JP6926506B2 - Barrier film and wavelength conversion sheet using it - Google Patents

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本発明は、バリアフィルム及びそれを用いた波長変換シートに関する。 The present invention relates to a barrier film and a wavelength conversion sheet using the barrier film.

量子ドット等の蛍光体を用いた波長変換シートは、輝度及び色再現性が高く、ディスプレイ等への採用が望まれている。しかし、量子ドット等の蛍光体は酸素または水分との接触によって劣化する。そのため、波長変換シートではしばしば、高分子フィルムにガスバリア層を形成したバリアフィルムが、蛍光体を含む蛍光体層の片側または両側の面上に配置された構造を採用している。 Wavelength conversion sheets using phosphors such as quantum dots have high brightness and color reproducibility, and are desired to be used in displays and the like. However, phosphors such as quantum dots are deteriorated by contact with oxygen or moisture. Therefore, the wavelength conversion sheet often adopts a structure in which a barrier film having a gas barrier layer formed on a polymer film is arranged on one or both sides of a phosphor layer containing a phosphor.

例えば、特許文献1では、アクリル樹脂及びエポキシ樹脂に量子ドットを分散させた蛍光体層の両面にバリアフィルムを貼り合わせることで、蛍光体層への酸素等の浸入を防止している。 For example, in Patent Document 1, barrier films are attached to both sides of a phosphor layer in which quantum dots are dispersed in an acrylic resin and an epoxy resin to prevent oxygen and the like from entering the phosphor layer.

国際公開第2014/113562号International Publication No. 2014/113562

しかしながら、特許文献1に記載されたような無機材料である量子ドットを分散させた蛍光体層は、バリアフィルムとの密着性が悪く、蛍光体層とバリアフィルムとの間に剥がれが生じ、蛍光体層が性能劣化する場合がある。このため、バリアフィルムにはプライマー層を設けることで密着性を向上する方法があるが、耐湿試験を行うと剥がれが生じることがあった。また、プライマー層の柔軟性に欠けるがゆえ、蛍光体層の硬化収縮に対応できず、剥がれが生じることがあった。 However, the phosphor layer in which quantum dots, which are an inorganic material as described in Patent Document 1, are dispersed, has poor adhesion to the barrier film, and peeling occurs between the phosphor layer and the barrier film, resulting in fluorescence. The performance of the body layer may deteriorate. For this reason, there is a method of improving the adhesion by providing a primer layer on the barrier film, but peeling may occur when a moisture resistance test is performed. In addition, due to the lack of flexibility of the primer layer, it was not possible to cope with the curing shrinkage of the phosphor layer, and peeling may occur.

本発明は、前記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、耐湿試験後も(従って長期安定的に)、また蛍光体層硬化後も、蛍光体層等の被着体との密着性に優れるバリアフィルム及びそれを用いた波長変換シートを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and is in close contact with an adherend such as a phosphor layer even after a moisture resistance test (hence, long-term stability) and after curing of a phosphor layer. It is an object of the present invention to provide a barrier film having excellent properties and a wavelength conversion sheet using the same.

上述の問題を解決するために、請求項1に記載の発明は、ガスバリア性フィルムと、
一方の最表面に配置された、水溶性樹脂、チタン及びジルコニウムから成る群から選択される少なくとも一種の金属を含む金属キレート化合物、シランカップリング剤を含有するプライマー組成物の硬化物からなるプライマー層と、を備え、
蛍光体と樹脂材料とを含む混合液を前記プライマー層上に塗布して波長変換シートを製
造するために使用するものであることを特徴とする波長変換シート用バリアフィルムとしたものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 comprises a gas barrier film and the like.
Disposed on one of the outermost surface consists of at least a metal chelate compound comprising one metal, the cured product of the primer compositions containing silane-coupling agent is selected from the group consisting of water-soluble resin, titanium and zirconium primers With layers,
A wavelength conversion sheet is produced by applying a mixed solution containing a phosphor and a resin material onto the primer layer.
It is a barrier film for a wavelength conversion sheet, which is characterized by being used for manufacturing.

請求項2に記載の発明は、前記水溶性樹脂が、ポリビニルアルコール、またはポリカルボン酸のいずれかの樹脂を含むことを特徴とする請求項1に記載のバリアフィルムとしたものである。 The invention according to claim 2 is the barrier film according to claim 1, wherein the water-soluble resin contains a resin of either polyvinyl alcohol or a polycarboxylic acid.

請求項3に記載の発明は、前記金属キレート化合物が、水酸基を有し、かつチタンを含むことを特徴とする請求項1、または2に記載のバリアフィルムとしたものである。 The invention according to claim 3 is the barrier film according to claim 1 or 2, wherein the metal chelate compound has a hydroxyl group and contains titanium.

請求項4に記載の発明は、前記シランカップリング剤が、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基からなる群より選択される少なくとも一種の官能基を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のバリアフィルム
としたものである。
The invention according to claim 4 is characterized in that the silane coupling agent has at least one functional group selected from the group consisting of a methacryloyl group, an acryloyl group, an epoxy group, an amino group and a mercapto group. The barrier film according to any one of Items 1 to 3.

請求項5に記載の発明は、蛍光体を含む蛍光体層と、前記蛍光体層の少なくとも一方の面上に積層された請求項1〜4のいずれか一項に記載のバリアフィルムと、を備え、
前記バリアフィルムは、前記蛍光体層側の最表面に前記プライマー層を備えることを特徴とする波長変換シートとしたものである。
The invention according to claim 5 comprises a phosphor layer containing a phosphor and a barrier film according to any one of claims 1 to 4 laminated on at least one surface of the phosphor layer. Prepare,
The barrier film is a wavelength conversion sheet characterized in that the primer layer is provided on the outermost surface on the phosphor layer side.

本発明によれば、ガスバリア性フィルムと、一方の最表面に配置された、水溶性樹脂、及び金属キレート化合物、並びにシランカップリング剤を含有するプライマー組成物の硬化物からなるプライマー層とを備えるバリアフィルムとしたので、長期安定的に、また蛍光体層の硬化後も、蛍光体層等の被着体との密着性に優れるバリアフィルム、及びそれを用いた波長変換シートが得られる。 According to the present invention, the present invention comprises a gas barrier film and a primer layer composed of a water-soluble resin and a metal chelate compound arranged on one of the outermost surfaces and a cured product of a primer composition containing a silane coupling agent. Since the barrier film is used, a barrier film that is stable for a long period of time and has excellent adhesion to an adherend such as a phosphor layer and a wavelength conversion sheet using the same can be obtained.

本発明のバリアフィルムの一実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows one Embodiment of the barrier film of this invention. 本発明のバリアフィルムの一実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows one Embodiment of the barrier film of this invention. 本発明のバリアフィルムの一実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows one Embodiment of the barrier film of this invention. 本発明のバリアフィルムの一実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows one Embodiment of the barrier film of this invention. 本発明のバリアフィルムの一実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows one Embodiment of the barrier film of this invention. 本発明のバリアフィルムの一実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows one Embodiment of the barrier film of this invention. 本発明の波長変換シートの一実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows one Embodiment of the wavelength conversion sheet of this invention.

[バリアフィルム]
本発明のバリアフィルムは、ガスバリア性フィルムと、一方の最表面に配置された、水溶性樹脂、及び金属キレート化合物、並びにシランカップリング剤を含有するプライマー組成物の硬化物からなるプライマー層と、を備える。
[Barrier film]
The barrier film of the present invention comprises a gas barrier film, a primer layer composed of a cured product of a primer composition containing a water-soluble resin, a metal chelate compound, and a silane coupling agent arranged on one of the outermost surfaces. To be equipped with.

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について詳細に説明する。しかし、これらに限定されるものではない。なお、図面中、同一または相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, it is not limited to these. In the drawings, the same or corresponding parts are designated by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted. Further, the dimensional ratio in the drawing is not limited to the ratio shown in the drawing.

図1〜図6は、本発明のバリアフィルムの一実施形態を示す模式断面図である。図1に示すバリアフィルム100は、ガスバリア性フィルムである第1のフィルム1と、ガスバリア性フィルムである第2のフィルム2と、プライマー層4と、接着層5と、マット層6とを備える。ここで、第1のフィルム1は、第1の基材11と、アンカーコート層12と、無機薄膜層13及びガスバリア性被覆層14からなるバリア層15とを備えている。第2のフィルム2は、第2の基材21と、アンカーコート層22と、無機薄膜層23及びガスバリア性被覆層24からなるバリア層25とを備えている。第1のフィルム1と第2のフィルム2とは、ガスバリア性被覆層14とガスバリア性被覆層24とが対向するように接着層5を介して貼り合わせられている。バリアフィルム100において、プライマー層4は、第1のフィルム1の第1の基材11側の表面上に、第1の基材11と接した状態で配置されており、マット層6は、第2のフィルム2の第2の基材21側の表面上に、第2の基材21と接した状態で配置されている。図1に示した構造のバリアフィルム100は、第1及び第2のフィルム1,2の2枚のガスバリア性フィルムを貼り合わせているため、水分や酸素の透過をより十分に抑制することができる。また、バリア層15,25が第1及び第2の基材11,21よりも内側に配置されることで、バリア層15,25が保護され、バリア層15,25の損傷が抑制される。 1 to 6 are schematic cross-sectional views showing an embodiment of the barrier film of the present invention. The barrier film 100 shown in FIG. 1 includes a first film 1 which is a gas barrier film, a second film 2 which is a gas barrier film, a primer layer 4, an adhesive layer 5, and a mat layer 6. Here, the first film 1 includes a first base material 11, an anchor coat layer 12, and a barrier layer 15 composed of an inorganic thin film layer 13 and a gas barrier coating layer 14. The second film 2 includes a second base material 21, an anchor coat layer 22, and a barrier layer 25 composed of an inorganic thin film layer 23 and a gas barrier coating layer 24. The first film 1 and the second film 2 are bonded to each other via an adhesive layer 5 so that the gas barrier coating layer 14 and the gas barrier coating layer 24 face each other. In the barrier film 100, the primer layer 4 is arranged on the surface of the first film 1 on the side of the first base material 11 in a state of being in contact with the first base material 11, and the mat layer 6 is the first. The film 2 is arranged on the surface of the film 2 on the side of the second base material 21 in contact with the second base material 21. Since the barrier film 100 having the structure shown in FIG. 1 has two gas barrier films of the first and second films 1 and 2 bonded together, the permeation of water and oxygen can be more sufficiently suppressed. .. Further, by arranging the barrier layers 15 and 25 inside the first and second base materials 11 and 21, the barrier layers 15 and 25 are protected and damage to the barrier layers 15 and 25 is suppressed.

図2に示すバリアフィルム200は、ガスバリア性フィルムである第1のフィルム1と、ガスバリア性フィルムである第2のフィルム2と、プライマー層4と、接着層5と、マット層6とを備える。ここで、第1のフィルム1は、第1の基材11と、アンカーコート層12と、無機薄膜層13及びガスバリア性被覆層14からなるバリア層15とを備えている。第2のフィルム2は、第2の基材21と、アンカーコート層22と、無機薄膜層23及びガスバリア性被覆層24からなるバリア層25とを備えている。第1のフィルム1と第2のフィルム2とは、第1の基材11とガスバリア性被覆層24とが対向するように接着層5を介して貼り合わせられている。バリアフィルム200において、プライマー層4は、第1のフィルム1のガスバリア性被覆層14側の表面上に、ガスバリア性被覆層14と接した状態で配置されており、マット層6は、第2のフィルム2の第2の基材21側の表面上に、第2の基材21と接した状態で配置されている。図2に示した構造のバリアフィルム200は、第1及び第2のフィルム1,2の2枚のガスバリア性フィルムを貼り合わせているため、水分や酸素の透過をより十分に抑制することができる。また、バリア層15がプライマー層4側、すなわち被着体により近い位置に配置されることで、被着体への水分や酸素の侵入をより十分に抑制することができる。 The barrier film 200 shown in FIG. 2 includes a first film 1 which is a gas barrier film, a second film 2 which is a gas barrier film, a primer layer 4, an adhesive layer 5, and a mat layer 6. Here, the first film 1 includes a first base material 11, an anchor coat layer 12, and a barrier layer 15 composed of an inorganic thin film layer 13 and a gas barrier coating layer 14. The second film 2 includes a second base material 21, an anchor coat layer 22, and a barrier layer 25 composed of an inorganic thin film layer 23 and a gas barrier coating layer 24. The first film 1 and the second film 2 are bonded to each other via an adhesive layer 5 so that the first base material 11 and the gas barrier coating layer 24 face each other. In the barrier film 200, the primer layer 4 is arranged on the surface of the first film 1 on the gas barrier coating layer 14 side in a state of being in contact with the gas barrier coating layer 14, and the mat layer 6 is a second. The film 2 is arranged on the surface of the film 2 on the side of the second base material 21 in contact with the second base material 21. Since the barrier film 200 having the structure shown in FIG. 2 has two gas barrier films of the first and second films 1 and 2 bonded together, the permeation of water and oxygen can be more sufficiently suppressed. .. Further, by arranging the barrier layer 15 on the primer layer 4 side, that is, at a position closer to the adherend, it is possible to more sufficiently suppress the invasion of water and oxygen into the adherend.

