JP6902916B2 - Semiconductor device manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、半導体デバイスの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device.
特開平11−274653号公報(特許文献1)は、ウエハの劈開方法を開示している。特許文献1に開示されたウエハの劈開方法は、ウエハの一部をスクライブすることによって、ウエハに、互いに長さの異なる複数の傷を形成することと、相対的に長い傷から相対的に短い傷の順に、ウエハを劈開することとを備えている。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-274653 (Patent Document 1) discloses a method for cleaving a wafer. The method for opening a wafer disclosed in Patent Document 1 is to form a plurality of scratches having different lengths on the wafer by scribing a part of the wafer, and from relatively long scratches to relatively short scratches. It is provided with cleavage of the wafer in the order of scratches.
スクライブによって形成された複数の傷の深さのばらつきは大きい。ウエハの劈開され易さは、傷の長さだけでなく傷の深さにも依存する。ウエハを所定の順序で劈開するためには、スクライブによって形成された傷の深さのばらつきを考慮して、複数の傷の長さの差と複数の傷の間の間隔とを大きく設定する必要がある。しかし、複数の傷の長さの差が大きく設定されると、半導体デバイスが形成される領域が減少する。複数の傷の間の間隔が大きく設定されると、半導体デバイスのサイズを減少させることができず、ウエハ1枚につき得られる半導体デバイスの数を増加させることができない。そのため、半導体デバイスの収率が低下する。さらに、スクライブによってウエハに複数の傷を形成する際、傷を起点としてウエハに亀裂が発生し得る。この亀裂は不規則な方向に延在する。そのため、ウエハの劈開方向が予定された方向からずれてしまい、半導体デバイスの収率が低下する。 The depth variation of the multiple scratches formed by the scribe is large. The ease of cleavage of a wafer depends not only on the length of the scratch but also on the depth of the scratch. In order to cleave the wafers in a predetermined order, it is necessary to set a large difference in the lengths of multiple scratches and a large distance between the multiple scratches in consideration of the variation in the depth of scratches formed by the scribe. There is. However, when the difference in the lengths of the plurality of scratches is set large, the region where the semiconductor device is formed decreases. If the spacing between the plurality of scratches is set large, the size of the semiconductor device cannot be reduced, and the number of semiconductor devices obtained per wafer cannot be increased. Therefore, the yield of the semiconductor device decreases. Further, when a plurality of scratches are formed on the wafer by scribe, cracks may occur in the wafer starting from the scratches. This crack extends in irregular directions. Therefore, the cleavage direction of the wafer deviates from the planned direction, and the yield of the semiconductor device decreases.
本発明は、上記の課題を鑑みてなされたものであり、その目的は、半導体デバイスの収率を向上させることができる半導体デバイスの製造方法を提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of improving the yield of the semiconductor device.
本発明の半導体デバイスの製造方法は、ウエハの主面の第1の領域に、複数の半導体デバイスを形成することを備える。複数の半導体デバイスは、第1の方向と第1の方向に交差する第2の方向とに沿って配列されている。本発明の半導体デバイスの製造方法は、第1の領域とは異なる主面の第2の領域に複数の劈開起点部を形成することをさらに備える。複数の劈開起点部は、第2の方向に沿って配置されている。複数の劈開起点部は、互いに異なる劈開され易さを有している。複数の劈開起点部を形成することは、第2の領域の一部をエッチングすることによって複数の第1の溝を形成することを含む。複数の第1の溝は、各々、第1の方向に沿って延在している。本発明の半導体デバイスの製造方法は、複数の第1の溝の第1の幅及び複数の第1の溝の第1の深さは、それぞれ第2の方向において徐々に変化するように互いに異なり、第1の幅が相対的に大きいほど第1の深さは相対的に大きく、第1の幅は、第2の方向における複数の第1の溝の幅であり、第1の深さは、主面に垂直な第3の方向における複数の第1の溝の長さであり、さらに、複数の劈開起点部のうち相対的に劈開され易い劈開起点部から順に、複数の劈開起点部を起点としてウエハを劈開することを備え、さらに、ウエハを劈開することは、複数の第1の溝のうち第1の深さが相対的に大きい第1の溝から順に、複数の第1の溝を起点としてウエハを劈開することを含む。 The method for manufacturing a semiconductor device of the present invention includes forming a plurality of semiconductor devices in a first region of a main surface of a wafer. The plurality of semiconductor devices are arranged along a first direction and a second direction intersecting the first direction. The method for manufacturing a semiconductor device of the present invention further comprises forming a plurality of cleavage starting points in a second region of a main surface different from the first region. The plurality of cleavage starting points are arranged along the second direction. The plurality of cleavage starting points have different easiness of cleavage. Forming a plurality of cleavage origins comprises forming a plurality of first grooves by etching a portion of the second region. Each of the plurality of first grooves extends along the first direction. In the method for manufacturing a semiconductor device of the present invention, the first width of the plurality of first grooves and the first depth of the plurality of first grooves are different from each other so as to gradually change in the second direction. , The relatively large the first width, the relatively large the first depth, the first width is the width of the plurality of first grooves in the second direction, and the first depth is. , The length of the plurality of first grooves in the third direction perpendicular to the main surface, and further, the plurality of cleavage starting points are formed in order from the cleavage starting point which is relatively easy to be cleaved among the plurality of cleavage starting points. The wafer is cleaved as a starting point , and further, the wafer is cleaved in order from the first groove having a relatively large first depth among the plurality of first grooves. Includes cleavage of the wafer starting from .
本発明の半導体デバイスの製造方法では、複数の劈開起点部に含まれる複数の第1の溝は、ウエハの第2の領域の一部をエッチングすることによって形成されている。そのため、複数の第1の溝の第1の長さ、第1の深さ及び第1の幅のばらつきは減少する。複数の第1の溝が形成されるウエハの第2の領域の面積が減少され得て、複数の半導体デバイスが形成される第1の領域の面積が増加され得る。また、エッチングによって形成される複数の第1の溝の間の間隔は、スクライブによって形成される複数の第1の溝の間の間隔よりも減少され得る。第1の領域に形成される複数の半導体デバイスの各々のサイズが減少され得て、1枚のウエハ当たりに形成される複数の半導体デバイスの数は増加し得る。さらに、ウエハに不規則な方向に延在する亀裂が発生することも防止され得る。ウエハは、安定的に劈開され得る。本発明の半導体デバイスの製造方法によれば、半導体デバイスの収率は向上され得る。 In the method for manufacturing a semiconductor device of the present invention, a plurality of first grooves included in a plurality of cleavage starting points are formed by etching a part of a second region of a wafer. Therefore, the variation of the first length, the first depth, and the first width of the plurality of first grooves is reduced. The area of the second region of the wafer on which the plurality of first grooves are formed can be reduced, and the area of the first region on which the plurality of semiconductor devices are formed can be increased. Also, the spacing between the plurality of first grooves formed by etching can be smaller than the spacing between the plurality of first grooves formed by scribe. The size of each of the plurality of semiconductor devices formed in the first region can be reduced, and the number of plurality of semiconductor devices formed per wafer can be increased. Further, it is possible to prevent cracks extending in irregular directions from occurring in the wafer. The wafer can be cleaved stably. According to the method for manufacturing a semiconductor device of the present invention, the yield of the semiconductor device can be improved.
以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、同一の構成には同一の参照番号を付し、その説明は繰り返さない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described. The same reference number will be assigned to the same configuration, and the description will not be repeated.
実施の形態1.
図1から図8を参照して、実施の形態1に係る半導体デバイス12の製造方法を説明する。
Embodiment 1.
A method of manufacturing the
図1及び図2を参照して、本実施の形態に係る半導体デバイス12の製造方法は、ウエハ11の主面11aの第1の領域15に、複数の半導体デバイス12を形成すること(S11)を備える。複数の半導体デバイス12は、第1の方向(例えば、x方向)と、第1の方向に交差する第2の方向(例えば、y方向)とに沿って配列されている。特定的には、第2の方向は、第1の方向に直交してもよい。ウエハ11の材料は、特に制限はないが、リン化インジウム(InP)、砒化ガリウム(GaAs)窒化ガリウム(GaN)であってもよい。
