JP6934745B2 - 摺動部品及び摺動部品の製造方法 - Google Patents
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本発明の一態様に係る摺動部品は、基材、及びフッ素樹脂を主成分とするフッ素樹脂層を備える摺動部品であって、上記フッ素樹脂層が、架橋度の低い馴染み層を含む。
以下、本発明に係る摺動部品及び摺動部品の製造方法について詳説する。
当該摺動部品は、基材及びフッ素樹脂を主成分とするフッ素樹脂層を備える摺動部品であって、上記フッ素樹脂層が架橋度の低い馴染み層を含む。
酸化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、炭化タングステン等のセラミックス;
フッ素ゴム、シリコーンゴム、熱可塑性エラストマー等のゴム材料;
ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂等の耐熱性樹脂などが挙げられる。
第1実施形態の摺動部品について図1を参酌しつつ以下説明する。この摺動部品1は、平板状の基材2と、基材2の表面に積層されるフッ素樹脂層3とを有している。フッ素樹脂層3は、最表面に馴染み層5を有している。この馴染み層5の最表面が摺動面として用いられる。また、馴染み層5は、この馴染み層5よりも基材2側のフッ素樹脂層3の内側層4に比べて架橋度が低い。この馴染み層5は、その架橋度がこの馴染み層5の表面から厚さ方向に漸増している。馴染み層5は、後述するように一度架橋された架橋フッ素樹脂層に表面側から電離放射線を照射することで架橋が切断され、架橋度が厚方向に漸増している。なお、図1は、当該摺動部品1を模式的に説明する断面図であり、馴染み層5における黒点は架橋が切断された状態を模式的に示している。
次に、第1実施形態における当該摺動部品1の製造方法について図1及び図2を参酌しつつ説明する。当該摺動部品1の製造方法は、基材2、及びフッ素樹脂を主成分とするフッ素樹脂層3を備える摺動部品1の製造方法であって、基材2にフッ素樹脂を主成分とする材料を積層し、この材料に対し無酸素雰囲気かつ溶融状態で電離放射線を照射することで、図2に示すように架橋フッ素樹脂層7を形成する工程(第1形成工程)と、この架橋フッ素樹脂層7の少なくとも一部に酸素雰囲気又は非溶融状態で電離放射線を照射することで、架橋度の低い馴染み層5を有するフッ素樹脂層3を形成する工程(第2形成工程)とを備える。
第2実施形態の摺動部品について図3を参酌しつつ以下説明する。この摺動部品11は、第1実施形態と同様に、基材12と、基材12の表面に積層されるフッ素樹脂層13を有している。フッ素樹脂層13は、表面側に馴染み層15を有している。馴染み層15は、この馴染み層15よりもフッ素樹脂層13の基材12側の本体層14に比べて架橋度が低い。つまり、フッ素樹脂層13は、基材12側の本体層14と、この本体層14の表面に積層される馴染み層15とを有している。
次に、第2実施形態における当該摺動部品11の製造方法について図3及び図4を参酌しつつ説明する。当該摺動部品11の製造方法は、基材12、及びフッ素樹脂を主成分とするフッ素樹脂層13を備える摺動部品11の製造方法であって、基材12にフッ素樹脂を主成分とする材料を積層し、この材料に対し無酸素雰囲気かつ溶融状態で電離放射線を照射することで、図4に示すように架橋フッ素樹脂層14(本体層14)を形成する工程(第1形成工程)と、この架橋フッ素樹脂層14に架橋度の低い馴染み層15を積層することで、架橋度の低い馴染み層15を有するフッ素樹脂層13を形成する(第3形成工程)工程とを備える。
今回開示された実施の形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更に含まれることが意図される。
厚さ2mmのアルミニウム合金板(A3003)の片面に電解エッチングを行った後、PFAを平均膜厚40μmで塗工して、20分間の360℃加熱処理により焼成した。次いで、このアルミニウム合金板に320℃、酸素濃度10ppm以下の無酸素雰囲気下において、加速電圧1.0MeV、照射線量300kGyで電子線を照射し、アルミニウム合金板上のPFAを架橋させた。これにより、架橋フッ素樹脂を主成分とするフッ素樹脂層を備える摺動部品を得た。さらに、このフッ素樹脂層にPFAを平均膜厚40μmで塗工して、20分間の360℃加熱処理により焼成した。これにより、馴染み層として非架橋フッ素樹脂層を備えた試験例1の摺動部品を得た。