図3に示すバリアフィルム300は、ガスバリア性フィルムである第1のフィルム1と、第2のフィルム2と、プライマー層4と、接着層5と、マット層6とを備える。ここで、第1のフィルム1は、第1の基材11と、アンカーコート層12と、無機薄膜層13及びガスバリア性被覆層14が交互に2層ずつ積層されてなるバリア層15とを備えている。第2のフィルム2は、第2の基材21のみで構成されている。第1のフィルム1と第2のフィルム2とは、ガスバリア性被覆層14と第2の基材21とが対向するように接着層5を介して貼り合わせられている。バリアフィルム300において、プライマー層4は、第1のフィルム1の第1の基材11側の表面上に、第1の基材11と接した状態で配置されており、マット層6は、第2のフィルム2を構成する第2の基材21の接着層5とは反対側の表面上に、第2の基材21と接した状態で配置されている。図3に示した構造のバリアフィルム300は、第2のフィルム2を第2の基材21のみで構成しているため、製造工程の簡略化及びコスト低減を図ることができ、更に第2の基材21の厚みを変更することで必要に応じて剛性を付与することもできる。また、バリア層15が無機薄膜層13及びガスバリア性被覆層14を交互に2層ずつ積層した構造であるため、ガスバリア性を高めることができる。 The barrier film 300 shown in FIG. 3 includes a first film 1, a second film 2, a primer layer 4, an adhesive layer 5, and a mat layer 6, which are gas barrier films. Here, the first film 1 includes a first base material 11, an anchor coat layer 12, and a barrier layer 15 in which two layers of an inorganic thin film layer 13 and a gas barrier coating layer 14 are alternately laminated. ing. The second film 2 is composed of only the second base material 21. The first film 1 and the second film 2 are bonded to each other via an adhesive layer 5 so that the gas barrier coating layer 14 and the second base material 21 face each other. In the barrier film 300, the primer layer 4 is arranged on the surface of the first film 1 on the side of the first base material 11 in a state of being in contact with the first base material 11, and the mat layer 6 is the first. The second base material 21 constituting the film 2 of 2 is arranged on the surface opposite to the adhesive layer 5 in a state of being in contact with the second base material 21. In the barrier film 300 having the structure shown in FIG. 3, since the second film 2 is composed of only the second base material 21, the manufacturing process can be simplified and the cost can be reduced, and further, the second film 2 can be reduced. Rigidity can be imparted as needed by changing the thickness of the base material 21. Further, since the barrier layer 15 has a structure in which two layers of the inorganic thin film layer 13 and the gas barrier coating layer 14 are alternately laminated, the gas barrier property can be enhanced.

図4に示すバリアフィルム400は、ガスバリア性フィルムである第1のフィルム1と、プライマー層4と、マット層6とを備える。ここで、第1のフィルム1は、第1の基材11と、アンカーコート層12と、無機薄膜層13及びガスバリア性被覆層14が交互に2層ずつ積層されてなるバリア層15とを備えている。バリアフィルム300において、プライマー層4は、第1のフィルム1のガスバリア性被覆層14側の表面上に、ガスバリア性被覆層14と接した状態で配置されており、マット層6は、第1のフィルム1の第1の基材11側の表面上に、第1の基材11と接した状態で配置されている。図4に示した構造のバリアフィルム400は、第2のフィルム2及び接着層5を備えないため、製造工程の簡略化、コスト低減及び薄型化を図ることができる。また、バリア層15が無機薄膜層13及びガスバリア性被覆層14を交互に2層ずつ積層した構造であるため、ガスバリア性を高めることができる。 The barrier film 400 shown in FIG. 4 includes a first film 1 which is a gas barrier film, a primer layer 4, and a mat layer 6. Here, the first film 1 includes a first base material 11, an anchor coat layer 12, and a barrier layer 15 in which two layers of an inorganic thin film layer 13 and a gas barrier coating layer 14 are alternately laminated. ing. In the barrier film 300, the primer layer 4 is arranged on the surface of the first film 1 on the gas barrier coating layer 14 side in a state of being in contact with the gas barrier coating layer 14, and the mat layer 6 is the first. The film 1 is arranged on the surface of the film 1 on the side of the first base material 11 in contact with the first base material 11. Since the barrier film 400 having the structure shown in FIG. 4 does not include the second film 2 and the adhesive layer 5, the manufacturing process can be simplified, the cost can be reduced, and the thickness can be reduced. Further, since the barrier layer 15 has a structure in which two layers of the inorganic thin film layer 13 and the gas barrier coating layer 14 are alternately laminated, the gas barrier property can be enhanced.

図5に示すバリアフィルム500は、ガスバリア性フィルムである第1のフィルム1と、ガスバリア性フィルムである第2のフィルム2と、第3のフィルム3と、プライマー層4と、接着層5と、マット層6とを備える。ここで、第1のフィルム1は、第1の基材11と、アンカーコート層12と、無機薄膜層13及びガスバリア性被覆層14からなるバリア層15とを備えている。第2のフィルム2は、第2の基材21と、アンカーコート層22と、無機薄膜層23及びガスバリア性被覆層24からなるバリア層25とを備えている。第3のフィルム3は、第3の基材31のみで構成されている。第1のフィルム1と第2のフィルム2とは、ガスバリア性被覆層14とガスバリア性被覆層24とが対向するように接着層5を介して貼り合わせられている。第2のフィルム2と第3のフィルム3とは、第2の基材21と第3の基材31とが対向するように接着層5を介して貼り合わせられている。バリアフィルム500において、プライマー層4は、第1のフィルム1の第1の基材11側の表面上に、第1の基材11と接した状態で配置されており、マット層6は、第3のフィルム3を構成する第3の基材31の接着層5とは反対側の表面上に、第3の基材31と接した状態で配置されている。図5に示した構造のバリアフィルム500は、第1及び第2のフィルム1,2の2枚のガスバリア性フィルムを貼り合わせているため、水分や酸素の透過をより十分に抑制することができる。また、バリア層15,25が第1及び第2の基材11,21よりも内側に配置されることで、バリア層15,25が保護され、バリア層15,25の損傷が抑制される。更に、第3のフィルム3を備えることで、第1のフィルム1あるいは第2のフィルム2で生じた熱シワを低減することができる。また、第3の基材31の厚みを変更することで必要に応じて剛性を付与することもできる。 The barrier film 500 shown in FIG. 5 includes a first film 1 which is a gas barrier film, a second film 2 which is a gas barrier film, a third film 3, a primer layer 4, and an adhesive layer 5. A mat layer 6 is provided. Here, the first film 1 includes a first base material 11, an anchor coat layer 12, and a barrier layer 15 composed of an inorganic thin film layer 13 and a gas barrier coating layer 14. The second film 2 includes a second base material 21, an anchor coat layer 22, and a barrier layer 25 composed of an inorganic thin film layer 23 and a gas barrier coating layer 24. The third film 3 is composed of only the third base material 31. The first film 1 and the second film 2 are bonded to each other via an adhesive layer 5 so that the gas barrier coating layer 14 and the gas barrier coating layer 24 face each other. The second film 2 and the third film 3 are bonded to each other via an adhesive layer 5 so that the second base material 21 and the third base material 31 face each other. In the barrier film 500, the primer layer 4 is arranged on the surface of the first film 1 on the side of the first base material 11 in a state of being in contact with the first base material 11, and the mat layer 6 is the first. The third base material 31 constituting the film 3 of No. 3 is arranged on the surface opposite to the adhesive layer 5 in a state of being in contact with the third base material 31. Since the barrier film 500 having the structure shown in FIG. 5 has two gas barrier films of the first and second films 1 and 2 bonded together, the permeation of water and oxygen can be more sufficiently suppressed. .. Further, by arranging the barrier layers 15 and 25 inside the first and second base materials 11 and 21, the barrier layers 15 and 25 are protected and damage to the barrier layers 15 and 25 is suppressed. Further, by providing the third film 3, it is possible to reduce the heat wrinkles generated in the first film 1 or the second film 2. Further, the rigidity can be imparted as needed by changing the thickness of the third base material 31.

図6に示すバリアフィルム600は、ガスバリア性フィルムである第1のフィルム1と、第2のフィルム2と、プライマー層4と、接着層5と、マット層6とを備える。ここで、第1のフィルム1は、第1の基材11と、アンカーコート層12と、無機薄膜層13及びガスバリア性被覆層14が交互に2層ずつ積層されてなるバリア層15とを備えている。第2のフィルム2は、第2の基材21のみで構成されている。第1のフィルム1と第2のフィルム2とは、第1の基材11と第2の基材21とが対向するように接着層5を介して貼り合わせられている。バリアフィルム600において、プライマー層4は、第1のフィルム1のガスバリア性被覆層14側の表面上に、ガスバリア性被覆層14と接した状態で配置されており、マット層6は、第2のフィルム2を構成する第2の基材21の接着層5とは反対側の表面上に、第2の基材21と接した状態で配置されている。図6に示した構造のバリアフィルム600は、第2のフィルム2を第2の基材21のみで構成しているため、製造工程の簡略化及びコスト低減を図ることができ、更に第2の基材21の厚みを変更することで必要に応じて剛性を付与することもできる。また、バリア層15が無機薄膜層13及びガスバリア性被覆層14を交互に2層ずつ積層した構造であるため、ガスバリア性を高めることができる。 The barrier film 600 shown in FIG. 6 includes a first film 1, a second film 2, a primer layer 4, an adhesive layer 5, and a mat layer 6, which are gas barrier films. Here, the first film 1 includes a first base material 11, an anchor coat layer 12, and a barrier layer 15 in which two layers of an inorganic thin film layer 13 and a gas barrier coating layer 14 are alternately laminated. ing. The second film 2 is composed of only the second base material 21. The first film 1 and the second film 2 are bonded to each other via an adhesive layer 5 so that the first base material 11 and the second base material 21 face each other. In the barrier film 600, the primer layer 4 is arranged on the surface of the first film 1 on the gas barrier coating layer 14 side in a state of being in contact with the gas barrier coating layer 14, and the mat layer 6 is a second. The second base material 21 constituting the film 2 is arranged on the surface opposite to the adhesive layer 5 in contact with the second base material 21. In the barrier film 600 having the structure shown in FIG. 6, since the second film 2 is composed of only the second base material 21, the manufacturing process can be simplified and the cost can be reduced, and further, the second film 2 can be reduced. Rigidity can be imparted as needed by changing the thickness of the base material 21. Further, since the barrier layer 15 has a structure in which two layers of the inorganic thin film layer 13 and the gas barrier coating layer 14 are alternately laminated, the gas barrier property can be enhanced.

上述した構成を有するバリアフィルムは、良好なガスバリア性を有すると共に、プライマー層4を介して蛍光体層等の被着体と貼り合わせることで、優れた密着性を得ることができる。また、プライマー層4は、第1の基材11及びガスバリア性被覆層14のいずれに対しても極めて良好な密着性を示すため、バリアフィルム内で剥離が生じることも十分に抑制される。そのため、上述した構成を有するバリアフィルムは、バリアフィルムと被着体との界面から酸素や水分が侵入することを抑制することができ、被着体の劣化を抑制することができる。密着性の点から、プライマー層4は第1の基材11に塗工することがより好ましい。プライマー層4と第1の基材11またはガスバリア性被覆層14との密着性が悪い場合は、コロナ処理、フレーム処理及びプラズマ処理などを第1の基材11またはガスバリア性被覆層14に施すことで、プライマー層4との密着性をより向上させることができる。あるいは、ウレタン系、ポリエステル系、アクリル系等の易接着コート層を設けても構わない。 The barrier film having the above-mentioned structure has good gas barrier properties, and excellent adhesion can be obtained by adhering it to an adherend such as a phosphor layer via a primer layer 4. Further, since the primer layer 4 exhibits extremely good adhesion to both the first base material 11 and the gas barrier coating layer 14, peeling in the barrier film is sufficiently suppressed. Therefore, the barrier film having the above-mentioned structure can suppress the invasion of oxygen and water from the interface between the barrier film and the adherend, and can suppress the deterioration of the adherend. From the viewpoint of adhesion, it is more preferable that the primer layer 4 is applied to the first base material 11. When the adhesion between the primer layer 4 and the first base material 11 or the gas barrier coating layer 14 is poor, corona treatment, frame treatment, plasma treatment, or the like is applied to the first base material 11 or the gas barrier coating layer 14. Therefore, the adhesion with the primer layer 4 can be further improved. Alternatively, an easy-adhesion coat layer such as urethane-based, polyester-based, or acrylic-based may be provided.

以下、バリアフィルムを構成する各層について詳細に説明する。 Hereinafter, each layer constituting the barrier film will be described in detail.

(基材)
第1,第2及び第3の基材11,21,31は、高分子フィルムであることが望ましい。高分子フィルムの材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ナイロン等のポリアミド、ポリプロピレン及びシクロオレフィン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、並びにトリアセチルセルロース等が挙げられるが、これらに限定されない。高分子フィルムはポリエステルフィルム、ポリアミドフィルムまたはポリオレフィンフィルムであることが好ましく、ポリエステルフィルムまたはポリアミドフィルムであることがより好ましく、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることが更に好ましい。ポリエチレンテレフタレートフィルムは、透明性、加工適正及び密着性の観点から望ましい。また、ポリエチレンテレフタレートフィルムは、透明性及びガスバリア性の観点から、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムであることが好ましい。
(Base material)
It is desirable that the first, second and third base materials 11, 21, 31 are polymer films. Examples of the material of the polymer film include polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamides such as nylon, polyolefins such as polypropylene and cycloolefin, polycarbonate, triacetyl cellulose and the like. Not limited to. The polymer film is preferably a polyester film, a polyamide film or a polyolefin film, more preferably a polyester film or a polyamide film, and even more preferably a polyethylene terephthalate film. Polyethylene terephthalate film is desirable from the viewpoint of transparency, processing suitability and adhesion. Further, the polyethylene terephthalate film is preferably a biaxially stretched polyethylene terephthalate film from the viewpoint of transparency and gas barrier property.

