JP6933241B2 - 半導体ナノ粒子、半導体ナノ粒子分散液及び光学部材 - Google Patents

半導体ナノ粒子、半導体ナノ粒子分散液及び光学部材 Download PDF

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Description

本発明は、半導体ナノ粒子、それが用いられている分散液及び光学部材に関する。
ディスプレイの波長変換材料として、微小な粒径の半導体ナノ粒子(量子ドット:QD)が用いられている。このような半導体ナノ粒子は、量子閉じ込め効果を発現しうる微小な粒子であり、ナノ粒子のサイズによって、バンドギャップの幅が変わる。そして、光励起、電荷注入等の手段によって半導体粒子内に形成された励起子は、再結合によりバンドギャップに応じたエネルギーの光子を放出するので、半導体ナノ粒子の結晶サイズを調整することにより、発光波長を制御することが可能となり、所望の波長の発光を得ることができる。
半導体ナノ粒子を用いるQDデバイスとしては、半導体ナノ粒子をフィルム化して得られるQDフィルムで、青色光を白色化し、得られる白色光をカラーフィルターを通して、赤、緑、青に変換する方式(QDフィルム方式)と、青色光を半導体ナノ粒子が用いられているQDカラーフィルターで、直接、赤、緑に変換する方式(QDカラーフィルター方式)がある。
QDカラーフィルター方式のQDデバイスの装置構成の一例を、図2を用いて説明する。図2に示すように、光源である青色LED1からの青色光を白色光に変換せずに、QDパターン(7、8)を用いて青色光から赤色光又は青色光から緑色光に直接変換する。QDパターン(7、8)は、樹脂中に分散された半導体ナノ粒子をパターニングすることによって形成され、厚みはディスプレイの構造上の制限から5〜10μm程度となる。青色については、光源である青色LED1からの青色光を、拡散材を含む拡散層9を透過させたものが利用される。なお、符号3は液晶であり、図2では、偏光板は省略されている。
また、QDフィルム方式のQDデバイスの装置構成の一例を、図3を用いて説明する。図3に示すように、光源には青色LED101が用いられており、先ずは、この青色光を白色光に変換することが行われている。青色光から白色光への変換には、半導体ナノ粒子を樹脂中に分散させて厚みが100μm程度のフィルム状に形成してなるQDフィルム102が好適に用いられている。QDフィルム102のような波長変換層によって得られた白色光は、更に、カラーフィルター(R)104、カラーフィルター(G)105、及びカラーフィルター(B)106によって、それぞれ、赤色光、緑色光、及び青色光に変換される。なお、符号103は液晶であり、図3では、偏光板は省略されている。
これらのうち、QDカラーフィルター方式は、青色光を直接各色に変換するので、QDデバイス全体の波長変換効率が高くなる。そのため、近年は、QDカラーフィルター方式が着目されている。
このような背景のもと、半導体ナノ粒子には、本来的に、QDデバイスの波長変換効率を高くするために量子効率が高いこと、及び混色を防ぐために半値幅が狭いことが求められている。
半導体ナノ粒子としては、Cdカルコゲナイド半導体ナノ粒子やInPをベースとした半導体ナノ粒子が知られている(例えば、特許文献1〜3)。そして、従来は、Cd系の半導体ナノ粒子の研究が多く行われていた。Cd系の半導体ナノ粒子は、量子効率が高い上に、粒径変化による発光波長の変化が比較的緩やかなので、発光波長の調整がし易いためである。
ところが、近年、環境・人体への悪影響への配慮から、非Cd系の半導体ナノ粒子の開発が望まれるようになってきている。非Cd系の半導体ナノ粒子としては、InPをベースとする半導体ナノ粒子が挙げられる。しかし、InPをベースとするInP系の半導体ナノ粒子は、Cd系の半導体ナノ粒子に比べ、量子効率が低く、且つ、粒径変化による発光波長の変化が大きいために、発光波長の調整がし難いという問題がある。
そこで、InP系の半導体ナノ粒子としては、以下のような試みがなされている。例えば、特許文献4にはInPからなるコアと、ZnSe及びZnSからなるシェルと、で形成されるコアシェル構造(以下、InP/ZnSe・ZnSコア/シェル構造とも記載)の半導体ナノ粒子が開示されており、吸光度を上げる試みがなされている。特許文献5にはInP/ZnSe・ZnSコア/シェル構造にハロゲンを含有させた半導体ナノ粒子が開示されており、量子効率を向上させる試みがなされている。特許文献6にはInPからなるコアと、ZnSe及びZnSからなるシェルと、で形成されるコアシェル構造(以下、InP/ZnSe・ZnSコア/シェル構造とも記載)の半導体ナノ粒子が開示されており、量子効率を向上させ、かつ半値幅を狭くするための試みがなされている。
米国特許出願公開第2015/083969号明細書 米国特許第9169435号明細書 米国特許第9884993号明細書 米国特許出願公開第2017/0306227号明細書 米国特許出願公開第2015/0083969号明細書 米国特許出願公開第2018/0301592号明細書
InP系の半導体ナノ粒子の一つとして、InPからなるコアと、ZnSe又はZnSeとZnSからなるシェルと、で形成されるコア/シェル構造の半導体ナノ粒子があるが、このような半導体ナノ粒子では、シェルを構成するZnSe又はZnSeとZnSが、第12族−第16族の組み合わせであるため、第13族−第15族の組み合わせであるInPとでコア/シェル構造を形成しようとすると、コアとシェルとの間位に複数の欠陥準位ができてしまい、この複数の欠陥準位が存在することが発光波長の幅を広げて、半値幅を広くする原因となっている。そのため、InP/ZnSe又はZnSeとZnSコア/シェル構造の半導体ナノ粒子には、欠陥準位が少ないことが求められている。
なお、欠陥準位が生じることにより、吸光波長に対して発光波長が長波長側にずれ、発光スペクトルのピーク波長と該半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差であるストークスシフトが大きくなる一因となる。したがって、欠陥準位を少なくすることで半導体ナノ粒子のストークスシフトを小さくすることが可能になる。なお、ストークスシフトが大きいと、発光波長が長波長側にずれ過ぎるために、所望の発光波長が得られなくなるという問題点もある。そのため、InP/ZnSe又はZnSeとZnSコア/シェル構造の半導体ナノ粒子は、ストークスシフトが小さいことが好ましい。
また、上述したように、半導体ナノ粒子には、本来的に、量子効率が高いことが求められているため、更なる量子効率の向上の要求がある。
更に、近年、「BT.2020」と呼ばれる色域規格が、4K/8K放送やUHDブルーレイ、映画館の色域規格に採用されるようになってきた。「BT.2020」の色域規格を満たすためには、青色発光が467nm、緑色発光が532nm、赤色発光が630nmであることが必要となる。つまり、「BT.2020」の色域規格において、現行のテレビ放送の色域規格として採用されている「BT.709」の色域規格に比べ、特に、緑色発光の波長が非常に短くなっている。
さらに、半導体ナノ粒子をQDデバイスに使用する場合、QDデバイスが発する発光波長は、QDデバイスに用いられている半導体ナノ粒子自体の発光波長よりも長波長となる傾向がある。そのため、QDデバイスで緑色発光を532nmにするためには、半導体ナノ粒子の緑色の発光波長が532nm以下であることが要求される。
ところが、特許文献4〜6に開示されている半導体ナノ粒子では、450nmの青色光による励起で、532nm以下の波長の緑色の発光を達成することができなかった。
従って、本発明の目的は、In及びPを含有するコアとZn及びSeを主成分とするシェルからなるコア/シェル型半導体ナノ粒子であって、量子効率が高く、半値幅が小さく、且つ、ストークスシフトが小さい半導体ナノ粒子を提供することにある。また、本発明の目的は、In及びPを含有するコアとZn及びSeを主成分とするシェルからなるコア/シェル型半導体ナノ粒子であって、量子効率が高く、半値幅が小さく、且つ、ストークスシフトが小さいことに加え、450nmの青色光による励起で532nm以下の波長の緑色の発光を可能とする半導体ナノ粒子を提供することにある。
上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明者等は、InPをコアとし、少なくともZnSeをシェルとするコア/シェル型構造の半導体ナノ粒子において、半導体ナノ粒子に適切量のハロゲンを含有させること、シェル層のSe含有量を多くすること、シェル層のZn、Seを特定の範囲とすることにより、量子効率が高く、半値幅が小さく、且つ、ストークスシフトが小さくなり、更に450nmの青色光による励起で532nm以下の波長の緑色の発光を可能となることを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明(1)は、In及びPを含有するコアと、1層以上のシェルと、を有するコア/シェル型半導体ナノ粒子であり、
前記半導体ナノ粒子はさらに少なくともZn、Se及びハロゲンを含有し、
前記半導体ナノ粒子において、原子換算で、Inに対するP、Zn、Se及びハロゲンの各モル比が、P:0.20〜0.95、Zn:11.00〜50.00、Se:7.00〜25.00、ハロゲン:0.80〜15.00であること、
を特徴とする半導体ナノ粒子を提供するものである。
また、本発明(2)は、原子換算で、Inに対するP、Zn、Se及びハロゲンの各モル比が、P:0.40〜0.95、Zn:12.00〜30.00、Se:11.00〜20.00、ハロゲン:1.00〜15.00であること、
を特徴とする(1)の半導体ナノ粒子を提供するものである。
また、本発明(3)は、前記半導体ナノ粒子がSを含有し、前記半導体ナノ粒子のS含有量が、原子換算でInに対するSのモル比で0.00〜45.00であること、を特徴とする(1)又は(2)の半導体ナノ粒子を提供するものである。