架橋フッ素樹脂を主成分とするフッ素樹脂層を備える摺動部品の作成までは試験例1を同様にして、さらに、この摺動部品に常温(20℃〜25℃)、酸素雰囲気下において、加速電圧0.3MeV、照射線量12.5kGyで電子線を照射した。これにより、フッ素樹脂層に含まれる馴染み層がその表面から厚さ方向に漸増している試験例2の摺動部品を得た。
電子線の照射の際の加速電圧を1.0MeVに変更した以外は、試験例2と同様にして試験例3の摺動部品を得た。
電子線の照射の際の照射線量を300kGyに変更した以外は、試験例3と同様にして試験例4の摺動部品を得た。
試験例1において、基材にPFAを塗工して焼成する工程で留めることにより、非架橋フッ素樹脂層を有する試験例5の摺動部品を得た。
試験例5において、さらに加速電圧1.0MeV、照射線量300kGyで電子線を照射する工程を行ってPFAを架橋することにより、架橋フッ素樹脂層を有する試験例6の摺動部品を得た。
(引っかき硬度)
得られた各試験例の摺動部品について、JIS−K−5600−5−4(1999年)の「塗料一般試験方法−第5部:塗膜の機械的性質−第4節:引っかき硬度(鉛筆法)」に基づき、引っかき硬度を測定した。これらの測定結果を表1に示す。
得られた各試験例について、JIS−K−7218(1986年)の「プラスチックの滑り摩耗試験方法」に準拠し、スラスト摩耗試験(リングオンディスク式摩耗評価)に基づき、耐摩耗性を評価した。具体的には、試験サンプル上に金属の円筒(外形/内径=11.5/7.4のS45C円筒)を載せ、所定の荷重(面圧P)を加えた状態で、試験サンプルを所定の速度(回転速度V)で回転させた。ドライの潤滑条件下で、一定の回転速度V=1800rpmのもと、面圧Pを増加させていくことにより、限界PV値(急激な摩耗によりサンプルが破壊される直前のPV値)を測定した。また、円筒に生じる反動トルクにより動摩擦係数を測定した。これらの測定結果を表1に示す。
2 基材
3 フッ素樹脂層
4 内側層
5 馴染み層
7 架橋フッ素樹脂層
11 摺動部品
12 基材
13 フッ素樹脂層
14 本体層
15 馴染み層
Claims (6)
- 基材、及びフッ素樹脂を主成分とするフッ素樹脂層を備える摺動部品であって、
上記フッ素樹脂層が、上記基材側に架橋フッ素樹脂層を含み、表面側に馴染み層を含み、
上記馴染み層の架橋度が上記架橋フッ素樹脂層よりも低く、
上記馴染み層の架橋度が、この馴染み層の表面から厚さ方向に漸増している摺動部品。 - 基材、及びフッ素樹脂を主成分とするフッ素樹脂層を備える摺動部品であって、
上記フッ素樹脂層が、上記基材側に架橋フッ素樹脂層を含み、表面側に馴染み層を含み、
上記馴染み層が、非架橋フッ素樹脂層である摺動部品。 - 上記基材が、金属基材である請求項1又は請求項2に記載の摺動部品。
- 基材、及びフッ素樹脂を主成分とするフッ素樹脂層を備える摺動部品の製造方法であって、
基材にフッ素樹脂を主成分とする材料を積層し、この材料に対し無酸素雰囲気かつ溶融状態で電離放射線を照射することで架橋フッ素樹脂層を形成する工程と、
この架橋フッ素樹脂層の少なくとも一部に酸素雰囲気又は非溶融状態で電離放射線を照射することで、架橋度の低い馴染み層を有するフッ素樹脂層を形成する工程と
を備える摺動部品の製造方法。 - 上記酸素雰囲気又は非溶融状態で照射する電離放射線の加速電圧が、0.3MeV以上1.0MeV以下である請求項4に記載の摺動部品の製造方法。
- 基材、及びフッ素樹脂を主成分とするフッ素樹脂層を備える摺動部品の製造方法であって、
基材にフッ素樹脂を主成分とする材料を積層し、この材料に対し無酸素雰囲気かつ溶融状態で電離放射線を照射することで架橋フッ素樹脂層を形成する工程と、
この架橋フッ素樹脂層に上記架橋フッ素樹脂層よりも架橋度の低い馴染み層を積層することで、上記架橋フッ素樹脂層よりも架橋度の低い馴染み層を有するフッ素樹脂層を形成する工程と
を備える摺動部品の製造方法。
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