JP6940323B2 - 紫外線センサのカソード電極の製造方法および紫外線センサ - Google Patents
紫外線センサのカソード電極の製造方法および紫外線センサ Download PDFInfo
- Publication number
- JP6940323B2 JP6940323B2 JP2017147608A JP2017147608A JP6940323B2 JP 6940323 B2 JP6940323 B2 JP 6940323B2 JP 2017147608 A JP2017147608 A JP 2017147608A JP 2017147608 A JP2017147608 A JP 2017147608A JP 6940323 B2 JP6940323 B2 JP 6940323B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode electrode
- electrode
- tungsten material
- ultraviolet sensor
- sputtering
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
以上、実施の形態を参照して本発明を説明したが、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではない。本発明の構成や詳細には、本発明の技術思想の範囲内で当業者が理解し得る様々な変更をすることができる。
Claims (4)
- アノード電極とカソード電極との間の放電によって生じる電流に基づいて紫外線を検出する紫外線センサのカソード電極の製造方法であって、
タングステン材を圧延処理する圧延工程と、
前記圧延工程によって圧延処理された前記タングステン材の表面をスパッタリングするスパッタリング工程とを備え、
前記スパッタリング工程は、
前記スパッタリングにより生じるタングステンのスパッタ粒が前記タングステン材の表面を覆い尽くすまで前記スパッタリングを続ける
ことを特徴とする紫外線センサのカソード電極の製造方法。 - 請求項1に記載された紫外線センサのカソード電極の製造方法において、
前記圧延工程は、
前記タングステン材の面方位を(200)に配向させ、
前記スパッタリング工程は、
前記スパッタ粒の面方位を(110)に配向させる
ことを特徴とする紫外線センサのカソード電極の製造方法。 - 請求項1に記載された紫外線センサのカソード電極の製造方法において、
前記スパッタリング工程は、
前記スパッタリングとして、前記タングステン材の表面からの放電を350ボルト以上の印加電圧で少なくとも10日間連続して行う
ことを特徴とする紫外線センサのカソード電極の製造方法。 - アノード電極とカソード電極との間の放電によって生じる電流に基づいて紫外線を検出する紫外線センサであって、
前記カソード電極は、
請求項1又は2に記載された紫外線センサのカソード電極の製造方法で製造されている
ことを特徴とする紫外線センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017147608A JP6940323B2 (ja) | 2017-07-31 | 2017-07-31 | 紫外線センサのカソード電極の製造方法および紫外線センサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017147608A JP6940323B2 (ja) | 2017-07-31 | 2017-07-31 | 紫外線センサのカソード電極の製造方法および紫外線センサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019029200A JP2019029200A (ja) | 2019-02-21 |
JP6940323B2 true JP6940323B2 (ja) | 2021-09-22 |
Family
ID=65478698
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017147608A Active JP6940323B2 (ja) | 2017-07-31 | 2017-07-31 | 紫外線センサのカソード電極の製造方法および紫外線センサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6940323B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013019719A (ja) * | 2011-07-08 | 2013-01-31 | Azbil Corp | 火炎センサ |
JP6815291B2 (ja) * | 2017-07-14 | 2021-01-20 | アズビル株式会社 | カソード電極選定支援方法および装置 |
JP6889062B2 (ja) * | 2017-07-31 | 2021-06-18 | アズビル株式会社 | 紫外線センサのカソード電極の製造方法および紫外線センサ |
-
2017
- 2017-07-31 JP JP2017147608A patent/JP6940323B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019029200A (ja) | 2019-02-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10522316B2 (en) | X-ray source | |
CN101180923B (zh) | 气体放电源,特别是euv辐射 | |
US8198797B2 (en) | Method of controlling electron beam focusing of pierce-type electron gun and control apparatus therefor | |
US6844678B2 (en) | Short arc discharge lamp | |
TWI443217B (zh) | 直流磁控管噴濺系統之設計及使用 | |
US9064670B2 (en) | Electron emission device and X-ray generator including the same | |
US20080203325A1 (en) | Method of Protecting a Radiation Source Producing Euv-Radiation and/or Soft X-Rays Against Short Circuits | |
US10573486B2 (en) | Repeller, cathode, chamber wall and slit member for ion implanter and ion generating devices including the same | |
JP6940323B2 (ja) | 紫外線センサのカソード電極の製造方法および紫外線センサ | |
KR20120023035A (ko) | 성막 방법 및 성막 장치 | |
JP6889062B2 (ja) | 紫外線センサのカソード電極の製造方法および紫外線センサ | |
JP6976461B2 (ja) | 放電ランプ用の電極、放電ランプ、および電極を製造する方法 | |
US10435783B2 (en) | Target assembly | |
US9196464B2 (en) | Tablet for plasma coating system, method of manufacturing the same, and method of manufacturing a thin film using the method of manufacturing the tablet | |
JP6583930B2 (ja) | スパッタ装置および有機elパネルの製造方法 | |
JP7139198B2 (ja) | 紫外線センサ | |
US9806501B1 (en) | Spark gap with triple-point electron emission prompting | |
JP7139199B2 (ja) | 紫外線センサ | |
JP2012038674A (ja) | 放電ランプ | |
KR102439991B1 (ko) | 엑스선 튜브의 세라믹 절연튜브 표면 개질 처리 방법 | |
JP6218587B2 (ja) | 紫外線放電管及びその製造方法 | |
JP2007291478A (ja) | スパッタリング装置 | |
JP4414975B2 (ja) | イオンビームスパッタ装置、イオンビームスパッタ方法及びイオンガン | |
US20110214966A1 (en) | Film forming material feeding apparatus | |
JP4196993B2 (ja) | 電子部品の周波数調整装置及びそれを用いた電子部品の周波数調整方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200311 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210127 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210216 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210414 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210810 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210902 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6940323 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |