JP6940975B2 - アフターシールド治具及び溶接システム - Google Patents

Description

本発明は、アフターシールド治具及び溶接システムに関する。

金属や非鉄金属などを母材として用いた構造物（被溶接物）の溶接には、従来よりＴＩＧ溶接(Tungsten Inert Gas welding)又はプラズマアーク溶接等のＧＴＡＷ(Gas Tungsten Arc welding)と呼ばれる非消耗電極式のガスシールドアーク溶接が用いられている。

また、ＭＩＧ溶接(Metal Inert Gas welding)、ＭＡＧ溶接(Metal Active Gas welding)又は炭酸ガスアーク溶接等のＧＭＡＷ(Gas Metal Arc welding)と呼ばれる消耗電極式のガスシールドアーク溶接が用いられている。なお、消耗電極式のガスシールドアーク溶接は、消耗電極となる溶接ワイヤーの送給を自動で行いながら、溶接を手動で行うため、半自動アーク溶接とも呼ばれている。

これらの溶接方法では、一般に溶接用トーチを使用し、電極と被溶接物との間でアークを発生させて、このアークの熱により被溶接物を溶かして溶融池（プール）を形成しながら、溶接が行われる。また、溶接中は電極の周囲を囲むトーチノズルからシールドガスを放出し、このシールドガスで大気（空気）を遮断しながら溶接が行われる。

ところで、トーチノズルから放出されるシールドガスだけでは溶接直後に形成される溶接ビートの酸化を抑えきれない場合がある。その場合、トーチノズルから溶接線方向の後方に向かって溶接ビードの周囲を囲むアフターシールド治具を設けて、このアフターシールド治具から放出されるアフターシールドガスによって、溶接直後に形成される溶接ビートを大気（空気）から遮断しながら、溶接することが行われている（例えば、特許文献１，２を参照。）。特に、チタン溶接では、チタンの酸化によって溶接部分の強度が低下する傾向が大きいことから、アフターシールドガスを用いた溶接方法が多用されている。

特開平７−１００６５０号公報 特開２００６−１７５４７５号公報

ところで、上記特許文献１には、溶接トーチの後方に配置されるフロントユニットと、フロントユニットの後部に連結される少なくとも一つの延長ユニットと、延長ユニットの後部に連結されるリヤユニットとからなり、延長ユニットに対して溶接部分の周囲にシールドガスを供給するアフターシールド装置が開示されている。

しかしながら、このアフターシールド装置では、溶接部分が平面状である場合に対応可能であるが、溶接部分が曲面状である場合には、この溶接部分に対する追従性が悪くなるため、対応が困難となってしまう。

一方、上記特許文献２には、トレーラーを薄肉金属片にて底面開放の半割筒体形状に形成して変形可能となし、トレーラー内に、薄肉金属片にて筒体形状に形成して変形可能となした不活性ガス放射パイプを可動可能に配設した溶接用アフターシールド治具が開示されている。

しかしながら、この溶接用アフターシールド治具では、トレーラー内に筒体形状の不活性ガス放射パイプが配設されているため、配管などの曲面に対する溶接において、対応可能な配管の径に制限がある。特に、小径の配管の溶接には、対応が困難である。

上述した配管や容器などの被溶接物の曲面に対してアフターシールドを行う場合には、安価で簡便な構造が求められる。また、被溶接物の曲面とアフターシールド治具との隙間をできるだけ狭くする必要がある。このため、従来のアフターシールド治具では、被溶接物に対する位置合わせが大変である。