With reference to FIGS. 1 and 2, the method for manufacturing the
複数の半導体デバイス12は、各々、半導体層、絶縁層及び電極を含んでもよい。例えば、スパッタ法、真空蒸着法または化学気相成長(CVD)法などを用いて、ウエハ11の主面11a上に半導体層、絶縁層及び電極が堆積されて、複数の半導体デバイス12が形成されてもよい。本実施の形態では、半導体デバイス12は、導波路型半導体レーザのような半導体レーザであり、活性領域13を含んでいる。複数の半導体デバイス12を分割することによって得られる複数の半導体デバイス12の各々の活性領域13から、光が放射される。ウエハ11を劈開すること(S14)によって複数の半導体デバイス12の各々に形成されるの一対の劈開面は、半導体レーザの共振器として機能してもよい。半導体デバイス12は、短い共振器長さを有する半導体レーザであってもよい。短い共振器長さは、300μm以下であってもよく、250μm以下であってもよい。短い共振器長さは、100μm以上であってもよく、150μm以上であってもよい。半導体デバイス12は、半導体レーザに限られず、例えば、発光ダイオード、トランジスタまたはダイオードであってもよい。
Each of the plurality of
図1から図6を参照して、本実施の形態に係る半導体デバイス12の製造方法は、第1の領域15とは異なる主面11aの第2の領域16に複数の劈開起点部(20a−20g)を形成すること(S12)を備える。特定的には、複数の劈開起点部(20a−20g)は、複数の第1の溝20a−20gであってもよい。複数の劈開起点部(20a−20g)は、第2の方向に沿って配置されている。複数の第1の溝20a−20gは、第2の方向に沿って配置されている。複数の劈開起点部(20a−20g)は、各々、第1の方向に沿って延在している。複数の第1の溝20a−20gは、各々、第1の方向に沿って延在している。第2の方向に沿って配置される複数の第1の溝20a−20gの数は、7対に限られない。
With reference to FIGS. 1 to 6, in the method of manufacturing the
複数の劈開起点部(20a−20g)は、それぞれ、複数の分割基準線71−77上に配置されている。複数の第1の溝20a−20gは、それぞれ、複数の分割基準線71−77上に配置されている。本明細書において、複数の分割基準線71−77は、ウエハ11を分割する基準となる線を意味する。具体的には、第1の溝20aは、分割基準線71上に配置されている。第1の溝20bは、分割基準線72上に配置されている。第1の溝20cは、分割基準線73上に配置されている。第1の溝20dは、分割基準線74上に配置されている。第1の溝20eは、分割基準線75上に配置されている。第1の溝20fは、分割基準線76上に配置されている。第1の溝20gは、分割基準線77上に配置されている。複数の分割基準線71−77は、第1の方向に平行であってもよい。複数の分割基準線71−77及び第1の方向は、ウエハ11の劈開面に平行であってもよい。
The plurality of cleavage starting points (20a-20g) are respectively arranged on the plurality of dividing reference lines 71-77. The plurality of
複数の劈開起点部(20a−20g)は、第1の方向において第1の領域15の一方側と他方側とに配置されてもよい。複数の第1の溝20a−20gは、第1の方向において第1の領域15の一方側と他方側とに配置されてもよい。第1の領域15は、第1の方向において、第1の領域15の一方側に配置された複数の第1の溝20a−20gと他方側に配置された複数の第1の溝20a−20gとの間に位置している。第1の領域15の一方側に配置された複数の第1の溝20a−20gは、それぞれ、第1の領域15から第1の等距離間隔離れてもよい。第1の領域15の他方側に配置された複数の第1の溝20a−20gは、それぞれ、第1の領域15から第2の等距離間隔離れてもよい。第2の等距離間隔は、第1の等距離間隔に等しくてもよい。
The plurality of cleavage starting points (20a-20g) may be arranged on one side and the other side of the
第1の領域15の一方側に配置された複数の第1の溝20a−20gと、第1の領域15の他方側に配置された複数の第1の溝20a−20gとは、第1の方向に沿って配置されている。第1の領域15の一方側に配置された複数の第1の溝20a−20gの各々と、第1の領域15の他方側に配置された複数の第1の溝20a−20gの各々とは、同一の分割基準線71−77上に配置されている。具体的には、第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20aと、第1の領域15の他方側に配置された第1の溝20aとは、分割基準線71上に配置されている。第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20bと、第1の領域15の他方側に配置された第1の溝20bとは、分割基準線72上に配置されている。第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20cと、第1の領域15の他方側に配置された第1の溝20cとは、分割基準線73上に配置されている。第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20dと、第1の領域15の他方側に配置された第1の溝20dとは、分割基準線74上に配置されている。第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20eと、第1の領域15の他方側に配置された第1の溝20eとは、分割基準線75上に配置されている。第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20fと、第1の領域15の他方側に配置された第1の溝20fとは、分割基準線76上に配置されている。第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20gと、第1の領域15の他方側に配置された第1の溝20gとは、分割基準線77上に配置されている。
The plurality of
複数の劈開起点部(20a−20g)は、第1の方向において第1の領域15の一方側だけに配置されてもよいし、第1の方向において第1の領域15の他方側だけに配置されてもよい。複数の第1の溝20a−20gが形成されるウエハ11の第2の領域16の面積が減少され得て、複数の半導体デバイス12が形成される第1の領域15の面積が増加され得る。そのため、半導体デバイス12の収率は向上され得る。
The plurality of cleavage starting points (20a-20g) may be arranged only on one side of the
複数の劈開起点部(20a−20g)は、互いに異なる劈開され易さを有している。特定的には、複数の第1の溝20a−20gの第1の深さ22a−22g及び第1の長さ23a−23gの少なくとも1つは互いに異なる。第1の深さ22a−22gは、主面11aに垂直な第3の方向(例えば、z方向)における複数の第1の溝20a−20gの長さである。第1の長さ23a−23gは、第1の方向における複数の第1の溝20a−20gの長さである。相対的に大きな第1の深さ22a−22gを有する第1の溝20a−20gは、相対的に小さな第1の深さ22a−22gを有する第1の溝20a−20gよりも劈開され易い。相対的に大きな第1の長さ23a−23gを有する第1の溝20a−20gは、相対的に小さな第1の長さ23a−23gを有する第1の溝20a−20gよりも劈開され易い。本実施の形態では、複数の第1の溝20a−20gの第1の深さ22a−22gは互いに異なる。複数の第1の溝20a−20gの第1の深さ22a−22gは、例えば、5μm以上50μm以下であってもよい。5μm以上の第1の深さ22a−22gを有する複数の第1の溝20a−20gは、それぞれ、複数の劈開起点部(20a−20g)として機能し得る。50μm以下の第1の深さ22a−22gを有する複数の第1の溝20a−20gは、ウエハプロセス中に、ウエハ11が割れることを防止し得る。
The plurality of cleavage starting points (20a-20g) have different easiness of cleavage. Specifically, at least one of the plurality of
特定的には、複数の第1の溝20a−20gの第1の深さ22a−22g及び第1の長さ23a−23gの少なくとも1つは、第2の方向において、徐々に変化してもよい。本実施の形態では、複数の第1の溝20a−20gの第1の深さ22a−22gが、第2の方向において、徐々に変化している。具体的には、第1の溝20aの第1の深さ22aは、第1の溝20bの第1の深さ22bよりも大きい。第1の溝20bの第1の深さ22bは、第1の溝20cの第1の深さ22cよりも大きい。第1の溝20cの第1の深さ22cは、第1の溝20dの第1の深さ22dよりも大きい。第1の溝20dの第1の深さ22dは、第1の溝20eの第1の深さ22eよりも大きい。第1の溝20eの第1の深さ22eは、第1の溝20fの第1の深さ22fよりも大きい。第1の溝20fの第1の深さ22fは、第1の溝20gの第1の深さ22gよりも大きい。
Specifically, at least one of the plurality of
複数の第1の溝20a−20gの第1の長さ23a−23gは、互いに同じであってもよい。複数の第1の溝20a−20gの第1の長さ23a−23gは、500μm以上であってもよく、ウエハ11の直径の1%以上であってもよく、ウエハ11の直径の2%以上であってもよい。複数の第1の溝20a−20gの第1の長さ23a−23gは、ウエハ11の直径の10%以下であってもよく、5%以下であってもよい。
The
複数の第1の溝20a−20gの第1の幅21a−21gは、互いに同じであってもよい。複数の第1の溝20a−20gの第1の幅21a−21gは、互いに異なってもよい。特定的には、複数の第1の溝20a−20gの第1の幅21a−21gは、第2の方向において、徐々に変化してもよい。具体的には、第1の溝20aの第1の幅21aは、第1の溝20bの第1の幅21bより大きくてもよい。第1の溝20bの第1の幅21bは、第1の溝20cの第1の幅21cより大きくてもよい。第1の溝20cの第1の幅21cは、第1の溝20dの第1の幅21dより大きくてもよい。第1の溝20dの第1の幅21dは、第1の溝20eの第1の幅21eより大きくてもよい。第1の溝20eの第1の幅21eは、第1の溝20fの第1の幅21fより大きくてもよい。第1の溝20fの第1の幅21fは、第1の溝20gの第1の幅21gより大きくてもよい。
The
図3に示されるように、本実施の形態では、第1の方向に直交する断面において、複数の第1の溝20a−20gは、各々、V字形状を有する底部24を含んでもよい。複数の第1の溝20a−20gの各々は、ウエハ11の主面11aに実質的に垂直に延在する側面と、この側面に接続されかつV字形状を有する底部24とを含んでもよい。図4に示されるように、複数の第1の溝20a−20gは、各々、V字形状を有する底部24を含み、かつ、ウエハ11の主面11aから第1の溝20a−20gの各々の底部24まで傾斜する側面を含んでもよい。図5に示されるように、複数の第1の溝20a−20gは、平坦な底部を有してもよい。複数の第1の溝20a−20gの各々は、ウエハ11の主面11aに実質的に垂直に延在する側面と、この側面に接続されかつウエハ11の主面11aに実質的に平行に延在する底部とを含んでもよい。
As shown in FIG. 3, in the present embodiment, in the cross section orthogonal to the first direction, the plurality of
図1から図6を参照して、複数の劈開起点部(20a−20g)を形成することは、第2の領域16の一部をエッチングすることによって複数の第1の溝20a−20gを形成することを含む。例えば、ウエハ11の第2の領域16の一部をドライエッチングすることによって、複数の第1の溝20a−20gがウエハ11の第2の領域16に形成されてもよい。ウエハ11は、例えば、反応性イオンエッチング(RIE)法または誘導結合プラズマ(ICP)エッチング法のようなドライエッチング法によってエッチングされてもよい。ウエハ11の第2の領域16の一部をウェットエッチングすることによって、複数の第1の溝20a−20gがウエハ11の第2の領域16に形成されてもよい。ウエハ11は、例えば、フッ酸(HF)、水酸化カリウム(KOH)、塩酸(HCl)、臭化水素(HBr)、硫酸(H2SO4)及び硝酸(HNO3)の少なくとも1つを含むエッチング液を用いてエッチングされてもよい。ウエハ11の第2の領域16の一部をドライエッチングし、それからウェットエッチングすることによって、複数の第1の溝20a−20gがウエハ11の第2の領域16に形成されてもよい。
With reference to FIGS. 1 to 6, forming a plurality of cleavage starting points (20a-20g) forms a plurality of
具体的には、図6に示されるように、ウエハ11の主面11a上に、複数の開口部17a−17gを有するマスク17が形成される。マスク17は、特に限定されないが、SiO2膜であってもよい。複数の開口部17a−17gの幅は、互いに同じであってもよい。複数の開口部17a−17gの幅は、第1の方向における複数の開口部17a−17gの長さである。複数の開口部17a−17gの幅は、互いに異なってもよい。特定的には、複数の開口部17a−17gの幅は、第2の方向において、徐々に変化してもよい。具体的には、マスク17の開口部17aの幅は、マスク17の開口部17bの幅より大きくてもよい。マスク17の開口部17bの幅は、マスク17の開口部17cの幅より大きくてもよい。マスク17の開口部17cの幅は、マスク17の開口部17dの幅より大きくてもよい。マスク17の開口部17dの幅は、マスク17の開口部17eの幅より大きくてもよい。マスク17の開口部17eの幅は、マスク17の開口部17fの幅より大きくてもよい。マスク17の開口部17fの幅は、マスク17の開口部17gの幅より大きくてもよい。
Specifically, as shown in FIG. 6, a
ドライエッチング法によって、マスク17の複数の開口部17a−17gから露出したウエハ11の部分をエッチングして、複数の第1の溝20a−20gは形成される。マスク17の複数の開口部17a−17gの幅が小さいほど、ウエハ11のエッチングレートは減少し、より浅い第1の溝20a−20gが形成される。具体的には、マスク17の開口部17bの幅はマスク17の開口部17aの幅より小さいため、第1の溝20bの第1の深さ22bは第1の溝20aの第1の深さ22aよりも小さい。マスク17の開口部17cの幅はマスク17の開口部17bの幅より小さいため、第1の溝20cの第1の深さ22cは第1の溝20bの第1の深さ22bよりも小さい。マスク17の開口部17dの幅はマスク17の開口部17cの幅より小さいため、第1の溝20dの第1の深さ22dは第1の溝20cの第1の深さ22cよりも小さい。マスク17の開口部17eの幅はマスク17の開口部17dの幅より小さいため、第1の溝20eの第1の深さ22eは第1の溝20dの第1の深さ22dよりも小さい。マスク17の開口部17fの幅はマスク17の開口部17eの幅より小さいため、第1の溝20fの第1の深さ22fは第1の溝20eの第1の深さ22eよりも小さい。マスク17の開口部17gの幅はマスク17の開口部17fの幅より小さいため、第1の溝20gの第1の深さ22gは第1の溝20fの第1の深さ22fよりも小さい。こうして、第1の深さ22a−22gが互いに異なる複数の第1の溝20a−20gが一度に形成され得る。
