JP6896771B2 - 基板上のターゲット構造の位置を決定するための方法及び装置、並びに、基板の位置を決定するための方法及び装置 - Google Patents
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Description
[0001] 本出願は、2016年6月13日出願の欧州出願第16174142.6号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
(a)基板の1つ以上のエッジ部分に対してマークの位置を定義する、相対的位置情報を提供することであって、相対的位置情報は、上に重なる構造の形成に先立って定義されること、
(b)上に重なる構造の形成後、エッジ部分の位置を測定すること、及び、
(c)ステップ(b)で測定されるエッジ部分の位置及びステップ(a)で提供される相対的位置情報に基づき、ターゲット構造の位置を導出すること、を含み、
ステップ(a)及び(b)のうちの1つ又は両方において、基板のエッジ領域のイメージを獲得するために、エッジ部分の位置はカメラを使用して測定され、
カメラの光学システムは、イメージ内で特定のべベル角を有するエッジ領域の一部が強調されるように角度選択性である。
(a1)ターゲット構造の形成に先立ち、エッジ部分の位置を測定することと、
(a2)基板のエッジ部分の測定された位置に対して定義される位置において、ターゲット構造を形成することと、
を含む。
(a1)ターゲット構造の形成後であるが、上に重なる構造の形成に先立ち、エッジ部分の位置を測定すること及びターゲット構造の位置を測定することと、
(a2)ステップ(a1)において測定された位置に基づき、ステップ(c)において後で使用するために、相対的位置情報を記録することと、
を含む。
基板の1つ以上のエッジ部分に対してマークの位置を定義する、相対的位置情報のためのストレージと、
エッジ部分の位置を測定するように動作可能なエッジ位置センサと、
エッジ部分の測定された位置及びストレージ内に提供された相対的位置情報に基づいて計算し、ターゲット構造の位置を導出するように配置されたプロセッサと、を備え、
エッジ位置センサは、基板のエッジ領域のイメージを獲得するように動作可能なカメラを備え、
カメラの光学システムは、イメージ内で特定のべベル角を有するエッジ領域の一部が強調されるように角度選択性である。
Claims (14)
- 基板上のターゲット構造の位置を特定する方法であって、マークは上に重なる構造によって不明瞭にされており、
(a)前記基板の1つ以上のエッジ部分に対して前記マークの前記位置を定義する、相対的位置情報を提供することであって、前記相対的位置情報は、前記上に重なる構造の形成に先立って定義されることと、
(b)前記上に重なる構造の形成後、前記エッジ部分の位置を測定することと、
(c)ステップ(b)で測定される前記エッジ部分の位置、及びステップ(a)で提供される前記相対的位置情報に基づき、前記ターゲット構造の位置を導出することと、を含み、
ステップ(a)及び(b)のうちの1つ又は両方において、前記基板のエッジ領域のイメージを獲得するために、前記エッジ部分の前記位置はカメラを使用して測定され、
前記カメラの光学システムは、前記イメージ内で特定のべベル角を有する前記エッジ領域の一部が強調されるように角度選択性であり、
前記光学システムは、所定の角度を有するウェーハエッジから反射される光線を渡すように配置される角度選択性アパーチャデバイスを備える、方法。 - (d)前記ターゲット構造を明らかにするために、前記上に重なる構造の一部を除去するために前記ターゲット構造の前記導出された位置を使用するステップを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ステップ(b)は、前記基板の配向を決定することを更に含み、
前記ステップ(c)は、ステップ(c)において前記ターゲット構造の前記位置を導出する際に前記決定された配向を使用し、
前記基板の前記配向は、前記基板全体にわたって分布するパターンの前記配向を認識することによって測定される、請求項1又は2に記載の方法。 - 前記分布パターンは、前記基板の表面全体にわたって高さを測定することによって取得されるトポグラフィバリエーションにおいて認識される、請求項3に記載の方法。