本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、簡便な構造を有しつつ、被溶接物の形状に対する位置合わせが容易なアフターシールド治具、並びにそのようなアフターシールド治具を備えた溶接システムを提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明は以下の手段を提供する。
〔１〕 トーチノズルからシールドガスを放出しながら、被溶接物との間でアークを発生させることにより溶接を行う溶接用トーチの前記トーチノズルから溶接線方向の後方に向かって、前記被溶接物の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを放出するアフターシールド治具であって、
前記溶接線方向に対応して並んで配置される複数のノズル部と、
前記複数のノズル部を互いに連結した状態で支持する支持機構と、
前記支持機構を前記溶接用トーチに取り付ける取付機構とを備え、
前記支持機構は、少なくとも前記ノズル部から前記被溶接物に向けて放出されるアフターシールドガスの向きと、前記ノズル部から前記被溶接物までの間隔とを前記ノズル部毎に変更自在な状態で、前記各ノズル部を支持していることを特徴とするアフターシールド治具。
〔２〕 前記支持機構は、前記各ノズル部を保持する複数の保持部と、
前記アフターシールドガスの向きを変更する方向に対応して前記各保持部を回動自在に支持する複数の回動支持部と、
前記被溶接物との間隔を変更する方向に対応して前記各保持部をスライド自在に支持する複数のスライド支持部とを有することを特徴とする前記〔１〕に記載のアフターシールド治具。
〔３〕 前記支持機構は、前記各保持部に取り付けられた複数の回転ローラを有して、前記複数の回転ローラが前記被溶接物の面上で回転しながら、前記ノズル部から前記被溶接物までの間隔を一定に保つように、前記複数のスライド支持部が前記各保持部をスライド自在に支持することを特徴とする前記〔２〕に記載のアフターシールド治具。
〔４〕 前記支持機構は、前記アフターシールドガスの向きを変更する方向に対応して前記各ノズル部を回動自在に保持する複数の回動ドラムを有して、
互いに隣り合う前記回動ドラムの回動軸を連結部を介して連結することによって、互いに隣り合う一方の回動ドラムに対して他方の回動ドラムを周方向に周回自在に支持していることを特徴とする前記〔１〕に記載のアフターシールド治具。
〔５〕 前記支持機構は、前記各ノズル部を保持する複数の保持部と、
前記複数の保持部のうち、互いに隣り合う一方の保持部と他方の保持部とを連結する連結部とを有し、
前記連結部は、長孔が設けられた連結部材を含み、前記長孔を通して締結ネジを前記一方の保持部と前記他方の保持部との何れか一方又は両方に設けられたネジ孔に締結する構造を有することを特徴とする前記〔１〕に記載のアフターシールド治具。
〔６〕 前記ノズル部は、汎用の溶接用トーチにおいて使用されるトーチノズルを含むことを特徴とする前記〔１〕〜〔５〕の何れか一項に記載のアフターシールド治具。
〔７〕 トーチノズルからシールドガスを放出しながら、被溶接物との間でアークを発生させることにより溶接を行う溶接用トーチと、
前記トーチノズルから溶接線方向の後方に向かって、前記被溶接物の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを放出するアフターシールド治具と、
前記溶接用トーチと溶接ケーブルを介して接続されて、前記溶接用トーチへの電力並びにシールドガスの供給を行う溶接用電源装置と、
前記アフターシールド治具の各々のノズル部に対してアフターシールドガスを供給するアフターシールドガス供給装置とを備え、
前記アフターシールド治具として、前記〔１〕〜〔６〕の何れか一項に記載のアフターシールド治具を用いることを特徴とする溶接システム。
〔８〕 前記溶接用トーチに取り付けられるフィラーガイドを有して、前記フィラーガイドの先端から前記被溶接物の溶融池に向かってフィラーワイヤーを送給するワイヤー送給装置を備えることを特徴とする前記〔７〕に記載の溶接システム。
〔９〕 前記複数のノズル部のうち、少なくとも前記溶接用トーチのトーチノズルに最も近いノズル部に対して、他のノズル部に供給されるアフターシールドガスよりも熱伝導性の高いアフターシールドガスを供給することを特徴とする前記〔７〕又は〔８〕に記載の溶接システム。
〔１０〕 前記複数のノズル部のうち、少なくとも前記溶接用トーチのトーチノズルに最も近いノズル部に供給されるアフターシールドガスの流速が、他のノズル部に供給されるアフターシールドガスの流速よりも高いことを特徴とする前記〔７〕〜〔９〕の何れか一項に記載の溶接システム。
〔１１〕 トーチノズルからシールドガスを放出しながら、被溶接物との間でアークを発生させることにより溶接を行う溶接用トーチと、
前記トーチノズルから溶接線方向の後方に向かって、前記被溶接物の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを放出するアフターシールド治具と、
前記溶接用トーチと溶接ケーブルを介して接続されて、前記溶接用トーチへの電力並びにシールドガスの供給を行う溶接用電源装置と、
前記アフターシールド治具の各々のノズル部に対してアフターシールドガスを供給するアフターシールドガス供給装置とを備え、
前記アフターシールド治具として、前記〔２〕，〔３〕，〔５〕の何れか一項に記載のアフターシールド治具を用いる溶接システムであって、
前記複数の保持部のうち、前記溶接用トーチのトーチノズルに最も近い保持部に汎用の溶接用トーチをトーチノズルと共に取り付けることによって、前記被溶接物との間で別々のアークを発生させながら溶接を行うことを特徴とする溶接システム。

以上のように、本発明によれば、簡便な構造を有しつつ、被溶接物の形状に対する位置合わせが容易なアフターシールド治具、並びにそのようなアフターシールド治具を備えた溶接システムを提供することが可能である。

本発明の一実施形態に係る溶接システムの概略構成を示す模式図である。 本発明の第１の実施形態に係るアフターシールド治具を用いて平板状の被溶接物に対して溶接を行う状態を示す斜視図である。 図２に示すアフターシールド治具を用いて平板状の被溶接物に対して溶接を行う状態を示す側面図である。 図２に示すアフターシールド治具を用いて円筒状の被溶接物に対して溶接を行う状態を示す斜視図である。 図２に示すアフターシールド治具を用いて円筒状の被溶接物に対して溶接を行う状態を示す側面図である。 図２に示すアフターシールド治具に回転ローラが取り付けられた場合の円筒状の被溶接物に対して溶接を行う状態を示す側面図である。 本発明の第２の実施形態に係るアフターシールド治具を用いて平板状の被溶接物に対して溶接を行う状態を示す斜視図である。 図７に示すアフターシールド治具を用いて平板状の被溶接物に対して溶接を行う状態を示す側面図である。 図７に示すアフターシールド治具を用いて円筒状の被溶接物に対して溶接を行う状態を示す側面図である。 本発明の第３の実施形態に係るアフターシールド治具を用いて平板状の被溶接物に対して溶接を行う状態を示す側面図である。 図１０に示すアフターシールド治具を用いて円筒状の被溶接物に対して溶接を行う状態を示す側面図である。 図１０に示すアフターシールド治具を用いて被溶接物に対して複合溶接を行う状態を示す斜視図である。 実施例１における溶接ビートの状態を示す写真である。 比較例１における溶接ビートの状態を示す写真である。 比較例２における溶接ビートの状態を示す写真である。

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。また、以下の説明において例示される材料、寸法等は一例であって、本発明はそれらに必ずしも限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することが可能である。

〔溶接システム〕
先ず、本発明の一実施形態に係る溶接システムとして、例えば図１に示す溶接システム１００について説明する。なお、図１は、溶接システム１００の概略構成を示す模式図である。

本実施形態の溶接システム１００は、図１に示すように、溶接用トーチ２０と、ワイヤー送給装置３０と、溶接用電源装置４０と、アフターシールド治具５０と、アフターシールドガス供給装置６０と、制御装置７０とを概略備えている。

溶接用トーチ２０は、従来より一般に使用されている非消耗式の溶接トーチ（ＴＩＧ溶接用トーチ）であり、被溶接物（母材）Ｓとの間でアークを発生させる非消耗電極２１と、アークによって生じた被溶接物Ｓの溶融池（プール）に向かってシールドガスを放出するトーチノズル２２とを概略有している。

ワイヤー送給装置３０は、溶接用トーチ２０に取り付けられたフィラーガイド３１を有し、フィラーガイド３１の先端から被溶接物Ｓの溶融池に向かってフィラーワイヤーＷを送給する。また、ワイヤー送給装置３０は、制御ケーブル３２を介して制御装置７０と電気的に接続されている。

溶接用電源装置４０は、従来より一般に使用されている直流式及び／又は交流式のＴＩＧ溶接用電源装置であり、溶接用トーチ２０と溶接ケーブル４１を介して接続されて、溶接用トーチ２０への電力並びにシールドガスの供給を行う。また、溶接用電源装置４０は、制御ケーブル４２を介して制御装置７０と電気的に接続されている。