By the dry etching method, the portion of the
それから、ウェットエッチング法によって、ウエハ11はさらにエッチングされる。エッチングレートが面方位に依存するエッチング液を用いてウエハ11をエッチングすることによって、V字形状を有する底部24を含む複数の第1の溝20a−20gが形成されてもよい。こうして、図3に示される複数の第1の溝20a−20gが形成され得る。
The
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、複数の劈開起点部(20a−20g)のうち相対的に劈開され易い劈開起点部(例えば、劈開起点部(20a))から順に、複数の劈開起点部(20a−20g)を起点としてウエハ11を劈開すること(S14)を備える。特定的には、複数の第1の溝20a−20gのうち第1の深さ22a−22g及び第1の長さ23a−23gの少なくとも1つが相対的に大きい第1の溝(例えば、第1の溝20a)から順に、複数の第1の溝20a−20gを起点としてウエハ11は劈開される。複数の第1の溝20a−20gのうち第1の深さ22a−22g及び第1の長さ23a−23gの少なくとも1つが最も大きい第1の溝(例えば、第1の溝20a)から、複数の第1の溝20a−20gのうち第1の深さ22a−22g及び第1の長さ23a−23gの少なくとも1つが最も小さい第1の溝(例えば、第1の溝20g)まで、第1の深さ22a−22g及び第1の長さ23a−23gの少なくとも1つの順に、複数の第1の溝20a−20gを起点としてウエハ11は劈開される。
In the method for manufacturing the
具体的には、図7に示されるように、主面11aとは反対側のウエハ11の裏面11bが粘着シート26に貼り付けられる。ウエハ11の主面11aがカバーシート27で覆われる。粘着シート26の両端とカバーシート27の両端とは、基台28に支持される。ホルダー29は、粘着シート26の両端とカバーシート27の両端とを、基台28に向けて押圧する。こうして、粘着シート26の両端とカバーシート27の両端とは、ホルダー29を用いて、基台28に固定される。
Specifically, as shown in FIG. 7, the
図7及び図8に示されるように、ブレード25は、粘着シート26を介して、第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20aに対向して配置される。ブレード25は、第1の領域15の他方側に配置された第1の溝20aの下方に配置されていない。ブレード25は、分割基準線71に平行に配置されている。ブレード25を粘着シート26に押し当てて、ウエハ11の裏面11bから主面11aに向けてウエハ11に荷重を加える。ブレード25を用いて、第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20aにのみ荷重が印加される。第1の領域15の他方側に配置された第1の溝20aには、荷重は印加されない。こうして、第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20aを起点として、分割基準線71に沿って、ウエハ11は劈開される。
As shown in FIGS. 7 and 8, the
続いて、ブレード25は、粘着シート26を介して、第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20bに対向して配置される。ブレード25は、分割基準線72に平行に配置されている。ブレード25を粘着シート26に押し当てて、ウエハ11の裏面11bから主面11aに向けてウエハ11に荷重を加える。第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20bを起点として、分割基準線72に沿って、ウエハ11は劈開される。続いて、ブレード25は、粘着シート26を介して、第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20cに対向して配置される。ブレード25は、分割基準線73に平行に配置されている。ブレード25を粘着シート26に押し当てて、ウエハ11の裏面11bから主面11aに向けてウエハ11に荷重を加える。第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20cを起点として、分割基準線73に沿って、ウエハ11は劈開される。
Subsequently, the
続いて、ブレード25は、粘着シート26を介して、第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20dに対向して配置される。ブレード25は、分割基準線74に平行に配置されている。ブレード25を粘着シート26に押し当てて、ウエハ11の裏面11bから主面11aに向けてウエハ11に荷重を加える。第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20dを起点として、分割基準線74に沿って、ウエハ11は劈開される。続いて、ブレード25は、粘着シート26を介して、第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20eに対向して配置される。ブレード25は、分割基準線75に平行に配置されている。ブレード25を粘着シート26に押し当てて、ウエハ11の裏面11bから主面11aに向けてウエハ11に荷重を加える。そのため、第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20eを起点として、分割基準線75に沿って、ウエハ11は劈開される。
Subsequently, the
続いて、ブレード25は、粘着シート26を介して、第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20fに対向して配置される。ブレード25は、分割基準線76に平行に配置されている。ブレード25を粘着シート26に押し当てて、ウエハ11の裏面11bから主面11aに向けてウエハ11に荷重を加える。第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20fを起点として、分割基準線76に沿って、ウエハ11は劈開される。最後に、ブレード25は、粘着シート26を介して、第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20gに対向して配置される。ブレード25は、分割基準線77に平行に配置されている。ブレード25を粘着シート26に押し当てて、ウエハ11の裏面11bから主面11aに向けてウエハ11に荷重を加える。第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20gを起点として、分割基準線77に沿って、ウエハ11は劈開される。
Subsequently, the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、分割基準線81−87に沿って、バーの形状を有する分割されたウエハ11を分割すること(S15)をさらに備えてもよい。分割基準線81−87は、分割基準線71−77に交差している。バーの形状を有する分割されたウエハ11を分割することによって、ウエハ11が複数の半導体デバイス12に分割される。複数の半導体デバイス12が粘着シート26から剥離される。こうして、複数の半導体デバイス12が製造され得る。
The method for manufacturing the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法の効果を説明する。
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、ウエハ11の主面11aの第1の領域15に、複数の半導体デバイス12を形成すること(S11)を備える。複数の半導体デバイス12は、第1の方向と第1の方向に交差する第2の方向とに沿って配列されている。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、第1の領域15とは異なる主面11aの第2の領域16に複数の劈開起点部(20a−20g)を形成すること(S12)をさらに備える。複数の劈開起点部(20a−20g)は、第2の方向に沿って配置されている。複数の劈開起点部(20a−20g)は、互いに異なる劈開され易さを有している。複数の劈開起点部(20a−20g)を形成することは、第2の領域16の一部をエッチングすることによって複数の第1の溝20a−20gを形成することを含む。複数の第1の溝20a−20gは、各々、第1の方向に沿って延在している。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、複数の劈開起点部(20a−20g)のうち相対的に劈開され易い劈開起点部(例えば、劈開起点部(20a))から順に、複数の劈開起点部(20a−20g)を起点としてウエハ11を劈開すること(S14)を備える。
The effect of the manufacturing method of the
The method for manufacturing the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法では、複数の劈開起点部(20a−20g)に含まれる複数の第1の溝20a−20gは、ウエハ11の第2の領域16の一部をエッチングすることによって形成されている。ウエハ11をスクライブすることによって形成された比較例の複数の傷と比べて、ウエハ11をエッチングすることによって形成された本実施の形態の複数の第1の溝20a−20gは、第1の長さ23a−23g、第1の深さ22a−22g及び第1の幅21a−21gにおいてより小さなばらつきを有する。複数の第1の溝20a−20gの第1の長さ23a−23g、第1の深さ22a−22g及び第1の幅21a−21gを定める際に、複数の第1の溝20a−20gの第1の長さ23a−23g、第1の深さ22a−22g及び第1の幅21a−21gのばらつきをほとんど考慮する必要がない。
In the method for manufacturing the
そのため、エッチングによって形成される複数の第1の溝20a−20gの第1の幅21a−21g及び第1の長さ23a−23gは、それぞれ、スクライブによって形成される複数の傷の幅及び長さよりも減少され得る。複数の第1の溝20a−20gが形成されるウエハ11の第2の領域16の面積が減少され得て、複数の半導体デバイス12が形成される第1の領域15の面積が増加され得る。また、エッチングによって形成される複数の第1の溝20a−20gの間の間隔は、スクライブによって形成される複数の第1の溝20a−20gの間の間隔よりも減少され得る。第1の領域15に形成される複数の半導体デバイス12の各々のサイズが減少され得て、1枚のウエハ11当たりに形成される複数の半導体デバイス12の数は増加し得る。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法によれば、半導体デバイス12の収率は向上され得る。
Therefore, the
さらに、ウエハ11をスクライブすることによって複数の傷が形成される比較例ではウエハ11に不規則な方向に延在する亀裂が発生するが、エッチングによって形成された本実施の形態の複数の第1の溝20a−20gは、ウエハ11に不規則な方向に延在する亀裂が発生することを防止し得る。ウエハ11は、複数の分割基準線71−77に沿って安定的に劈開され得る。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法によれば、半導体デバイス12の収率は向上され得る。
Further, in the comparative example in which a plurality of scratches are formed by scribing the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法では、複数の劈開起点部(20a−20g)は、複数の第1の溝20a−20gであってもよい。複数の第1の溝20a−20gの第1の深さ22a−22g及び第1の長さ23a−23gの少なくとも1つは互いに異なる。第1の深さ22a−22gは、主面11aに垂直な第3の方向における複数の第1の溝20a−20gの長さである。第1の長さ23a−23gは、第1の方向における複数の第1の溝20a−20gの長さである。ウエハ11を劈開することは、複数の第1の溝20a−20gのうち第1の深さ22a−22g及び第1の長さ23a−23gの少なくとも1つが相対的に大きい第1の溝(例えば、第1の溝20a)から順に、複数の第1の溝20a−20gを起点としてウエハ11を劈開することを含む。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法によれば、半導体デバイス12の収率は向上され得る。
In the method for manufacturing the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法では、複数の第1の溝20a−20gの第1の深さ22a−22g及び第1の長さ23a−23gの少なくとも1つは、第2の方向において、徐々に変化してもよい。そのため、複数の第1の溝20a−20gを起点としてウエハ11を劈開する際に、第2の方向におけるブレード25の移動距離が最も小さくなる。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法によれば、ウエハ11を劈開する時間が短縮されて、半導体デバイス12の製造効率は向上され得る。
In the method for manufacturing the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法では、第1の方向に直交する断面において、複数の第1の溝20a−20gは、各々、V字形状を有する底部24を含んでもよい。V字形状を有する底部24を含む複数の第1の溝20a−20gが形成されたウエハ11を劈開するとき、V字形状を有する底部24の先端に応力が集中する。第2の方向における複数の第1の溝20a−20gの各々の中心で、ウエハ11は最も劈開されやすい。V字形状を有する底部24を含む複数の第1の溝20a−20gは、より高い精度で複数の分割基準線71−77に沿ってウエハ11が分割されることを可能にする。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法によれば、半導体デバイス12の収率は向上され得る。
In the method for manufacturing the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法では、複数の劈開起点部(20a−20g)は、第1の方向において第1の領域15の一方側と他方側とに配置されてもよい。第1の領域15の一方側に配置された複数の第1の溝20a−20gと、第1の領域15の他方側に配置された複数の第1の溝20a−20gとは、第1の方向に沿って配置されている。そのため、ウエハ11は、より高い精度で、分割基準線71−77に沿って分割され得る。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法によれば、半導体デバイス12の収率は向上され得る。
In the method for manufacturing the
実施の形態2.
図9から図12を参照して、実施の形態2に係る半導体デバイス12の製造方法を説明する。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、実施の形態1の半導体デバイス12の製造方法と同様の工程を備えるが、以下の点で主に異なる。
Embodiment 2.
