JP6913299B2 - Decorative board and its manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、化粧板及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a decorative board and a method for producing the same.
従来、テーブル、カウンター、壁、床等の表面には、チタン紙等の多孔質基材にメラミン樹脂の未硬化樹脂液を含浸させ、必要に応じてフェノールコア紙等に積層した上で含浸樹脂液を熱プレスで硬化せしめてなる化粧板が使用されている。このようなメラミン樹脂を含浸及び硬化させた化粧板は、強度、硬さ、耐熱性等の物性を示す。 Conventionally, the surfaces of tables, counters, walls, floors, etc. are impregnated with an uncured resin solution of melamine resin on a porous base material such as titanium paper, laminated on phenol core paper or the like as necessary, and then impregnated resin. A decorative board is used in which the liquid is hardened by a hot press. A decorative board impregnated and cured with such a melamine resin exhibits physical properties such as strength, hardness, and heat resistance.
上述のような化粧板には、高級感を示す意匠が求められており、凹凸形状の外観を表面に付与することが行われている。斯かる凹凸形状としては、各種形状が採用され得るが、中でも、木目導管部の溝状凹凸形状、グロスマット調凹凸形状等が代表的なものであり、多用されている。なお、「グロスマット調凹凸形状」とは、物品の表面に高光沢(gross)領域と低光沢(matte)領域とを模様状に混在させた凹凸形状を意味する。斯かる構成の物品表面は、物理的凹凸とは無関係に、視覚的に、低光沢領域が高光沢領域に比べて凹んで見え、これにより立体的意匠外観を再現できることが特徴である。「グロスマット調凹凸形状」それ自体は、特許文献1及び特許文献2に開示されるように夙に公知である。
The decorative board as described above is required to have a design showing a high-class feeling, and the surface is given a concavo-convex appearance. Various shapes can be adopted as such uneven shapes, but among them, the groove-shaped uneven shape of the wood grain conduit portion, the gloss matte-like uneven shape, and the like are typical and are frequently used. The "gloss matte uneven shape" means an uneven shape in which a high gloss region and a low gloss region are mixed in a pattern on the surface of the article. The surface of the article having such a structure is characterized in that the low-gloss region visually looks recessed as compared with the high-gloss region, regardless of the physical unevenness, and thus the three-dimensional design appearance can be reproduced. The "gloss matte uneven shape" itself is well known as disclosed in
特許文献3では、表面にグロスマット調等の凹凸形状による意匠感が付与された化粧板として、表面に所望の凹凸形状が形成されたエンボス板(テクスチャーを付けた鏡面板)を用いて熱圧プレスされた化粧板が提案されている。
In
しかしながら、特許文献3に記載の化粧板の表面に所望の凹凸模様の意匠感を付与する場合、意匠の種類だけ表面処理した鏡面板が必要であるため、コストが増加する。また、この化粧板は、凹凸形状を下地の絵柄と同調させることが困難であり、意匠性を高めることが困難である。
However, in the case of imparting a desired uneven pattern design feeling to the surface of the decorative plate described in
特許文献4では、絵柄模様と同調した凹状部等が形成された化粧板の製造方法として、原紙の表面に浸透防止層及び撥液性模様層を設けることにより、熱硬化性樹脂を含浸して熱圧成形する際に、撥液性模様が熱硬化性樹脂の皮膜に被覆される現象を防止する製造方法が提案されている。
In
しかしながら、特許文献4に記載の製造方法では、完全に熱硬化性樹脂の被覆を防止することは困難であり、このような製造方法により製造された化粧板は、鮮明な凹凸形状の意匠感を表現することが困難である。
However, it is difficult to completely prevent the coating of the thermosetting resin by the manufacturing method described in
特許文献5では、表面の一部の領域に離型層を有し、離型層を有しない表面の残部の領域に、熱硬化性樹脂層を有する化粧板の製造方法として、多孔質基材上の一部に離型層を設ける第1工程、多孔質基材に熱硬化性樹脂を含浸させるとともに熱硬化性樹脂により離型層を被覆した後、加熱することにより熱硬化性樹脂を熱硬化させる第2工程、及び、離型層の上を被覆している領域の熱硬化した樹脂膜を剥離する第3工程を含む製造方法が提案されている。
In
特許文献5に記載の化粧板は、熱硬化性樹脂層と離型層とが異なる意匠感を示すことにより、鮮明なグロスマット調の意匠感を表現することができる。
The decorative board described in
しかしながら、特許文献5に記載の化粧板において、離型層の幅が狭い場合(例えば、離型層が木目模様の導管部と位置同調する場合)、離型層を被覆する熱硬化樹脂膜の剥離性が低下及び不安定化し、離型層からの熱硬化樹脂膜の剥離が不十分となるおそれがある。したがって、特許文献5に記載の化粧板は、離型層の幅が狭い場合には、鮮明な凹凸形状に基づく意匠感を表現することが困難である。
However, in the decorative board described in
そこで、本発明は、離型層の幅が狭い場合であっても、鮮明な凹凸形状に基づく意匠感を表現できる化粧板及びその製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a decorative board capable of expressing a design feeling based on a clear uneven shape even when the width of the release layer is narrow, and a method for manufacturing the decorative board.
上記課題を解決するために、本発明は、以下の化粧板及びその製造方法を提供する。
[1]互いに直交する第1方向、第2方向及び厚さ方向を有するとともに、
第1主面及び前記第1主面の反対側に位置する第2主面を有する支持シートと、
前記第1主面の一部に、前記第1方向に沿って延在するように設けられた第1層と、
前記第1主面の残部に、前記第1層を囲繞するように設けられた第2層と、
を備える、化粧板であって、
前記第1層が、幅が20μm以上100μm以下である幅広部を有し、
前記第2層が、前記幅広部の少なくとも一部を露出させる開口部を有し、
前記幅広部の平面視における外形線上に位置する任意の点を通って前記第1層の延在方向に垂直な方向に延在する平面で、前記化粧板を切断して形成される切断面において、前記幅広部の幅をWB、前記幅広部の高さをHB、前記第2層の高さをHとしたとき、H>HB、かつ、WB≧(H−HB)であり、
前記切断面において、前記幅広部の少なくとも一部が前記第2層の前記開口部から露出している、前記化粧板。
[2]前記切断面において、前記第2層の高さと前記第1層の高さとの差(H−HB)が1μm以上である、[1]に記載の化粧板。
[3]前記幅広部のうち前記第2層の前記開口部から露出する部分の面積が、前記幅広部の面積の80%以上である、[1]又は[2]に記載の化粧板。
[4]前記第1層が、電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層である、[1]〜[3]のいずれかに記載の化粧板。
[5]前記第2層が、熱硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層である、[1]〜[4]のいずれかに記載の化粧板。
[6]前記熱硬化性樹脂が水溶性熱硬化性樹脂を含む、[5]に記載の化粧板。
[7]前記水溶性熱硬化性樹脂がメラミン樹脂を含む、[6]に記載の化粧板。
[8]前記第1層及び/又は前記第2層が、シリコーン系離型剤を含む、[1]〜[7]のいずれかに記載の化粧板。
[9]前記支持シートが、基材シートを有し、前記基材シートが、前記支持シートの前記第1主面側に位置する第1主面と、前記支持シートの前記第2主面側に位置する第2主面とを有する、[1]〜[8]のいずれかに記載の化粧板。
[10]前記支持シートが、前記基材シートの前記第1主面に設けられた装飾層をさらに有する、[9]に記載の化粧板。
[11]前記基材シートが多孔質シートである、[9]又は[10]に記載の化粧板。
[12]前記支持シートが、前記多孔質シートの空隙に充填された熱硬化性樹脂の硬化物をさらに有する、[11]に記載の化粧板。
[13][1]〜[12]のいずれかに記載の化粧板を製造する方法であって、
前記方法が、
(1)前記支持シートを準備する工程、
(2)前記支持シートの前記第1主面の一部に前記第1層を形成する工程、
(3)前記支持シートの前記第1主面の残部に、前記第1層を囲繞し、かつ、前記第1層の少なくとも一部を被覆する被覆層を形成する工程、
(4)前記被覆層のうち前記第1層を被覆する部分を前記第1方向に沿って剥離し、前記支持シートの前記第1主面の残部に第2層を形成する工程
を含み、
前記幅広部の平面視における外形線上に位置する任意の点を通って前記第1層の延在方向に垂直な方向に延在する平面で、工程(3)で得られる中間体を切断して形成される切断面において、前記幅広部の幅をWB、前記被覆層のうち前記幅広部を被覆する部分の厚さをTBとしたとき、WB≧TBである、前記方法。
[14]前記切断面において、前記被覆層のうち前記幅広部を被覆する部分の厚さ(TB)が1μm以上である、[13]に記載の方法。
[15]前記第1層が、電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層であり、
前記工程(2)が、
(2−1)前記電離放射線硬化性樹脂を含む電離放射線硬化性樹脂組成物を使用して、前記支持シートの前記第1主面の一部を被覆する電離放射線硬化性樹脂組成物層を形成する工程、及び、
(2−2)前記電離放射線硬化性樹脂組成物層を硬化させて前記硬化樹脂層を前記第1層として形成する工程
を含む、[13]又は[14]に記載の方法。
[16]前記電離放射線硬化性樹脂組成物がシリコーン系離型剤を含む、[15]に記載の方法。
[17]前記被覆層が、熱硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層であり、
前記工程(3)が、
(3−1)前記熱硬化性樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物を使用して、前記支持シートの前記第1主面の残部に、前記第1層を囲繞し、かつ、前記第1層の少なくとも一部を被覆する熱硬化性樹脂組成物層を形成する工程、及び、
(3−2)前記熱硬化性樹脂組成物層を硬化させて前記硬化樹脂層を前記被覆層として形成する工程
を含む、[13]〜[16]のいずれかに記載の方法。
[18]前記熱硬化性樹脂が水溶性熱硬化性樹脂を含む、[17]に記載の方法。
[19]前記水溶性熱硬化性樹脂がメラミン樹脂を含む、[18]に記載の方法。
[20]前記熱硬化性樹脂組成物がシリコーン系離型剤を含む、[17]〜[19]のいずれかに記載の方法。
[21]前記支持シートが、基材シートを有し、前記基材シートが、前記支持シートの前記第1主面側に位置する第1主面と、前記支持シートの前記第2主面側に位置する第2主面とを有する、[13]〜[20]のいずれかに記載の方法。
[22]前記支持シートが、前記基材シートの前記第1主面に設けられた装飾層をさらに有する、[21]に記載の方法。
[23]前記基材シートが多孔質シートである、[21]又は[22]に記載の方法。
[24]前記被覆層が、熱硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層であり、
前記工程(3)が、
(3−1)前記熱硬化性樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物を使用して、前記支持シートの前記第1主面の残部に、前記第1層を囲繞し、かつ、前記第1層の少なくとも一部を被覆する熱硬化性樹脂組成物層を形成する工程、
(3−2)前記熱硬化性樹脂組成物層を硬化させて前記硬化樹脂層を前記被覆層として形成する工程
を含み、
前記工程(3−1)において、前記多孔質シートに前記熱硬化性樹脂組成物を含浸させ、
前記工程(3−2)において、前記多孔質シートに含浸させた前記熱硬化性樹脂組成物を硬化させる、[23]に記載の方法。
In order to solve the above problems, the present invention provides the following decorative board and a method for manufacturing the same.
[1] It has a first direction, a second direction, and a thickness direction that are orthogonal to each other, and also
A support sheet having a first main surface and a second main surface located on the opposite side of the first main surface, and
A first layer provided so as to extend along the first direction on a part of the first main surface, and
A second layer provided so as to surround the first layer on the rest of the first main surface, and
It is a decorative board equipped with
The first layer has a wide portion having a width of 20 μm or more and 100 μm or less.
The second layer has an opening that exposes at least a portion of the wide portion.
In a cut surface formed by cutting the decorative plate on a plane extending in a direction perpendicular to the extending direction of the first layer through an arbitrary point located on the outer line in the plan view of the wide portion. When the width of the wide portion is WB, the height of the wide portion is HB, and the height of the second layer is H, H> HB and WB ≧ (H-HB).
The decorative board in which at least a part of the wide portion is exposed from the opening of the second layer on the cut surface.
[2] The decorative board according to [1], wherein the difference (H-HB) between the height of the second layer and the height of the first layer on the cut surface is 1 μm or more.
[3] The decorative board according to [1] or [2], wherein the area of the wide portion exposed from the opening of the second layer is 80% or more of the area of the wide portion.
[4] The decorative board according to any one of [1] to [3], wherein the first layer is a cured resin layer containing a cured product of an ionizing radiation curable resin.
[5] The decorative board according to any one of [1] to [4], wherein the second layer is a cured resin layer containing a cured product of a thermosetting resin.
[6] The decorative board according to [5], wherein the thermosetting resin contains a water-soluble thermosetting resin.
[7] The decorative board according to [6], wherein the water-soluble thermosetting resin contains a melamine resin.
[8] The decorative board according to any one of [1] to [7], wherein the first layer and / or the second layer contains a silicone-based release agent.
[9] The support sheet has a base sheet, and the base sheet has a first main surface located on the first main surface side of the support sheet and the second main surface side of the support sheet. The decorative board according to any one of [1] to [8], which has a second main surface located at.
[10] The decorative board according to [9], wherein the support sheet further has a decorative layer provided on the first main surface of the base material sheet.
[11] The decorative board according to [9] or [10], wherein the base material sheet is a porous sheet.
[12] The decorative board according to [11], wherein the support sheet further has a cured product of a thermosetting resin filled in the voids of the porous sheet.
[13] The method for producing a decorative board according to any one of [1] to [12].
The above method
(1) Step of preparing the support sheet,
(2) A step of forming the first layer on a part of the first main surface of the support sheet.
(3) A step of forming a coating layer that surrounds the first layer and covers at least a part of the first layer on the rest of the first main surface of the support sheet.
(4) The step including a step of peeling a portion of the coating layer covering the first layer along the first direction to form a second layer on the rest of the first main surface of the support sheet is included.
The intermediate body obtained in the step (3) is cut on a plane extending in a direction perpendicular to the extending direction of the first layer through an arbitrary point located on the outer line in the plan view of the wide portion. The method, wherein the width of the wide portion of the cut surface to be formed is WB, and WB ≧ TB when the thickness of the portion of the coating layer that covers the wide portion is TB.
[14] The method according to [13], wherein the thickness (TB) of the portion of the coating layer that covers the wide portion of the cut surface is 1 μm or more.
[15] The first layer is a cured resin layer containing a cured product of an ionizing radiation curable resin.
The step (2) is
(2-1) Using the ionizing radiation curable resin composition containing the ionizing radiation curable resin, an ionizing radiation curable resin composition layer covering a part of the first main surface of the support sheet is formed. Process and
(2-2) The method according to [13] or [14], which comprises a step of curing the ionizing radiation curable resin composition layer to form the cured resin layer as the first layer.
[16] The method according to [15], wherein the ionizing radiation curable resin composition contains a silicone-based mold release agent.
[17] The coating layer is a cured resin layer containing a cured product of a thermosetting resin.
The step (3) is
(3-1) Using the thermosetting resin composition containing the thermosetting resin, the first layer is surrounded by the rest of the first main surface of the support sheet, and the first layer is formed. A step of forming a thermosetting resin composition layer that covers at least a part of the above, and
(3-2) The method according to any one of [13] to [16], which comprises a step of curing the thermosetting resin composition layer to form the cured resin layer as the coating layer.
[18] The method according to [17], wherein the thermosetting resin contains a water-soluble thermosetting resin.
[19] The method according to [18], wherein the water-soluble thermosetting resin contains a melamine resin.
[20] The method according to any one of [17] to [19], wherein the thermosetting resin composition contains a silicone-based mold release agent.
[21] The support sheet has a base sheet, and the base sheet has a first main surface located on the first main surface side of the support sheet and the second main surface side of the support sheet. The method according to any one of [13] to [20], which has a second main surface located at.
[22] The method according to [21], wherein the support sheet further has a decorative layer provided on the first main surface of the base material sheet.
[23] The method according to [21] or [22], wherein the base material sheet is a porous sheet.
[24] The coating layer is a cured resin layer containing a cured product of a thermosetting resin.
The step (3) is
(3-1) Using the thermosetting resin composition containing the thermosetting resin, the first layer is surrounded by the rest of the first main surface of the support sheet, and the first layer is formed. A step of forming a thermosetting resin composition layer that covers at least a part of
(3-2) Including a step of curing the thermosetting resin composition layer to form the cured resin layer as the coating layer.
In the step (3-1), the porous sheet is impregnated with the thermosetting resin composition.
The method according to [23], wherein in the step (3-2), the thermosetting resin composition impregnated in the porous sheet is cured.
本発明によれば、鮮明な凹凸形状に基づく意匠感を表現できる化粧板及びその製造方法が提供される。 According to the present invention, there is provided a decorative board capable of expressing a design feeling based on a clear uneven shape and a method for manufacturing the decorative board.
化粧板
以下、図面に基づいて、本発明に係る化粧板の実施形態について説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る化粧板の平面図であり、図2は、図1中の符号Rで示される領域の拡大図であり、図3は、図2のA−A線断面図であり、図4は、図2のB−B線断面図であり、図5は、図2のC−C線断面図である。
Decorative board Hereinafter, embodiments of the decorative board according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view of a decorative board according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an enlarged view of a region represented by reference numeral R in FIG. 1, and FIG. 3 is an enlarged view of AA of FIG. It is a cross-sectional view, FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 2, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG.
