JP6893815B2 - Manufacturing method of insulated wire - Google Patents

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Description

本発明は、絶縁電線の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing an insulated electric wire.

絶縁電線として、導体と、その導体の外周側に形成された絶縁皮膜とを備えた絶縁電線が知られている。このような絶縁電線においては部分放電の発生を抑制することが求められる。部分放電とは、絶縁材料中に欠陥箇所があると、その箇所に電界が集中し、微弱な放電が生じる現象である。このような部分放電が繰り返し生じると、絶縁性が低下して最終的に絶縁不良となる。そのため、絶縁電線には優れた絶縁性や高い機械的特性を有することに加え、部分放電の発生を抑制することが求められる。部分放電の発生を抑制するには、誘電率の低い絶縁皮膜を有する絶縁電線を準備するのが効果的である。誘電率の低い絶縁皮膜を有する絶縁電線として、空孔を有する絶縁皮膜を導体上に備えた絶縁電線が提案されている(例えば特許文献1、特許文献2参照)。 As an insulated wire, an insulated wire having a conductor and an insulating film formed on the outer peripheral side of the conductor is known. In such an insulated wire, it is required to suppress the occurrence of partial discharge. Partial discharge is a phenomenon in which when there is a defect in the insulating material, an electric field is concentrated on that part and a weak discharge occurs. If such partial discharge occurs repeatedly, the insulating property is lowered and finally the insulation is poor. Therefore, the insulated wire is required to have excellent insulating properties and high mechanical properties, and to suppress the occurrence of partial discharge. In order to suppress the occurrence of partial discharge, it is effective to prepare an insulated wire having an insulating film having a low dielectric constant. As an insulating wire having an insulating film having a low dielectric constant, an insulated wire having an insulating film having holes on the conductor has been proposed (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2).

特開2016−81563号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-81563 特開2016−110847号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-110847

実際に製造される絶縁電線においては、空孔を有する絶縁皮膜の一部に欠陥が生じる場合がある。このような欠陥は絶縁不良の原因となる場合がある。欠陥の中でも、特に低気孔率部と呼ばれる空孔がない又は空孔が極めて少ない領域は、外観からその存在を検出することが難しい。低気孔率部、特に空孔が存在しない無空孔部は、平面視における大きさが1mm角程度の微小なものであっても部分放電の発生の原因となり得る。また導体の膨れにより、絶縁皮膜が局所的に肉薄になる部分(肉薄部)が生じる欠陥についても、外観からその存在を検出することが難しい。絶縁皮膜に肉薄部が存在すると、その部分において絶縁性が低下する。安定した品質の絶縁電線を製造するためには、低気孔率部及び肉薄部の存在を適切に検出し、絶縁皮膜の品質を管理することが好ましい。 In the actually manufactured insulated wire, a defect may occur in a part of the insulating film having holes. Such defects may cause poor insulation. Among the defects, it is difficult to detect the presence of the defect from the appearance, particularly in a region called a low porosity portion where there are no voids or there are very few voids. A low porosity portion, particularly a non-pore portion having no pores, can cause partial discharge even if the size in a plan view is as small as about 1 mm square. In addition, it is difficult to detect the presence of a defect in which the insulating film is locally thinned (thinned portion) due to the swelling of the conductor from the appearance. If a thin portion is present in the insulating film, the insulating property is lowered in that portion. In order to produce an insulated wire having stable quality, it is preferable to appropriately detect the presence of a low porosity portion and a thin portion and control the quality of the insulating film.

そこで、空孔を有する絶縁皮膜を備える絶縁電線の、絶縁特性に影響を与え得る欠陥、特に微細な低気孔率部や、肉薄部を適切に検出することができ、それにより安定した品質の絶縁電線を製造することを可能とする絶縁電線の製造方法を提供することを目的の1つとする。 Therefore, it is possible to appropriately detect defects that may affect the insulation characteristics of an insulated wire having an insulating film having pores, particularly fine low porosity parts and thin parts, thereby providing stable quality insulation. One of the purposes is to provide a method for manufacturing an insulated electric wire that enables the manufacture of an electric wire.

