JP6917570B2 - Light emitting device - Google Patents

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本発明は発光ダイオードなどの発光素子を備える発光装置に関する。 The present invention relates to a light emitting device including a light emitting element such as a light emitting diode.

近年、発光ダイオードなどの発光素子を備える発光装置の、電子機器、車両、照明機器などへの利用が拡大している。 In recent years, the use of light emitting devices including light emitting elements such as light emitting diodes for electronic devices, vehicles, lighting devices, and the like has been expanding.

発光装置は、例えば樹脂組成物を成形して凹所を有するリフレクタを作製するとともに、このリフレクタにリードフレームを埋め込み、凹所内に発光素子を搭載するとともに、発光素子をリードフレームに電気的に接続し、更に凹所内に封止材を充填することで製造される。封止材は、発光素子を保護するとともに、発光素子が発する光を透過させて外部へ出射させる。 In the light emitting device, for example, a resin composition is molded to produce a reflector having a recess, a lead frame is embedded in the reflector, a light emitting element is mounted in the recess, and the light emitting element is electrically connected to the lead frame. Then, it is manufactured by filling the recess with a sealing material. The sealing material protects the light emitting element and transmits the light emitted by the light emitting element to the outside.

封止材は、シリコーン樹脂などの低粘度の樹脂から作製されることが多く、また、発光素子が発する光を波長変換するために蛍光物質を含有することも多い。このため、凹所内から、樹脂及び蛍光物質が漏れ出さないことが必要である。 The encapsulant is often made of a low-viscosity resin such as a silicone resin, and often contains a fluorescent substance for wavelength conversion of the light emitted by the light emitting element. Therefore, it is necessary that the resin and the fluorescent substance do not leak from the recess.

しかし、上記の通りリフレクタにはリードフレームが埋め込まれており、両者は熱膨張係数が異なるため、リードフレームとリフレクタとは密着性が悪い。そのため、凹所内からベースとリードフレームとの間を通じて樹脂及び蛍光物質が外部に漏れ出してしまうことがある。そうすると、発光素子を保護できなくなったり、封止材が所期の波長変換性能を有さなくなったりすることがある。 However, as described above, the lead frame is embedded in the reflector, and since the two have different coefficients of thermal expansion, the lead frame and the reflector have poor adhesion. Therefore, the resin and the fluorescent substance may leak to the outside from the inside of the recess through between the base and the lead frame. Then, the light emitting element may not be protected, or the sealing material may not have the desired wavelength conversion performance.

リフレクタとリードフレームとの密着性を向上するために、リードフレームにレーザ加工を施すことで、リードフレームの表面を粗化することが提案されている(特許文献1参照)。 In order to improve the adhesion between the reflector and the lead frame, it has been proposed to roughen the surface of the lead frame by laser processing the lead frame (see Patent Document 1).

特許第5083472号公報Japanese Patent No. 5083472

特にリフレクタが、不飽和ポリエステル樹脂やシリコーン樹脂といった、金属との密着性が低い樹脂で作製される場合には、リードフレームを粗化するだけでは十分な密着性が得られないことがある。 In particular, when the reflector is made of a resin having low adhesion to a metal such as an unsaturated polyester resin or a silicone resin, sufficient adhesion may not be obtained only by roughening the lead frame.

本発明の目的は、リードフレームとリフレクタとが高い密着性を有することができる発光装置を提供することである。 An object of the present invention is to provide a light emitting device capable of having a high adhesion between a lead frame and a reflector.

本発明の一態様に係る発光装置は、リフレクタと、このリフレクタに埋め込まれているリードフレームとを備え、凹所を有し、前記凹所の底面に前記リードフレームの一部が露出しているベース、前記ベースの前記凹所内に搭載されている発光素子、及び前記ベースの前記凹所内に充填され、前記発光素子を封止している封止材を備える。前記リードフレームの表面における前記リフレクタに接する領域は、Raが0.5〜1.5μmの範囲内の粗化面を有する。前記リフレクタは、平均粒径9〜25μm、粒径6μm以下の粒子の割合25〜40体積%であるシリカ粉を含有する樹脂組成物の成形体である。 The light emitting device according to one aspect of the present invention includes a reflector and a lead frame embedded in the reflector, has a recess, and a part of the lead frame is exposed on the bottom surface of the recess. A base, a light emitting element mounted in the recess of the base, and a sealing material filled in the recess of the base and sealing the light emitting element are provided. The region in contact with the reflector on the surface of the lead frame has a roughened surface having Ra in the range of 0.5 to 1.5 μm. The reflector is a molded product of a resin composition containing silica powder having an average particle size of 9 to 25 μm and a proportion of particles having a particle size of 6 μm or less of 25 to 40% by volume.

本発明の一態様によれば、発光装置におけるリフレクタとリードフレームとの間の高い密着性を実現できる。 According to one aspect of the present invention, high adhesion between the reflector and the lead frame in the light emitting device can be realized.

本発明の一実施形態に係る発光装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the light emitting device which concerns on one Embodiment of this invention. 図1に示す発光装置におけるベースを示す一部破断した斜視図である。It is a partially broken perspective view which shows the base in the light emitting device shown in FIG. 図3Aは図1に示す発光装置におけるリードフレームを示す平面図、図3Bはこのリードフレームを示す底面図である。FIG. 3A is a plan view showing a lead frame in the light emitting device shown in FIG. 1, and FIG. 3B is a bottom view showing the lead frame.

以下、本発明の一実施形態について説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described.

本実施形態に係る発光装置1は、ベース2と、発光素子5と、封止材6とを備える。ベース2は、リフレクタ3と、このリフレクタ3に埋め込まれているリードフレーム4とを備える。ベース2は凹所21を有し、この凹所21の底面にリードフレーム4の一部が露出している。発光素子5は、ベース2の凹所21内に搭載されているとともにリードフレーム4に電気的に接続されている。封止材6は、ベース2の凹所21内に充填され、発光素子5を封止している。リードフレーム4の表面におけるリフレクタ3に接する領域は、Raが0.5〜1.5μmの範囲内の粗化面8を有する。また、リフレクタ3は、平均粒径9〜25μm、粒径6μm以下の粒子の割合25〜40体積%であるシリカ粉を含有する樹脂組成物(以下、組成物(X)という)の成形体である。 The light emitting device 1 according to the present embodiment includes a base 2, a light emitting element 5, and a sealing material 6. The base 2 includes a reflector 3 and a lead frame 4 embedded in the reflector 3. The base 2 has a recess 21, and a part of the lead frame 4 is exposed on the bottom surface of the recess 21. The light emitting element 5 is mounted in the recess 21 of the base 2 and is electrically connected to the lead frame 4. The sealing material 6 is filled in the recess 21 of the base 2 to seal the light emitting element 5. The region in contact with the reflector 3 on the surface of the lead frame 4 has a roughened surface 8 having Ra in the range of 0.5 to 1.5 μm. The reflector 3 is a molded product of a resin composition (hereinafter referred to as composition (X)) containing silica powder having an average particle size of 9 to 25 μm and a proportion of particles having a particle size of 6 μm or less of 25 to 40% by volume. be.

本実施形態に係る発光装置1では、上記のように、リードフレーム4が特定の粗度を有する粗化面8を有するだけでなく、更にリフレクタ3が特定の粒度を有するシリカ粉を含有する組成物(X)の成形体であることで、リフレクタ3とリードフレーム4との間の高い密着性が実現できる。このため、封止材6を作製するために凹所21内に樹脂、蛍光物質などの材料を配置しても、このような材料がリフレクタ3とリードフレーム4との間を通じて外部へ漏出しにくい。これにより、発光素子5を封止材6で十分に保護できる。また、封止材6中の蛍光物質の本来の濃度を維持して封止材6の所期の波長変換性能を維持することもできる。また、リフレクタ3とリードフレーム4との間を水分が通過しにくくなることから、外部から侵入した水分が発光素子5へ到達することが抑制される。このため水分による発光素子5の劣化が抑制される。 In the light emitting device 1 according to the present embodiment, as described above, not only the lead frame 4 has a roughened surface 8 having a specific roughness, but also the reflector 3 contains silica powder having a specific particle size. Since it is a molded product of the object (X), high adhesion between the reflector 3 and the lead frame 4 can be realized. Therefore, even if a material such as a resin or a fluorescent substance is arranged in the recess 21 to produce the sealing material 6, such a material is unlikely to leak to the outside through between the reflector 3 and the lead frame 4. .. As a result, the light emitting element 5 can be sufficiently protected by the sealing material 6. It is also possible to maintain the original concentration of the fluorescent substance in the encapsulant 6 and maintain the desired wavelength conversion performance of the encapsulant 6. Further, since it becomes difficult for water to pass between the reflector 3 and the lead frame 4, it is possible to prevent the water that has entered from the outside from reaching the light emitting element 5. Therefore, deterioration of the light emitting element 5 due to moisture is suppressed.

本実施形態に係る発光装置1について、更に詳しく説明する。 The light emitting device 1 according to the present embodiment will be described in more detail.

まず、発光装置1の構造について説明する。 First, the structure of the light emitting device 1 will be described.

図1は、本実施形態に係る発光装置1の断面図を示し、図2は発光装置1におけるベース2の破断した斜視図を示し、図3Aは発光装置1におけるリードフレーム4の平面図を、図3Bはこのリードフレーム4の底面図をそれぞれ示す。 FIG. 1 shows a cross-sectional view of a light emitting device 1 according to the present embodiment, FIG. 2 shows a broken perspective view of a base 2 in the light emitting device 1, and FIG. 3A shows a plan view of a lead frame 4 in the light emitting device 1. FIG. 3B shows a bottom view of the lead frame 4.

ベース2は、リフレクタ3と、リフレクタ3に埋め込まれているリードフレーム4とを備える。 The base 2 includes a reflector 3 and a lead frame 4 embedded in the reflector 3.

リードフレーム4は、第一面43と、第一面43とは反対側にある第二面44とを有する。リードフレーム4は、第一面43に沿った一方向に間隔をあけて並んでいる第一のリード41及び第二のリード42を備える。第一のリード41及び第二のリード42の各々の第二面44側の外周縁には、その全周にわたって、段45が形成されている。なお、本実施形態ではこのようにリードフレーム4には段45が形成されているが、段45が形成されていなくてもよい。 The lead frame 4 has a first surface 43 and a second surface 44 on the opposite side of the first surface 43. The lead frame 4 includes a first lead 41 and a second lead 42 that are arranged at intervals in one direction along the first surface 43. A step 45 is formed on the outer peripheral edge of each of the first lead 41 and the second lead 42 on the second surface 44 side over the entire circumference thereof. In the present embodiment, the lead frame 4 is formed with the step 45 in this way, but the step 45 may not be formed.

本実施形態では、リフレクタ3は、リフレクタ部31と絶縁部32とを備える。リフレクタ部31は筒状であり、リードフレーム4の第一面43から突出するように形成されている。絶縁部32は、第一のリード41及び第二のリード42の間に介在して両者を電気的に絶縁するとともに、第一のリード41及び第二のリード42の各々の段45とかみ合っている。また、リフレクタ3は、リードフレーム4の外周部で、段45とかみ合っている。これにより、リードフレーム4はリフレクタ3に埋め込まれ、リフレクタ3で支持されている。筒状のリフレクタ部31で囲まれた内側が、ベース2の凹所21を構成している。凹所21の内径は、凹所21の開口に向かうほど大きくなっており、そうなるようにリフレクタ部31の内周面が傾斜している。このため、発光素子5から発せられる光が、リフレクタ部31の内周面で反射しやすくなり、その結果、発光装置1が高い光の取り出し効率を有することができる。凹所21の底面では、第一のリード41及び第二のリード42が露出し、これにより、凹所21の底面ではリードフレーム4の第一面43の一部が露出している。凹所21の底面では絶縁部32も露出している。リードフレーム4の第二面44は、段45を除き、外部に露出している。 In the present embodiment, the reflector 3 includes a reflector portion 31 and an insulating portion 32. The reflector portion 31 has a tubular shape and is formed so as to protrude from the first surface 43 of the lead frame 4. The insulating portion 32 is interposed between the first lead 41 and the second lead 42 to electrically insulate both of them, and meshes with each stage 45 of the first lead 41 and the second lead 42. There is. Further, the reflector 3 is engaged with the step 45 at the outer peripheral portion of the lead frame 4. As a result, the lead frame 4 is embedded in the reflector 3 and supported by the reflector 3. The inside surrounded by the tubular reflector portion 31 constitutes the recess 21 of the base 2. The inner diameter of the recess 21 becomes larger toward the opening of the recess 21, and the inner peripheral surface of the reflector portion 31 is inclined so as to be so. Therefore, the light emitted from the light emitting element 5 is easily reflected by the inner peripheral surface of the reflector portion 31, and as a result, the light emitting device 1 can have a high light extraction efficiency. On the bottom surface of the recess 21, the first lead 41 and the second lead 42 are exposed, whereby a part of the first surface 43 of the lead frame 4 is exposed on the bottom surface of the recess 21. The insulating portion 32 is also exposed on the bottom surface of the recess 21. The second surface 44 of the lead frame 4 is exposed to the outside except for the step 45.

ベース2の凹所21内に搭載されている発光素子5は、例えば図1に示すように、凹所21内の第一のリード41上に配置され、ワイヤー71及びワイヤー72で第一のリード41及び第二のリード42とそれぞれ電気的に接続される。これにより、発光素子5はリードフレーム4に電気的に接続されている。 The light emitting element 5 mounted in the recess 21 of the base 2 is arranged on the first lead 41 in the recess 21, as shown in FIG. 1, for example, and the wire 71 and the wire 72 are the first leads. It is electrically connected to the 41 and the second lead 42, respectively. As a result, the light emitting element 5 is electrically connected to the lead frame 4.

凹所21内には、封止材6が充填されており、この封止材6が発光素子5を封止している。封止材6は、例えばシリコーン樹脂などから作製される。また、封止材6は、発光素子5が発する光を波長変換するための蛍光物質を含有してもよい。 The recess 21 is filled with a sealing material 6, and the sealing material 6 seals the light emitting element 5. The sealing material 6 is made of, for example, a silicone resin. Further, the sealing material 6 may contain a fluorescent substance for wavelength-converting the light emitted by the light emitting element 5.

本実施形態では、リードフレーム4は金属製であり、例えば銅又は銅合金から作製される。リードフレーム4は、めっき法などで形成された金属被膜を備えてもよい。金属被膜は、例えば銀被膜又は金被膜であるが、これに限られない。リードフレーム4が特に銀被膜を有すると、リードフレーム4とリフレクタ3との密着性は特に高くなる。銀被膜の厚みは、例えば1〜10μmの範囲内である。 In this embodiment, the lead frame 4 is made of metal and is made of, for example, copper or a copper alloy. The lead frame 4 may include a metal film formed by a plating method or the like. The metal coating is, for example, a silver coating or a gold coating, but is not limited to this. When the lead frame 4 has a silver film, the adhesion between the lead frame 4 and the reflector 3 is particularly high. The thickness of the silver film is, for example, in the range of 1 to 10 μm.

上述の通り、リードフレーム4の表面におけるリフレクタ3に接する領域は、Raが0.5〜1.5μmの範囲内の粗化面8を有する。なお、Raとは、JIS B0601:2001で規定される算術平均高さのことである。 As described above, the region in contact with the reflector 3 on the surface of the lead frame 4 has a roughened surface 8 having Ra in the range of 0.5 to 1.5 μm. Ra is the arithmetic mean height defined by JIS B0601: 2001.