図1〜図5に示すように、本発明の一実施形態に係る化粧板1は、互いに直交する第1方向X、第2方向Y及び厚さ方向Zを有する。本実施形態では、第1方向Xが化粧板1の長手方向に相当し、第2方向Yが化粧板1の短手方向に相当するが、第1方向Xが化粧板1の短手方向に相当し、第2方向Yが化粧板1の長手方向に相当してもよい。
As shown in FIGS. 1 to 5, the
図2〜図5に示すように、化粧板1は、第1主面S1及び第1主面S1の反対側に位置する第2主面S2を有する支持シート2と、支持シート2の第1主面S1の一部に、第1方向Xに沿って延在するように設けられた第1層3と、支持シート2の第1主面S1の残部に、第1層3を囲繞するように設けられた第2層4とを備える。
As shown in FIGS. 2 to 5, the
図2に示すように、本実施形態における第1層3の平面視形状は、延在方向D1に延在する細長い形状の外形線(輪郭線)を有するパターンであり、延在方向D1と直交する幅方向の寸法は、図2の下端から上端に向かって漸次拡張し、延在方向D1の略中央部で最大幅に達し、以降漸次縮小する。
As shown in FIG. 2, the plan view shape of the
図2〜図4に示すように、第1層3は、幅が20μm以上である幅広部31を有し、第2層4は、幅広部31の少なくとも一部を露出させる開口部40を有する。即ち、本実施形態における幅広部31は、平面視において、幅が連続的に変化する細長い形状を有する第1層3のうち中央部を含む20μm以上の幅を有する領域である。第1層3の両端部は後述の幅狭部32を構成する。
As shown in FIGS. 2 to 4, the
図2〜図4に示すように、第2層4の開口部40は、化粧板1の表面に凹部5を形成しており、凹部5の底部の少なくとも一部は、幅広部31により形成されている。
As shown in FIGS. 2 to 4, the
図3に示すように、幅広部31の平面視における外形線上に位置する任意の点を通って第1層3の延在方向D1に垂直な方向に延在する平面で、化粧板1を切断して形成される切断面において、以下の条件が満たされる。
[特徴1]幅広部31の幅をWB、幅広部31の高さをHB、第2層4の高さをHとしたとき、H>HB、かつ、WB≧(H−HB)である。
[特徴2]幅広部31の少なくとも一部が第2層4の開口部40から露出している。
As shown in FIG. 3, the
[Characteristic 1] When the width of the
[Feature 2] At least a part of the
条件1及び条件2が満たされることは、上記切断面を走査型顕微鏡(SEM)で観察することにより確認することができる。なお、本発明において、「平面視」とは、対象となる部材又は部分を、支持シートの第1主面の法線方向(図1〜図5では厚み方向Zと一致する)から観察することを意味する。例えば、図3〜図5において、同図に向かって上方から下方を見降ろすことを意味する。また、「平面視」は、対象となる部材又は部分がその他の部材又は部分に隠れて実際には観察できない場合であっても観察できるものとして取り扱う仮想的な概念である。すなわち、「平面視」は、対象となる部材又は部分を、化粧板の厚さ方向Zに対して垂直な仮想平面に投影することに相当する。
It can be confirmed that the
本実施形態において、上記切断面における幅広部31の高さは一定である。上記切断面における幅広部31の高さが一定でない場合、幅広部31の高さの最小値を、上記切断面における幅広部31の高さHBとする。本実施形態において、上記切断面における第2層4の高さは一定である。上記切断面における第2層4の高さが一定でない場合、第2層4の高さの最大値を、上記切断面における第2層4の高さHとする。
In the present embodiment, the height of the
高さH及びHBは、化粧板1に関して高さ=0の基準(基準点又は基準面)を一義的に決めて測定すればよく、基準は任意である。本実施形態では、図3に示すように、装飾層22の第1主面S1側の表面を基準(高さ=0)として、高さH及びHBを測定する。
The heights H and HB may be measured by uniquely determining a reference (reference point or reference plane) having a height of 0 with respect to the
上記切断面における第2層4の高さHと幅広部31の高さHBとの差(H−HB)は、好ましくは1μm以上、さらに好ましくは2μm以上、さらに一層好ましくは5μm以上である。上記切断面における第2層4の高さHと幅広部31の高さHBとの差(H−HB)の上限値は特に限定されないが、通常、化粧板1の意匠外観再現性は、凹部5の深さ、すなわち、差(H−HB)が、ある程度以上になると飽和する傾向にあるとともに、凹部5の深さがある程度以上に増大すると製造技術上の難度も増大する傾向にある。そのため、実用的観点から、第2層4の高さHと幅広部31の高さHBとの差(H−HB)の上限は、ある程度以下に留めることが好ましい。具体的には、装飾層22が木目模様を形成し、第1層3が木目模様の導管部と位置同調する場合、上記切断面における第2層4の高さHと幅広部31の高さHBとの差(H−HB)の上限値は、好ましくは50μm、さらに好ましくは30μm、さらに一層好ましくは15μmである。
The difference (H-HB) between the height H of the
化粧板1は、後述するように、工程(1)〜(4)を含む製造方法によりを製造される。幅広部31の平面視における外形線上に位置する任意の点を通って第1層3の延在方向D1に垂直な方向に延在する平面で、工程(3)で得られる中間体を切断して形成される切断面において、以下の条件が満たされる。
[条件3]幅広部31の幅をWB、被覆層CLのうち幅広部31を被覆する部分CL11の厚さをTBとしたとき、WB≧TBである。
The
[Condition 3] When the width of the
化粧板1の製造方法が条件3を満たす結果、化粧板1は条件1を満たす。また、化粧板1の製造方法が条件3を満たすことにより、工程(4)において、被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1を第1方向Xに沿って剥離する際、幅広部31を被覆する部分CL11の剥離性が向上及び安定化する。その結果、化粧板1は条件2を満たす。化粧板1が条件2を満たすことにより、図4に示すように、第2層4の開口部40から露出する幅広部31の部分が、幅広部31の全域に亘って存在する。したがって、凹部5はその全域に亘って幅広部31に至る深さを有し、凹部5と凹部5以外の領域との表面高低差が有意となる。
As a result of the manufacturing method of the
一方、図5に示すように、幅狭部32の平面視における外形線上に位置する任意の点を通って第1層3の延在方向D1に垂直な方向に延在する平面で、化粧板1を切断して形成される切断面において、幅狭部32の幅をWN、幅狭部32の高さをHN、第2層4の高さをHとしたとき、WN<(H−HN)である。このため、工程(4)において、被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1を第1方向Xに沿って剥離する際、幅狭部32を被覆する部分CL12の剥離性が低下及び不安定化する。したがって、図2、図4及び図5に示すように、幅狭部32は、第2層4で被覆されており、第2層4の開口部40から露出していない。幅狭部32の一部が、第2層4の開口部40から露出する場合もあり得るが、第2層4の開口部40から露出する幅狭部32の部分は、幅狭部32の全域に亘って存在しない。
On the other hand, as shown in FIG. 5, the decorative plate is a plane extending in a direction perpendicular to the extending direction D1 of the
図2〜図4に示すように、化粧板1の表面のうち、凹部5に隣接する部分は、相対的に凸部となっており、化粧板1の表面には凹凸形状が形成されている。後述する工程(1)〜(4)を含む製造方法の結果物である化粧板1は、凹部5の表面(第2層4の開口部40から露出する幅広部31の表面を含む)が相対的に粗面となり、入射光に対して拡散反射性を有する低光沢領域を構成するという特徴とともに、凸部を含む凹部5以外の領域の表面が相対的に鏡面となり、入射光に対して鏡面反射性を有する高光沢領域を構成するという特徴を有する。したがって、化粧板1は、凹凸形状に基づいて、グロスマット調の意匠感を表現することができる。特に、化粧板1の凹凸形状(即ち、高光沢領域及び低光沢領域)を、後述する装飾層22の絵柄模様と位置同調させることにより、化粧板1は、優れたグロスマット調の意匠感を表現することができる。例えば、装飾層22が木目模様を形成する場合、凹部5を、木目模様中の導管部(即ち、導管の切断面開口部によって形成される線条の溝部、導管溝とも呼称される)と、両者の平面視での位置が一致するように位置同調させるとともに、凸部を含む凹部5以外の領域を、木目模様中の導管部以外の領域(木肌部等とも呼称される)と、両者の平面視での位置が一致するように位置同調させることにより、木目模様中の導管部が相対的に凹部の外観を呈し、これにより、化粧板1は、本物の木目模様と同様の表面凹凸形状の意匠感(質感)を表現することができる。
As shown in FIGS. 2 to 4, the portion of the surface of the
凹部5はその全域に亘って幅広部31に至る深さを有し、凹部5と凹部5以外の領域との表面高低差が有意であるので、化粧板1は、鮮明な凹凸形状に基づいて、グロスマット調の意匠感及び表面凹凸形状の意匠感(質感)を表現することができる。
Since the
化粧板1において、幅広部31の全体が、第2層4の開口部40から露出し、凹部5の底部を形成していてもよいが、必ずしもその必要はない。幅広部31の一部は、第2層4で被覆されていてもよい。特に、幅広部31が、装飾層22が形成する木目模様の導管部と位置同調する場合、幅広部31のうち導管部の周縁部に相当する部分は、第2層で被覆されていてもよい。なお、凹部5と凸部(第2層4)とから成る凹凸形状の高低差が目視外観上で十分に確保され、且つ耐摩耗性等の表面物性上も実用上支障が無い範囲内においては、幅広部31の表面の全体にわたって第2層が残渣又は痕跡程度に微量に残留していてもよい。ある1個の幅広部31を平面視したとき、当該幅広部31のうち第2層4の開口部40から露出する部分の面積(S31P)は、当該幅広部31の全面積(S31T)の80%以上であることが好ましく、90%以上であることがさらに好ましく、95%以上であることがさらに一層好ましい。面積比S31P/S31Tは、第1層3及び第2層4の形成材料組成及び加熱成形条件、剥離フィルムの材料及び剥離速度等を適宜選択することにより調整することができる。面積比S31P/S31Tが上記範囲であることにより、凹部5と凹部5以外の領域との表面高低差が有意となり、化粧板1は、鮮明な凹凸形状に基づいて、グロスマット調の意匠感及び表面凹凸形状の意匠感(質感)を表現することができる。それぞれの幅広部31について、面積比S31P/S31Tが上記範囲であることが好ましい。
In the
また、平面視において、ある1個の第1層3の全面積(S3)に対する、当該第1層3における幅広部31の全面積(S31T)の比率(S31T/S3)は、当該第1層3が表現する模様の種類、上述した幅広部31における凹部5の形成比率にも依存するため、一概には特定できない。当該比率に関する設計上の目安としては、第1層3が木目模様の導管部を表現する場合、上述した幅広部31における凹部5の形成比率も考慮すると、(S31T/S3)は80%以上であることが好ましく、90%以上であることがさらに好ましく、95%以上であることがさらに一層好ましい。それぞれの第1層3について、面積比S31T/S3が上記範囲であることが好ましい。
Further, in a plan view, the ratio (S 31T / S 3 ) of the total area (S 31T ) of the
図3〜図5に示すように、化粧板1は、支持シート2の第2主面S2に設けられた補強層6をさらに備える。なお、本発明には、支持シート2の第2主面S2に補強層6が設けられていない実施形態も包含される。
As shown in FIGS. 3 to 5, the
支持シート
支持シート2は、第1層3及び第2層4を支持するシートである。
図3〜図5に示すように、支持シート2は、第1主面T1及び第1主面T1の反対側に位置する第2主面T2を有する基材シート21と、基材シート21の第1主面T1に設けられた装飾層22とを有する。
Support sheet The
As shown in FIGS. 3 to 5, the
基材シート
図3〜図5に示すように、基材シート21は、第1主面T1が支持シート2の第1主面S1側に位置し、第2主面T2が支持シート2の第2主面S2側に位置するように配置されている。なお、本実施形態では、基材シート21の第2主面T2が、支持シート2の第2主面S2を形成している。
Base sheet As shown in FIGS. 3 to 5, in the
基材シート21は特に限定されないが、好ましくは、多孔質シートである。多孔質シートは、液体浸透性を有する限り特に限定されない。基材シート21が液体浸透性を有する場合、例えば、第2層4の形成原料として使用される樹脂組成物を基材シート21に含浸させることができる。多孔質シートとしては、例えば、繊維シート等が挙げられる。繊維シートとしては、例えば、紙、不織布、織布等が挙げられる。紙としては、例えば、薄葉紙、クラフト紙、チタン紙、リンター紙、板紙、上質紙、コート紙、パーチメント紙、和紙等が挙げられる。その他の繊維シートとしては、例えば、ガラス繊維、石綿、チタン酸カリウム繊維、アルミナ繊維、シリカ繊維、炭素繊維等の無機繊維で構成されるシート等が挙げられる。多孔質シートは、液体含浸性の観点から、好ましくは、チタン紙、薄葉紙、クラフト紙、和紙等であり、さらに好ましくは、チタン紙である。基材シート21の坪量は、最終製品の用途、使用方法等により適宜調整することができるが、例えば40〜150g/m2である。基材シート21の厚さは、最終製品の用途、使用方法等により適宜調整することができるが、例えば50〜170μmである。なお、本明細書において、「数値A〜数値B」と表現される数値範囲は、別段規定される場合を除き、数値Aを上限値とし、数値Bを下限値とする数値範囲(すなわち、数値A及び数値Bを含む数値範囲)を意味する。
The
基材シート21が多孔質シートである場合、多孔質シートの空隙には、硬化性樹脂の硬化物が充填されていることが好ましい。これにより、化粧板1の強度を向上させることができる。第2層4が硬化性樹脂の硬化物を含む場合、多孔質シートの空隙に充填された硬化性樹脂の硬化物は、第2層4に含まれる硬化性樹脂の硬化物と一体化されていることが好ましい。これにより、支持シート2と第2層4との接合強度を向上させることができる。例えば、第2層4を形成する際、第2層4の形成原料である硬化性樹脂組成物を多孔質シートに含浸させて硬化させることにより、多孔質シートの空隙に充填された硬化性樹脂の硬化物と、第2層4に含まれる硬化性樹脂の硬化物とを一体化することができる。
When the
なお、本発明には、基材シート21として使用される多孔質シートの空隙に硬化性樹脂の硬化物が充填されていない実施形態、基材シート21として多孔質シートの空隙に硬化性樹脂の硬化物が充填されているが、多孔質シートの空隙に充填された硬化性樹脂の硬化物が、第2層4に含まれる硬化性樹脂の硬化物と一体化されていない実施形態等も包含される。
In the present invention, there is an embodiment in which the voids of the porous sheet used as the
基材シート21は、着色されていてもよい。基材シート21の製造段階(例えば、基材シート21が紙であれば、抄造段階)において、形成原料に着色剤(顔料又は染料)を配合することにより、基材シート21を着色することができる。また、第2層4を形成する際、第2層4の形成原料として、着色剤を含む樹脂組成物を使用し、これを基材シート21に含浸させることにより、基材シート21を着色することができる。着色剤としては、例えば、カーボンブラック、鉄黒、チタン白、アンチモン白、黄鉛、チタン黄、弁柄、カドミウム赤、群青、コバルトブルー等の粒子からなる無機顔料;キナクリドンレッド、イソインドリノンイエロー、フタロシアニンブルー等の粒子からなる有機顔料又は染料;アルミニウム、真鍮等の鱗片状箔片からなる金属顔料;二酸化チタン被覆雲母、塩基性炭酸鉛等の鱗片状箔片からなる真珠光沢(パール)顔料等が挙げられる。着色剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。着色剤の配合量は、所望の色合い等に応じて適宜調整することができる。
The
基材シート21は、必要に応じて、充填剤、艶消し剤、発泡剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤等の添加剤を含んでもよい。
The
装飾層
図3〜図5に示すように、装飾層22は、基材シート21の第1主面T1に設けられている。装飾層22は、基材シート21の第1主面T1の全体に形成されていてもよいし、基材シート21の第1主面T1の一部に形成されていてもよい。装飾層22が基材シート21の第1主面T1の全体に形成される場合、支持シート2の第1主面S1は装飾層22の表面により形成される。装飾層22が基材シート21の第1主面T1の一部に形成される場合、支持シート2の第1主面S1は、基材シート21の第1主面T1の一部(装飾層22が設けられていない部分)及び装飾層22の表面により形成される。
Decorative Layer As shown in FIGS. 3 to 5, the
なお、本発明には、装飾層22が基材シート21の第1主面T1に形成されていない実施形態も包含される。装飾層22が基材シート21の第1主面T1に形成されていない実施形態において、支持シート2の第1主面S1は、基材シート21の第1主面T1により形成される。
The present invention also includes an embodiment in which the
装飾層22は、化粧板1に装飾性(意匠性)を付与する。装飾層22は、例えば、着色層、絵柄層又はこれらの組み合わせである。
The
着色層は、化粧板1に所望の色を付与する。着色層は、例えば、基材シート21の第1主面T1の全体に形成された全面ベタ層である。着色層の色は、通常、不透明色であるが、基材シート21等の下地の色又は模様を活かす場合には、透明色であってもよい。また、基材シート21等の下地の色又は模様を活かす場合には、着色層を形成しなくてもよい。
The colored layer imparts a desired color to the
絵柄層は、化粧板1に所望の模様を付与する。絵柄層は、例えば、基材シート21の第1主面T1の一部又は全体あるいは着色層の表面の一部又は全体に形成された印刷層である。模様層を構成する模様としては、例えば、年輪断面の春材領域及び秋材領域、導管部等から構成される木目模様、レザー(皮シボ)模様、大理石、花崗岩、砂岩等の石材表面の石目模様、砂目模様、タイル貼模様、煉瓦積模様、布目模様、幾何学図形、文字、記号、抽象模様等が挙げられる。
The pattern layer imparts a desired pattern to the
本実施形態における装飾層22は、図1に示すように、化粧板1に木目模様を付与する。
As shown in FIG. 1, the
装飾層22の厚さは、製品特性等に応じて適宜調整することができるが、例えば0.1〜20μmである。
The thickness of the
第1層
第1層3は、特許文献5(国際公報第2016/148091号)に記載の離型層に相当する。
First layer The
図2に示すように、第1層3は、平面視において、第1方向Xに沿って延在している。「第1層3が第1方向Xに沿って延在する」とは、第1層3の延在方向D1と、化粧板1の第1方向Xとのなす角度が、±30°以下であることを意味する。第1層3の延在方向D1は、平面視において、第1層3の外形線に外接する矩形の長手方向に相当する。本実施形態において、第1層3の延在方向D1は、化粧板1の第1方向Xと一致している。第1層3の延在方向D1と、化粧板1の第1方向Xとのなす角度が+30°である一実施形態を図6に、第1層3の延在方向D1と、化粧板1の第1方向Xとのなす角度が−30°である一実施形態を図7に示す。
As shown in FIG. 2, the
後述する工程(1)〜(4)を含む製造方法により化粧板1を製造する際、工程(4)において、被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1は第1方向Xに沿って剥離される。第1層3の延在方向D1と、化粧板1の第1方向Xとのなす角度が、±30°以下である場合には、第1層3の延在方向D1が、化粧板1の第1方向Xと一致する場合と同様、工程(4)において、被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1を第1方向Xに沿って剥離する際、幅広部31を被覆する部分CL11の剥離性が向上及び安定化する。
When the
図2に示すように、第1層3は、幅が20μm以上100μm以下の幅広部31と、幅が20μm未満の幅狭部32とを有する。幅広部31の最大幅は20μm以上100μm以下である限り特に限定されないが、装飾層22が木目模様を形成し、第1層3が木目模様の導管部と位置同調する場合、幅広部31の最大幅は、好ましくは30μm以上100μm以下である。幅狭部32の最小幅はゼロである。本実施形態において、幅広部31の最小幅は20μmであるが、幅広部31の最小幅は20μmを超えていてもよい。本実施形態において、第1層3は、幅広部31及び幅狭部32で構成されているが、第1層3は、幅広部31のみで構成されていてもよい。本実施形態において、幅広部31は最小幅及び最大幅を有するが、幅広部31の幅は一定であってもよい。
As shown in FIG. 2, the
第1層3の幅は、次の通り定義される。図2、図6及び図7に示すように、平面視において、第1層3の外形線上に位置する任意の点をPとし、第1層3の外形線と、点Pを通り、第1層3の延在方向D1に垂直な方向に延在する直線との交点をQとしたとき、点Pと点Qとの距離が、第1層3の幅Wである。任意の点Pが幅広部31の外形線上に位置する場合、点Pと点Qとの距離(幅W)は20μm以上であり、任意の点Pが幅狭部32の外形線上に位置する場合、点Pと点Qとの距離(幅W)は20μm未満である。
The width of the
図3〜図5に示すように、第1層3は、支持シート2の第1主面S1の一部に、例えば所望の模様状で設けられている。第1層3は、隣接する第2層4よりも厚さが小さい部分を有しており、この部分の少なくとも一部が、隣接する第2層4の開口部40から露出して、化粧板1の表面の凹部5の底部を形成している。
As shown in FIGS. 3 to 5, the
支持シート2の第1主面S1のうち、第1層3が設けられる領域は、連続した1つの領域であってもよいし、不連続な複数の領域であってもよい。第1層3は、連続した1つの層で構成されていてもよいし、不連続な複数の層で構成されていてもよい。第1層3が連続した1つの層で構成される場合、第1層3の厚さは一定であってもよいし、部分的に異なっていてもよい。第1層3が不連続な複数の層で構成される場合、各層の厚さは一定であってもよいし、部分的に異なっていてもよい。第1層3が不連続な複数の層で構成される場合、ある層の厚さと別の層の厚さは同一であってもよいし、異なっていてもよい。第1層3の厚さは特に限定されないが、好ましくは0.1〜100μm、さらに好ましくは1〜20μmである。
Of the first main surface S1 of the
第1層3は、例えば、樹脂層である。樹脂層としては、例えば、硬化樹脂層、熱可塑性樹脂層等が挙げられる。第1層3は、異なる材料で構成された2種以上の層を含んでもよい。
The
硬化樹脂層は、硬化性樹脂組成物の硬化により形成された層であり、硬化性樹脂の硬化物を含む。硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂としては、例えば、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等が挙げられる。表面硬度(耐傷性)、凸形状保持性、生産性等の観点から、硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂の少なくとも一部が電離放射線硬化性樹脂であることが好ましく、硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂の全部が電離放射線硬化性樹脂であることがさらに好ましい。 The curable resin layer is a layer formed by curing the curable resin composition, and contains a cured product of the curable resin. Examples of the curable resin contained in the curable resin composition include a thermosetting resin and an ionizing radiation curable resin. From the viewpoint of surface hardness (scratch resistance), convex shape retention, productivity, etc., it is preferable that at least a part of the curable resin contained in the curable resin composition is an ionizing radiation curable resin, and the curable resin composition. It is more preferable that all of the curable resins contained in the product are ionizing radiation curable resins.