本願の絶縁電線の製造方法は、線状の形状を有する導体を準備する工程と、導体の外周側の面を覆うように、絶縁体からなり、内部に空孔を含む絶縁皮膜を形成することにより、導体と、導体を被覆する絶縁皮膜とを有する絶縁電線を得る工程と、絶縁電線の外周面に対向するように絶縁電線の径方向外側に配置される第1の電極と、絶縁電線との間の第1の静電容量を検出し、第1の静電容量と絶縁皮膜の気孔率との関係に基づいて絶縁皮膜の形成状態を検査する工程と、を含む。導体の長手方向に沿った上記電極の長さは0.1mm以上2mm以下である。 The method for manufacturing an insulated wire of the present application is a step of preparing a conductor having a linear shape, and forming an insulating film made of an insulator and containing holes inside so as to cover the outer peripheral surface of the conductor. A step of obtaining an insulated wire having a conductor and an insulating film covering the conductor, a first electrode arranged on the radial outer side of the insulated wire so as to face the outer peripheral surface of the insulated wire, and an insulated wire. Includes a step of detecting a first capacitance between the two and inspecting the state of formation of the insulating coating based on the relationship between the first capacitance and the porosity of the insulating coating. The length of the electrode along the longitudinal direction of the conductor is 0.1 mm or more and 2 mm or less.

上記絶縁電線の製造方法によれば、空孔を有する絶縁皮膜を備える絶縁電線の、絶縁性に影響を与え得る欠陥、特に微細な低気孔率部及び肉薄部を適切に検出することができ、それにより安定した品質の絶縁電線を製造することが可能となる。 According to the above-mentioned method for manufacturing an insulated wire, it is possible to appropriately detect defects that may affect the insulating property of the insulated wire having an insulating film having pores, particularly fine low porosity portion and thin portion. As a result, it becomes possible to manufacture an insulated wire of stable quality.

絶縁電線の一例を示す断面模式図である。It is sectional drawing which shows an example of an insulated electric wire. 絶縁電線の製造工程を説明するためのブロック図である。It is a block diagram for demonstrating the manufacturing process of an insulated electric wire. 絶縁電線の製造方法の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of the manufacturing method of an insulated electric wire. 実施の形態1における検査電極の構造の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the structure of the inspection electrode in Embodiment 1. FIG. 図4の線分V−Vに沿う断面を矢印の向きに見た状態に対応する概略断面図である。It is a schematic cross-sectional view corresponding to the state which looked at the cross section along the line segment VV of FIG. 絶縁皮膜内の低気孔率部の状態を示す概略断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the state of the low porosity part in an insulating film. 絶縁皮膜の肉薄部の状態を示す概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which shows the state of the thin part of the insulating film. 絶縁皮膜表面の傷欠陥の状態を示す概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which shows the state of the scratch defect on the surface of an insulating film. 絶縁皮膜の穴欠陥の状態を示す概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which shows the state of the hole defect of an insulating film. 実施の形態2における検査電極の構造の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the structure of the inspection electrode in Embodiment 2. FIG. 実施の形態3における検査電極の構造の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the structure of the inspection electrode in Embodiment 3. FIG. 実施の形態4における検査電極の構造の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the structure of the inspection electrode in Embodiment 4. FIG.