高分子フィルムは、必要に応じて、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤及び滑り剤等の添加剤を含んでいてもよい。また、高分子フィルムの表面は、コロナ処理、フレーム処理及びプラズマ処理が施されていてもよい。あるいは、ウレタン系、ポリエステル系、アクリル系等の易接着コート層を設けても構わない。 The polymer film may contain additives such as an antistatic agent, an ultraviolet absorber, a plasticizer and a slip agent, if necessary. Further, the surface of the polymer film may be subjected to corona treatment, frame treatment and plasma treatment. Alternatively, an easy-adhesion coat layer such as urethane-based, polyester-based, or acrylic-based may be provided.

バリアフィルムにおいて、第1の基材11とプライマー層4とが接している場合、第1の基材11は、表面に水酸基やカルボニル基等の極性官能基を有していることが好ましい。第1の基材11が表面に水酸基やカルボニル基等の極性官能基を有することで、当該水酸基等の極性官能基とプライマー層4中のシランカップリング剤のアルコキシシランが加水分解することにより発生したシラノール基とが反応して密着性がより向上する。上述した高分子フィルムのうち、通常、表面に水酸基やカルボニル基等の極性官能基を有するものとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。また、第1の基材11が表面に水酸基やカルボニル基等の極性官能基を有していない場合、コロナ処理、フレーム処理及びプラズマ処理の表面処理を施すことで、プライマー層4との密着性をより向上させることができる。あるいは、ウレタン系、ポリエステル系、アクリル系等の易接着コート層を設けても構わない。 When the first base material 11 and the primer layer 4 are in contact with each other in the barrier film, the first base material 11 preferably has a polar functional group such as a hydroxyl group or a carbonyl group on its surface. When the first base material 11 has a polar functional group such as a hydroxyl group or a carbonyl group on its surface, it is generated by hydrolysis of the polar functional group such as the hydroxyl group and the alkoxysilane of the silane coupling agent in the primer layer 4. It reacts with the silanol group and the adhesion is further improved. Among the above-mentioned polymer films, those having a polar functional group such as a hydroxyl group or a carbonyl group on the surface usually include polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyamide film, triacetyl cellulose film, and acrylic. Examples include films and polycarbonate films. When the first base material 11 does not have a polar functional group such as a hydroxyl group or a carbonyl group on its surface, it can be adhered to the primer layer 4 by performing surface treatments such as corona treatment, frame treatment and plasma treatment. Can be further improved. Alternatively, an easy-adhesion coat layer such as urethane-based, polyester-based, or acrylic-based may be provided.

第1,第2及び第3の基材11,21,31の厚さは、特に制限されないが、3μm以上100μm以下であることが好ましく、加工性及び生産性の点から5μm以上50μm以下であることがより好ましい。厚さが3μm以上であると加工が容易であり、100μm以下であると1ロットあたりのバリアフィルムの生産性を上げることができる。 The thicknesses of the first, second and third base materials 11, 21, 31 are not particularly limited, but are preferably 3 μm or more and 100 μm or less, and 5 μm or more and 50 μm or less from the viewpoint of workability and productivity. Is more preferable. When the thickness is 3 μm or more, processing is easy, and when the thickness is 100 μm or less, the productivity of the barrier film per lot can be increased.

(アンカーコート層)
アンカーコート層12,22は、第1及び第2の基材11,21と無機薄膜層13,23との間の密着性を向上させるために、それらの間に設けられるものである。また、アンカーコート層12,22は、水分や酸素の透過を防止するバリア性を有していてもよい。
(Anchor coat layer)
The anchor coat layers 12 and 22 are provided between the first and second base materials 11 and 21 in order to improve the adhesion between the inorganic thin film layers 13 and 23. Further, the anchor coat layers 12 and 22 may have a barrier property to prevent the permeation of water and oxygen.

アンカーコート層12,22は、例えば、ポリエステル樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、ビニル変性樹脂、エポキシ樹脂、オキサゾリン基含有樹脂、変性スチレン樹脂、変性シリコーン樹脂またはアルキルチタネート等から選択された樹脂を用いて形成することができる。アンカーコート層は、上述した樹脂を単独で用いて、または上述した樹脂を2種類以上組み合わせた複合樹脂を用いて、形成することができる。 The anchor coat layers 12 and 22 are, for example, polyester resin, isocyanate resin, urethane resin, acrylic resin, polyvinyl alcohol resin, ethylene vinyl alcohol resin, vinyl modified resin, epoxy resin, oxazoline group-containing resin, modified styrene resin, and modified silicone resin. Alternatively, it can be formed using a resin selected from alkyl titanates and the like. The anchor coat layer can be formed by using the above-mentioned resin alone or by using a composite resin in which two or more kinds of the above-mentioned resins are combined.

アンカーコート層12,22は、上述した樹脂を含む溶液を第1及び第2の基材11、21上に塗布し、乾燥硬化させることで形成することができる。塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、及びダイコーター等による塗布方法が挙げられる。 The anchor coat layers 12 and 22 can be formed by applying the above-mentioned resin-containing solution on the first and second base materials 11 and 21 and drying and curing the solution. Examples of the coating method include a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, and the like.

アンカーコート層12,22の厚さは、5〜500nmの範囲内とすることが好ましく、10〜100nmの範囲内とすることがより好ましい。ここで、厚さが5nm以上であると、第1及び第2の基材11,21と無機薄膜層13,23との間の密着性および水分や酸素に対するバリア性が向上する傾向があり、500nm以下であると、内部応力が十分抑制された均一な層を形成することができる傾向がある。 The thickness of the anchor coat layers 12 and 22 is preferably in the range of 5 to 500 nm, and more preferably in the range of 10 to 100 nm. Here, when the thickness is 5 nm or more, the adhesion between the first and second base materials 11 and 21 and the inorganic thin film layers 13 and 23 and the barrier property against moisture and oxygen tend to be improved. When it is 500 nm or less, it tends to be possible to form a uniform layer in which the internal stress is sufficiently suppressed.

(バリア層)
バリア層15,25は、水蒸気透過度及び酸素透過度を更に向上させるために設けられる層である。バリア層15,25は、光学的な観点から、透明性が高いことが望ましい。バリア層15,25は単層であっても多層であってもよいが、図1〜6に示したように、無機薄膜層13,23及びガスバリア性被覆層14,24を有することが望ましい。また、図2及び図4に示すようにガスバリア性被覆層14とプライマー層4とが接している場合、ガスバリア性被覆層14はシロキサン結合を有していることが望ましい。ガスバリア性被覆層14がシロキサン結合を有することで、ガスバリア性被覆層14とプライマー層4との密着性がより向上する。
(Barrier layer)
The barrier layers 15 and 25 are layers provided to further improve the water vapor transmission rate and the oxygen permeability. It is desirable that the barrier layers 15 and 25 have high transparency from an optical point of view. The barrier layers 15 and 25 may be a single layer or a multi-layer, but as shown in FIGS. 1 to 6, it is desirable to have the inorganic thin film layers 13 and 23 and the gas barrier coating layers 14 and 24. Further, when the gas barrier coating layer 14 and the primer layer 4 are in contact with each other as shown in FIGS. 2 and 4, it is desirable that the gas barrier coating layer 14 has a siloxane bond. When the gas barrier coating layer 14 has a siloxane bond, the adhesion between the gas barrier coating layer 14 and the primer layer 4 is further improved.

バリア層15,25は、大気中で成膜されたものでも真空中で成膜されたものでもよい。真空成膜としては、物理気相成長法及び化学気相成長法等が挙げられる。物理気相成長法としては、真空蒸着法、スパッタリング法及びイオンプレーティング法等が挙げられる。化学気相成長(CVD)法としては、熱CVD法、プラズマCVD(PECVD)法及び光CVD法等が挙げられる。成膜方法は、無機薄膜層13,23とガスバリア性被覆層14,24とで異なっていてもよい。 The barrier layers 15 and 25 may be formed in the air or in a vacuum. Examples of the vacuum film formation include a physical vapor deposition method and a chemical vapor deposition method. Examples of the physical vapor deposition method include a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method. Examples of the chemical vapor deposition (CVD) method include a thermal CVD method, a plasma CVD (PECVD) method, an optical CVD method, and the like. The film forming method may be different between the inorganic thin film layers 13 and 23 and the gas barrier coating layers 14 and 24.

(無機薄膜層)
無機薄膜層13,23の形成方法は真空蒸着法、スパッタリング法、またはPECVD法であることが好ましい。真空蒸着法では、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム(Electron Beam)加熱式真空蒸着法、誘導加熱式真空蒸着法がより好ましく、スパッタリング法では、反応性スパッタリング法、デュアルマグネトロンスパッタリング法であることがより好ましい。膜の均質性の観点からはスパッタリング法が好ましく、コストの観点からは、真空蒸着法が好ましく、目的、用途に応じて選択することができる。
(Inorganic thin film layer)
The method for forming the inorganic thin film layers 13 and 23 is preferably a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or a PECVD method. The vacuum vapor deposition method is more preferably a resistance heating vacuum deposition method, an electron beam heating vacuum deposition method, or an induction heating vacuum vapor deposition method, and the sputtering method is a reactive sputtering method or a dual magnetron sputtering method. Is more preferable. From the viewpoint of film homogeneity, the sputtering method is preferable, and from the viewpoint of cost, the vacuum vapor deposition method is preferable and can be selected according to the purpose and application.

スパッタリング法及びPECVD法におけるプラズマの生成方法としては、DC(Direct Current)方式、RF(Radio Frequency)方式、MF(Middle Frequency)方式、DCパルス方式、RFパルス方式、及びDC+RF重畳方式等を挙げることができる。 Examples of the plasma generation method in the sputtering method and the PECVD method include a DC (Direct Current) method, an RF (Radio Frequency) method, an MF (Middle Frequency) method, a DC pulse method, an RF pulse method, and a DC + RF superimposition method. Can be done.

真空成膜では通常、金属、或いは、珪素等の酸化物、窒化物または窒化酸化物等の膜が形成される。無機薄膜層13,23としては、アルミニウム、チタン、銅、インジウム、スズ等の金属、またはそれらの酸化物(アルミナ等)、或いは、珪素、珪素酸化物の膜が好ましい。また、金属や珪素の酸化物だけでなく、金属や珪素の窒化物や窒化酸化物の膜が形成されてもよい。また、複数の金属を含む膜が形成されてもよい。上述のアルミニウム、チタン、銅、インジウム、珪素の酸化物、窒化物、窒化酸化物は、透明性とバリア性の両方に優れる。珪素を含む酸化物、窒化酸化物はバリア性が高く特に好ましい。 In vacuum film formation, a metal or an oxide such as silicon, a nitride or a film such as a nitride oxide is usually formed. As the inorganic thin film layers 13 and 23, metals such as aluminum, titanium, copper, indium and tin, oxides thereof (alumina and the like), or films of silicon and silicon oxide are preferable. Further, not only the oxide of metal or silicon but also the nitride or oxide film of metal or silicon may be formed. Further, a film containing a plurality of metals may be formed. The above-mentioned aluminum, titanium, copper, indium, and silicon oxides, nitrides, and nitride oxides are excellent in both transparency and barrier properties. Oxides containing silicon and nitride oxides have high barrier properties and are particularly preferable.

真空成膜により形成される無機薄膜層13,23の厚さは、5nm以上100nm以下であることが好ましい。無機薄膜層13,23の厚さが5nm以上であると、より良好なバリア性を得ることができる傾向がある。また、無機薄膜層13,23の厚さが100nm以下であると、クラックの発生を抑制し、クラックによる水蒸気バリア性及び酸素バリア性の低下を抑制できる傾向がある。更に、無機薄膜層13,23の厚さが100nm以下であると、材料使用量の低減及び膜形成時間の短縮等に起因してコストを低減できるの
で、経済的観点から好ましい。
The thickness of the inorganic thin film layers 13 and 23 formed by vacuum film formation is preferably 5 nm or more and 100 nm or less. When the thickness of the inorganic thin film layers 13 and 23 is 5 nm or more, a better barrier property tends to be obtained. Further, when the thickness of the inorganic thin film layers 13 and 23 is 100 nm or less, the occurrence of cracks tends to be suppressed, and the deterioration of the water vapor barrier property and the oxygen barrier property due to the cracks tends to be suppressed. Further, when the thickness of the inorganic thin film layers 13 and 23 is 100 nm or less, the cost can be reduced due to the reduction of the amount of material used and the shortening of the film formation time, which is preferable from the economical viewpoint.

(ガスバリア性被覆層)
ガスバリア性被覆層14,24は、後工程での二次的な各種損傷を防止すると共に、高いバリア性を付与するために設けられるものである。ガスバリア性被覆層14,24は、シロキサン結合を含んでいてもよい。ガスバリア性被覆層14,24は、大気中で形成することもできる。ガスバリア性被覆層14,24を大気中で形成する場合は、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、エチレンビニルアルコールのような極性を持つ化合物、ポリ塩化ビニリデン等の塩素を含む化合物、及びSi原子を含む化合物、Ti原子を含む化合物、Al原子を含む化合物、Zr原子を含む化合物等を含有する塗布液を無機薄膜層13,23上に塗布し、乾燥硬化させることで形成することができる。
(Gas barrier coating layer)
The gas barrier coating layers 14 and 24 are provided to prevent various secondary damages in the subsequent process and to impart high barrier properties. The gas barrier coating layers 14 and 24 may contain a siloxane bond. The gas barrier coating layers 14 and 24 can also be formed in the atmosphere. When the gas barrier coating layers 14 and 24 are formed in the atmosphere, they contain, for example, a polar compound such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, or ethylene vinyl alcohol, a chlorine-containing compound such as polyvinylidene chloride, and a Si atom. It can be formed by applying a coating liquid containing a compound, a compound containing a Ti atom, a compound containing an Al atom, a compound containing a Zr atom, or the like on the inorganic thin film layers 13 and 23 and drying and curing the mixture.