第1層3は、支持シート2の第1主面S1に所定のパターンで形成されていることが好ましく、装飾層22が形成する絵柄模様のうち視覚的に凹部又は低光沢(艷消)としたい領域と位置同調したパターンで形成されていることがさらに好ましい。第1層3が形成するパターンとしては、例えば、装飾層22が木目模様の場合は木目板の導管部、春材領域等の凹部又は低光沢領域、石目模様の場合はトラバーチン大理石板の凹陥部、花崗岩板の劈開面の凹部等の石板表面凹凸、布目模様の場合は布表面テクスチャア、レザー模様の場合は皮シボの皺形状、タイル貼模様や煉瓦積模様の場合は目地凹部、其の他、梨地、砂目、ヘアライン、万線条溝、文字、記号、幾何学模様等のパターンが挙げられる。
The
第1層3は、シリコーン系離型剤を含んでもよい。第1層3に含まれるシリコーン系離型剤は、第1層3の形成原料に添加されるシリコーン系離型剤(シリコーンオイル)に由来する。第1層3の形成原料に添加されるシリコーン系離型剤は、反応性シリコーン系離型剤であってもよいし、非反応性シリコーン系離型剤であってもよい。第1層3の形成原料に添加されるシリコーン系離型剤が反応性シリコーン系離型剤である場合、シリコーン系離型剤は、第1層3のその他の成分(例えば、硬化性樹脂の硬化物等)と結合した状態で第1層3に含まれ得る。シリコーン系離型剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
The
第2層
図3〜図5に示すように、第2層4は、支持シート2の第1主面S1の残部に、第1層3の一部又は全体を囲繞するように設けられている。「第1主面S1の残部」は、支持シート2の第1主面S1のうち、第1層3が設けられていない領域を意味する。支持シート2の第1主面S1のうち、第2層4が設けられる領域は、第1主面S1の残部の全体であってもよいし、第1主面S1の残部の一部であってもよい。例えば、支持シート2の第1主面S1の一部に、第1層3以外の層(例えば、幅が20μm未満の幅狭部のみから構成される層)が設けられている場合、第2層4が設けられる領域は、第1主面の残部の一部である。支持シート2の第1主面S1のうち、第2層4が設けられる領域は、連続した1つの領域であってもよいし、不連続な複数の領域であってもよい。第2層4は、連続した1つの層で構成されていてもよいし、不連続な複数の層で構成されていてもよい。第2層4が連続した1つの層で構成される場合、第2層4の厚さは一定であってもよいし、部分的に異なっていてもよい。第2層4が不連続な複数の層で構成される場合、各層の厚さは一定であってもよいし、部分的に異なっていてもよい。第2層4が不連続な複数の層で構成される場合、ある層の厚さと別の層の厚さは同一であってもよいし、異なっていてもよい。なお、化粧板1表面に発現する凹凸形状の輪郭形状の明瞭化及び第1層3と第2層4との表面高低差の確保の点からは、第1層3の直上部に第2層4が全く残留しないことが好ましい。但し、第1層3上に一旦形成された第2層4の前駆層(被覆層CL)を、全く痕跡や残渣も無く完全に剥離及び除去することが困難な場合もある。その場合、凹部5と凸部(第2層4)とから成る凹凸形状の高低差が目視外観上で十分に確保され、且つ耐摩耗性等の表面物性上も実用上支障が無い範囲内においては、第1層3表面の全面にわたって第2層が残渣又は痕跡程度に微量に残留することは許容され得る。
Second Layer As shown in FIGS. 3 to 5, the
支持シート2の第1主面S1のうち第2層4が設けられている領域の面積(Sa)と、支持シート2の第1主面S1のうち第1層3が設けられている面積(Sb)との比(Sa:Sb)は、好ましくは3:7〜9:1、さらに好ましくは5:5〜8:2である。面積比が上述の範囲内であると、化粧板1が表現する凹凸形状の意匠感がより鮮明となる。
The area (Sa) of the region of the first main surface S1 of the
図2〜図4に示すように、第2層4には、幅広部31の少なくとも一部を露出させる開口部40が形成されている。図4に示すように、第2層4の開口部40から露出する幅広部31の部分は、幅広部31の全域に亘って存在する。図2に示すように、第2層4の開口部40は、平面視において、幅広部31と位置同調している。本発明において、「位置同調」とは、平面視において、幅広部31の全体が、開口部40の少なくとも一部と重なっていることを意味する。開口部40は、平面視において幅広部31と重ならない部分を有していてもよい。例えば、開口部40は、平面視において幅狭部32と重なる部分を有していてもよい。
As shown in FIGS. 2 to 4, the
図2〜図4に示すように、第2層4の開口部40は、化粧板1の表面に凹部5を形成している。凹部5の底部の少なくとも一部は、幅広部31により形成されている。
As shown in FIGS. 2 to 4, the
凹部5の深さは、好ましくは1〜50μm、さらに好ましくは2〜30μmである。凹部5の深さが上述の範囲内であると、化粧板1が表現する凹凸形状の意匠感がより鮮明となる。
The depth of the
凹部5の深さは、化粧板1の表面のうち、第1層3が形成されていない領域(第2層4が形成されている領域)と、第1層3が形成されている領域(被覆層CLのうち幅広部31を被覆する部分CL11が剥離された部分)との高低差として測定される。測定は、株式会社小坂研究所製 三次元表面粗さ測定器SE−30Kを使用して、JIS B 0601:2013に規定された方法に従って実施される。表面の最大高さ粗さ(Rz)を高低差のパラメ−タ−として使用し、10箇所の平均値を「高低差」とする。
The depth of the
第2層4は、例えば、樹脂層である。樹脂層としては、例えば、硬化樹脂層、熱可塑性樹脂層等が挙げられる。第2層4は、異なる材料で構成された2種以上の層を含んでもよい。
The
硬化樹脂層は、硬化性樹脂組成物の硬化により形成された層であり、硬化性樹脂の硬化物を含む。硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂としては、例えば、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等が挙げられる。第1層3が、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化により形成された硬化樹脂層である場合、第2層4は、熱硬化性樹脂組成物の硬化により形成された硬化樹脂層であることが好ましい。
The curable resin layer is a layer formed by curing the curable resin composition, and contains a cured product of the curable resin. Examples of the curable resin contained in the curable resin composition include a thermosetting resin and an ionizing radiation curable resin. When the
第2層4の厚さは特に限定されないが、好ましくは2〜250μm、さらに好ましくは2〜50μmである。
The thickness of the
第2層は、シリコーン系離型剤を含んでもよい。第2層4に含まれるシリコーン系離型剤は、第2層4の形成原料に添加されるシリコーン系離型剤(シリコーンオイル)に由来する。第2層4の形成原料に添加されるシリコーン系離型剤は、反応性シリコーン系離型剤であってもよいし、非反応性シリコーン系離型剤であってもよいが、好ましくは、非反応性シリコーン系離型剤である。第2層4の形成原料に添加されるシリコーン系離型剤が反応性シリコーン系離型剤である場合、シリコーン系離型剤は、第2層4のその他の成分(例えば、硬化性樹脂の硬化物等)と結合した状態で第2層4に含まれ得る。シリコーン系離型剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
The second layer may contain a silicone-based release agent. The silicone-based mold release agent contained in the
第2層4の形成原料として熱硬化性樹脂組成物が使用され、熱硬化性樹脂組成物が未硬化状態にある水溶性熱硬化性樹脂組成物(例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、スルホンアミド樹脂、グリオキザール樹脂、グアナミン樹脂等)を含む場合、シリコーン系離型剤として、ポリエーテル変性シリコーンを使用することが好ましい。ポリエーテル変性シリコーンは、水溶性、水分散性等の特性を有するので、シリコーン系離型剤がポリエーテル変性シリコーンであると、シリコーン系離型剤が水溶性熱硬化性樹脂組成物と混和しやすくなり、シリコーン系離型剤の局在化を防止しつつ、シリコーン系離型剤の離型性を効果的に発揮させることができる。第2層4は、ポリエーテル変性シリコーン以外の非反応性シリコーンを含んでいてもよい。ポリエーテル変性シリコーン以外の非反応性シリコーンは、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
A water-soluble thermosetting resin composition (for example, melamine resin, urea resin, sulfonamide resin) in which a thermosetting resin composition is used as a raw material for forming the
第2層4の形成原料として熱硬化性樹脂組成物が使用され、熱硬化性樹脂組成物が未硬化状態にある水溶性熱硬化性樹脂組成物(例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、スルホンアミド樹脂、グリオキザール樹脂、グアナミン樹脂等)を含む場合、シリコーン系離型剤として、6以上16以下のHLB値を有するシリコーン系離型剤(特に、6以上16以下のHLB値を有するポリエーテル変性シリコーン)を使用することが好ましい。シリコーン系離型剤のHLB値は、さらに好ましくは10以上15以下、さらに一層好ましくは12以上14以下である。HLB値が高いほど、シリコーン系離型剤が水溶性熱可塑性樹脂と混和しやすくなり、シリコーン系離型剤の局在化を防止することができるが、HLB値が高すぎると、シリコーン系離型剤の離型性が低下するおそれがある。シリコーン系離型剤のHLB値が上記範囲であると、シリコーン系離型剤の局在化を防止しつつ、シリコーン系離型剤の離型性を効果的に発揮させることができる。なお、HLB(親水性親油性バランス:Hydrophile-Lypophile Balance)値は、界面活性剤の水及び油への親和性を示す値であり、グリフィン法により次式から求めることができる。
HLB=20×[(界面活性剤中に含まれる親水基の分子量)/(界面活性剤の分子量)]
A water-soluble thermosetting resin composition (for example, melamine resin, urea resin, sulfonamide resin) in which a thermosetting resin composition is used as a raw material for forming the
HLB = 20 × [(Molecular weight of hydrophilic group contained in surfactant) / (Molecular weight of surfactant)]
熱硬化性樹脂組成物
第1層3及び/又は第2層4の形成原料としては、熱硬化性樹脂組成物を使用することができる。特に、第2層4の形成原料として、熱硬化性樹脂組成物を使用することが好ましい。熱硬化性樹脂組成物に含まれる熱硬化性樹脂としては、例えば、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂(2液硬化型ポリウレタンも含む)、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。第2層4の形成原料として使用される熱硬化性樹脂組成物は、メラミン樹脂を含むことが好ましい。メラミン樹脂は、耐熱性及び耐汚染性があり、硬度が高い点で好ましい。
As a raw material for forming the
熱硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、熱硬化性樹脂の硬化反応に関与する成分、例えば、触媒、硬化剤(架橋剤、重合開始剤、重合促進剤等を含む)等を含んでもよい。例えば、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等の硬化剤としては、イソシアネート、有機スルホン酸塩等が挙げられ、エポキシ樹脂等の硬化剤としては、有機アミン等が挙げられ、不飽和ポリエステル樹脂のラジカル開始剤としては、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物、アゾイソブチルニトリル等が挙げられる。 The thermosetting resin composition may contain components involved in the curing reaction of the thermosetting resin, for example, a catalyst, a curing agent (including a cross-linking agent, a polymerization initiator, a polymerization accelerator, etc.) and the like, if necessary. good. For example, examples of curing agents for unsaturated polyester resins and polyurethane resins include isocyanates and organic sulfonates, and examples of curing agents for epoxy resins include organic amines, which start radicals of unsaturated polyester resins. Examples of the agent include peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide and azoisobutylnitrile.
電離放射線硬化性樹脂組成物
第1層3及び/又は第2層4の形成原料としては、電離放射線硬化性樹脂組成物を使用することができる。特に、第1層3の形成原料として、電離放射線硬化性樹脂組成物を使用することが好ましい。電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂は、電離放射線の照射により架橋重合反応を生じ、3次元の高分子構造に変化する樹脂である。電離放射線としては、例えば、可視光線、紫外線(近紫外線、真空紫外線等)、X線、電子線、イオン線等が挙げられるが、好ましくは、紫外線、電子線等である。
As a raw material for forming the
電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂としては、例えば、電離放射線の照射により架橋可能な重合性不飽和結合、エポキシ基等を分子中に有するモノマー、オリゴマー、プレポリマー等の1種以上を使用することができる。特に、多官能モノマー及びオリゴマーの1種以上を使用することが好ましい。電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等のアクリレート樹脂、シロキサン等のケイ素樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of the ionizing radiation curable resin contained in the ionizing radiation curable resin composition include monomers, oligomers, prepolymers and the like having a polymerizable unsaturated bond, an epoxy group or the like in the molecule that can be crosslinked by irradiation with ionizing radiation. One or more types can be used. In particular, it is preferable to use one or more of the polyfunctional monomer and the oligomer. Examples of the ionizing radiation curable resin include acrylate resins such as urethane acrylate, polyester acrylate and epoxy acrylate, silicon resins such as siloxane, polyester resins and epoxy resins.
重合性モノマーとしては、例えば、分子中にラジカル重合性不飽和基を有する(メタ)アクリレート系モノマー等が挙げられる。特に、多官能性(メタ)アクリレートが好ましい。なお、「(メタ)アクリレート」は、アクリレート又はメタクリレートを意味する。多官能性(メタ)アクリレートとしては、分子内にエチレン性不飽和結合を2個以上有する(メタ)アクリレートであればよく、特に制限はない。多官能性(メタ)アクリレートは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。多官能性(メタ)アクリレートとともに、その粘度を低下させる等の目的で、単官能性(メタ)アクリレートを併用してもよい。 Examples of the polymerizable monomer include (meth) acrylate-based monomers having a radically polymerizable unsaturated group in the molecule. In particular, polyfunctional (meth) acrylates are preferred. In addition, "(meth) acrylate" means acrylate or methacrylate. The polyfunctional (meth) acrylate may be any (meth) acrylate having two or more ethylenically unsaturated bonds in the molecule, and is not particularly limited. One type of polyfunctional (meth) acrylate may be used alone, or two or more types may be used in combination. A monofunctional (meth) acrylate may be used in combination with the polyfunctional (meth) acrylate for the purpose of lowering the viscosity thereof.
重合性オリゴマーとしては、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つオリゴマー、例えばエポキシ(メタ)アクリレート系、ウレタン(メタ)アクリレート系、ポリエステル(メタ)アクリレート系、ポリエーテル(メタ)アクリレート系等が挙げられる。また、重合性オリゴマーとしては、ポリブタジエンオリゴマーの側鎖に(メタ)アクリレート基をもつ疎水性の高いポリブタジエン(メタ)アクリレート系オリゴマー、主鎖にポリシロキサン結合をもつシリコーン(メタ)アクリレート系オリゴマー、小さな分子内に多くの反応性基をもつアミノプラスト樹脂を変性したアミノプラスト樹脂(メタ)アクリレート系オリゴマー等が挙げられる。分子中にカチオン重合性官能基を有するオリゴマーとしては、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、脂肪族ビニルエーテル、芳香族ビニルエーテル等が挙げられる。 Examples of the polymerizable oligomer include oligomers having a radically polymerizable unsaturated group in the molecule, such as epoxy (meth) acrylate-based, urethane (meth) acrylate-based, polyester (meth) acrylate-based, and polyether (meth) acrylate-based. Can be mentioned. Further, as the polymerizable oligomer, a highly hydrophobic polybutadiene (meth) acrylate-based oligomer having a (meth) acrylate group in the side chain of the polybutadiene oligomer, a silicone (meth) acrylate-based oligomer having a polysiloxane bond in the main chain, and a small one. Examples thereof include aminoplast resin (meth) acrylate-based oligomers obtained by modifying an aminoplast resin having many reactive groups in the molecule. Examples of the oligomer having a cationically polymerizable functional group in the molecule include novolak type epoxy resin, bisphenol type epoxy resin, aliphatic vinyl ether, aromatic vinyl ether and the like.
電離放射線硬化性樹脂の重量平均分子量は、好ましくは500以上、さらに好ましくは1000以上である。電離放射線硬化性樹脂の重量平均分子量が上記範囲であると、第1層3及び/又は第2層4を形成する際、形成原料として使用される硬化性樹脂組成物が、基材シート21へ浸み込みにくいので、第1層3及び/又は第2層4を形成しやすい。この効果は、基材シート21が多孔質シートである場合に大きい。
The weight average molecular weight of the ionizing radiation curable resin is preferably 500 or more, more preferably 1000 or more. When the weight average molecular weight of the ionizing radiation curable resin is in the above range, the curable resin composition used as a forming raw material when forming the
電離放射線硬化性樹脂の重量平均分子量は、好ましくは80000以下、さらに好ましくは50000以下である。電離放射線硬化性樹脂の重量平均分子量が上記範囲であると、樹脂組成物の粘度を、塗布に適した粘度に調整しやすい。 The weight average molecular weight of the ionizing radiation curable resin is preferably 80,000 or less, more preferably 50,000 or less. When the weight average molecular weight of the ionizing radiation curable resin is in the above range, it is easy to adjust the viscosity of the resin composition to a viscosity suitable for coating.