A method of manufacturing the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法では、複数の劈開起点部(20a−20g)は、第1の方向において第1の領域15の一方側と他方側とに配置されている。複数の第1の溝20a−20gは、第1の領域15の一方側と他方側とに交互に配置されている。具体的には、図9に示されるように、複数の第1の溝20a,20c,20e,20gは、第1の領域15の一方側だけに配置されている。複数の第1の溝20b,20d,20fは、第1の領域15の他方側だけに配置されている。
In the method for manufacturing the
図9を参照して、複数の劈開起点部(20a−20g)のうち相対的に劈開され易い劈開起点部(例えば、劈開起点部(20a))から順に、複数の劈開起点部(20a−20g)を起点としてウエハ11は劈開される。特定的には、複数の第1の溝20a−20gのうち第1の深さ22a−22gが相対的に大きい第1の溝(例えば、第1の溝20a)から順に、複数の第1の溝20a−20gを起点としてウエハ11は劈開される。
With reference to FIG. 9, a plurality of cleavage starting points (20a-20g) are arranged in order from the cleavage starting point (for example, the cleavage starting point (20a)) which is relatively easy to open among the plurality of cleavage starting points (20a-20g). ) Is the starting point, and the
図9から図11を参照して、ブレード25を用いて、ウエハ11は劈開されてもよい。ブレード25を用いて、複数の分割基準線71−77の各々において、第1の領域15の一方側及び他方側のうち、複数の第1の溝20a−20gの各々が形成されている側の第2の領域16にのみ荷重が印加される。複数の分割基準線71−77の各々において、第1の領域15の一方側及び他方側のうち、複数の20a−20gの各々が形成されていない側の第2の領域16には、荷重は印加されない。そのため、ブレード25を用いて複数の劈開起点部(20a−20g)の一つである第1の劈開起点部(例えば、劈開起点部(20a))に荷重が印加されるときに、第1の劈開起点部が存在する第1の分割基準線(例えば、分割基準線71)に隣り合う第2の分割基準線(例えば、分割基準線72)上にある第2の劈開起点部(例えば、劈開起点部(20b))を起点として、ウエハ11が劈開されることが防止され得る。
With reference to FIGS. 9 to 11, the
具体的には、図9及び図10に示されるように、ブレード25は、粘着シート(図示せず)を介して、第1の溝20aに対向して配置される。第1の溝20aは、第1の領域15の一方側にのみ配置されており、ブレード25は、第1の領域15の一方側の下方にのみ配置されている。ブレード25を粘着シート(図示せず)に押し当てて、ウエハ11の裏面11bから主面11aに向けてウエハ11に荷重を加える。第1の溝20aを起点として、分割基準線71に沿って、ウエハ11は劈開される。分割基準線71に隣り合う分割基準線72上にかつ第1の領域15の一方側に、第1の溝20bは存在しない。ブレード25を用いて第1の溝20aに対応するウエハ11の部分に荷重が印加されるときに、第1の溝20aが存在する分割基準線71に隣り合う分割基準線72上にある第1の溝20bを起点として、ウエハ11が劈開されることが防止され得る。
Specifically, as shown in FIGS. 9 and 10, the
続いて、図9及び図11に示されるように、ブレード25は、粘着シート(図示せず)を介して、第1の溝20bに対向して配置される。第1の溝20bは、第1の領域15の他方側にのみ配置されており、ブレード25は、第1の領域15の他方側の下方にのみ配置されている。ブレード25を粘着シート(図示せず)に押し当てて、ウエハ11の裏面11bから主面11aに向けてウエハ11に荷重を加える。第1の溝20bを起点として、分割基準線72に沿って、ウエハ11は劈開される。分割基準線72に隣り合う分割基準線73上にかつ第1の領域15の他方側に、第1の溝20cは存在しない。ブレード25を用いて第1の溝20bに対応するウエハ11の部分に荷重が印加されるときに、第1の溝20bが存在する分割基準線72に隣り合う分割基準線73上にある第1の溝20cを起点として、ウエハ11が劈開されることが防止され得る。
Subsequently, as shown in FIGS. 9 and 11, the
同様に、ブレード25を用いて第1の溝20cに対応するウエハ11の部分に荷重が印加されるときに、第1の溝20cが存在する分割基準線73に隣り合う分割基準線74上にある第1の溝20dを起点として、ウエハ11が劈開されることが防止され得る。ブレード25を用いて第1の溝20dに対応するウエハ11の部分に荷重が印加されるときに、第1の溝20dが存在する分割基準線74に隣り合う分割基準線75上にある第1の溝20eを起点として、ウエハ11が劈開されることが防止され得る。ブレード25を用いて第1の溝20eに対応するウエハ11の部分に荷重が印加されるときに、第1の溝20eが存在する分割基準線75に隣り合う分割基準線76上にある第1の溝20fを起点として、ウエハ11が劈開されることが防止され得る。ブレード25を用いて第1の溝20fに対応するウエハ11の部分に荷重が印加されるときに、第1の溝20fが存在する分割基準線76に隣り合う分割基準線77上にある第1の溝20gを起点として、ウエハ11が劈開されることが防止され得る。
Similarly, when a load is applied to the portion of the
図9及び図12を参照して、ブレード25bを用いて、ウエハ11は劈開されてもよい。ブレード25bは、一対の突出部25s,25tを有している。ブレード25bを粘着シート(図示せず)に押し当てて、ウエハ11の裏面11bから主面11aに向けてウエハ11に荷重を加える。第1の領域15の一方側と他方側のうち複数の第1の溝20a−20gの各々が形成されている側から、第1の領域15の一方側と他方側のうち複数の第1の溝20a−20gの各々が形成されていない側に向けて、ウエハ11は劈開される。
With reference to FIGS. 9 and 12, the
具体的には、図9及び図12に示されるように、ブレード25bは、粘着シート(図示せず)を介して、第1の溝20aに対向して配置される。第1の溝20aは、第1の領域15の一方側にのみ配置されている。ブレード25bは、第1の領域15の一方側の下方と第1の領域15の他方側の下方とに配置されている。ブレード25bを粘着シート(図示せず)に押し当てて、ウエハ11の裏面11bから主面11aに向けてウエハ11に荷重を加える。ブレード25bの突出部25sは、第1の領域15の一方側に配置された第1の溝20aに対応するウエハ11の部分に荷重を印加する。ブレード25bの突出部25tが荷重を印加するウエハ11の部分には、第1の溝20aは形成されていない。そのため、第1の溝20aを起点として、第1の溝20aが形成されている第1の領域15の一方側から第1の溝20aが形成されていない第1の領域15の他方側に向けて、かつ、分割基準線71に沿って、ウエハ11は劈開される。
Specifically, as shown in FIGS. 9 and 12, the
同様に、ブレード25を用いて第1の溝20bを起点として、第1の溝20bが形成されている第1の領域15の他方側から第1の溝20bが形成されていない第1の領域15の一方側に向けて、かつ、分割基準線72に沿って、ウエハ11は劈開される。ブレード25を用いて第1の溝20cを起点として、第1の溝20cが形成されている第1の領域15の一方側から第1の溝20cが形成されていない第1の領域15の他方側に向けて、かつ、分割基準線73に沿って、ウエハ11は劈開される。ブレード25を用いて第1の溝20dを起点として、第1の溝20dが形成されている第1の領域15の他方側から第1の溝20dが形成されていない第1の領域15の一方側に向けて、かつ、分割基準線74に沿って、ウエハ11は劈開される。ブレード25を用いて第1の溝20eを起点として、第1の溝20eが形成されている第1の領域15の一方側から第1の溝20eが形成されていない第1の領域15の他方側に向けて、かつ、分割基準線75に沿って、ウエハ11は劈開される。ブレード25を用いて第1の溝20fを起点として、第1の溝20fが形成されている第1の領域15の他方側から第1の溝20fが形成されていない第1の領域15の一方側に向けて、かつ、分割基準線76に沿って、ウエハ11は劈開される。ブレード25を用いて第1の溝20gを起点として、第1の溝20gが形成されている第1の領域15の一方側から第1の溝20gが形成されていない第1の領域15の他方側に向けて、かつ、分割基準線77に沿って、ウエハ11は劈開される。
Similarly, using the
図10及び図11に示されるように、本実施の形態のウエハ11をブレード25を用いて劈開するためには、ブレード25を第1の方向(例えば、x方向)と第2の方向(例えば、y方向)とに移動させる必要がある。これに対し、図12に示されるように、本実施の形態のウエハ11をブレード25bを用いて劈開するためには、ブレード25bを第2の方向(例えば、y方向)に移動させるだけでよい。そのため、本実施の形態のウエハ11をブレード25bを用いて劈開することによって、半導体デバイス12の製造効率は向上され得る。
As shown in FIGS. 10 and 11, in order to cleave the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、実施の形態1の半導体デバイス12の製造方法の効果に加えて、以下の効果を奏する。
The method for manufacturing the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法では、複数の劈開起点部(20a−20g)は、第1の方向において第1の領域15の一方側と他方側とに配置されている。複数の劈開起点部(20a−20g)は、一方側と他方側とに交互に配置されている。そのため、ウエハ11に形成される複数の劈開起点部(20a−20g)の数が減少され得る。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法によれば、ウエハプロセス中に、ウエハ11のハンドリングのような負荷がウエハ11に作用しても、複数の劈開起点部(20a−20g)を起点として、ウエハ11が割れる可能性が低減され得る。
In the method for manufacturing the
さらに、ウエハ11を劈開するために複数の劈開起点部(20a−20g)の一つである第1の劈開起点部(例えば、劈開起点部(20a))に荷重が印加されるときに、第1の劈開起点部(20a−20g)が存在する第1の分割基準線(例えば、分割基準線71)に隣り合う第2の分割基準線(例えば、分割基準線72)上にある第2の劈開起点部(例えば、劈開起点部(20b))を起点として、ウエハ11が劈開されることが防止され得る。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法によれば、半導体デバイス12の収率は向上され得る。
Further, when a load is applied to the first cleavage starting point (for example, the cleavage starting point (20a)) which is one of the plurality of cleavage starting points (20a-20g) in order to open the
実施の形態3.
図13及び図14を参照して、実施の形態3に係る半導体デバイス12の製造方法を説明する。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、実施の形態1の半導体デバイス12の製造方法と同様の工程を備えているが、以下の点で主に異なる。
A method of manufacturing the
本実施の形態では、複数の第1の溝40a−40gの第1の長さ43a−43gは互いに異なる。相対的に大きな第1の長さ43a−43gを有する第1の溝40a−40gは、相対的に小さな第1の長さ43a−43gを有する第1の溝40a−40gよりも劈開され易い。特定的には、複数の第1の溝40a−40gの第1の長さ43a−43gが、第2の方向において、徐々に変化してもよい。
In this embodiment, the
具体的には、第1の溝40aの第1の長さ43aは、第1の溝40bの第1の長さ43bよりも大きい。第1の溝40aは、第1の溝40bよりも劈開され易い。第1の溝40bの第1の長さ43bは、第1の溝40cの第1の長さ43cよりも大きい。第1の溝40bは、第1の溝40cよりも劈開され易い。第1の溝40cの第1の長さ43cは、第1の溝40dの第1の長さ43dよりも大きい。第1の溝40cは、第1の溝40dよりも劈開され易い。第1の溝40dの第1の長さ43dは、第1の溝40eの第1の長さ43eよりも大きい。第1の溝40dは、第1の溝40eよりも劈開され易い。第1の溝40eの第1の長さ43eは、第1の溝40fの第1の長さ43fよりも大きい。第1の溝40eは、第1の溝40fよりも劈開され易い。第1の溝40fの第1の長さ43fは、第1の溝40gの第1の長さ43gよりも大きい。第1の溝40fは、第1の溝40gよりも劈開され易い。
Specifically, the
複数の第1の溝40a−40gの第1の深さ42a−42gは、互いに同じであってもよい。複数の第1の溝の第1の幅41a−41gは、互いに同じであってもよい。
The
第1の領域15の一方側に配置された複数の第1の溝40a−40gは、それぞれ、第1の領域15から第1の等距離間隔離れてもよい。そのため、複数の第1の溝40a−40gの第1の長さが互いに異なっていても、半導体デバイス12の収率は低下しない。第1の領域15の他方側に配置された複数の第1の溝40a−40gは、それぞれ、第1の領域15から第2の等距離間隔離れてもよい。そのため、複数の第1の溝40a−40gの第1の長さが互いに異なっていても、半導体デバイス12の収率は低下しない。第2の等距離間隔は、第1の等距離間隔に等しくてもよい。第1の領域15の一方側に配置された複数の第1の溝40a−40gと、第1の領域15の他方側に配置された複数の第1の溝40a−40gとは、第1の方向に沿って配置されている。
The plurality of
複数の第1の溝40a−40gは、各々、図4に示されるように、ウエハ11の主面11aから第1の溝40a−40gの各々の底部24まで傾斜する側面を含んでもよい。複数の第1の溝40a−40gは、各々、図5に示されるように、ウエハ11の主面11aに実質的に垂直に延在する側面と、この側面に接続されかつウエハ11の主面11aに実質的に平行に延在する底部とを含んでもよい。
Each of the plurality of
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、実施の形態1の半導体デバイス12の製造方法の効果と同様の効果を奏する。
The method for manufacturing the
実施の形態4.
