JP6933241B2 - 半導体ナノ粒子、半導体ナノ粒子分散液及び光学部材 - Google Patents
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Description
前記半導体ナノ粒子はさらに少なくともZn、Se及びハロゲンを含有し、
前記半導体ナノ粒子において、原子換算で、Inに対するP、Zn、Se及びハロゲンの各モル比が、P:0.20〜0.95、Zn:11.00〜50.00、Se:7.00〜25.00、ハロゲン:0.80〜15.00であること、
を特徴とする半導体ナノ粒子を提供するものである。
を特徴とする(1)の半導体ナノ粒子を提供するものである。
前記シェルの少なくとも1層が、ZnSeで形成されており、
さらに前記半導体ナノ粒子はハロゲンを含み、
前記ハロゲンは原子換算で、Inに対するモル比が0.80〜15.00であり、
該半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と、該半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差が、23nm以下であること、
を特徴とする半導体ナノ粒子を提供するものである。
前記半導体ナノ粒子はさらに少なくともZn、Se及びハロゲンを含有し、
前記半導体ナノ粒子において、原子換算で、Inに対するP、Zn、Se及びハロゲンの各モル比が、P:0.20〜0.95、Zn:11.00〜50.00、Se:7.00〜25.00、ハロゲン:0.80〜15.00であること、
を特徴とする半導体ナノ粒子である。
なお、以下において数値範囲を示す符号「〜」は、特に断らない限り、符号「〜」の前後に記載された数値を含む範囲を示す。つまり、〇〜△とは、〇以上且つ△以下を表す。
前記シェルの少なくとも1層が、ZnSeで形成されており、
さらに前記半導体ナノ粒子はハロゲンを含み、
前記ハロゲンは原子換算で、Inに対するモル比が0.80〜15.00であり、
該半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と、該半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差が、23nm以下であること、
を特徴とする半導体ナノ粒子である。
コア粒子は、In前駆体とP前駆体とを反応させることにより合成される。先ず、In前駆体及び溶媒を混合し、必要に応じて、分散剤及び/又は添加剤を添加したIn前駆体溶液を真空下で混合し、一旦100〜300℃で、6〜24時間加熱した後、P前駆体を添加して、200〜400℃で、数秒(例えば、2、3秒)〜60分間加熱後、冷却することにより、コア粒子が分散しているコア粒子分散液が得られる。次いで、コア粒子分散液にハロゲン前駆体を添加し、25〜300℃で、数秒(例えば、2、3秒)〜60分間加熱後、冷却することにより、粒子の表面の一部にハロゲンを有するハロゲン添加コア粒子分散液が得られる。
上記のようにして得られるハロゲン添加コア粒子分散液に、Zn前駆体、Se前駆体及びS前駆体を添加し、分散液中のコア粒子の存在下で、Zn前駆体、Se前駆体及びS前駆体を反応させることにより、コア粒子の表面にシェルを形成させる。
上記のようにして得られた半導体ナノ粒子を、精製することができる。例えば、アセトン等の極性転換溶媒を添加することによって、半導体ナノ粒子を溶液から析出させることができる。そして、析出した半導体ナノ粒子を、ろ過又は遠心分離によって回収することができる。また、未反応の出発物質及び他の不純物を含むろ液又は上澄み液を、再利用することができる。次いで、回収した半導体ナノ粒子を、さらなる溶媒で洗浄し、再び溶解させることができる。この精製操作を、例えば、2〜4回、あるいは、所望の純度に到達するまで、繰り返すことができる。他の精製方法としては、例えば、凝集、液液抽出、蒸留、電着、サイズ排除クロマトグラフィー、限外ろ過等が挙げられる。精製では、これらの精製方法を、1種単独で又は複数を組み合わせて行うことができる。
上記の操作をバッチプロセスで実施することもできるし、また、上記の操作の少なくとも一部を、例えば、国際公開第2016/194802号、国際公開第2017/014314号、国際公開第2017/014313号、国際出願番号PCT/JP2017/016494に記載されているような連続フロープロセスで実施することもできる。
本発明の光学部材としては、本発明の半導体ナノ粒子を含有するQDフィルムやQDパターニングが挙げられる。本発明の半導体ナノ粒子は、青色光を吸収して白色光に変換するQDフィルムや、青色光を吸収して赤色光又は緑色光に変換するQDパターンのような波長変換層(光学部材)として、好適に用いられる。例えば、半導体ナノ粒子のフィルム化工程、又は半導体ナノ粒子含有フォトレジストのベーキング工程、あるいは、半導体ナノ粒子のインクジェットパターニング後に溶媒除去及び樹脂硬化工程等を経ることによって、QDフィルムやQDパターンを得ることができる。
半導体ナノ粒子の元素分析については、高周波誘導結合プラズマ発光分析装置(ICP)又は蛍光X線分析装置(XRF)を用いて元素分析を行うことができる。ICP測定では、精製した半導体ナノ粒子を硝酸で溶解し加熱後、水で希釈してICP発光分析装置(島津製作所製、ICPS−8100)を用いて検量線法で測定する。XRF測定では、分散液をろ紙に含浸させたものをサンプリングホルダに入れ、蛍光X線分析装置(リガク製、ZSX100e)を用いて定量分析を行う。
<コア粒子の製造>
酢酸インジウム(0.3mmol)およびオレイン酸亜鉛(0.6mmol)を、オレイン酸(0.9mmol)と1−ドデカンチオール(0.1mmol)とオクタデセン(10mL)との混合物に加え、真空下(<20Pa)で約120℃に加熱し、1時間反応させた。真空(<20Pa)で反応させた混合物を25℃、窒素雰囲気下にして、トリス(トリメチルシリル)ホスフィン(0.25mmol)を加えたのち、300℃に加熱し、10分間反応させた。さらに、反応液を25℃に冷却し、オクタン酸クロリド(0.45mmol)を注入し、250℃で30分間加熱後、25℃に冷却して、コア粒子の分散溶液を得た。
40mmolのオレイン酸亜鉛と75mLのオクタデセンを混合し、真空化で110℃にて1時間加熱し、[Zn]=0.4MのZn前駆体溶液を調整した。
22mmolのセレン粉末と10mLのトリオクチルホスフィンを窒素中で混合し、全て溶けるまで撹拌して[Se]=2.2Mのセレン化トリオクチルホスフィンを得た。
22mmolの硫黄粉末と10mLのトリオクチルホスフィンを窒素中で混合し、全て溶けるまで撹拌して[S]=2.2Mの硫化トリオクチルホスフィンを得た。
コア粒子の分散溶液を250℃まで加熱した。250℃において4.5mLのZn前駆体溶液と1.5mLのセレン化トリオクチルホスフィンを添加し、30分間反応させ、InP系半導体ナノ粒子の表面にZnSeシェルを形成した。さらに、4.0mLのZn前駆体溶液と0.6mLの硫化トリオクチルホスフィンを添加し、280℃に昇温して1時間反応させ、ZnSシェルを形成した。
得られた半導体ナノ粒子を、STEM−EDSによって観察したところ、コア/シェル構造をしていることが確認された。
上記のようにして得られたコア/シェル型構造の半導体ナノ粒子が分散している溶液にアセトンを加え、半導体ナノ粒子を凝集させた。次いで、遠心分離(4000rpm、10分間)後、上澄みを除去し、半導体ナノ粒子をヘキサンに再分散させた。これを繰り返して、精製された半導体ナノ粒子を得た。
精製した半導体ナノ粒子について、以下のようにして、組成、量子効率、発光半値幅、ピーク波長、ストークスシフトを測定した。各実験例の結果を表1に示す。
(組成)