なお、「重量平均分子量」は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法により、ポリスチレンを標準物質に用いて測定される値である。 The "weight average molecular weight" is a value measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance.
電離放射線硬化性樹脂は、重量平均分子量が500以上である多官能モノマー及びオリゴマーから選択される少なくとも1種であることが好ましい。このような多官能モノマー又はオリゴマーとしては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等のアクリレート樹脂が挙げられる。 The ionizing radiation curable resin is preferably at least one selected from polyfunctional monomers and oligomers having a weight average molecular weight of 500 or more. Examples of such a polyfunctional monomer or oligomer include acrylate resins such as dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, and epoxy acrylate.
電離放射線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、電離放射線硬化性樹脂の硬化反応に関与する成分、例えば、光重合開始剤(増感剤)を含んでもよい。例えば、紫外線の照射により電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させる場合、電離放射線硬化性樹脂組成物は光重合開始剤(増感剤)を含むことが好ましい。なお、電離放射線硬化型樹脂は電子線を照射すれば十分に硬化するので、電子線の照射により電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させる場合、電離放射線硬化性樹脂組成物は光重合開始剤(増感剤)を含まなくてもよい。 If necessary, the ionizing radiation curable resin composition may contain a component involved in the curing reaction of the ionizing radiation curable resin, for example, a photopolymerization initiator (sensitizer). For example, when the ionizing radiation curable resin composition is cured by irradiation with ultraviolet rays, the ionizing radiation curable resin composition preferably contains a photopolymerization initiator (sensitizer). Since the ionizing radiation curable resin is sufficiently cured by irradiating with an electron beam, when the ionizing radiation curable resin composition is cured by irradiating with an electron beam, the ionizing radiation curable resin composition is a photopolymerization initiator ( It does not have to contain a sensitizer).
電離放射線硬化性樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する場合、光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、ミヒラーケトン、ジフェニルサルファイド、ジベンジルジサルファイド、ジエチルオキサイト、トリフェニルビイミダゾール、イソプロピル−N,N−ジメチルアミノベンゾエート等の少なくとも1種を使用することができる。また、電離放射線硬化性樹脂組成物がカチオン重合性官能基を有する場合、光重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル、フリールオキシスルホキソニウムジアリルヨードシル塩等の少なくとも1種を使用することができる。 When the ionizing radiation curable resin has a radically polymerizable unsaturated group, the photopolymerization initiator includes, for example, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether, Michler benzoyl benzoate, Michler ketone, diphenyl sulfide, etc. At least one of dibenzyldisulfide, diethyl oxide, triphenylbiimidazole, isopropyl-N, N-dimethylaminobenzoate and the like can be used. When the ionizing radiation curable resin composition has a cationically polymerizable functional group, the photopolymerization initiator may be, for example, an aromatic diazonium salt, an aromatic sulfonium salt, a metallocene compound, a benzoin sulfonic acid ester, or a freeleoxysulfone. At least one kind such as xonium diallyl iodosyl salt can be used.
光重合開始剤の添加量は特に限定されないが、電離放射線硬化型樹脂100質量部に対して、通常0.1〜10質量部である。 The amount of the photopolymerization initiator added is not particularly limited, but is usually 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin.
電離放射線硬化性樹脂組成物は、耐熱性及び架橋密度を向上させるために、多官能の重合性モノマーを含むことが好ましい。 The ionizing radiation curable resin composition preferably contains a polyfunctional polymerizable monomer in order to improve heat resistance and crosslink density.
熱可塑性樹脂組成物
第1層3及び/又は第2層4の形成原料としては、熱可塑性樹脂組成物を使用することができる。熱可塑性樹脂組成物に含まれる熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等)、(メタ)アクリル樹脂、ポリオレフィン系樹脂(例えば、ポリエチレン(高密度、中密度又は低密度)、ポリプロピレン(アイソタクチック型又はシンジオタクチック型)、ポリブテン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−プロピレン−ブテン共重合体等)、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン、ABS樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
As the raw material for forming the
シリコーン系離型剤
シリコーン系離型剤は、第1層3及び/又は第2層4に含まれ得る。シリコーン系離型剤は、オルガノポリシロキサン構造を基本構造とし、側鎖及び/又は末端に有機基が導入された変性シリコーンである。有機機が導入される末端は、片方の末端であってもよいし、両方の末端であってもよい。
Silicone-based mold release agent The silicone-based mold release agent may be contained in the
反応性シリコーン系離型剤は、側鎖及び/又は末端に有機基が導入された変性シリコーンのうち、導入する有機基の性質によって反応性を有するものをいう。反応性シリコーン系離型剤としては、例えば、アミノ変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、カルボキシル変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、フェノール変性シリコーン、メタクリル変性シリコーン、異種官能基変性シリコーン等が挙げられる。より具体的には、アミノ変性ポリジメチルシロキサン、エポキシ変性ポリジメチルシロキサン、メルカプト変性ポリジメチルシロキサン、カルボキシル変性ポリジメチルシロキサン、カルビノール変性ポリジメチルシロキサン、フェノール変性ポリジメチルシロキサン、メタクリル変性ポリジメチルシロキサン、異種官能基変性ポリジメチルシロキサン等が挙げられる。反応性シリコーン系離型剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 The reactive silicone-based release agent refers to a modified silicone having an organic group introduced into the side chain and / or the terminal, which is reactive depending on the nature of the organic group to be introduced. Examples of the reactive silicone-based release agent include amino-modified silicone, epoxy-modified silicone, mercapto-modified silicone, carboxyl-modified silicone, carbinol-modified silicone, phenol-modified silicone, methacryl-modified silicone, and heterogeneous functional group-modified silicone. .. More specifically, amino-modified polydimethylsiloxane, epoxy-modified polydimethylsiloxane, mercapto-modified polydimethylsiloxane, carboxyl-modified polydimethylsiloxane, carbinol-modified polydimethylsiloxane, phenol-modified polydimethylsiloxane, methacryl-modified polydimethylsiloxane, heterologous. Examples thereof include functional group-modified polydimethylsiloxane. As the reactive silicone-based release agent, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
非反応性シリコーン系離型剤は、アミノ基、エポキシ基、メルカプト基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、(メタ)アクリロイル基、アリル基等の反応性官能基を有しないシリコーンであれば特に制限されない。非反応性シリコーン系離型剤としては、例えば、ポリシロキサンからなるシリコーンのほか、ポリエーテル変性シリコーン、アラルキル変性シリコーン、フロロアルキル変性シリコーン、長鎖アルキル変性シリコーン、高級脂肪酸エステル変性シリコーン、高級脂肪酸アミド変性シリコーン、フェニル変性シリコーン等が挙げられる。より具体的には、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、アラルキル変性ポリジメチルシロキサン、フロロアルキル変性ポリジメチルシロキサン、長鎖アルキル変性ポリジメチルシロキサン、高級脂肪酸エステル変性ポリジメチルシロキサン、高級脂肪酸アミド変性ポリジメチルシロキサン、フェニル変性ポリジメチルシロキサン等が挙げられる。非反応性シリコーン系離型剤は、1種類を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 The non-reactive silicone-based release agent is not particularly limited as long as it is a silicone having no reactive functional group such as an amino group, an epoxy group, a mercapto group, a carboxy group, a hydroxy group, a (meth) acryloyl group and an allyl group. Examples of the non-reactive silicone-based release agent include silicone composed of polysiloxane, polyether-modified silicone, aralkyl-modified silicone, fluoroalkyl-modified silicone, long-chain alkyl-modified silicone, higher fatty acid ester-modified silicone, and higher fatty acid amide. Examples thereof include modified silicone and phenyl-modified silicone. More specifically, polyether-modified polydimethylsiloxane, aralkyl-modified polydimethylsiloxane, fluoroalkyl-modified polydimethylsiloxane, long-chain alkyl-modified polydimethylsiloxane, higher fatty acid ester-modified polydimethylsiloxane, higher fatty acid amide-modified polydimethylsiloxane, Examples thereof include phenyl-modified polydimethylsiloxane. One type of non-reactive silicone-based release agent may be used alone, or two or more types may be used in combination.
ポリエーテル変性シリコーン
第2層4の形成原料として熱硬化性樹脂組成物が使用され、熱硬化性樹脂組成物が水溶性熱可塑性樹脂組成物(例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、スルホンアミド樹脂、グリオキザール樹脂、グアナミン樹脂等)を含む場合、第2層4に含まれるシリコーン系離型剤として、ポリエーテル変性シリコーンを使用することが好ましい。ポリエーテル変性シリコーンは、主鎖がポリシロキサンであり、1個以上のポリオキシアルキレン基を置換基として有するものである。主鎖は環を形成していてもよい。
A thermosetting resin composition is used as a raw material for forming the polyether-modified silicone
ポリエーテル変性シリコーンにおけるポリオキシアルキレン基の結合位置は、任意の適切な結合位置であり得る。例えば、ポリオキシアルキレン基は、主鎖の両末端に結合されていてもよいし、主鎖の片末端に結合されていてもよいし、側鎖に結合されていてもよい。ポリエーテル変性シリコーンは、ポリオキシアルキレン基が側鎖に結合された側鎖型ポリエーテル変性シリコーンであることが好ましい。 The bonding position of the polyoxyalkylene group in the polyether-modified silicone can be any suitable bonding position. For example, the polyoxyalkylene group may be attached to both ends of the main chain, to one end of the main chain, or to the side chain. The polyether-modified silicone is preferably a side-chain type polyether-modified silicone in which a polyoxyalkylene group is bonded to a side chain.
側鎖型ポリエーテル変性シリコーンは、例えば、一般式(1)で表される。 The side chain type polyether-modified silicone is represented by, for example, the general formula (1).
一般式(1)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜3のアルキル基を表し、R1は炭素数1〜4のアルキレン基を表し、R2は水素原子又は炭素数1〜15のアルキル基を表し、R3は−(C2H4O)a−(C3H6O)b−で表されるポリオキシアルキレン基であり、aは1〜50であり、bは0〜30であり、mは1〜7000であり、nは1〜50である。 In the general formula (1), R independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 1 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R 2 represents a hydrogen atom or 1 to 15 carbon atoms. Representing an alkyl group, R 3 is a polyoxyalkylene group represented by − (C 2 H 4 O) a − (C 3 H 6 O) b −, a is 1 to 50, and b is 0 to 0. It is 30, m is 1 to 7000, and n is 1 to 50.
一般式(1)中、Rは、好ましくはメチル基である。 In the general formula (1), R is preferably a methyl group.
ポリエーテル変性シリコーンとしては、例えば、信越シリコーン(株)製の商品名「KF−6011」(HLB:14.5)、「KF−6011P」(HLB:14.5)、「KF−6012」(HLB:7.0)、「KF−6013」(HLB:10.0)、「KF−6015」(HLB:4.5)、「KF−6016」(HLB:4.5)、「KF−6017」(HLB:4.5)、「KF−6017P」(HLB:4.5)、「KF−6043」(HLB:14.5)、「KF−6004」(HLB:9.0)、「KF351A」(HLB:12)、「KF352A」(HLB:7)、「KF353」(HLB:10)、「KF354L」(HLB:16)、「KF355A」(HLB:12)、「KF615A」(HLB:10)、「KF945」(HLB:4)、「KF−640」(HLB:14)、「KF−642」(HLB:12)、「KF−643」(HLB:14)、「KF−644」(HLB:11)、「KF−6020」(HLB:4)、「KF−6204」(HLB:10)、「X22−4515」(HLB:5)等の側鎖型(直鎖タイプ)ポリエーテル変性シリコーンオイル;信越シリコーン(株)製の商品名「KF−6028」(HLB:4.0)、「KF−6028P」(HLB:4.0)等の側鎖型(分岐鎖タイプ)ポリエーテル変性シリコーンオイル;信越シリコーン(株)製の商品名「KF−6038」(HLB:3.0)等の側鎖型(分岐鎖タイプ、アルキル共変性タイプ)ポリエーテル変性シリコーンオイル等が挙げられる。 Examples of the polyether-modified silicone include trade names "KF-6011" (HLB: 14.5), "KF-6011P" (HLB: 14.5), and "KF-6012" manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. HLB: 7.0), "KF-6013" (HLB: 10.0), "KF-6015" (HLB: 4.5), "KF-6016" (HLB: 4.5), "KF-6017" (HLB: 4.5), "KF-6017P" (HLB: 4.5), "KF-6043" (HLB: 14.5), "KF-6004" (HLB: 9.0), "KF351A" (HLB: 12), "KF352A" (HLB: 7), "KF353" (HLB: 10), "KF354L" (HLB: 16), "KF355A" (HLB: 12), "KF615A" (HLB: 10) ), "KF945" (HLB: 4), "KF-640" (HLB: 14), "KF-642" (HLB: 12), "KF-643" (HLB: 14), "KF-644" ( Side-chain type (linear type) polyether modification such as HLB: 11), "KF-6020" (HLB: 4), "KF-6204" (HLB: 10), "X22-4515" (HLB: 5) Silicone oil; side chain type (branched chain type) polyether modification such as trade name "KF-6028" (HLB: 4.0), "KF-6028P" (HLB: 4.0) manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. Silicone oil; side chain type (branched chain type, alkyl co-modified type) polyether-modified silicone oil such as trade name "KF-6038" (HLB: 3.0) manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. can be mentioned.
補強層
補強層6は、化粧板1を補強する層である。図3〜図5に示すように、補強層6は、支持シート2の主面のうち、第1層3及び第2層4と反対側の主面、すなわち第2主面S2に積層されている。補強層6は、例えば、多孔質シートと、多孔質シートの空隙に存在する熱硬化性樹脂の硬化物とを有する。補強層6は、例えば、熱硬化性樹脂含浸シートを加熱して、熱硬化性樹脂を硬化させることにより形成することができる。熱硬化性樹脂としては、例えば、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂(2液硬化性ポリウレタンも含む)、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂含浸シートとしては、例えば、メラミン樹脂化粧板等のコア紙として汎用されているフェノール樹脂含浸紙等が挙げられる。
Reinforcing layer The reinforcing
フェノール樹脂含浸紙は、通常、坪量150〜250g/m2のクラフト紙にフェノール樹脂を含浸率45〜60%となるように含浸し、100〜140℃で乾燥させることにより製造された紙である。フェノール樹脂含浸紙には、市販品を使用することができる。フェノール樹脂含浸紙を積層する際には、必要に応じて、支持シート2の第2主面S2にコロナ放電処理を施したり、プライマー層を形成したりしてもよい。
Phenol resin impregnated paper is usually a paper produced by impregnating kraft paper having a basis weight of 150 to 250 g / m 2 with phenol resin so as to have an impregnation rate of 45 to 60% and drying at 100 to 140 ° C. be. Commercially available products can be used for the phenol resin impregnated paper. When laminating the phenol resin impregnated paper, if necessary, the second main surface S2 of the
化粧板1は、必要に応じて、補強層6の両面のうち一方又は両方に積層されたその他の補強層を有していてもよい。例えば、化粧板1がメラミン樹脂化粧板である場合、補強層6として使用されるコア紙の黒褐色の色調が化粧板表面から透視されることを隠蔽するために、チタン白顔料を混抄した所謂チタン紙からなるバリアー紙を、コア紙と支持シート2との間に積層することができる。また、熱圧成形の際に生じる化粧板1の反りを相殺するために、チタン紙からなるバランス紙等を、補強層6の裏面(支持シート2の第2主面S2とは反対側の面)に積層することができる。これらのその他の補強層は、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂を含む未硬化状態の樹脂組成物を含浸した上で、その他の層(例えば、支持シート2)と共に熱圧成形することにより、その他の層と一体化することができる。
The
接着剤層
化粧板1は、必要に応じて、接着剤層を有していてもよい。接着剤層は、例えば、支持シート2と第1層3との間、及び/又は、支持シート2と第2層4との間に、これらの層の密着性を高めるため形成することができる。接着剤層は、透明性接着剤層であることが好ましい。「透明性」には、無色透明、着色透明、半透明等のいずれも包含される。
The adhesive layer
接着剤は特に限定されず、化粧板の分野で公知の接着剤を適宜選択して使用することができる。接着剤としては、例えば、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂等の熱可塑性樹脂、ウレタン系樹脂等の熱硬化性樹脂等が挙げられる。接着剤は1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。また、イソシアネートを硬化剤とする二液硬化型ポリウレタン樹脂又はポリエステル樹脂も使用可能である。 The adhesive is not particularly limited, and an adhesive known in the field of decorative boards can be appropriately selected and used. Examples of the adhesive include thermoplastic resins such as polyamide resins, acrylic resins and vinyl acetate resins, and thermosetting resins such as urethane resins. One type of adhesive may be used alone, or two or more types may be used in combination. A two-component curable polyurethane resin or polyester resin using isocyanate as a curing agent can also be used.
接着剤層の厚さは特に限定されないが、乾燥後の厚さは、例えば0.1〜30μm、好ましくは1〜20μmである。 The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but the thickness after drying is, for example, 0.1 to 30 μm, preferably 1 to 20 μm.
プライマー層
化粧板1は、支持シート2の第2主面S2、補強層6の裏面(支持シート2の第2主面S2と反対側の面)等に、必要に応じて、プライマー層を有していてもよい。プライマー層を設けると、例えば、化粧板1と被着材とを積層して、化粧部材を製造する際に有用である。被着材としては、例えば、各種素材の平板、曲面板等の板材、立体形状物品、シート(或いはフィルム)等が挙げられる。具体的には、木材単板、木材合板、パーティクルボード、MDF(中密度繊維板)等の木質繊維板等の板材や立体形状物品等として使用される木質部材;鉄、アルミニウム等の板材や鋼板、立体形状物品、あるいはシート等として使用される金属部材;ガラス、陶磁器等のセラミックス、石膏等の非セメント窯業系材料、ALC(軽量気泡コンクリート)板等の非陶磁器窯業系材料等の板材や立体形状物品等として使用される窯業部材;アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ABS(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体)樹脂、フェノール樹脂、塩化ビニル樹脂、セルロース系樹脂、ゴム等の板材、立体形状物品、あるいはシート等として使用される樹脂部材等が挙げられる。また、これらの部材は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
The primer layer
被着材は、用途に応じて適宜選択すればよく、壁、天井、床等の建築物の内外装用部材、窓枠、扉、手すり、幅木、廻り縁、モール等の建具を用途とする場合は、木質部材、金属部材、樹脂部材、これらの組み合わせた部材が好ましい。被着材の厚さは、用途及び材料に応じて適宜選択すればよく、通常0.1〜5mm、好ましくは0.1〜3mmである。 The adherend may be appropriately selected according to the intended use, and is used for interior / exterior members of buildings such as walls, ceilings, and floors, and fittings such as window frames, doors, handrails, skirting boards, peripheral edges, and moldings. In this case, a wood member, a metal member, a resin member, and a member in which these are combined are preferable. The thickness of the adherend may be appropriately selected depending on the application and the material, and is usually 0.1 to 5 mm, preferably 0.1 to 3 mm.
