JP6934933B2 - 反射を用いた超音波オートフォーカシング - Google Patents
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Claims (33)
- 複数のトランスデューサ素子を有して成る超音波トランスデューサを標的領域にフォーカシングする方法であって、
(a)前記標的領域において少なくとも1つの音響リフレクタを生成すること、
(b)前記標的領域に第1超音波を伝達すること、
(c)前記音響リフレクタからの前記第1超音波の反射を測定すること、および
(d)前記測定された反射に少なくとも部分的に基づいて、前記標的領域における超音波焦点が改善されるように、前記トランスデューサ素子の少なくとも1つに関連するパラメータ値を調整すること、を含んで成り、
(e)前記調整されたパラメータ値に基づいて、前記音響リフレクタまたは第2音響リフレクタのうちの少なくとも1つに第2超音波を伝達すること、ならびに、停止条件が満たされるまで、ステップ(c)、(d)および(e)を繰り返すことをさらに含んで成り、
前記停止条件は、現在測定される反射と、前に測定された反射との間の位相差が閾値を下回ること、または反復回数が所定の限度を超えることのうちの1以上から成る、方法。 - 前記音響リフレクタは、前記第1超音波によって生成される、請求項1に記載の方法。
- 前記音響リフレクタは、前記第1超音波よりも先に前記標的領域に伝達される第2超音波によって生成される、請求項1に記載の方法。
- (i)前記第1超音波または(ii)前記第2超音波のうちの少なくとも1つが、少なくとも部分的に物理モデルに基づいて伝達される、請求項3に記載の方法。
- 前記第1超音波は、前記第2超音波とは異なる構成パラメータの値を有する、請求項3に記載の方法。
- 前記構成パラメータは、強度レベルまたは周波数のうちの少なくとも一方を含んで成る、請求項5に記載の方法。
- 前記超音波トランスデューサを複数のサブ領域に分割することをさらに含んで成り、各サブ領域が、複数のトランスデューサ素子を有して成る、請求項3に記載の方法。
- 前記第1超音波および前記第2超音波は、前記トランスデューサの異なるサブ領域から伝達される、請求項7に記載の方法。
- 前記第1超音波は、第1サブ領域によって伝達され、前記反射は、第2サブ領域によって測定され、前記第1サブ領域が、前記第2サブ領域とは異なる、請求項7に記載の方法。
- 前記第1超音波は、前記トランスデューサの第1サブ領域によって伝達され、その後、前記反射は、該第1サブ領域によって測定される、請求項7に記載の方法。
- 前記パラメータ値は、伝達された超音波または反射された超音波の測定に少なくとも部分的に基づいて最初に推定される、請求項1に記載の方法。
- 前記パラメータ値は、前記第1超音波を生成するために前記トランスデューサ素子のうちの少なくとも1つを駆動する信号の周波数、位相または振幅のうちの少なくとも1つを含んで成る、請求項1に記載の方法。
- (e)前記調整されたパラメータ値に基づいて、前記標的領域において少なくとも1つの第2音響リフレクタの生成を引き起こすように、該標的領域に第2超音波を伝達すること、ならびに、停止条件が満たされるまで、ステップ(b)、(c)、(d)および(e)を繰り返すことをさらに含んで成る、請求項1に記載の方法。
- 前記停止条件は、現在測定される反射と、前に測定された反射との間の位相差が閾値を下回ること、または反復回数が所定の限度を超えることのうちの1以上から成る、請求項13に記載の方法。
- 前記標的領域へと超音波造影剤を導入することをさらに含んで成る、請求項1に記載の方法。
- 超音波トランスデューサをフォーカシングするためのシステムであって、
複数のトランスデューサ素子およびコントローラを有して成る超音波トランスデューサを有して成り、
前記コントローラが、
(a)前記超音波トランスデューサを使用して、標的領域において少なくとも1つの音響リフレクタを生成させるようになっており、
(b)第1超音波を前記標的領域に伝達するようになっており、
(c)前記音響リフレクタからの前記第1超音波の反射を測定するようになっており、および