粗化面8は、例えば第一面43におけるリフレクタ部31と接する領域に形成される。第一面43における粗化面8は、凹所21の底面を囲むように、帯状に形成されていることが好ましい。この場合、凹所21内から外部への樹脂、蛍光物質等の漏出が効果的に抑制される。 The roughened surface 8 is formed in, for example, a region of the first surface 43 in contact with the reflector portion 31. The roughened surface 8 on the first surface 43 is preferably formed in a band shape so as to surround the bottom surface of the recess 21. In this case, leakage of the resin, fluorescent substance, etc. from the inside of the recess 21 to the outside is effectively suppressed.

第一面43における粗化面8の幅は、60〜80μmの範囲内であることが好ましい。粗化面8の幅が60μm以上であれば、粗化面8によって、リフレクタ3とリードフレーム4との間の密着性が、特に向上する。また、粗化面8の幅が80μmより大きくなると、レーザ加工に要する手間が多くなる割に、密着性向上の効果はほぼ飽和してしまう。 The width of the roughened surface 8 on the first surface 43 is preferably in the range of 60 to 80 μm. When the width of the roughened surface 8 is 60 μm or more, the roughened surface 8 particularly improves the adhesion between the reflector 3 and the lead frame 4. Further, when the width of the roughened surface 8 is larger than 80 μm, the effect of improving the adhesion is almost saturated in spite of the increase in labor required for laser processing.

粗化面8は、第二面44における段45に形成されてもよい。この場合、リフレクタ3が段45にかみ合うとともにこの段45において粗化面8に接することで、リフレクタ3とリードフレーム4との密着性がより高くなる。段45における粗化面8の幅は、段45の寸法にも依存するが、例えば30〜50μmの範囲内である。 The roughened surface 8 may be formed in the step 45 on the second surface 44. In this case, the reflector 3 meshes with the step 45 and comes into contact with the roughened surface 8 at this step 45, so that the adhesion between the reflector 3 and the lead frame 4 becomes higher. The width of the roughened surface 8 in the step 45 depends on the dimensions of the step 45, but is in the range of, for example, 30 to 50 μm.

本実施形態の好ましい一態様では、リードフレーム4が銀被膜を備え、この銀被膜に粗化面8が形成されている。この場合、リードフレーム4とリフレクタ3との密着性は特に高くなる。 In a preferred embodiment of the present embodiment, the lead frame 4 is provided with a silver film, and the roughened surface 8 is formed on the silver film. In this case, the adhesion between the lead frame 4 and the reflector 3 is particularly high.

粗化面8は、例えばリードフレーム4における粗化面8を形成すべき位置にレーザ加工を施すことで形成される。すなわち、例えば粗化面8は、レーザ加工痕からなる。レーザ加工で粗化面8を形成する場合に用いられるレーザ種は、例えばFAYbレーザ又はYAGレーザであるが、これらに限られない。レーザの照射条件は、YAGレーザを用い、銀被覆を有するリードフレーム4にレーザ加工を施す場合には、発振波長が950〜1100nmの範囲内、好ましくは1000〜1070nmの範囲内であり、ピーク出力が例えば8kW以上、好ましくは10kW以上であるが、これに限られず、レーザの種類、リードフレーム4の材質などの条件に応じて、適宜設定される。 The roughened surface 8 is formed by, for example, performing laser processing at a position on the lead frame 4 where the roughened surface 8 should be formed. That is, for example, the roughened surface 8 is composed of laser machining marks. The laser type used when forming the roughened surface 8 by laser processing is, for example, a FAYb laser or a YAG laser, but is not limited thereto. The laser irradiation conditions are such that when a YAG laser is used and the lead frame 4 having a silver coating is laser-processed, the oscillation wavelength is in the range of 950 to 1100 nm, preferably in the range of 1000 to 70 nm, and the peak output. Is, for example, 8 kW or more, preferably 10 kW or more, but is not limited to this, and is appropriately set according to conditions such as the type of laser and the material of the lead frame 4.

本実施形態におけるリフレクタ3は、上述の通り、組成物(X)の成形体である。組成物(X)は、例えば成形用樹脂と、充填材とを含有する。 As described above, the reflector 3 in this embodiment is a molded product of the composition (X). The composition (X) contains, for example, a molding resin and a filler.

成形用樹脂は、熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂とのうちいずれでもよい。成形用樹脂は、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ビニルエステル樹脂、ポリアミド樹脂、PCT樹脂といった、適宜の樹脂を含有できる。 The molding resin may be either a thermosetting resin or a thermoplastic resin. The molding resin can contain an appropriate resin such as an unsaturated polyester resin, a silicone resin, an epoxy resin, a phenol resin, an acrylic resin, a vinyl ester resin, a polyamide resin, and a PCT resin.

特に成形用樹脂は、不飽和ポリエステル樹脂とシリコーン樹脂とのうち少なくとも一方を含有することが好ましい。これらの樹脂の硬化物は本来的には金属との密着性が低い。しかし、成形用樹脂が不飽和ポリエステル樹脂とシリコーン樹脂とのうち少なくとも一方を含有しても、本実施形態のようにリードフレーム4が特定の粗度を有する粗化面8を有するとともにリフレクタ3が特定の粒度を有するシリカ粉を含有する組成物(X)の成形体であれば、そうでない場合と比べて、リフレクタ3とリードフレーム4との密着性が特に向上する。 In particular, the molding resin preferably contains at least one of an unsaturated polyester resin and a silicone resin. The cured products of these resins originally have low adhesion to metals. However, even if the molding resin contains at least one of the unsaturated polyester resin and the silicone resin, the lead frame 4 has a roughened surface 8 having a specific roughness and the reflector 3 has a roughened surface 8 as in the present embodiment. In the case of the molded product of the composition (X) containing the silica powder having a specific particle size, the adhesion between the reflector 3 and the lead frame 4 is particularly improved as compared with the case where it is not.

組成物(X)に配合されうる不飽和ポリエステル樹脂について説明する。 An unsaturated polyester resin that can be blended in the composition (X) will be described.

不飽和ポリエステル樹脂は、不飽和ポリエステル(A)からなり、又は不飽和ポリエステル(A)と架橋剤(B)とからなる。 The unsaturated polyester resin is made of unsaturated polyester (A), or is made of unsaturated polyester (A) and a cross-linking agent (B).

不飽和ポリエステル(A)は、カルボン酸(a1)とアルコール(a2)との共重合体である。すなわち、不飽和ポリエステル(A)は、カルボン酸(a1)の残基とアルコール(a2)の残基とを備える。 The unsaturated polyester (A) is a copolymer of a carboxylic acid (a1) and an alcohol (a2). That is, the unsaturated polyester (A) comprises a residue of the carboxylic acid (a1) and a residue of the alcohol (a2).

カルボン酸(a1)は、例えば、フマル酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、マレイン酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、グルタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、ヘット酸及びテトラブロムフタル酸からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。 The carboxylic acid (a1) is, for example, fumaric acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, maleic acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, tetrahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, glutaconic acid, phthalic acid, isophthalic acid, It contains at least one compound selected from the group consisting of terephthalic acid, succinic acid, adipic acid, sebatic acid, azelaic acid, endomethylenetetrahydrophthalic acid, hetic acid and tetrabromphthalic acid.

アルコール(a2)は、例えば、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、シクロヘキサン1,4―ジメタノール、エチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、水素化ビスフェノールA、ビスフェノールAプロピレンオキシド化合物、ジブロムネオペンチルグリコール、及びトリメチロールプロパンジアリルエーテルからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。 The alcohol (a2) is, for example, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, trimethylolpropane, cyclohexane1,4-dimethanol, ethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1, Consists of 3-butanediol, 1,5-pentanediol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, dipropylene glycol, hydride bisphenol A, bisphenol A propylene oxide compound, dibromneopentyl glycol, and trimethylolpropane diallyl ether. Contains at least one compound selected from the group.

本実施形態の好ましい一態様では、カルボン酸(a1)はフマル酸及び1,4−シクロヘキサンジカルボン酸を含有し、アルコール(a2)は1,6−ヘキサンジオールを含有する。この場合、不飽和ポリエステル(A)は、結晶性を有することができる。そのため、不飽和ポリエステル(A)を含有する組成物(X)の常温での保存安定性が向上するとともに、溶融時の粘度が低減する。そのため組成物(X)の成形時の流動性が高くなり、例えば組成物(X)がトランスファ成形法により成形される際の成形性が向上する。また、組成物(X)から作製される成形体であるリフレクタ3の耐変色性が向上する。すなわち、リフレクタ3が加熱された場合及びリフレクタ3に光が照射された場合に、リフレクタ3が変色しにくい。さらに、リフレクタ3の曲げ弾性率が低減される。これにより、リフレクタ3の耐クラック性が向上する。これにより、リフレクタ3は、たとえ小型であっても、高い耐変色性と高い耐クラック性とを有することができる。カルボン酸(a1)全体に対する、フマル酸と1,4−シクロヘキサンジカルボン酸との合計量は、99質量%以上であることが好ましい。フマル酸と1,4−シクロヘキサンジカルボン酸との質量比は、63:27〜81:19の範囲内であることが好ましい。この場合、不飽和ポリエステル(A)は適度な量のエチレン性不飽和結合を有し、このため組成物(X)の溶融時の流動性が良好になるとともに熱硬化性も良好になる。アルコール(a2)全体に対する1,6−ヘキサンジオールの量は、99質量%以上であることが好ましい。 In a preferred embodiment of the present embodiment, the carboxylic acid (a1) contains fumaric acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, and the alcohol (a2) contains 1,6-hexanediol. In this case, the unsaturated polyester (A) can have crystallinity. Therefore, the storage stability of the composition (X) containing the unsaturated polyester (A) at room temperature is improved, and the viscosity at the time of melting is reduced. Therefore, the fluidity of the composition (X) at the time of molding is increased, and for example, the moldability of the composition (X) when it is molded by the transfer molding method is improved. Further, the discoloration resistance of the reflector 3 which is a molded product produced from the composition (X) is improved. That is, when the reflector 3 is heated and when the reflector 3 is irradiated with light, the reflector 3 is less likely to be discolored. Further, the flexural modulus of the reflector 3 is reduced. This improves the crack resistance of the reflector 3. As a result, the reflector 3 can have high discoloration resistance and high crack resistance even if it is small in size. The total amount of fumaric acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid with respect to the entire carboxylic acid (a1) is preferably 99% by mass or more. The mass ratio of fumaric acid to 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid is preferably in the range of 63:27 to 81:19. In this case, the unsaturated polyester (A) has an appropriate amount of ethylenically unsaturated bonds, so that the fluidity of the composition (X) at the time of melting is improved and the thermosetting property is also improved. The amount of 1,6-hexanediol with respect to the total alcohol (a2) is preferably 99% by mass or more.

不飽和ポリエステル(A)のガラス転移温度は30〜50℃の範囲内であることが好ましい。ガラス転移温度が30℃以上であると、組成物(X)の保存安定性が特に高くなる。すなわち、例えば組成物(X)が粒状に粉砕されてから保管される場合、夏場などの高温時に組成物(X)の粒子同士が融着することが抑制される。また、ガラス転移温度が50℃より高くなると、それに伴って不飽和ポリエステル(A)の融点が高くなりすぎるおそれがある点で好ましくない。不飽和ポリエステル(A)のガラス転移温度は、構成成分の組成比率や分子量を調整することで容易に調整可能である。 The glass transition temperature of the unsaturated polyester (A) is preferably in the range of 30 to 50 ° C. When the glass transition temperature is 30 ° C. or higher, the storage stability of the composition (X) becomes particularly high. That is, for example, when the composition (X) is pulverized into granules and then stored, the particles of the composition (X) are suppressed from being fused to each other at a high temperature such as in summer. Further, when the glass transition temperature becomes higher than 50 ° C., the melting point of the unsaturated polyester (A) may become too high, which is not preferable. The glass transition temperature of the unsaturated polyester (A) can be easily adjusted by adjusting the composition ratio and the molecular weight of the constituent components.

不飽和ポリエステル(A)の融点は70〜100℃の範囲内であることが好ましい。融点が100℃以下であると、組成物(X)の調製のための加熱混練時に、硬化反応を進行させることなく不飽和ポリエステル(A)を溶融させることが容易となる。このため、硬化物を含まない組成物(X)を容易に調製できる。また、融点が70℃以上であることで、リフレクタ3などの成形品の光反射率の低下が抑制される。その理由は次の通りであると推察される。不飽和ポリエステル(A)の融点が低いと、組成物(X)が粉砕装置で粉砕される際に、粉砕装置が発する熱や摩擦熱等で不飽和ポリエステル(A)が溶融し、組成物(X)が部分的に溶融状態となってしまう。このように部分的に溶融状態となった組成物(X)が粉砕装置における回転翼等の金属部品と衝突すると、組成物(X)が金属部品と接触した状態で擦れ合いやすくなる。組成物(X)中の充填材等の硬質な成分と、金属部品とが擦れ合うと、金属部品から金属粉が生じてこれが成形材料に混入しやすくなる。この金属粉が、リフレクタ3の光反射率の低下を引き起こすと考えられる。これに対し、不飽和ポリエステル(A)の融点が70℃以上であると、組成物(X)が粉砕装置で粉砕される際に不飽和ポリエステル(A)が溶融しにくくなる。そうすると、組成物(X)が回転翼等の金属部品と衝突した際に、組成物(X)が速やかに粉砕されやすくなる。このため、組成物(X)と金属部品との擦れ合いが生じにくくなる。この結果、組成物(X)中へ金属粉が混入しにくくなり、成形品の光反射率の低下が抑制される。 The melting point of the unsaturated polyester (A) is preferably in the range of 70 to 100 ° C. When the melting point is 100 ° C. or lower, the unsaturated polyester (A) can be easily melted during heat kneading for the preparation of the composition (X) without proceeding with the curing reaction. Therefore, the composition (X) containing no cured product can be easily prepared. Further, when the melting point is 70 ° C. or higher, the decrease in the light reflectance of the molded product such as the reflector 3 is suppressed. The reason is presumed to be as follows. When the melting point of the unsaturated polyester (A) is low, when the composition (X) is crushed by the crushing device, the unsaturated polyester (A) is melted by the heat generated by the crushing device, frictional heat, etc. X) is partially melted. When the partially melted composition (X) collides with a metal component such as a rotary blade in a pulverizer, the composition (X) tends to rub against each other in contact with the metal component. When a hard component such as a filler in the composition (X) and a metal part rub against each other, metal powder is generated from the metal part and is easily mixed in the molding material. It is considered that this metal powder causes a decrease in the light reflectance of the reflector 3. On the other hand, when the melting point of the unsaturated polyester (A) is 70 ° C. or higher, the unsaturated polyester (A) is less likely to melt when the composition (X) is pulverized by a pulverizer. Then, when the composition (X) collides with a metal part such as a rotary blade, the composition (X) is easily crushed quickly. Therefore, the composition (X) and the metal parts are less likely to rub against each other. As a result, the metal powder is less likely to be mixed into the composition (X), and the decrease in the light reflectance of the molded product is suppressed.

さらに、不飽和ポリエステル(A)が70〜100℃の範囲内の融点を有すると、組成物(X)に、特に優れた成形時の流動性を付与できる。このため組成物(X)がトランスファ成形法で成形される場合でも成形性が向上する。 Further, when the unsaturated polyester (A) has a melting point in the range of 70 to 100 ° C., the composition (X) can be imparted with particularly excellent fluidity during molding. Therefore, the moldability is improved even when the composition (X) is molded by the transfer molding method.