プライマー層は、公知のプライマー剤を、支持シート2の第2主面S2、補強層6の裏面(支持シート2の第2主面S2と反対側の面)等に塗布することにより形成できる。プライマー剤としては、例えば、アクリル変性ウレタン樹脂(アクリルウレタン系樹脂)等からなるウレタン樹脂系プライマー剤、ウレタン−セルロース系樹脂(例えば、ウレタンと硝化綿の混合物にヘキサメチレンジイソシアネートを添加してなる樹脂)からなるプライマー剤、アクリルとウレタンのブロック共重合体からなる樹脂系プライマー剤等が挙げられる。プライマー剤には、必要に応じて、添加剤を配合してもよい。添加剤としては、例えば、炭酸カルシウム、クレー等の充填剤、水酸化マグネシウム等の難燃剤、酸化防止剤、滑剤、発泡剤、紫外線吸収剤、光安定剤等が挙げられる。添加剤の配合量は、製品特性に応じて適宜調整することができる。
The primer layer can be formed by applying a known primer agent to the second main surface S2 of the
プライマー剤の塗布量は特に限定されないが、通常0.1〜100g/m2、好ましくは0.1〜50g/m2である。プライマー層の厚さは特に限定されないが、通常0.01〜10μm、好ましくは0.1〜1μmである。 The amount of the primer applied is not particularly limited, but is usually 0.1 to 100 g / m 2 , preferably 0.1 to 50 g / m 2 . The thickness of the primer layer is not particularly limited, but is usually 0.01 to 10 μm, preferably 0.1 to 1 μm.
化粧板1は、鮮明な凹凸形状が賦形されており、グロスマット調の凹凸形状を含む凹凸形状の意匠感を表現することができるので、意匠性の高い化粧板である。化粧板1は、所定の成形加工等を施し、各種用途に用いることができる。例えば、化粧板1を木質基材、金屬基材、非金屬無機質基材、樹脂基材等の基材上に積層し、壁、天井、床等の建築物の内装、車輛、船舶等の乗物の内裝、家具又は弱電又はOA機器のキャビネット等に利用することができる。木質基材として、具体的には、杉、檜、欅、松、樫、ラワン、チーク、メラピー等の各種素材から作られた突板、木材単板、木材合板、パーティクルボード、中密度繊維板(MDF)、集成材、チップボード、又はチップボードが積層された複合基材等が挙げられる。金屬基材としては、鉄、銅、アルミニウム、チタニウム等の金屬単体、或いはこれら金屬の1種以上を含む合金からなる基材等が挙げられる。非金屬無機材料基材としては、珪酸カルシウム、石膏、セメント、陶磁器等の窯業系材料、或いは花崗岩、石灰岩等の石材からなる基材等が挙げられる。樹脂基材としては、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂等からなる基材等が挙げられる。
The
耐摩耗層
化粧板1は、耐摩耗層をさらに備えていてもよい。耐摩耗層は、例えば、第2層4上、又は、支持シート2と第2層4との間に設けることができる。
The wear-resistant layer
耐摩耗層の厚さは特に限定されないが、耐摩耗性インキの塗工時の厚さは、例えば10〜100μm、乾燥後の厚さは、例えば2〜20μmである。 The thickness of the abrasion-resistant layer is not particularly limited, but the thickness of the abrasion-resistant ink at the time of coating is, for example, 10 to 100 μm, and the thickness after drying is, for example, 2 to 20 μm.
耐摩耗層の形成には、例えば、耐摩耗性インキを使用することができる。耐摩耗性インキに含まれる樹脂としては、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等の硬化性樹脂、熱可塑性樹脂を使用することができる。これらの樹脂に関する説明は上記と同様であるので省略する。耐摩耗性インキに含まれる樹脂は、耐摩耗層の形成が容易な点で、ポリウレタン樹脂(2液硬化型ポリウレタンも含む)が好ましい。耐摩耗性インキには、架橋剤、硬化剤、重合促進剤等を添加することができる。 For the formation of the abrasion resistant layer, for example, abrasion resistant ink can be used. As the resin contained in the abrasion resistant ink, a thermosetting resin, a curable resin such as an ionizing radiation curable resin, and a thermoplastic resin can be used. The description of these resins is the same as above and will be omitted. As the resin contained in the abrasion-resistant ink, a polyurethane resin (including a two-component curable polyurethane) is preferable because an abrasion-resistant layer can be easily formed. A cross-linking agent, a curing agent, a polymerization accelerator and the like can be added to the abrasion-resistant ink.
耐摩耗性インキには、耐摩耗性を付与する目的で、フィラーを含有させることが好ましい。フィラーは特に限定されず、無機フィラー又は有機フィラーを使用することができる。 The abrasion-resistant ink preferably contains a filler for the purpose of imparting abrasion resistance. The filler is not particularly limited, and an inorganic filler or an organic filler can be used.
無機フィラーとしては、例えば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、シリカ、カオリン、クレー、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、水酸化カルシウム、水酸化アルミニウム、アルミナ、水酸化マグネシウム、タルク、マイカ、ハイドロタルサイト、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、焼成タルク、ウォラストナイト、チタン酸カリウム、硫酸マグネシウム、硫酸カルシウム、燐酸マグネシウム等が挙げられる。 Examples of the inorganic filler include calcium carbonate, magnesium carbonate, silica, kaolin, clay, calcium oxide, magnesium oxide, titanium oxide, zinc oxide, barium sulfate, calcium hydroxide, aluminum hydroxide, alumina, magnesium hydroxide, and talc. Examples thereof include mica, hydrotalcite, aluminum silicate, magnesium silicate, calcium silicate, calcined talc, wollastonite, potassium titanate, magnesium sulfate, calcium sulfate, magnesium phosphate and the like.
有機フィラーとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂;フッ素系樹脂;スチレン系樹脂;エポキシ系樹脂;メラミン系樹脂;尿素系樹脂;アクリル系樹脂;フェノール系樹脂;ポリイミド系樹脂;ポリアミド系樹脂;ポリエステル系樹脂等が挙げられる。また、これらの樹脂の共重合体を使用することもできる。 Examples of the organic filler include polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; fluororesins; styrene resins; epoxy resins; melamine resins; urea resins; acrylic resins; phenol resins; polyimide resins; polyamide resins; Examples include polyester resins. Moreover, a copolymer of these resins can also be used.
フィラーとしては、耐摩耗性に優れる点で、無機フィラーを使用することが好ましく、特に、アルミナ、シリカ、ジルコニアを使用することがより好ましい。フィラーは、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 As the filler, it is preferable to use an inorganic filler from the viewpoint of excellent wear resistance, and it is more preferable to use alumina, silica, and zirconia. One type of filler may be used alone, or two or more types may be used in combination.
フィラーの形状は特に限定されず、多面体球状、球状、多面体形状等のいずれの形状であってもよい。 The shape of the filler is not particularly limited, and may be any shape such as a polyhedral spherical shape, a spherical shape, and a polyhedral shape.
フィラーの平均粒子径は、好ましくは3〜50μm、さらに好ましくは5〜30μmである。フィラーの平均粒子径を上記範囲とすることで、耐摩耗層の耐摩耗性がより優れたものとなる。なお、フィラーの平均粒子径は、レーザー回折散乱法により測定される値である。 The average particle size of the filler is preferably 3 to 50 μm, more preferably 5 to 30 μm. By setting the average particle size of the filler in the above range, the wear resistance of the wear-resistant layer becomes more excellent. The average particle size of the filler is a value measured by the laser diffraction / scattering method.
フィラーのモース硬度の好ましい下限は4であり、好ましい上限は9である。さらに好ましい下限は7である。フィラーとして、モース硬度が上記範囲のものを使用することにより、化粧板1が、より優れた耐摩耗性を示すことができる。
The preferred lower limit of the Mohs hardness of the filler is 4, and the preferred upper limit is 9. A more preferable lower limit is 7. By using a filler having a Mohs hardness in the above range, the
なお、フィラーのモース硬度は、モース硬度計により測定される値である。具体的には、モース硬度は、軟らかい鉱物より硬い鉱物に至る10種の鉱物を箱に収め、軟らかいものから1度、2度、・・・・・10度として硬度の順位を示したものである。標準鉱物は次の通りである(数字は硬度を示す)。1:カッ石 2:セッコウ 3:ホウカイ石 4:ホタル石5:リンカイ石 6:セイチョウ石 7:セキエイ 8:トパズ9:コランダム 10:ダイヤモンド The Mohs hardness of the filler is a value measured by a Mohs hardness meter. Specifically, the Mohs hardness is a box containing 10 types of minerals ranging from soft minerals to hard minerals, and the hardness ranks are shown as 1 degree, 2 degrees, ... 10 degrees from the soft ones. be. The standard minerals are as follows (numbers indicate hardness). 1: Gypsum stone 2: Gypsum 3: Gypsum stone 4: Fluorite stone 5: Linkai stone 6: Seicho stone 7: Sekiei 8: Topaz 9: Corundum 10: Diamond
硬さを求める鉱物試料の面を、これらの鉱物で引っ掻いて傷を付けようとするとき、それに抵抗する力(傷が付くか付かないか)により硬さを比較する。例えば、ホウカイ石に傷が付くときは、試料の硬さは3度より大きい。もし、ホタル石で傷が付き、逆にホタル石に傷が付かないときは、この試料の硬さは4度より小さい。このとき、試料の硬さは3乃至4または3.5と示す。互いに多少傷が付くときは、試料の硬さは用いた標準鉱物と同じ順位の硬さを示す。 When the surface of a mineral sample for which hardness is to be determined is scratched with these minerals, the hardness is compared by the force that resists it (whether it is scratched or not). For example, when the Hokai stone is scratched, the hardness of the sample is greater than 3 degrees. If the fluorite is scratched and conversely the fluorite is not scratched, the hardness of this sample is less than 4 degrees. At this time, the hardness of the sample is indicated as 3 to 4 or 3.5. When they are slightly scratched, the hardness of the sample shows the same hardness as the standard mineral used.
耐摩耗性インキ中のフィラーの含有量は、耐摩耗性インキを100質量%として、5〜50質量%が好ましく、10〜30質量%がより好ましい。耐摩耗性インキ中のフィラーの含有量を上記範囲に調整することで、耐摩耗層の耐摩耗性がより優れ、第2層4の表面の平滑性を損ねないので、第2層4の表面がグロスの意匠感を表現し易くなる。
The content of the filler in the abrasion-resistant ink is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 30% by mass, with the abrasion-resistant ink as 100% by mass. By adjusting the content of the filler in the abrasion-resistant ink to the above range, the abrasion resistance of the abrasion-resistant layer is more excellent and the smoothness of the surface of the
耐摩耗性インキは、無色であってもよいし、着色されていてもよい。着色する場合には、後述する絵柄模様層で使用する着色剤と同様のものを使用することができる。 The abrasion resistant ink may be colorless or colored. In the case of coloring, the same colorant as that used in the pattern layer described later can be used.
耐摩耗性インキは、粘度を調整する目的で溶媒を含有してもよい。溶媒としては、水;トルエン、キシレン等の炭化水素化合物;メタノール、エタノール、メチルグリコール等のアルコール化合物;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン化合物;ギ酸メチル、酢酸エチル等のエステル化合物;N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物;テロラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル化合物;塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素化合物;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらの溶媒は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。耐摩耗性インキ中の溶媒の量は、インキの粘度に応じて適宜設定することができる。 The abrasion resistant ink may contain a solvent for the purpose of adjusting the viscosity. As the solvent, water; hydrocarbon compounds such as toluene and xylene; alcohol compounds such as methanol, ethanol and methyl glycol; ketone compounds such as acetone and methyl ethyl ketone; ester compounds such as methyl formate and ethyl acetate; N-methylpyrrolidone and N. , Nitrogen-containing compounds such as N-dimethylformamide; ether compounds such as terrorahydrofuran and dioxane; halogenated hydrocarbon compounds such as methylene chloride and chloroform; dimethyl sulfoxide and the like. These solvents can be used alone or in admixture of two or more. The amount of the solvent in the abrasion-resistant ink can be appropriately set according to the viscosity of the ink.
耐摩耗性インキには、得られる所望物性に応じて、公知の添加剤を配合することができる。添加剤として、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、架橋剤、帯電防止剤、酸化防止剤、レベリング剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤、熱ラジカル発生剤、アルミキレート剤等が挙げられる。 Known additives can be added to the abrasion-resistant ink depending on the desired physical properties to be obtained. As additives, for example, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, light stabilizers, polymerization inhibitors, cross-linking agents, antistatic agents, antioxidants, leveling agents, coupling agents, plasticizers, defoamers, fillers, Examples include thermal radical generators and aluminum chelating agents.
耐摩耗層は、例えば、所定の表面に耐摩耗性インキを塗布し、耐摩耗性インキに含まれる樹脂を乾燥及び/又は硬化させることにより形成することができる。耐摩耗性インキの塗布方法としては、例えば、ロールコート法、コンマコート法、カーテンコート法、スクイズコート法、ブレードコート法、グラビアコート法等が挙げられる。 The abrasion-resistant layer can be formed, for example, by applying an abrasion-resistant ink to a predetermined surface and drying and / or curing the resin contained in the abrasion-resistant ink. Examples of the method for applying the abrasion-resistant ink include a roll coating method, a comma coating method, a curtain coating method, a squeeze coating method, a blade coating method, and a gravure coating method.
化粧板の製造方法
以下、図面に基づいて、本発明に係る化粧板の製造方法の実施形態について説明する。図8及び図9は、本発明に係る化粧板の製造方法の一実施形態を説明するための説明図である。なお、図9は、図8の続きである。
Method for Manufacturing Decorative Board Hereinafter, embodiments of the method for manufacturing a decorative board according to the present invention will be described with reference to the drawings. 8 and 9 are explanatory views for explaining an embodiment of the method for manufacturing a decorative board according to the present invention. Note that FIG. 9 is a continuation of FIG.
本実施形態に係る化粧板1の製造方法は、
(1)第1主面S1及び第1主面S1の反対側に位置する第2主面S2を有する支持シート2を準備する工程、
(2)支持シート2の第1主面S1の一部に第1層3を形成する工程、
(3)支持シート2の第1主面S1の残部に、第1層3を囲繞し、かつ、第1層3の少なくとも一部を被覆する被覆層CLを形成する工程、
(4)被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1を第1方向Xに沿って剥離し、支持シート2の第1主面S1の残部に第2層4を形成する工程
を含む。
以下、各工程について説明する。
The method for manufacturing the
(1) A step of preparing a
(2) A step of forming the
(3) A step of forming a coating layer CL that surrounds the
(4) The step of peeling the portion CL1 covering the
Hereinafter, each step will be described.
工程(1)
工程(1)では、図8(a)に示すように、第1主面S1及び第1主面S1の反対側に位置する第2主面S2を有する支持シート2を準備する。
Process (1)
In the step (1), as shown in FIG. 8A, a
図8(a)に示すように、支持シート2は、支持シート2の第1主面S1側に位置する第1主面T1及び支持シート2の第2主面S2側に位置する第2主面T2を有する基材シート21と、基材シート21の第1主面T1に設けられた装飾層22とを有する。
As shown in FIG. 8A, the
支持シート2は、基材シート21の第1主面T1に装飾層22を形成することにより製造することができる。基材シート21の第1主面T1に装飾層22を形成する前に、基材シート21の第1主面T1に、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理等の処理を施してもよい。これにより、装飾層22の密着性を高めることができる。
The
装飾層22は、例えば、着色層、絵柄層又はこれらの組み合わせである。本実施形態における装飾層22は、図1に示すように、化粧板1に木目模様を付与する。
The
着色層は、例えば、基材シート21の第1主面T1の全面に形成されたベタ層である。ベタ層の形成方法としては、例えば、ロールコート法、ナイフコート法、エアーナイフコート法、ダイコート法、リップコート法、コンマコート法、キスコート法、フローコート法、ディップコート法等のコーティング法が挙げられる。
The colored layer is, for example, a solid layer formed on the entire surface of the first main surface T1 of the
絵柄層は、例えば、印刷法により基材シート21の第1主面T1の一部又は全体或いは着色層の表面の一部又は全体に形成された印刷層である。絵柄層の形成に使用される印刷法としては、例えば、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等が挙げられる。
The pattern layer is, for example, a printing layer formed on a part or the whole of the first main surface T1 of the
装飾層22の形成に使用されるインキは、例えば、溶剤又は分散媒と、着色剤、バインダー樹脂等の成分との混合物である。インキは、その他の成分として、着色剤、体質顔料、安定剤、可塑剤、触媒、硬化剤等を含んでもよい。インキは、シートのVOC(揮発性有機化合物)を低減する観点から、水性組成物であってもよい。
The ink used to form the
インキに含まれる着色剤としては、例えば、カーボンブラック、鉄黒、チタン白、アンチモン白、黄鉛、チタン黄、弁柄、カドミウム赤、群青、コバルトブルー等の無機顔料;キナクリドンレッド、イソインドリノンイエロー、フタロシアニンブルー等の有機顔料又は染料;アルミニウム、真鍮等の鱗片状箔片からなる金属顔料;二酸化チタン被覆雲母、塩基性炭酸鉛等の鱗片状箔片からなる真珠光沢(パール)顔料等が挙げられる。着色剤は、1種類を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 Colorants contained in the ink include, for example, inorganic pigments such as carbon black, iron black, titanium white, antimony white, yellow lead, titanium yellow, petal handle, cadmium red, ultramarine blue, cobalt blue; quinacridone red, isoindolinone. Organic pigments or dyes such as yellow and phthalocyanine blue; metal pigments made of scaly foil pieces such as aluminum and brass; pearl gloss pigments made of scaly foil pieces such as titanium dioxide-coated mica and basic lead carbonate. Can be mentioned. One type of colorant may be used alone, or two or more types may be used in combination.