ガスバリア性被覆層14,24を大気中で形成する際の塗布液の塗布方法としては、具体的には、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、及びダイコーター等による塗布方法が挙げられる。 Specific examples of the coating liquid coating method for forming the gas barrier coating layers 14 and 24 in the atmosphere include a coating method using a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, and the like. Be done.

シロキサン結合を含む化合物は、例えば、シラン化合物を用い、シラノール基を反応させて形成されることが好ましい。このようなシラン化合物としては、下記式(1)で表される化合物が挙げられる。
(OR4−nSi …(1)
[式中、nは0〜3の整数を示し、R1及びR2はそれぞれ独立に炭化水素基を示し、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基を示す。]
The compound containing a siloxane bond is preferably formed by reacting a silanol group with, for example, a silane compound. Examples of such a silane compound include a compound represented by the following formula (1).
R 1 n (OR 2 ) 4-n Si ... (1)
[In the formula, n represents an integer of 0 to 3, and R1 and R2 each independently represent a hydrocarbon group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ]

上記式(1)で表される化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、及びジメチルジエトキシシラン等が挙げられる。窒素を含むポリシラザンを使用してもよい。 Examples of the compound represented by the above formula (1) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, and dimethyldiethoxysilane. And so on. Polysilazane containing nitrogen may be used.

また、ガスバリア性被覆層14,24には、他の金属原子からなる前駆体から作られる材料を使用してもよい。Ti原子を含む化合物としては、例えば、下記式(2)で表される化合物が挙げられる。
(OR4−nTi …(2)
[式中、nは0〜3の整数を示し、R1及びR2はそれぞれ独立に炭化水素基を示し、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基を示す。]
Further, as the gas barrier coating layers 14 and 24, a material made of a precursor composed of other metal atoms may be used. Examples of the compound containing a Ti atom include a compound represented by the following formula (2).
R 1 n (OR 2 ) 4-n Ti ... (2)
[In the formula, n represents an integer of 0 to 3, and R1 and R2 each independently represent a hydrocarbon group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ]

上記式(2)で表される化合物としては、例えば、テトラメトキシチタニウム、テトラエトキシチタニウム、テトライソプロポキシチタニウム、及びテトラブトキシチタニウム等が挙げられる。 Examples of the compound represented by the above formula (2) include tetramethoxytitanium, tetraethoxytitanium, tetraisopropoxytitanium, and tetrabutoxytitanium.

Al原子を含む化合物としては、例えば、下記式(3)で表される化合物が挙げられる。
(OR3−mAl …(3)
[式中、mは0〜2の整数を示し、R1及びR2はそれぞれ独立に炭化水素基を示し、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基を示す。]
Examples of the compound containing an Al atom include a compound represented by the following formula (3).
R 1 m (OR 2 ) 3-m Al ... (3)
[In the formula, m represents an integer of 0 to 2, and R1 and R2 each independently represent a hydrocarbon group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ]

上記式(3)で表される化合物としては、例えば、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、及びトリブトキシアルミニウム等が挙げられる。 Examples of the compound represented by the above formula (3) include trimethoxyaluminum, triethoxyaluminum, triisopropoxyaluminum, and tributoxyaluminum.

Zr原子を含む化合物としては、例えば、下記式(4)で表される化合物が挙げられる

(OR4−nZr …(4)
[式中、nは0〜3の整数を示し、R1及びR2はそれぞれ独立に炭化水素基を示し、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基を示す。]
Examples of the compound containing a Zr atom include a compound represented by the following formula (4).
R 1 n (OR 2 ) 4-n Zr ... (4)
[In the formula, n represents an integer of 0 to 3, and R1 and R2 each independently represent a hydrocarbon group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ]

上記式(4)で表される化合物としては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、及びテトラブトキシジルコニウム等が挙げられる。 Examples of the compound represented by the above formula (4) include tetramethoxyzirconium, tetraethoxyzirconium, tetraisopropoxyzirconium, and tetrabutoxyzirconium.

ガスバリア性被覆層14,24を大気中で形成する場合、上記塗布液は塗布後、硬化される。硬化方法としては、特に限定されないが、紫外線硬化及び熱硬化等が挙げられる。紫外線硬化の場合、塗布液は重合開始剤及び二重結合を有する化合物を含んでいてもよい。また必要に応じて、加熱エージングがされてもよい。 When the gas barrier coating layers 14 and 24 are formed in the atmosphere, the coating liquid is cured after coating. The curing method is not particularly limited, and examples thereof include ultraviolet curing and thermosetting. In the case of UV curing, the coating liquid may contain a polymerization initiator and a compound having a double bond. Further, if necessary, heat aging may be performed.

ガスバリア性被覆層14,24を大気中で形成する別の方法として、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、アルミニウム、ケイ素、チタン、ジルコニウムなどの無機酸化物の粒子同士が、リン化合物に由来するリン原子を介して脱水縮合することで得られる反応生成物をガスバリア性被覆層とする方法を用いることもできる。具体的には、無機酸化物の表面に存在する官能基(例えば、水酸基)と、無機酸化物と反応可能なリン化合物の部位(例えば、リン原子に直接結合したハロゲン原子や、リン原子に直接結合した酸素原子)とが、縮合反応を起こし、結合する。反応生成物は、例えば、無機酸化物とリン化合物とを含む塗布液を無機薄膜層13,23の表面に塗布し、形成した塗膜を熱処理することにより、無機酸化物の粒子同士が、リン化合物に由来するリン原子を介して結合する反応を進行させることで得られる。熱処理の温度の下限は、110℃以上であり、120℃以上であることが好ましく、140℃以上であることがより好ましく、170℃以上であることが更に好ましい。熱処理温度が低いと、十分な反応速度を得ることが難しくなり、生産性が低下する原因となる。熱処理の温度の好ましい上限は、基材の種類などによって異なるが、220℃以下であり、190℃以下であることが好ましい。熱処理は、空気中、窒素雰囲気下、またはアルゴン雰囲気下などで実施することができる。 As another method for forming the gas barrier coating layers 14 and 24 in the atmosphere, particles of inorganic oxides such as magnesium, calcium, zinc, aluminum, silicon, titanium and zirconium are mediated by phosphorus atoms derived from a phosphorus compound. It is also possible to use a method in which the reaction product obtained by dehydration condensation is used as a gas barrier coating layer. Specifically, a functional group (for example, a hydroxyl group) existing on the surface of an inorganic oxide and a site of a phosphorus compound capable of reacting with the inorganic oxide (for example, a halogen atom directly bonded to a phosphorus atom or a direct bond to a phosphorus atom). The bonded oxygen atom) causes a condensation reaction to bond. In the reaction product, for example, a coating liquid containing an inorganic oxide and a phosphorus compound is applied to the surfaces of the inorganic thin film layers 13 and 23, and the formed coating film is heat-treated so that the particles of the inorganic oxide are made of phosphorus. It is obtained by advancing the reaction of binding via a phosphorus atom derived from a compound. The lower limit of the heat treatment temperature is 110 ° C. or higher, preferably 120 ° C. or higher, more preferably 140 ° C. or higher, and even more preferably 170 ° C. or higher. If the heat treatment temperature is low, it becomes difficult to obtain a sufficient reaction rate, which causes a decrease in productivity. The preferable upper limit of the heat treatment temperature varies depending on the type of the base material and the like, but is 220 ° C. or lower, and preferably 190 ° C. or lower. The heat treatment can be carried out in air, in a nitrogen atmosphere, in an argon atmosphere, or the like.

ガスバリア性被覆層14,24を大気中で形成する場合は、凝集等しない限り、上記塗布液は更に樹脂を含んでいてもよい。上記樹脂としては、具体的にはアクリル樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。上記塗布液は、これらの樹脂のうち、塗布液中の他の材料との相溶性が高い樹脂を含むことが好ましい。 When the gas barrier coating layers 14 and 24 are formed in the atmosphere, the coating liquid may further contain a resin as long as it does not aggregate. Specific examples of the resin include acrylic resin and polyester resin. Among these resins, the coating liquid preferably contains a resin having high compatibility with other materials in the coating liquid.

上記塗布液は、更に、フィラー、レベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、並びに、シランカップリング剤及びチタンキレート剤等を必要に応じて含んでいてもよい。 The coating liquid may further contain a filler, a leveling agent, a defoaming agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a silane coupling agent, a titanium chelating agent, and the like, if necessary.

大気中で形成されるガスバリア性被覆層14,24の厚さは、硬化後の膜厚で50nm〜2000nmであることが好ましく、100nm〜1000nmであることがより好ましい。大気中で形成さるガスバリア性被覆層14,24の厚さが50nm以上であると、膜形成がしやすくなる傾向がある。大気中で形成されるガスバリア性被覆層14,24の厚さが2000nm以下であると、割れまたはカールを抑制できる傾向がある。 The thickness of the gas barrier coating layers 14 and 24 formed in the atmosphere is preferably 50 nm to 2000 nm, more preferably 100 nm to 1000 nm in terms of the film thickness after curing. When the thickness of the gas barrier coating layers 14 and 24 formed in the atmosphere is 50 nm or more, film formation tends to be easy. When the thickness of the gas barrier coating layers 14 and 24 formed in the atmosphere is 2000 nm or less, cracking or curling tends to be suppressed.

(接着層)
接着層5は、図1〜3及び5〜6に示すように、第1のフィルム1と第2のフィルム2とを貼り合わせて積層するために、第1のフィルム1と第2のフィルム2との間に設けられている。また、図5に示すようにバリアフィルムが第3のフィルムを有する場合、第2のフィルム2と第3のフィルム3とを貼り合わせて積層するために、第2のフィルム2と
第3のフィルム3との間に設けられている。接着層5としては、高分子フィルム用の接着剤または粘着剤として一般的なものを使用することができ、第1のフィルム1及び第2のフィルム2の貼り合わせる側の表面に応じて適宜選択される。接着層5の材料の候補としては、エポキシ系、ポリエステル系、アクリル系、ゴム系、フェノール系、及びウレタン系等の接着剤または粘着剤が挙げられる。
(Adhesive layer)
As shown in FIGS. 1 to 3 and 5 to 6, the adhesive layer 5 is a first film 1 and a second film 2 in order to bond and laminate the first film 1 and the second film 2. It is provided between and. Further, when the barrier film has a third film as shown in FIG. 5, the second film 2 and the third film are laminated in order to bond and laminate the second film 2 and the third film 3. It is provided between 3 and 3. As the adhesive layer 5, a general adhesive or an adhesive for a polymer film can be used, and the adhesive layer 5 is appropriately selected according to the surfaces of the first film 1 and the second film 2 on the side to be bonded. Will be done. Examples of the material of the adhesive layer 5 include epoxy-based, polyester-based, acrylic-based, rubber-based, phenol-based, and urethane-based adhesives or pressure-sensitive adhesives.

接着剤または粘着剤の塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、及びダイコーター等による塗布方法が挙げられる。 Examples of the method of applying the adhesive or the pressure-sensitive adhesive include a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, and the like.

接着層5の厚さは1μm以上20μm以下であることが好ましい。接着層5の厚さが1μm以上であることにより十分な接着性が得られる傾向があり、20μm以下であることによりバリアフィルムの総厚を薄くできると共に、コストアップを抑制することができる傾向がある。 The thickness of the adhesive layer 5 is preferably 1 μm or more and 20 μm or less. When the thickness of the adhesive layer 5 is 1 μm or more, sufficient adhesiveness tends to be obtained, and when it is 20 μm or less, the total thickness of the barrier film can be reduced and the cost increase tends to be suppressed. be.

また、接着層5を介して第1のフィルム1と第2のフィルム2、または、第2のフィルム2と第3のフィルム3とを貼り合わせた後、エージングすることができる。エージングは、例えば、20〜80℃で1〜10日間行われる。 Further, the first film 1 and the second film 2 or the second film 2 and the third film 3 can be bonded to each other via the adhesive layer 5 and then aged. Aging is carried out, for example, at 20 to 80 ° C. for 1 to 10 days.

接着層5は、必要に応じて、硬化剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング剤、及び分散剤等を含んでいてもよい。 The adhesive layer 5 may contain a curing agent, an antistatic agent, a silane coupling agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a leveling agent, a dispersant and the like, if necessary.

(プライマー層)
プライマー層4は、バリアフィルムと蛍光体層等の被着体との密着性を向上させるために設けられる層である。プライマー層4は、第1のフィルム1の第1の基材11上またはガスバリア性被覆層14上に設けられる。プライマー層4は、バリアフィルムの一方の最表面に設けられ、バリアフィルムのプライマー層4側の表面が被着体に貼り合わせられる。
(Primer layer)
The primer layer 4 is a layer provided to improve the adhesion between the barrier film and an adherend such as a phosphor layer. The primer layer 4 is provided on the first base material 11 of the first film 1 or on the gas barrier coating layer 14. The primer layer 4 is provided on one outermost surface of the barrier film, and the surface of the barrier film on the primer layer 4 side is attached to the adherend.

本発明のバリアフィルムにおけるプライマー層は、水溶性樹脂、及び金属キレート化合物、並びにシランカップリング剤を含有するプライマー組成物の硬化物からなる層である。 The primer layer in the barrier film of the present invention is a layer composed of a cured product of a primer composition containing a water-soluble resin, a metal chelate compound, and a silane coupling agent.