なお、溶接用トーチ２０の冷却方式については、水冷式と空冷式の何れであってもよい。水冷式の場合は、冷却装置（チラー）を設けて、冷却水（冷却液）の循環により溶接用トーチ２０を冷却することができる。

溶接用電源装置４０では、マイナス(−)端子側に溶接ケーブル４１を介して非消耗電極２１が電気的に接続され、且つ、プラス(＋)端子側に母材側ケーブル４３を介して被溶接物Ｓが電気的に接続されている。

アフターシールド治具５０は、溶接用トーチ２０のトーチノズル２２から溶接線方向の後方に向かって、被溶接物Ｓの溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを放出する。

アフターシールドガス供給装置６０は、ガスホース６１を介してアフターシールド治具５０に対してアフターシールドガスを供給する。また、アフターシールドガス供給装置６０は、制御ケーブル６２を介して制御装置７０と電気的に接続されている。なお、アフターシールドガス供給装置６０としては、アフターシールドガスが供給可能なものであればよく、例えば、ガスボンベや、工場内ガス供給設備、ガス発生装置（例えば、ＰＳＡガス発生装置）、ガス混合器など、何れも利用することが可能である。

制御装置７０は、ワイヤー送給装置３０、溶接用電源装置４０及びアフターシールドガス供給装置６０を制御するものであり、溶接電流やフィラーワイヤーＷの送給速度、シールドガス及びアフターシールドガスの流速（流量）などを溶接条件に合わせて制御する。

以上のような構成を有する溶接システム１００では、溶接用トーチ２０を用いて、被溶接物Ｓと非消耗電極２１との間でアークを発生させながら、このアークの熱により被溶接物Ｓを溶かして溶融池（プール）を形成しながら溶接が行われる。

溶接中は、非消耗電極２１の周囲を囲むトーチノズル２２からシールドガスを放出し、このシールドガスで大気（空気）を遮断しながら溶接が行われる。また、溶接中は、被溶接物Ｓの溶融池に向かってフィラーワイヤーＷを自動で送給し、アーク中でフィラーワイヤーＷを溶融させながら溶接が行われる。さらに、アフターシールド治具５０から放出されるアフターシールドガスによって、溶接直後に形成される溶接ビートを大気（空気）から遮断しながら溶接が行われる。

シールドガス及びアフターシールドガスとしては、被溶接物Ｓ１の材質に合わせて適宜選択して使用すればよく、例えばアルゴンやヘリウムといった不活性ガスを単体若しくは複数の不活性ガスを混合して用いることができる。さらに、これらのシールドガスに水素や窒素等を添加することも可能である。

また、シールドガス及びアフターシールドガスとして同じガスを用いる場合は、アフターシールドガス供給装置６０を省略し、溶接用電源装置４０から溶接用トーチ２０及びアフターシールド治具５０へのシールドガス及びアフターシールドガスの供給を行ってもよい。また、溶接用電源装置４０から溶接用トーチ２０へとシールドガスを供給するシールドガス供給配管の途中から分岐してアフターシールド治具５０へとアフターシールドガスを供給するアフターシールドガス供給配管を設けてもよい。

〔アフターシールド治具〕
（第１の実施形態）
次に、本発明の第１の実施形態に係るアフターシールド治具として、例え図２〜図５に示すアフターシールド治具１Ａについて説明する。なお、図２は、アフターシールド治具１Ａを用いて平板状の被溶接物Ｓ１に対して溶接を行う状態を示す斜視図である。図３は、アフターシールド治具１Ａを用いて平板状の被溶接物Ｓ１に対して溶接を行う状態を示す側面図である。図４は、アフターシールド治具１Ａを用いて円筒状の被溶接物Ｓ２に対して溶接を行う状態を示す斜視図である。図５は、アフターシールド治具１Ａを用いて円筒状の被溶接物Ｓ２に対して溶接を行う状態を示す側面図である。

本実施形態のアフターシールド治具１Ａは、図２〜図５に示すように、上記溶接システム１００が備えるアフターシールド治具５０として用いられるものであり、溶接線方向に対応して並んで配置される複数（図２及び図３では３つ、図４及び図５で２つ）のノズル部２と、複数のノズル部２を互いに連結した状態で支持する支持機構３Ａと、支持機構３Ａを溶接用トーチ２０に取り付ける取付機構４Ａとを備えている。

複数のノズル部２は、汎用の溶接用トーチにおいて使用されるトーチノズル５と、このトーチノズルの内側に取り付けられるコレットボディ６とを含み、それぞれのコレットボディ６にアフターシールドガスを導入するガスホース７が各々接続されることによって、トーチノズル５の先端からアフターシールドガスを放出する構成となっている。なお、ガスホース７は、アフターシールドガス供給装置６０のガスホース６１と同じか、ガスホース６１から分岐された構成となっている。

なお、ノズル部２では、トーチノズル５から放出されるアフターシールドガスを整流するガスレンズがコレットボディ６の外周部に一体に取り付けられたガスレンズ付コレットボディを用いてもよい。また、消音目的に使われる多孔質状の焼結金属からなるサイレンサーが取り付けられた構成であってもよい。

ノズル部２については、上述した汎用の溶接用トーチにおいて使用されるトーチノズル５及びコレットボディ６を用いる（流用する）ことで、より安価に構成することが可能である。一方、ノズル部２については、上述した汎用のものを用いて構成した場合に限らず、専用のものを用いて構成してもよい。

支持機構３Ａは、各ノズル部２から被溶接物Ｓ１，Ｓ２に向けて放出されるアフターシールドガスの向きと、各ノズル部２から被溶接物Ｓ１，Ｓ２までの間隔とをノズル部２毎に変更自在な状態で、各ノズル部２を支持している。

具体的に、この支持機構３Ａは、各ノズル部２を保持する複数の保持部８と、アフターシールドガスの向きを変更する方向に対応して各保持部８を回動自在に支持する複数の回動支持部９と、被溶接物Ｓ１，Ｓ２との間隔を変更する方向に対応して各保持部８をスライド自在に支持する複数のスライド支持部１０とを有している。