インキに含まれるバインダー樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル/酢酸ビニル/アクリル共重合体樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ブチラール樹脂、ポリスチレン樹脂、ニトロセルロース樹脂(硝化綿)、酢酸セルロース樹脂等が挙げられる。バインダー樹脂は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 Examples of the binder resin contained in the ink include urethane resin, acrylic urethane resin, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer resin, vinyl chloride / vinyl acetate / acrylic copolymer resin, chlorinated polypropylene resin, acrylic resin, and polyester resin. , Polylamin resin, butyral resin, polystyrene resin, nitrocellulose resin (nitrated cotton), cellulose acetate resin and the like. As the binder resin, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
インキに含まれる溶剤又は分散媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の石油系有機溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−2−メトキシエチル、酢酸−2−エトキシエチル等のエステル系有機溶剤;メチルアルコール、エチルアルコール、ノルマルプロピルアルコール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール系有機溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系有機溶剤;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系有機溶剤;ジクロロメタン、四塩化炭素、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等の塩素系有機溶剤;水等の無機溶剤等が挙げられる。溶剤又は分散媒は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 Examples of the solvent or dispersion medium contained in the ink include petroleum-based organic solvents such as hexane, heptane, octane, toluene, xylene, ethylbenzene, cyclohexane, and methylcyclohexane; ethyl acetate, butyl acetate, -2-methoxyethyl acetate, and acetate. Ester-based organic solvents such as -2-ethoxyethyl; alcohol-based organic solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, normal propyl alcohol, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc. Ketone-based organic solvent; ether-based organic solvent such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran; chlorine-based organic solvent such as dichloromethane, carbon tetrachloride, trichloroethylene, tetrachloroethylene; inorganic solvent such as water and the like. As the solvent or dispersion medium, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
装飾層22は、手描き法、墨流し法、写真法、転写法、レーザービーム描画法、電子ビーム描画法等の方法により形成してもよい。また、装飾層22がアルミニウム、クロム、金、銀、銅等の金属層(金属薄膜)である場合、蒸着法、スパッタリング法、エッチング法等の方法により装飾層22を形成することができる。
The
装飾層22の厚さは、製品特性に応じて適宜調整することができるが、インキ塗工時の厚さは、例えば1〜200μmであり、乾燥後の厚さは、例えば0.1〜20μmである。
The thickness of the
工程(2)
工程(2)では、図8(b)に示すように、支持シート2の第1主面S1の一部に第1層3を形成する。これにより、支持シート2と、支持シート2の第1主面S1の一部に形成された第1層3とを備える中間体M1が形成される。第1層3は、支持シート2の第1主面S1の一部に、第1方向Xに沿って延在するように形成される。
Process (2)
In the step (2), as shown in FIG. 8 (b), the
第1層3を形成するための樹脂組成物(塗工液)としては、例えば、熱硬化性樹脂組成物、電離放射線硬化性樹脂組成物、熱可塑性樹脂組成物等を使用することができる。熱硬化性樹脂組成物を使用する場合、例えば、支持シート2の第1主面S1の一部に熱硬化性樹脂組成物を所定の模様状に印刷し、加熱して硬化させることにより、第1層3を形成することができる。電離放射線硬化性樹脂組成物を使用する場合、例えば、支持シート2の第1主面S1の一部に電離放射線硬化性樹脂組成物を所定の模様状に印刷し、電離放射線を照射して硬化させることにより、第1層3を形成することができる。熱可塑性樹脂組成物を使用する場合、例えば、支持シート2の第1主面S1の一部に熱可塑性樹脂組成物を所定の模様状に印刷して乾燥させることにより、第1層3を形成することができる。第1層3の形成に使用される印刷法としては、例えば、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等が挙げられる。第1層3を形成するための樹脂組成物は印刷法以外の方法で支持シート2の第1主面S1の一部に塗布してもよく、樹脂組成物を塗布する方法としては、例えば、ロールコート法、グラビアコート法等の塗布法が挙げられる。
As the resin composition (coating liquid) for forming the
第1層3を形成するための樹脂組成物がシリコーン系離型剤(シリコーンオイル)を含む場合、シリコーン系離型剤は、樹脂組成物の硬化時に、第1層3の表面に配向するので、第1層3に離型性が付与される。これにより、工程(4)において、被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1を剥離する際、第1層3を被覆する部分CL1の剥離性を向上させることができる。
When the resin composition for forming the
シリコーン系離型剤(シリコーンオイル)の使用量は、第1層3を形成するための樹脂組成物に含まれる樹脂100質量部あたり、通常0.1〜50質量部、好ましくは0.5〜20質量部、さらに好ましくは3〜20質量部、さらに一層好ましくは3〜10質量部である。シリコーン系離型剤(シリコーンオイル)の使用量が上記範囲であると、工程(4)において、被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1を剥離する際、第1層3を被覆する部分CL1の剥離性を向上させることができる。
The amount of the silicone release agent (silicone oil) used is usually 0.1 to 50 parts by mass, preferably 0.5 to 50 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin contained in the resin composition for forming the
第1層3を形成するための樹脂組成物(塗工液)としては、電離放射線硬化性樹脂を使用することが好ましい。この場合、第1層3は、電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層であり、工程(2)は、(2−1)電離放射線硬化性樹脂を含む電離放射線硬化性樹脂組成物を使用して、支持シート2の第1主面S1の一部を被覆する電離放射線硬化性樹脂組成物層を形成する工程、及び、(2−2)電離放射線硬化性樹脂組成物層を硬化させて硬化樹脂層を第1層3として形成する工程を含む。
It is preferable to use an ionizing radiation curable resin as the resin composition (coating liquid) for forming the
電離放射線硬化性樹脂組成物層を硬化させるための電離放射線として紫外線を使用する場合には、紫外線源として、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源を使用することができる。紫外線の波長は、例えば、190〜380nmである。電離放射線硬化性樹脂組成物層を硬化させるための電離放射線として電子線を使用する場合には、電子線源として、例えば、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の電子線加速器を使用することができる。電子線のエネルギーは、好ましくは100〜1000keV、さらに好ましくは100〜300keVである。電子線の照射量は、好ましくは2〜15Mradである。 When ultraviolet rays are used as the ionizing radiation for curing the ionizing radiation curable resin composition layer, the ultraviolet sources include, for example, ultra-high pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, carbon arc lamp, black light fluorescent lamp, and metal halide. A light source such as a lamp lamp can be used. The wavelength of ultraviolet rays is, for example, 190 to 380 nm. When an electron beam is used as the ionizing radiation for curing the ionizing radiation curable resin composition layer, the electron beam source may be, for example, a cockcroftwald type, a bandegraft type, a resonance transformer type, or an insulated core transformer type. , Linear type, Dynamitron type, High frequency type and other electron beam accelerators can be used. The energy of the electron beam is preferably 100 to 1000 keV, more preferably 100 to 300 keV. The irradiation amount of the electron beam is preferably 2 to 15 Mrad.
第1層3を形成するための塗工液は、体質顔料を含むことが好ましい。これにより、塗工液にチキソトロピー性を付与することができ、版を用いて塗工液を印刷する際に、塗工液の模様形状を維持させることができる。体質顔料としては、例えば、シリカ、タルク、クレー、硫酸バリウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等が挙げられる。これらのうち、材料設計の自由度が高く、意匠性、白さ及びインキとしての塗工安定性に優れた材料であるシリカが好ましく、特に微粉末のシリカが好ましい。
The coating liquid for forming the
塗工液における体質顔料の含有量は、塗工液に含まれる樹脂100質量部あたり、通常0.1〜20質量部、好ましくは0.5〜15質量部、さらに好ましくは2〜15質量部であり、さらに一層好ましくは5〜15質量部である。体質顔料の含有量を上記範囲とすることにより、塗工液に十分なチキソトロピー性を付与することができるとともに、隆起形状及び微細凹凸面の発現を付与する効果が得られる。 The content of the extender pigment in the coating liquid is usually 0.1 to 20 parts by mass, preferably 0.5 to 15 parts by mass, and more preferably 2 to 15 parts by mass per 100 parts by mass of the resin contained in the coating liquid. It is even more preferably 5 to 15 parts by mass. By setting the content of the extender pigment in the above range, it is possible to impart sufficient thixotropy to the coating liquid, and it is possible to obtain the effect of imparting a raised shape and the appearance of fine uneven surfaces.
塗工液は、無色であってもよいし、着色されていてもよい。着色する場合には、装飾層で使用する着色剤と同様のものを使用することができる。 The coating liquid may be colorless or colored. In the case of coloring, the same colorant as that used in the decorative layer can be used.
塗工液は、粘度を調整する目的で溶媒を含んでもよい。溶媒としては、水;トルエン、キシレン等の炭化水素化合物;メタノール、エタノール、メチルグリコール等のアルコール化合物;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン化合物;ギ酸メチル、酢酸エチル等のエステル化合物;N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物;テロラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル化合物;塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素化合物;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらの溶媒は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。塗工液中の溶媒の量は、塗工液の粘度に応じて適宜設定することができる。 The coating liquid may contain a solvent for the purpose of adjusting the viscosity. As the solvent, water; hydrocarbon compounds such as toluene and xylene; alcohol compounds such as methanol, ethanol and methyl glycol; ketone compounds such as acetone and methyl ethyl ketone; ester compounds such as methyl formate and ethyl acetate; N-methylpyrrolidone and N. , Nitrogen-containing compounds such as N-dimethylformamide; ether compounds such as terrorahydrofuran and dioxane; halogenated hydrocarbon compounds such as methylene chloride and chloroform; dimethyl sulfoxide and the like. These solvents can be used alone or in admixture of two or more. The amount of the solvent in the coating liquid can be appropriately set according to the viscosity of the coating liquid.
塗工液には、望まれる物性に応じて、公知の添加剤を適宜配合することができる。添加剤として、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、架橋剤、帯電防止剤、酸化防止剤、レベリング剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤、熱ラジカル発生剤、アルミキレート剤等が挙げられる。 Known additives can be appropriately added to the coating liquid according to the desired physical characteristics. As additives, for example, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, light stabilizers, polymerization inhibitors, cross-linking agents, antistatic agents, antioxidants, leveling agents, coupling agents, plasticizers, defoamers, fillers, Examples include thermal radical generators and aluminum chelating agents.
第1層3は、支持シート2の第1主面S1に所定のパターンで形成することが好ましい。第1層3のパターンは、化粧板1表面において凹部又は低光沢(艷消)領域となる領域に対応することが好ましい。第1層3のパターンとしては、例えば、木目板の導管部、石板表面凹凸、布表面テクスチャア、梨地、砂目、ヘアライン、万線条溝、文字、記号、幾何学模様等が挙げられる。本実施形態において、第1層3は、支持シート2の第1主面S1に、木目模様の導管部のパターンで形成される。
のパターンは、
The
Pattern is
第1層3の厚さは特に限定されず、塗工時の厚さは、例えば1〜200μm、乾燥後の厚さは、例えば0.1〜20μmである。
The thickness of the
工程(3)
例えば、被覆層CLが、熱硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層である場合、工程(3)は、(3−1)熱硬化性樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物を使用して、支持シート2の第1主面S1の残部に、第1層3を囲繞し、かつ、第1層3の少なくとも一部を被覆する熱硬化性樹脂組成物層を形成する工程、及び、(3−2)熱硬化性樹脂組成物層を硬化させて硬化樹脂層を被覆層CLとして形成する工程を含む。
Process (3)
For example, when the coating layer CL is a curable resin layer containing a cured product of a thermosetting resin, step (3) uses a thermosetting resin composition containing (3-1) a thermosetting resin. A step of forming a thermosetting resin composition layer that surrounds the
例えば、基材シート21が多孔質シートであり、被覆層CLが、熱硬化性樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層である場合、工程(3)は、(3−1)熱硬化性樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物を使用して、支持シート2の第1主面S1の残部に、第1層3を囲繞し、かつ、第1層3の少なくとも一部を被覆する熱硬化性樹脂組成物層を形成する工程、及び、(3−2)熱硬化性樹脂組成物層を硬化させて硬化樹脂層を被覆層CLとして形成する工程を含み、工程(3−1)において、多孔質シートに前記熱硬化性樹脂組成物を含浸させ、工程(3−2)において、前記多孔質シートに含浸させた前記熱硬化性樹脂組成物を硬化させることができる。
For example, when the
工程(3)では、まず、図8(c)に示すように、支持シート2の第1主面S1の残部(すなわち、支持シート2の第1主面S1のうち第1層3が形成されていない領域)及び第1層3の少なくとも一部を、第2層4を形成するための樹脂組成物(塗工液)で被覆し、必要に応じて乾燥する。これにより、支持シート2と、支持シート2の第1主面S1の一部に形成された第1層3と、支持シート2の第1主面S1の残部に、第1層3を囲繞し、かつ、第1層3の少なくとも一部を被覆するように形成された樹脂組成物層PCとを備える中間体M2が形成される。
In the step (3), first, as shown in FIG. 8 (c), the remaining portion of the first main surface S1 of the support sheet 2 (that is, the
第2層4を形成するための樹脂組成物(塗工液)としては、例えば、熱硬化性樹脂組成物、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂組成物等を使用することができる。第1層3を形成するための樹脂組成物として電離放射線硬化性樹脂を使用する場合、第2層4を形成するための樹脂組成物として、熱硬化性樹脂組成物を使用することが好ましい。
As the resin composition (coating liquid) for forming the
支持シート2の第1主面S1の残部に、第1層3を囲繞し、かつ、第1層3の少なくとも一部を被覆するように、樹脂組成物層PCを形成する際、樹脂組成物は、例えば、支持シート2の第1主面S1側から供給される。基材シート21として多孔質シートが使用される場合、供給された樹脂組成物のうち、一部は基材シート21に含浸し、多孔質シートに含浸されない残部は、支持シート2の第1主面S1の残部及び第1層3の少なくとも一部を被覆する。なお、樹脂組成物は、第1層3には含浸されず、第1層3を被覆する。樹脂組成物の基材シート21への含浸を促進するために、支持シート2の第1主面S1側からの樹脂組成物の供給に加えて、支持シート2の第2主面S2側からの樹脂組成物の供給を行ってもよい。基材シート21として多孔質シートが使用される場合、支持シート2の第2主面S2側からの樹脂組成物の供給のみを行ってもよい。支持シート2の第2主面S2側からの樹脂組成物の供給のみが行われる場合も同様に、供給された樹脂組成物のうち、一部は、基材シート21に含浸し、多孔質シートに含浸されない残部は、支持シート2の第1主面S1の残部及び第1層3の少なくとも一部を被覆する。樹脂組成物の供給方法としては、例えば、樹脂組成物への浸漬;キスコーター、コンマコーター等のコーターによる塗布;スプレー装置、シャワー装置等による吹き付け等が挙げられる。
When forming the resin composition layer PC so as to surround the
なお、樹脂組成物は第1層3の少なくとも一部を被覆していればよく、例えば、第1層3が占める全面積(支持シート2の第1主面S1のうち第1層3が設けられている領域の面積)の30%以上が樹脂組成物により被覆されていればよい。第1層3の全面積における樹脂組成物の被覆割合は、50〜100%であることが好ましい。
The resin composition may cover at least a part of the
樹脂組成物層PCの厚さは特に限定されないが、塗工時では、例えば2〜250μmであり、乾燥後では、例えば2〜50μmである。 The thickness of the resin composition layer PC is not particularly limited, but is, for example, 2 to 250 μm at the time of coating and, for example, 2 to 50 μm after drying.
多孔質シートの空隙に充填される樹脂組成物の充填率は、化粧板1に求められる性能、多孔質シートの空隙率等に応じて適宜調整することができる。樹脂組成物の充填率は、好ましくは30〜200%、さらに好ましくは50〜150%である。なお、樹脂組成物の充填率は、下記式により算出される。
充填率(%)=[(樹脂組成物を含浸させた後の多孔質シートの重量−樹脂組成物を含浸させる前の多孔質シートの重量)/樹脂組成物を含浸させる前の多孔質シートの重量]×100
The filling rate of the resin composition filled in the voids of the porous sheet can be appropriately adjusted according to the performance required for the
Filling rate (%) = [(Weight of porous sheet after impregnation with resin composition-Weight of porous sheet before impregnation with resin composition) / Porous sheet before impregnation with resin composition Weight] x 100
樹脂組成物層PCを形成した後、硬化する前に、必要であれば、樹脂組成物層PCの表面の光沢を調整してもよい。例えば、樹脂組成物層PC上に光沢調整した賦型シートを積層した状態で硬化する方法、樹脂組成物層PC上にエンボス型板(テクスチャーを付けた鏡面板)を設置して硬化する方法等により、樹脂組成物層PCの表面の光沢を調整することができる。その後、工程(4)において、被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1を剥離することにより、化粧板1の表面に賦型による細かな凹凸によって光沢を調整した部分と、被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1を被覆層CLの残部CL2から剥離することで得られる深いマット意匠部とを備えた立体的で深みのある意匠の化粧板1を得ることができる。
After forming the resin composition layer PC and before curing, if necessary, the gloss of the surface of the resin composition layer PC may be adjusted. For example, a method of curing in a state where a gloss-adjusted shaping sheet is laminated on a resin composition layer PC, a method of installing an embossed template (textured mirror plate) on a resin composition layer PC and curing, etc. Therefore, the gloss of the surface of the resin composition layer PC can be adjusted. After that, in the step (4), the portion CL1 that covers the
熱硬化性樹脂組成物を使用する場合、樹脂組成物層PCを加熱して硬化させることにより、硬化樹脂層が被覆層CLとして形成される。電離放射線硬化性樹脂組成物を使用する場合、樹脂組成物層PCに電離放射線を照射して硬化させることにより、硬化樹脂層が被覆層CLとして形成される。 When a thermosetting resin composition is used, the cured resin layer is formed as a coating layer CL by heating and curing the resin composition layer PC. When an ionizing radiation curable resin composition is used, the cured resin layer is formed as a coating layer CL by irradiating the resin composition layer PC with ionizing radiation to cure it.