不飽和ポリエステル(A)のヨウ素価は、75〜100の範囲内であることが好ましい。この場合、不飽和ポリエステル(A)は溶融時に特に良好な流動性を有するとともに、良好な熱硬化性を有する。このため、組成物(X)の成形時の流動性、熱硬化性、成形性、及び離型性が良好になる。なお、ヨウ素価の値は、カルボン酸(a1)における、フマル酸と1,4−シクロヘキサンジカルボン酸との質量比を調整することで、容易に調整できる。 The iodine value of the unsaturated polyester (A) is preferably in the range of 75 to 100. In this case, the unsaturated polyester (A) has particularly good fluidity when melted and also has good thermosetting property. Therefore, the fluidity, thermosetting property, moldability, and mold releasability of the composition (X) at the time of molding are improved. The iodine value can be easily adjusted by adjusting the mass ratio of fumaric acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid in the carboxylic acid (a1).

不飽和ポリエステル(A)の、150℃でのICI粘度(高剪断粘度)は、0.1〜5Pa・sの範囲内であることが好ましく、0.5〜3Pa・sの範囲内であれば更に好ましい。この場合、成形時に組成物(X)に適度な流動性が付与され、成形性が特に良好になるとともにバリの発生が効果的に抑制される。不飽和ポリエステル(A)のICI粘度は、不飽和ポリエステル(A)の組成を適宜調整することで、容易に調整可能である。 The ICI viscosity (high shear viscosity) of the unsaturated polyester (A) at 150 ° C. is preferably in the range of 0.1 to 5 Pa · s, preferably in the range of 0.5 to 3 Pa · s. More preferred. In this case, an appropriate fluidity is imparted to the composition (X) at the time of molding, the moldability is particularly good, and the generation of burrs is effectively suppressed. The ICI viscosity of the unsaturated polyester (A) can be easily adjusted by appropriately adjusting the composition of the unsaturated polyester (A).

架橋剤(B)は、不飽和ポリエステル(A)の不飽和結合と反応することで架橋構造を構築する成分である。架橋剤(B)は、例えば、ビニル系の重合性モノマー、メタクリレート系の重合性モノマー、アクリレート系の重合性モノマー、及びプレポリマーからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。プレポリマーは、例えばビニル系の重合性モノマー、メタクリレート系の重合性モノマー及びアクリレート系の重合性モノマーからなる群から選択される少なくとも一種の化合物の重合体である。ビニル系の重合性モノマーは、例えばスチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、α−メチルスチレン、メタクリル酸メチル及び酢酸ビニルからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。メタクリレート系及びアクリレート系の重合性モノマーは、例えばジアリルフタレート、イソジアリルフタレート、トリアリルシアヌレート、ジアリルテトラブロムフタレート、フェノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート及び1,6−ヘキサンジオールジアクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。 The cross-linking agent (B) is a component that constructs a cross-linked structure by reacting with an unsaturated bond of the unsaturated polyester (A). The cross-linking agent (B) can contain, for example, at least one compound selected from the group consisting of a vinyl-based polymerizable monomer, a methacrylate-based polymerizable monomer, an acrylate-based polymerizable monomer, and a prepolymer. The prepolymer is a polymer of at least one compound selected from the group consisting of, for example, a vinyl-based polymerizable monomer, a methacrylate-based polymerizable monomer, and an acrylate-based polymerizable monomer. The vinyl-based polymerizable monomer can contain at least one component selected from the group consisting of, for example, styrene, vinyltoluene, divinylbenzene, α-methylstyrene, methyl methacrylate and vinyl acetate. The methacrylate-based and acrylate-based polymerizable monomers are, for example, a group consisting of diallyl phthalate, isodialyl phthalate, triallyl cyanurate, diallyl tetrabromphthalate, phenoxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and 1,6-hexanediol diacrylate. Can contain at least one component selected from.

特に架橋剤(B)は、150℃以上の沸点を有する化合物を含有することが好ましい。この場合、組成物(X)からの架橋剤(B)の揮発が抑制される。このため、組成物(X)からの臭気の発生が抑制されて、作業環境が改善される。また、組成物(X)の組成の安定性が高くなる。 In particular, the cross-linking agent (B) preferably contains a compound having a boiling point of 150 ° C. or higher. In this case, the volatilization of the cross-linking agent (B) from the composition (X) is suppressed. Therefore, the generation of odor from the composition (X) is suppressed, and the working environment is improved. In addition, the stability of the composition of the composition (X) is increased.

架橋剤(B)は、150℃以上の沸点を有する化合物として、ジアリルフタレート、イソジアリルフタレート、ジエチレングリコールジアクリレート、及びこれらの化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物の重合体からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有することが、特に好ましい。なお、150℃以上の沸点を有する化合物には、常圧下では沸騰せず、かつ150℃以上の熱分解温度を有する化合物も含まれる。 The cross-linking agent (B) comprises a group consisting of a polymer of at least one compound selected from the group consisting of diallyl phthalate, isodialyl phthalate, diethylene glycol diacrylate, and these compounds as a compound having a boiling point of 150 ° C. or higher. It is particularly preferred to contain at least one compound of choice. The compound having a boiling point of 150 ° C. or higher includes a compound that does not boil under normal pressure and has a thermal decomposition temperature of 150 ° C. or higher.

架橋剤(B)は、ジアリルフタレートモノマー及びトリアリルシアヌレートのうち少なくとも一方の化合物を含有することも好ましい。この場合、揮発温度が高いことによる効果が得られるだけでなく、組成物(X)がトランスファ成形法等の型成形法で成形される場合に型汚れが抑制される。 The cross-linking agent (B) also preferably contains at least one compound of diallyl phthalate monomer and triallyl cyanurate. In this case, not only the effect of the high volatilization temperature can be obtained, but also mold stains are suppressed when the composition (X) is molded by a mold molding method such as a transfer molding method.

不飽和ポリエステル樹脂が架橋剤(B)を含有する場合、不飽和ポリエステル(A)と架橋剤(B)との合計量に対する、架橋剤(B)の量は、2〜15質量%の範囲内であれば特に好ましい。この量が2質量%以上であることでリフレクタ3などの成形品のガラス転移点が特に高くなる。またこの量が15質量%以下であれば成形品の耐熱変色性が特に高くなる。 When the unsaturated polyester resin contains the cross-linking agent (B), the amount of the cross-linking agent (B) is in the range of 2 to 15% by mass with respect to the total amount of the unsaturated polyester (A) and the cross-linking agent (B). Is particularly preferable. When this amount is 2% by mass or more, the glass transition point of the molded product such as the reflector 3 becomes particularly high. Further, when this amount is 15% by mass or less, the heat-resistant discoloration property of the molded product becomes particularly high.

組成物(X)が不飽和ポリエステル樹脂を含有する場合、組成物(X)は、更に硬化触媒を含有してもよい。この場合、不飽和ポリエステル樹脂の硬化反応が促進される。このため、組成物(X)の成形性と成形品の形状安定性とが向上する。硬化触媒は、例えば硬化促進剤と重合開始剤とのうち少なくとも一方を含有する。 When the composition (X) contains an unsaturated polyester resin, the composition (X) may further contain a curing catalyst. In this case, the curing reaction of the unsaturated polyester resin is promoted. Therefore, the moldability of the composition (X) and the shape stability of the molded product are improved. The curing catalyst contains, for example, at least one of a curing accelerator and a polymerization initiator.

重合開始剤は、例えば加熱分解型の有機過酸化物を含有できる。有機過酸化物は、例えばt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、t−ブチルパーオキシオクトエート、ベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、t−ブチルパーオキシベンゾエート、及びジクミルパーオキサイドからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。 The polymerization initiator can contain, for example, a heat-decomposable organic peroxide. Organic peroxides include, for example, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, 1,1-di (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-di (t-butylperoxy) -3,3. Contains at least one compound selected from the group consisting of 5-trimethylcyclohexane, t-butylperoxyoctate, benzoyl peroxide, methylethylketone peroxide, acetylacetone peroxide, t-butylperoxybenzoate, and dicumyl peroxide. can.

重合開始剤は、特に10時間半減期温度が100℃以上の有機過酸化物を含有することが好ましい。具体的には、重合開始剤は、ジクミルパーオキサイドを含有することが好ましい。重合開始剤がこのような有機過酸化物を含有すると、成形品の経時的な反射率低下が更に抑制される。 The polymerization initiator preferably contains an organic peroxide having a 10-hour half-life temperature of 100 ° C. or higher. Specifically, the polymerization initiator preferably contains dicumyl peroxide. When the polymerization initiator contains such an organic peroxide, the decrease in reflectance of the molded product over time is further suppressed.

不飽和ポリエステル樹脂全体に対する有機過酸化物の量は、1〜3質量%の範囲内であることが好ましい。この量が1質量%以上であると、不飽和ポリエステル樹脂の硬化反応を効果的に促進できる。また、この量が3質量%以下であると、成形時間の過度の短縮化を抑制し、リフレクタ3などの成形品におけるカスレなどの不良を抑制できる。 The amount of organic peroxide with respect to the entire unsaturated polyester resin is preferably in the range of 1 to 3% by mass. When this amount is 1% by mass or more, the curing reaction of the unsaturated polyester resin can be effectively promoted. Further, when this amount is 3% by mass or less, excessive shortening of the molding time can be suppressed, and defects such as blurring in the molded product such as the reflector 3 can be suppressed.

組成物(X)が不飽和ポリエステル樹脂を含有する場合、組成物(X)は、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤は、例えば、キノン類、フェノール系化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。キノン類の例は、ハイドロキノン、モノメチルエーテルハイドロキノン、トルハイドロキノン、ジ−t−4−メチルフェノール、フェノチアジン、t−ブチルカテコール、パラベンゾキノン、及びピロガロールを含む。フェノール系化合物は、例えば2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、2,2−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、及び1,1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタンからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。 When the composition (X) contains an unsaturated polyester resin, the composition (X) may contain a polymerization inhibitor. The polymerization inhibitor can contain, for example, at least one compound selected from the group consisting of quinones and phenolic compounds. Examples of quinones include hydroquinone, monomethyl ether hydroquinone, toluhydroquinone, di-t-4-methylphenol, phenothiazine, t-butylcatechol, parabenzoquinone, and pyrogallol. Phenolic compounds include, for example, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 2,2-methylene-bis- (4-methyl-6-t-butylphenol), and 1,1,3-tris-( It can contain at least one component selected from the group consisting of 2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane.

組成物(X)に配合されうるシリコーン樹脂について説明する。 The silicone resin that can be blended in the composition (X) will be described.

シリコーン樹脂は、例えば縮合・付加反応硬化型シリコーン樹脂、ヘテロ原子含有変性シリコーン樹脂、付加反応硬化型シリコーン樹脂、及び無機酸化物含有シリコーン樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。 The silicone resin contains at least one component selected from the group consisting of, for example, a condensation / addition reaction curable silicone resin, a heteroatom-containing modified silicone resin, an addition reaction curable silicone resin, and an inorganic oxide-containing silicone resin.

縮合・付加反応硬化型シリコーン樹脂は、縮合反応及び付加反応によって硬化することができる。縮合反応は例えば、シラノール縮合反応であり、付加反応は例えばエポキシ開環反応又はヒドロシリル化反応である。 The condensation / addition reaction curable silicone resin can be cured by the condensation reaction and the addition reaction. The condensation reaction is, for example, a silanol condensation reaction, and the addition reaction is, for example, an epoxy ring opening reaction or a hydrosilylation reaction.

縮合・付加反応硬化型シリコーン樹脂は、例えば、シラノール基両末端ポリシロキサン、エチレン系不飽和炭化水素基含有ケイ素化合物、エポキシ基含有ケイ素化合物及びオルガノハイドロジェンシロキサンを含有する。 The condensation / addition reaction curable silicone resin contains, for example, a silanol group-terminal polysiloxane, an ethylene-based unsaturated hydrocarbon group-containing silicon compound, an epoxy group-containing silicon compound, and an organohydrogensiloxane.

シラノール基両末端ポリシロキサンは、分子の両末端にシラノール基(SiOH基)を含有するオルガノシロキサンである。シラノール基両末端ポリシロキサンは、例えば下記式(1)で示される。 The silanol group double-ended polysiloxane is an organosiloxane containing a silanol group (SiOH group) at both ends of the molecule. The silanol group-terminal polysiloxane is represented by, for example, the following formula (1).

HO−Si(R12−O−[Si(R12−O]n−Si(R12−OH …(1)
式(1)中、R1は、各々独立に、1価の飽和炭化水素基又は1価の芳香族炭化水素基である。R1は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基といった、炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基といった、炭素数3〜6のシクロアルキル基;又は、フェニル基、ナフチル基といった、炭素数6〜10のアリール基である。
HO-Si (R 1 ) 2- O- [Si (R 1 ) 2- O] n -Si (R 1 ) 2- OH ... (1)
In formula (1), R 1 is independently a monovalent saturated hydrocarbon group or a monovalent aromatic hydrocarbon group. R 1 is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a pentyl group and a hexyl group; a cyclopentyl group and a cyclohexyl. A cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms such as a group; or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms such as a phenyl group or a naphthyl group.

式(1)中、nは、1以上の整数である。nは、好ましくは1〜10000の整数、更に好ましくは、1〜1000の整数である。 In equation (1), n is an integer of 1 or more. n is preferably an integer of 1 to 10000, more preferably an integer of 1 to 1000.

シラノール基両末端ポリシロキサンの例は、シラノール基両末端ポリジメチルシロキサン、シラノール基両末端ポリメチルフェニルシロキサン、及びシラノール基両末端ポリジフェニルシロキサンを含む。シラノール基両末端ポリシロキサンの数平均分子量は、例えば100〜1000000の範囲内、好ましくは200〜100000の範囲内である。シラノール基両末端ポリシロキサンのシラノール基当量は、例えば0.002〜25mmol/gの範囲内、好ましくは0.02〜25mmol/gの範囲内である。 Examples of silanol group-terminal polysiloxanes include silanol group-terminal polydimethylsiloxanes, silanol group-terminal polymethylphenylsiloxanes, and silanol group-terminal polydiphenylsiloxanes. The number average molecular weight of the silanol group-terminal polysiloxane is, for example, in the range of 100 to 1000000, preferably in the range of 200 to 100,000. The silanol group equivalent of the silanol group-terminal polysiloxane is, for example, in the range of 0.002 to 25 mmol / g, preferably in the range of 0.02 to 25 mmol / g.

シラノール基両末端ポリシロキサンの量は、シリコーン樹脂100質量部に対して、例えば1〜99.99質量部の範囲内、好ましくは50〜99.9質量部の範囲内、更に好ましくは80〜99.5質量部の範囲内である。 The amount of the silanol group-terminal polysiloxane is, for example, in the range of 1 to 99.99 parts by mass, preferably in the range of 50 to 99.9 parts by mass, and more preferably 80 to 99 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silicone resin. It is within the range of 5.5 parts by mass.

エチレン系ケイ素化合物は、エチレン系不飽和炭化水素基と、シラノール縮合反応における脱離基とを有するシラン化合物である。エチレン系ケイ素化合物は、例えば下記式(2)で示される。 The ethylene-based silicon compound is a silane compound having an ethylene-based unsaturated hydrocarbon group and a leaving group in a silanol condensation reaction. The ethylene-based silicon compound is represented by, for example, the following formula (2).