保持部８は、例えばステンレス鋼などの金属や非鉄金属、又はセラミックス等を用いて円筒状に形成されたリング部材８ａを有し、このリング部材８ａの内側にトーチノズル５（ノズル部２）を嵌め込んだ状態で、リング部材８ａを半径方向に貫通するネジ孔（図示せず。）に締結ネジ８ｂを締結することによって、トーチノズル５（ノズル部２）をリング部材８ａに固定する構成となっている。

回動支持部９は、各ノズル部２を保持するリング部材８ａ（保持部８）の外周面から突出された回動軸９ａを有し、この回動軸９ａを後述する鉛直ロッド１０ａの下端側に軸支することによって、この回動軸９ａの軸回りにリング部材８ａ（保持部８）を回動自在に支持している。

スライド支持部１０は、例えばステンレス鋼などの金属や非鉄金属、又はセラミックス等を用いて長尺円柱状に形成された複数の鉛直ロッド１０ａ及び水平ロッド１０ｂを有している。

複数の鉛直ロッド１０ａは、鉛直方向に延長して配置されると共に、各ノズル部２を保持する複数の保持部８に各々に対応して、水平方向に並んで配置されている。各鉛直ロッド１０ａの下端側には、回動軸９ａを介してリング部材８ａ（保持部８）が回動自在に取り付けられている。

水平ロッド１０ｂは、水平方向に延長して配置されると共に、ジョイント部１０ｃを介して複数の鉛直ロッド１０ｂを上下方向にスライド自在に支持している。また、水平ロッド１０ｂに対する鉛直ロッド１０ｂの固定は、ジョイント部１０ｃに設けられた締結ネジ（図示せず。）により行うことができる。

支持機構３Ａでは、回動軸９ａの軸回りにリング部材８ａ（保持部８）を回動させることによって、ノズル部２から放出されるアフターシールドガスの向きを変更（調節）することが可能である。

また、支持機構３Ａでは、複数の鉛直ロッド１０ｂを上下方向にスライドさせることによって、ノズル部２と被溶接物Ｓ１，Ｓ２との間隔を変更（調節）することが可能である。

さらに、支持機構３Ａでは、鉛直ロッド１０ａをジョイント部１０ｃと共に水平ロッド１０ｂの延長方向にスライドさせることによって、隣り合うノズル部２の間隔を変更（調節）することが可能である。

取付機構４Ａは、例えばステンレス鋼などの金属や非鉄金属、又はセラミックス等を用いて全体として円筒状に形成された取付リング１１を有している。水平ロッド１０ｂの基端側は、この取付リング１１に片持ち支持された状態でネジ止め等により取り付けられている。

取付機構４Ａは、半割とされた取付リング１１により溶接用トーチのトーチボディを挟み込んだ状態で、この半割とされた取付リング１１の両端を貫通する一対のネジ孔（図示せず。）に一対の締結ネジ１２を締結することによって、支持機構３Ａを溶接用トーチ２０に取り付ける構成となっている。

以上のような構成を有するアフターシールド治具１Ａを用いて、図２及び図３に示す平板状の被溶接物Ｓ１に対して溶接を行う場合には、複数のノズル部２から被溶接物Ｓ１の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを放出する。

このとき、溶接用トーチ２０のトーチノズル２２から溶接線方向の後方に向かって並ぶ各ノズル部２の向きをトーチノズル２２側に向けて傾けている。また、各ノズル部２から被溶接物Ｓ１までの間隔を一定に保つように、被溶接物Ｓ１の平面形状に合わせて各ノズル部２の間隔が調整されている。これにより、被溶接物Ｓ１の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを適切に放出することができ、この溶接ビートを大気（空気）から遮断し、溶接ビートの酸化を抑えることが可能である。

一方、図４及び図５に示す円筒状の被溶接物Ｓ２に対して溶接を行う場合には、複数のノズル部２から被溶接物Ｓ２の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを放出する。

このとき、溶接用トーチ２０のトーチノズル２２から溶接線方向の後方に向かって並ぶ各ノズル部２の向きをトーチノズル２２側に向けて傾けている。また、各ノズル部２から被溶接物Ｓ２までの間隔を一定に保つように、被溶接物Ｓ２の曲面形状に合わせて各ノズル部２の間隔が調整されている。これにより、被溶接物Ｓ２の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを適切に放出することができ、この溶接ビートを大気（空気）から遮断し、溶接ビートの酸化を抑えることが可能である。

以上のように、本実施形態のアフターシールド治具１Ａでは、簡便な構造を有しつつ、被溶接物Ｓ１，Ｓ２に対する位置合わせが容易なことから、形状の異なる被溶接物Ｓ１，Ｓ２に対してアフターシールドガスを適切に放出し、溶接ビートの酸化を抑えることが可能である。

また、本実施形態のアフターシールド治具１Ａを用いて、被溶接物Ｓ１，２に対して溶接を行う場合には、複数のノズル部２のうち、少なくとも溶接用トーチ２０のトーチノズル２２に最も近いノズル部２に対して、他のノズル部２に供給されるアフターシールドガスよりも熱伝導性の高いアフターシールドガスを供給するようにしてもよい。

この場合、熱伝導性の高いアフターシールドガスに、例えばヘリウム又はヘリウムを含む混合ガスを用いることで、被溶接物Ｓ１，Ｓ２の溶接直後に形成される溶接ビードから熱を早く取り除くことが可能である。一方、全てのノズル部２に対して熱伝導性の高いアフターシールドガスを供給した場合、コストが高くなることから、溶接用トーチのトーチノズルから離れたノズル部２には、比較的安価なアルゴン、水素又はこれらの混合ガスなどを供給すればよい。

また、本実施形態のアフターシールド治具１Ａを用いて、被溶接物Ｓ１，２に対して溶接を行う場合には、複数のノズル部２のうち、少なくとも溶接用トーチ２０のトーチノズル２２に最も近いノズル部２に供給されるアフターシールドガスの流速が、他のノズル部２に供給されるアフターシールドガスの流速よりも高くなるように、各ノズル部２に供給されるアフターシールドガスの流速を異ならせてもよい。この場合も、被溶接物Ｓ１，Ｓ２の溶接直後に形成される溶接ビードから熱を早く取り除くことが可能である。