図15及び図16を参照して、実施の形態4に係る半導体デバイス12の製造方法を説明する。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、実施の形態1の半導体デバイス12の製造方法と同様の工程を備えているが、以下の点で主に異なる。
Embodiment 4.
A method of manufacturing the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法では、複数の第1の溝50a−50gの第1の深さ52a−52g及び第1の長さ53a−53gは、それぞれ、互いに異なっている。相対的に大きな第1の深さ52a−52g及び第1の長さ53a−53gを有する第1の溝50a−50gは、相対的に小さな第1の深さ52a−52g及び第1の長さ53a−53gを有する第1の溝50a−50gよりも劈開され易い。特定的には、複数の第1の溝50a−50gの第1の深さ52a−52g及び第1の長さ53a−53gは、第2の方向において、徐々に変化してもよい。
In the method for manufacturing the
具体的には、第1の溝50aの第1の深さ52a及び第1の長さ53aは、それぞれ、第1の溝50bの第1の深さ52b及び第1の長さ53bよりも大きい。第1の溝50aは、第1の溝50bよりも劈開され易い。第1の溝50bの第1の深さ52b及び第1の長さ53bは、それぞれ、第1の溝50cの第1の深さ52c及び第1の長さ53cよりも大きい。第1の溝50bは、第1の溝50cよりも劈開され易い。第1の溝50cの第1の深さ52c及び第1の長さ53cは、それぞれ、第1の溝50dの第1の深さ52d及び第1の長さ53dよりも大きい。第1の溝50cは、第1の溝50dよりも劈開され易い。第1の溝50dの第1の深さ52d及び第1の長さ53dは、それぞれ、第1の溝50eの第1の深さ52e及び第1の長さ53eよりも大きい。第1の溝50dは、第1の溝50eよりも劈開され易い。第1の溝50eの第1の深さ52e及び第1の長さ53eは、それぞれ、第1の溝50fの第1の深さ52f及び第1の長さ53fよりも大きい。第1の溝50eは、第1の溝50fよりも劈開され易い。第1の溝50fの第1の深さ52f及び第1の長さ53fは、それぞれ、第1の溝50gの第1の深さ52g及び第1の長さ53gよりも大きい。第1の溝50fは、第1の溝50gよりも劈開され易い。
Specifically, the
複数の第1の溝50a−50gの第1の幅51a−51gは、互いに同じであってもよい。複数の第1の溝50a−50gの第1の幅51a−51gは、互いに異なってもよい。特定的には、複数の第1の溝50a−50gの第1の幅51a−51gは、第2の方向において、徐々に変化してもよい。具体的には、第1の溝50aの第1の幅51aは、第1の溝50bの第1の幅51bより大きくてもよい。第1の溝50bの第1の幅51bは、第1の溝50cの第1の幅51cより大きくてもよい。第1の溝50cの第1の幅51cは、第1の溝50dの第1の幅51dより大きくてもよい。第1の溝50dの第1の幅51dは、第1の溝50eの第1の幅51eより大きくてもよい。第1の溝50eの第1の幅51eは、第1の溝50fの第1の幅51fより大きくてもよい。第1の溝50fの第1の幅51fは、第1の溝50gの第1の幅51gより大きくてもよい。
The
複数の第1の溝50a−50gは、各々、図4に示されるように、ウエハ11の主面11aから第1の溝50a−50gの各々の底部24まで傾斜する側面を含んでもよい。複数の第1の溝50a−50gは、各々、図5に示されるように、ウエハ11の主面11aに実質的に垂直に延在する側面と、この側面に接続されかつウエハ11の主面11aに実質的に平行に延在する底部とを含んでもよい。
Each of the plurality of
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、実施の形態1の半導体デバイス12の製造方法の効果に加えて、以下の効果を奏する。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法では、複数の第1の溝50a−50gの第1の深さ52a−52g及び第1の長さ53a−53gは、それぞれ、互いに異なっている。そのため、本実施の形態における複数の劈開起点部(50a−50g)の間の劈開され易さの差は、実施の形態1における複数の劈開起点部(50a−50g)の間の劈開され易さの差よりも大きい。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法によれば、半導体デバイス12の収率は向上され得る。
The method for manufacturing the
実施の形態5.
図17及び図18を参照して、実施の形態5に係る半導体デバイス12の製造方法を説明する。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、実施の形態1の半導体デバイス12の製造方法と同様の工程を備えているが、以下の点で主に異なる。
Embodiment 5.
A method of manufacturing the
複数の劈開起点部(18,20a−20g)を形成することは、複数の第1の溝20a−20gの少なくとも一部に充填部材18を充填することをさらに含む。充填部材18は、有機絶縁材料または二酸化珪素若しくは窒化珪素のような無機絶縁材料で構成されてもよい。充填部材18は、チタン(Ti)、白金(Pt)または金(Au)のような金属材料で構成されてもよい。充填部材18は、ウエハ11の主面11a上に形成された膜の一部であってもよい。例えば、充填部材18は、スピンコート法、インクジェット法または蒸着法などを用いて膜を形成することと、膜をエッチングすることとによって形成されてもよい。
Forming a plurality of cleavage origins (18, 20a-20g) further comprises filling at least a portion of the plurality of
複数の第1の溝20a−20g内における充填部材18の第2の深さ及び第2の長さの少なくとも1つが、複数の劈開起点部(18,20a−20g)の間で異なっている。第2の深さは、第3の方向における充填部材18の長さである。第2の長さは、第1の方向における充填部材18の長さである。本実施の形態では、複数の第1の溝20a−20g内における充填部材18の第2の長さが、複数の劈開起点部(18,20a−20g)の間で異なっている。複数の第1の溝20a−20gの第1の深さ22a−22g及び第1の長さ23a−23gの少なくとも1つが小さくなるにつれて、充填部材18の第2の深さ及び第2の長さの少なくとも1つは増加する。本実施の形態では、複数の第1の溝20a−20gの第1の深さ22a−22gが小さくなるにつれて、充填部材18の第2の長さは増加する。
At least one of the second depth and the second length of the filling
具体的には、第1の溝20aの第1の深さ22aは、第1の溝20bの第1の深さ22bよりも大きく、かつ、第1の溝20a内における充填部材18の第2の長さは、第1の溝20b内における充填部材18の第2の長さよりも小さい。第1の溝20bの第1の深さ22bは、第1の溝20cの第1の深さ22cよりも大きく、かつ、第1の溝20b内における充填部材18の第2の長さは、第1の溝20c内における充填部材18の第2の長さよりも小さい。第1の溝20cの第1の深さ22cは、第1の溝20dの第1の深さ22dよりも大きく、かつ、第1の溝20c内における充填部材18の第2の長さは、第1の溝20d内における充填部材18の第2の長さよりも小さい。
Specifically, the
第1の溝20dの第1の深さ22dは、第1の溝20eの第1の深さ22eよりも大きく、かつ、第1の溝20d内における充填部材18の第2の長さは、第1の溝20e内における充填部材18の第2の長さよりも小さい。第1の溝20eの第1の深さ22eは、第1の溝20fの第1の深さ22fよりも大きく、かつ、第1の溝20e内における充填部材18の第2の長さは、第1の溝20f内における充填部材18の第2の長さよりも小さい。第1の溝20fの第1の深さ22fは、第1の溝20gの第1の深さ22gよりも大きく、かつ、第1の溝20f内における充填部材18の第2の長さは、第1の溝20g内における充填部材18の第2の長さよりも小さい。
The
複数の第1の溝20a−20gに代えて、実施の形態2の複数の第1の溝20a−20gがウエハ11に形成されてもよい。複数の第1の溝20a−20gに代えて、実施の形態3の複数の第1の溝40a−40gがウエハ11に形成されてもよい。
Instead of the plurality of
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、実施の形態1の半導体デバイス12の製造方法の効果に加えて、以下の効果を奏する。
The method for manufacturing the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法では、複数の劈開起点部(18,20a−20g)は、少なくとも一部が充填部材18で充填された複数の第1の溝20a−20gである。複数の第1の溝20a−20gの第1の深さ22a−22g及び第1の長さ23a−23gの少なくとも1つは互いに異なる。第1の深さ22a−22gは、主面11aに垂直な第3の方向における複数の第1の溝20a−20gの長さである。第1の長さ23a−23gは、第1の方向における複数の第1の溝20a−20gの長さである。複数の劈開起点部(18,20a−20g)を形成することは、複数の第1の溝20a−20gの少なくとも一部に充填部材18を充填することをさらに含む。複数の第1の溝20a−20g内における充填部材18の第2の深さ及び第2の長さの少なくとも1つが、複数の劈開起点部(18,20a−20g)の間で異なる。第2の深さは、第3の方向における充填部材18の長さである。第2の長さは、第1の方向における充填部材18の長さである。複数の第1の溝20a−20gの第1の深さ22a−22g及び第1の長さ23a−23gの少なくとも1つが小さくなるにつれて、充填部材18の第2の深さ及び第2の長さの少なくとも1つは増加する。
In the method for manufacturing the
複数の第1の溝20a−20gの第1の深さ22a−22g及び第1の長さ23a−23gの少なくとも1つが小さくなると、複数の劈開起点部(18,20a−20g)の各々は劈開され難くなる。さらに、複数の第1の溝20a−20g内における充填部材18の第2の深さ及び第2の長さの少なくとも1つが増加すると、複数の劈開起点部(18,20a−20g)の各々は劈開され難くなる。ウエハ11を劈開するために複数の劈開起点部(18,20a−20g)の一つである第1の劈開起点部(例えば、劈開起点部(18,20a))に荷重が印加されるときに、第1の劈開起点部が存在する第1の分割基準線(例えば、分割基準線71)に隣り合う第2の分割基準線(例えば、分割基準線72)上にある第2の劈開起点部(例えば、劈開起点部(18,20b))を起点として、ウエハ11が劈開されることが防止され得る。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法によれば、半導体デバイス12の収率は向上され得る。
When at least one of the
実施の形態6.
図19及び図20を参照して、実施の形態6に係る半導体デバイス12の製造方法を説明する。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、実施の形態5の半導体デバイス12の製造方法と同様の工程を備えているが、以下の点で主に異なる。
Embodiment 6.