2−Si(X13 …(2)
式(2)中、R2は、1価のエチレン系不飽和炭化水素基である。R2は、例えば置換又は非置換のエチレン系不飽和炭化水素基であり、より具体的には、例えばアルケニル基又はシクロアルケニル基である。アルケニル基の炭素数は2〜10が好ましく、2〜5が更に好ましい。アルケニル基の例は、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、及びオクテニル基を含み、特にビニル基が好ましい。シクロアルケニル基の例は、シクロヘキセニル基、ノルボルネニル基といった、炭素数3〜10のシクロアルケニル基を含む。
R 2- Si (X 1 ) 3 ... (2)
In formula (2), R 2 is a monovalent ethylene-based unsaturated hydrocarbon group. R 2 is, for example, a substituted or unsubstituted ethylene-based unsaturated hydrocarbon group, and more specifically, for example, an alkenyl group or a cycloalkenyl group. The alkenyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 5 carbon atoms. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, a heptenyl group, and an octenyl group, and a vinyl group is particularly preferable. Examples of cycloalkenyl groups include cycloalkenyl groups having 3 to 10 carbon atoms, such as cyclohexenyl groups and norbornenyl groups.

式(2)中、X1は、シラノール縮合反応における脱離基であり、SiX1基は、シラノール縮合反応における反応性官能基である。X1は、例えば各々独立にハロゲン原子、アルコキシ基、フェノキシ基、又はアセトキシ基である。ハロゲン原子は、例えば、臭素、塩素、フッ素、又はヨウ素である。アルコキシ基の例は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基といった、炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基を有するアルコキシ基、並びにシクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基といった、炭素数3〜6のシクロアルキル基を有するアルコキシ基を含む。X1は、特にアルコキシ基であることが好ましく、メトキシ基であれば特に好ましい。 In formula (2), X 1 is a leaving group in the silanol condensation reaction, and SiX 1 is a reactive functional group in the silanol condensation reaction. X 1 is, for example, a halogen atom, an alkoxy group, a phenoxy group, or an acetoxy group independently of each other. The halogen atom is, for example, bromine, chlorine, fluorine, or iodine. Examples of alkoxy groups include linear or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, isobutoxy group, pentyloxy group and hexyloxy group. It contains an alkoxy group having an alkoxy group having a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, such as a cyclopentyloxy group and a cyclohexyloxy group. X 1 is particularly preferably an alkoxy group, and particularly preferably a methoxy group.

このようなエチレン系ケイ素化合物は、例えばエチレン系不飽和炭化水素基含有トリアルコキシシラン、エチレン系不飽和炭化水素基含有トリハロゲン化シラン、エチレン系不飽和炭化水素基含有トリフェノキシシラン、及びエチレン系不飽和炭化水素基含有トリアセトキシシランからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。特に、エチレン系ケイ素化合物がエチレン系不飽和炭化水素基含有トリアルコキシシランを含有することが好ましい。 Such ethylene-based silicon compounds include, for example, ethylene-based unsaturated hydrocarbon group-containing trialkoxysilane, ethylene-based unsaturated hydrocarbon group-containing trihalogenated silane, ethylene-based unsaturated hydrocarbon group-containing triphenoxysilane, and ethylene-based It contains at least one component selected from the group consisting of unsaturated hydrocarbon group-containing triacetoxysilanes. In particular, it is preferable that the ethylene-based silicon compound contains an ethylene-based unsaturated hydrocarbon group-containing trialkoxysilane.

エチレン系不飽和炭化水素基含有トリアルコキシシランの例は、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリプロポキシシランといったビニルトリアルコキシシラン;アリルトリメトキシシラン;プロペニルトリメトキシシラン;ブテニルトリメトキシシラン;並びにシクロヘキセニルトリメトキシシランを含む。エチレン系不飽和炭化水素基含有トリアルコキシシランは、ビニルトリアルコキシシランを含有することが好ましく、ビニルトリメトキシシランを含有すれば特に好ましい。 Examples of ethylene-based unsaturated hydrocarbon group-containing trialkoxysilanes are vinyltrialkoxysilanes such as vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, and vinyltripropoxysilane; allyltrimethoxysilane; propenyltrimethoxysilane; butenyltrimethoxysilane. Also contains cyclohexenyltrimethoxysilane. The ethylene-based unsaturated hydrocarbon group-containing trialkoxysilane preferably contains vinyltrialkoxysilane, and is particularly preferably containing vinyltrimethoxysilane.

エチレン系ケイ素化合物の量は、縮合・付加反応硬化型シリコーン樹脂100質量部に対して、例えば0.01〜90質量部の範囲内、好ましくは0.01〜50質量部の範囲内、更に好ましくは0.01〜10質量部の範囲内である。 The amount of the ethylene-based silicon compound is, for example, in the range of 0.01 to 90 parts by mass, preferably in the range of 0.01 to 50 parts by mass, more preferably with respect to 100 parts by mass of the condensation / addition reaction curing type silicone resin. Is in the range of 0.01 to 10 parts by mass.

エポキシ基含有ケイ素化合物は、エポキシ基と、シラノール縮合反応における脱離基とを有するシラン化合物ある。エポキシ基含有ケイ素化合物は、例えば下記式(3)で示される。 The epoxy group-containing silicon compound is a silane compound having an epoxy group and a leaving group in a silanol condensation reaction. The epoxy group-containing silicon compound is represented by, for example, the following formula (3).

3−Si(X23 …(3)
式(3)中、R3は、エポキシ基を有する基である。R3は、例えばグリシジルエーテル基、又はエポキシシクロヘキシル基といったエポキシシクロアルキル基であり、好ましくはグリシジルエーテル基である。
R 3- Si (X 2 ) 3 ... (3)
In formula (3), R 3 is a group having an epoxy group. R 3 is an epoxycycloalkyl group such as a glycidyl ether group or an epoxycyclohexyl group, preferably a glycidyl ether group.

グリシジルエーテル基は、例えば下記式(4)で示されるグリシドキシアルキル基である。 The glycidyl ether group is, for example, a glycidoxyalkyl group represented by the following formula (4).

−[R4−O−Gr] …(4)
式(4)中、Grはグリシジル基(C33O)である。R4は2価の炭化水素基であり、例えば飽和炭化水素基又は芳香族炭化水素基である。飽和炭化水素基の例は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基といった炭素数1〜6のアルキレン基、並びにシクロアルキレン基(シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基といった炭素数3〜8を含む。芳香族炭化水素基の例は、フェニレン基、ナフチレン基といった炭素数6〜10のアリーレン基を含む。R4は炭素数1〜6のアルキレン基であることが好ましく、プロピレン基であれば特に好ましい。
-[R 4- O-Gr] ... (4)
In formula (4), Gr is a glycidyl group (C 3 H 3 O). R 4 is a divalent hydrocarbon group, for example a saturated hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group. Examples of the saturated hydrocarbon group include an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group and a butylene group, and a cycloalkylene group (a cyclopentylene group and a cyclohexylene group having 3 to 8 carbon atoms). Examples of the aromatic hydrocarbon group include an arylene group having 6 to 10 carbon atoms such as a phenylene group and a naphthylene group. R 4 is preferably an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and particularly a propylene group. preferable.

グリシジルエーテル基は、例えばグリシドキシメチル基、グリシドキシエチル基、グリシドキシプロピル基、グリシドキシシクロヘキシル基、又はグリシドキシフェニル基であり、好ましくはグリシドキシプロピル基である。 The glycidyl ether group is, for example, a glycidoxymethyl group, a glycidoxyethyl group, a glycidoxypropyl group, a glycidoxycyclohexyl group, or a glycidoxyphenyl group, preferably a glycidoxypropyl group.

式(3)中、X2はシラノール縮合反応における脱離基であり、SiX2基は、シラノール縮合反応における反応性官能基である。X2は、例えば各々独立にハロゲン原子、アルコキシ基、フェノキシ基、又はアセトキシ基である。ハロゲン原子は、例えば、臭素、塩素、フッ素、又はヨウ素である。アルコキシ基の例は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基といった、炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基を有するアルコキシ基、並びにシクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基といった、炭素数3〜6のシクロアルキル基を有するアルコキシ基を含む。X2は、特にアルコキシ基であることが好ましく、メトキシ基であれば特に好ましい。 In formula (3), X 2 is a leaving group in the silanol condensation reaction, and SiX 2 is a reactive functional group in the silanol condensation reaction. X 2 is, for example, a halogen atom, an alkoxy group, a phenoxy group, or an acetoxy group independently of each other. The halogen atom is, for example, bromine, chlorine, fluorine, or iodine. Examples of alkoxy groups include linear or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, isobutoxy group, pentyloxy group and hexyloxy group. It contains an alkoxy group having an alkoxy group having a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, such as a cyclopentyloxy group and a cyclohexyloxy group. X 2 is particularly preferably an alkoxy group, and particularly preferably a methoxy group.

エポキシ基含有ケイ素化合物は、例えばエポキシ基含有トリアルコキシシラン、エポキシ基含有トリハロゲン化シラン、エポキシ基含有トリフェノキシシラン、及びエポキシ基含有トリアセトキシシランからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。エポキシ基含有ケイ素化合物は、特にエポキシ基含有トリアルコキシシランを含有することが好ましい。エポキシ基含有トリアルコキシシランの例は、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、(2−グリシドキシエチル)トリメトキシシラン、(3−グリシドキシプロピル)トリメトキシシランといったグリシドキシアルキルトリメトキシシラン;(3−グリシドキシプロピル)トリエトキシシラン;(3−グリシドキシプロピル)トリプロポキシシラン;並びに(3−グリシドキシプロピル)トリイソプロポキシシランを含む。エポキシ基含有トリアルコキシシランは、グリシドキシメチルトリアルコキシシランを含有することが好ましく、(3−グリシドキシプロピル)トリメトキシシランを含有すれば特に好ましい。 The epoxy group-containing silicon compound contains at least one component selected from the group consisting of, for example, an epoxy group-containing trialkoxysilane, an epoxy group-containing trihalogenated silane, an epoxy group-containing triphenoxysilane, and an epoxy group-containing triacetoxysilane. do. The epoxy group-containing silicon compound preferably contains an epoxy group-containing trialkoxysilane. Examples of epoxy group-containing trialkoxysilanes are glycidoxyalkyltrimethoxysilanes such as glycidoxymethyltrimethoxysilane, (2-glycidoxyethyl) trimethoxysilane, and (3-glycidoxypropyl) trimethoxysilane; Includes (3-glycidoxypropyl) triethoxysilane; (3-glycidoxypropyl) tripropoxysilane; and (3-glycidoxypropyl) triisopropoxysilane. The epoxy group-containing trialkoxysilane preferably contains glycidoxymethyltrialkoxysilane, and is particularly preferably containing (3-glycidoxypropyl) trimethoxysilane.

エポキシ基含有ケイ素化合物の量は、縮合・付加反応硬化型シリコーン樹脂100質量部に対して、例えば0.01〜90質量部の範囲内、好ましくは0.01〜50質量部の範囲内、更に好ましくは0.01〜1質量部の範囲内である。 The amount of the epoxy group-containing silicon compound is, for example, in the range of 0.01 to 90 parts by mass, preferably in the range of 0.01 to 50 parts by mass, and further, with respect to 100 parts by mass of the condensation / addition reaction curing type silicone resin. It is preferably in the range of 0.01 to 1 part by mass.

エチレン系ケイ素化合物の有する反応性官能基であるSiX1基とエポキシ基含有ケイ素化合物の有する反応性官能基であるSiX2基との合計に対する、シラノール基両末端ポリシロキサンの有するシラノール基SiOH基のモル比の値は、例えば20/1〜0.2/1の範囲内であり、好ましくは10/1〜0.5/1の範囲内であり、特に好ましくは実質的に1/1である。また、エポキシ基含有ケイ素化合物に対する、エチレン系ケイ素化合物のモル比の値は、例えば10/90〜99/1の範囲内であり、好ましくは50/50〜97/3の範囲内であり、更に好ましくは80/20〜95/5の範囲内である。 The silanol group SiOH group of the silanol group both-terminal polysiloxane with respect to the total of SiX 1 group which is a reactive functional group of the ethylene-based silicon compound and SiX 2 group which is the reactive functional group of the epoxy group-containing silicon compound. The molar ratio value is, for example, in the range of 20/1 to 0.2 / 1, preferably in the range of 10/1 to 0.5 / 1, and particularly preferably substantially 1/1. .. The molar ratio of the ethylene-based silicon compound to the epoxy group-containing silicon compound is, for example, in the range of 10/90 to 99/1, preferably in the range of 50/50 to 97/3, and further. It is preferably in the range of 80/20 to 95/5.

オルガノハイドロジェンシロキサンは、エチレン系不飽和炭化水素基を含まず、少なくとも2つのヒドロシリル基を1分子中に有するオルガノシロキサンであり、例えば水素側鎖含有オルガノポリシロキサンと水素両末端オルガノポリシロキサンとのうち少なくとも一方を含有する。 The organohydrogensiloxane is an organosiloxane that does not contain an ethylene-based unsaturated hydrocarbon group and has at least two hydrosilyl groups in one molecule. For example, a hydrogen side chain-containing organopolysiloxane and a hydrogen-terminal organopolysiloxane. Contains at least one of them.

水素側鎖含有オルガノポリシロキサンは、主鎖から分岐する側鎖として水素原子を有するオルガノハイドロジェンシロキサンである。水素側鎖含有オルガノポリシロキサンの例は、メチルハイドロジェンポリシロキサン、ジメチルポリシロキサン−co−メチルハイドロジェンポリシロキサン、エチルハイドロジェンポリシロキサン、及びメチルハイドロジェンポリシロキサン−co−メチルフェニルポリシロキサンを含む。水素側鎖含有オルガノポリシロキサンの数平均分子量は、例えば100〜1000000の範囲内である。 The hydrogen side chain-containing organopolysiloxane is an organohydrogensiloxane having a hydrogen atom as a side chain branched from the main chain. Examples of hydrogen side chain containing organopolysiloxanes include methylhydrogenpolysiloxane, dimethylpolysiloxane-co-methylhydrogenpolysiloxane, ethylhydrogenpolysiloxane, and methylhydrogenpolysiloxane-co-methylphenylpolysiloxane. .. The number average molecular weight of the hydrogen side chain-containing organopolysiloxane is, for example, in the range of 100 to 1000000.

水素両末端オルガノポリシロキサンは、主鎖の両末端に水素原子を有するオルガノハイドロジェンシロキサンであり、例えばヒドロシリル基両末端ポリジメチルシロキサン、ヒドロシリル基両末端ポリメチルフェニルシロキサン、及びヒドロシリル基両末端ポリジフェニルシロキサンからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。水素両末端オルガノポリシロキサンの数平均分子量は、例えば100〜1000000の範囲内であり、好ましくは100〜100000の範囲内である。 Hydrogen-terminal organopolysiloxane is an organohydrogensiloxane having hydrogen atoms at both ends of the main chain, for example, hydrosilyl group both-terminal polydimethylsiloxane, hydrosilyl group both-terminal polymethylphenylsiloxane, and hydrosilyl group both-terminal polydiphenyl. It contains at least one component selected from the group consisting of siloxane. The number average molecular weight of the hydrogen-terminal organopolysiloxane is, for example, in the range of 100 to 1000000, preferably in the range of 100 to 100,000.

オルガノハイドロジェンシロキサンは、水素側鎖含有オルガノポリシロキサンを含有することが好ましく、ジメチルポリシロキサン−co−メチルハイドロジェンポリシロキサンを含有すれば更に好ましい。 The organohydrogensiloxane preferably contains a hydrogen side chain-containing organopolysiloxane, and more preferably contains dimethylpolysiloxane-co-methylhydrogenpolysiloxane.

オルガノハイドロジェンシロキサンの25℃におけるB型粘度計で測定される粘度は、例えば10〜100000mPa・sの範囲内であり、好ましくは20〜50000mPa・sの範囲内である。また、オルガノハイドロジェンシロキサンのヒドロシリル基当量は、例えば、0.1〜30mmol/gの範囲内であり、好ましくは1〜20mmol/gの範囲内である。 The viscosity of the organohydrogensiloxane measured by a B-type viscometer at 25 ° C. is, for example, in the range of 10 to 100,000 mPa · s, preferably in the range of 20 to 50,000 mPa · s. The hydrosilyl group equivalent of the organohydrogensiloxane is, for example, in the range of 0.1 to 30 mmol / g, preferably in the range of 1 to 20 mmol / g.