支持機構３Ａは、図６に示すように、各保持部８に耐熱性の回転ローラ１３を取り付けることによって、各回転ローラ１３が被溶接物Ｓ２の面上で回転しながら、各ノズル部２から被溶接物Ｓ２までの間隔を一定に保つように、複数の鉛直ロッド１０ａが各保持部８を上下方向にスライド自在に支持する構成としてもよい。

この構成の場合、水平ロッド１０に対する複数の鉛直ロッド１０ａの固定を行わずに、水平ロッド１０に対して複数の鉛直ロッド１０ａをスライド自在とすることで、被溶接物Ｓ２の形状に合わせて、この被溶接物Ｓ２に対する各ノズル部２の位置合わせを自動で行わせることが可能である。

（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態として、例えば図７〜図９に示すアフターシールド治具１Ｂについて説明する。なお、図７は、アフターシールド治具１Ｂを用いて平板状の被溶接物Ｓ１に対して溶接を行う状態を示す斜視図である。図８は、アフターシールド治具１Ｂを用いて平板状の被溶接物Ｓ１に対して溶接を行う状態を示す側面図である。図９は、アフターシールド治具１Ｂを用いて円筒状の被溶接物Ｓ２に対して溶接を行う状態を示す側面図である。また、以下の説明では、上記アフターシールド治具１Ａと同等の部位については、説明を省略すると共に、図面において同じ符号を付すものとする。

本実施形態のアフターシールド治具１Ｂは、上記アフターシールド治具１Ａの代わりに、上記溶接システム１００が備えるアフターシールド治具５０として用いられるものである。具体的に、このアフターシールド治具１Ｂは、図７〜図９に示すように、溶接線方向に対応して並んで配置される複数（図７及び図８では３つ、図９で２つ）のノズル部２と、複数のノズル部２を互いに連結した状態で支持する支持機構３Ｂと、支持機構３Ｂを溶接用トーチに取り付ける取付機構４Ｂとを備えている。

支持機構３Ｂは、アフターシールドガスの向きを変更する方向に対応して、各ノズル部２を回動自在に保持する複数の回動ドラム１４を有している。各回動ドラム１４は、例えばステンレス鋼などの金属や非鉄金属、又はセラミックス等を用いて円柱状に形成されたドラム本体１４ａを有している。ドラム本体１４ａには、その外周面の中央部を直径方向に貫通する保持孔１４ｂが設けられている。また、ドラム本体１４ａの両端の中央部には、回転軸１４ｃが軸線方向に突出して設けられている。

各回動ドラム１４は、保持孔１４ｂの内側にトーチノズル５（ノズル部２）を嵌め込んだ状態で、ドラム本体１４ａの一端側から軸線方向に貫通するネジ孔（図示せず。）に締結ネジ１４ｄを締結することによって、トーチノズル５（ノズル部２）をドラム本体１４ａに固定する構成となっている。

また、支持機構３Ｂは、互いに隣り合う回動ドラム１４の回動軸１４ｃを連結部１５となる連結アーム１５ａを介して連結した構成となっている。これにより、互いに隣り合う一方の回動ドラム１４に対して他方の回動ドラム１４が周方向に周回自在に支持されている。

支持機構３Ｂでは、回動軸１４ｃの軸回りにドラム本体１４ａ（回動ドラム１４）を回動させることによって、ノズル部２から放出されるアフターシールドガスの向きを変更（調節）することが可能である。

また、支持機構３Ｂでは、一方の回動ドラム１４に対して他方の回動ドラム１４が周方向に周回させることによって、ノズル部２と被溶接物Ｓ１，Ｓ２との間隔を変更（調節）することが可能である。

取付機構４Ｂは、溶接用トーチ２０のトーチノズル２２に最も近い回動ドラム１４の回転軸１４ｃを軸支する鉛直ロッド１６ａと、この鉛直ロッド１６をジョイント部１６ｃを介して上下方向にスライド自在に支持する水平ロッド１６ｂとを有して、水平ロッド１６ｂを上記取付リング１１にネジ止め等により取り付けることによって、上述した取付リング１１を介して支持機構３Ｂを溶接用トーチ２０に取り付ける構成となっている。

以上のような構成を有するアフターシールド治具１Ｂを用いて、図７及び図８に示す平板状の被溶接物Ｓ１に対して溶接を行う場合には、複数のノズル部２から被溶接物Ｓ１の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを放出する。

このとき、溶接用トーチ２０のトーチノズル２２から溶接線方向の後方に向かって並ぶ各ノズル部２の向きをトーチノズル２２側に向けて傾けている。また、各ノズル部２から被溶接物Ｓ１までの間隔を一定に保つように、被溶接物Ｓ１の平面形状に合わせて各ノズル部２の間隔が調整されている。これにより、被溶接物Ｓ１の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを適切に放出することができ、この溶接ビートを大気（空気）から遮断し、溶接ビートの酸化を抑えることが可能である。

一方、図９に示す円筒状の被溶接物Ｓ２に対して溶接を行う場合には、複数のノズル部２から被溶接物Ｓ２の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを放出する。

このとき、溶接用トーチ２０のトーチノズル２２から溶接線方向の後方に向かって並ぶ各ノズル部２の向きをトーチノズル２２側に向けて傾けている。また、各ノズル部２から被溶接物Ｓ２までの間隔を一定に保つように、被溶接物Ｓ１の曲面形状に合わせて各ノズル部２の間隔が調整されている。これにより、被溶接物Ｓ２の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを適切に放出することができ、この溶接ビートを大気（空気）から遮断し、溶接ビートの酸化を抑えることが可能である。

以上のように、本実施形態のアフターシールド治具１Ｂでは、簡便な構造を有しつつ、被溶接物Ｓ１，Ｓ２に対する位置合わせが容易なことから、形状の異なる被溶接物Ｓ１，Ｓ２に対してアフターシールドガスを適切に放出し、溶接ビートの酸化を抑えることが可能である。