A method of manufacturing the
充填部材18は、複数の第1の溝20a−20gの内部にのみ形成されてもよく、ウエハ11の主面11a上に形成されていなくてもよい。例えば、充填部材18は、インクジェット法を用いて形成されてもよい。例えば、充填部材18は、スピンコート法または蒸着法などを用いて膜を形成することと、膜をエッチングすることとによって形成されてもよい。
The filling
複数の第1の溝20a−20g内における充填部材18の第2の深さ及び第2の長さの少なくとも1つが、複数の劈開起点部(18,20a−20g)の間で異なっている。本実施の形態では、複数の第1の溝20a−20g内における充填部材18の第2の深さが、複数の劈開起点部(18,20a−20g)の間で異なっている。複数の第1の溝20a−20gの第1の深さ22a−22g及び第1の長さ23a−23gの少なくとも1つが小さくなるにつれて、充填部材18の第2の深さ及び第2の長さの少なくとも1つは増加する。本実施の形態では、複数の第1の溝20a−20gの第1の深さ22a−22gが小さくなるにつれて、充填部材18の第2の深さは増加する。
At least one of the second depth and the second length of the filling
具体的には、第1の溝20aの第1の深さ22aは、第1の溝20bの第1の深さ22bよりも大きく、かつ、第1の溝20a内における充填部材18の第2の深さは、第1の溝20b内における充填部材18の第2の深さよりも小さい。第1の溝20bの第1の深さ22bは、第1の溝20cの第1の深さ22cよりも大きく、かつ、第1の溝20b内における充填部材18の第2の深さは、第1の溝20c内における充填部材18の第2の深さよりも小さい。第1の溝20cの第1の深さ22cは、第1の溝20dの第1の深さ22dよりも大きく、かつ、第1の溝20c内における充填部材18の第2の深さは、第1の溝20d内における充填部材18の第2の深さよりも小さい。
Specifically, the
第1の溝20dの第1の深さ22dは、第1の溝20eの第1の深さ22eよりも大きく、かつ、第1の溝20d内における充填部材18の第2の深さは、第1の溝20e内における充填部材18の第2の深さよりも小さい。第1の溝20eの第1の深さ22eは、第1の溝20fの第1の深さ22fよりも大きく、かつ、第1の溝20e内における充填部材18の第2の深さは、第1の溝20f内における充填部材18の第2の深さよりも小さい。第1の溝20fの第1の深さ22fは、第1の溝20gの第1の深さ22gよりも大きく、かつ、第1の溝20f内における充填部材18の第2の深さは、第1の溝20g内における充填部材18の第2の深さよりも小さい。
The
複数の第1の溝20a−20gに代えて、実施の形態2の複数の第1の溝20a−20gがウエハ11に形成されてもよい。複数の第1の溝20a−20gに代えて、実施の形態3の複数の第1の溝40a−40gがウエハ11に形成されてもよい。
Instead of the plurality of
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、実施の形態5の半導体デバイス12の製造方法と同様の効果を奏する。
The method for manufacturing the
実施の形態7.
図21及び図22を参照して、実施の形態7に係る半導体デバイス12の製造方法を説明する。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、実施の形態5の半導体デバイス12の製造方法と同様の工程を備えているが、以下の点で主に異なる。
A method of manufacturing the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法では、複数の第1の溝50a−50gの第1の深さ52a−52g及び第1の長さ53a−53gは、それぞれ、互いに異なっている。特定的には、複数の第1の溝50a−50gの第1の深さ52a−52g及び第1の長さ53a−53gは、第2の方向において、徐々に変化してもよい。本実施の形態における複数の第1の溝50a−50gは、実施の形態4における複数の第1の溝50a−50gと同様の構成を有してもよい。充填部材18は、実施の形態6のように、複数の第1の溝50a−50gの内部にのみ形成されてもよい。
In the method for manufacturing the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、実施の形態5の半導体デバイス12の製造方法の効果に加えて、以下の効果を奏する。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法では、複数の第1の溝50a−50gの第1の深さ52a−52g及び第1の長さ53a−53gは、それぞれ、互いに異なっている。そのため、本実施の形態における複数の劈開起点部(18,50a−50g)の間の劈開され易さの差は、実施の形態5における複数の劈開起点部(18,50a−50g)の間の劈開され易さの差よりも大きい。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法によれば、半導体デバイス12の収率は向上され得る。
The method for manufacturing the
実施の形態8.
図23から図26を参照して、実施の形態8に係る半導体デバイス12の製造方法を説明する。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、実施の形態5及び実施の形態7の半導体デバイス12の製造方法と同様の工程を備えているが、以下の点で主に異なる。
Embodiment 8.
A method of manufacturing the
本実施の形態の複数の第1の溝60a−60gは、互いに等しい第1の深さ62a−62g、第1の長さ23a−23g及び第1の幅61a−61gを有している。本実施の形態の複数の劈開起点部(18,60a−60g)は、実施の形態5及び実施の形態7の複数の劈開起点部(18,20a−20g,50a−50g)と同様に、少なくとも一部が充填部材18で充填された複数の第1の溝60a−60gである。実施の形態5及び実施の形態7と同様に、本実施の形態において複数の劈開起点部(18,60a−60g)を形成することは、複数の第1の溝60a−60gの少なくとも一部に充填部材18を充填することをさらに含む。複数の第1の溝60a−60g内における充填部材18の第2の深さ及び第2の長さの少なくとも1つが、複数の劈開起点部(18,60a−60g)の間で異なる。
The plurality of
図23及び図24に示されるように、複数の第1の溝60a−60g内における充填部材18の第2の長さが、複数の劈開起点部(18,60a−60g)の間で異なってもよい。具体的には、第1の溝60a内における充填部材18の第2の長さは、第1の溝60b内における充填部材18の第2の長さよりも小さい。第1の溝60b内における充填部材18の第2の長さは、第1の溝60c内における充填部材18の第2の長さよりも小さい。第1の溝60c内における充填部材18の第2の長さは、第1の溝60d内における充填部材18の第2の長さよりも小さい。第1の溝60d内における充填部材18の第2の長さは、第1の溝60e内における充填部材18の第2の長さよりも小さい。第1の溝60e内における充填部材18の第2の長さは、第1の溝60f内における充填部材18の第2の長さよりも小さい。第1の溝60f内における充填部材18の第2の長さは、第1の溝60g内における充填部材18の第2の長さよりも小さい。
As shown in FIGS. 23 and 24, the second length of the filling
図25及び図26に示されるように、複数の第1の溝60a−60g内における充填部材18の第2の深さが、複数の劈開起点部(18,60a−60g)の間で異なってもよい。具体的には、第1の溝60a内における充填部材18の第2の深さは、第1の溝60b内における充填部材18の第2の深さよりも小さい。第1の溝60b内における充填部材18の第2の深さは、第1の溝60c内における充填部材18の第2の深さよりも小さい。第1の溝60c内における充填部材18の第2の深さは、第1の溝60d内における充填部材18の第2の深さよりも小さい。第1の溝60d内における充填部材18の第2の深さは、第1の溝60e内における充填部材18の第2の深さよりも小さい。第1の溝60e内における充填部材18の第2の深さは、第1の溝60f内における充填部材18の第2の深さよりも小さい。第1の溝60f内における充填部材18の第2の深さは、第1の溝60g内における充填部材18の第2の深さよりも小さい。
As shown in FIGS. 25 and 26, the second depth of the filling
ウエハ11を劈開することは、充填部材18の第2の深さ及び第2の長さの少なくとも1つが相対的に小さい劈開起点部(例えば、劈開起点部(18,60a))から順に、複数の劈開起点部(18,60a−60g)を起点としてウエハ11を劈開することを含む。充填部材18の第2の深さ及び第2の長さの少なくとも1つが最も小さい劈開起点部(例えば、劈開起点部(18,60a))から、充填部材18の第2の深さ及び第2の長さの少なくとも1つが最も大きい劈開起点部(例えば、劈開起点部(18,60g))まで、充填部材18の第2の深さ及び第2の長さの少なくとも1つの順に、複数の劈開起点部(18,60a−60g)を起点としてウエハ11は劈開される。
Cleavage of the
具体的には、最初に、劈開起点部(18,60a)を起点として、分割基準線71に沿って、ウエハ11は劈開される。続いて、ウエハ11が、劈開起点部(18,60b)を起点として、分割基準線72に沿って劈開される。続いて、ウエハ11が、劈開起点部(18,60c)を起点として、分割基準線73に沿って劈開される。続いて、ウエハ11が、劈開起点部(18,60d)を起点として、分割基準線74に沿って劈開される。続いて、ウエハ11が、劈開起点部(18,60e)を起点として、分割基準線75に沿って劈開される。続いて、ウエハ11が、劈開起点部(18,60f)を起点として、分割基準線76に沿って劈開される。最後に、ウエハ11が、劈開起点部(18,60g)を起点として、分割基準線77に沿って劈開される。
Specifically, first, the
複数の第1の溝60a−60gは、各々、図4に示されるように、ウエハ11の主面11aから第1の溝60a−60gの各々の底部24まで傾斜する側面を含んでもよい。複数の第1の溝60a−60gは、各々、図5に示されるように、ウエハ11の主面11aに実質的に垂直に延在する側面と、この側面に接続されかつウエハ11の主面11aに実質的に平行に延在する底部とを含んでもよい。充填部材18は、実施の形態6のように、複数の第1の溝60a−60gの内部にのみ形成されてもよい。
Each of the plurality of
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、実施の形態5及び実施の形態7の半導体デバイス12の製造方法と同様の効果を奏するが、以下の点で主に異なる。
The method for manufacturing the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法では、複数の劈開起点部(18,60a−60g)は、少なくとも一部が充填部材18で充填された複数の第1の溝60a−60gである。複数の劈開起点部(18,60a−60g)を形成することは、複数の第1の溝60a−60gの少なくとも一部に充填部材18を充填することをさらに含む。複数の第1の溝60a−60g内における充填部材18の第2の深さ及び第2の長さの少なくとも1つが、複数の劈開起点部(18,60a−60g)の間で異なる。第2の深さは、主面11aに垂直な第3の方向における充填部材18の長さである。第2の長さは、第1の方向における充填部材18の長さである。ウエハ11を劈開することは、充填部材18の第2の深さ及び第2の長さの少なくとも1つが相対的に小さい劈開起点部(例えば、劈開起点部(18,60a))から順に、複数の劈開起点部(18,60a−60g)を起点としてウエハ11を劈開することを含む。
In the method for manufacturing the
複数の第1の溝60a−60g内における充填部材18の第2の深さ及び第2の長さの少なくとも1つが増加すると、複数の劈開起点部(18,60a−60g)の各々は劈開され難くなる。そのため、ウエハ11を劈開するために複数の劈開起点部(18,60a−60g)の一つである第1の劈開起点部(例えば、劈開起点部(18,60a))に荷重が印加されるときに、第1の劈開起点部が存在する第1の分割基準線(例えば、分割基準線71)に隣り合う第2の分割基準線(例えば、分割基準線72)上にある第2の劈開起点部(例えば、劈開起点部(18,60b))を起点として、ウエハ11が劈開されることが防止され得る。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法によれば、半導体デバイス12の収率は向上され得る。
When at least one of the second depth and the second length of the filling
実施の形態9.
図27から図33を参照して、実施の形態9に係る半導体デバイス12の製造方法を説明する。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、実施の形態1の半導体デバイス12の製造方法と同様の工程を備えているが、以下の点で主に異なる。
Embodiment 9.