オルガノハイドロジェンシロキサンの量は、例えばエチレン系ケイ素化合物100質量部に対して10〜10000質量部の範囲内、好ましくは100〜1000質量部の範囲内である。また、オルガノハイドロジェンシロキサンのヒドロシリル基SiH基に対する、エチレン系ケイ素化合物のエチレン系不飽和炭化水素基R2のモル比の値は、例えば20/1〜0.05/1の範囲内、好ましくは20/1〜0.1/1の範囲内、更に好ましくは10/1〜0.1/1の範囲内、とりわけ好ましくは10/1〜0.2/1の範囲内、最も好ましくは5/1〜0.2/1の範囲内である。なお、モル比の値が1/1未満又は0.05/1以上であってもよい。 The amount of the organohydrogensiloxane is, for example, in the range of 10 to 10000 parts by mass, preferably in the range of 100 to 1000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ethylene-based silicon compound. The molar ratio of the ethylene-based unsaturated hydrocarbon group R 2 of the ethylene-based silicon compound to the hydrosilyl group SiH group of the organohydrogensiloxane is, for example, in the range of 20/1 to 0.05 / 1, preferably in the range of 20/1 to 0.05 / 1. Within the range of 20 / 1-0.1 / 1, more preferably within the range of 10 / 1-0.1 / 1, particularly preferably within the range of 10 / 1-0.2 / 1, most preferably 5 /. It is in the range of 1 to 0.2 / 1. The molar ratio value may be less than 1/1 or 0.05 / 1 or more.

縮合・付加反応硬化型シリコーン樹脂は、上記のシラノール基両末端ポリシロキサン、エチレン系ケイ素化合物、エポキシ基含有ケイ素化合物及びオルガノハイドロジェンシロキサンを、触媒とともに配合して、攪拌混合することにより調製される。 The condensation / addition reaction curable silicone resin is prepared by blending the above-mentioned silanol group-terminal polysiloxane, ethylene-based silicon compound, epoxy group-containing silicon compound and organohydrogensiloxane together with a catalyst and stirring and mixing. ..

触媒は、例えば縮合触媒と付加触媒(ヒドロシリル化触媒)とのうち少なくとも一方を含有する。 The catalyst contains, for example, at least one of a condensation catalyst and an addition catalyst (hydrosilylation catalyst).

縮合触媒は、シラノール基と反応性官能基であるSiX1基及びSiX2基との縮合反応を促進させる。縮合触媒は、例えば塩酸、酢酸、ギ酸、硫酸といった酸;水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウムといった塩基:並びにアルミニウム、チタン、亜鉛、スズといった金属からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。縮合触媒は塩基を含有することが好ましく、水酸化テトラメチルアンモニウムを含有すればより好ましい。縮合触媒の量は、シラノール基両末端ポリシロキサン100モルに対して、例えば、0.1〜50モルの範囲内、好ましくは0.5〜5モルの範囲内である。 The condensation catalyst promotes the condensation reaction between the silanol group and the 1 SiX group and 2 SiX groups which are reactive functional groups. The condensation catalyst is selected from the group consisting of acids such as hydrochloric acid, acetic acid, formic acid and sulfuric acid; bases such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium carbonate and tetramethylammonium hydroxide: and metals such as aluminum, titanium, zinc and tin. Contains at least one ingredient. The condensation catalyst preferably contains a base, and more preferably contains tetramethylammonium hydroxide. The amount of the condensation catalyst is, for example, in the range of 0.1 to 50 mol, preferably in the range of 0.5 to 5 mol, with respect to 100 mol of the silanol group-terminal polysiloxane.

付加触媒は、付加反応、つまりエチレン系不飽和炭化水素基とSiHとのヒドロシリル化反応を促進させる。付加触媒は、例えば白金黒、塩化白金、塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金一カルボニル錯体、白金−アセチルアセテートといった白金触媒、並びにパラジウム触媒、ロジウム触媒といった金属触媒からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。付加触媒は、白金触媒を含有することが好ましく、白金−カルボニル錯体を含有すれば更に好ましい。付加触媒の量は、オルガノハイドロジェンシロキサン100質量部に対して、付加触媒に含まれる金属量が例えば1.0×10-4〜1.0質量部の範囲内、好ましくは1.0×10-4〜0.5質量部の範囲内、更に好ましくは1.0×10-4〜0.05質量部の範囲内になる量である。 The addition catalyst promotes an addition reaction, that is, a hydrosilylation reaction between an ethylene-based unsaturated hydrocarbon group and SiH. The addition catalyst is at least selected from the group consisting of platinum catalysts such as platinum black, platinum chloride, platinum chloride acid, platinum-olefin complex, platinum monocarbonyl complex, platinum-acetylacetate, and metal catalysts such as palladium catalyst and rhodium catalyst. Contains a type of ingredient. The addition catalyst preferably contains a platinum catalyst, and more preferably contains a platinum-carbonyl complex. The amount of the addition catalyst is such that the amount of metal contained in the addition catalyst is in the range of, for example, 1.0 × 10 -4 to 1.0 part by mass, preferably 1.0 × 10 with respect to 100 parts by mass of organohydrogensiloxane. The amount is in the range of -4 to 0.5 parts by mass, more preferably 1.0 × 10 -4 to 0.05 parts by mass.

縮合・付加反応硬化型シリコーン樹脂を調製するには、上記の縮合原料及び付加原料と触媒とを配合し、必要に応じて加熱しながら混合する。触媒は、そのまま配合してもよく、取扱性の観点から溶媒に溶解又は分散させてから配合してもよい。溶媒は、例えば水、又はメタノール、エタノールなどのアルコールである。 In order to prepare a condensation / addition reaction curable silicone resin, the above-mentioned condensation raw material and additional raw material are mixed with a catalyst, and if necessary, they are mixed while being heated. The catalyst may be blended as it is, or may be blended after being dissolved or dispersed in a solvent from the viewpoint of handleability. The solvent is, for example, water or an alcohol such as methanol or ethanol.

ヘテロ原子含有変性シリコーン樹脂は、例えば、シラノール基両末端ポリシロキサンと、ヘテロ原子錯体とを含有する。 The heteroatom-containing modified silicone resin contains, for example, a silanol group-terminal polysiloxane and a heteroatom complex.

シラノール基両末端ポリシロキサンは、例えば、上記式(1)で示されるシラノール基両末端ポリシロキサンと同じでよい。 The silanol group-terminal polysiloxane may be, for example, the same as the silanol group-terminal polysiloxane represented by the above formula (1).

ヘテロ原子錯体は、例えばSi、O、C及びH以外のヘテロ原子の錯体である。ヘテロ原子錯体は、例えば下記式(5)で示される。 The heteroatom complex is, for example, a complex of heteroatoms other than Si, O, C and H. The heteroatom complex is represented by, for example, the following formula (5).

M−(OY)n …(5)
式(5)中、Mは、Si、O、C、H以外のヘテロ原子であり、例えばアルミニウム、チタンといった金属原子、ホウ素、又はリンである。Mは金属原子であることが好ましく、アルミニウムであれば更に好ましい。
M- (OY) n ... (5)
In formula (5), M is a heteroatom other than Si, O, C, and H, and is a metal atom such as aluminum or titanium, boron, or phosphorus. M is preferably a metal atom, and more preferably aluminum.

式(5)中、Yは、水素原子、1価の飽和炭化水素基又は1価の芳香族炭化水素基である。より具体的には、Yは、例えば水素原子;メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基といった、炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基といった、炭素数3〜6のシクロアルキル基;又はフェニル基、ナフチル基といった、炭素数6〜10のアリール基である。Yは、1価の飽和炭化水素基であることが好ましく、炭素数1〜6のアルキル基であればより好ましく、イソプロピル基であれば特に好ましい。 In formula (5), Y is a hydrogen atom, a monovalent saturated hydrocarbon group or a monovalent aromatic hydrocarbon group. More specifically, Y is a linear or branched hydrogen atom having 1 to 6 carbon atoms, such as a hydrogen atom; a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a pentyl group, or a hexyl group. Alkyl group; cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms such as cyclopentyl group and cyclohexyl group; or aryl group having 6 to 10 carbon atoms such as phenyl group and naphthyl group. Y is preferably a monovalent saturated hydrocarbon group, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably an isopropyl group.

式(5)中、nは、ヘテロ原子の価数と同じ数である。nは、例えば、1〜6の範囲内の整数であり、好ましくは3〜5の範囲内の整数である。 In formula (5), n is the same number as the valence of the heteroatom. n is, for example, an integer in the range of 1 to 6, preferably an integer in the range of 3 to 5.

ヘテロ原子錯体は、例えば、アルミニウムアルコシド、チタンアルコキシド、ホウ素アルコキシド、及びリンアルコキシドからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。ヘテロ原子錯体は、アルミニウムアルコシドを含有することが好ましく、アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリプロポキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、及びアルミニウムトリブトキシドからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有すればより好ましく、アルミニウムトリイソプロポキシドを含有すれば特に好ましい。 Heteroatom complexes contain, for example, at least one component selected from the group consisting of aluminum alkoxides, titanium alkoxides, boron alkoxides, and phosphorus alkoxides. The heteroatomic complex preferably contains an aluminum alcoside and is at least one selected from the group consisting of aluminum trimethoxydo, aluminum triethoxydo, aluminum tripropoxide, aluminum triisopropoxide, and aluminum tributoxide. It is more preferable if it contains a component, and it is particularly preferable that it contains aluminum triisopropoxide.

ヘテロ原子錯体の量は、シラノール基両末端ポリシロキサン100質量部に対して、例えば0.01〜20質量部の範囲内であり、好ましくは0.1〜10質量部の範囲内である。 The amount of the heteroatom complex is, for example, in the range of 0.01 to 20 parts by mass, preferably in the range of 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silanol group-terminal polysiloxane.

ヘテロ原子含有変性シリコーン樹脂は、例えばシラノール基両末端ポリシロキサン及びヘテロ原子錯体を配合して、それらを室温で攪拌混合することにより調製される。 The heteroatom-containing modified silicone resin is prepared, for example, by blending a silanol group-terminal polysiloxane and a heteroatom complex and stirring and mixing them at room temperature.

充填材について説明する。 The filler will be described.

本実施形態では、充填材は無機充填材を含有し、無機充填材はシリカ粉を含有する。すなわち、組成物(X)はシリカ粉を含有する。 In the present embodiment, the filler contains an inorganic filler, and the inorganic filler contains silica powder. That is, the composition (X) contains silica powder.

上記の通り、シリカ粉の平均粒径は9〜25μmの範囲内である。また、シリカ粉中の、粒径6μm以下の粒子の割合は、25〜40体積%の範囲内である。シリカ粉の平均粒径が25μm以下であることでリフレクタ3と粗化面8との間の密着性を向上できる。また、シリカ粉の平均粒径が9μm以上であることで、組成物(X)の良好な成形性を確保できる。また、シリカ粉中の粒径6μm以下の粒子の割合が40体積%以下であることでリフレクタ3と粗化面8との間の密着性を向上できる。また、この割合が25体積%以上であることで組成物(X)の良好な成形性を確保できる。 As described above, the average particle size of the silica powder is in the range of 9 to 25 μm. The proportion of particles having a particle size of 6 μm or less in the silica powder is in the range of 25 to 40% by volume. When the average particle size of the silica powder is 25 μm or less, the adhesion between the reflector 3 and the roughened surface 8 can be improved. Further, when the average particle size of the silica powder is 9 μm or more, good moldability of the composition (X) can be ensured. Further, when the proportion of particles having a particle size of 6 μm or less in the silica powder is 40% by volume or less, the adhesion between the reflector 3 and the roughened surface 8 can be improved. Further, when this ratio is 25% by volume or more, good moldability of the composition (X) can be ensured.

なお。シリカ粉の平均粒径は、レーザ回折散乱法で測定されるシリカ粉の粒度分布の測定結果から算出される、体積基準の算術平均径である。また、シリカ粉中の、粒径6μm以下の粒子の割合は、レーザ回折散乱法で測定されるシリカ粉の粒度分布の測定結果から算出される。 note that. The average particle size of the silica powder is a volume-based arithmetic mean diameter calculated from the measurement result of the particle size distribution of the silica powder measured by the laser diffraction scattering method. The proportion of particles having a particle size of 6 μm or less in the silica powder is calculated from the measurement result of the particle size distribution of the silica powder measured by the laser diffraction / scattering method.

組成物(X)全体に対するシリカ粉の量は、10〜75質量%の範囲内であることが好ましい。この場合、リフレクタ3とリードフレーム4との間の密着性が特に高くなる。このシリカ粉の量は、15〜70質量%の範囲内であればより好ましい。 The amount of silica powder with respect to the entire composition (X) is preferably in the range of 10 to 75% by mass. In this case, the adhesion between the reflector 3 and the lead frame 4 is particularly high. The amount of the silica powder is more preferably in the range of 15 to 70% by mass.

シリカ粉は、特に非晶質の溶融シリカを含有することが好ましい。この場合、リードフレーム4とリフレクタ3との密着性は特に高くなる。シリカ粉は、非晶質の溶融シリカと破砕状シリカとを含有してもよい。この場合、破砕状シリカの粒子が粗化面8に突き刺さりやすくなることでリードフレーム4とリフレクタ3との密着性が更に高くなることができる。また溶融シリカの粒子の間の隙間を破砕状シリカの粒子が埋めることで、リフレクタ3の白色度が更に高くなる。 The silica powder preferably contains amorphous molten silica. In this case, the adhesion between the lead frame 4 and the reflector 3 is particularly high. The silica powder may contain amorphous molten silica and crushed silica. In this case, the crushed silica particles are likely to pierce the roughened surface 8, so that the adhesion between the lead frame 4 and the reflector 3 can be further improved. Further, the whiteness of the reflector 3 is further increased by filling the gaps between the molten silica particles with the crushed silica particles.

充填材は、シリカ粉以外の成分を含有してもよい。 The filler may contain components other than silica powder.

特に、充填材が、白色顔料を含有することが好ましい。すなわち、組成物(X)は、白色顔料を含有することが好ましい。白色顔料は、組成物(X)から作製される成形体であるリフレクタ3に良好な光反射性を付与できる。白色顔料は、例えば酸化チタン、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、及び炭酸バリウムからなる群から選択される少なくとも一種の材料を含有できる。 In particular, it is preferable that the filler contains a white pigment. That is, the composition (X) preferably contains a white pigment. The white pigment can impart good light reflectivity to the reflector 3 which is a molded product produced from the composition (X). The white pigment contains, for example, at least one material selected from the group consisting of titanium oxide, barium titanate, strontium titanate, aluminum oxide, magnesium oxide, zinc oxide, zinc sulfide, barium sulfate, magnesium carbonate, and barium carbonate. can.

特に、白色顔料が、酸化チタン、チタン酸バリウム、硫酸バリウム、酸化亜鉛、及び硫化亜鉛からなる群から選択される少なくとも一種の材料を含有することが好ましい。白色顔料が酸化亜鉛を含有すると、成形品の熱伝導率が特に高くなるため好ましい。白色顔料が、熱伝導率の高い酸化アルミニウムを含有することも好ましい。 In particular, the white pigment preferably contains at least one material selected from the group consisting of titanium oxide, barium titanate, barium sulfate, zinc oxide, and zinc sulfide. When the white pigment contains zinc oxide, the thermal conductivity of the molded product is particularly high, which is preferable. It is also preferable that the white pigment contains aluminum oxide having high thermal conductivity.