第2層4を形成するための樹脂組成物がシリコーン系離型剤(シリコーンオイル)を含む場合、樹脂組成物の硬化時に、第2層4の表面に配向するので、第2層4に第1層3からの離型性が付与される。これにより、工程(4)において、被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1を剥離する際、第1層3を被覆する部分CL1の剥離性を向上させることができる。シリコーン系離型剤が非反応性シリコーンオイルであると、シリコーン系離型剤が第2層4の表面に配向しやすい。
When the resin composition for forming the
第2層4の形成原料として熱硬化性樹脂組成物が使用され、熱硬化性樹脂組成物が未硬化状態にある水溶性熱硬化性樹脂組成物(例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、スルホンアミド樹脂、グリオキザール樹脂、グアナミン樹脂等)を含む場合、シリコーン系離型剤として、ポリエーテル変性シリコーンオイルを使用することが好ましい。ポリエーテル変性シリコーンオイルは、水溶性、水分散性等の特性を有するので、シリコーン系離型剤がポリエーテル変性シリコーンオイルであると、シリコーン系離型剤が水溶性熱可塑性樹脂と混和しやすくなり、シリコーン系離型剤の局在化を防止しつつ、シリコーン系離型剤の離型性を効果的に発揮させることができる。また、未硬化状態にある水溶性熱硬化性樹脂組成物と混和したシリコーン系離型剤により、水溶性熱硬化性樹脂の硬化が阻害され、熱硬化性樹脂の硬化物の強度を低下させることが予想される。熱硬化性樹脂の硬化物の強度の低下は、工程(4)において、被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1を剥離する際、第1層3を被覆する部分CL1の剥離性の向上に寄与すると考えられる。熱硬化性樹脂組成物は、ポリエーテル変性シリコーンオイル以外の非反応性シリコーンオイルを含んでいてもよい。ポリエーテル変性シリコーンオイル以外の非反応性シリコーンは、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
A water-soluble thermosetting resin composition (for example, melamine resin, urea resin, sulfonamide resin) in which a thermosetting resin composition is used as a raw material for forming the
第2層4の形成原料として熱硬化性樹脂組成物が使用され、熱硬化性樹脂組成物が未硬化状態にある水溶性熱硬化性樹脂組成物(例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、スルホンアミド樹脂、グリオキザール樹脂、グアナミン樹脂等)を含む場合、シリコーン系離型剤として、6以上16以下のHLB値を有するシリコーン系離型剤(特に、6以上16以下のHLB値を有するポリエーテル変性シリコーンオイル)を使用することが好ましい。シリコーン系離型剤のHLB値は、さらに好ましくは10以上15以下、さらに一層好ましくは12以上14以下である。HLB値が高いほど、シリコーンオイル系離型剤が未硬化状態にある水溶性熱硬化性樹脂組成物と混和しやすくなり、シリコーン系離型剤の局在化を防止することができるが、HLB値が高すぎると、シリコーン系離型剤の離型性が低下するおそれがある。シリコーン系離型剤のHLB値が上記範囲であると、シリコーン系離型剤の局在化を防止しつつ、シリコーン系離型剤の離型性を効果的に発揮させることができる。また、未硬化状態にある水溶性熱硬化性樹脂組成物と混和したシリコーン系離型剤により、未硬化状態にある水溶性熱硬化性樹脂組成物の硬化が阻害され、熱硬化性樹脂の硬化物の強度を低下させることが予想される。熱硬化性樹脂の硬化物の強度の低下は、工程(4)において、被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1を剥離する際、第1層3を被覆する部分CL1の剥離性の向上に寄与すると考えられる。
A water-soluble thermocurable resin composition (for example, melamine resin, urea resin, sulfonamide resin) in which a thermocurable resin composition is used as a raw material for forming the
シリコーン系離型剤(シリコーンオイル)の使用量は、第2層4を形成するための樹脂組成物に含まれる樹脂100質量部あたり、通常0.1〜50質量部、好ましくは0.5〜20質量部、さらに好ましくは3〜20質量部、さらに一層好ましくは3〜10質量部である。シリコーン系離型剤(シリコーンオイル)の使用量が上記範囲であると、工程(4)において、被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1を剥離する際、第1層3を被覆する部分CL1の剥離性を向上させることができる。
The amount of the silicone release agent (silicone oil) used is usually 0.1 to 50 parts by mass, preferably 0.5 to 50 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin contained in the resin composition for forming the
第2層4を形成するための樹脂組成物として熱硬化性樹脂組成物を使用する場合、樹脂組成物層PCの硬化は以下のように行うことができる。
When a thermosetting resin composition is used as the resin composition for forming the
まず、図8(d)に示すように、樹脂組成物層PCに剥離用フィルムPFを積層するとともに、支持シート2の第2主面S2に補強シートPPを積層する。これにより、支持シート2と、支持シート2の第1主面S1の一部に形成された第1層3と、支持シート2の第1主面S1の残部及び第1層3の少なくとも一部を被覆する樹脂組成物層PCと、樹脂組成物層PCに積層された剥離用フィルムPFと、支持シート2の第2主面S2に積層された補強シートPPとを備える中間体M3が形成される。樹脂組成物層PCへの剥離用フィルムPFの積層は、支持シート2の第2主面S2への補強シートPPの積層の前、後、同時のいずれの時点で行ってもよい。
First, as shown in FIG. 8D, the release film PF is laminated on the resin composition layer PC, and the reinforcing sheet PP is laminated on the second main surface S2 of the
剥離用フィルムPFとしては、例えば、易接着性樹脂フィルムを使用することができる。易接着性樹脂フィルムとしては、例えば、熱可塑性樹脂フィルム等が挙げられ、熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂;塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体等のビニル系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂;ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリル系樹脂;ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリイミド等の合成樹脂等のフィルムの単体、又は、これらのフィルムの積層体が挙げられる。 As the peeling film PF, for example, an easily adhesive resin film can be used. Examples of the easily adhesive resin film include a thermoplastic resin film, and examples of the thermoplastic resin include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and polymethylpentene; vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, ethylene-. Vinyl resins such as vinyl acetate copolymers and ethylene-vinyl alcohol copolymers; polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate; methyl polymethacrylate, ethyl polymethacrylate, ethyl polyacrylate, butyl polyacrylate and the like Acrylic resin; Examples thereof include a single film such as a synthetic resin such as polystyrene, polycarbonate, polyarylate, and polyimide, or a laminate of these films.
易接着性樹脂フィルムの表面には、易接着性樹脂の塗布によって易接着層が形成されていてもよい。易接着層の形成前に、易接着層の接着性を向上させるために、易接着性樹脂フィルムの表面にコロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理等の処理を施してもよい。 An easy-adhesive layer may be formed on the surface of the easy-adhesive resin film by applying the easy-adhesive resin. Before forming the easy-adhesive layer, in order to improve the adhesiveness of the easy-adhesive layer, the surface of the easy-adhesive resin film may be subjected to a treatment such as a corona discharge treatment, a plasma treatment, or an ozone treatment.
易接着層(プライマー層、アンカー層と呼ばれることもある)に含まれる樹脂としては、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、塩素化ポリプロピレン、塩素化ポリエチレン等が挙げられる。 Examples of the resin contained in the easy-adhesion layer (sometimes called a primer layer or an anchor layer) include acrylic resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyester resin, urethane resin, chlorinated polypropylene, and chlorinated polyethylene. Be done.
剥離用フィルムPFとしては、剥離対象である樹脂皮膜(被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1)との剥離重さが調整された剥離用フィルムを使用することが好ましい。例えば、メラミン樹脂の熱硬化皮膜の場合には、剥離重さを0.1〜10N/インチに調整することが好ましい。剥離重さが0.1未満ではメラミン樹脂の熱硬化皮膜を剥離することが難しく、剥離重さが10N/インチを超えると剥離用フィルムが破断したり、剥離対象である樹脂皮膜以外の樹脂被膜(被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1以外の部分)も剥離されたりおそれがある。剥離重さが0.1〜10N/インチに調整された剥離用フィルムを使用することにより、剥離対象である樹脂皮膜(被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1)を簡単に除去することができる。 As the peeling film PF, it is preferable to use a peeling film whose peeling weight is adjusted with the resin film to be peeled (the portion CL1 of the coating layer CL that covers the first layer 3). For example, in the case of a thermosetting film of melamine resin, it is preferable to adjust the peeling weight to 0.1 to 10 N / inch. If the peeling weight is less than 0.1, it is difficult to peel off the thermosetting film of the melamine resin, and if the peeling weight exceeds 10 N / inch, the peeling film may break or a resin film other than the resin film to be peeled off. (The portion of the coating layer CL other than the portion CL1 that covers the first layer 3) may also be peeled off. By using a peeling film whose peeling weight is adjusted to 0.1 to 10 N / inch, the resin film to be peeled off (the portion CL1 of the coating layer CL that covers the first layer 3) can be easily removed. can do.
剥離重さは、株式会社オリエンテック製テンシロン万能材料試験機RTB−1250Aを使用して測定される値であり、具体的な測定方法は次の通りである。後述する中間体M4において、剥離用フィルムPFに1インチの巾に切り込みを入れ、剥離用フィルムPFの一部を1インチの巾で剥がし、図12のように剥離用フィルムPFの一部を剥がした中間体M4の一端(下部)を試験機に固定する。180°剥がした剥離用フィルムPFを上部の方向(矢印方向)に100mm/分のスピードで剥離したときの重さを測定し、これを「剥離重さ」とする。 The peeling weight is a value measured using the Tencilon universal material testing machine RTB-1250A manufactured by Orientec Co., Ltd., and the specific measuring method is as follows. In the intermediate M4 described later, a cut is made in the peeling film PF to a width of 1 inch, a part of the peeling film PF is peeled off with a width of 1 inch, and a part of the peeling film PF is peeled off as shown in FIG. One end (lower part) of the intermediate body M4 is fixed to the testing machine. The weight when the peeling film PF peeled off by 180 ° is peeled off at a speed of 100 mm / min in the upper direction (arrow direction) is measured, and this is referred to as "peeling weight".
剥離重さが0.1〜10N/インチに調整された剥離用フィルムとしては、例えば、基材フィルムと、該基材フィルム上に形成された硬化樹脂層とを有するフィルムを使用することができる。このフィルムは、硬化樹脂層側の面が樹脂組成物層PCと接するように使用されることが好ましい。基材フィルムは特に限定されず、例えば、紙、不織布、熱可塑性樹脂シート等が挙げられる。基体フィルムは、熱可塑性樹脂シートが好ましく、耐熱性の観点から、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂シートが特に好ましい。基材フィルムの厚さは特に限定されず、通常10〜200μmである。また、硬化樹脂層は、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化により形成された硬化樹脂層であることが好ましい。これにより、メラミン樹脂の熱硬化皮膜との剥離重さを0.1〜10N/インチに調整することが容易となる。電離放射線硬化性樹脂組成物については、上記の説明が適用される。電離放射線硬化性樹脂組成物は、剥離重さを調整する等の目的で、適宜、体質顔料等の成分を含んでいてもよい。硬化性樹脂層の厚さとしては、通常1〜30μmである。 As the peeling film whose peeling weight is adjusted to 0.1 to 10 N / inch, for example, a film having a base film and a cured resin layer formed on the base film can be used. .. This film is preferably used so that the surface on the cured resin layer side is in contact with the resin composition layer PC. The base film is not particularly limited, and examples thereof include paper, non-woven fabric, and thermoplastic resin sheet. The substrate film is preferably a thermoplastic resin sheet, and from the viewpoint of heat resistance, a polyester resin sheet such as polyethylene terephthalate is particularly preferable. The thickness of the base film is not particularly limited, and is usually 10 to 200 μm. Further, the cured resin layer is preferably a cured resin layer formed by curing the ionizing radiation curable resin composition. This makes it easy to adjust the peeling weight of the melamine resin from the thermosetting film to 0.1 to 10 N / inch. The above description applies to the ionizing radiation curable resin composition. The ionizing radiation curable resin composition may appropriately contain components such as extender pigments for the purpose of adjusting the peeling weight and the like. The thickness of the curable resin layer is usually 1 to 30 μm.
補強シートPPとしては、例えば、熱硬化性樹脂含浸シートを使用することができる。熱硬化性樹脂含浸シートは、多孔質シートと、多孔質シートに含浸した熱硬化性樹脂とを有する。熱硬化性樹脂としては、例えば、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂(2液硬化性ポリウレタンも含む)、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂含浸シートは、例えば、化粧板のコア紙として汎用されているフェノール樹脂含浸紙等が挙げられる。フェノール樹脂含浸紙とは、一般に、コア紙として坪量150〜250g/m2のクラフト紙にフェノール樹脂を含浸率45〜60%となるように含浸し、100〜140℃で乾燥させることにより製造された紙である。フェノール樹脂含浸紙には、市販品を使用することができる。フェノール樹脂含浸紙を積層する際には、必要に応じて、支持シート2の第2主面S2にコロナ放電処理を施したり、プライマー層を形成したりしてもよい。
As the reinforcing sheet PP, for example, a thermosetting resin impregnated sheet can be used. The thermosetting resin impregnated sheet has a porous sheet and a thermosetting resin impregnated in the porous sheet. Examples of the thermosetting resin include unsaturated polyester resin, polyurethane resin (including two-component curable polyurethane), epoxy resin, aminoalkyd resin, phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, and melamine. -Urea cocondensation resin, silicon resin, polysiloxane resin and the like can be mentioned. Examples of the thermosetting resin-impregnated sheet include phenol resin-impregnated paper, which is widely used as the core paper for decorative boards. Phenol resin impregnated paper is generally produced by impregnating kraft paper having a basis weight of 150 to 250 g / m 2 as core paper with phenol resin so as to have an impregnation rate of 45 to 60% and drying at 100 to 140 ° C. It is a paper that has been made. Commercially available products can be used for the phenol resin impregnated paper. When laminating the phenol resin impregnated paper, if necessary, the second main surface S2 of the
次いで、図8(e)に示すように、中間体M3を2枚の鏡面加工金属板P1,P2の間に挟み、加圧及び加熱し、樹脂組成物層PCを硬化させる。これにより、硬化樹脂層が被覆層CLとして形成される。基材シート21として多孔質シートが使用される場合、多孔質シートの空隙に含浸した樹脂組成物も、この段階で硬化する。補強シートPPとして熱硬化性樹脂含浸シートが使用される場合、熱硬化性樹脂含浸シートの熱硬化性樹脂も、この段階で硬化し、補強層6が形成される。剥離用フィルムPFは、この段階で被覆層CLと接着する。
Next, as shown in FIG. 8E, the intermediate M3 is sandwiched between the two mirror-finished metal plates P1 and P2, pressurized and heated to cure the resin composition layer PC. As a result, the cured resin layer is formed as the coating layer CL. When a porous sheet is used as the
加熱温度、加熱時間は、使用する熱硬化性樹脂の種類等により適宜調整することができる。例えば、イソシアネート硬化型不飽和ポリエステル樹脂又はウレタン硬化型ポリウレタン樹脂の場合は40〜60℃で1〜5日間であり、ポリシロキサン樹脂の場合は80〜150℃で1〜30分間であり、メラミン樹脂の場合は90〜160℃で30秒間〜30分間である。 The heating temperature and heating time can be appropriately adjusted depending on the type of thermosetting resin used and the like. For example, in the case of isocyanate-curable unsaturated polyester resin or urethane-curable polyurethane resin, it takes 1 to 5 days at 40 to 60 ° C., and in the case of polysiloxane resin, it takes 1 to 30 minutes at 80 to 150 ° C., and the melamine resin. In the case of, it is 90 to 160 ° C. for 30 seconds to 30 minutes.
鏡面加工金属板P1,P2によって加えられる圧力は、例えば5〜100kg/cm2である。 The pressure applied by the mirror-finished metal plates P1 and P2 is, for example, 5 to 100 kg / cm 2 .
これにより、図9(f)に示すように、支持シート2と、支持シート2の第1主面S1の一部に形成された第1層3と、支持シート2の第1主面S1の残部に、第1層3を囲繞し、かつ、第1層3の少なくとも一部を被覆するように形成された被覆層CLと、被覆層CL上に積層された剥離用フィルムPFと、支持シート2の第2主面S2に積層された補強層6とを備える中間体M4が形成される。
As a result, as shown in FIG. 9 (f), the
図9(f)に示すように、被覆層CLは、第1層3を被覆する部分CL1と、第1層3を被覆しない部分CL2とを有する。第1層3を被覆する部分CL1は、第1層3の表面上に、第1層3を被覆するように形成されている。第1層3を被覆しない部分CL2は、支持シート2の第1主面S1の表面上に、第1層3を囲繞するように形成されている。
As shown in FIG. 9 (f), the coating layer CL has a portion CL1 that covers the
図9(f)に示すように、第1層3を被覆する部分CL1は、幅広部31を被覆する部分CL11と、幅狭部32を被覆する部分CL12とを有する。
As shown in FIG. 9 (f), the portion CL1 covering the
図10に示すように、幅広部31の平面視における外形線上に位置する任意の点を通って第1層3の延在方向D1に垂直な方向に延在する平面で、工程(3)で得られる中間体を切断して形成される切断面において、以下の条件が満たされる。
[条件3]幅広部31の幅をWB、被覆層CLのうち幅広部31を被覆する部分CL11の厚さをTBとしたとき、WB≧TBである。
As shown in FIG. 10, a plane extending in a direction perpendicular to the extending direction D1 of the
[Condition 3] When the width of the
化粧板1の製造方法が条件3を満たす結果、化粧板1は上記条件1を満たす。また、化粧板1の製造方法が条件3を満たすことにより、工程(4)において、被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1を第1方向Xに沿って剥離する際、幅広部31を被覆する部分CL11の剥離性が向上及び安定化する。その結果、化粧板1は上記条件2を満たす。化粧板1が上記条件2を満たすことにより、図4に示すように、第2層4の開口部40から露出する幅広部31の部分が、幅広部31の全域に亘って存在する。したがって、凹部5はその全域に亘って幅広部31に至る深さを有し、凹部5と凹部5以外の領域との表面高低差が有意となる。
As a result of the manufacturing method of the
一方、図11に示すように、幅狭部32の平面視における外形線上に位置する任意の点を通って第1層3の延在方向D1に垂直な方向に延在する平面で、工程(3)で得られる中間体を切断して形成される切断面において、幅狭部32の幅をWN、被覆層CLのうち幅狭部32を被覆する部分CL12の厚さをTNとしたとき、WN<TNである。このため、工程(4)において、被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1を第1方向Xに沿って剥離する際、幅狭部32を被覆する部分CL12の剥離性が低下及び不安定化する。したがって、図2、図4及び図5に示すように、幅狭部32は、第2層4で被覆されており、第2層4の開口部40から露出していない。幅狭部32の一部が、第2層4の開口部40から露出する場合もあり得るが、第2層4の開口部40から露出する幅狭部32の部分は、幅狭部32の全域に亘って存在しない。
On the other hand, as shown in FIG. 11, the process (1) is a plane extending in a direction perpendicular to the extending direction D1 of the
工程(4)
工程(4)では、図9(g)に示すように、被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1を第1方向Xに沿って剥離して、支持シート2の第1主面S1の残部に第2層4を形成する。「第1方向Xに沿って剥離する」とは、平面視において、剥離方向が第1方向Xと一致することを意味する。平面視において、剥離方向が第1方向Xと一致する限り、剥離方向は、第1方向Xと平行な方向であってもよいし、第1方向Xと交差する方向であってもよい。被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1は、被覆層CLの残部CL2よりも剥離されやすい。しかしながら、第1層3を被覆する部分CL1のうち、幅狭部32を被覆する部分CL12は、幅広部31を被覆する部分CL11よりも剥離されにくい。このため、幅広部31を被覆する部分CL11は剥離用フィルムPFに接着したまま、剥離用フィルムPFとともに剥離される一方、幅狭部32を被覆する部分CL12及び被覆層CLの残部CL2は、支持シート2の第1主面S1の残部に残り、第2層4を形成する。被覆層CLのうち第1層3の幅広部31を被覆する部分CL11が除去されることにより、第2層4の開口部40が形成されるとともに、幅広部31の少なくとも一部が、第2層4の開口部40を通じて露出し、化粧板1の表面の凹部5が形成される。これにより、図9(h)に示すように、化粧板1が製造される。
Process (4)
In the step (4), as shown in FIG. 9 (g), the portion CL1 covering the
第1層3及び/又は第2層4に含まれるシリコーン系離型剤は、第1層3及び/又は第2層4に離型性を付与するので、工程(4)において、被覆層CLのうち幅広部31を被覆する部分CL11は剥離されやすい。第1層3及び第2層4の両者がシリコーン系離型剤を含む場合は、この効果が大きくなる。
The silicone-based release agent contained in the
被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1を剥離する方法は、剥離用フィルムを使用した方法に限定されない。例えば、被覆層CLの表面に、マスキングフィルム等の保護フィルム、セロハンテープ、ガムテープ等の粘着テープ、賦型シート等を貼り付け、その後に該フィルムを剥がすと同時に剥離させる方法;粘着テープ、粘着ゴムローラー、粘着ゴムシート等で剥離する方法;被覆層CLに、予め溶剤に溶解させた塩化ゴム系樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂等の樹脂液を塗工し、乾燥した後、剥離する方法;被覆層CLに、ホットメルト接着剤を塗工した後、低温下で剥離する方法;被覆層CLに、樹脂板又は金属板を貼り付けた後、剥離する方法等が挙げられる。
The method of peeling the portion CL1 covering the
粘着テープ、マスキングテープ、賦型シート等の剥離用フィルムを用いて、被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1を剥離する場合、剥離対象である樹脂皮膜(被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1)との剥離重さが調整されたフィルムを使用することが好ましい。例えば、メラミン樹脂の熱硬化皮膜の場合には、剥離重さを0.1〜10N/インチに調整することが好ましい。剥離重さが0.1未満ではメラミン樹脂の熱硬化皮膜を剥離することが難しく、剥離重さが10N/インチを超えると剥離用フィルムがちぎれたり、剥離対象である樹脂皮膜以外の樹脂被膜(被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1以外の部分)も剥離されたりおそれがある。剥離重さが0.1〜10N/インチに調整された剥離用フィルムを使用することにより、剥離対象である樹脂皮膜(被覆層CLのうち第1層3を被覆する部分CL1)を簡単に除去することができる。
When the portion CL1 covering the
上記方法により製造される化粧板1は、表面に凹凸形状を有する。したがって、化粧板1は、凹凸形状に基づいて、凹凸形状の意匠感を表現することができる。特に、上記製造方法の結果物である化粧板は、凹部5の表面(第2層4の開口部40から露出する第1層3の表面を含む)が相対的に粗面となり、入射光に対して拡散反射性を有する低光沢領域を構成するという特徴とともに、凸部を含む凹部5以外の領域の表面が相対的に鏡面となり、入射光に対して鏡面反射性を有する高光沢領域を構成するという特徴を有する。したがって、化粧板1は、凹凸形状に基づいて、グロスマット調の意匠感も表現することができる。例えば、化粧板1は、凹部がマット感を呈し、凸部がグロス感を呈するようなグロスマット調の凹凸形状を含む凹凸形状による外観を発現することができる。特に、凹凸形状を、平面視において装飾層22の絵柄模様と同調させることにより、化粧板1は、優れた凹凸形状の意匠感を表現することができる。例えば、装飾層22が木目模様を形成する場合、凹部を、木目模様の導管部と、両者の平面視における位置が一致するように、位置同調させることにより、化粧板1は、本物の木目模様と同様のグロスマット調の意匠感(質感)を含む外観を表現することができる。
The
凹部5はその全域に亘って幅広部31に至る深さを有し、凹部5と凹部5以外の領域との表面高低差が有意であるので、化粧板1は、鮮明な凹凸形状に基づいて、グロスマット調の意匠感及び表面凹凸形状の意匠感(質感)を表現することができる。
Since the
〔実施例1〕
(1)離型インキの製造
電離放射線硬化性モノマー(東亞合成株式会社製、アロニックスM400)60質量部、反応性シリコーン(信越化学株式会社製、X−22−164B)0.6質量部、及びメチルエチルケトン(丸善石油化学株式会社)40質量部を、プロセスホモジナイザーPH91(株式会社エスエムテー製)を用いて、回転数2000rpmで1時間撹拌して離型インキを製造した。
[Example 1]
(1) Manufacture of release ink 60 parts by mass of ionizing radiation curable monomer (Toagosei Co., Ltd., Aronix M400), 0.6 parts by mass of reactive silicone (X-22-164B, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and 40 parts by mass of methyl ethyl ketone (Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) was stirred for 1 hour at a rotation speed of 2000 rpm using a process homogenizer PH91 (manufactured by SMT Co., Ltd.) to produce a release ink.