また、本発明(4)は、前記半導体ナノ粒子のS含有量が、原子換算でInに対するSのモル比で0.00〜30.00であること、を特徴とする(3)の半導体ナノ粒子を提供するものである。
また、本発明(5)は、原子換算で、Inに対するZn、Se及びSのモル比の合計が、20.00〜100.00であることを特徴とする(3)又は(4)の半導体ナノ粒子。
また、本発明(6)は、前記半導体ナノ粒子が、さらにTeを含むことを特徴とする、(1)〜(5)のいずれかの半導体ナノ粒子を提供するものである。
また、本発明(7)は、前記半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と、該半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差が、23nm以下であることを特徴とする(1)〜(6)いずれかの半導体ナノ粒子を提供するものである。
また、本発明(8)は、前記半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と、該半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差が、21nm以下であることを特徴とする(1)〜(7)いずれかの半導体ナノ粒子を提供するものである。
また、本発明(9)は、前記半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長が、515〜532nmであることを特徴とする(1)〜(8)いずれかの半導体ナノ粒子を提供するものである。
また、本発明(10)は、前記半導体ナノ粒子の発光スペクトルの半値幅(FWHM)が、35nm以下であることを特徴とする(1)〜(9)いずれかの半導体ナノ粒子を提供するものである。
また、本発明(11)は、前記ハロゲンが、Cl及びBrからなる群から選ばれる1種以上であることを特徴とする(1)〜(10)いずれかの半導体ナノ粒子を提供するものである。
また、本発明(12)は、前記半導体ナノ粒子の量子効率(QY)が、80%以上であることを特徴とする(1)〜(11)いずれかの半導体ナノ粒子を提供するものである。
また、本発明(13)は、前記シェルの少なくとも1つがZnSeで形成されていることを特徴とする(1)〜(12)いずれか1項記載の半導体ナノ粒子を提供するものである。
また、本発明(14)は、前記シェルが2層以上であり、前記シェルの最外層がZnSで形成されていることを特徴とする(1)〜(13)いずれか1項記載の半導体ナノ粒子を提供するものである。
また、本発明(15)は、前記シェルが、少なくとも、ZnSeで形成されており前記コアの外側表面を覆う第一シェルと、ZnSで形成されており該第一シェルの外側表面を覆う第二シェルと、からなることを特徴とする(1)〜(10)いずれか1項記載の半導体ナノ粒子を提供するものである。
また、本発明(16)は、In及びPを含有するコアと、1層以上のシェルと、を有するコア/シェル型半導体ナノ粒子であり、
前記シェルの少なくとも1層が、ZnSeで形成されており、
さらに前記半導体ナノ粒子はハロゲンを含み、
前記ハロゲンは原子換算で、Inに対するモル比が0.80〜15.00であり、
該半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と、該半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差が、23nm以下であること、
を特徴とする半導体ナノ粒子を提供するものである。
また、本発明(17)は、前記半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と、前記半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差が、21nm以下であることを特徴とする(16)記載の半導体ナノ粒子を提供するものである。
また、本発明(18)は、前記ハロゲンが、Cl及びBrからなる群から選ばれる1種以上であることを特徴とする(17)の半導体ナノ粒子を提供するものである。
また、本発明(19)は、(1)〜(18)いずれか1項記載の半導体ナノ粒子が溶媒に分散されていることを特徴とする半導体ナノ粒子分散液を提供するものである。
また、本発明(20)は、(1)〜(18)いずれか1項記載の半導体ナノ粒子を含有することを特徴とする光学部材を提供するものである。
本発明によれば、In及びPを含有するコアとZn及びSeを主成分とするシェルからなるコア/シェル型半導体ナノ粒子であって、量子効率が高く、半値幅が小さく、且つ、ストークスシフトが小さい半導体ナノ粒子を提供することができる。また、本発明によれば、In及びPを含有するコアとZn及びSeを主成分とするシェルからなるコア/シェル型半導体ナノ粒子であって、量子効率が高く、半値幅が小さく、且つ、ストークスシフトが小さいことに加え、450nmの青色光による励起で532nm以下の波長の緑色の発光を可能とする半導体ナノ粒子を提供することができる。
半導体ナノ粒子の形態例を示す模式図である。 QDデバイスを示す模式図である。 QDデバイスを示す模式図である。 本発明の実施形態に関わる半導体ナノ粒子の吸収スペクトルおよび発光スペクトルの一例の概略を表す図である。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子は、In及びPを含有するコアと、1層以上のシェルと、を有するコア/シェル型半導体ナノ粒子であり、
前記半導体ナノ粒子はさらに少なくともZn、Se及びハロゲンを含有し、
前記半導体ナノ粒子において、原子換算で、Inに対するP、Zn、Se及びハロゲンの各モル比が、P:0.20〜0.95、Zn:11.00〜50.00、Se:7.00〜25.00、ハロゲン:0.80〜15.00であること、
を特徴とする半導体ナノ粒子である。
なお、以下において数値範囲を示す符号「〜」は、特に断らない限り、符号「〜」の前後に記載された数値を含む範囲を示す。つまり、〇〜△とは、〇以上且つ△以下を表す。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子は、コアと、1層以上のシェルと、を有するコア/シェル型の構造の半導体ナノ粒子である。本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子において、シェルは少なくとも1層あればよく、本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子としては、例えば、コアと1層のシェルからなるコア/シェル型の半導体ナノ粒子、コアと2層のシェルからなるコア/シェル型の半導体ナノ粒子、コアと3層以上のシェルからなるコア/シェル型の半導体ナノ粒子が挙げられる。本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子が1層のシェルを有する場合、シェル全体の各元素の濃度が均一であってもよいし、半径方向に濃度勾配を有していてもよい。本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子が複数層のシェルを有する場合、各シェルにおいて、各元素の濃度が均一であってもよいし、半径方向に濃度勾配を有していてもよい。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子の構造の形態例を図1A〜図1Eに示す。図1A〜図1Eは、本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子を示す模式的な断面図である。図1A〜図1Eにおいて、半導体ナノ粒子は、コア11(図中白塗部)とシェル12(図中斜線部)からなる。図1A及び図1Bに示すように、半導体ナノ粒子は、シェル12がコア11の表面全体を覆っている構造を有することができる。また、図1Cに示すように、半導体ナノ粒子は、シェル12がアイランド状にコア11の表面の一部に存在する構造を有することができる。また、図1Dに示すように、半導体ナノ粒子は、シェル12がナノ粒子としてコア11の表面に付着し、コア11を覆う構造を有することができる。また、図1Eに示すように、半導体ナノ粒子は、コア11が球状でなくてもよい。半導体ナノ粒子の構造としては、図1A及び図1Bのように、シェルがコアの表面全体を覆っている構造が好ましく、図1Aのように、シェルがコアの表面全体を均一に覆っている構造が特に好ましい。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子は、少なくとも、In、P、Zn、Se及びハロゲンを含有する。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子に係るコアは、少なくともIn及びPを含有する。そして、コアは、主としてIn及びPからなる。また、コアは、本発明の効果を損なわない範囲で、不可避的に又は意図的に、In及びP以外に、Zn、S、Si、N等を含有することができる。また、コアは、シェルから拡散してくるZn、Seを含有していてもよい。コアの平均粒径は、好ましくは1.0〜5.0nmである。コアの平均粒径が1.0〜5.0nmであると、450nmの励起光を、波長が500〜650nmの光に変換することができる。なお、本発明において、コアの平均粒径は、透過型電子顕微鏡(TEM)により観察される粒子画像について、10個以上の粒子の粒径を面積円相当径(Heywood径)で算出することにより求められる。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子に係るシェルは、少なくともZn及びSeを含有する。