また、本実施形態のアフターシールド治具１Ｂを用いて、被溶接物Ｓ１，２に対して溶接を行う場合には、上記アフターシールド治具１Ａを用いた場合と同様に、複数のノズル部２のうち、少なくとも溶接用トーチ２０のトーチノズル２２に最も近いノズル部２に対して、他のノズル部２に供給されるアフターシールドガスよりも熱伝導性の高いアフターシールドガスを供給するようにしてもよい。この場合、被溶接物Ｓ１，Ｓ２の溶接直後に形成される溶接ビードから熱を早く取り除くことが可能である。

本実施形態のアフターシールド治具１Ｂを用いて、被溶接物Ｓ１，２に対して溶接を行う場合には、上記アフターシールド治具１Ａを用いた場合と同様に、複数のノズル部２のうち、少なくとも溶接用トーチ２０のトーチノズル２２に最も近いノズル部２に供給されるアフターシールドガスの流速が、他のノズル部２に供給されるアフターシールドガスの流速よりも高くなるように、各ノズル部２に供給されるアフターシールドガスの流速を異ならせてもよい。この場合も、被溶接物Ｓ１，Ｓ２の溶接直後に形成される溶接ビードから熱を早く取り除くことが可能である。

また、本実施形態のアフターシールド治具１Ｂを用いて、被溶接物Ｓ１，２に対して溶接を行う場合には、上記アフターシールド治具１Ａを用いた場合と同様に、複数の保持部８のうち、溶接用トーチ２０のトーチノズル２２に最も近い保持部８に汎用の溶接用トーチ２０Ａをトーチノズル５と共に取り付けることによって、被溶接物Ｓ１，Ｓ２との間で別々のアークを発生させながら溶接を行うことも可能である。この場合、例えばプラズマアーク溶接とＴＩＧ溶接とを組み合わせた複合溶接や、ＴＩＧ溶接とＭＩＧ溶接とを組み合わせた複合溶接などを行うことができる。

（第３の実施形態）
次に、本発明の第３の実施形態として、例えば図１０及び図１１に示すアフターシールド治具１Ｃについて説明する。なお、図１０は、アフターシールド治具１Ｃを用いて平板状の被溶接物Ｓ１に対して溶接を行う状態を示す側面図である。図１１は、アフターシールド治具１Ｃを用いて円筒状の被溶接物Ｓ２に対して溶接を行う状態を示す側面図である。また、以下の説明では、上記アフターシールド治具１Ａと同等の部位については、説明を省略すると共に、図面において同じ符号を付すものとする。

本実施形態のアフターシールド治具１Ｃは、上記アフターシールド治具１Ａの代わりに、上記溶接システム１００が備えるアフターシールド治具５０として用いられるものである。具体的に、このアフターシールド治具１Ｃは、図１０及び図１１に示すように、溶接線方向に対応して並んで配置される複数（図１０では３つ、図１１で２つ）のノズル部２と、複数のノズル部２を互いに連結した状態で支持する支持機構３Ｃと、支持機構３Ｃを溶接用トーチに取り付ける取付機構４Ｃとを備えている。

支持機構３Ｃは、各ノズル部２を保持する複数の保持部８と、複数の保持部８のうち、互いに隣り合う一方の保持部８と他方の保持部８とを連結する連結部１７とを有している。

連結部１７は、例えばステンレス鋼などの金属や非鉄金属、又はセラミックス等を用いて平板状に形成された連結部材１８を有し、この連結部材１８には、長孔１８ａが長手方向に沿って設けられている。連結部１７は、長孔１８ａを通して締結ネジ１８ｂを一方の保持部８と他方の保持部８とにそれぞれ設けられたネジ孔（図示せず。）に締結することによって、互いに隣り合う一方の保持部８と他方の保持部８とを連結部材１８を介して連結する構成となっている。

支持機構３Ｃでは、連結部材１８の傾斜する角度によって、ノズル部２から放出されるアフターシールドガスの向きを変更（調節）することが可能である。また、連結部材１８の傾斜する角度は、連結部材１８の折り曲げる角度によって調整することが可能である。

また、支持機構３Ｃでは、長孔１８ａが形成された範囲で連結部材１８に対する一方又は他方の保持部８の締結位置を変更することによって、ノズル部２と被溶接物Ｓ１，Ｓ２との間隔を変更（調節）することが可能である。

なお、本実施形態の支持機構３Ｃでは、上述した長孔１８ａを通して一方の保持部８と他方の保持部８とにそれぞれ設けられたネジ孔に締結ネジ１８ｂを締結する構成となっているが、長孔１８ａを通して一方の保持部８と他方の保持部８との何れか一方に設けられたネジ孔に締結ネジ１８ｂを締結する構成であればよい。

取付機構４Ｃは、例えばステンレス鋼などの金属や非鉄金属、又はセラミックス等を用いて平板状に形成された取付部材１９を有し、この取付部材１９には、長孔１９ａが長手方向に沿って設けられている。取付機構４Ｃは、この長孔１８ａを通して締結ネジ１９ｂを溶接用トーチ２０のトーチノズル２２に最も近い保持部８に設けられたネジ孔（図示せず。）に締結することによって、この保持部８を取付部材１９に取り付けた構成となっている。

取付機構４Ｃは、この取付部材１９を上記取付リング１１にネジ止め等により取り付けることによって、上述した取付リング１１を介して支持機構３Ｃを溶接用トーチ２０に取り付ける構成となっている。

また、取付機構４Ｃでは、取付部材１９の傾斜する角度によって、ノズル部２から放出されるアフターシールドガスの向きを変更（調節）することが可能である。また、取付部材１９の傾斜する角度は、取付部材１９の折り曲げる角度によって調整することが可能である。

さらに、取付機構４Ｃでは、長孔１８ａが形成された範囲で取付部材１８に対する保持部８の締結位置を変更することによって、ノズル部２と被溶接物Ｓ１，Ｓ２との間隔を変更（調節）することが可能である。

以上のような構成を有するアフターシールド治具１Ｃを用いて、図１０に示す平板状の被溶接物Ｓ１に対して溶接を行う場合には、複数のノズル部２から被溶接物Ｓ１の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを放出する。

