JP6920547B2 - 周期性大デューティサイクルパルス放電による多機能ナノ保護コーティングの製造方法 - Google Patents
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Description
周期性大デューティサイクルパルス放電による多機能ナノ保護コーティングの製造方法は、ステップ(1)〜ステップ(5)を含む。
前記多官能性不飽和炭化水素系誘導体は、ポリエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレートである。
周期性大デューティサイクルパルス放電による多機能ナノ保護コーティングの製造方法は、ステップ(1)〜ステップ(5)を含む。
モノマー蒸気の導入において、モノマーを供給ポンプで霧化して揮発させ、低圧60ミリトルで反応キャビティに導入し、前記モノマー蒸気の導入流量が、500μL/minである。
前記多官能性不飽和炭化水素系誘導体は、ジエチレングリコールジビニルエーテル、及びネオペンチルグリコールジアクリレートである。
周期性大デューティサイクルパルス放電による多機能ナノ保護コーティングの製造方法は、ステップ(1)〜ステップ(5)を含む。
前記多官能性不飽和炭化水素系誘導体は、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、及び1,6−ヘキサンジオールジアクリレートである。
周期性大デューティサイクルパルス放電による多機能ナノ保護コーティングの製造方法は、ステップ(1)〜ステップ(5)を含む。
前記多官能性不飽和炭化水素系誘導体は、エチレングリコールジアクリレート、及び1,6−ヘキサンジオールジアクリレートである。
周期性大デューティサイクルパルス放電による多機能ナノ保護コーティングの製造方法は、ステップ(1)〜ステップ(5)を含む。
前記多官能性不飽和炭化水素系誘導体は、トリプロピレングリコールジアクリレート、及びエチレングリコールジアクリレートである。
以下のプロセスパラメータが異なる以外、本実施例は、実施例5のプロセススのステップとほぼ同じである。
前記多官能性不飽和炭化水素系誘導体は、トリプロピレングリコールジアクリレート、及びジエチレングリコールジビニルエーテルである。
Claims (7)
- 周期性大デューティサイクルパルス放電による多機能ナノ保護コーティングの製造方法
であって、
基材をナノコーティング製造装置の反応室に入れて、反応室内の真空度が10〜200
ミリトルとなるまで反応室を連続的に真空吸引し、不活性ガスとしてHe又はArを導入し、運動機構を起動させて、基材を反応室において運動させるステップ(1)と、
モノマー蒸気を反応室に導入し、真空度が30〜300ミリトルとなると、プラズマ放
電を開始させて、化学気相堆積を行うステップ(2)と、
堆積過程には、前処理段階とコート段階を含み、前処理段階では、プラズマ放電のパワ
ーを120〜400W、持続放電時間を60〜450sとし、次に、コート段階に入り、
コート段階がパルス放電であり、パワーを50〜200W、時間を600s〜3600s
とするステップ(3)と、
ステップ(3)における前処理段階とコート段階を少なくとも1回周期的に繰り返して
、基材表面に化学気相堆積を行って、多機能ナノコーティングを製造するステップ(4)
と、
モノマー蒸気の導入を停止するとともに、プラズマ放電を停止し、持続的に真空吸引し
、反応室の真空度が10〜200ミリトルで1〜5min保持された後、大気を1大気圧
となるまで導入し、基材の運動を停止して、次に、基材を取り出すと完了するステップ(
5)と、を含み、
前記ステップ(3)及びステップ(4)では、パルス放電の周波数が1〜1000HZ
であり、パルスのデューティサイクルが1:1〜1:1000であり、
前記モノマー蒸気の成分が、少なくとも1種の単官能性不飽和フッ化炭素樹脂と少なく
とも1種の多官能性不飽和炭化水素系誘導体との混合物であり、前記モノマー蒸気におい
て多官能性不飽和炭化水素系誘導体が15〜65質量%であり、
前記単官能性不飽和フッ化炭素樹脂は、3−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチルメタクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチルメタクリレート、2−(パーフルオロドデシル)エチルアクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクタノールアクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチルアクリレート、(2H−パーフルオロプロピル)−2−アクリレート、(パーフルオロシ クロヘキシル)メタクリレート、3,3,3−トリフルオロ−1−プロピン、1−エチニル−3,5−ジフルオロベンゼン又は4−エチニルトリフルオロトルエンのいずれかであり、
前記多官能性不飽和炭化水素系誘導体は、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジビニルエーテル又はネオペンチルグリコールジアクリレートのいずれかである、
ことを特徴とする周期性大デューティサイクルパルス放電による多機能ナノ保護コーティングの製造方法。 - 前記ステップ(1)では、基材は、反応室において運動し、基材の運動形態として、基
材は、反応室に対して直線往復運動又は曲線運動を行い、前記曲線運動には、円運動、楕
円運動、遊星運動、球面運動又は非規則的な曲線的経路によって形成される曲線運動が含まれることを特徴とする請求項1に記載の周期性大デューティサイクルパルス放電による多機能ナノ保護コーティングの製造方法。 - 前記ステップ(1)では、基材は、電子製品、電器部品、電子仕掛品、PCB基板、金
属板、ポリテトラフルオロエチレン板材又は電子デバイスである固体材料であり、且つ前
記基材の表面に多機能ナノコーティングが製造されると、その基材のいずれの界面も水環
境、カビの生えた環境、酸・アルカリ溶媒環境、酸・アルカリ性塩噴霧環境、酸性大気環
境、有機溶媒浸漬環境、化粧品環境、汗環境、冷熱サイクル衝撃又は冷熱交互環境に晒さ
れて使用することができることを特徴とする請求項1に記載の周期性大デューティサイク
ルパルス放電による多機能ナノ保護コーティングの製造方法。 - 前記ステップ(1)では、反応室の容積が50〜1000Lであり、反応室の温度が3
0〜60℃に制御され、前記不活性ガスの導入流量が5〜300sccmであることを特
徴とする請求項1に記載の周期性大デューティサイクルパルス放電による多機能ナノ保護
コーティングの製造方法。 - 前記反応室は、回転体形状のチャンバー又は立方体形状のチャンバーであることを特徴と
する請求項1又は4に記載の周期性大デューティサイクルパルス放電による多機能ナノ保
護コーティングの製造方法。 - 前記ステップ(2)では、モノマー蒸気の導入において、モノマーを供給ポンプで霧化
して揮発させ、低圧10〜200ミリトルで反応室に導入し、前記モノマーの導入流量が
10〜1000μL/minであることを特徴とする請求項1に記載の周期性大デューテ
ィサイクルパルス放電による多機能ナノ保護コーティングの製造方法。 - 前記ステップ(3)及び(4)では、プラズマ放電方式は、RF放電、マイクロ波放電
、中間周波放電、高周波放電、スパーク放電であり、前記高周波放電及び中間周波放電の
波形が正弦又は両極性パルスであることを特徴とする請求項1に記載の周期性大デューテ
ィサイクルパルス放電による多機能ナノ保護コーティングの製造方法。
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