そして、シェルは、主としてZn及びSeを含有する。また、シェルは、本発明の効果を損なわない範囲で、Zn及びSe以外に、不可避的に又は意図的に、S、Te、Si、Ti、Al、N等を含有することができる。特に、Sは半導体ナノ粒子の耐候性を上げるのに効果的である。また、Teは半導体ナノ粒子の吸光度を上げるのに効果的であり、Seのモルに対して0.00〜0.50のモル比で添加することが好ましい。シェルの形態例としては、例えば、ZnSeにより形成されているシェルが挙げられる。また、シェルの形態例としては、シェルが2層以上からなり、少なくとも1層がZnSeで形成されているシェルが挙げられる。また、シェルの形態例としては、シェルが2層以上からなり、少なくとも1層がZn及びSeを含むシェルで形成され且つ最外層がZnSで形成されているシェルが挙げられる。また、シェルの形態例としては、少なくとも、ZnSeで形成されておりコアの外側表面を覆う第一シェルと、ZnSで形成されており第一シェルの外側表面を覆う第二シェルと、を有するシェルが挙げられ、ZnSeで形成されておりコアの外側表面を覆う第一シェルと、ZnSで形成されており第一シェルの外側表面を覆う第二シェルと、からなる二重構造のシェルが好ましい。第一シェルは、Zn及びSe以外に、S、Te、Si、Ti、Al、N等を含有することができる。第二シェルは、Zn及びS以外に、Se、Te、Si、Ti、Al、N等を含有することができる。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子は、ハロゲンを含有する。ハロゲンは、In3+とZn2+のつなぎとしてダングリングボンドを埋め、陰イオンに対する閉じ込め効果を増大させる効果を与えると本発明者らは推測している。そのため、本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子が、コア粒子の外側表面にハロゲンを含有することにより、ハロゲンによりダングリングボンドが埋められるため、欠陥準位が消失し、その結果、半値幅が狭くなる。ハロゲンとしては、Cl、Br、Iが挙げられる。これらのうち、ハロゲンとしては、Cl、Brが、半値幅が狭くなり、ストークスシフトが小さくなる効果が高くなる点で好ましい。なお、前述した通り、本願においてストークスシフトとは発光スペクトルのピーク波長と、吸収スペクトルのピーク波長の差をいう。本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子中で、ハロゲンは、コア粒子の内部、コア粒子の外側表面、シェルの内部、シェルの外側表面のいずれに存在していてもよいが、特にハロゲンがコア粒子の外側表面乃至シェルの内部に存在していることにより、半値幅が狭くなり、ストークスシフトが小さくなる効果がより現れる。なお、同じ発光波長を有する半導体ナノ粒子では、ストークスシフトが小さい半導体ナノ粒子の方が、励起光を効率よく吸収する効果が得られる。特に発光波長が532nm以下の緑の発光波長を有する半導体ナノ粒子では、この効果がより得られる。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子において、原子換算で、Inに対するPのモル比は、0.20〜0.95、好ましくは0.40〜0.95である。Inに対するPのモル比が上記範囲にあることにより、量子効率が高く、半値幅が小さく、且つ、ストークスシフトが小さくなる。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子において、原子換算で、Inに対するZnのモル比は、11.00〜50.00、好ましくは12.00〜30.00、である。Inに対するZnのモル比が上記範囲にあることにより、量子効率が高く、半値幅が小さく、且つ、ストークスシフトが小さくなる。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子において、原子換算で、Inに対するSeのモル比は、7.00〜25.00、好ましくは11.00〜20.00である。Inに対するSeのモル比が上記範囲にあることにより、量子効率が高く、半値幅が小さく、且つ、ストークスシフトが小さくなる。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子において、原子換算で、Inに対するハロゲンのモル比は、0.80〜15.00、好ましくは1.00〜15.00である。Inに対するハロゲンのモル比が上記範囲にあることにより、量子効率が高く、半値幅が小さく、且つ、ストークスシフトが小さくなる。なお、本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子が、2種以上のハロゲンを含有する場合、上記のInに対するハロゲンのモル比は、2種以上の各ハロゲンのInに対するモル比を合計した値を指す。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子において、原子換算で、Inに対するP、Zn、Se及びハロゲンの各モル比が、P:0.40〜0.95、Zn:12.00〜30.00、Se:11.00〜20.00、ハロゲン:1.00〜15.00であることにより、450nmの光で励起した際に515nm〜532nmの緑色光の発光が得られ易くなる。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子がS原子を含有する場合、本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子のSの含有量は、原子換算で、Inに対するSのモル比で、好ましくは0.00〜45.00、より好ましくは0.00〜30.00、特に好ましくは0.00〜20.00である。従来のInP/ZnSe・ZnS半導体ナノ粒子は、最外層をZnS層とすることで、半導体ナノ粒子の量子効率の低下を抑制すると考えられていたが、本実施形態によれば、最外層にZnS層を形成せずとも、高い量子効率を維持することができる。なお、本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子がSを含有し、最外層のシェルがZnSで形成されていることにより、半導体ナノ粒子の耐候性が高くなる点で好ましい。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子において、原子換算で、Inに対するZnのモル比、Inに対するSeのモル比、及びInに対するSのモル比の合計の値は、好ましくは20.00〜100.00である。Inに対するZnのモル比、Inに対するSeのモル比、及びInに対するSのモル比の合計の値が上記範囲にあることにより、量子効率が高く、半値幅が小さく、且つ、ストークスシフトが小さくなり、さらに対候性が増す効果がある。なお、本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子において、原子換算で、Inに対するZnのモル比、Inに対するSeのモル比、及びInに対するSのモル比の合計の値が大きくなることは、コアの径に対するシェルの厚みが相対的に大きくなることを指す。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子のCd含有量は、100質量ppm以下、好ましくは80質量ppm以下、特に好ましくは50質量ppm以下である。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子の平均粒径は、特に限定されないが、好ましくは1.0〜20.0nm、特に好ましくは1.0〜10.0nmである。なお、なお、本発明において、半導体ナノ粒子の平均粒径は、透過型電子顕微鏡(TEM)により観察される粒子画像について、10個以上の粒子の粒径を面積円相当径(Heywood径)で算出することにより求められる。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子は、450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と、吸収スペクトルのピーク波長の差が、好ましくは23nm以下、特に好ましくは21nmである。半導体ナノ粒子の450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と吸収スペクトルのピーク波長の差が上記範囲にあることにより、所望の発光波長が得られ易くなり、特に、緑色の発光において、532nm以下の波長の発光が得られ易くなる。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子の発光スペクトルの半値幅(FWHM)は、好ましくは35nm以下、特に好ましくは33nm以下である。半導体ナノ粒子の発光スペクトルの半値幅が上記範囲にあることにより、所望の発光波長において純度の高い発光が得られる。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子の量子効率(QY)は、好ましくは80%以上、特に好ましくは83%以上である。
本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子は、In及びPを含有するコアと、1層以上のシェルと、を有するコア/シェル型半導体ナノ粒子であり、
前記シェルの少なくとも1層が、ZnSeで形成されており、
さらに前記半導体ナノ粒子はハロゲンを含み、
前記ハロゲンは原子換算で、Inに対するモル比が0.80〜15.00であり、
該半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と、該半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差が、23nm以下であること、
