少なくとも1つの造形装置(2)を備え、
前記少なくとも1つの造形装置(2)は、
第1チャンバ(3、10)と、
前記第1チャンバ(3、10)を通過して前記第1チャンバ(3、10)から流体の特定の体積を移動させる、不活性ガスを含有するプロセスガスの流れを提供するように構成された流れデバイス(4)と、
前記第1チャンバ(3、10)から移動させられた精製前の前記流体中のプロセスガスを測定するように構成された測定ユニット(6)と、
前記流体中に含有されるプロセスガスの比を増大させるように精製する精製ユニット(7)と、
前記第1チャンバ(3、10)から移動させられた前記流体の一部を貯蔵するように構成された1つまたは複数の貯蔵ユニット(11)と、
前記第1チャンバ(3、10)とバルブ(5)との間における前記第1チャンバ(3、10)から移動させられた前記流体中のプロセスガスの比を決定し、決定された前記比と1つ以上の閾値との比較に応じて、前記バルブ(5)を介して、前記第1チャンバ(3、10)から移動させられた前記流体の少なくとも一部を1つまたは複数の貯蔵ユニット(11)の少なくとも1つへ流れ込ませ、且つ/又は、前記第1チャンバ(3、10)から移動させられた前記流体の少なくとも一部を前記第1チャンバ(3、10)へ送り返す、及び/若しくは3次元の物体を付加製造することに関連した第2チャンバ(3、10)へ送り込む、且つ/又は、前記第1チャンバ(3、10)から移動させられた前記流体の少なくとも一部を前記精製ユニット(7)へ送り込む、制御ユニット(8)、
を有する、プラント。 - 前記少なくとも1つの造形装置(2)が、請求項1〜8のいずれか一つに記載の方法を実行するように構成されている、請求項9に記載のプラント。
- 前記1つまたは複数の貯蔵ユニット(11)は、
第1の最小の比に到達した場合、又はそれを超過した場合に、第1処理ステップの間に前記第1チャンバ(3、10)から移動させられた前記流体の少なくとも一部を収集する、第1貯蔵ユニットと、
第2の最小の比に到達した場合、又はそれを超過した場合に、第2処理ステップの間に前記第1チャンバ(3、10)から移動させられた前記流体の少なくとも一部を収集する、第2貯蔵ユニットと、
を含み、
前記造形装置(2)は、少なくとも2つの貯蔵ユニット(11)を備え、ここで、前記収集された流体は、前記流体中に含有されるプロセスガスの前記比に応じて、様々な前記貯蔵ユニット(11)のうちの1つの中に貯蔵される、
請求項9または10に記載のプラント。
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