[本願発明の実施形態の説明]
最初に本願発明の実施態様を列記して説明する。本願の絶縁電線の製造方法は、線状の形状を有する導体を準備する工程と、導体の外周側の面を覆うように、絶縁体からなり、内部に空孔を含む絶縁皮膜を形成することにより、導体と、導体を被覆する絶縁皮膜とを有する絶縁電線を得る工程と、絶縁電線の外周面に対向するように絶縁電線の径方向外側に配置される第1の電極と、絶縁電線との間の第1の静電容量を検出し、第1の静電容量と絶縁皮膜の気孔率との関係に基づいて絶縁皮膜の形成状態を検査する工程と、を含む。このとき、導体の長手方向に沿った上記第1の電極の長さは0.1mm以上2mm以下である。
[Explanation of Embodiments of the Invention]
First, embodiments of the present invention will be listed and described. The method for manufacturing an insulated wire of the present application is a step of preparing a conductor having a linear shape, and forming an insulating film made of an insulator and containing holes inside so as to cover the outer peripheral surface of the conductor. A step of obtaining an insulated wire having a conductor and an insulating film covering the conductor, a first electrode arranged on the radial outer side of the insulated wire so as to face the outer peripheral surface of the insulated wire, and an insulated wire. Includes a step of detecting a first capacitance between the two and inspecting the state of formation of the insulating coating based on the relationship between the first capacitance and the porosity of the insulating coating. At this time, the length of the first electrode along the longitudinal direction of the conductor is 0.1 mm or more and 2 mm or less.

空気の誘電率は約1.0である。これに対し、絶縁皮膜を構成する材料は空気とは異なった誘電率を有する。したがって、絶縁皮膜内に空孔が存在すると、絶縁皮膜全体としての誘電率は絶縁皮膜内の空孔の存在割合(気孔率)に応じて変化する。本発明者らによる検討の結果、電極と絶縁電線との間の静電容量(キャパシタンス)と絶縁皮膜の気孔率との間には相関関係があることが確認された。 The dielectric constant of air is about 1.0. On the other hand, the material constituting the insulating film has a dielectric constant different from that of air. Therefore, if there are vacancies in the insulating film, the dielectric constant of the insulating film as a whole changes according to the abundance ratio (porosity) of the vacancies in the insulating film. As a result of the examination by the present inventors, it was confirmed that there is a correlation between the capacitance between the electrode and the insulated wire and the porosity of the insulating film.

本願の絶縁電線の製造方法によれば、上述の相関関係を利用することにより、絶縁皮膜の形成状態を検査する工程において、上記第1の静電容量が検出され、第1の静電容量と絶縁皮膜の気孔率との関係に基づいて絶縁皮膜の形成状態が検査される。例えば絶縁皮膜に低気孔率部や肉薄部、傷、穴などの欠陥が存在すると電極と絶縁皮膜との間の静電容量が定常時と比べて変化する。そのため、欠陥が存在した場合にその存在を検知することができる。 According to the method for manufacturing an insulated wire of the present application, the first capacitance is detected in the step of inspecting the formation state of the insulating film by utilizing the above correlation, and the first capacitance is combined with the first capacitance. The state of formation of the insulating film is inspected based on the relationship with the porosity of the insulating film. For example, if the insulating film has defects such as low porosity, thin parts, scratches, and holes, the capacitance between the electrode and the insulating film changes as compared with the steady state. Therefore, when a defect exists, its existence can be detected.

さらに導体の長手方向に沿った上記電極の長さは0.1mm以上2mm以下である。上記検査する工程において得られる静電容量の値は電極の長手方向に沿って平均化した値となる。導体の長手方向に沿って長い電極を使用した場合、広い範囲を検出することが可能となるが、静電容量の値が電極の長手方向に渡って平均化されるため、微細な欠陥を感度良く検出することが難しい。これに対し、導体の長手方向に沿った上記電極の長さを2mm以下とすることで、長手方向に長い電極では検知できない微細な欠陥をも検知することができる。一方、導体の長手方向に沿った上記電極の長さが短すぎると、測定範囲が狭くなり、絶縁皮膜の局所的な状態の差に応じて静電容量の変動が大きくなることから、正確な欠陥の検出が難しくなる。導体の長手方向に沿った上記電極の長さを0.1mm以上とすることにより、精度の高い欠陥の検出を行うことができる。 Further, the length of the electrode along the longitudinal direction of the conductor is 0.1 mm or more and 2 mm or less. The value of the capacitance obtained in the above inspection step is an average value along the longitudinal direction of the electrode. When long electrodes are used along the longitudinal direction of the conductor, it is possible to detect a wide range, but the capacitance value is averaged over the longitudinal direction of the electrode, so it is sensitive to minute defects. Difficult to detect well. On the other hand, by setting the length of the electrode along the longitudinal direction of the conductor to 2 mm or less, it is possible to detect even minute defects that cannot be detected by the electrode long in the longitudinal direction. On the other hand, if the length of the electrode along the longitudinal direction of the conductor is too short, the measurement range becomes narrow and the capacitance fluctuates greatly according to the difference in the local state of the insulating film. Defect detection becomes difficult. By setting the length of the electrode along the longitudinal direction of the conductor to 0.1 mm or more, it is possible to detect defects with high accuracy.

