JP6919239B2 - 粉砕システムの運転方法 - Google Patents

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Description

本発明は、原料の粉砕分野に係り、セメントクリンカーと石膏、又、フライアッシュ、ポゾラン、石灰石、ドロマイト等のその他鉱物、セメントクリンカー、及び石膏を混合粉砕するに好適な竪型粉砕機を使用した粉砕システムに関する。
原料を微粉砕する粉砕システムにおいて、従来から、竪型粉砕機(竪型ミル、或いは竪型ローラミルと称されることもある)と呼ばれる粉砕機が広く用いられている。竪型粉砕機は、被粉砕物(本明細書においては単に原料と称することもある)を効率的に微粉砕することができるという優れた特性を備えている。
特に、近年は、旧来であればボールミル方式が多く使用されてきたような粉砕システムにおいても竪型粉砕機が多く使用されるようになってきた。その一番の理由は、省エネルギーである。ボールミル方式の粉砕においては、エネルギーの多くが粉砕に寄与せず、音と熱に変わり、粉砕以外の形で消費される。一般的に竪型粉砕機はボールミルに比べて粉砕効率が高い。電力原単位(KWh/t−製品)で比べた場合に、竪型粉砕機による粉砕は、ボールミル方式による粉砕の60%〜70%程度のエネルギー消費で済むケースが多い。
しかしながら、一方でセメント工場における最終粉砕工程は、未だボールミル方式による粉砕システムが多く採用され続けている。国内においては95%以上がボールミル方式による粉砕システムであると推測されている。
ここで、竪型粉砕機を使用した粉砕システムで製造したセメントと、ボールミルを使用した粉砕システムで製造したセメントを比較すると、粒度分布、粒子の形状、又石膏の半水化率に違いがあるとされている。
なお、石膏は、通常、二水石膏(CaSO・2HO)の状態で存在しており、加熱されると半水石膏(CaSO・1/2HO)へと転移する。そして、一般的に半水石膏への転移の割合が半水化率と呼ばれている。石膏の半水化率は、セメント又セメントを使用したコンクリートの品質に対して、影響を及ぼすことが知られている。そして、この半水化率の違いが、ボールミル方式が多く採用される一因となっている。
というのは、石膏の半水化率は、粉砕機内の温度と滞留時間に影響を受ける。ボールミル方式の場合、前述したエネルギーのロスにより機内に生じた発熱で機器出口温度が120℃から130℃もの高温になる。また、竪型粉砕機に比較して機内に滞留している時間が長い。セメントクリンカーと二水石膏の混合物をボールミル方式で粉砕する際においては、これらの要因が相まって、石膏の半水化率が60%から80%と高い数値になる。
それに対して、竪型粉砕機の場合は、粉砕時におけるエネルギーのロスが少ない。そのため機器出口温度を高めるためには機内に熱風等の加熱ガスを吹き込む必要がある。
しかし、あまり機器出口温度を上げすぎると機器内部が乾燥しすぎた状態となり振動が発生する可能性がある。また、機器保護を勘案すれば機器出口温度を過度にあげるということは好ましい状態ではない。竪型粉砕機は、通常、90℃程度の温度で運転されることが多く、二水石膏が半水石膏へ転移する温度は105℃近辺と言われているから、竪型粉砕機による通常の粉砕では石膏の半水化率が大きくなりにくい。
また、例え、温度対策をして竪型粉砕機の機器出口温度を過度に上げたとしてもボールミル方式に比べて機内での滞留時間が短い竪型粉砕機では半水石膏への転移が進まない。 それらの理由から、竪型粉砕機を使用した場合におけるセメントの半水化率は、10%から20%に留まっている。
なお、石膏の半水化率を向上させる手段として、竪型粉砕機に供給する石膏に半水石膏を加えておく方法が知られている。図2に、その1例を示す。図2に示した粉砕システムにおいては、二水石膏を供給する原料ホッパと半水石膏を供給する原料ホッパをシステムに備えて、竪型粉砕機に供給する石膏の半水化率を予め上げておくことにより製品として取り出す粉砕品の中に含まれる石膏の半水化率を向上させる。