白色顔料が酸化チタンを含有する場合、酸化チタンは、例えばアナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、及びブルサイト型酸化チタンからなる群から選択される少なくとも一種の材料を含有できる。特に、ルチル型酸化チタンは熱安定性に優れているため、酸化チタンが、ルチル型酸化チタンを含有することが好ましい。 When the white pigment contains titanium oxide, the titanium oxide can contain at least one material selected from the group consisting of, for example, anatase-type titanium oxide, rutile-type titanium oxide, and blusite-type titanium oxide. In particular, since rutile-type titanium oxide is excellent in thermal stability, it is preferable that the rutile-type titanium oxide contains rutile-type titanium oxide.

白色顔料は、脂肪酸、カップリング剤等で表面処理されていてもよい。この場合、白色顔料の凝集、吸油等が抑制され、組成物(X)内での白色顔料の充填性が高くなる。 The white pigment may be surface-treated with a fatty acid, a coupling agent or the like. In this case, aggregation of the white pigment, oil absorption, and the like are suppressed, and the filling property of the white pigment in the composition (X) is improved.

白色顔料の平均粒径は、2.0μm以下であることが好ましい。また、この平均粒径は、0.01μm以上であることが好ましい。この平均粒径は、0.03〜1.0μmの範囲内であることが更に好ましく、0.1〜0.7μmの範囲内であることがより好ましい。さらに、平均粒径は0.2〜0.5μmの範囲内であることが好ましい。なお、白色顔料の平均粒径は、レーザ回折散乱法で測定される粒度分布から算出される体積基準の算術平均径である。 The average particle size of the white pigment is preferably 2.0 μm or less. The average particle size is preferably 0.01 μm or more. The average particle size is more preferably in the range of 0.03 to 1.0 μm, and more preferably in the range of 0.1 to 0.7 μm. Further, the average particle size is preferably in the range of 0.2 to 0.5 μm. The average particle size of the white pigment is a volume-based arithmetic mean diameter calculated from the particle size distribution measured by the laser diffraction / scattering method.

組成物(X)に対する白色顔料の量が15〜40質量%の範囲内であることが好ましい。この場合、成形品の耐熱変色性が特に高くなるとともに、成形品の光反射性も特に高くなる。 The amount of the white pigment with respect to the composition (X) is preferably in the range of 15 to 40% by mass. In this case, the heat-resistant discoloration property of the molded product is particularly high, and the light reflectivity of the molded product is also particularly high.

無機充填材は、シリカ粉以外の材料を更に含有してもよい。この場合、シリカ粉以外の材料として適切な材料を選択することにより、リフレクタ3などの成形品の光反射性を更に高めるとともに、成形品の形状安定性を更に高くできる。また、シリカ粉以外の材料として適切な材料を選択することにより、成形品の熱伝導率を高めることもできる。それにより、成形品の熱による変色、劣化等が、更に抑制される。 The inorganic filler may further contain a material other than silica powder. In this case, by selecting an appropriate material as the material other than the silica powder, the light reflectivity of the molded product such as the reflector 3 can be further enhanced, and the shape stability of the molded product can be further enhanced. In addition, the thermal conductivity of the molded product can be increased by selecting an appropriate material other than the silica powder. As a result, discoloration, deterioration, etc. due to heat of the molded product are further suppressed.

シリカ粉以外の材料は、例えば炭酸カルシウム、水酸化カルシウム、水酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、マイカ、及び中空ガラス粒子からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。 Materials other than silica powder contain at least one component selected from the group consisting of, for example, calcium carbonate, calcium hydroxide, aluminum hydroxide, aluminum nitride, silicon nitride, boron nitride, mica, and hollow glass particles.

シリカ粉以外の材料の平均粒径は、100μm以下であることが好ましい。この場合、組成物(X)の成形性が特に良好になるとともに、成形品の耐熱変色性及び耐湿性が特に高くなる。また、この平均粒径は、0.1μm以上であることが好ましい。この場合、組成物(X)の取扱い性が良好になる。無機充填材の平均粒径は、80μm以下であればより好ましく、50μm以下であれば更に好ましい。また、シリカ粉以外の材料の平均粒径は、0.3μm以上であればより好ましい。さらに、シリカ粉以外の材料の平均粒径が8〜20μmの範囲内であれば、組成物(X)の射出成形性が特に良好になる。なお、シリカ粉以外の材料の平均粒径は、レーザ回折散乱法で測定される粒度分布から算出される体積基準の算術平均径である。 The average particle size of the material other than the silica powder is preferably 100 μm or less. In this case, the moldability of the composition (X) is particularly good, and the heat-resistant discoloration and moisture resistance of the molded product are particularly high. The average particle size is preferably 0.1 μm or more. In this case, the handleability of the composition (X) is improved. The average particle size of the inorganic filler is more preferably 80 μm or less, and even more preferably 50 μm or less. Further, the average particle size of the material other than the silica powder is more preferably 0.3 μm or more. Further, when the average particle size of the material other than the silica powder is in the range of 8 to 20 μm, the injection moldability of the composition (X) becomes particularly good. The average particle size of the material other than the silica powder is a volume-based arithmetic mean diameter calculated from the particle size distribution measured by the laser diffraction / scattering method.

組成物(X)中の全成形用樹脂に対するシリカ粉と無機充填材との合計量は、40質量%以上であることが好ましい。この場合、成形品の形状安定性が特に高くなる。また、この合計量は、300質量%以下であることが好ましい。この場合、組成物(X)の成形性が特に高くなる。この合計量は、50〜250質量%の範囲内であれば、特に好ましい。 The total amount of the silica powder and the inorganic filler with respect to the total molding resin in the composition (X) is preferably 40% by mass or more. In this case, the shape stability of the molded product is particularly high. Further, the total amount is preferably 300% by mass or less. In this case, the moldability of the composition (X) becomes particularly high. This total amount is particularly preferable as long as it is in the range of 50 to 250% by mass.

充填材に対する白色顔料の量は、30質量%以上であることが好ましい。この場合、リフレクタ3の光反射性が特に高くなる。この量は、95質量%以下であることが好ましい。この量は、35〜90質量%の範囲内であればより好ましく、40〜85質量%の範囲内であれば更に好ましい。 The amount of the white pigment with respect to the filler is preferably 30% by mass or more. In this case, the light reflectivity of the reflector 3 becomes particularly high. This amount is preferably 95% by mass or less. This amount is more preferably in the range of 35 to 90% by mass, and even more preferably in the range of 40 to 85% by mass.

組成物(X)中の全成形用樹脂に対する充填材の量は、500質量%以下であることが好ましい。この場合、成形時に組成物(X)の流動性が特に高くなる。この充填材は、100質量%以上であることが好ましい。この場合、リフレクタ3などの成形品の光反射性が特に高くなる。この充填材の量は、100〜400質量%の範囲内であればより好ましく、200〜300質量%の範囲内であれば更に好ましい。 The amount of the filler in the composition (X) with respect to the total molding resin is preferably 500% by mass or less. In this case, the fluidity of the composition (X) becomes particularly high during molding. The filler is preferably 100% by mass or more. In this case, the light reflectivity of the molded product such as the reflector 3 becomes particularly high. The amount of the filler is more preferably in the range of 100 to 400% by mass, and even more preferably in the range of 200 to 300% by mass.

充填材は、繊維状充填材を含有してもよい。充填材が繊維状充填材を含有すると、成形時に組成物(X)の硬化収縮が抑制されるとともに、リフレクタ3の強度が高くなり、更にリフレクタ3の寸法安定性が高くなる。 The filler may contain a fibrous filler. When the filler contains the fibrous filler, the curing shrinkage of the composition (X) is suppressed during molding, the strength of the reflector 3 is increased, and the dimensional stability of the reflector 3 is further enhanced.

組成物(X)中の全成形用樹脂に対する繊維状充填材の量は、10〜200質量%の範囲内であることが好ましい。この場合、成形時に組成物(X)の硬化収縮が特に抑制されるとともに、成形品の強度が特に高くなる。この繊維状充填材の量は、20〜100質量%の範囲内であればより好ましく、30〜80質量%の範囲内であれば更に好ましい。 The amount of the fibrous filler in the composition (X) with respect to the total molding resin is preferably in the range of 10 to 200% by mass. In this case, the curing shrinkage of the composition (X) is particularly suppressed during molding, and the strength of the molded product is particularly high. The amount of the fibrous filler is more preferably in the range of 20 to 100% by mass, and even more preferably in the range of 30 to 80% by mass.

繊維状充填材の平均繊維径は6〜12μmの範囲内であることが好ましく、6〜8μmの範囲内であれば更に好ましい。この場合、成形品の強度が特に高くなる。繊維状充填材の平均繊維長は100〜300μmの範囲内であることが好ましく、150〜250μmの範囲であれば更に好ましい。この場合、成形品の強度が特に向上するとともにその光反射率も特に向上する。繊維状充填材の平均繊維径及び平均繊維長は、それぞれ、繊維状充填材中の繊維の電子顕微鏡写真を画像処理することで得られる繊維径及び繊維長の算術平均値である。 The average fiber diameter of the fibrous filler is preferably in the range of 6 to 12 μm, and more preferably in the range of 6 to 8 μm. In this case, the strength of the molded product is particularly high. The average fiber length of the fibrous filler is preferably in the range of 100 to 300 μm, more preferably in the range of 150 to 250 μm. In this case, the strength of the molded product is particularly improved, and the light reflectance thereof is also particularly improved. The average fiber diameter and average fiber length of the fibrous filler are arithmetic average values of the fiber diameter and fiber length obtained by image-processing the electron micrographs of the fibers in the fibrous filler, respectively.

繊維状充填材は、例えば、ガラス繊維、ビニロン繊維、アラミド繊維、ポリエステル繊維、ワラストナイト、チタン酸カリウムウィスカー、炭酸カルシウムなどの炭酸塩のウィスカー、及びハイドロタルサイトからなる群から選択される少なくとも一種の材料を含有できる。特に、繊維状充填材が、ガラス繊維を含有することが好ましい。 The fibrous filler is selected from the group consisting of, for example, glass fiber, vinylon fiber, aramid fiber, polyester fiber, wallastnite, potassium titanate whiskers, whiskers of carbonates such as calcium carbonate, and hydrotalcite. Can contain a kind of material. In particular, the fibrous filler preferably contains glass fibers.

ガラス繊維は、例えばケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラスを原料とするEガラス(電気用無アルカリガラス)、Cガラス(化学用含アルカリガラス)、Aガラス(耐酸用ガラス)、Sガラス(高強度ガラス)等のガラス繊維からなる群から選択される少なくとも一種の材料を含有できる。ガラス繊維は、長繊維(ロービング)であっても、短繊維(チョップドストランド)であってもよい。ガラス繊維には収束剤などで表面処理が施されていてもよい。 The glass fibers include, for example, silicate glass, E glass (non-alkali glass for electricity), C glass (alkali-containing glass for chemicals), A glass (acid resistant glass), and S glass (high-strength glass) made from silicate glass. ) And the like, which can contain at least one material selected from the group consisting of glass fibers. The glass fiber may be a long fiber (roving) or a short fiber (chopped strand). The glass fiber may be surface-treated with a converging agent or the like.

繊維状充填材の量は、組成物(X)に対して3〜20質量%の範囲内であることが好ましく、5〜15質量%の範囲内であれば更に好ましい。これらの場合、セパレータの曲げ強度が特に向上する。さらに、これらの場合、材料収縮率を低下させることができる。すなわち、温度サイクル試験などで、セパレータのクラックの発生が抑制される。 The amount of the fibrous filler is preferably in the range of 3 to 20% by mass, more preferably in the range of 5 to 15% by mass with respect to the composition (X). In these cases, the bending strength of the separator is particularly improved. Furthermore, in these cases, the material shrinkage rate can be reduced. That is, the occurrence of cracks in the separator is suppressed in a temperature cycle test or the like.

組成物(X)に対する充填材の量は、20〜90質量%の範囲内であることが好ましい。この範囲において、成形時に組成物(X)の優れた流動性が確保される。 The amount of the filler with respect to the composition (X) is preferably in the range of 20 to 90% by mass. In this range, excellent fluidity of the composition (X) is ensured during molding.

組成物(X)は、シランカップリング剤を含有することが好ましい。組成物(X)がシランカップリング剤を含有すると、リフレクタ3とリードフレーム4との間の密着性が特に高くなる。 The composition (X) preferably contains a silane coupling agent. When the composition (X) contains a silane coupling agent, the adhesion between the reflector 3 and the lead frame 4 becomes particularly high.

シランカップリング剤は、例えばアミノシラン、エポキシシラン、メタクリルシラン、ビニルシラン、メルカプトシラン及びイソシアネートシランからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。シランカップリング剤は、エポキシシラン、メタクリルシラン及びビニルシラからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することが好ましく、エポキシシラン、メタクリルシランのうち少なくとも一方を含有すればより好ましく、エポキシシランを含有すれば更に好ましい。これらの成分は、リフレクタ3とリードフレーム4との間の密着性を特に向上させることができる。また、シランカップリング剤は、メタクリルシランとビニルシランのうち少なくとも一方を含有することも好ましい。この場合、リフレクタ3の耐熱変色性を向上できる。リフレクタ3とリードフレーム4との間の密着性の向上とリフレクタ3の耐熱変色性の向上とをバランス良く達成するためには、シランカップリング剤はメタクリルシランを含有することが好ましい。 The silane coupling agent contains at least one component selected from the group consisting of, for example, aminosilane, epoxysilane, methacrylsilane, vinylsilane, mercaptosilane and isocyanatesilane. The silane coupling agent preferably contains at least one component selected from the group consisting of epoxysilane, methacrylsilane and vinylsila, and more preferably contains at least one of epoxysilane and methacrylsilane. It is more preferable if it is contained. These components can particularly improve the adhesion between the reflector 3 and the lead frame 4. Further, the silane coupling agent preferably contains at least one of methacrylsilane and vinylsilane. In this case, the heat-resistant discoloration property of the reflector 3 can be improved. In order to achieve a good balance between the improvement of the adhesion between the reflector 3 and the lead frame 4 and the improvement of the heat-resistant discoloration property of the reflector 3, the silane coupling agent preferably contains methacrylsilane.

シランカップリング剤の量は、無機充填材と白色顔料との合計量に対して0.3〜1質量%の範囲内であることが好ましい。シランカップリング剤の量が0.3質量%以上であると、リフレクタ3とリードフレーム4との間の密着性が特に高くなる。また、シランカップリング剤の量が1質量%以下であると、カップリング剤に起因するリフレクタ3の変色が抑制されるとともに、組成物(X)を成形する際に組成物(X)からのカップリング剤の揮発が抑制されて良好な連続成形性が確保できる。 The amount of the silane coupling agent is preferably in the range of 0.3 to 1% by mass with respect to the total amount of the inorganic filler and the white pigment. When the amount of the silane coupling agent is 0.3% by mass or more, the adhesion between the reflector 3 and the lead frame 4 becomes particularly high. Further, when the amount of the silane coupling agent is 1% by mass or less, discoloration of the reflector 3 due to the coupling agent is suppressed, and when the composition (X) is molded, the composition (X) is removed from the composition (X). Volatilization of the coupling agent is suppressed and good continuous moldability can be ensured.

なお、シランカップリング剤が組成物(X)中に分散していてもよく、無機充填材及び白色顔料のうち少なくとも一部がシランカップリング剤で処理されることで組成物(X)がシランカップリング剤を含んでもよい。 The silane coupling agent may be dispersed in the composition (X), and at least a part of the inorganic filler and the white pigment is treated with the silane coupling agent to make the composition (X) silane. Coupling agents may be included.