水溶性樹脂としては、金属キレート化合物との反応性の高さ、耐水性の観点からポリビニルアルコール(PVA)、若しくはポリアクリル酸(PAA)やカルボキシメチルセルロース(CMC)などのポリカルボン酸が好ましい。PVAは水酸基もつため、金属キレート化合物が水酸基をもつ場合、脱水反応により架橋して膜となる。PVAはケン化度が高いものを用いることが架橋率を上げるために好ましい。PAAとCMCはカルボキシル基をもつため、金属キレート化合物との脱アルコール反応により架橋して膜となる。水溶性樹脂は、金属キレート化合物が水酸基をもたない場合、分子間力により架橋する。更に、水溶性樹脂は、プライマー層に柔軟性を付与し、バリアフィルムと蛍光体層等の被着体を水素結合で密着させる。 As the water-soluble resin, polyvinyl alcohol (PVA) or a polycarboxylic acid such as polyacrylic acid (PAA) or carboxymethyl cellulose (CMC) is preferable from the viewpoint of high reactivity with a metal chelate compound and water resistance. Since PVA has a hydroxyl group, when the metal chelate compound has a hydroxyl group, it is crosslinked by a dehydration reaction to form a film. It is preferable to use PVA having a high degree of saponification in order to increase the cross-linking rate. Since PAA and CMC have a carboxyl group, they are crosslinked to form a film by a dealcohol reaction with a metal chelate compound. When the metal chelate compound does not have a hydroxyl group, the water-soluble resin is crosslinked by an intermolecular force. Further, the water-soluble resin imparts flexibility to the primer layer, and the barrier film and the adherend such as the phosphor layer are brought into close contact with each other by hydrogen bonds.

シランカップリング剤は被着体に対して高い親和性を示し、密着性の向上に寄与する。すなわち、シランカップリング剤は、金属キレート化合物により加水分解されプライマー層中でシラノール基を生成し、シラノール基は、プライマー層と接する基材やガスバリア性被覆層の表面の水酸基等の極性官能基と反応することにより密着性の向上に寄与し、プライマー層とそれに接する層との界面から水分や酸素などが進入することを抑制する。 The silane coupling agent shows high affinity for the adherend and contributes to the improvement of adhesion. That is, the silane coupling agent is hydrolyzed by a metal chelate compound to generate a silanol group in the primer layer, and the silanol group is a polar functional group such as a hydroxyl group on the surface of a base material in contact with the primer layer or a gas barrier coating layer. The reaction contributes to the improvement of adhesion and suppresses the ingress of moisture, oxygen, etc. from the interface between the primer layer and the layer in contact with the primer layer.

シランカップリング剤としては、特に限定されないが、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基からなる群より選択される少なくとも一種の官能基を有するものが好ましい。このようなシランカップリング剤を用いることにより、バリアフィルムは、蛍光体層等の被着体に対してより優れた密着性を得ることができる。また、シランカップリング剤の官能基の選択により、様々な被着体に対して優れた密着性を得ることができる。特に被着体表面に官能基が存在する場合、当該官能基と反応性または親和性を有する官能基を有するシランカップリング剤を選択して用いることで、より優れた密着性が得られる。また、シランカップリング剤としては、官能基が異なるシランカップリング剤を2種以上組み合わせて用いてもよい。 The silane coupling agent is not particularly limited, but one having at least one functional group selected from the group consisting of a methacryloyl group, an acryloyl group, an epoxy group, an amino group and a mercapto group is preferable. By using such a silane coupling agent, the barrier film can obtain better adhesion to an adherend such as a phosphor layer. Further, by selecting the functional group of the silane coupling agent, excellent adhesion to various adherends can be obtained. In particular, when a functional group is present on the surface of the adherend, better adhesion can be obtained by selecting and using a silane coupling agent having a functional group having a reactivity or affinity with the functional group. Further, as the silane coupling agent, two or more kinds of silane coupling agents having different functional groups may be used in combination.

メタクリル基を有するシランカップリング剤としては、例えば、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらの中でも、反応性の観点から、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。これらは1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the silane coupling agent having a methacryl group include 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, and 3-methacryloxypropyltriethoxysilane. Can be mentioned. Among these, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane are preferable from the viewpoint of reactivity. These can be used alone or in combination of two or more.

アクリル基を有するシランカップリング剤としては、例えば、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the silane coupling agent having an acrylic group include 3-acryloxypropyltrimethoxysilane.

エポキシ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらの中でも、反応性の観点から、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。これらは1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the silane coupling agent having an epoxy group include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-. Examples thereof include glycidoxypropylmethyldiethoxysilane and 3-glycidoxypropyltriethoxysilane. Among these, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane are preferable from the viewpoint of reactivity. These can be used alone or in combination of two or more.

アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(ビニルベンジル)−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩等が挙げられる。これらの中でも、反応性の観点から、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシランが好ましい。これらは1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the silane coupling agent having an amino group include N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, and 3-amino. Propyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (vinylbenzyl) ) -2-Aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride and the like can be mentioned. Among these, 3-aminopropyltriethoxysilane and 3-aminopropyltriethoxysilane are preferable from the viewpoint of reactivity. These can be used alone or in combination of two or more.

メルカプト基を有するシランカップリング剤としては、例えば、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらの中でも、反応性の観点から、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランが好ましい。また、メルカプト基を有するシランカップリング剤には、臭気の点から例えばメルカプト基をアルコキシシリル基等で保護したシランカップリング剤も含まれる。これらは1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the silane coupling agent having a mercapto group include 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane. Among these, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane is preferable from the viewpoint of reactivity. Further, the silane coupling agent having a mercapto group also includes a silane coupling agent in which, for example, a mercapto group is protected with an alkoxysilyl group or the like from the viewpoint of odor. These can be used alone or in combination of two or more.

有機金属化合物をシランカップリング剤と併用することで、シランカップリング剤を単独で用いる場合と比較して、優れた密着性を確保できるだけの十分な厚さを有するプライマー層を容易に得ることができる。その際、過剰な加熱や紫外線照射、及びエージング等の工程を必ずしも必要としない。有機金属化合物はシランカップリング剤間の結合に組み込まれ、より強固なプライマー層の形成、及びそれに伴う密着性の向上に寄与する。更に、有機金属化合物は、未反応のシランカップリング剤同士を結合させるバインダーの役割を果たし、プライマー層中に過剰な未反応シランカップリング剤が存在することによるタック性を予防することで、ハンドリングを容易にすることができる。 By using the organometallic compound in combination with the silane coupling agent, it is possible to easily obtain a primer layer having a sufficient thickness to ensure excellent adhesion as compared with the case where the silane coupling agent is used alone. can. At that time, steps such as excessive heating, ultraviolet irradiation, and aging are not always required. The organometallic compound is incorporated into the bond between the silane coupling agents and contributes to the formation of a stronger primer layer and the accompanying improvement in adhesion. Furthermore, the organometallic compound acts as a binder that binds the unreacted silane coupling agents to each other, and prevents tackiness due to the presence of an excessive unreacted silane coupling agent in the primer layer for handling. Can be facilitated.

有機金属化合物としては、金属キレート化合物、金属アルコキシド化合物及び金属アシレート化合物が候補となるが、シランカップリング剤の加水分解の反応性促進、調液後のポットライフのコントロールの観点から、金属キレート化合物が好ましい。また、金属キレート化合物は、チタン、ジルコニウム、アルミニウム及びスズからなる群より選択される少なくとも一種の金属を含むことが好ましい。これらの中でも、環境側面からチタン、ジルコニウム及びアルミニウムからなる群より選択される少なくとも一種の金属を含むことが好ましく、更に初期の密着性を特に良好にする観点からは、チタン及びジルコニウムからなる群より選択される少なくとも一種の金属を含むことが好ましい。 As the organic metal compound, a metal chelate compound, a metal alkoxide compound and a metal acylate compound are candidates, but from the viewpoint of promoting the reactivity of hydrolysis of the silane coupling agent and controlling the pot life after liquid preparation, the metal chelate compound Is preferable. Further, the metal chelate compound preferably contains at least one metal selected from the group consisting of titanium, zirconium, aluminum and tin. Among these, it is preferable to contain at least one metal selected from the group consisting of titanium, zirconium and aluminum from the viewpoint of the environment, and from the viewpoint of particularly improving the initial adhesion, the group consisting of titanium and zirconium is used. It preferably contains at least one metal of choice.

金属キレート化合物としては、例えば、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタントリエタノールアミネート、チタンアミノエチルアミノエタノレートジルコニウムラクテートアンモニウム塩、ジルコニウムエチルアセトアセテート、ジルコニウムトリブトキシモノアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムジブトキシビス(エチルアセトアセテート)、ジルコニウムモノアセチルアセトネート、チタンジイソプロポキシビス(アセチルアセトネート)、チタンテトラアセチルアセトネート、チタンジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)、チタニウムジ−2−エチルヘキソキシビス(2−エチル−3−ヒドロキシヘキソキシド)、チタンジイソプロポキシビス(トリエタノールアミネート)、チタン−1,3−プロパンジオキシビス(エチルアセトアセテート)、チタンアミノエチルアミノエタノレート、チタンアセチルアセトネート、チタンエチルアセトアセテート、リン酸チタン化合物、チタンオクチレングリコレート、チタンエチルアセトアセテート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセトネート等が挙げられる。 Examples of the metal chelate compound include titanium lactate ammonium salt, titanium lactate, titanium triethanolaminate, titanium aminoethylaminoetanolate zirconium lactate ammonium salt, zirconium ethyl acetoacetate, zirconium tributoxymonoacetylacetate, and zirconium tetraacetylacetate. Nate, zirconium dibutoxybis (ethyl acetoacetate), zirconium monoacetyl acetonate, titanium diisopropoxybis (acetyl acetonate), titanium tetraacetyl acetonate, titanium diisopropoxybis (ethyl acetoacetate), titanium di-2 -Ethylhexoxybis (2-ethyl-3-hydroxyhexoxide), Titanium Diisopropoxybis (Triethanolaminete), Titanium-1,3-Propanodioxybis (Ethylacetacetate), Titanium Aminoethylamino Ethanolate, Titanium Acetylacetate, Titanium Ethylacetate, Titanium Phosphate Compound, Titanium Octylene Glycolate, Titanium Ethylacetate, Aluminum Trisethylacetate, Aluminumtris Acetylacetate, Aluminum Bisethylacetate Monoacetylacetate And so on.

前記の金属キレート化合物の中でも、水溶性樹脂との相溶性から、水溶性あるいはアルコール可溶性が好ましく、中でも水溶性樹脂との反応性から、水酸基を持つものが好ましく、さらには、水酸基を二つ以上ものがより好ましく、例としては、チタンラクテートやジルコニウムラクテートアンモニウム塩が挙げられる。これらは1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。 Among the above-mentioned metal chelate compounds, those having a hydroxyl group are preferable from the viewpoint of compatibility with a water-soluble resin, and water-soluble or alcohol-soluble is preferable, and those having a hydroxyl group are preferable from the viewpoint of reactivity with a water-soluble resin, and further, two or more hydroxyl groups are used. Those are more preferable, and examples thereof include titanium lactate and zirconium lactate ammonium salt. These can be used alone or in combination of two or more.

プライマー組成物において、水溶性樹脂100(質量部)に対するシランカップリング剤は、1〜10000であることが好ましく、10〜1000であることがより好ましい。水溶性樹脂1(質量部)に対する金属キレート化合物との配合比(質量部)は、1〜10000であることが好ましく、10〜100であることがより好ましい。金属キレート化合物の配合量が上記範囲よりも少ないと、プライマー層4の成膜に時間がかかると共に、タック性を抑制する効果が低下する場合がある。一方、金属キレート化合物の配合量が上記範囲よりも多いと、成膜後のプライマー層4のシランカップリング剤が不十分となり、基材11や基材21蛍光体層等の被着体に対する密着性が低下する場合がある。 In the primer composition, the silane coupling agent with respect to 100 (parts by mass) of the water-soluble resin is preferably 1 to 10000, more preferably 10 to 1000. The compounding ratio (parts by mass) of the metal chelate compound to the water-soluble resin 1 (parts by mass) is preferably 1 to 10000, and more preferably 10 to 100. If the amount of the metal chelate compound blended is less than the above range, it may take time to form the primer layer 4 and the effect of suppressing tackiness may be reduced. On the other hand, if the blending amount of the metal chelate compound is larger than the above range, the silane coupling agent of the primer layer 4 after film formation becomes insufficient, and the adhesion to the adherend such as the base material 11 and the base material 21 phosphor layer is insufficient. Sex may be reduced.

プライマー層4を形成するプライマー組成物は、上述したシランカップリング剤及び金属キレート化合物以外の他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、希釈溶剤、スリップ剤、消泡剤、帯電防止剤等が挙げられる。 The primer composition forming the primer layer 4 may contain components other than the above-mentioned silane coupling agent and metal chelate compound. Examples of other components include a diluting solvent, a slip agent, an antifoaming agent, an antistatic agent and the like.

希釈溶剤としては、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール等が挙げられる。これらは1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。希釈溶剤の配合量は特に限定されず、目的とする塗布量、加工方法等から固形分調整をするために用いることができる。 Examples of the diluting solvent include water, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, 1-butanol and the like. These can be used alone or in combination of two or more. The blending amount of the diluting solvent is not particularly limited, and it can be used to adjust the solid content from the target coating amount, processing method, and the like.

プライマー層4は、上述したプライマー組成物を第1のフィルム1の第1の基材11またはガスバリア性被覆層14上に塗布し、硬化させることで形成することができる。塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、及びダイコーター等による塗布方法が挙げられる。硬化は、例えば、80〜150℃で15秒〜300秒の条件で行うことができる。 The primer layer 4 can be formed by applying the above-mentioned primer composition on the first base material 11 or the gas barrier coating layer 14 of the first film 1 and curing it. Examples of the coating method include a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, and the like. Curing can be performed, for example, at 80 to 150 ° C. for 15 to 300 seconds.