このとき、溶接用トーチ２０のトーチノズル２２から溶接線方向の後方に向かって並ぶ各ノズル部２の向きをトーチノズル２２側に向けて傾けている。また、各ノズル部２から被溶接物Ｓ１までの間隔を一定に保つように、被溶接物Ｓ１の平面形状に合わせて各ノズル部２の間隔が調整されている。これにより、被溶接物Ｓ１の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを適切に放出することができ、この溶接ビートを大気（空気）から遮断し、溶接ビートの酸化を抑えることが可能である。

一方、図１１に示す円筒状の被溶接物Ｓ２に対して溶接を行う場合には、複数のノズル部２から被溶接物Ｓ２の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを放出する。

このとき、溶接用トーチ２０のトーチノズル２２から溶接線方向の後方に向かって並ぶ各ノズル部２の向きをトーチノズル２２側に向けて傾けている。また、各ノズル部２から被溶接物Ｓ２までの間隔を一定に保つように、被溶接物Ｓ１の曲面形状に合わせて各ノズル部２の間隔が調整されている。これにより、被溶接物Ｓ２の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを適切に放出することができ、この溶接ビートを大気（空気）から遮断し、溶接ビートの酸化を抑えることが可能である。

以上のように、本実施形態のアフターシールド治具１Ｃでは、簡便な構造を有しつつ、被溶接物Ｓ１，Ｓ２に対する位置合わせが容易なことから、形状の異なる被溶接物Ｓ１，Ｓ２に対してアフターシールドガスを適切に放出し、溶接ビートの酸化を抑えることが可能である。

また、本実施形態のアフターシールド治具１Ｃを用いて、被溶接物Ｓ１，２に対して溶接を行う場合には、上記アフターシールド治具１Ａを用いた場合と同様に、複数のノズル部２のうち、少なくとも溶接用トーチ２０のトーチノズル２２に最も近いノズル部２に対して、他のノズル部２に供給されるアフターシールドガスよりも熱伝導性の高いアフターシールドガスを供給するようにしてもよい。この場合、被溶接物Ｓ１，Ｓ２の溶接直後に形成される溶接ビードから熱を早く取り除くことが可能である。

本実施形態のアフターシールド治具１Ｃを用いて、被溶接物Ｓ１，２に対して溶接を行う場合には、上記アフターシールド治具１Ａを用いた場合と同様に、複数のノズル部２のうち、少なくとも溶接用トーチ２０のトーチノズル２２に最も近いノズル部２に供給されるアフターシールドガスの流速が、他のノズル部２に供給されるアフターシールドガスの流速よりも高くなるように、各ノズル部２に供給されるアフターシールドガスの流速を異ならせてもよい。この場合も、被溶接物Ｓ１，Ｓ２の溶接直後に形成される溶接ビードから熱を早く取り除くことが可能である。

また、本実施形態のアフターシールド治具１Ｃを用いて、被溶接物Ｓ１，２に対して溶接を行う場合には、図１２に示すように、複数の保持部８のうち、溶接用トーチ２０のトーチノズル２２に最も近い保持部８に汎用の溶接用トーチ２０Ａをトーチノズル５と共に取り付けることによって、被溶接物Ｓ１，Ｓ２との間で別々のアークを発生させながら溶接を行うことも可能である。

この場合、例えばプラズマアーク溶接とＴＩＧ溶接とを組み合わせた複合溶接や、ＴＩＧ溶接とＭＩＧ溶接とを組み合わせた複合溶接などを行うことができる。なお、上記アフターシールド治具１Ａ，１Ｂを用いた場合も同様に、溶接用トーチ２０のトーチノズル２２に最も近い保持部８又は回動ドラム１４に汎用の溶接用トーチ２０Ａをトーチノズル５と共に取り付けることによって、被溶接物Ｓ１，Ｓ２との間で別々のアークを発生させながら溶接を行うことが可能である。

なお、本発明は、上記実施形態のものに必ずしも限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記アフターシールド治具１Ａ〜１Ｃを溶接用トーチに取り付ける取付機構４Ａ〜４Ｃについては、上述した構成に必ずしも限定されるものではなく、任意の取り付け構造を採用することが可能である。

また、上記アフターシールド治具１Ａ〜１Ｃでは、ノズル部２の数を増やすことによって、被溶接物Ｓ１，Ｓ２の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを放出する範囲を広げることができ、溶接ビードの酸化を抑制することが可能である。

また、上記溶接用トーチ２０については、上述した非消耗式の溶接トーチ（ＴＩＧ溶接用トーチ）を用いた場合に限らず、被溶接物Ｓ１，Ｓ２に対してプラズマアークを放出するプラズマアーク溶接用トーチや、ＭＩＧ溶接用トーチなどの消耗式の溶接トーチなどを用いることが可能である。溶接用電源装置４０についても、使用する溶接用トーチ２０に合わせたものを使用すればよい。

以下、実施例により本発明の効果をより明らかなものとする。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することができる。

（実施例１）
実施例１では、上記アフターシールド治具１Ａを用いて、平板状の被溶接物Ｓ１に対して突合せ溶接を行った。その溶接後の写真を図１３に示す。

なお、実施例１では、被溶接物として、板厚４ｍｍのＳＵＳ３０４からなる鋼板を用いた。また、プラズマガス（パイロットガス）として、アルゴンを用い、シールドガスとして、アルゴンを用いた。

図１３に示すように、実施例１では、溶接ビートの酸化を抑えることができた。

（比較例１）
比較例１では、上記アフターシールド治具１Ａを構成するノズル部２を１つのみとし、平板状の被溶接物Ｓ１に対して突合せ溶接を行った。その溶接後の写真を図１４に示す。なお、それ以外の溶接条件については、実施例１と同様である。

図１４に示すように、比較例１では、溶接ビートの酸化を十分に抑えることができなかった。

（比較例２）
比較例２では、上記アフターシールド治具１Ａを省略し、平板状の被溶接物Ｓ１に対して突合せ溶接を行った。その溶接後の写真を図１５に示す。なお、それ以外の溶接条件については、実施例１と同様である。