また、特許文献1に開示される方法は、竪型粉砕機に供給する二水石膏を、あらかじめ加熱して仮焼することによって、粉砕品の中に含まれる石膏の半水化率を向上させる技術であると解される。
特表2006−528123
しかし、図2示すような粉砕システムにおいては、竪型粉砕機に供給する半水石膏を調達する必要がある。半水石膏の供給元は限られており、セメント生産者は、半水石膏の入手に納期や価格等の制限を受けるケースが多い。
前述した特許文献1の粉砕システムであれば、セメント生産者は、調達しやすい二水石膏だけを入手すれば良い。しかし、ボールミル方式の粉砕の場合において、石膏から抜けた水がセメントクリンカーと反応することで、その品質が影響を受けているという報告がある。そのため、ボールミル方式と同等な品質に近づけるためには、二水石膏を単独で乾燥させるのではなく、セメントクリンカーと混合状態で乾燥させることのできる粉砕システムが求められていた。
本発明は、以上、説明したような問題点に鑑みてなされたものであり、セメントを効率良く粉砕するに好適な粉砕システムに関する。
上記の目的を達成するため、本発明による粉砕システムの運転方法は、
(1) セメントクリンカーを排出する第1の原料ホッパ、二水石膏を排出する第2の原料ホッパ、セメントクリンカー及び二水石膏を原料として回転テーブル上に配した粉砕ローラで粉砕するとともに、下部に配したガス供給口から第1の熱風機により機内に供給したガスにより吹き上げて上方に設けた取出口からガスとともに取り出す竪型粉砕機、竪型粉砕機からガスと共に取り出された原料をガスと分離して捕集する集塵機、及び、集塵機で捕集した原料を供給して乾燥させる乾燥機を備えた粉砕システムにより、セメントクリンカー及び二水石膏を、竪型粉砕機で混合粉砕した後に、ガス供給口から供給されて上方に設けた取出口より排出される80℃から90℃に加熱されたガスと共に機外に取り出して集塵機に送給し、集塵機でガスと混合粉砕後の原料に分離した後、混合粉砕後の原料を乾燥機に供給して乾燥させる粉砕システムの運転方法において、集塵機で分離したガスを、さらに加熱して乾燥機に供給する第2の熱風機を備えて、第2の熱風機から乾燥機に加熱したガスを供給することにより、乾燥機の温度を120℃から130℃までの範囲とし、乾燥機内における原料の滞留時間を調整することで、混合粉砕後の原料であるセメントの石膏半水化率を60%から80%の範囲に調整する。
本発明による粉砕システムであれば、セメントクリンカーと二水石膏を混合粉砕して、半水化率の高い石膏を含んだ粉砕品を製造することができる。
本発明の実施形態に係わり粉砕システムの構成を説明する図である。 従来技術に係わり粉砕システムの構成を説明する参考図である。
以下、図面等に基づき本発明による好ましい実施形態の1例について説明する。
図1は本発明の実施形態に係わり、その好ましい例を示したものであって、粉砕システムの全体構成を説明する図である。図2は従来技術に係る粉砕システムの1例を説明する参考図である。
本発明の実施形態に係り粉砕システム1の好ましい1例について説明する。
本実施形態による粉砕システム1は、原料ホッパ3、竪型粉砕機5、集塵機8、クッションホッパ9,乾燥機10等の機器を備えて、さらに、原料を乾燥又は送供するために、第1の熱風機31及び第2の熱風機32、並びに、ファン41及びファン42、又、ダンパ21乃至ダンパ26を備えている。
原料ホッパ3は、セメントクリンカーが蓄えられる第1の原料ホッパ3A、二水石膏が蓄えられる第2の原料ホッパ3B、副原料としてフライアッシュ、石灰石、又ドロマイト等のその他鉱物が蓄えられる第3の原料ホッパ3Cを備えている。なお、副原料のホッパは副原料の種類に応じて複数あるが説明を簡略化するため第3の原料ホッパ3Cとしてまとめて1台として説明する。