組成物(X)は、酸化防止剤を含有することが好ましい。この場合、成形品の変色が更に抑制され、成形品の経時的な光反射性の低下が、更に生じにくくなる。酸化防止剤は、例えばフェノール系酸化防止剤及びリン系酸化防止剤のうち少なくとも一方を含有できる。酸化防止剤は、発色団を生成する化合物を含有しないことが好ましい。 The composition (X) preferably contains an antioxidant. In this case, the discoloration of the molded product is further suppressed, and the deterioration of the light reflectivity of the molded product with time is less likely to occur. The antioxidant may contain, for example, at least one of a phenolic antioxidant and a phosphorus-based antioxidant. It is preferable that the antioxidant does not contain a compound that produces a chromophore.

組成物(X)は、特にリン系酸化防止剤を含有することが好ましい。この場合、成形品の、加工時の黄変及び経時的な黄変が、更に抑制され、これにより成形品の光反射率の低下が更に抑制される。特に組成物(X)がトリグリシジルイソシアヌラートを含有する場合に、更にリン系酸化防止剤も含有すると、成形品の光反射率の低下が、大幅に抑制される。 The composition (X) preferably contains a phosphorus-based antioxidant. In this case, the yellowing of the molded product during processing and the yellowing over time are further suppressed, whereby the decrease in the light reflectance of the molded product is further suppressed. In particular, when the composition (X) contains triglycidyl isocyanurate, and further containing a phosphorus-based antioxidant, the decrease in light reflectance of the molded product is significantly suppressed.

リン系酸化防止剤は、例えば9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、3,9−ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト及びジステアリルペンタエリスリトール−ジ−ホスファイトからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。組成物(X)に対するリン系酸化防止剤の量は0.1〜0.5質量%の範囲内であることが好ましい。 Phosphoric antioxidants include, for example, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 3,9-bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy)-. Selected from the group consisting of 2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro [5.5] undecane, bis (nonylphenyl) pentaerythritol-di-phosphite and distearyl pentaerythritol-di-phosphite. Can contain at least one compound. The amount of the phosphorus-based antioxidant with respect to the composition (X) is preferably in the range of 0.1 to 0.5% by mass.

組成物(X)は、硫黄系酸化防止剤を含有することも好ましい。硫黄系酸化防止剤の具体例としては、株式会社ADEKA製の品名アデカスタブAO−412Sが挙げられる。組成物(X)に対する硫黄系酸化防止剤の量は、0.5質量%以下であることが好ましく、0.01〜0.5質量%の範囲内であれば更に好ましい。 The composition (X) also preferably contains a sulfur-based antioxidant. Specific examples of the sulfur-based antioxidant include ADEKA CORPORATION's product name ADEKA STAB AO-412S. The amount of the sulfur-based antioxidant with respect to the composition (X) is preferably 0.5% by mass or less, and more preferably in the range of 0.01 to 0.5% by mass.

組成物(X)は、離型剤を含有してもよい。離型剤は、例えば一般的な脂肪酸系ワックス、脂肪酸金属塩系ワックス、及び鉱物系ワックスからなる群から選択される少なくとも一種の材料を含有できる。特に、離型剤は、耐熱変色性に優れた脂肪酸系ワックスと脂肪酸金属塩系ワックスとのうち少なくとも一方を含有することが好ましい。 The composition (X) may contain a release agent. The release agent can contain, for example, at least one material selected from the group consisting of general fatty acid-based waxes, fatty acid metal salt-based waxes, and mineral-based waxes. In particular, the release agent preferably contains at least one of a fatty acid-based wax and a fatty acid metal salt-based wax, which are excellent in heat-resistant discoloration.

離型剤は、特にステアリン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸アルミニウム、及びステアリン酸カルシウムからなる群から選択される少なくとも一種の材料を含有することが好ましい。 The release agent preferably contains at least one material selected from the group consisting of stearic acid, zinc stearate, aluminum stearate, and calcium stearate.

組成物(X)中の成形用樹脂100質量部に対する離型剤の量は、1〜15質量部の範囲内であることが好ましい。この場合、成形時の成形品の良好な離型性と成形品の優れた外観とが両立するとともに、成形品の光反射性が特に高くなる。 The amount of the mold release agent with respect to 100 parts by mass of the molding resin in the composition (X) is preferably in the range of 1 to 15 parts by mass. In this case, good releasability of the molded product at the time of molding and excellent appearance of the molded product are compatible, and the light reflectivity of the molded product is particularly high.

なお、組成物(X)は、上記成分以外に、着色剤、増粘剤、難燃剤、可撓性付与剤等の、適宜の添加剤を含有してもよい。 In addition to the above components, the composition (X) may contain appropriate additives such as a colorant, a thickener, a flame retardant, and a flexibility-imparting agent.

組成物(X)の調製に当たっては、例えばまず、上記のような原料を所定の割合で配合し、ミキサー、ブレンダー等の混合機で混合することで、混合物を調製する。この混合物を加熱加圧可能な混練機、押出機等で混練する。混練機として、加圧ニーダー、熱ロール、エクストルーダー等を用いることができる。混練時の加熱温度は、例えば80〜120℃の範囲内である。続いて混合物のバルク体を粉砕、整粒し、あるいは更に必要に応じて造粒することで、粒状、粉末状、ペレット状等の組成物(X)が得られる。 In preparing the composition (X), for example, first, the above-mentioned raw materials are mixed in a predetermined ratio and mixed with a mixer such as a mixer or a blender to prepare a mixture. This mixture is kneaded with a kneader, an extruder or the like capable of heating and pressurizing. As the kneader, a pressure kneader, a heat roll, an extruder and the like can be used. The heating temperature during kneading is, for example, in the range of 80 to 120 ° C. Subsequently, the bulk body of the mixture is pulverized, sized, or further granulated as necessary to obtain a composition (X) in the form of granules, powder, pellets, or the like.

リフレクタ3は、例えば組成物(X)を成形して硬化させることで、作製される。組成物(X)の成形方法として、射出成形法、射出圧縮成形法、トランスファ成形法等の適宜の溶融加熱成形法が適用可能である。組成物(X)の組成にもよるが、特に、低コストで量産が容易なトランスファ成形法が適用されることが好ましい。トランスファ成形法における成形条件は、例えば成形型温度が130〜180℃の範囲内、トランスファ圧力が5〜20MPaの範囲内、硬化時間が30〜300秒、好ましくは30〜180秒の範囲内である。必要に応じてポストキュア処理が施されてもよい。 The reflector 3 is produced, for example, by molding and curing the composition (X). As a molding method for the composition (X), an appropriate melt heating molding method such as an injection molding method, an injection compression molding method, or a transfer molding method can be applied. Although it depends on the composition of the composition (X), it is particularly preferable to apply a transfer molding method which is low in cost and easy to mass-produce. The molding conditions in the transfer molding method are, for example, a molding temperature in the range of 130 to 180 ° C., a transfer pressure in the range of 5 to 20 MPa, and a curing time in the range of 30 to 300 seconds, preferably 30 to 180 seconds. .. Post-cure treatment may be applied if necessary.

リフレクタ3を作製する場合、インサート成形によってリフレクタ3にリードフレーム4を埋め込むことが好ましい。すなわち、金型にリードフレーム4をセットした状態で、この金型を用いて適宜の溶融加熱成形法でリフレクタ3を作製することが好ましい。これにより、リードフレーム4とリフレクタ3とを備えるベース2を作製できる。 When producing the reflector 3, it is preferable to embed the lead frame 4 in the reflector 3 by insert molding. That is, it is preferable to manufacture the reflector 3 by an appropriate melt heating molding method using this mold with the lead frame 4 set in the mold. As a result, the base 2 including the lead frame 4 and the reflector 3 can be manufactured.

発光素子5は、例えば発光ダイオードであるが、これに限られず、例えばレーザダイオードでもよい。発光素子5は、例えば凹所21の底面における第一のリード41上にダイボンディングされることで、凹所21内に搭載される。上述の通り、本実施形態では、発光素子5は、ワイヤー71,72で第一のリード41及び第二のリード42と電気的に接続される。ワイヤー71,72の直径は例えば直径25〜35μmの範囲内であり、その材質は例えばアルミニウム、銅、白金又は金である。 The light emitting element 5 is, for example, a light emitting diode, but is not limited to this, and may be, for example, a laser diode. The light emitting element 5 is mounted in the recess 21 by being die-bonded on the first lead 41 on the bottom surface of the recess 21, for example. As described above, in the present embodiment, the light emitting element 5 is electrically connected to the first lead 41 and the second lead 42 by the wires 71 and 72. The diameters of the wires 71 and 72 are, for example, in the range of 25 to 35 μm in diameter, and the material thereof is, for example, aluminum, copper, platinum or gold.

封止材6は、例えば流動性を有する反応硬化性の樹脂組成物(以下、組成物(Y)という)から作製される。組成物(Y)は例えば熱硬化性を有するが、光硬化性を有してもよい。 The encapsulant 6 is produced from, for example, a fluid reaction-curable resin composition (hereinafter referred to as composition (Y)). The composition (Y) has, for example, thermosetting, but may also have photocurability.

組成物(Y)が熱硬化性を有する場合、組成物(Y)は例えば熱硬化性のシリコーン樹脂を含有する。このシリコーン樹脂は、上述の組成物(X)に含有されうるシリコーン樹脂と同じでよい。なお、組成物(Y)は、シリコーン樹脂以外の熱硬化性の樹脂を含有してもよい。 When the composition (Y) is thermosetting, the composition (Y) contains, for example, a thermosetting silicone resin. This silicone resin may be the same as the silicone resin that can be contained in the composition (X) described above. The composition (Y) may contain a thermosetting resin other than the silicone resin.

組成物(X)は、蛍光物質を含有することが好ましい。この場合、蛍光物質を含有する封止材6を作製できる。封止材6が蛍光物質を含有すると、発光素子5が発する光の一部が、封止材6を通過する際に蛍光物質で波長変換される。このため、発光装置1の発光色を蛍光物質で制御できる。蛍光物質は、例えばYAG:Ce、又はEuとCrのうち少なくとも一方で賦活された窒素含有CaO−Al23−SiO2であるが、これに限られない。 The composition (X) preferably contains a fluorescent substance. In this case, a sealing material 6 containing a fluorescent substance can be produced. When the encapsulant 6 contains a fluorescent substance, a part of the light emitted by the light emitting element 5 is wavelength-converted by the fluorescent substance when passing through the encapsulant 6. Therefore, the emission color of the light emitting device 1 can be controlled by the fluorescent substance. Fluorescent material, for example YAG: Ce, or of Eu and Cr is a nitrogen-containing CaO-Al 2 O 3 -SiO 2, which is activated with at least one, but not limited thereto.

封止材6を作製する場合、まず組成物(Y)を凹所21内に充填する。このとき、リフレクタ3とリードフレーム4との間の密着性が低いと組成物(Y)中の樹脂、蛍光物質などの成分が凹所21から漏出するおそれがある。しかし、本実施形態では、リフレクタ3とリードフレーム4との間の密着性が高いため、凹所21からの組成物(Y)中の成分の漏出が抑制される。 When producing the sealing material 6, the composition (Y) is first filled in the recess 21. At this time, if the adhesion between the reflector 3 and the lead frame 4 is low, components such as the resin and the fluorescent substance in the composition (Y) may leak from the recess 21. However, in the present embodiment, since the adhesion between the reflector 3 and the lead frame 4 is high, leakage of the component in the composition (Y) from the recess 21 is suppressed.

続いて、凹所21内の組成物(Y)を、組成物(Y)の組成に応じた方法で硬化させる。例えば組成物(Y)が熱硬化性を有する場合は、組成物(Y)を加熱することで硬化させる。これにより、封止材6が作製される。 Subsequently, the composition (Y) in the recess 21 is cured by a method according to the composition of the composition (Y). For example, when the composition (Y) has thermosetting property, the composition (Y) is cured by heating. As a result, the sealing material 6 is produced.

以下、本発明の具体的な実施例を提示する。 Hereinafter, specific examples of the present invention will be presented.