を特徴とする半導体ナノ粒子である。
本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子は、コアと、1層以上のシェルと、有するコア/シェル型の構造の半導体ナノ粒子である。本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子において、シェルは少なくとも1層あればよく、本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子としては、例えば、コアと1層のシェルからなるコア/シェル型の半導体ナノ粒子、コアと2層のシェルからなるコア/シェル型の半導体ナノ粒子、コアと3層以上のシェルからなるコア/シェル型の半導体ナノ粒子が挙げられる。本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子のコア/シェル型の構造は、本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子のコア/シェル型の構造と同様である。
本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子に係るコアは、少なくともIn及びPを含有する。つまり、コアは、主としてIn及びPを含有する。また、コアは、本発明の効果を損なわない範囲で、不可避的に又は意図的に、In及びP以外に、Si、Ti、Al、N等を含有することができる。コアの平均粒径は、好ましくは1.0〜5.0nmである。コアの平均粒径が1.0〜5.0nmであると、450nmの励起光を、波長が500〜650nmの光に変換することができる。なお、本発明において、コアの平均粒径は、透過型電子顕微鏡(TEM)により観察される粒子画像について、10個以上の粒子の粒径を面積円相当径(Heywood径)で算出することにより求められる。
本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子に係るシェルは、少なくとも一層がZnSeで形成される。また、シェルは、本発明の効果を損なわない範囲で、不可避的に又は意図的に、Se及びZn以外に、S、Te、Si、Ti、Al、N等を含有することができる。特に、Teは半導体ナノ粒子の吸光度を上げるのに効果的であり、Seのモルに対して0.00〜0.50のモル比で添加することが好ましい。また、SとZnはZnSを形成し、半導体ナノ粒子の耐候性を上げるのに効果的である。
本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子は、ハロゲンを含有する。ハロゲンとしては、Cl、Br、Iが挙げられる。これらのうち、ハロゲンとしては、Cl、Brが、半値幅が狭くなり、ストークスシフトが小さくなる効果が高くなる点で好ましい。本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子中で、ハロゲンが存在している位置は、コア粒子の外側表面である。そして、ハロゲンが、少なくともコア粒子の外側表面に存在していることにより、半値幅が狭くなり、ストークスシフトが小さくなる効果が高くなる。同じ発光波長を有する半導体ナノ粒子では、ストークスシフトが小さい半導体ナノ粒子の方が、励起光を効率よく吸収する効果が得られる。特に緑の発光波長を有する半導体ナノ粒子では、この効果がより得られる。
本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子において、原子換算で、Inに対するSeのモル比は、7.00〜25.00、好ましくは11.00〜20.00である。Inに対するSeのモル比が上記範囲にあることにより、量子効率が高く、半値幅が小さく、且つ、ストークスシフトが小さくなる。
本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子において、原子換算で、Inに対するハロゲンのモル比は、0.80〜15.00、好ましくは1.00〜15.00である。Inに対するハロゲンのモル比が上記範囲にあることにより、量子効率が高く、半値幅が小さく、且つ、ストークスシフトが小さくなる。なお、本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子が、2種以上のハロゲンを含有する場合、上記のInに対するハロゲンのモル比は、2種以上の各ハロゲンのInに対するモル比を合計した値を指す。
本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子において、原子換算で、Inに対するPのモル比は、0.20〜0.95、好ましくは0.40〜0.95である。Inに対するPのモル比が上記範囲にあることにより、量子効率が高く、半値幅が小さく、且つ、ストークスシフトが小さくなる。
本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子において、原子換算で、Inに対するZnのモル比は、11.00〜50.00、好ましくは12.00〜30.00、である。Inに対するZnのモル比が上記範囲にあることにより、量子効率が高く、半値幅が小さく、且つ、ストークスシフトが小さくなる。
本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子の平均粒径は、特に限定されないが、好ましくは1.0〜20.0nm、特に好ましくは1.0〜10.0nmである。
本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子は、450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と、吸収スペクトルのピーク波長の差が、好ましくは23nm以下、特に好ましくは21nm以下である。半導体ナノ粒子の450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と吸収スペクトルのピーク波長の差が上記範囲にあることにより、所望の発光波長が得られ易くなり、特に、緑色の発光において、532nm以下の波長の発光が得られ易くなる。
本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子の発光スペクトルの半値幅(FWHM)は、好ましくは35nm以下、特に好ましくは33nm以下である。半導体ナノ粒子の発光スペクトルの半値幅が上記範囲にあることにより、所望の発光波長において純度の高い発光が得られる。
本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子の量子効率(QY)は、好ましくは80%以上、特に好ましくは83%以上である。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子及び本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子は、マトリクスへの分散の安定化のために、シェルの表面がリガンドで修飾されていてもよい。また、必要に応じて、極性の異なる溶媒への分散性を高めるために、本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子又は本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子が修飾されているリガンドが、他のリガンドに交換されているものであってもよい。また、リガンドで修飾されている本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子又は本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子は、リガンドを通じて、他の構造物に結合することもできる。
また、本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子及び本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子は、表面に酸化物層を有するものであってもよい。酸化物層を形成する酸化物としては、本発明の効果を奏する範囲であれば、特に制限されず、SiやTi、Alの酸化物が挙げられる。
本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子及び本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子の製造方法例を以下に述べる。なお、以下に述べる半導体ナノ粒子の製造方法は例示であって、本発明の第一の形態の半導体ナノ粒子及び本発明の第二の形態の半導体ナノ粒子は、以下の製造方法により製造されたものに限定されるものではない。
本発明の半導体ナノ粒子の製造方法例に係るIn前駆体、P前駆体、Zn前駆体、Se前駆体、S前駆体、ハロゲン前駆体は以下の通りである。
In前駆体としては、特に制限されず、例えば、酢酸インジウム、プロピオン酸インジウム、ミリスチン酸インジウム、オレイン酸インジウム等のカルボン酸インジウム、フッ化インジウム、臭化インジウム、ヨウ化インジウム等のハロゲン化インジウム、インジウムチオラート、トリアルキルインジウム等が挙げられる。
P前駆体としては、特に制限されず、例えば、トリス(トリメチルシリル)ホスフィン、トリス(トリメチルゲルミル)ホスフィン、トリス(ジメチルアミノ)ホスフィン、トリス(ジエチルアミノ)ホスフィン、トリス(ジオクチルアミノ)ホスフィン、トリスアルキルホスフィン、PHガス等が挙げられる。なお、P前駆体として、トリス(トリメチルシリル)ホスフィンを用いる場合、Siが半導体ナノ粒子中に組み込まれる場合もあるが、本発明の作用を害するものではない。