第1の原料ホッパ3Aから排出されたセメントクリンカー、第2の原料ホッパ3Bから排出された二水石膏、第3の原料ホッパ3Cから排出された副原料は、それぞれのホッパ直下にある計量ベルトコンベヤでそれぞれが計量されて、その下流側にある一台の大型ベルトコンベヤ上に供給されて、搬送された後、ロータリバルブ51等を介して、後述する竪型粉砕機5の原料供給口5Aに供給される。
以下、本実施形態に係る竪型粉砕機5の好ましい構成について詳細に説明する。
竪型粉砕機5は、原料供給口5Aから機内の回転テーブル上に供給した原料を粉砕ローラで粉砕するタイプの粉砕機である。本実施形態に用いた竪型粉砕機5は、竪型粉砕機5の外郭を形成するケーシング、竪型粉砕機5の下部に設置された減速機と駆動モータによって駆動される回転テーブル、及び、回転テーブルに従動して回転するコニカル型の粉砕ローラ等を備えている。また、本実施形態による粉砕システム1に使用した竪型粉砕機5は、駆動モータの駆動用電源としてインバータ電源を備えており、運転中、回転テーブルの回転速度が任意に変更可能な可変速式の竪型粉砕機5である。
そして、竪型粉砕機5は、回転テーブルの下方に機内にガスを導入するためのガス供給口5Bを備えており、回転テーブル上方にはガスと共に粉砕後の原料(製品)を取り出すことのできる上部取出口5Cを備えている。なお、竪型粉砕機5は、機内に回転式分級機構を配した構成となっている。
ここで、本実施形態においては、所謂、負圧型の竪型粉砕機5を使用しており、集塵機8を介して上部取出口5Cに接続されたファン41により竪型粉砕機5の機内のガスを吸い込むことによって、ガス供給口5Bから上部取出口5Cへと流れるガスの気流を形成している。
即ち、本実施形態による竪型粉砕機5においては、運転中、第1の熱風機31(第1熱風機31と称することもある)から熱風を送風して、ガス供給口5Bから加熱ガス(本実施形態においては加熱された空気)を竪型粉砕機5の機内に導入する。その結果、回転テーブルの下方から加熱ガスが供給されて、機内に配した回転式分級機を通過して、上部取出口5Cへと流れて排出される加熱ガスの気流が生じる構成となっている。
なお、本実施形態では、第1熱風機31又後述する第2の熱風機32(第2熱風機32と称することもある)として、熱風発生炉を使用した。しかし、本発明に適応できる熱風機の種類はこれに限らず、本発明の技術思想を逸脱しない範囲において、他の公知の熱風発生手段を第1熱風機31又第2熱風機32として用いることが可能である。
前述した構成により、粉砕された原料は、加熱ガスによって吹き上げられて、回転式分級機構で所定の粒径で分級される。そして、所定の粒径になった原料が、粉砕品として、上方に設けた上部取出口5Cから加熱ガスとともに取り出される。なお、所定の粒径にまで小さく粉砕されていない原料は機外に取り出されず、機内を落下する等して、所定の粒径になるまで繰り返し粉砕される。
所定の粒径まで粉砕されて、竪型粉砕機5からガスと共に取り出された粉砕品(粉砕後の原料)は、集塵機8に供給されて加熱ガスと分離される。本実施形態においては、集塵機8のガス排出口にはダンパ21を介してファン41が接続されている。前述したように、竪型粉砕機5の運転中においては、ファン41により集塵機8を介して機内を吸引することによって、竪型粉砕機5の機内を負圧とする。
集塵機8でガスと分離された粉砕品は、バルブ8Bを介してクッションホッパ9に供給された後、後工程となる乾燥機10への搬送手段上に排出される。
図1示す実施形態では、クッションホッパ9から排出された粉砕品が、計量ベルトベヤで計量されながら、乾燥機10の原料投入口10Aまで搬送されて、乾燥機10の機内に供給される構成となっている。
なお、本実施形態で使用する乾燥機10は、流動層式、ドラム式、チューブ式等、加熱源として加熱ガスを使用できる公知の乾燥機10が使用可能である。