A method of manufacturing the
図28を参照して、本実施の形態では、複数の半導体デバイス12が、ウエハ11の主面11aにおいて、ウエハ11の劈開線78に対して傾いて形成されている。特定的には、活性領域13が延在する方向は、劈開線78に対して、ウエハ11の主面11a内において傾いている。複数の分割基準線71−77は、劈開線78に対して、ウエハ11の主面11a内において方位角θだけ傾いている。第1の方向は、劈開線78に対して、ウエハ11の主面11a内において方位角θだけ傾いている。本明細書において、劈開線78は、ウエハ11の劈開面とウエハ11の主面11aとの交線を意味する。ウエハ11の劈開面は、劈開性を有するウエハ11の結晶面を意味する。ウエハ11の主面11a内における、劈開線78に対する複数の半導体デバイス12、複数の分割基準線71−77及び第1の方向の傾きは、例えば、ウエハ11のオリフラの角度ずれ、または、フォトリソグラフィ工程における複数の半導体デバイス12のパターンずれなどに起因して発生する。
With reference to FIG. 28, in the present embodiment, the plurality of
図27及び図28を参照して、本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、第1の領域15に複数の第2の溝30a−30gを形成すること(S13)を備える。複数の第2の溝30a−30gは、第2の方向に沿って配置されている。複数の第2の溝30a−30gは、各々、第1の方向に沿って延在している。複数の第2の溝30a−30gは、それぞれ、複数の分割基準線71−77に沿って延在している。第1の領域15に複数の第2の溝30a−30gを形成することは、第2の領域16に複数の第1の溝20a−20gを形成することと同じ工程で行われてもよい。
With reference to FIGS. 27 and 28, the method of manufacturing the
複数の第1の溝20a−20gと複数の第2の溝30a−30gとは、第1の方向に沿って配置されている。複数の第1の溝20a−20gの各々と複数の第2の溝30a−30gの各々とは、同一の分割基準線71−77の各々に沿って配置されている。具体的には、第1の溝20aと第2の溝30aとは、第1の方向に沿って配置されており、かつ、分割基準線71上に配置されている。第1の溝20bと第2の溝30bとは、第1の方向に沿って配置されており、かつ、分割基準線72上に配置されている。第1の溝20cと第2の溝30cとは、第1の方向に沿って配置されており、かつ、分割基準線73上に配置されている。第1の溝20dと第2の溝30dとは、第1の方向に沿って配置されており、かつ、分割基準線74上に配置されている。第1の溝20eと第2の溝30eとは、第1の方向に沿って配置されており、かつ、分割基準線75上に配置されている。第1の溝20fと第2の溝30fとは、第1の方向に沿って配置されており、かつ、分割基準線76上に配置されている。第1の溝20gと第2の溝30gとは、第1の方向に沿って配置されており、かつ、分割基準線77上に配置されている。複数の半導体デバイス12は、第1の領域15の一方側に配置された複数の第1の溝20a−20gと複数の第2の溝30a−30gとの間と、第1の領域15の他方側に配置された複数の第1の溝20a−20gと複数の第2の溝30a−30gとの間とに配置されている。
The plurality of
複数の第2の溝30a−30gは、互いに同じ形状を有してもよい。図28から図31に示されるように、複数の第2の溝30a−30gは、互いに異なる形状を有してもよい。複数の第2の溝30a−30gは、それぞれ、複数の第1の溝20a−20gと同じ形状を有してもよい。
The plurality of
図29に示されるように、本実施の形態では、第1の方向に直交する断面において、複数の第2の溝30a−30gは、各々、V字形状を有する底部34を含んでもよい。複数の第2の溝30a−30gの各々は、ウエハ11の主面11aに実質的に垂直に延在する側面と、この側面に接続されかつV字形状を有する底部34とを含んでもよい。図30に示されるように、複数の第2の溝30a−30gは、各々、V字形状を有する底部34を含み、ウエハ11の主面11aから第1の溝20a−20gの各々の底部34まで傾斜する側面を含んでもよい。図31に示されるように、複数の第2の溝30a−30gは、平坦な底部を有してもよい。複数の第2の溝30a−30gの各々は、ウエハ11の主面11aに実質的に垂直に延在する側面と、この側面に接続されかつウエハ11の主面11aに実質的に平行に延在する底部とを含んでもよい。
As shown in FIG. 29, in the present embodiment, in the cross section orthogonal to the first direction, the plurality of
本実施の形態では、ウエハ11の主面11a内において、複数の分割基準線71−77及び第1の方向は、劈開線78に対して傾いている。ウエハ11を劈開する(S14)とき、複数の劈開起点部(20a−20g)の各々から、劈開線78に沿ってウエハ11は劈開される。分割線79は、劈開起点部(20a−20g)から劈開線78に平行に進展する。本明細書において、分割線79は、分割面とウエハ11の主面11aとの交線を意味する。本明細書において、分割面は、ウエハ11を劈開するときに、実際にウエハ11が分割される面を意味する。
In the present embodiment, in the
複数の第2の溝30a−30gは、ウエハ11の第1の領域15に形成されている。複数の第2の溝30a−30gは、複数の半導体デバイス12の間に形成されている。複数の第2の溝30a−30gの各々の内部にはウエハ11の材料が存在しないのに対し、複数の第2の溝30a−30gの周りには、ウエハ11の材料が存在する。そのため、複数の第2の溝30a−30gの各々の端部に、応力が発生する。この応力の方向は、分割基準線71−77に対して直交する。図32に示されるように、この応力は、分割基準線71−77に対して方位角θだけ傾いた分割線79を、複数の第2の溝30a−30gの端部において、分割基準線71−77に近づけるように補正する。
The plurality of
図29及び図30に示されるように、V字形状を有する底部24を含む複数の第2の溝30a−30gが形成されたウエハ11を劈開するとき、V字形状を有する底部24の先端に応力が集中する。第2の方向における複数の第2の溝30a−30gの各々の中心で、ウエハ11は最も劈開されやすい。V字形状を有する底部24を含む複数の第2の溝30a−30gは、より高い精度で、分割線79を分割基準線71−77に近づけることができる。
As shown in FIGS. 29 and 30, when the
図33を参照して、複数の第2の溝30a−30gは、第1の方向において、複数列配置されてもよい。複数の半導体デバイス12は、第1の領域15の一方側に配置された複数の第1の溝20a−20gと複数の第2の溝30a−30gとの間と、第1の領域15の他方側に配置された複数の第1の溝20a−20gと複数の第2の溝30a−30gとの間と、複数の第2の溝30a−30gの間とに配置されている。第1の方向において複数列配置された複数の第2の溝30a−30gは、第1の方向において一列配置された複数の第2の溝30a−30gよりも、分割線79を、より多くの回数、分割基準線71−77に近づけるように補正し得る。第1の方向において複数列配置された複数の第2の溝30a−30gは、より高い精度で、分割線79を分割基準線71−77に近づけることができる。
With reference to FIG. 33, the plurality of
複数の劈開起点部(20a−20g)に代えて、実施の形態2の複数の劈開起点部(20a−20g)がウエハ11に形成されてもよい。複数の劈開起点部(20a−20g)に代えて、実施の形態3の複数の劈開起点部(40a−40g)がウエハ11に形成されてもよい。複数の劈開起点部(20a−20g)に代えて、実施の形態4の複数の劈開起点部(50a−50g)がウエハ11に形成されてもよい。複数の劈開起点部(20a−20g)に代えて、実施の形態5及び実施の形態6の複数の劈開起点部(18,20a−20g)がウエハ11に形成されてもよい。複数の劈開起点部(20a−20g)に代えて、実施の形態7の複数の劈開起点部(18,50a−50g)がウエハ11に形成されてもよい。複数の劈開起点部(20a−20g)に代えて、実施の形態8の複数の劈開起点部(18,60a−60g)がウエハ11に形成されてもよい。
Instead of the plurality of cleavage starting points (20a-20g), the plurality of cleavage starting points (20a-20g) of the second embodiment may be formed on the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、実施の形態1の半導体デバイス12の製造方法の効果に加えて、以下の効果を奏する。
The method for manufacturing the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、第1の領域15に複数の第2の溝30a−30gを形成することを備える。複数の第2の溝30a−30gは、第2の方向に沿って配置されている。複数の第2の溝30a−30gは、各々、第1の方向に沿って延在している。複数の第1の溝20a−20gと複数の第2の溝30a−30gとは、第1の方向に沿って配置されている。
The method for manufacturing the
本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法によれば、ウエハ11の主面11a内において分割基準線71−77がウエハ11の劈開線78に対して傾いていても、第1の領域15に形成される複数の第2の溝30a−30gは、分割線79を分割基準線71−77に近づけるように補正することができる。複数の第2の溝30a−30gは、分割基準線71−77から大きくずれた位置でウエハ11が分割されることを防ぐことができる。本実施の形態の半導体デバイス12の製造方法は、半導体デバイス12の収率を向上させることができる。
According to the method for manufacturing the
今回開示された実施の形態1−9はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。矛盾のない限り、今回開示された実施の形態1−9の少なくとも2つを組み合わせてもよい。本発明の範囲は、上記した説明ではなく特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることを意図される。 It should be considered that Embodiments 1-9 disclosed this time are exemplary in all respects and not restrictive. As long as there is no contradiction, at least two of Embodiments 1-9 disclosed this time may be combined. The scope of the present invention is shown by the scope of claims rather than the above description, and is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of claims.
11 ウエハ、11a 主面、11b 裏面、12 半導体デバイス、13 活性領域、15 第1の領域、16 第2の領域、17 マスク、17a,17b,17c,17d,17e,17f,17g 開口部、18 充填部材、20a,20b,20c,20d,20e,20f,20g,40a,40b,40c,40d,40e,40f,40g,50a,50b,50c,50d,50e,50f,50g,60a 第1の溝、21a,21b,21c,21d,21e,21f,21g,41a,41b,41c,41d,41e,41f,41g,51a,51b,51c,51d,51e,51f,51g,61a 第1の幅、22a,22b,22c,22d,22e,22f,22g,42a,42b,42c,42d,42e,42f,42g,52a,52b,52c,52d,52e,52f,52g,62a 第1の深さ、23a,43a,43b,43c,43d,43e,43f,43g,53a,53b,53c,53d,53e,53f,53g 第1の長さ、24 底部、25,25b ブレード、25s,25t 突出部、26 粘着シート、27 カバーシート、28 基台、29 ホルダー、30a,30b,30c,30d,30e,30f,30g 第2の溝、71,72,73,74,75,76,77,81 分割基準線、78 劈開線、79 分割線。 11 Wafer, 11a main surface, 11b back surface, 12 semiconductor device, 13 active region, 15 first region, 16 second region, 17 mask, 17a, 17b, 17c, 17d, 17e, 17f, 17g opening, 18 Filling member, 20a, 20b, 20c, 20d, 20e, 20f, 20g, 40a, 40b, 40c, 40d, 40e, 40f, 40g, 50a, 50b, 50c, 50d, 50e, 50f, 50g, 60a First groove , 21a, 21b, 21c, 21d, 21e, 21f, 21g, 41a, 41b, 41c, 41d, 41e, 41f, 41g, 51a, 51b, 51c, 51d, 51e, 51f, 51g, 61a first width, 22a , 22b, 22c, 22d, 22e, 22f, 22g, 42a, 42b, 42c, 42d, 42e, 42f, 42g, 52a, 52b, 52c, 52d, 52e, 52f, 52g, 62a First depth, 23a, 43a, 43b, 43c, 43d, 43e, 43f, 43g, 53a, 53b, 53c, 53d, 53e, 53f, 53g First length, 24 bottom, 25, 25b blade, 25s, 25t protrusion, 26 adhesive sheet , 27 cover sheet, 28 base, 29 holder, 30a, 30b, 30c, 30d, 30e, 30f, 30g second groove, 71,72,73,74,75,76,77,81 division reference line, 78 Cleavage line, 79 dividing line.