高周波誘導結合プラズマ発光分析装置(ICP)と蛍光X線分析装置(XRF)を用いて、組成分析を行った。
(光学特性)
光学特性については、前述した通り、量子効率測定システムを用いて発光スペクトルを測定し、量子効率(QY)、半値幅(FWHM)、ピーク波長(lambda max)を測定した。この時、励起光を450nmの単一波長とした。測定に用いる分散液としては吸収率が20〜30%になるように濃度を調整したものを用いた。さらに、紫外可視分光光度計を用いて、半導体ナノ粒子の分散液に紫外から可視光を照射し吸収スペクトルを測定した。吸収スペクトルの測定に用いる分散液としては、分散媒を1mLに対して半導体ナノ粒子の量が1mgになるように濃度を調整したものを用いた。なお、前述で得られた半導体ナノ粒子の発光スペクトルのピーク波長と、半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差をストークスシフトとして算出した。
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.20mmol、オクタン酸クロリドを1.1mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、セレン化トリオクチルホスフィンを2.0mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.8mLとしたこと以外は、実験例1と同様にして半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.10mmol、オクタン酸クロリドを0.75mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を6.6mL、セレン化トリオクチルホスフィンを2.2mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を4.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.2mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.30mmol、オクタン酸クロリドを1.1mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を5.4mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を12.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを2.1mLとした以外は例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時にオレイン酸亜鉛を添加せず、添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.20mmol、オクタン酸クロリドを0.75mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を3.9mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.2mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を4.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.2mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.18mmol、オクタン酸クロリドを1.2mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を9.0mL、セレン化トリオクチルホスフィンを3.0mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を24.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを2.8mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.20mmol、オクタン酸クロリドを0.4mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を3.0mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.0mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を2.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.6mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時にオレイン酸亜鉛、ドデカンチオールの代わりにトリオクチルホスフィンを添加し、添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.18mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を12.0mL、セレン化トリオクチルホスフィンを3.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を15.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.3mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時にドデカンチオールの代わりにトリオクチルホスフィンを2mL添加し、添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.20mmol、オクタン酸クロリドを0.3mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を4.5mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.2mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を3.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.05mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.20mmol、オクタン酸クロリドを0.5mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を5.4mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを6.0mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.15mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を5.4mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.2mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.15mmol、オクタン酸クロリドを2.5mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を7.2mL、セレン化トリオクチルホスフィンを2.4mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.2mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