そして、本実施形態では、ファン41により集塵機8を介して吸引した竪型粉砕機5内の加熱ガスをダンパ21又ダンパ22等を介して第2熱風機32の元に供給する構成としている。即ち、竪型粉砕機5の中から吸引された加熱ガスが、第2熱風機32で、さらに加熱されて高温となり、乾燥機10のガス供給口10Cに供給される。乾燥機10の機内においては高温の加熱ガスで、粉砕品を乾燥させる構成となっている。
乾燥された粉砕品は、乾燥機10の取出口10Bから乾燥機10の機外に取り出されて製品となる。また、乾燥機10のガス排出口10Dから排出された加熱ガスは、ダンパ24を経由しファン42を介して竪型粉砕機5のガス供給口5Bへと供給される。
本実施形態においては、前述したように第1熱風機31から供給される加熱ガスと、ファン41により集塵機8を介して吸引した竪型粉砕機5内のガスの一部が合流混合されて、竪型粉砕機5のガス供給口5Bへ導入されるように、加熱ガスの配管等を構成した。
また、竪型粉砕機5に供給する加熱ガスの温度を調整するため、第1熱風機31とガス供給口5Bの間を繋ぐ配管にダンパ26を設けた。そして、さらに竪型粉砕機5のガス供給口5Bに接続する配管には、竪型粉砕機5の機内に、外気等が導入できるようにするために、ダンパ25を介してガス供給口5Bが外気に接続する配管を配した。
なお、図1に示す実施形態においては、竪型粉砕機5の機内に導入された加熱ガスは、集塵機8を介してダンパ21を通過した後、分配される。
そして、一部がダンパ22を介して第2熱風機32に送られ、一部がダンパ23を介して竪型粉砕機5Bのガス供給口5Bに送られ、一部が排気ダンパ53を介して排気部に送られて外部に放出される構成となっている。
以下、図1に基づいて粉砕システム1による粉砕工程を簡略に説明する。
竪型粉砕機5が運転を開始すると、第1の原料ホッパ3Aから排出されたセメントクリンカー、第2の原料ホッパ3Bから排出された二水石膏、及び、第3の原料ホッパ3Cから排出された副原料が、それぞれのホッパ直下にある計量ベルトコンベヤで、それぞれ計量されながら、その下流側にある一台の大型ベルトコンベヤ上に供給されて搬送され、竪型粉砕機5の原料供給口5Aに供給される。
原料供給口5Aに投入された原料は、竪型粉砕機5内で粉砕されて、第1熱風機31等から供給された機内を流れる加熱ガスとともに、上部取出口5Cから竪型粉砕機5の機外に取り出される。上部取出口5Cから、竪型粉砕機5の機外に、加熱ガスとともに取り出された原料は、集塵機8により、加熱ガスと分離される。
集塵機8でガスと分離された粉砕後の原料は粉砕品として、バルブ8Bを介してクッションホッパ9に供給された後、計量ベルトベヤで送られて計量される。そして、計量ベルトコンベヤ上の粉砕品は計量されながら、乾燥機10の原料投入口10Aに供給される。 乾燥機10に供給された粉砕品は、乾燥機10の取出口10Bから乾燥機10の機外に取り出されて製品となる。
なお、従来技術について説明をすれば、竪型粉砕機5から排出された石膏は、二水石膏(CaSO・2HO)の状態のものが多く、半水石膏(CaSO・1/2HO)へと転移した割合は10%程度である。
しかし、本実施形態おいては、第2の熱風機32により、乾燥機10の温度を120℃から130℃にすることが容易で、また、滞留時間も自由に調整できる。したがって、ボールミルにより得られるセメントの石膏半水化率(60%から80%)に合わせて、半水化率を調整することが容易である。
次に、本実施形態に係る粉砕システム1のガス流れについて説明する。
前述したように、本実施形態においては竪型粉砕機5内が負圧雰囲気となっているので、第1熱風機31により加熱されて昇温された加熱ガスが、ダンパ25等から大気を導入することなどによって温度調整された後、竪型粉砕機5のガス供給口5Bに導入されて供給される。
竪型粉砕機5の機内に導入されて排出された加熱ガスは、集塵機8を介してダンパ21を通過した後、分配されて、一部がダンパ22を介して第2熱風機32に送られ、一部がダンパ23を介して竪型粉砕機5Bのガス供給口5Bに送られる。なお、加熱ガスを分配するにあたり、第1熱風機31又竪型粉砕機5Bのガス供給口5Bに送る必要のない加熱ガスは排気ダンパ53を調整することにより必要に応じて外部に排出する。