プライマー層4の厚さは、1〜1000nmであることが好ましく、1〜200nmであることがより好ましく、5〜100nmであることが更に好ましく、10〜80nmであることが特に好ましい。この厚さが1nm以上であると、塗工後の成膜性が安定し、面内で均一に良好な密着性を得ることができる。一方、厚さが1000nm以下であると、プライマー層4が脆くなることを防いで蛍光体層7との安定した密着性を得ることができると共に、プライマー層4の端部(バリアフィルムと蛍光体層7との間)からの水蒸気及び酸素の侵入を十分に抑制できる。また、プライマー層4の厚さが薄い方が、プライマー層4の硬化反応が早く進むと共に、被着体との初期密着性が良好となる。更に、プライマー層4の厚さが200nm以下であると、光学的な干渉縞も低減することができる。 The thickness of the primer layer 4 is preferably 1 to 1000 nm, more preferably 1 to 200 nm, further preferably 5 to 100 nm, and particularly preferably 10 to 80 nm. When this thickness is 1 nm or more, the film forming property after coating is stable, and good adhesion can be uniformly obtained in the plane. On the other hand, when the thickness is 1000 nm or less, the primer layer 4 can be prevented from becoming brittle and stable adhesion to the phosphor layer 7 can be obtained, and the end portion of the primer layer 4 (barrier film and phosphor). The invasion of water vapor and oxygen from the layer 7) can be sufficiently suppressed. Further, when the thickness of the primer layer 4 is thin, the curing reaction of the primer layer 4 proceeds faster and the initial adhesion to the adherend becomes better. Further, when the thickness of the primer layer 4 is 200 nm or less, optical interference fringes can be reduced.

(マット層)
マット層6は、1以上の光学的機能や帯電防止機能を発揮させるために、バリアフィルムのプライマー層4とは反対側の表面に設けられている。ここで、光学的機能としては、特に限定されるものではないが、干渉縞(モアレ)防止機能、反射防止機能、拡散機能等が挙げられる。これらの中でも、マット層6は、光学的機能として少なくとも干渉縞防止機能を有することが好ましい。本実施形態では、マット層6が少なくとも干渉縞防止機能を有するものである場合について説明する。
(Mat layer)
The mat layer 6 is provided on the surface of the barrier film opposite to the primer layer 4 in order to exert one or more optical functions and antistatic functions. Here, the optical function is not particularly limited, and examples thereof include an interference fringe (moire) prevention function, an antireflection function, and a diffusion function. Among these, the mat layer 6 preferably has at least an interference fringe prevention function as an optical function. In the present embodiment, a case where the mat layer 6 has at least an interference fringe prevention function will be described.

マット層6は、バインダー樹脂と、微粒子とを含んで構成されていてもよい。そして、マット層6の表面から微粒子の一部が露出するように微粒子がバインダー樹脂に埋め込まれることにより、マット層6の表面には微細な凹凸が生じていてもよい。このようなマット層6をバリアフィルムの表面に設けることにより、ニュートンリング等の干渉縞の発生をより十分に防止することができ、結果として高効率かつ高精細、長寿命の波長変換シートを得ることが可能となる。 The mat layer 6 may be composed of a binder resin and fine particles. Then, the surface of the mat layer 6 may have fine irregularities by embedding the fine particles in the binder resin so that a part of the fine particles is exposed from the surface of the mat layer 6. By providing such a mat layer 6 on the surface of the barrier film, the occurrence of interference fringes such as Newton's rings can be more sufficiently prevented, and as a result, a wavelength conversion sheet having high efficiency, high definition, and long life can be obtained. It becomes possible.

バインダー樹脂としては、特に限定されるものではないが、光学的透明性に優れた樹脂を用いることができる。より具体的には、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、ポリウレタンアクリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂などの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などを用いることができる。また、有機樹脂以外に、シリカバインダーを用いることもできる。これらの中でも、材料の幅広さからアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂を用いることが望ましく、耐光性や光学特性に優れることからアクリル系樹脂を使用することがより望ましい。これらは、1種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。 The binder resin is not particularly limited, but a resin having excellent optical transparency can be used. More specifically, for example, polyester resin, acrylic resin, acrylic urethane resin, polyester acrylate resin, polyurethane acrylate resin, urethane resin, epoxy resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyimide resin. , Melamine-based resin, thermoplastic resin such as phenol-based resin, thermosetting resin, ionizing radiation curable resin and the like can be used. In addition to the organic resin, a silica binder can also be used. Among these, it is desirable to use an acrylic resin or a urethane resin because of the wide range of materials, and it is more desirable to use an acrylic resin because of its excellent light resistance and optical characteristics. These are not limited to one type, but a plurality of types can be used in combination.

微粒子としては、特に限定されるものではないが、例えば、シリカ、クレー、タルク、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナなどの無機微粒子の他、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂などの有機微粒子を用いることができる。これらの中でも、微粒子としては、シリカ、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂等からなる屈折率1.40〜1.55の微粒子を用いることが、透過率の上で好ましい。屈折率が低い微粒子は高価であり、一方、屈折率が高すぎる微粒子は透過率を損ねる傾向がある。これらは、1種だけでなく、複数種
を組み合わせて使用することもできる。
The fine particles are not particularly limited, but are, for example, inorganic fine particles such as silica, clay, talc, calcium carbonate, calcium sulfate, barium sulfate, titanium oxide, and alumina, as well as styrene resin, urethane resin, and silicone resin. Organic fine particles such as acrylic resin and polyamide resin can be used. Among these, as the fine particles, it is preferable to use fine particles having a refractive index of 1.40 to 1.55 made of silica, acrylic resin, urethane resin, polyamide resin or the like in terms of transmittance. Fine particles with a low index of refraction are expensive, while fine particles with an excessively high index of refraction tend to impair the transmittance. These are not limited to one type, but a plurality of types can be used in combination.

微粒子の平均粒径は、0.1〜30μmであることが好ましく、0.5〜10μmであることがより好ましい。微粒子の平均粒径が0.1μm以上であると、優れた干渉縞防止機能が得られる傾向があり、30μm以下であると、透明性がより向上する傾向がある。 The average particle size of the fine particles is preferably 0.1 to 30 μm, more preferably 0.5 to 10 μm. When the average particle size of the fine particles is 0.1 μm or more, an excellent interference fringe prevention function tends to be obtained, and when the average particle size is 30 μm or less, the transparency tends to be further improved.

マット層6における微粒子の含有量は、マット層6全量を基準として0.5〜30質量%であることが好ましく、3〜10質量%であることがより好ましい。微粒子の含有量が0.5質量%以上であると、光拡散機能と干渉縞の発生を防止する効果がより向上する傾向があり、30質量%以下であると、輝度を低減させることがない。 The content of the fine particles in the mat layer 6 is preferably 0.5 to 30% by mass, more preferably 3 to 10% by mass, based on the total amount of the mat layer 6. When the content of the fine particles is 0.5% by mass or more, the light diffusion function and the effect of preventing the occurrence of interference fringes tend to be further improved, and when it is 30% by mass or less, the brightness is not reduced. ..

マット層6は、上述したバインダー樹脂及び微粒子を含む塗布液を第1のフィルム1、第2のフィルム2または第3のフィルム3の表面上に塗布し、乾燥硬化させることで形成することができる。塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、及びダイコーター等による塗布方法が挙げられる。 The mat layer 6 can be formed by applying a coating liquid containing the above-mentioned binder resin and fine particles on the surfaces of the first film 1, the second film 2 or the third film 3 and drying and curing the mat layer 6. .. Examples of the coating method include a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, and the like.

マット層6の厚さは、0.1〜20μmであることが好ましく、0.3〜10μmであることがより好ましい。マット層6の厚さが0.1μm以上であることにより、均一な膜が得られやすく、光学的機能を十分に得やすくなる傾向がある。一方、マット層6の厚さが20μm以下であることにより、マット層6に微粒子を用いた場合、マット層6の表面へ微粒子が露出して、凹凸付与効果が得られやすくなる傾向がある。 The thickness of the mat layer 6 is preferably 0.1 to 20 μm, more preferably 0.3 to 10 μm. When the thickness of the mat layer 6 is 0.1 μm or more, a uniform film tends to be easily obtained, and an optical function tends to be sufficiently obtained. On the other hand, when the thickness of the mat layer 6 is 20 μm or less, when fine particles are used for the mat layer 6, the fine particles are exposed on the surface of the mat layer 6 and the effect of imparting unevenness tends to be easily obtained.

以上説明した構成を有する本実施形態のバリアフィルムは、酸素や水蒸気の透過に関するバリア性が必要とされる用途に用いることができ、例えば、液晶用バックライトに用いる発光体を含有した波長変換シート、特に量子ドット発光体を含有した波長変換シート、有機EL素子、太陽電池等の産業資材のバリアフィルムとして用いることができる。 The barrier film of the present embodiment having the configuration described above can be used in applications that require a barrier property regarding the permeation of oxygen and water vapor. For example, a wavelength conversion sheet containing a light emitter used for a backlight for a liquid crystal display. In particular, it can be used as a barrier film for industrial materials such as wavelength conversion sheets containing quantum dot illuminants, organic EL elements, and solar cells.

[波長変換シート]
次に、上記バリアフィルムを用いた本発明の波長変換シートについて説明する。本発明の波長変換シートは、蛍光体を含む蛍光体層と、上記蛍光体層の少なくとも一方の面上に積層された上記本発明のバリアフィルムと、を備えるものであり、上記バリアフィルムは、上記蛍光体層側の最表面に上記プライマー層を備える。図7は、本発明の波長変換シートの一実施形態を示す模式断面図である。図7に示す波長変換シート800は、蛍光体を含む波長変換機能を有する蛍光体層7が、一対のバリアフィルム100で挟まれた構造を有している。一対のバリアフィルム100と蛍光体層7とは、プライマー層4が蛍光体層7と接するように積層されている。かかる構成を有する波長変換シート800は、プライマー層4を介してバリアフィルム100と蛍光体層7とが貼り合わせられているため、優れた密着性が得られる。なお、バリアフィルム100は、上述したバリアフィルム200、バリアフィルム300またはバリアフィルム400であってもよい。
[Wavelength conversion sheet]
Next, the wavelength conversion sheet of the present invention using the barrier film will be described. The wavelength conversion sheet of the present invention includes a phosphor layer containing a phosphor and the barrier film of the present invention laminated on at least one surface of the phosphor layer. The primer layer is provided on the outermost surface on the phosphor layer side. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the wavelength conversion sheet of the present invention. The wavelength conversion sheet 800 shown in FIG. 7 has a structure in which a phosphor layer 7 having a wavelength conversion function including a phosphor is sandwiched between a pair of barrier films 100. The pair of barrier films 100 and the phosphor layer 7 are laminated so that the primer layer 4 is in contact with the phosphor layer 7. In the wavelength conversion sheet 800 having such a configuration, since the barrier film 100 and the phosphor layer 7 are bonded to each other via the primer layer 4, excellent adhesion can be obtained. The barrier film 100 may be the barrier film 200, the barrier film 300, or the barrier film 400 described above.

(蛍光体層)
蛍光体層7は、励起光の照射によって異なる波長の光を発光する波長変換機能を有する層であり、少なくとも1種類以上の蛍光体(図示せず)を含む。
(Fluorescent layer)
The phosphor layer 7 is a layer having a wavelength conversion function of emitting light having a different wavelength by irradiation with excitation light, and includes at least one type of phosphor (not shown).

蛍光体の中でも量子ドットと呼ばれるナノサイズの半導体は、高い波長変換効率が得られ、輝度とディスプレイとしての色再現性に優れることから好ましい。量子ドットとしては、発光部としてのコアが保護膜としてのシェルで被覆されたものが挙げられる。上記コアとしては、例えば、セレン化カドミウム(CdSe)等が挙げられ、上記シェルとしては、例えば、硫化亜鉛(ZnS)等が挙げられる。CdSeの粒子の表面欠陥がバンドギャップの大きいZnSにより被覆されることで量子効率が向上する。また、蛍光体は、コアが第1シェル及び第2シェルにより二重に被覆されたものであってもよい。この場合、コアにはCsSe、第1シェルにはセレン化亜鉛(ZnSe)、第2シェルにはZnSが使用できる。上記蛍光体は2種類以上を組み合わせて用いられる。また、1種類の蛍光体のみを含む蛍光体層と、別の種類の蛍光体のみを含む蛍光体層とが積層されていてもよい。 Among the phosphors, nano-sized semiconductors called quantum dots are preferable because they can obtain high wavelength conversion efficiency and are excellent in brightness and color reproducibility as a display. Examples of the quantum dots include those in which the core as a light emitting portion is covered with a shell as a protective film. Examples of the core include cadmium selenide (CdSe) and the like, and examples of the shell include zinc sulfide (ZnS) and the like. Quantum efficiency is improved by covering the surface defects of CdSe particles with ZnS having a large bandgap. Further, the phosphor may have a core double-coated with a first shell and a second shell. In this case, CsSe can be used for the core, zinc selenide (ZnSe) can be used for the first shell, and ZnS can be used for the second shell. The above phosphors are used in combination of two or more types. Further, a phosphor layer containing only one type of phosphor and a phosphor layer containing only another type of phosphor may be laminated.