(2)剥離用フィルムの製造
50μm厚のPETフィルム(東洋紡株式会社製コスモシャイン(登録商標)A4100(50μm)の易接着面に、電離放射線硬化性モノマー(東亞合成株式会社製、アロニックス(登録商標)M350)100質量部、反応性シリコーン(信越化学株式会社製、X−22−164B)2質量部、シリカ(富士シリシア化学株式会社製、サイリシア450)8質量部、及び酢酸エチル50質量部を含む塗工インキを、5g/m2(乾燥時)塗工し、165kVの加速電圧にて5Mradの電子線照射を行い、硬化することで剥離用フィルムを製造した。
(2) Manufacture of release film On the easy-adhesion surface of a 50 μm-thick PET film (Cosmo Shine (registered trademark) A4100 (50 μm) manufactured by Toyo Boseki Co., Ltd.), an ionizing radiation curable monomer (Aronix (registered trademark) manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.) ) M350) 100 parts by mass, reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., X-22-164B) by 2 parts by mass, silica (manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd., Syricia 450) by 8 parts by mass, and ethyl acetate by 50 parts by mass. The coating ink containing the mixture was coated at 5 g / m 2 (when dried), irradiated with an electron beam of 5 Mrad at an acceleration voltage of 165 kV, and cured to produce a release film.
(3)化粧板の製造
原紙として坪量100g/m2の白チタン紙(KJ特殊紙株式会社製、KW−1002P)上に、印刷インキ(DICグラフィックス株式会社製、オーデSPTI)を用いて印刷層を形成した後、上記(1)で製造した離型インキを用いて、幅が一定(10μm、20μm、30μm、40μm、50μm又は60μm)であり、長さが(1mm〜60mm)の絵柄を印刷し、165kVの加速電圧にて5Mradの電子線照射を行い、離型層を形成した。離型層の厚さは2μmであった。
(3) Manufacture of decorative board Using printing ink (DIC Graphics Co., Ltd., Ode SPTI) on white titanium paper (KJ Special Paper Co., Ltd., KW-1002P) with a basis weight of 100 g / m 2 as the base paper. After forming the print layer, using the release ink produced in (1) above, a pattern having a constant width (10 μm, 20 μm, 30 μm, 40 μm, 50 μm or 60 μm) and a length (1 mm to 60 mm). Was printed, and 5Mrad electron beam irradiation was performed at an acceleration voltage of 165 kV to form a release layer. The thickness of the release layer was 2 μm.
次いで、メラミンホルムアルデヒド樹脂50質量部、水45質量部、及びイソプロピルアルコール5質量部からなる熱硬化性樹脂の液状未硬化組成物を、含浸用の含浸装置を用いて該未硬化組成物が100g/m2(乾燥時)の割合となるように含浸し、乾燥することにより含浸化粧シートを得た。この含浸化粧シートを、クラフト紙にフェノール樹脂からなる樹脂液を含浸した、坪量245g/m2のフェノール樹脂含浸コア紙(太田産業株式会社、太田コア)4枚の上に積層し、更に含浸化粧シートの上に上記(2)で製造した剥離用フィルムを、剥離用フィルムの印刷面が含浸化粧シートの印刷面と接するように積層した。形成された積層体を2枚の鏡面板で挟み、熱プレス機を用いて圧力100kg/cm2で、成型温度150℃で10分間の条件にて加熱成型し、該未硬化組成物を熱硬化させることによりメラミン樹脂を含有する硬化樹脂層を形成した。この際、離型層上には、硬化樹脂層が形成された。離型層上に形成された硬化樹脂層の厚さは30μmであった。 Next, a liquid uncured composition of a thermosetting resin composed of 50 parts by mass of melamine formaldehyde resin, 45 parts by mass of water, and 5 parts by mass of isopropyl alcohol was mixed with 100 g / g of the uncured composition using an impregnating device for impregnation. An impregnated decorative sheet was obtained by impregnating the mixture so as to have a ratio of m 2 (when dried) and drying. This impregnated decorative sheet is laminated on four phenol resin impregnated core papers (Ota Sangyo Co., Ltd., Ota Core) having a basis weight of 245 g / m 2 obtained by impregnating kraft paper with a resin solution made of phenol resin, and further impregnated. The peeling film produced in (2) above was laminated on the decorative sheet so that the printed surface of the peeling film was in contact with the printed surface of the impregnated decorative sheet. The formed laminate is sandwiched between two mirror plates and heat-molded using a heat press machine at a pressure of 100 kg / cm 2 at a molding temperature of 150 ° C. for 10 minutes, and the uncured composition is thermoset. A cured resin layer containing a melamine resin was formed. At this time, a cured resin layer was formed on the release layer. The thickness of the cured resin layer formed on the release layer was 30 μm.
硬化樹脂層から剥離フィルムを剥離することにより、離型層上に形成された硬化樹脂層を剥離した。
離型層の幅が10〜20μmである場合、硬化樹脂層の大部分は剥離されず、離型層上に残存した。
離型層の幅が30〜60μmである場合、硬化樹脂層の大部分が剥離され、硬化樹脂層が剥離された部分は、離型層の全体に亘って存在していた。
By peeling the release film from the cured resin layer, the cured resin layer formed on the release layer was peeled off.
When the width of the release layer was 10 to 20 μm, most of the cured resin layer was not peeled off and remained on the release layer.
When the width of the release layer was 30 to 60 μm, most of the cured resin layer was peeled off, and the peeled portion of the cured resin layer was present throughout the release layer.
幅が30〜50μmである離型層について、SEM観察を実施し、離型層の面積のうち、硬化樹脂層が剥離された部分の面積の割合を測定したところ、30%以上であった。 SEM observation was carried out on the release layer having a width of 30 to 50 μm, and the ratio of the area of the portion where the cured resin layer was peeled off to the area of the release layer was measured and found to be 30% or more.
〔実施例2〕
離型層上に形成された硬化樹脂層の厚さを40μmに変更した点を除き、実施例1と同様の操作を行った。
離型層の幅が10〜30μmである場合、硬化樹脂層の大部分は剥離されず、離型層上に残存した。
離型層の幅が40〜60μmである場合、硬化樹脂層の大部分が剥離され、硬化樹脂層が剥離された部分は、離型層の全体に亘って存在していた。
幅が40〜60μmである離型層について、SEM観察を実施し、離型層の面積のうち、硬化樹脂層が剥離された部分の面積の割合を測定したところ、30%以上であった。
[Example 2]
The same operation as in Example 1 was performed except that the thickness of the cured resin layer formed on the release layer was changed to 40 μm.
When the width of the release layer was 10 to 30 μm, most of the cured resin layer was not peeled off and remained on the release layer.
When the width of the release layer was 40 to 60 μm, most of the cured resin layer was peeled off, and the peeled portion of the cured resin layer was present throughout the release layer.
SEM observation was carried out on the release layer having a width of 40 to 60 μm, and the ratio of the area of the portion where the cured resin layer was peeled off to the area of the release layer was measured and found to be 30% or more.
〔実施例3〕
離型層上に形成された硬化樹脂層の厚さを50μmに変更した点を除き、実施例1と同様の操作を行った。
離型層の幅が10〜40μmである場合、硬化樹脂層の大部分は剥離されず、離型層上に残存した。
離型層の幅が50〜60μmである場合、硬化樹脂層の大部分が剥離され、硬化樹脂層が剥離された部分は、離型層の全体に亘って存在していた。
幅が50〜60μmである離型層について、SEM観察を実施し、離型層の面積のうち、硬化樹脂層が剥離された部分の面積の割合を測定したところ、30%以上であった。
[Example 3]
The same operation as in Example 1 was performed except that the thickness of the cured resin layer formed on the release layer was changed to 50 μm.
When the width of the release layer was 10 to 40 μm, most of the cured resin layer was not peeled off and remained on the release layer.
When the width of the release layer was 50 to 60 μm, most of the cured resin layer was peeled off, and the peeled portion of the cured resin layer was present throughout the release layer.
SEM observation was carried out on the release layer having a width of 50 to 60 μm, and the ratio of the area of the portion where the cured resin layer was peeled off to the area of the release layer was measured and found to be 30% or more.
1・・・化粧板
2・・・支持シート
S1・・・支持シートの第1主面
S2・・・支持シートの第2主面
3・・・第1層
31・・・幅広部
32・・・幅狭部
4・・・第2層
40・・・第2層の開口部
5・・・化粧板の表面の凹部
6・・・補強層
1 ...
Claims (20)
第1主面及び前記第1主面の反対側に位置する第2主面を有する支持シートと、
前記第1主面の一部に、前記第1方向に沿って延在するように設けられた第1層と、
前記第1主面の残部に、前記第1層を囲繞するように設けられた第2層と、
を備える、化粧板であって、
前記支持シートが、前記支持シートの前記第1主面側に位置する第1主面と、前記支持シートの前記第2主面側に位置する第2主面とを有する基材シートと、前記基材シートの前記第1主面に設けられた装飾層とを有し、
前記装飾層が、導管部を含む木目模様を形成しており、
前記第1層が、前記木目模様中の前記導管部と位置同調したパターンで形成されており、
前記第1層が、幅が20μm以上100μm以下である幅広部を有し、
前記第2層が、前記幅広部の少なくとも一部を露出させる開口部を有し、
前記幅広部の平面視における外形線上に位置する任意の点を通って前記第1層の延在方向に垂直な方向に延在する平面で、前記化粧板を切断して形成される切断面において、前記幅広部の幅をWB、前記幅広部の高さをHB、前記第2層の高さをHとしたとき、H>HB、かつ、WB≧(H−HB)であり、
前記切断面において、前記幅広部の少なくとも一部が前記第2層の前記開口部から露出している、前記化粧板。 It has a first direction, a second direction, and a thickness direction that are orthogonal to each other, and
A support sheet having a first main surface and a second main surface located on the opposite side of the first main surface, and
A first layer provided so as to extend along the first direction on a part of the first main surface, and
A second layer provided so as to surround the first layer on the rest of the first main surface, and
It is a decorative board equipped with
A base material sheet in which the support sheet has a first main surface located on the first main surface side of the support sheet and a second main surface located on the second main surface side of the support sheet, and the above. It has a decorative layer provided on the first main surface of the base sheet, and has.
The decorative layer forms a wood grain pattern including a conduit portion, and the decorative layer forms a wood grain pattern.
The first layer is formed in a pattern that is position-synchronized with the conduit portion in the wood grain pattern.
The first layer has a wide portion having a width of 20 μm or more and 100 μm or less.
The second layer has an opening that exposes at least a portion of the wide portion.
In a cut surface formed by cutting the decorative plate on a plane extending in a direction perpendicular to the extending direction of the first layer through an arbitrary point located on the outer line in the plan view of the wide portion. When the width of the wide portion is WB, the height of the wide portion is HB, and the height of the second layer is H, H> HB and WB ≧ (H-HB).
The decorative board in which at least a part of the wide portion is exposed from the opening of the second layer on the cut surface.
前記方法が、
(1)前記支持シートを準備する工程、
(2)前記支持シートの前記第1主面の一部に前記第1層を前記木目模様中の前記導管部と位置同調したパターンで形成する工程、
(3)前記支持シートの前記第1主面の残部に、前記第1層を囲繞し、かつ、前記第1層の少なくとも一部を被覆する被覆層を形成する工程、
(4)前記被覆層のうち前記第1層を被覆する部分を前記第1方向に沿って剥離し、前記支持シートの前記第1主面の残部に第2層を形成する工程
を含み、
前記幅広部の平面視における外形線上に位置する任意の点を通って前記第1層の延在方向に垂直な方向に延在する平面で、工程(3)で得られる中間体を切断して形成される切断面において、前記幅広部の幅をWB、前記被覆層のうち前記幅広部を被覆する部分の厚さをTBとしたとき、WB≧TBである、前記方法。 The method for manufacturing a decorative board according to any one of claims 1 to 10.
The above method
(1) Step of preparing the support sheet,
(2) A step of forming the first layer on a part of the first main surface of the support sheet in a pattern synchronized with the conduit portion in the wood grain pattern.
(3) A step of forming a coating layer that surrounds the first layer and covers at least a part of the first layer on the rest of the first main surface of the support sheet.
(4) The step including a step of peeling a portion of the coating layer covering the first layer along the first direction to form a second layer on the rest of the first main surface of the support sheet is included.
The intermediate body obtained in the step (3) is cut on a plane extending in a direction perpendicular to the extending direction of the first layer through an arbitrary point located on the outer line in the plan view of the wide portion. The method, wherein the width of the wide portion of the cut surface to be formed is WB, and WB ≧ TB when the thickness of the portion of the coating layer that covers the wide portion is TB.
前記工程(2)が、
(2−1)前記電離放射線硬化性樹脂を含む電離放射線硬化性樹脂組成物を使用して、前記支持シートの前記第1主面の一部を被覆する電離放射線硬化性樹脂組成物層を前記木目模様中の前記導管部と位置同調したパターンで形成する工程、及び、
(2−2)前記電離放射線硬化性樹脂組成物層を硬化させて前記硬化樹脂層を前記第1層として形成する工程
を含む、請求項11又は12に記載の方法。 The first layer is a cured resin layer containing a cured product of an ionizing radiation curable resin.
The step (2) is
(2-1) the ionizing radiation curable resin using an ionizing radiation curable resin composition comprising, the ionizing radiation curable resin composition layer covering a portion of said first major surface of the support sheet A process of forming a pattern that is position-synchronized with the conduit portion in the wood grain pattern, and
(2-2) The method according to claim 11 or 12 , which comprises a step of curing the ionizing radiation curable resin composition layer to form the cured resin layer as the first layer.
前記工程(3)が、
(3−1)前記熱硬化性樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物を使用して、前記支持シートの前記第1主面の残部に、前記第1層を囲繞し、かつ、前記第1層の少なくとも一部を被覆する熱硬化性樹脂組成物層を形成する工程、及び、
(3−2)前記熱硬化性樹脂組成物層を硬化させて前記硬化樹脂層を前記被覆層として形成する工程
を含む、請求項11〜14のいずれか一項に記載の方法。 The coating layer is a cured resin layer containing a cured product of a thermosetting resin.
The step (3) is
(3-1) Using the thermosetting resin composition containing the thermosetting resin, the first layer is surrounded by the rest of the first main surface of the support sheet, and the first layer is formed. A step of forming a thermosetting resin composition layer that covers at least a part of the above, and
(3-2) The method according to any one of claims 11 to 14 , comprising a step of curing the thermosetting resin composition layer to form the cured resin layer as the coating layer.
前記工程(3)が、
(3−1)前記熱硬化性樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物を使用して、前記支持シートの前記第1主面の残部に、前記第1層を囲繞し、かつ、前記第1層の少なくとも一部を被覆する熱硬化性樹脂組成物層を形成する工程、
(3−2)前記熱硬化性樹脂組成物層を硬化させて前記硬化樹脂層を前記被覆層として形成する工程
を含み、
前記工程(3−1)において、前記多孔質シートに前記熱硬化性樹脂組成物を含浸させ、
前記工程(3−2)において、前記多孔質シートに含浸させた前記熱硬化性樹脂組成物を硬化させる、請求項19に記載の方法。 The coating layer is a cured resin layer containing a cured product of a thermosetting resin.
The step (3) is
(3-1) Using the thermosetting resin composition containing the thermosetting resin, the first layer is surrounded by the rest of the first main surface of the support sheet, and the first layer is formed. A step of forming a thermosetting resin composition layer that covers at least a part of
(3-2) Including a step of curing the thermosetting resin composition layer to form the cured resin layer as the coating layer.
In the step (3-1), the porous sheet is impregnated with the thermosetting resin composition.
The method according to claim 19 , wherein in the step (3-2), the thermosetting resin composition impregnated in the porous sheet is cured.
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