Zn前駆体としては、特に制限されず、例えば、酢酸亜鉛、プロピオン酸亜鉛、ミリスチン酸亜鉛、オレイン酸亜鉛等のカルボン酸亜鉛、フッ化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛等のハロゲン化亜鉛等が挙げられる。
Se前駆体としては、特に制限されず、例えば、セレン化トリアルキルホスフィン、セレノール等が挙げられる。
S前駆体としては、特に制限されず、例えば、硫化トリオクチルホスフィン、硫化トリブチルホスフィン、チオール類、ビス(トリメチルシリル)スルフィド等が挙げられる。
ハロゲン前駆体としては、特に制限されず、例えば、HF、HCl、HBr、HI、塩化オレイル、臭化オレイル、塩化オクタノイル、臭化オクタイノイル等のカルボン酸ハロゲン化物、塩化亜鉛、塩化インジウム、塩化ガリウム等のハロゲン化金属が挙げられる。
<コア粒子の合成>
コア粒子は、In前駆体とP前駆体とを反応させることにより合成される。先ず、In前駆体及び溶媒を混合し、必要に応じて、分散剤及び/又は添加剤を添加したIn前駆体溶液を真空下で混合し、一旦100〜300℃で、6〜24時間加熱した後、P前駆体を添加して、200〜400℃で、数秒(例えば、2、3秒)〜60分間加熱後、冷却することにより、コア粒子が分散しているコア粒子分散液が得られる。次いで、コア粒子分散液にハロゲン前駆体を添加し、25〜300℃で、数秒(例えば、2、3秒)〜60分間加熱後、冷却することにより、粒子の表面の一部にハロゲンを有するハロゲン添加コア粒子分散液が得られる。
分散剤としては、特に制限されず、例えば、カルボン酸類、アミン類、チオール類、ホスフィン類、ホスフィンオキシド類、ホスフィン類、ホスホン酸類などが挙げられる。分散剤は、溶媒を兼ねることもできる。溶媒としては、特に制限されず、例えば、1−オクタデセン、ヘキサデカン、スクアラン、オレイルアミン、トリオクチルホスフィン、トリオクチルホスフィンオキシド等が挙げられる。添加剤としては、S前駆体、Zn前駆体、ハロゲン前駆体等が挙げられる。
<シェルの合成>
上記のようにして得られるハロゲン添加コア粒子分散液に、Zn前駆体、Se前駆体及びS前駆体を添加し、分散液中のコア粒子の存在下で、Zn前駆体、Se前駆体及びS前駆体を反応させることにより、コア粒子の表面にシェルを形成させる。
シェルの合成の一形態例としては、例えば、ハロゲン添加コア粒子分散液に、Zn前駆体及びSe前駆体を添加後、150〜300℃、好ましくは180〜250℃で加熱する方法が挙げられる。また、シェルの合成の一形態例としては、例えば、ハロゲン添加コア粒子分散液に、Zn前駆体及びSe前駆体を添加後、150〜300℃、好ましくは180〜250℃で加熱し、次いで、Zn前駆体及びS前駆体を添加後、200〜400℃、好ましくは250〜350℃で加熱する方法が挙げられる。このシェルの合成方法により、ハロゲン添加コア粒子の表面にZnSeを含有するシェル(第一シェル)が形成され、更にその外側にZnSを含有するシェル(第二シェル)が形成されている半導体ナノ粒子が得られる。
また、シェルの合成の一形態例としては、例えば、ハロゲン添加コア粒子分散液に、Zn前駆体、Se前駆体、更に必要に応じてS前駆体を、一度に添加し、150〜350℃に加熱する方法が挙げられる。また、シェルの合成の一形態例としては、例えば、ハロゲン添加コア粒子分散液に、Zn前駆体、Se前駆体及びS前駆体を、150〜350℃に加熱した状態で、複数回に分けて添加する方法が挙げられる。さらに、シェルの合成の一形態例としては、例えば、ハロゲン添加コア粒子分散液に、Zn前駆体及びSe前駆体を150〜350℃に加熱した状態で添加し、次にZn前駆体及びS前駆体を、150〜350℃に加熱した状態で添加する方法が挙げられる。このシェルの合成方法により、ハロゲン添加コア粒子の表面にZnSe及びZnSを含有するシェルが形成されている半導体ナノ粒子が得られる。シェル前駆体であるZn前駆体、Se前駆体、更に必要に応じてS前駆体を複数回に分けて添加して反応させる場合は、全ての分割添加において、シェル前駆体それぞれの濃度が同じであってもよいし、分割添加毎に、シェル前駆体それぞれの濃度が異なっていてもよい。また、シェル前駆体を複数回に分けて添加して反応させる場合は、全ての分割添加において、加熱温度が同じであってもよいし、分割添加毎に、加熱温度が異なっていてもよい。なお、前述した方法においてシェル前駆体にTe前駆体を加えることでシェルにTeを含有させることができる。Te前駆体としては、例えば、テルル化トリオクチルホスフィンが挙げられる。
<精製>
上記のようにして得られた半導体ナノ粒子を、精製することができる。例えば、アセトン等の極性転換溶媒を添加することによって、半導体ナノ粒子を溶液から析出させることができる。そして、析出した半導体ナノ粒子を、ろ過又は遠心分離によって回収することができる。また、未反応の出発物質及び他の不純物を含むろ液又は上澄み液を、再利用することができる。次いで、回収した半導体ナノ粒子を、さらなる溶媒で洗浄し、再び溶解させることができる。この精製操作を、例えば、2〜4回、あるいは、所望の純度に到達するまで、繰り返すことができる。他の精製方法としては、例えば、凝集、液液抽出、蒸留、電着、サイズ排除クロマトグラフィー、限外ろ過等が挙げられる。精製では、これらの精製方法を、1種単独で又は複数を組み合わせて行うことができる。
また、上記のようにして得た半導体ナノ粒子に界面活性剤を添加し、撹拌後、無機含有組成物を添加し、再度撹拌することで、半導体ナノ粒子の表面に酸化物層を形成させることができる。界面活性剤としては、特に限定されず、例えば、ドデシル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、n−ブタノール、ジオクチルソジウムスルホサクシネート等が挙げられる。無機含有組成としては、特に制限されないが、例えば、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤等が挙げられる。例えば、半導体ナノ粒子を精製後、界面活性剤を含む水溶液を添加し、混合液を混合及び撹拌することでミセルを形成させる。ミセルの形成は、混合液の白濁により確認される。ミセルが形成された水相を回収し、これに無機含有組成物を添加し、10〜30℃で、10分〜6時間撹拌する。未反応物を除去後、再度精製することにより、酸化物の酸化物層を有する半導体ナノ粒子が得られる。酸化物の最外層を形成する方法としては、上記方法に限定されず、例えば、シェル合成時に無機含有組成物を添加する方法や、その他公知の方法が用いられる。
さらに、前述した方法で得た半導体ナノ粒子の表面をリガンドで修飾してもよい。リガンドでの修飾方法は、リガンド交換法など公知の方法が用いられる。
<プロセス>
上記の操作をバッチプロセスで実施することもできるし、また、上記の操作の少なくとも一部を、例えば、国際公開第2016/194802号、国際公開第2017/014314号、国際公開第2017/014313号、国際出願番号PCT/JP2017/016494に記載されているような連続フロープロセスで実施することもできる。
本発明の半導体ナノ粒子分散液は、本発明の半導体ナノ粒子が溶媒に分散されている分散液である。半導体ナノ粒子の分散媒としては、例えば、ヘキサン、オクタデセン、トルエン、アセトン、PGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)等が挙げられる。本発明の半導体ナノ粒子分散液中の半導体ナノ粒子の濃度又は粘度は、特に限定されず、使用方法により適宜選択される。
本発明の光学部材は、本発明の半導体ナノ粒子を含有するものであり、本発明の半導体ナノ粒子分散液を用いて、QDフィルムやQDパターンに成形することにより作製される。例えば、本発明の半導体ナノ粒子分散液を熱硬化性樹脂に分散させた後、樹脂をフィルムに成形又はパターニングし、硬化させて、光学部材を作製することができる。
<波長変換層>
本発明の光学部材としては、本発明の半導体ナノ粒子を含有するQDフィルムやQDパターニングが挙げられる。本発明の半導体ナノ粒子は、青色光を吸収して白色光に変換するQDフィルムや、青色光を吸収して赤色光又は緑色光に変換するQDパターンのような波長変換層(光学部材)として、好適に用いられる。例えば、半導体ナノ粒子のフィルム化工程、又は半導体ナノ粒子含有フォトレジストのベーキング工程、あるいは、半導体ナノ粒子のインクジェットパターニング後に溶媒除去及び樹脂硬化工程等を経ることによって、QDフィルムやQDパターンを得ることができる。
<測定>
半導体ナノ粒子の元素分析については、高周波誘導結合プラズマ発光分析装置(ICP)又は蛍光X線分析装置(XRF)を用いて元素分析を行うことができる。ICP測定では、精製した半導体ナノ粒子を硝酸で溶解し加熱後、水で希釈してICP発光分析装置(島津製作所製、ICPS−8100)を用いて検量線法で測定する。XRF測定では、分散液をろ紙に含浸させたものをサンプリングホルダに入れ、蛍光X線分析装置(リガク製、ZSX100e)を用いて定量分析を行う。
また、半導体ナノ粒子の光学特定については、蛍光量子効率測定システム(大塚電子製、QE−2100)、可視紫外分光光度計(日本分光製、V670)を用いて測定することができる。半導体ナノ粒子を分散媒に分散させた分散液に、励起光を当てて発光スペクトルを得る。ここで得られた発光スペクトルより再励起されて蛍光発光した分の再励起蛍光発光スペクトルを除いた再励起補正後の発光スペクトルより蛍光量子効率(QY)と半値幅(FWHM)を算出する。分散媒としては、例えば、ノルマルヘキサンやオクタデセン、トルエン、アセトン、PGMEAが挙げられる。測定に用いられる励起光は450nmの単一光とし、分散液としては、吸収率が20〜30%になるように半導体ナノ粒子の濃度を調整したものが用いられる。一方、吸収スペクトルについては、半導体ナノ粒子を分散媒に分散させた分散液に、紫外〜可視光を当てて測定することができる。