- ステップ(a)は、
(a1)前記ターゲット構造の形成に先立ち、前記エッジ部分の前記位置を測定することと、
(a2)前記基板の前記エッジ部分の前記測定された位置に対して定義される位置において、前記ターゲット構造を形成することと、
を含む、請求項1から4の何れか一項に記載の方法。 - ステップ(a)は、
(a1)前記ターゲット構造の形成後であるが、前記上に重なる構造の形成に先立ち、前記エッジ部分の前記位置を測定すること及び前記ターゲット構造の前記位置を測定することと、
(a2)ステップ(a1)において測定された前記位置に基づき、ステップ(c)において後で使用するために、前記相対的位置情報を記録することと、
を含む、請求項1から4の何れか一項に記載の方法。 - 基板上のターゲット構造の位置を特定するための装置であって、
前記基板の1つ以上のエッジ部分に対してマークの位置を定義する、相対的位置情報のためのストレージと、
前記エッジ部分の位置を測定するように動作可能なエッジ位置センサと、
前記エッジ部分の測定された位置及び前記ストレージ内に提供された前記相対的位置情報に基づいて前記ターゲット構造の位置を導出するように配置されたプロセッサと、を備え、
前記エッジ位置センサは、前記基板のエッジ領域のイメージを獲得するように動作可能なカメラを備え、
前記カメラの光学システムは、前記イメージ内で特定のべベル角を有する前記エッジ領域の一部が強調されるように角度選択性であり、
前記光学システムは、所定の角度を有するウェーハエッジから反射される光線を渡すように配置される角度選択性アパーチャデバイスを備える、装置。 - 上に重なる構造がターゲット構造を不明瞭にする一方で、前記エッジ位置センサは前記エッジ部分の前記位置を測定するように動作可能であり、
前記装置は、前記上に重なる構造の一部が除去された後に、前記エッジ部分の測定された位置及び前記ストレージ内に提供された前記相対的位置情報に基づいて導出される前記位置よりも、前記ターゲット構造の前記位置をより正確に測定するように動作可能な位置センサを更に備える、請求項7に記載の装置。 - 前記カメラは、前記ターゲット構造の前記位置をより正確に測定するための前記位置センサの一部を形成する、請求項8に記載の装置。
- 基板にパターンを印加する際に使用するためのリソグラフィ装置であって、
請求項7から9の何れか一項に記載の装置と、
前記基板に印加される1つ以上のパターンの位置決めを制御するために前記ターゲット構造の前記計算された位置を使用するためのコントローラと、
を含む、リソグラフィ装置。 - 基板にパターンを印加する際に使用するためのリソグラフィ装置であって、
請求項7から9の何れか一項に記載の装置と、
前記基板の前記エッジ部分の前記測定された位置を使用して、前記ターゲット構造を定義するパターンの位置決めを制御するためのコントローラと、
を含む、リソグラフィ装置。 - 基板の位置を測定するための方法であって、
前記基板のエッジ領域のイメージを獲得するためにカメラが使用され、
前記カメラの光学システムは、前記イメージ内で特定のべベル角を有する前記エッジ領域の一部が強調されるように角度選択性であり、
前記光学システムは、所定の角度を有するウェーハエッジから反射される光線を渡すように配置される角度選択性アパーチャデバイスを備える、方法。 - 基板の位置を測定するための装置であって、
前記装置は、前記基板のエッジ領域のイメージを獲得するように動作可能なカメラを備え、
前記カメラの光学システムは、前記イメージ内で特定のべベル角を有する前記エッジ領域の一部が強調されるように角度選択性であり、
前記光学システムは、所定の角度を有するウェーハエッジから反射される光線を渡すように配置される角度選択性アパーチャデバイスを備える、装置。 - プログラマブルプロセッサに請求項1から6の何れか一項に記載の方法の実行を制御させるための機械可読命令を備える、コンピュータプログラム。
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