量子ドットは、封止のための樹脂材料に分散される。樹脂材料(封止樹脂)としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、及び紫外線硬化型樹脂(光硬化性樹脂)等を使用することができる。熱可塑性樹脂としては、例えば、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース及びメチルセルロース等のセルロース誘導体、酢酸ビニルとその共重合体、塩化ビニルとその共重合体、及び塩化ビニリデンとその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール及びポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂とその共重合体、メタアクリル樹脂とその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、線状ポリエステル樹脂、フッ素樹脂、並びに、ポリカーボネート樹脂等を用いることができる。熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、及びシリコーン樹脂等が挙げられる。光硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、及びポリエステルアクリレート等の光重合性プレポリマーが挙げられる。また、これら光重合性プレポリマーを主成分とし、希釈剤として単官能または多官能のモノマーを使用することもできる。その他光硬化性樹脂として、多官能のチオール系化合物を主成分とし、多官能のアクリル系化合物、メタクリル系化合物、アリル系化合物などで反応させた硬化物も挙げられる。 The quantum dots are dispersed in a resin material for sealing. As the resin material (sealing resin), for example, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin (photocurable resin), or the like can be used. Examples of the thermoplastic resin include cellulose derivatives such as acetyl cellulose, nitro cellulose, acetyl butyl cellulose, ethyl cellulose and methyl cellulose, vinyl acetate and its copolymer, vinyl chloride and its copolymer, and vinylidene chloride and its copolymer. Vinyl resins such as, polyvinyl formal and acetal resins such as polyvinyl butyral, acrylic resins and their copolymers, methacrylic resins and their copolymers and other acrylic resins, polystyrene resins, polyamide resins, linear polyester resins, fluorine. Resins, polycarbonate resins and the like can be used. Examples of the thermosetting resin include epoxy resin, phenol resin, urea melamine resin, polyester resin, silicone resin and the like. Examples of the photocurable resin include photopolymerizable prepolymers such as epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyester acrylate. Further, it is also possible to use these photopolymerizable prepolymers as a main component and a monofunctional or polyfunctional monomer as a diluent. Other examples of the photocurable resin include a cured product containing a polyfunctional thiol compound as a main component and reacting with a polyfunctional acrylic compound, a methacrylic compound, an allyl compound and the like.

蛍光体層7は、蛍光体と樹脂材料と必要に応じて溶剤とを含む混合液をバリアフィルムのプライマー層4上に塗布して塗膜を形成し、必要に応じて、別に作製したもう1枚のバリアフィルムをプライマー層4が蛍光体層7を向くように積層し、塗膜を硬化させることで形成することができる。 The phosphor layer 7 is formed by applying a mixed solution containing a phosphor, a resin material, and a solvent, if necessary, onto the primer layer 4 of the barrier film to form a coating film, and if necessary, another prepared separately. It can be formed by laminating a number of barrier films so that the primer layer 4 faces the phosphor layer 7 and curing the coating film.

塗膜の硬化は、使用する樹脂材料に応じて適宜行うことができる。例えば樹脂材料が光硬化性樹脂である場合、塗膜の硬化は、紫外線の照射によって光硬化性樹脂を硬化(UV硬化)させることで行うことができる。なお、光硬化性樹脂は、UV硬化の後に更に熱硬化させてもよい。 The coating film can be appropriately cured depending on the resin material used. For example, when the resin material is a photocurable resin, the coating film can be cured by curing the photocurable resin by irradiating with ultraviolet rays (UV curing). The photocurable resin may be further thermoset after UV curing.

上述した本実施形態の波長変換シートは、例えばバックライトユニットに使用することができる。バックライトユニットは、例えば光源、導光板、反射板、及び本実施形態の波長変換シートを備える。バックライトユニットにおいては、波長変換シートの一方の表面上に導光板及び反射板がこの順で配置され、光源は上記導光板の側方(導光板の面方向)に配置される。光源には、例えば、青色発光ダイオード素子等が用いられる。 The wavelength conversion sheet of the present embodiment described above can be used, for example, in a backlight unit. The backlight unit includes, for example, a light source, a light guide plate, a reflector, and a wavelength conversion sheet of the present embodiment. In the backlight unit, the light guide plate and the reflector are arranged in this order on one surface of the wavelength conversion sheet, and the light source is arranged on the side of the light guide plate (the surface direction of the light guide plate). As the light source, for example, a blue light emitting diode element or the like is used.

以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。 Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, the technical scope of the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. Is.

例えば、図1〜7に示したバリアフィルムにおいて、マット層6及びアンカーコート層12,22は設けなくてもよい。 For example, in the barrier film shown in FIGS. 1 to 7, the mat layer 6 and the anchor coat layers 12 and 22 may not be provided.

また、図1、図2、図5及び図7に示したバリアフィルム100,200,500において、バリア層15,25は、無機薄膜層13,23とガスバリア性被覆層14,24とが交互に複数積層されたものであってもよい。また、図3、図4及び図6に示したバリアフィルム300,400,600において、バリア層15,25は、無機薄膜層13,2
3とガスバリア性被覆層14,24とが1層ずつ積層されたものであってもよい。
Further, in the barrier films 100, 200, 500 shown in FIGS. 1, 2, 5, and 7, the barrier layers 15 and 25 alternate between the inorganic thin film layers 13 and 23 and the gas barrier coating layers 14 and 24. A plurality of laminated ones may be used. Further, in the barrier films 300, 400, 600 shown in FIGS. 3, 4, and 6, the barrier layers 15 and 25 are the inorganic thin film layers 13, 2.
3 and the gas barrier coating layers 14 and 24 may be laminated one by one.

また、図1〜7に示したバリアフィルムにおいて、第1のフィルム1及び第2のフィルム2の向きは図示した向きに限定されず、逆向きに配置してもよい。 Further, in the barrier films shown in FIGS. 1 to 7, the orientations of the first film 1 and the second film 2 are not limited to the directions shown in the drawings, and may be arranged in opposite directions.

また、図1〜7に示したバリアフィルムは、各図に示した第1〜第3のフィルムに加えて、それらと同様のまたは異なる構成を有する1以上のフィルムを更に有していてもよい。 Further, the barrier films shown in FIGS. 1 to 7 may further include one or more films having the same or different configurations as those of the first to third films shown in each figure. ..

また、図7に示した波長変換シートにおいて、蛍光体層7を挟む一対のバリアフィルムは互いに異なる構成を有していてもよい。更に、マット層6は、必ずしも波長変換シートの両面に設けられていなくてもよく、一方の表面のみに設けられていてもよい。 Further, in the wavelength conversion sheet shown in FIG. 7, the pair of barrier films sandwiching the phosphor layer 7 may have different configurations from each other. Further, the mat layer 6 does not necessarily have to be provided on both sides of the wavelength conversion sheet, and may be provided only on one surface.

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

以下の実施例及び比較例において、水蒸気透過度は、JIS K7129に準じた赤外線センサ法により、水蒸気透過率測定装置(商品名:Permatran、MOCON社製)を用い、透過セルの温度を40℃とし、高湿度チャンバの相対湿度を90%RHとし、低湿度チャンバの相対湿度を0%RHとして測定した。 In the following Examples and Comparative Examples, the water vapor permeability was determined by using an infrared sensor method according to JIS K7129, using a water vapor permeability measuring device (trade name: Permatran, manufactured by MOCON), and setting the temperature of the transmission cell to 40 ° C. , The relative humidity of the high humidity chamber was 90% RH, and the relative humidity of the low humidity chamber was 0% RH.

また、以下の実施例及び比較例において、プライマー層の厚さは、透過型電子顕微鏡(Transmission Electron Microscope;TEM)にてサンプル断面を観察することにより測定した。 Further, in the following Examples and Comparative Examples, the thickness of the primer layer was measured by observing the sample cross section with a transmission electron microscope (TEM).

<実施例1>
片面がコロナ放電処理された二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名:P60、厚さ:16μm、東レ株式会社製)のコロナ放電処理された面上に、ポリエステル樹脂溶液をバーコート法により塗布し、80℃で1分間乾燥硬化させることにより、厚さ100nmのアンカーコート層を形成した。
<Example 1>
A polyester resin solution was applied by the bar coat method on the corona discharge-treated surface of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (trade name: P60, thickness: 16 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) whose one side was corona-discharge-treated. An anchor coat layer having a thickness of 100 nm was formed by drying and curing at 80 ° C. for 1 minute.

電子ビーム加熱式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料(キヤノンオプトロン株式会社製)を1.5×10−2Paの圧力下で電子ビーム加熱によって蒸発させ、上記アンカーコート層上に無機薄膜層として厚さ80nmのSiOx膜を形成した。なお、蒸着における加速電圧は40kVであり、エミッション電流は0.2Aであった。このSiOx膜上に、テトラエトキシシランの加水分解物(シロキサン結合含有)とポリビニルアルコールとを質量比1:1で混合した塗布液をバーコート法にて塗布し、120℃で1分間乾燥硬化させ、厚さ400nmのガスバリア性被覆層を形成した。これにより、第1のフィルムを得た。また、第1のフィルムと同様にして、第2のフィルムを作製した。第1及び第2のフィルムの水蒸気透過度は0.1g/(m・day)であった。 Using a vacuum vapor deposition apparatus of the electron beam heating type, a silicon oxide material (manufactured by Canon Optron Inc.) and evaporated by electron beam heating under a pressure of 1.5 × 10 -2 Pa, an inorganic thin film on the anchor coat layer A SiOx film having a thickness of 80 nm was formed as a layer. The acceleration voltage in the vapor deposition was 40 kV, and the emission current was 0.2 A. On this SiOx film, a coating solution prepared by mixing a hydrolyzate of tetraethoxysilane (containing a siloxane bond) and polyvinyl alcohol at a mass ratio of 1: 1 is applied by a bar coating method, and dried and cured at 120 ° C. for 1 minute. , A gas barrier coating layer having a thickness of 400 nm was formed. As a result, a first film was obtained. Moreover, the second film was produced in the same manner as the first film. The water vapor transmission rate of the first and second films was 0.1 g / (m 2 · day).

第1のフィルムのガスバリア性被覆層上に、粘着剤(主剤:TPO−3183、硬化剤:K−341、サイデン化学(株)製)を塗布して接着層とし、第2のフィルムのガスバリア性被覆層側の面を貼り合わせ、25℃で7日間エージングを実施した。これにより、第1のフィルムと第2のフィルムとが接着層を介して貼り合わせられた積層フィルムを得た。接着層の厚さは4μmであった。 A pressure-sensitive adhesive (main agent: TPO-3183, curing agent: K-341, manufactured by Saiden Chemical Co., Ltd.) is applied onto the gas barrier coating layer of the first film to form an adhesive layer, and the gas barrier property of the second film is obtained. The surfaces on the coating layer side were bonded together and aged at 25 ° C. for 7 days. As a result, a laminated film in which the first film and the second film were bonded together via an adhesive layer was obtained. The thickness of the adhesive layer was 4 μm.

得られた積層フィルムにおける第1のフィルムのポリエチレンテレフタレートフィルム(第1の基材)上に、下記の方法によりプライマー層を形成した。 A primer layer was formed on the polyethylene terephthalate film (first base material) of the first film in the obtained laminated film by the following method.

水/メタノール=6/4溶液112.73gに、水溶性樹脂溶液として5%PVA溶液(水/メタノール=6/4)80g、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(メタクリル系シランカップリング剤、信越化学工業株式会社製、商品名:KBM−503)5.0gと、金属キレート化合物としてチタンラクテート(マツモトファインケミカル社製、商品名:オルガチックスTC−310)2.27gとを混合し5分間攪拌して、プライマー組成物を調製した。得られたプライマー組成物を、ワイヤーバー(#3)を用いて第1のフィルムの第1の基材上に塗布し、120℃で2分間オーブンにて乾燥させて硬化させ、厚さ70nmのプライマー層を形成した。これにより、図1でマット層が省略された形態のバリアフィルムを得た。同じ構成のバリアフィルムを合計2枚作製した。 112.73 g of water / methanol = 6/4 solution, 80 g of 5% PVA solution (water / methanol = 6/4) as a water-soluble resin solution, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (methacryl-based silane coupling agent, Shinetsu) Mix 5.0 g of Kagaku Kogyo Co., Ltd., trade name: KBM-503) and 2.27 g of titanium lactate (manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd., trade name: Organix TC-310) as a metal chelate compound and stir for 5 minutes. To prepare a primer composition. The obtained primer composition was applied onto the first substrate of the first film using a wire bar (# 3), dried in an oven at 120 ° C. for 2 minutes and cured to a thickness of 70 nm. A primer layer was formed. As a result, a barrier film in the form in which the matte layer was omitted in FIG. 1 was obtained. A total of two barrier films having the same composition were produced.

UV硬化系アクリル化合物に量子ドット発光体を分散させた蛍光体層形成用塗布液を調製した。この塗布液を、一方のバリアフィルムのプライマー層上に塗布して塗膜を形成し、もう一方のバリアフィルムのプライマー層を貼り合わせた。上記塗膜を、紫外線照射装置を用いて1200mJ/cmの露光量で露光することにより硬化させ、波長変換機能を有する蛍光体層を形成した。これにより、図7でマット層が省略された構成を有する波長変換シートを得た。 A coating liquid for forming a phosphor layer was prepared by dispersing a quantum dot illuminant in a UV-curable acrylic compound. This coating liquid was applied onto the primer layer of one barrier film to form a coating film, and the primer layer of the other barrier film was bonded. The coating film was cured by exposing it to an exposure amount of 1200 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device to form a phosphor layer having a wavelength conversion function. As a result, a wavelength conversion sheet having a structure in which the matte layer was omitted in FIG. 7 was obtained.

<実施例2>
水溶性樹脂を、PVAからポリアクリル酸(PAA)に変更した以外は実施例1と同様に波長変換シートを得た。
<Example 2>
A wavelength conversion sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the water-soluble resin was changed from PVA to polyacrylic acid (PAA).

<実施例3>
水溶性樹脂を、PVAからカルボキシメチルセルロース(CMC)に変更した以外は実施例1と同様に波長変換シートを得た。
<Example 3>
A wavelength conversion sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the water-soluble resin was changed from PVA to carboxymethyl cellulose (CMC).