3mmolのテルル粉末と10mLのトリオクチルホスフィンを窒素中で混合し、250℃に加熱して全て溶けるまで攪拌して[Te]=0.3Mのテルル化トリオクチルホスフィンを得た。
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.15mmol、オクタン酸クロリドを2.5mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を7.2mL、セレン化トリオクチルホスフィンを2.2mLとし、さらにテルル化トリオクチルホスフィンを5.0mL添加し、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.2mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。得られた半導体ナノ粒子のInに対するTeのモル比は7.60であった。なお、Te以外の分析値については、表1に示す。
コア粒子の分散液の作製時、ドデカンチオールの代わりにトリオクチルホスフィンを2mL添加し、トリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.15mmol、オクタン酸クロリドを2.5mmolとした以外は実験例1と同様にコア粒子の分散溶液を作製した。さらに、コア粒子の分散溶液を250℃まで加熱し、250℃において8.2mLのZn前駆体溶液と2.4mLのセレン化トリオクチルホスフィンを添加し、30分間反応させ、InP系半導体ナノ粒子の表面にZnSeシェルを形成した。
前述した通り、本実施形態により得られる半導体ナノ粒子は、ZnS層を最外層に形成せずとも、ZnS層を最外層に有する半導体ナノ粒子と同等の量子効率を有する。
コア粒子の分散液の作製時に添加するドデカンチオールの代わりにトリオクチルホスフィンを2mL添加し、添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.18mmol、オクタン酸クロリドを4.0mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を7.0mL、セレン化トリオクチルホスフィンを2.4mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を12.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを2.1mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
10mmolの臭化亜鉛粉末と10mLのトリオクチルホスフィンを窒素中で混合し、全て溶けるまで撹拌して臭化物前駆体を得た。
コア粒子の分散液の作製時にドデカンチオールの代わりにトリオクチルホスフィンを2mL添加し、添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.18mmol、オクタン酸クロリドの代わりに臭化物前駆体を1.2mL添加し、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を7.2mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を4.5mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.9mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時に添加するオクタン酸クロリドを1.5mmolとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を20.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを3.5mLとしたこと以外は、実験例1と同様にして半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.06mmol、オクタン酸クロリドを0.5mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を4.5mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を8.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.9mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.35mmol、オクタン酸クロリドを0.75mmolとした。トリス(トリメチルシリル)ホスフィンを添加し、加熱を行ったところ、半導体ナノ粒子の凝集体と思われるものが発生し始めた。そのまま、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を5.6mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を4.5mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.0mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製したが、得られた半導体ナノ粒子は凝集しており、光学特性を測定できる程度の分散液の調整が困難であった。
コア粒子の分散液の作製時にオレイン酸亜鉛を添加せず、添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.15mmol、オクタン酸クロリドを0.5mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を3.6mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.0mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を3.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.45mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.18mmol、オクタン酸クロリドを0.9mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を12.0mL、セレン化トリオクチルホスフィンを2.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を24.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを5.0mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.18mmol、オクタン酸クロリドを0.4mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を1.8mL、セレン化トリオクチルホスフィンを0.6mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.6mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.18mmol、オクタン酸クロリドを0.4mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を12.0mL、セレン化トリオクチルホスフィンを4.0mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を15.