(d)前記測定された反射に少なくとも部分的に基づいて、前記標的領域における超音波焦点が改善されるように、少なくとも1つの前記トランスデューサ素子に関連するパラメータ値を調整するようになっており、
前記コントローラは、(e)前記調整されたパラメータ値に基づいて、前記音響リフレクタまたは第2音響リフレクタのうちの少なくとも1つに第2超音波を伝達し、また停止条件が満たされるまで、ステップ(c)、(d)、(e)を繰り返すようにさらになっており、
前記停止条件は、現在測定される反射と、前に測定された反射との間の位相差が閾値を下回ること、または反復回数が所定の限度を超えることのうちの1以上から成る、システム。 - 前記音響リフレクタからの前記反射を測定するための検出機デバイスをさらに有して成る、請求項16に記載のシステム。
- 前記音響リフレクタの生成を検出するためのイメージャーまたは検出機デバイスのうちの少なくとも一方をさらに有して成る、請求項16に記載のシステム。
- 前記コントローラは、前記トランスデューサ素子に、前記音響リフレクタからの反射を測定させるようにさらになっている、請求項16に記載のシステム。
- 前記コントローラは、前記第1超音波に、前記音響リフレクタを生成させるようにさらになっている、請求項16に記載のシステム。
- 前記コントローラは、前記トランスデューサ素子に、前記音響リフレクタを生成するように第2超音波を前記標的領域に伝達させるようにさらになっており、該第2超音波は、前記第1超音波よりも先に前記標的領域に伝達される、請求項16に記載のシステム。
- 前記コントローラは、物理モデルに少なくとも部分的に基づいて、前記第1超音波または前記第2超音波のうちの少なくとも1つを伝達するようにさらになっている、請求項21に記載のシステム。
- 前記コントローラは、前記第2超音波とは異なる構成パラメータの値を有する前記第1超音波を伝達するようにさらになっている、請求項21に記載のシステム。
- 前記構成パラメータは、強度レベルまたは周波数のうちの少なくとも一方を含んで成る、請求項23に記載のシステム。
- 前記超音波トランスデューサは、複数のサブ領域を含んで成り、各サブ領域が、複数のトランスデューサ素子を有して成る、請求項21に記載のシステム。
- 前記コントローラは、前記トランスデューサの異なるサブ領域に、前記第1超音波および前記第2超音波を伝達させるようにさらになっている、請求項25に記載のシステム。
- 前記コントローラは、第1サブ領域に前記第1超音波を伝達させるように、また第2サブ領域に前記反射を測定させるようにさらになっており、前記第1サブ領域が、前記第2サブ領域とは異なる、請求項25に記載のシステム。
- 前記コントローラは、前記トランスデューサの第1サブ領域に前記第1超音波を伝達させ、その後、前記反射を測定させるようにさらになっている、請求項25に記載のシステム。
- 前記コントローラは、伝達された超音波または反射された超音波の測定値に基づいて、前記パラメータ値を最初に推定するようにさらになっている、請求項16に記載のシステム。
- 前記パラメータ値は、前記第1超音波を生成するために、前記トランスデューサ素子の少なくとも1つを駆動する信号の周波数、位相または振幅のうちの少なくとも1つを含んで成る、請求項16に記載のシステム。
- 前記コントローラは、(e)前記調整されたパラメータ値に基づいて、前記標的領域において少なくとも1つの第2音響リフレクタの生成を引き起こすように該標的領域に第2超音波を伝達し、また停止条件が満たされるまで、ステップ(b)、(c)、(d)および(e)を繰り返すようにさらになっている、請求項16に記載のシステム。
- 前記停止条件は、現在測定される反射と、前に測定された反射との間の位相差が閾値を下回ること、または反復回数が所定の限度を超えることのうちの1以上から成る、請求項31に記載のシステム。
- 前記標的領域へと超音波造影剤を導入するための投与デバイスをさらに有して成る、請求項16に記載のシステム。
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