ここで、本実施形態においては、第2熱風機32に送るガスは、集塵機8を介して竪型粉砕機5の機内を吸引したガスであり、第2熱風機32に送られる以前にすでに常温より昇温されているガスである。即ち、本実施形態においては、乾燥機10の加熱源として竪型粉砕機5より排出した加熱ガス(80℃から90℃)を利用することによって、乾燥機10に必要なエネルギーを低減することができる。
また、本実施形態によれば、乾燥機10からダンパ24を介してファン42により吸引排出した加熱ガスを、竪型粉砕機5のガス供給口5Bに戻す。したがって、本実施形態においては、乾燥機10より排出した加熱ガスを再利用することによって、竪型粉砕機5に供給する加熱ガスに必要なエネルギーを低減することができる。
即ち、本実施形態においては、竪型粉砕機5及び乾燥機10に接続するガスのラインを鋭意工夫し、加熱ガスが竪型粉砕機5及び乾燥機10を繰り返し循環して流れるようにすることで、加熱ガスの有する熱エネルギーを無駄にしないようにするとともに、熱風機の配置、並びに、外気の導入又排気位置等を検討して、必要に応じて自由に加熱ガスの温度が調整できるように構成した。
また、本実施形態においては、ファン42により乾燥機10から加熱ガスを排出する構成としているが、竪型粉砕機5の機内と乾燥機10内の圧力バランスを調整することによって、ファン42を使用しなくても、乾燥機10より排出した加熱ガスを竪型粉砕機5のガス供給口5Bに供給することも可能である。
以上のように本願発明に係わる竪型粉砕機及び竪型粉砕機の運転方法は、機内の雰囲気を均一にして原料を効率良く粉砕する際に、特に好適に使用できる。
1 粉砕システム
3 原料ホッパ
3A 第1の原料ホッパ(セメントクリンカー)
3B 第2の原料ホッパ(二水石膏)
3C 第3の原料ホッパ(副原料)
5 竪型粉砕機
5A 原料供給口
5B ガス供給口
5C 上部取出口
8 集塵機
9 クッションホッパ
10 乾燥機
10A 原料投入口
10B 取出口
10C ガス供給口
10D ガス排出口
21 ダンパ
22 ダンパ
23 ダンパ
24 ダンパ
25 ダンパ
26 ダンパ
31 第1の熱風機(第1熱風機)
32 第2の熱風機(第2熱風機)
41 ファン
42 ファン
51 ロータリバルブ

Claims (1)

  1. セメントクリンカーを排出する第1の原料ホッパ、二水石膏を排出する第2の原料ホッパ、セメントクリンカー及び二水石膏を原料として回転テーブル上に配した粉砕ローラで粉砕するとともに、下部に配したガス供給口から第1の熱風機により機内に供給したガスにより吹き上げて上方に設けた取出口からガスとともに取り出す竪型粉砕機、竪型粉砕機からガスと共に取り出された原料をガスと分離して捕集する集塵機、及び、集塵機で捕集した原料を供給して乾燥させる乾燥機を備えた粉砕システムにより、
    セメントクリンカー及び二水石膏を、竪型粉砕機で混合粉砕した後に、ガス供給口から供給されて上方に設けた取出口より排出される80℃から90℃に加熱されたガスと共に機外に取り出して集塵機に送給し、集塵機でガスと混合粉砕後の原料に分離した後、混合粉砕後の原料を乾燥機に供給して乾燥させる粉砕システムの運転方法において、
    集塵機で分離したガスを、さらに加熱して乾燥機に供給する第2の熱風機を備えて、第2の熱風機から乾燥機に加熱したガスを供給することにより、乾燥機の温度を120℃から130℃までの範囲とし、乾燥機内における原料の滞留時間を調整することで、混合粉砕後の原料であるセメントの石膏半水化率を60%から80%の範囲に調整する粉砕システムの運転方法
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