また傷や穴などの、絶縁皮膜の外観から特定可能な欠陥は画像分析などによる一般的な欠陥検査方法でも検出することができるが、肉薄部や、微細な低気孔率部については外観のみからは検出することが難しい。これに対し、本願の絶縁電線の製造方法によれば、上述の電極を用いて第1の静電容量と絶縁皮膜の気孔率との関係に基づいて絶縁皮膜の形成状態を検査することにより、傷や穴だけでなく、このような肉薄部や、微細な低気孔率部の存在を検出することができる。その結果、本願の絶縁電線の製造方法によれば、欠陥を的確に検出することができ、安定した品質の絶縁電線を製造することが可能となる。 Defects such as scratches and holes that can be identified from the appearance of the insulating film can also be detected by a general defect inspection method such as image analysis, but thin parts and fine low porosity parts can be detected only from the appearance. Is difficult to detect. On the other hand, according to the method for manufacturing an insulated wire of the present application, the state of formation of the insulating film is inspected based on the relationship between the first capacitance and the porosity of the insulating film using the above-mentioned electrodes. Not only scratches and holes, but also the presence of such thin parts and fine low porosity parts can be detected. As a result, according to the method for manufacturing an insulated wire of the present application, defects can be accurately detected, and an insulated wire of stable quality can be manufactured.

上記絶縁皮膜は、ポリイミドを含んでもよい。ポリイミドを含む絶縁皮膜は、絶縁性および耐熱性に優れる。そのため、ポリイミドは絶縁皮膜を構成する材料として好適である。 The insulating film may contain polyimide. The insulating film containing polyimide is excellent in insulating property and heat resistance. Therefore, polyimide is suitable as a material for forming an insulating film.

絶縁皮膜の形成状態を検査する工程は、オンラインで行われるのが好ましい。絶縁皮膜の形成状態を検査する工程をオンラインで検査を行うことにより、連続して絶縁電線の製造を行うことができ、高い生産効率で絶縁電線を得ることができる。なおオンラインで検査を行う状態とは、一連の製造工程内において、絶縁電線を得る工程に引き続き連続して絶縁皮膜の形成状態を検査する状態を意味する。 The step of inspecting the formation state of the insulating film is preferably performed online. By inspecting the process of inspecting the formation state of the insulating film online, it is possible to continuously manufacture the insulated electric wire, and it is possible to obtain the insulated electric wire with high production efficiency. The state of performing the inspection online means a state of inspecting the formation state of the insulating film continuously in the process of obtaining the insulated wire in a series of manufacturing processes.

上記絶縁電線の製造方法において、第1の電極は、導体の長手方向に垂直な断面において互いに離間するように分割された形状を有し導体の長手方向に沿って延在する複数のユニットを含んでもよい。第1の電極がこのような形状を有することで、絶縁電線の周方向における欠陥の存在位置についても細かく特定することが可能となる。 In the method for manufacturing an insulated wire, the first electrode includes a plurality of units having a shape divided so as to be separated from each other in a cross section perpendicular to the longitudinal direction of the conductor and extending along the longitudinal direction of the conductor. But it may be. When the first electrode has such a shape, it is possible to specify the position of the defect in the circumferential direction of the insulated wire in detail.