なお、本明細書の記載の構成、方法、手順、処理等は、例示であって、本発明を限定するものではなく、本発明の範囲において、多数の変形形態が適用可能である。
以下、本発明を具体的な実験例に基づき説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
以下の方法に従って、半導体ナノ粒子の作製を行い、得られた半導体ナノ粒子の組成、光学特性を測定した。
(実験例1)
<コア粒子の製造>
酢酸インジウム(0.3mmol)およびオレイン酸亜鉛(0.6mmol)を、オレイン酸(0.9mmol)と1−ドデカンチオール(0.1mmol)とオクタデセン(10mL)との混合物に加え、真空下(<20Pa)で約120℃に加熱し、1時間反応させた。真空(<20Pa)で反応させた混合物を25℃、窒素雰囲気下にして、トリス(トリメチルシリル)ホスフィン(0.25mmol)を加えたのち、300℃に加熱し、10分間反応させた。さらに、反応液を25℃に冷却し、オクタン酸クロリド(0.45mmol)を注入し、250℃で30分間加熱後、25℃に冷却して、コア粒子の分散溶液を得た。
<シェル形成用の前駆体>
40mmolのオレイン酸亜鉛と75mLのオクタデセンを混合し、真空化で110℃にて1時間加熱し、[Zn]=0.4MのZn前駆体溶液を調整した。
22mmolのセレン粉末と10mLのトリオクチルホスフィンを窒素中で混合し、全て溶けるまで撹拌して[Se]=2.2Mのセレン化トリオクチルホスフィンを得た。
22mmolの硫黄粉末と10mLのトリオクチルホスフィンを窒素中で混合し、全て溶けるまで撹拌して[S]=2.2Mの硫化トリオクチルホスフィンを得た。
<シェルの形成>
コア粒子の分散溶液を250℃まで加熱した。250℃において4.5mLのZn前駆体溶液と1.5mLのセレン化トリオクチルホスフィンを添加し、30分間反応させ、InP系半導体ナノ粒子の表面にZnSeシェルを形成した。さらに、4.0mLのZn前駆体溶液と0.6mLの硫化トリオクチルホスフィンを添加し、280℃に昇温して1時間反応させ、ZnSシェルを形成した。
得られた半導体ナノ粒子を、STEM−EDSによって観察したところ、コア/シェル構造をしていることが確認された。
<精製>
上記のようにして得られたコア/シェル型構造の半導体ナノ粒子が分散している溶液にアセトンを加え、半導体ナノ粒子を凝集させた。次いで、遠心分離(4000rpm、10分間)後、上澄みを除去し、半導体ナノ粒子をヘキサンに再分散させた。これを繰り返して、精製された半導体ナノ粒子を得た。
<評価>
精製した半導体ナノ粒子について、以下のようにして、組成、量子効率、発光半値幅、ピーク波長、ストークスシフトを測定した。各実験例の結果を表1に示す。
(組成)
高周波誘導結合プラズマ発光分析装置(ICP)と蛍光X線分析装置(XRF)を用いて、組成分析を行った。
(光学特性)
光学特性については、前述した通り、量子効率測定システムを用いて発光スペクトルを測定し、量子効率(QY)、半値幅(FWHM)、ピーク波長(lambda max)を測定した。この時、励起光を450nmの単一波長とした。測定に用いる分散液としては吸収率が20〜30%になるように濃度を調整したものを用いた。さらに、紫外可視分光光度計を用いて、半導体ナノ粒子の分散液に紫外から可視光を照射し吸収スペクトルを測定した。吸収スペクトルの測定に用いる分散液としては、分散媒を1mLに対して半導体ナノ粒子の量が1mgになるように濃度を調整したものを用いた。なお、前述で得られた半導体ナノ粒子の発光スペクトルのピーク波長と、半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差をストークスシフトとして算出した。
なお、図4に実験例2で得られた半導体ナノ粒子の発光スペクトル及び吸収スペクトルを示す。破線は吸収スペクトルを示し、実線は発光スペクトルを示す。横軸は吸収スペクトルでは吸収波長を示し、発光スペクトルでは発光波長を示す。縦軸は、吸収スペクトルでは吸光度を示し、発光スペクトルでは発光強度を示す。ストークスシフトは、発光スペクトルのピーク波長(図4中B)と、半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長(図4中A)の差にあたり、図4におけるAB間がストークスシフトとなる。図4中に示す半導体ナノ粒子のストークスシフトは19.7nmであった。
(実験例2)
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.20mmol、オクタン酸クロリドを1.1mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、セレン化トリオクチルホスフィンを2.0mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.8mLとしたこと以外は、実験例1と同様にして半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例3)
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.10mmol、オクタン酸クロリドを0.75mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を6.6mL、セレン化トリオクチルホスフィンを2.2mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を4.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.2mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例4)
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.30mmol、オクタン酸クロリドを1.1mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を5.4mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を12.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを2.1mLとした以外は例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例5)
コア粒子の分散液の作製時にオレイン酸亜鉛を添加せず、添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.20mmol、オクタン酸クロリドを0.75mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を3.9mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.2mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を4.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.2mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例6)
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.18mmol、オクタン酸クロリドを1.2mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を9.0mL、セレン化トリオクチルホスフィンを3.0mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を24.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを2.8mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例7)
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.20mmol、オクタン酸クロリドを0.4mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を3.0mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.0mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を2.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.6mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例8)
コア粒子の分散液の作製時にオレイン酸亜鉛、ドデカンチオールの代わりにトリオクチルホスフィンを添加し、添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.18mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を12.0mL、セレン化トリオクチルホスフィンを3.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を15.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.3mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例9)