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.2mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.15mmol、オクタン酸クロリドを0.2mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を4.5mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.6mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時にオクタン酸クロリドを添加せず、添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.15mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を5.4mL、セレン化トリオクチルホスフィンを1.5mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を3.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを0.5mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
コア粒子の分散液の作製時に添加するトリス(トリメチルシリル)ホスフィンを0.28mmol、オクタン酸クロリドを4.5mmolとし、ZnSeシェル形成時に添加するZn前駆体を7.2mL、セレン化トリオクチルホスフィンを2.4mLとし、ZnSシェルを形成時に添加するZn前駆体を6.0mL、硫化トリオクチルホスフィンを1.2mLとしたこと以外は、実験例1と同様に半導体ナノ粒子を作製した。
3、103 液晶
7、8 QDパターニング
9 拡散層
11 コア
12 シェル
102 QDフィルム
104 カラーフィルター(R)
105 カラーフィルター(G)
106 カラーフィルター(B)
Claims (20)
- In及びPを含有するコアと、1層以上のシェルと、を有するコア/シェル型半導体ナノ粒子であり、
前記半導体ナノ粒子はさらに少なくともZn、Se及びハロゲンを含有し、
前記半導体ナノ粒子において、原子換算で、Inに対するP、Zn、Se及びハロゲンの各モル比が、P:0.20〜0.95、Zn:11.00〜50.00、Se:7.00〜25.00、ハロゲン:0.80〜15.00であること、
を特徴とする半導体ナノ粒子。 - 原子換算で、Inに対するP、Zn、Se及びハロゲンの各モル比が、P:0.40〜0.95、Zn:12.00〜30.00、Se:11.00〜20.00、ハロゲン:1.00〜15.00であること、
を特徴とする請求項1記載の半導体ナノ粒子。 - 前記半導体ナノ粒子がSを含有し、前記半導体ナノ粒子のS含有量が、原子換算でInに対するSのモル比で0.00〜45.00であることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体ナノ粒子。
- 前記半導体ナノ粒子のS含有量が、原子換算でInに対するSのモル比で0.00〜30.00であること、を特徴とする請求項3記載の半導体ナノ粒子。
- 原子換算で、Inに対するZn、Se及びSのモル比の合計が、20.00〜100.00であることを特徴とする請求項3又は4記載の半導体ナノ粒子。
- 前記半導体ナノ粒子が、さらにTeを含むことを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体ナノ粒子。
- 前記半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と、該半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差が、23nm以下であることを特徴とする請求項1〜6いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
- 前記半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と、該半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差が、21nm以下であることを特徴とする請求項1〜7いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
- 前記半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長が、515〜532nmであることを特徴とする請求項1〜8いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
- 前記半導体ナノ粒子の発光スペクトルの半値幅(FWHM)が、35nm以下であることを特徴とする請求項1〜9いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
- 前記ハロゲンが、Cl及びBrからなる群から選ばれる1種以上であることを特徴とする請求項1〜10いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
- 前記半導体ナノ粒子の量子効率(QY)が、80%以上であることを特徴とする請求項1〜11いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
- 前記シェルの少なくとも1つがZnSeで形成されていることを特徴とする請求項1〜12いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
- 前記シェルが2層以上であり、前記シェルの最外層がZnSで形成されていることを特徴とする請求項1〜13いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
- 前記シェルが、少なくとも、ZnSeで形成されており前記コアの外側表面を覆う第一シェルと、ZnSで形成されており該第一シェルの外側表面を覆う第二シェルと、からなることを特徴とする請求項1〜14いずれか1項記載の半導体ナノ粒子。
- In及びPを含有するコアと、1層以上のシェルと、を有するコア/シェル型半導体ナノ粒子であり、
前記シェルの少なくとも1層が、ZnSeで形成されており、
さらに前記半導体ナノ粒子はハロゲンを含み、
前記ハロゲンは原子換算で、Inに対するモル比が0.80〜15.00であり、
該半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と、該半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差が、23nm以下であること、
を特徴とする半導体ナノ粒子。 - 前記半導体ナノ粒子を450nmで励起したときの発光スペクトルのピーク波長と、前記半導体ナノ粒子の吸収スペクトルのピーク波長の差が、21nm以下であることを特徴とする請求項16記載の半導体ナノ粒子。
- 前記ハロゲンが、Cl及びBrからなる群から選ばれる1種以上であることを特徴とする請求項17記載の半導体ナノ粒子。
- 請求項1〜18いずれか1項記載の半導体ナノ粒子が溶媒に分散されていることを特徴とする半導体ナノ粒子分散液。
- 請求項1〜18いずれか1項記載の半導体ナノ粒子を含有することを特徴とする光学部材。
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