上記絶縁電線の製造方法は、絶縁電線の外周面に対向するように絶縁電線の径方向外側に配置された第2の電極と、絶縁電線との間の第2の静電容量を検出し、第1の静電容量および第2の静電容量と、絶縁皮膜の気孔率との関係に基づいて絶縁皮膜の形成状態を検査する工程をさらに含んでもよい。第1の電極および第2の電極を含む複数の電極を用いて検査を行うことにより、欠陥の誤検出を低減し、より精度良く欠陥を検出することができる。 The method for manufacturing an insulated wire detects a second capacitance between a second electrode arranged radially outside the insulated wire so as to face the outer peripheral surface of the insulated wire and the insulated wire. A step of inspecting the formation state of the insulating film based on the relationship between the first capacitance and the second capacitance and the pore ratio of the insulating film may be further included. By performing the inspection using a plurality of electrodes including the first electrode and the second electrode, erroneous detection of defects can be reduced and defects can be detected more accurately.

上記絶縁電線の製造方法において、第2の電極の、導体の長手方向に沿った長さが第1の電極とは異なっていてもよい。このようにすることで、第1の電極と絶縁電線との間の第1の静電容量と、第2の電極と絶縁電線との間の第2の静電容量とを求め、それらに基づく検査結果を比較することにより(両者の差分をとることにより)、より精度の高い欠陥の検出が可能となる。 In the method for manufacturing an insulated wire, the length of the second electrode along the longitudinal direction of the conductor may be different from that of the first electrode. By doing so, the first capacitance between the first electrode and the insulated wire and the second capacitance between the second electrode and the insulated wire are obtained and based on them. By comparing the inspection results (by taking the difference between the two), it is possible to detect defects with higher accuracy.

上記絶縁電線の製造方法において、第2の電極は、導体の長手方向に垂直な断面において互いに離間するように分割された形状を有し導体の長手方向に沿って延在する複数のユニットを含んでもよい。第2の電極がこのような形状を有することで、絶縁電線の周方向における欠陥の存在位置についてより細かく特定することが可能となる。 In the method for manufacturing an insulated wire, the second electrode includes a plurality of units having a shape divided so as to be separated from each other in a cross section perpendicular to the longitudinal direction of the conductor and extending along the longitudinal direction of the conductor. But it may be. When the second electrode has such a shape, it is possible to specify the position of the defect in the circumferential direction of the insulated wire in more detail.

[本願発明の実施形態の詳細]
次に、本願の絶縁電線の製造方法の実施の形態を、図面を参照しつつ説明する。以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付しその説明は繰返さない。
[Details of Embodiments of the present invention]
Next, an embodiment of the method for manufacturing an insulated wire of the present application will be described with reference to the drawings. In the drawings below, the same or corresponding parts are given the same reference number and the explanation is not repeated.

(実施の形態1)
[絶縁電線の構造]
まず、図1〜図9を参照して実施の形態1を説明する。図1に本願の絶縁電線の製造方法において製造される絶縁電線1の一例の断面模式図を示す。図1を参照して、線状の形状を有する導体10の長手方向に垂直な断面において円形の断面形状を有する絶縁電線1は、円形の断面形状を有する線状の導体10と、この導体10の外周側の面を覆うように導体10を被覆する絶縁皮膜20とを備える。絶縁皮膜20は、有機材料を含む絶縁体からなる。また絶縁皮膜20は内部に空孔15を含む。具体的には、絶縁皮膜20は、その内部に複数(多数)の空孔15が分散された状態で形成される。
(Embodiment 1)
[Structure of insulated wire]
First, the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 9. FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of an example of an insulated wire 1 manufactured by the method for manufacturing an insulated wire of the present application. With reference to FIG. 1, the insulated wire 1 having a circular cross-sectional shape in a cross section perpendicular to the longitudinal direction of the conductor 10 having a linear shape includes the linear conductor 10 having a circular cross-sectional shape and the conductor 10. An insulating film 20 that covers the conductor 10 so as to cover the outer peripheral surface of the conductor 10 is provided. The insulating film 20 is made of an insulator containing an organic material. Further, the insulating film 20 includes holes 15 inside. Specifically, the insulating film 20 is formed in a state in which a plurality (many) of pores 15 are dispersed therein.