コア粒子の分散液の作製時にドデカンチオールの代わりにトリオクチルホスフィンを2mL添加し、添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.20mmol、オクタン酸クロリドを0.3mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を4.5mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.2mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を3.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.05mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例10)
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.20mmol、オクタン酸クロリドを0.5mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を5.4mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを6.0mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例11)
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.15mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を5.4mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.2mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例12)
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.15mmol、オクタン酸クロリドを2.5mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を7.2mL、セレン化トリオクチルホスフィンを2.4mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.2mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例13)
3mmolのテルル粉末と10mLのトリオクチルホスフィンを窒素中で混合し、250℃に加熱して全て溶けるまで攪拌して[Te]=0.3Mのテルル化トリオクチルホスフィンを得た。
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.15mmol、オクタン酸クロリドを2.5mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を7.2mL、セレン化トリオクチルホスフィンを2.2mLとし、さらにテルル化トリオクチルホスフィンを5.0mL添加し、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.2mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。得られた半導体ナノ粒子のInに対するTeのモル比は7.60であった。なお、Te以外の分析値については、表1に示す。
(実験例14)
コア粒子の分散液の作製時、ドデカンチオールの代わりにトリオクチルホスフィンを2mL添加し、トリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.15mmol、オクタン酸クロリドを2.5mmolとした以外は実験例1と同様にコア粒子の分散溶液を作製した。さらに、コア粒子の分散溶液を250℃まで加熱し、250℃において8.2mLのZn前駆体溶液と2.4mLのセレン化トリオクチルホスフィンを添加し、30分間反応させ、InP系半導体ナノ粒子の表面にZnSeシェルを形成した。
前述した通り、本実施形態により得られる半導体ナノ粒子は、ZnS層を最外層に形成せずとも、ZnS層を最外層に有する半導体ナノ粒子と同等の量子効率を有する。
(実験例15)
コア粒子の分散液の作製時に添加するドデカンチオールの代わりにトリオクチルホスフィンを2mL添加し、添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.18mmol、オクタン酸クロリドを4.0mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を7.0mL、セレン化トリオクチルホスフィンを2.4mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を12.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを2.1mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例16)
10mmolの臭化亜鉛粉末と10mLのトリオクチルホスフィンを窒素中で混合し、全て溶けるまで撹拌して臭化物前駆体を得た。
コア粒子の分散液の作製時にドデカンチオールの代わりにトリオクチルホスフィンを2mL添加し、添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.18mmol、オクタン酸クロリドの代わりに臭化物前駆体を1.2mL添加し、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を7.2mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を4.5mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.9mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例17)
コア粒子の分散液の作製時に添加するオクタン酸クロリドを1.5mmolとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を20.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを3.5mLとしたこと以外は、実験例1と同様にして半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例18)
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.06mmol、オクタン酸クロリドを0.5mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を4.5mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を8.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.9mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例19)
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.35mmol、オクタン酸クロリドを0.75mmolとした。トリス(トリメチルシリル)ホスフィンを添加し、加熱を行ったところ、半導体ナノ粒子の凝集体と思われるものが発生し始めた。そのまま、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を5.6mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を4.5mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.0mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製したが、得られた半導体ナノ粒子は凝集しており、光学特性を測定できる程度の分散液の調整が困難であった。
(実験例20)
コア粒子の分散液の作製時にオレイン酸亜鉛を添加せず、添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.15mmol、オクタン酸クロリドを0.5mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を3.6mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.0mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を3.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.45mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例21)
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.18mmol、オクタン酸クロリドを0.9mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を12.0mL、セレン化トリオクチルホスフィンを2.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を24.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを5.0mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例22)