Claims (10)
前記第1の領域とは異なる前記主面の第2の領域に複数の劈開起点部を形成することを備え、前記複数の劈開起点部は、前記第2の方向に沿って配置されており、前記複数の劈開起点部は、互いに異なる劈開され易さを有し、前記複数の劈開起点部を形成することは、前記第2の領域の一部をエッチングすることによって複数の第1の溝を形成することを含み、前記複数の第1の溝は、各々、前記第1の方向に沿って延在しており、さらに、
前記複数の第1の溝の第1の幅及び前記複数の第1の溝の第1の深さは、それぞれ前記第2の方向において徐々に変化するように互いに異なり、前記第1の幅が相対的に大きいほど前記第1の深さは相対的に大きく、前記第1の幅は、前記第2の方向における前記複数の第1の溝の幅であり、前記第1の深さは、前記主面に垂直な第3の方向における前記複数の第1の溝の長さであり、さらに、
前記複数の劈開起点部のうち相対的に劈開され易い劈開起点部から順に、前記複数の劈開起点部を起点として前記ウエハを劈開することを備え、さらに、
前記ウエハを劈開することは、前記複数の第1の溝のうち前記第1の深さが相対的に大きい第1の溝から順に、前記複数の第1の溝を起点として前記ウエハを劈開することを含む、半導体デバイスの製造方法。 A plurality of semiconductor devices are formed in a first region of a main surface of a wafer, and the plurality of semiconductor devices are formed along a first direction and a second direction intersecting the first direction. Arranged, and in addition
A plurality of cleavage starting points are formed in a second region of the main surface different from the first region, and the plurality of cleavage starting points are arranged along the second direction. The plurality of cleavage starting points have different easiness of cleavage, and forming the plurality of cleavage starting points can form a plurality of first grooves by etching a part of the second region. Each of the plurality of first grooves extends along the first direction, including forming, and further.
The first width of the plurality of first grooves and the first depth of the plurality of first grooves are different from each other so as to gradually change in the second direction, and the first width is different. The relatively large the first depth is relatively large, the first width is the width of the plurality of first grooves in the second direction, and the first depth is the width of the plurality of first grooves. The length of the plurality of first grooves in a third direction perpendicular to the main surface, and further.
The wafer is cleaved from the plurality of cleavage starting points in order from the cleavage starting point, which is relatively easy to be cleaved, among the plurality of cleavage starting points .
To cleave the wafer, the wafer is cleaved starting from the plurality of first grooves in order from the first groove having a relatively large first depth among the plurality of first grooves. A method of manufacturing a semiconductor device, including the above.
前記ウエハを劈開することは、前記複数の第1の溝のうち前記第1の長さが相対的に大きい第1の溝から順に、前記複数の第1の溝を起点として前記ウエハを劈開することを含む、請求項1に記載の半導体デバイスの製造方法。 Different from each other a first length before Symbol plurality of first grooves, the prior SL first length, the length of the plurality of first grooves in the first direction,
Cleaving the wafer, cleaving the wafer in order from the first groove is relatively large before Symbol first length of the plurality of first grooves, the plurality of first groove starting The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1, which comprises the above.
前記第1の領域とは異なる前記主面の第2の領域に複数の劈開起点部を形成することを備え、前記複数の劈開起点部は、前記第2の方向に沿って配置されており、前記複数の劈開起点部は、互いに異なる劈開され易さを有し、前記複数の劈開起点部を形成することは、前記第2の領域の一部をエッチングすることによって複数の第1の溝を形成することを含み、前記複数の第1の溝は、各々、前記第1の方向に沿って延在しており、さらに、
前記複数の劈開起点部のうち相対的に劈開され易い劈開起点部から順に、前記複数の劈開起点部を起点として前記ウエハを劈開することを備え、
前記複数の劈開起点部は、少なくとも一部が充填部材で充填された前記複数の第1の溝であり、
前記複数の第1の溝の第1の深さ及び前記複数の第1の溝の第1の長さの少なくとも1つは互いに異なり、前記第1の深さは、前記主面に垂直な第3の方向における前記複数の第1の溝の長さであり、前記第1の長さは、前記第1の方向における前記複数の第1の溝の長さであり、
前記複数の劈開起点部を形成することは、前記複数の第1の溝の前記少なくとも一部に前記充填部材を充填することをさらに含み、前記複数の第1の溝内における前記充填部材の第2の深さ及び第2の長さの少なくとも1つが前記複数の劈開起点部の間で異なり、前記第2の深さは、前記第3の方向における前記充填部材の長さであり、前記第2の長さは、前記第1の方向における前記充填部材の長さであり、
前記複数の第1の溝の前記第1の深さ及び前記第1の長さの前記少なくとも1つが小さくなるにつれて、前記充填部材の前記第2の深さ及び前記第2の長さの前記少なくとも1つは増加する、半導体デバイスの製造方法。 A plurality of semiconductor devices are formed in a first region of a main surface of a wafer, and the plurality of semiconductor devices are formed along a first direction and a second direction intersecting the first direction. Arranged, and in addition
A plurality of cleavage starting points are formed in a second region of the main surface different from the first region, and the plurality of cleavage starting points are arranged along the second direction. The plurality of cleavage starting points have different easiness of cleavage, and forming the plurality of cleavage starting points can form a plurality of first grooves by etching a part of the second region. Each of the plurality of first grooves extends along the first direction, including forming, and further.
The wafer is cleaved from the plurality of cleavage starting points in order from the cleavage starting point, which is relatively easy to be cleaved, among the plurality of cleavage starting points.
The plurality of cleavage starting points are the plurality of first grooves, which are at least partially filled with a filling member.
At least one of the first depth of the plurality of first grooves and the first length of the plurality of first grooves are different from each other, and the first depth is a first depth perpendicular to the main surface. It is the length of the plurality of first grooves in the three directions, and the first length is the length of the plurality of first grooves in the first direction.
Forming the plurality of cleavage starting points further includes filling the at least a part of the plurality of first grooves with the filling member, and the first portion of the filling member in the plurality of first grooves. At least one of the depth of 2 and the second length differs between the plurality of cleavage starting points, and the second depth is the length of the filling member in the third direction, and the first The length of 2 is the length of the filling member in the first direction.
As at least one of the first depth and the first length of the plurality of first grooves becomes smaller, the at least of the second depth and the second length of the filling member. one is increased, a manufacturing method of a semi-conductor device.
前記第1の領域とは異なる前記主面の第2の領域に複数の劈開起点部を形成することを備え、前記複数の劈開起点部は、前記第2の方向に沿って配置されており、前記複数の劈開起点部は、互いに異なる劈開され易さを有し、前記複数の劈開起点部を形成することは、前記第2の領域の一部をエッチングすることによって複数の第1の溝を形成することを含み、前記複数の第1の溝は、各々、前記第1の方向に沿って延在しており、さらに、
前記複数の劈開起点部のうち相対的に劈開され易い劈開起点部から順に、前記複数の劈開起点部を起点として前記ウエハを劈開することを備え、
前記複数の劈開起点部は、少なくとも一部が充填部材で充填された前記複数の第1の溝であり、
前記複数の劈開起点部を形成することは、前記複数の第1の溝の前記少なくとも一部に前記充填部材を充填することをさらに含み、前記複数の第1の溝内における前記充填部材の第2の深さ及び第2の長さの少なくとも1つが前記複数の劈開起点部の間で異なり、前記第2の深さは、前記主面に垂直な第3の方向における前記充填部材の長さであり、前記第2の長さは、前記第1の方向における前記充填部材の長さであり、さらに、
前記ウエハを劈開することは、前記充填部材の前記第2の深さ及び前記第2の長さの前記少なくとも1つが相対的に小さい劈開起点部から順に、前記複数の劈開起点部を起点として前記ウエハを劈開することを含む、半導体デバイスの製造方法。 A plurality of semiconductor devices are formed in a first region of a main surface of a wafer, and the plurality of semiconductor devices are formed along a first direction and a second direction intersecting the first direction. Arranged, and in addition
A plurality of cleavage starting points are formed in a second region of the main surface different from the first region, and the plurality of cleavage starting points are arranged along the second direction. The plurality of cleavage starting points have different easiness of cleavage, and forming the plurality of cleavage starting points can form a plurality of first grooves by etching a part of the second region. Each of the plurality of first grooves extends along the first direction, including forming, and further.
The wafer is cleaved from the plurality of cleavage starting points in order from the cleavage starting point, which is relatively easy to be cleaved, among the plurality of cleavage starting points.
The plurality of cleavage starting points are the plurality of first grooves, which are at least partially filled with a filling member.
Forming the plurality of cleavage starting points further includes filling the at least a part of the plurality of first grooves with the filling member, and the first portion of the filling member in the plurality of first grooves. At least one of the two depths and the second length differs between the plurality of cleavage points, and the second depth is the length of the filling member in a third direction perpendicular to the main surface. The second length is the length of the filling member in the first direction, and further
The cleavage of the wafer is performed by starting from the plurality of cleavage starting points in order from the cleavage starting point where at least one of the second depth and the second length of the filling member is relatively small. comprising cleaving the wafer, method for manufacturing semi-conductor devices.
前記第1の領域の前記一方側に配置された前記複数の第1の溝と、前記第1の領域の前記他方側に配置された前記複数の第1の溝とは、前記第1の方向に沿って配置されている、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の半導体デバイスの製造方法。 The plurality of cleavage starting points are arranged on one side and the other side of the first region in the first direction.
The plurality of first grooves arranged on the one side of the first region and the plurality of first grooves arranged on the other side of the first region are in the first direction. The method for manufacturing a semiconductor device according to any one of claims 1 to 6 , which is arranged along the above-mentioned.
前記第1の領域とは異なる前記主面の第2の領域に複数の劈開起点部を形成することを備え、前記複数の劈開起点部は、前記第2の方向に沿って配置されており、前記複数の劈開起点部は、互いに異なる劈開され易さを有し、前記複数の劈開起点部を形成することは、前記第2の領域の一部をエッチングすることによって複数の第1の溝を形成することを含み、前記複数の第1の溝は、各々、前記第1の方向に沿って延在しており、さらに、
前記複数の劈開起点部のうち相対的に劈開され易い劈開起点部から順に、前記複数の劈開起点部を起点として前記ウエハを劈開することを備え、
前記複数の劈開起点部は、前記第1の方向において前記第1の領域の一方側と他方側とに配置されており、
前記複数の劈開起点部は、前記一方側と前記他方側とに交互に配置されている、半導体デバイスの製造方法。 A plurality of semiconductor devices are formed in a first region of a main surface of a wafer, and the plurality of semiconductor devices are formed along a first direction and a second direction intersecting the first direction. Arranged, and in addition
A plurality of cleavage starting points are formed in a second region of the main surface different from the first region, and the plurality of cleavage starting points are arranged along the second direction. The plurality of cleavage starting points have different easiness of cleavage, and forming the plurality of cleavage starting points can form a plurality of first grooves by etching a part of the second region. Each of the plurality of first grooves extends along the first direction, including forming, and further.
The wafer is cleaved from the plurality of cleavage starting points in order from the cleavage starting point, which is relatively easy to be cleaved, among the plurality of cleavage starting points.
The plurality of cleavage starting points are arranged on one side and the other side of the first region in the first direction.
It said plurality of cleaved starting portion, the other hand are arranged alternately with said the side other side, the production method of semi-conductor devices.
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