絶縁体に含まれる上記有機材料としては特に限定されないが、例えば熱硬化性樹脂であればポリイミド(PI)やポリアミドイミド、熱可塑性樹脂であればポリエーテルサルフォン(PES)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)などが挙げられる。なかでも絶縁性および耐熱性に優れることから、絶縁皮膜20を構成する絶縁体はポリイミドを含むのが好ましく、絶縁皮膜20を構成する絶縁体の50質量%以上がポリイミドであるのがより好ましく、ポリイミドと不可避的不純物とからなるのが特に好ましい。例えば、本実施の形態における絶縁皮膜20はポリイミドおよび不可避的不純物からなるポリイミド皮膜である。図1を参照して、本実施の形態における絶縁皮膜20はその内部に空孔15を含む。絶縁皮膜20の全体積に占める空孔15の総体積の割合(気孔率)は、たとえば5体積%以上80体積%以下であり、好ましくは10体積%以上70体積%以下、より好ましくは25体積%以上65体積%以下である。ポリイミドなどの絶縁皮膜20を構成する材料と空気とでは誘電率が異なることから、絶縁皮膜20が空孔15を有することにより絶縁皮膜20全体としての誘電率が変化する。例えばポリイミドは、空気よりも誘電率(比誘電率)が高い。したがって、絶縁皮膜20がポリイミドからなる場合、絶縁皮膜20が空孔15を有することで、空孔15を有しない絶縁皮膜20に比べて誘電率の低い絶縁皮膜20を得ることができる。 The organic material contained in the insulator is not particularly limited. For example, if it is a thermosetting resin, it is polyimide (PI) or polyamide-imide, and if it is a thermoplastic resin, it is polyethersulfone (PES) or polyetheretherketone (). PEEK) and the like. Among them, the insulator constituting the insulating film 20 preferably contains polyimide, and more preferably 50% by mass or more of the insulator constituting the insulating film 20 is polyimide because of its excellent insulating property and heat resistance. It is particularly preferably composed of polyimide and unavoidable impurities. For example, the insulating film 20 in the present embodiment is a polyimide film composed of polyimide and unavoidable impurities. With reference to FIG. 1, the insulating film 20 in the present embodiment includes holes 15 inside thereof. The ratio (porosity) of the total volume of the pores 15 to the total volume of the insulating film 20 is, for example, 5% by volume or more and 80% by volume or less, preferably 10% by volume or more and 70% by volume or less, and more preferably 25 volumes. % Or more and 65% by volume or less. Since the dielectric constant of the material constituting the insulating film 20 such as polyimide and air is different, the dielectric constant of the insulating film 20 as a whole changes when the insulating film 20 has pores 15. For example, polyimide has a higher dielectric constant (relative permittivity) than air. Therefore, when the insulating film 20 is made of polyimide, since the insulating film 20 has holes 15, it is possible to obtain an insulating film 20 having a lower dielectric constant than the insulating film 20 having no holes 15.

絶縁電線1は、図1に示すように絶縁皮膜20内に空孔15を有していてもよい。また図示していないが、絶縁皮膜20が、中実層と、空孔15を有する多孔質層とが互いに積層された多層構造を有していてもよい。この場合、中実層の厚みと多孔質層の厚みとは、必要な特性に応じて任意に設定できる。 As shown in FIG. 1, the insulated wire 1 may have holes 15 in the insulating film 20. Further, although not shown, the insulating film 20 may have a multilayer structure in which a solid layer and a porous layer having pores 15 are laminated on each other. In this case, the thickness of the solid layer and the thickness of the porous layer can be arbitrarily set according to the required characteristics.

次に、本実施の形態に係る絶縁電線1の製造方法の流れを、図2〜図5を参照して説明する。図2は、絶縁電線1の製造工程を説明するためのブロック図である。図3は、絶縁電線1の製造方法の手順を示すフローチャートである。図4は、実施の形態1における検査電極の構造の一例を示す概略平面図である。図5は、図4の線分V−Vに沿う断面を矢印の向きに見た状態に対応する概略断面図である。 Next, the flow of the manufacturing method of the insulated wire 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 2 to 5. FIG. 2 is a block diagram for explaining a manufacturing process of the insulated wire 1. FIG. 3 is a flowchart showing the procedure of the manufacturing method of the insulated wire 1. FIG. 4 is a schematic plan view showing an example of the structure of the inspection electrode according to the first embodiment. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view corresponding to a state in which a cross section along the line segment VV of FIG. 4 is viewed in the direction of an arrow.