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.18mmol、オクタン酸クロリドを0.4mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を1.8mL、セレン化トリオクチルホスフィンを0.6mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.6mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例23)
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.18mmol、オクタン酸クロリドを0.4mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を12.0mL、セレン化トリオクチルホスフィンを4.0mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を15.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.2mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例24)
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.15mmol、オクタン酸クロリドを0.2mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を4.5mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.6mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例25)
コア粒子の分散液の作製時にオクタン酸クロリドを添加せず、添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.15mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を5.4mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を3.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.5mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
(実験例26)
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.28mmol、オクタン酸クロリドを4.5mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を7.2mL、セレン化トリオクチルホスフィンを2.4mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.2mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
Figure 0006933241
*表中、P、Zn、Se、S及びハロゲンの組成値は、Inに対するP、Zn、Se、S及びハロゲンの各モル比である。
1、101 青色LED
3、103 液晶
7、8 QDパターニング
9 拡散層
11 コア
12 シェル
102 QDフィルム
104 カラーフィルター(R)
105 カラーフィルター(G)
106 カラーフィルター(B)

Claims (20)

  1. In及びPを含有するコアと、1層以上のシェルと、を有するコア/シェル型半導体ナノ粒子であり、
    前記半導体ナノ粒子はさらに少なくともZn、Se及びハロゲンを含有し、
    前記半導体ナノ粒子において、原子換算で、Inに対するP、Zn、Se及びハロゲンの各モル比が、P:0.20〜0.95、Zn:11.00〜50.00、Se:7.00〜25.00、ハロゲン:0.80〜15.00であること、
    を特徴とする半導体ナノ粒子。
  2. 原子換算で、Inに対するP、Zn、Se及びハロゲンの各モル比が、P:0.40〜0.95、Zn:12.00〜30.00、Se:11.00〜20.00、ハロゲン:1.00〜15.00であること、
    を特徴とする請求項1記載の半導体ナノ粒子。
  3. 前記半導体ナノ粒子がSを含有し、前記半導体ナノ粒子のS含有量が、原子換算でInに対するSのモル比で0.00〜45.00であることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体ナノ粒子。
  4. 前記半導体ナノ粒子のS含有量が、原子換算でInに対するSのモル比で0.00〜30.00であること、を特徴とする請求項3記載の半導体ナノ粒子。
  5. 原子換算で、Inに対するZn、Se及びSのモル比の合計が、20.00〜100.00であることを特徴とする請求項3又は4記載の半導体ナノ粒子。
  6. 前記半導体ナノ粒子が、さらにTeを含むことを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体ナノ粒子。
  7. 前記半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と、該半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差が、23nm以下であることを特徴とする請求項1〜6いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
  8. 前記半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と、該半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差が、21nm以下であることを特徴とする請求項1〜7いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
  9. 前記半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長が、515〜532nmであることを特徴とする請求項1〜8いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
  10. 前記半導体ナノ粒子の発光スペクトルの半値幅(FWHM)が、35nm以下であることを特徴とする請求項1〜9いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
  11. 前記ハロゲンが、Cl及びBrからなる群から選ばれる1種以上であることを特徴とする請求項1〜10いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
  12. 前記半導体ナノ粒子の量子効率(QY)が、80%以上であることを特徴とする請求項1〜11いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
  13. 前記シェルの少なくとも1つがZnSeで形成されていることを特徴とする請求項1〜12いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
  14. 前記シェルが2層以上であり、前記シェルの最外層がZnSで形成されていることを特徴とする請求項1〜13いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
  15. 前記シェルが、少なくとも、ZnSeで形成されており前記コアの外側表面を覆う第一シェルと、ZnSで形成されており該第一シェルの外側表面を覆う第二シェルと、からなることを特徴とする請求項1〜14いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
  16. In及びPを含有するコアと、1層以上のシェルと、を有するコア/シェル型半導体ナノ粒子であり、
    前記シェルの少なくとも1層が、ZnSeで形成されており、
    さらに前記半導体ナノ粒子はハロゲンを含み、
    前記ハロゲンは原子換算で、Inに対するモル比が0.80〜15.00であり、
    該半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と、該半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差が、23nm以下であること、
    を特徴とする半導体ナノ粒子。
  17. 前記半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と、前記半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差が、21nm以下であることを特徴とする請求項16記載の半導体ナノ粒子。
  18. 前記ハロゲンが、Cl及びBrからなる群から選ばれる1種以上であることを特徴とする請求項17記載の半導体ナノ粒子。
  19. 請求項1〜18いずれか1項記載の半導体ナノ粒子が溶媒に分散されていることを特徴とする半導体ナノ粒子分散液。
  20. 請求項1〜18いずれか1項記載の半導体ナノ粒子を含有することを特徴とする光学部材。
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