<実施例4>
金属キレート化合物を、水酸基をもたないチタンテトラアセチルアセトネート(マツモトファインケミカル社製、商品名:オルガチックスTC−401)に変更した以外は実施例1と同様に波長変換シートを得た。
<Example 4>
A wavelength conversion sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the metal chelate compound was changed to titanium tetraacetylacetonate (manufactured by Matsumoto Fine Chemicals Co., Ltd., trade name: Organix TC-401) having no hydroxyl group.

<実施例5>
金属キレート化合物を、水酸基をひとつしかもたないジルコニウムラクテートアンモニウム塩(マツモトファインケミカル社製、商品名:オルガチックスZC−300)に変更した以外は実施例1と同様に波長変換シートを得た。
<Example 5>
A wavelength conversion sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the metal chelate compound was changed to a zirconium lactate ammonium salt having only one hydroxyl group (manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd., trade name: Organix ZC-300).

<実施例6>
シランカップリング剤を3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン(エポキシ系シランカップリング剤、信越化学工業株式会社製、商品名:KBM−402)、量子ドットを分散させる化合物は、エポキシ化合物とアミン化合物の混合物に変更し、熱硬化した以外は実施例1と同様に波長変換シートを得た。
<Example 6>
The silane coupling agent is 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane (epoxy-based silane coupling agent, manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd., trade name: KBM-402), and the compounds that disperse quantum dots are epoxy compounds and amine compounds. A wavelength conversion sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mixture was changed to the mixture of 1 and heat cured.

<実施例7>
シランカップリング剤をアミン系、量子ドットを分散させる樹脂を実施例6と同じエポキシ化合物とアミン化合物の混合物とした以外は実施例1と同様に波長変換シートを得た。
<Example 7>
A wavelength conversion sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silane coupling agent was an amine-based resin and the resin for dispersing the quantum dots was the same mixture of the epoxy compound and the amine compound as in Example 6.

<実施例8>
量子ドットを分散させる樹脂は、チオール系化合物とアリル系化合物の混合物に変更した以外は実施例1と同様に波長変換シートを得た。
<Example 8>
A wavelength conversion sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the resin for dispersing the quantum dots was changed to a mixture of a thiol compound and an allyl compound.

<実施例9>
シランカップリング剤をメルカプト系、量子ドットを分散させる樹脂をチオール系化合物とアリル系化合物の混合物に変更した以外は実施例1と同様に波長変換シートを得た。
<Example 9>
A wavelength conversion sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silane coupling agent was changed to a mercapto-based resin and the resin for dispersing the quantum dots was changed to a mixture of a thiol-based compound and an allyl-based compound.

<比較例1>
プライマー層に水溶性樹脂を含まず、金属キレート化合物を実施例5と同じジルコニウムラクテートアンモニウム塩ZC−300)に変更した以外は実施例1と同様に波長変換シートを得た。
<Comparative example 1>
A wavelength conversion sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the primer layer did not contain a water-soluble resin and the metal chelate compound was changed to the same zirconium lactate ammonium salt ZC-300) as in Example 5.

<比較例2>
プライマー層に水溶性樹脂を含まず、金属キレート化合物を実施例5と同じジルコニウムラクテートアンモニウム塩ZC−300)に変更した以外は実施例6と同様に波長変換シートを得た。
<Comparative example 2>
A wavelength conversion sheet was obtained in the same manner as in Example 6 except that the primer layer did not contain a water-soluble resin and the metal chelate compound was changed to the same zirconium lactate ammonium salt ZC-300) as in Example 5.

<比較例3>
プライマー層に水溶性樹脂及び金属キレート化合物をともに含まない以外は実施例1と同様に波長変換シートを得た。
<Comparative example 3>
A wavelength conversion sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the primer layer contained neither a water-soluble resin nor a metal chelate compound.

<比較例4>
プライマー層に水溶性樹脂及び金属キレート化合物をともに含まない以外は実施例6と同様に波長変換シートを得た。
<Comparative example 4>
A wavelength conversion sheet was obtained in the same manner as in Example 6 except that the primer layer contained neither a water-soluble resin nor a metal chelate compound.

<比較例5>
プライマー層にシランカップリング剤を含まない以外は実施例1と同様に波長変換シートを得た。
<Comparative example 5>
A wavelength conversion sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the primer layer did not contain a silane coupling agent.

<比較例6>
プライマー層にシランカップリング剤を含まない以外は実施例6と同様に波長変換シートを得た。
<Comparative Example 6>
A wavelength conversion sheet was obtained in the same manner as in Example 6 except that the primer layer did not contain a silane coupling agent.

<剥離強度の評価>
実施例及び比較例で得られた波長変換シートを幅1cmの短冊状にカットし、カットした波長変換シートをガラス板上に固定した。固定された短冊状の波長変換シートのプライマー層を、テンシロン万能材料試験機(エーアンドデイ社製)を用いて、ガラス板に対して垂直な方向に、300mm/分の速度で、蛍光体層から剥離し、剥離に要した強度を測定した。
<Evaluation of peel strength>
The wavelength conversion sheets obtained in Examples and Comparative Examples were cut into strips having a width of 1 cm, and the cut wavelength conversion sheets were fixed on a glass plate. The primer layer of the fixed strip-shaped wavelength conversion sheet is peeled off from the phosphor layer at a speed of 300 mm / min in the direction perpendicular to the glass plate using a Tensilon universal material tester (manufactured by A & D). Then, the strength required for peeling was measured.

<耐湿性の評価>
上記と同様に作製した各サンプルを65℃、95%RHの高湿度チャンバ内に500時間保管した後、前記と同様の方法で剥離強度測定を行い、耐湿性の評価とした。
<Evaluation of moisture resistance>
Each sample prepared in the same manner as above was stored in a high humidity chamber at 65 ° C. and 95% RH for 500 hours, and then the peel strength was measured by the same method as described above to evaluate the moisture resistance.

<相対輝度の評価>
実施例及び比較例で得られた波長変換シートを10cm角にカットし、青色バックライトユニット上に置き、超低輝度分光放射計SR−UL2(TOPCON社製)を使用して初期輝度測定を行なった。各サンプルを85℃の熱循環式オーブンに500時間保管した後、同様の方法で輝度測定を行い、500時間保管後の輝度を初期の輝度で割ることで相対輝度評価とした。
<Evaluation of relative brightness>
The wavelength conversion sheets obtained in Examples and Comparative Examples are cut into 10 cm squares, placed on a blue backlight unit, and initial brightness measurement is performed using an ultra-low brightness spectroradiometer SR-UL2 (manufactured by TOPCON). rice field. After storing each sample in a heat circulation oven at 85 ° C. for 500 hours, the brightness was measured by the same method, and the brightness after storage for 500 hours was divided by the initial brightness to obtain a relative brightness evaluation.

以上の各サンプルの作製条件、及び評価結果を表1に示す。

Figure 0006926506
Table 1 shows the preparation conditions and evaluation results of each of the above samples.
Figure 0006926506

表1に示した結果から明らかなように、実施例1〜6波長変換シートは、初期、65℃95%500h後ともに良好な密着性を有することが確認できた。 As is clear from the results shown in Table 1, it was confirmed that the 1 to 6 wavelength conversion sheets of Examples had good adhesion both at the initial stage and after 65 ° C. and 95% 500 hours.

その他、以下のことが確認された。
1)実施例2では、PAAはPVAよりも金属キレート化合物との反応が起こりにくいため、実施例1よりもやや剥離強度が低下した。
2)実施例3では、CMCはPVA、PAAよりも金属キレート化合物との反応が起こりにくいため、実施例1、実施例2よりもやや剥離強度が低下した。
3)実施例4では、金属キレート化合物が水酸基をもたないため、PVAと金属キレート化合物は分子間力による結合となり、実施例1よりも65℃95%500h後の剥離強度が劣った。しかし、シランカップリング剤が蛍光体層と結合するため、比較例5よりも65℃95%500h後の剥離強度は向上した。
4)実施例5では、ZC−300が水酸基をひとつしかもたないため架橋点が少なく、初期強度は実施例1よりも劣る。また、65℃95%500h後の剥離強度も劣るが、シランカップリング剤が蛍光体層と結合するため、比較例5よりも65℃95%500h後の剥離強度は向上した。
5)実施例6〜9では、実施例1、2同様に初期、65℃95%500h後の剥離強度は良好であった。
6)比較例1、2では、実施例1と比べ、水溶性樹脂を含まないため、プライマー層に柔軟性がなく固くなり、剥離強度が低下した。
7)比較例3、4では、比較例1、2から更に金属キレート化合物を含まないため、プライマー層が更に柔軟性がなく固くなり、剥離強度が低下した。
8)比較例5、6では、シランカップリング剤を含まないため、シランカップリング剤と蛍光体層との反応がなくなり、65℃95%500h後の剥離強度が低下し、輝度も低下した。
In addition, the following was confirmed.
1) In Example 2, PAA is less likely to react with the metal chelate compound than PVA, so that the peel strength is slightly lower than that in Example 1.
2) In Example 3, since the reaction of CMC with the metal chelate compound is less likely to occur than in PVA and PAA, the peel strength is slightly lower than that in Examples 1 and 2.
3) In Example 4, since the metal chelate compound does not have a hydroxyl group, the PVA and the metal chelate compound are bonded by an intermolecular force, and the peel strength after 65 ° C. 95% 500 h is inferior to that of Example 1. However, since the silane coupling agent binds to the phosphor layer, the peel strength after 65 ° C. 95% 500 hours was improved as compared with Comparative Example 5.
4) In Example 5, since ZC-300 has only one hydroxyl group, there are few cross-linking points, and the initial strength is inferior to that of Example 1. Further, although the peel strength after 65 ° C. 95% 500h is also inferior, the peel strength after 65 ° C. 95% 500h is improved as compared with Comparative Example 5 because the silane coupling agent binds to the phosphor layer.
5) In Examples 6 to 9, the peel strength at the initial stage after 65 ° C. 95% 500 hours was good as in Examples 1 and 2.
6) In Comparative Examples 1 and 2, since the primer layer was not flexible and hardened as compared with Example 1, since it did not contain a water-soluble resin, the peel strength was lowered.
7) In Comparative Examples 3 and 4, since the metal chelate compound was not further contained in Comparative Examples 1 and 2, the primer layer became more inflexible and hard, and the peel strength was lowered.
8) In Comparative Examples 5 and 6, since the silane coupling agent was not contained, the reaction between the silane coupling agent and the phosphor layer disappeared, the peel strength after 65 ° C. 95% 500 hours decreased, and the brightness also decreased.

1…第1のフィルム、2…第2のフィルム、3…第3のフィルム、4…プライマー層、5…接着層、6…マット層、7…蛍光体層、11…第1の基材、21…第2の基材、31…第3の基材、12,22…アンカーコート層、13,23…無機薄膜層、14,24…ガスバリア性被覆層、15,25…バリア層、100,200,300,400,500,600…バリアフィルム、800…波長変換シート 1 ... 1st film, 2 ... 2nd film, 3 ... 3rd film, 4 ... Primer layer, 5 ... Adhesive layer, 6 ... Matte layer, 7 ... Fluorescent layer, 11 ... 1st substrate, 21 ... 2nd substrate, 31 ... 3rd substrate, 12, 22 ... Anchor coat layer, 13, 23 ... Inorganic thin film layer, 14, 24 ... Gas barrier coating layer, 15, 25 ... Barrier layer, 100, 200, 300, 400, 500, 600 ... Barrier film, 800 ... Wavelength conversion sheet

Claims (5)

ガスバリア性フィルムと、
一方の最表面に配置された、水溶性樹脂、チタン及びジルコニウムから成る群から選択される少なくとも一種の金属を含む金属キレート化合物、シランカップリング剤を含有するプライマー組成物の硬化物からなるプライマー層と、を備え、
蛍光体と樹脂材料とを含む混合液を前記プライマー層上に塗布して波長変換シートを製造するために使用するものであることを特徴とする波長変換シート用バリアフィルム。
Gas barrier film and
Disposed on one of the outermost surface consists of at least a metal chelate compound comprising one metal, the cured product of the primer compositions containing silane-coupling agent is selected from the group consisting of water-soluble resin, titanium and zirconium primers With layers,
A barrier film for a wavelength conversion sheet, which is used for producing a wavelength conversion sheet by applying a mixed solution containing a phosphor and a resin material on the primer layer.
前記水溶性樹脂が、ポリビニルアルコール、またはポリカルボン酸のいずれかの樹脂を含むことを特徴とする請求項1に記載のバリアフィルム。 The barrier film according to claim 1, wherein the water-soluble resin contains a resin of either polyvinyl alcohol or a polycarboxylic acid. 前記金属キレート化合物が、水酸基を有し、かつチタンを含むことを特徴とする請求項1、または2に記載のバリアフィルム。 The barrier film according to claim 1 or 2, wherein the metal chelate compound has a hydroxyl group and contains titanium. 前記シランカップリング剤が、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基からなる群より選択される少なくとも一種の官能基を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のバリアフィルム。 Any one of claims 1 to 3, wherein the silane coupling agent has at least one functional group selected from the group consisting of a methacryloyl group, an acryloyl group, an epoxy group, an amino group, and a mercapto group. Barrier film described in. 蛍光体を含む蛍光体層と、前記蛍光体層の少なくとも一方の面上に積層された請求項1〜4のいずれか一項に記載のバリアフィルムと、を備え、
前記バリアフィルムは、前記蛍光体層側の最表面に前記プライマー層を備えることを特徴とする波長変換シート。
The barrier film according to any one of claims 1 to 4 is provided with a phosphor layer containing a phosphor and a barrier film laminated on at least one surface of the phosphor layer.
The barrier film is a wavelength conversion sheet including the primer layer on the outermost surface on the phosphor layer side.
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