[製造装置の構成]
図2を参照して、絶縁電線1の製造装置30は、導線準備部50と、絶縁皮膜形成部54と、検査部53と、巻取り部56とを備える。導線準備部50は、素線供給部51と導体加工部52とを含む。素線供給部51は、導体10の原料となる素銅線などの金属素線を保持し、その金属素線を導体加工部52に供給する。導体加工部52は、素線供給部51の下流側に配置され、素線供給部51から供給された金属素線を所望の形状およびサイズに加工する。導体加工部52は、例えば引き抜き加工(伸線加工)に使用されるダイスなどの金属加工用金型を備える。
[Manufacturing equipment configuration]
With reference to FIG. 2, the manufacturing apparatus 30 for the insulated wire 1 includes a conductor preparation section 50, an insulating film forming section 54, an inspection section 53, and a winding section 56. The conductor preparation unit 50 includes a wire supply unit 51 and a conductor processing unit 52. The wire supply unit 51 holds a metal wire such as a copper wire that is a raw material of the conductor 10, and supplies the metal wire to the conductor processing unit 52. The conductor processing unit 52 is arranged on the downstream side of the wire supply unit 51, and processes the metal wire supplied from the wire supply unit 51 into a desired shape and size. The conductor processing unit 52 includes, for example, a metal processing die such as a die used for drawing processing (wire drawing processing).

絶縁皮膜形成部54は、導体加工部52の下流側に配置される。絶縁皮膜形成部54は、例えば絶縁皮膜20の原料となるワニスを導体10に塗工する塗工装置と、塗工されたワニスを加熱し、ポリイミド皮膜を形成する焼付炉とを備える。 The insulating film forming portion 54 is arranged on the downstream side of the conductor processing portion 52. The insulating film forming portion 54 includes, for example, a coating device for coating the conductor 10 with a varnish as a raw material for the insulating film 20, and a baking furnace for heating the coated varnish to form a polyimide film.

検査部53は、絶縁皮膜形成部54の下流側に配置される。検査部53は、第1の電極としての第1主電極40と、絶縁電線1との間の第1の静電容量を検出し、その第1の静電容量と絶縁皮膜20の気孔率との関係に基づいて、絶縁皮膜20の形成状態を検査する。さらに、第2の電極としての第2主電極41と、絶縁電線1との間の第2の静電容量を検出し、第1の静電容量および第2の静電容量と、絶縁皮膜20の気孔率との関係に基づいて、絶縁皮膜20の形成状態を検査してもよい。検査部53は、キャパシタンスセンサ2と、キャパシタンスモニタ58とを備える。キャパシタンスセンサ2は、検査電極55と、筐体44と、検査電極55内の各電極に接続された配線とを備える。キャパシタンスセンサ2内を絶縁電線1が通過することにより、第1主電極40または第2主電極41と、絶縁電線1との間の第1の静電容量および第2の静電容量が検出される。 The inspection unit 53 is arranged on the downstream side of the insulating film forming unit 54. The inspection unit 53 detects the first capacitance between the first main electrode 40 as the first electrode and the insulated wire 1, and determines the first capacitance and the porosity of the insulating film 20. The state of formation of the insulating film 20 is inspected based on the above relationship. Further, the second capacitance between the second main electrode 41 as the second electrode and the insulated wire 1 is detected, and the first capacitance, the second capacitance, and the insulating film 20 are detected. The state of formation of the insulating film 20 may be inspected based on the relationship with the pore ratio of. The inspection unit 53 includes a capacitance sensor 2 and a capacitance monitor 58. The capacitance sensor 2 includes an inspection electrode 55, a housing 44, and wiring connected to each electrode in the inspection electrode 55. As the insulated wire 1 passes through the capacitance sensor 2, the first capacitance and the second capacitance between the first main electrode 40 or the second main electrode 41 and the insulated wire 1 are detected. To.