(1)組成物の調製
表の「樹脂成分組成」の欄に示す原料を樹脂成分として準備するとともに、「充填材組成」の欄に示す原料を充填材成分として準備した。樹脂成分と充填材成分とを、全原料に対する充填材成分の合計量が「成形材料中の充填材の割合」の欄に示す値になるように配合して、配合物を得た。配合物を、シグマブレンダーを用いて均一に混合した後、100℃に加熱した熱ロールで混練することで、シート状の混練物を調製した。この混練物を冷却・粉砕・整粒した。これにより、粒状の樹脂組成物を調製した。
なお、原料の詳細は次の通りである。
・不飽和ポリエステル:テレフタル酸系不飽和ポリエステル、日本ユピカ製、品名ユピカ8552、軟化点50℃以上。
・架橋剤:ジアリルフタレートモノマー、ダイソー株式会社製、品名ダップモノマー、分子量246.3、30℃での粘度8.5mPa・s、ヨウ素価202、常温で液体、沸点290℃。
・重合開始剤:ジクミルパーオキサイド、日油株式会社製、1分半減期温度179℃。
・離型剤:ステアリン酸亜鉛、堺化学工業株式会社製、品名SZ−P。
・酸化防止剤1:フェノール系酸化防止剤、株式会社ADEKA製、品名アデカスタブAO−80。
・酸化防止剤2:リン系酸化防止剤、株式会社ADEKA製、品名アデカスタブPEP−36。
・酸化防止剤3:硫黄系酸化防止剤、株式会社ADEKA製、品名アデカスタブAO−412S。
・シリコーン樹脂1:東レ・ダウコーン社製、品番OE6351A。
・シリコーン樹脂2:東レ・ダウコーン社製、品番OE6351B。
・シリコーン樹脂3:東レ・ダウコーン社製、品番OE6652A。
・シリコーン樹脂4:東レ・ダウコーン社製、品番OE6652B。
・硬化遅延剤:1−エチニル−1−シクロヘキサノール。
・酸化チタン:ルチル型酸化チタン、平均粒径0.4μm、タイオキサイドジャパン株式会社製、品名Tioxide RTC−30。
・酸化亜鉛:堺化学工業株式会社製、比重5.6、平均粒径0.6μm、商品名「酸化亜鉛1種」。
・シリカ粉1:非晶質球状溶融シリカ、平均粒径16μm、粒径6μm以下の粒子の割合29体積%。
・シリカ粉2:非晶質球状溶融シリカ、平均粒径11μm、粒径6μm以下の粒子の割合39体積%。
・シリカ粉3:非晶質球状溶融シリカ、平均粒径23μm、粒径6μm以下の粒子の割合28体積%。
・シリカ粉4:非晶質球状溶融シリカ、平均粒径12μm、粒径6μm以下の粒子の割合20体積%。
・シリカ粉5:非晶質球状溶融シリカ、平均粒径10μm、粒径6μm以下の粒子の割合45体積%。
・シリカ粉6:非晶質球状溶融シリカ、平均粒径8μm、粒径6μm以下の粒子の割合30体積%。
・シリカ粉7:非晶質球状溶融シリカ、平均粒径26μm、粒径6μm以下の粒子の割合33体積%。
・ビニルシラン:信越化学工業株式会社製、品番KBM−1003。
・エポキシシラン:信越化学工業株式会社製、品番KBM−403。
・メタクリルシラン:信越化学工業株式会社製、品番KBM−503。
・繊維状充填材:平均繊維長3mm、平均繊維径6.0μm、水分率0.02%、強熱減量0.28%のガラス繊維に、アミノシランカップリング剤による表面処理と脂肪族ウレタン系収束剤による表面処理とを順次施して得られた処理品。
(1) Preparation of composition The raw material shown in the column of "resin component composition" in the table was prepared as a resin component, and the raw material shown in the column of "filler composition" was prepared as a filler component. The resin component and the filler component were blended so that the total amount of the filler component with respect to all the raw materials became the value shown in the column of "ratio of the filler in the molding material" to obtain a compound. The compound was uniformly mixed using a sigma blender and then kneaded with a hot roll heated to 100 ° C. to prepare a sheet-shaped kneaded product. This kneaded product was cooled, crushed, and sized. As a result, a granular resin composition was prepared.
The details of the raw materials are as follows.
-Unsaturated polyester: Terephthalic acid-based unsaturated polyester, manufactured by Japan U-Pica, product name Yupica 8552, softening point 50 ° C or higher.
Cross-linking agent: diallyl phthalate monomer, manufactured by Daiso Co., Ltd., product name Dapp monomer, molecular weight 246.3, viscosity 8.5 mPa · s at 30 ° C, iodine value 202, liquid at room temperature, boiling point 290 ° C.
-Polymerization initiator: Dicumyl peroxide, manufactured by NOF CORPORATION, 1-minute half-life temperature of 179 ° C.
-Release agent: Zinc stearate, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., product name SZ-P.
-Antioxidant 1: Phenolic antioxidant, manufactured by ADEKA Corporation, product name ADEKA STAB AO-80.
-Antioxidant 2: Phosphorus-based antioxidant, manufactured by ADEKA Corporation, product name ADEKA STAB PEP-36.
-Antioxidant 3: Sulfur-based antioxidant, manufactured by ADEKA Corporation, product name ADEKA STAB AO-412S.
-Silicone resin 1: Toray Dowcorn Co., Ltd., product number OE6351A.
-Silicone resin 2: Made by Toray Dowcorn Co., Ltd., product number OE6351B.
-Silicone resin 3: Toray Dowcorn Co., Ltd., product number OE6652A.
-Silicone resin 4: Toray Dowcorn Co., Ltd., product number OE6652B.
-Curing retarder: 1-ethynyl-1-cyclohexanol.
-Titanium oxide: rutile type titanium oxide, average particle size 0.4 μm, manufactured by Thai Oxide Japan Co., Ltd., product name Tioxide RTC-30.
-Zinc oxide: Manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., specific gravity 5.6, average particle size 0.6 μm, trade name "Zinc oxide 1 type".
-Silica powder 1: Amorphous spherical molten silica, 29% by volume of particles having an average particle size of 16 μm and a particle size of 6 μm or less.
-Silica powder 2: Amorphous spherical molten silica, an average particle size of 11 μm, and a proportion of particles having a particle size of 6 μm or less of 39% by volume.
-Silica powder 3: Amorphous spherical molten silica, an average particle size of 23 μm, and a proportion of particles having a particle size of 6 μm or less 28% by volume.
-Silica powder 4: Amorphous spherical molten silica, 20% by volume of particles having an average particle size of 12 μm and a particle size of 6 μm or less.
-Silica powder 5: Amorphous spherical molten silica, an average particle size of 10 μm, a proportion of particles having a particle size of 6 μm or less, 45% by volume.
-Silica powder 6: Amorphous spherical molten silica, an average particle size of 8 μm, a proportion of particles having a particle size of 6 μm or less, 30% by volume.
-Silica powder 7: Amorphous spherical molten silica, an average particle size of 26 μm, a proportion of particles having a particle size of 6 μm or less, 33% by volume.
-Vinylsilane: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product number KBM-1003.
-Epoxy silane: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product number KBM-403.
-Methacrylic silane: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product number KBM-503.
-Fibrous filler: Glass fibers with an average fiber length of 3 mm, an average fiber diameter of 6.0 μm, a moisture content of 0.02%, and a strong heat loss of 0.28%, surface-treated with an aminosilane coupling agent and converging on an aliphatic urethane system. A treated product obtained by sequentially performing surface treatment with an agent.

(2)評価試験
(2−1)リードフレームの準備及び評価
図3A及び図3Bに示す形状のリードフレームを用意した。リードフレームは銅製であり、その表面にはめっき法で銀被膜を形成した。
(2) Evaluation test (2-1) Preparation and evaluation of lead frame Lead frames having the shapes shown in FIGS. 3A and 3B were prepared. The lead frame was made of copper, and a silver film was formed on the surface by a plating method.

比較例1の場合を除き、リードフレームの第一面における図3Aの粗化面の位置と合致する位置に、レーザ加工機(パナソニック株式会社製のレーザマーカ、型番LP−S500)を用いてレーザ加工を施した。使用したレーザ種はYAGレーザであり、レーザの照射条件は表の「レーザ照射設定条件」の欄に示す通りである。すなわち、レーザ光を、「出力」の欄に記載されている出力及び「パルス周波数」の欄に記載されているパルス周波数でリードフレームに照射しながら、「加工速度」の欄に記載されている速度でリードフレーム上のレーザ照射位置を移動させることで、レーザ加工を行った。なお、出力は、レーザ加工機の最大出力(42W)に対する、レーザ加工時の出力の割合(百分率)である。レーザ加工により第一面に形成された粗化面の幅は、「第一面の粗化面幅」の欄に示す通りである。また、「段への照射の有無」の欄に「有」と記載されている場合には、リードフレームの第二面における段の内面にもレーザ加工を施した。レーザ加工により第二面に形成された粗化面の幅は、「第一面の粗化面幅」の欄に示す通りである。 Except for the case of Comparative Example 1, laser machining is performed using a laser machining machine (laser marker manufactured by Panasonic Corporation, model number LP-S500) at a position on the first surface of the lead frame that matches the position of the roughened surface in FIG. 3A. Was given. The laser type used was a YAG laser, and the laser irradiation conditions are as shown in the "Laser irradiation setting conditions" column of the table. That is, it is described in the "machining speed" column while irradiating the lead frame with the laser beam at the output described in the "output" column and the pulse frequency described in the "pulse frequency" column. Laser processing was performed by moving the laser irradiation position on the lead frame at a high speed. The output is the ratio (percentage) of the output during laser processing to the maximum output (42W) of the laser processing machine. The width of the roughened surface formed on the first surface by laser processing is as shown in the column of "Roughened surface width of the first surface". In addition, when "Yes" is described in the "Presence / absence of irradiation to the stage" column, laser processing was also performed on the inner surface of the stage on the second surface of the lead frame. The width of the roughened surface formed on the second surface by laser processing is as shown in the column of "Roughened surface width of the first surface".

このレーザ加工で形成された粗化面のRaをオリンパス製のレーザ顕微鏡(型番OLS3500)を用いて、JIS B0633;2001に従って測定した。その結果を、「粗化面のRa」の欄に示す。 Ra of the roughened surface formed by this laser processing was measured using a laser microscope (model number OLS3500) manufactured by Olympus according to JIS B0633; 2001. The result is shown in the column of "Ra of roughened surface".

(2−2)ベースの作製及び評価
リードフレームを金型にセットした状態で、組成物をトランスファ成形することで、リフレクタを作製するとともにこのリフレクタにリードフレームを埋め込んだ。これにより、リードフレームとリフレクタとを備えるベースを作製した。トランスファ成形条件は、成形型温度150℃、トランスファ圧力8MPa、硬化時間90秒である。
(2-2) Fabrication and Evaluation of Base A reflector was produced by transferring the composition with the lead frame set in a mold, and the lead frame was embedded in the reflector. As a result, a base including a lead frame and a reflector was produced. The transfer molding conditions are a molding temperature of 150 ° C., a transfer pressure of 8 MPa, and a curing time of 90 seconds.

ベースの凹所内に、赤インク(ライオン事務機器社製のスタンプインキ赤)を垂らしてから、24時間後に、赤インクがベースの凹所からベース外に漏れているか否かを確認した。200個のサンプルに対して同じ試験を行い、赤インクの漏れが確認されたサンプルの個数を調査した。その結果を、「インク試験 水性」の欄に示す。 Twenty-four hours after dropping red ink (stamp ink red manufactured by Lion Office Equipment Co., Ltd.) into the recess of the base, it was confirmed whether or not the red ink leaked from the recess of the base to the outside of the base. The same test was performed on 200 samples to determine the number of samples in which red ink leakage was confirmed. The results are shown in the "Ink test water-based" column.

また、ベースの凹所内に、ポッティング剤(信越化学工業株式会社製のフォトデバイス用透明封止樹脂、品番SCR1011)を充填し、70℃で1時間加熱してから150℃で5時間加熱することで硬化させてから、20時間後に、ポッティング剤がベースの凹所からベース外に漏れているか否かを確認した。200個のサンプルに対して同じ試験を行い、ポッティング剤の漏れが確認されたサンプルの個数を調査した。その結果を、「ポッティング剤漏れ」の欄に示す。 Further, the recess of the base is filled with a potting agent (transparent sealing resin for photo devices manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product number SCR1011), heated at 70 ° C. for 1 hour, and then heated at 150 ° C. for 5 hours. Twenty hours after curing with, it was confirmed whether or not the potting agent leaked out of the base from the recess of the base. The same test was performed on 200 samples to determine the number of samples in which potting agent leakage was confirmed. The results are shown in the "Potting agent leak" column.

なお、比較例3及び4では組成物の流動性が低すぎたためにリフレクタを作製できなかったため、当該評価を行わなかった。 In Comparative Examples 3 and 4, the reflector could not be produced because the fluidity of the composition was too low, and therefore the evaluation was not performed.

(2−3)発光装置の作製及び評価
ベースの凹所内に発光素子として株式会社ジェネライツ製の品番B2632を搭載した。続いて、ベースの凹所内に、ポッティング剤(信越化学工業株式会社製のフォトデバイス用透明封止樹脂、品番SCR1011)を充填し、70℃で1時間加熱してから150℃で5時間加熱することで硬化させて、封止材を作製した。これにより、発光装置を作製した。
(2-3) Manufacture and evaluation of light emitting device A product number B2632 manufactured by Genelites Co., Ltd. was mounted as a light emitting element in the recess of the base. Subsequently, a potting agent (transparent sealing resin for photo devices manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product number SCR1011) is filled in the recess of the base, heated at 70 ° C. for 1 hour, and then heated at 150 ° C. for 5 hours. It was cured by this to prepare a sealing material. As a result, a light emitting device was manufactured.

この発光装置に、85℃、85%RHの条件下に1000時間曝露する処理を施した。この処理の前後に、発光素子に400mAの電流を通電して発光させた場合の、発光装置の発光輝度を、大塚電子製の輝度計を用いて測定した。処理前の発光装置の発光輝度に対する、処理後の発光装置の発光輝度の割合(百分率)を算出した。その結果を「85℃85%RH1000h LED劣化率」の欄に示す。なお、比較例3及び4ではリフレクタを作製できなかったため、当該評価は行わなかった。 The light emitting device was exposed to exposure at 85 ° C. and 85% RH for 1000 hours. Before and after this process, the emission brightness of the light emitting device when a current of 400 mA was applied to the light emitting element to cause light emission was measured using a luminance meter manufactured by Otsuka Electronics. The ratio (percentage) of the emission brightness of the light emitting device after the treatment to the emission brightness of the light emitting device before the treatment was calculated. The result is shown in the column of "85 ° C. 85% RH1000h LED deterioration rate". Since the reflector could not be produced in Comparative Examples 3 and 4, the evaluation was not performed.

Figure 0006917570
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1 発光装置
2 ベース
21 凹所
3 リフレクタ
4 リードフレーム
5 発光素子
6 封止材
1 Light emitting device 2 Base 21 Recessed part 3 Reflector 4 Lead frame 5 Light emitting element 6 Encapsulant

Claims (6)

リフレクタと、このリフレクタに埋め込まれているリードフレームとを備え、凹所を有し、前記凹所の底面に前記リードフレームの一部が露出しているベース、
前記ベースの前記凹所内に搭載されている発光素子、及び
前記ベースの前記凹所内に充填され、前記発光素子を封止している封止材を備え、
前記リードフレームの表面における前記リフレクタに接する領域は、Raが0.5〜1.5μmの範囲内の粗化面を有し、
前記リフレクタは、充填材を含有する樹脂組成物の成形体であり、
前記充填材は、平均粒径9〜25μm、粒径6μm以下の粒子の割合25〜40体積%であるシリカ粉と、白色顔料とを含有し、前記樹脂組成物全体に対する前記シリカ粉の量は10〜75質量%の範囲内である、
発光装置。
A base that includes a reflector and a lead frame embedded in the reflector, has a recess, and a part of the lead frame is exposed on the bottom surface of the recess.
A light emitting element mounted in the recess of the base and a sealing material filled in the recess of the base and sealing the light emitting element are provided.
The region in contact with the reflector on the surface of the lead frame has a roughened surface having Ra in the range of 0.5 to 1.5 μm.
The reflector, Ri moldings der tree fat composition containing a filler,
The filler contains silica powder having an average particle size of 9 to 25 μm and a proportion of particles having a particle size of 6 μm or less of 25 to 40% by volume, and a white pigment, and the amount of the silica powder with respect to the entire resin composition is In the range of 10 to 75% by volume,
Light emitting device.
リフレクタと、このリフレクタに埋め込まれているリードフレームとを備え、凹所を有し、前記凹所の底面に前記リードフレームの一部が露出しているベース、A base that includes a reflector and a lead frame embedded in the reflector, has a recess, and a part of the lead frame is exposed on the bottom surface of the recess.
前記ベースの前記凹所内に搭載されている発光素子、及びA light emitting element mounted in the recess of the base, and
前記ベースの前記凹所内に充填され、前記発光素子を封止している封止材を備え、A sealing material that is filled in the recess of the base and seals the light emitting element is provided.
前記リードフレームの表面における前記リフレクタに接する領域は、Raが0.5〜1.5μmの範囲内の粗化面を有し、The region in contact with the reflector on the surface of the lead frame has a roughened surface having Ra in the range of 0.5 to 1.5 μm.
前記リフレクタは、充填材を含有する樹脂組成物の成形体であり、The reflector is a molded product of a resin composition containing a filler.
前記樹脂組成物に対する前記充填材の割合が65〜90質量%であり、The ratio of the filler to the resin composition is 65 to 90% by mass.
前記充填材は、平均粒径9〜25μm、粒径6μm以下の粒子の割合25〜40体積%であるシリカ粉と、白色顔料とを含有し、前記充填材合計における前記シリカ粉の質量比率が24.5/104〜75/100である、The filler contains silica powder having an average particle size of 9 to 25 μm and a particle size of 6 μm or less of 25 to 40% by volume, and a white pigment, and the mass ratio of the silica powder in the total filler is 24.5 / 104-75 / 100,
発光装置。Light emitting device.
前記樹脂組成物は、シランカップリング剤を含有する、
請求項1又は2に記載の発光装置。
The resin composition contains a silane coupling agent.
The light emitting device according to claim 1 or 2.
前記樹脂組成物は、不飽和ポリエステル樹脂とシリコーン樹脂とのうち少なくとも一方を含有する、
請求項1から3のいずれか一項に記載の発光装置。
The resin composition contains at least one of an unsaturated polyester resin and a silicone resin.
The light emitting device according to any one of claims 1 to 3.
前記リードフレームは銀被膜を有し、前記粗化面は前記銀被膜に形成されている、
請求項1からのいずれか一項に記載の発光装置。
The lead frame has a silver film, and the roughened surface is formed on the silver film.
The light emitting device according to any one of claims 1 to 4.
前記粗化面は、レーザ加工痕からなる、
請求項1からのいずれか一項に記載の発光装置。
The roughened surface is composed of laser processing marks.
The light emitting device according to any one of claims 1 to 5.
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