図１５に示すように、比較例２では、溶接ビートの酸化を抑えることができなかった。

１Ａ，１Ｂ，１Ｃ…アフターシールド治具 ２…ノズル部 ３Ａ，３Ｂ，３Ｃ…支持機構 ４Ａ，４Ｂ，４Ｃ…取付機構 ５…トーチノズル ６…コレットボディ ７…ガスホース ８…保持部 ９…回動支持部 ９ａ…回転軸 １０…スライド支持部 １０ａ…鉛直ロッド １０ｂ…水平ロッド １０ｃ…ジョイント部 １１…取付リング １２…締結ネジ １３…回転ローラ １４…回動ドラム １４ａ…ドラム本体 １４ｂ…保持孔 １４ｃ…回転軸 １４ｄ…締結ネジ １５…連結部 １５ａ…連結アーム １６…鉛直ロッド １７…連結部 １８…連結部材 １８ａ…長孔 １８ｂ…締結ネジ １９…取付部材 １９ａ…長孔 １９ｂ…締結ネジ ２０…溶接用トーチ ２１…非消耗電極 ２２…トーチノズル ３０…ワイヤー送給装置 ３１…フィラーガイド ４０…溶接用電源装置 ５０…アフターシールド治具 ６０…アフターシールドガス供給装置 ７０…制御装置 １００…溶接システム Ｓ…被溶接物 Ｓ１…平板状の被溶接物 Ｓ２…円筒状の被溶接物

Claims (11)

1. トーチノズルからシールドガスを放出しながら、被溶接物との間でアークを発生させることにより溶接を行う溶接用トーチの前記トーチノズルから溶接線方向の後方に向かって、前記被溶接物の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを放出するアフターシールド治具であって、
   前記溶接線方向に対応して並んで配置される複数のノズル部と、
   前記複数のノズル部を互いに連結した状態で支持する支持機構と、
   前記支持機構を前記溶接用トーチに取り付ける取付機構とを備え、
   前記支持機構は、少なくとも前記ノズル部から前記被溶接物に向けて放出されるアフターシールドガスの向きと、前記ノズル部から前記被溶接物までの間隔とを前記ノズル部毎に変更自在な状態で、前記各ノズル部を支持していることを特徴とするアフターシールド治具。
2. 前記支持機構は、前記各ノズル部を保持する複数の保持部と、
   前記アフターシールドガスの向きを変更する方向に対応して前記各保持部を回動自在に支持する複数の回動支持部と、
   前記被溶接物との間隔を変更する方向に対応して前記各保持部をスライド自在に支持する複数のスライド支持部とを有することを特徴とする請求項１に記載のアフターシールド治具。
3. 前記支持機構は、前記各保持部に取り付けられた複数の回転ローラを有して、前記複数の回転ローラが前記被溶接物の面上で回転しながら、前記ノズル部から前記被溶接物までの間隔を一定に保つように、前記複数のスライド支持部が前記各保持部をスライド自在に支持することを特徴とする請求項２に記載のアフターシールド治具。
4. 前記支持機構は、前記アフターシールドガスの向きを変更する方向に対応して前記各ノズル部を回動自在に保持する複数の回動ドラムを有して、
   互いに隣り合う前記回動ドラムの回動軸を連結部を介して連結することによって、互いに隣り合う一方の回動ドラムに対して他方の回動ドラムを周方向に周回自在に支持していることを特徴とする請求項１に記載のアフターシールド治具。
5. 前記支持機構は、前記各ノズル部を保持する複数の保持部と、
   前記複数の保持部のうち、互いに隣り合う一方の保持部と他方の保持部とを連結する連結部とを有し、
   前記連結部は、長孔が設けられた連結部材を含み、前記長孔を通して締結ネジを前記一方の保持部と前記他方の保持部との何れか一方又は両方に設けられたネジ孔に締結する構造を有することを特徴とする請求項１に記載のアフターシールド治具。
6. 前記ノズル部は、汎用の溶接用トーチにおいて使用されるトーチノズルを含むことを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載のアフターシールド治具。
7. トーチノズルからシールドガスを放出しながら、被溶接物との間でアークを発生させることにより溶接を行う溶接用トーチと、
   前記トーチノズルから溶接線方向の後方に向かって、前記被溶接物の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを放出するアフターシールド治具と、
   前記溶接用トーチと溶接ケーブルを介して接続されて、前記溶接用トーチへの電力並びにシールドガスの供給を行う溶接用電源装置と、
   前記アフターシールド治具の各々のノズル部に対してアフターシールドガスを供給するアフターシールドガス供給装置とを備え、
   前記アフターシールド治具として、請求項１〜６の何れか一項に記載のアフターシールド治具を用いることを特徴とする溶接システム。
8. 前記溶接用トーチに取り付けられるフィラーガイドを有して、前記フィラーガイドの先端から前記被溶接物の溶融池に向かってフィラーワイヤーを送給するワイヤー送給装置を備えることを特徴とする請求項７に記載の溶接システム。
9. 前記複数のノズル部のうち、少なくとも前記溶接用トーチのトーチノズルに最も近いノズル部に対して、他のノズル部に供給されるアフターシールドガスよりも熱伝導性の高いアフターシールドガスを供給することを特徴とする請求項７又は８に記載の溶接システム。
10. 前記複数のノズル部のうち、少なくとも前記溶接用トーチのトーチノズルに最も近いノズル部に供給されるアフターシールドガスの流速が、他のノズル部に供給されるアフターシールドガスの流速よりも高いことを特徴とする請求項７〜９の何れか一項に記載の溶接システム。
11. トーチノズルからシールドガスを放出しながら、被溶接物との間でアークを発生させることにより溶接を行う溶接用トーチと、
    前記トーチノズルから溶接線方向の後方に向かって、前記被溶接物の溶接直後に形成される溶接ビードに対してアフターシールドガスを放出するアフターシールド治具と、
    前記溶接用トーチと溶接ケーブルを介して接続されて、前記溶接用トーチへの電力並びにシールドガスの供給を行う溶接用電源装置と、
    前記アフターシールド治具の各々のノズル部に対してアフターシールドガスを供給するアフターシールドガス供給装置とを備え、
    前記アフターシールド治具として、請求項２，３，５の何れか一項に記載のアフターシールド治具を用いる溶接システムであって、
    前記複数の保持部のうち、前記溶接用トーチのトーチノズルに最も近い保持部に汎用の溶接用トーチをトーチノズルと共に取り付けることによって、前記被溶接物との間で別々のアークを発生させながら溶接を行うことを特徴とする溶接システム。

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