図2、図4および図5を参照して、キャパシタンスセンサ2の構造について説明する。キャパシタンスセンサ2は、検査電極55と、筐体44とを備える。本実施の形態1に係るキャパシタンスセンサ2の検査電極55は、上記第1の電極としての第1主電極40と、上記第2の電極としての第2主電極41と、第1ガード電極42aと、第2ガード電極42bと、第3ガード電極42cとを含む。筐体44は、第1主電極40と、第2主電極41と、第1ガード電極42aと、第2ガード電極42bと、第3ガード電極42cと、各電極に接続された配線とを収容できる形状を有する。 The structure of the capacitance sensor 2 will be described with reference to FIGS. 2, 4 and 5. The capacitance sensor 2 includes an inspection electrode 55 and a housing 44. The inspection electrode 55 of the capacitance sensor 2 according to the first embodiment includes the first main electrode 40 as the first electrode, the second main electrode 41 as the second electrode, and the first guard electrode 42a. , The second guard electrode 42b and the third guard electrode 42c are included. The housing 44 accommodates the first main electrode 40, the second main electrode 41, the first guard electrode 42a, the second guard electrode 42b, the third guard electrode 42c, and the wiring connected to each electrode. It has a shape that can be formed.

図5を参照して、検査電極55の構造についてさらに説明する。第1主電極40は、導体10の長手方向に垂直な断面において互いに離間するように周方向に4分割された円弧状の形状を有し、導体10の長手方向に沿って延在する4つの電極ユニット40a,40b,40c,40dから構成されている。第2主電極41も、同様の断面形状を有し、導体10の長手方向に沿って延在する4つの電極ユニットから構成される(図示は省略する)。また第1主電極40は4つの電極ユニット40a,40b,40c,40d(および第2主電極41の4つの電極ユニット41a,41b,41c,41d(図示は省略する))は、図2に示すように、それぞれ配線を介してキャパシタンスモニタ58と接続されている。説明の便宜のため、図4においては、各電極に接続された配線については図示を省略する。 The structure of the inspection electrode 55 will be further described with reference to FIG. The first main electrode 40 has an arcuate shape divided into four in the circumferential direction so as to be separated from each other in a cross section perpendicular to the longitudinal direction of the conductor 10, and four extending along the longitudinal direction of the conductor 10. It is composed of electrode units 40a, 40b, 40c, and 40d. The second main electrode 41 also has a similar cross-sectional shape, and is composed of four electrode units extending along the longitudinal direction of the conductor 10 (not shown). The four electrode units 40a, 40b, 40c, 40d of the first main electrode 40 (and the four electrode units 41a, 41b, 41c, 41d (not shown) of the second main electrode 41) are shown in FIG. As described above, each of them is connected to the capacitance monitor 58 via wiring. For convenience of explanation, in FIG. 4, the wiring connected to each electrode is not shown.

導体10の長手方向に沿った第1主電極40の長さL40は、同方向の第2主電極41の長さL41とは異なる。具体的には、第1主電極40の長さL40は1mmであり、第2主電極41の長さL41は1.5mmである。絶縁皮膜20の形成状態を検査する工程においては、第1主電極40および第2主電極41のそれぞれに電圧を印加し、第1主電極40と絶縁電線1との間の第1の静電容量、および第2主電極41と絶縁電線1との間の第2の静電容量を検出する。 The length L 40 of the first main electrode 40 along the longitudinal direction of the conductor 10 is different from the length L 41 of the second main electrode 41 in the same direction. Specifically, the length L 40 of the first main electrode 40 is 1 mm, and the length L 41 of the second main electrode 41 is 1.5 mm. In the step of inspecting the formation state of the insulating film 20, a voltage is applied to each of the first main electrode 40 and the second main electrode 41, and the first capacitance between the first main electrode 40 and the insulated wire 1 is applied. The capacitance and the second capacitance between the second main electrode 41 and the insulated wire 1 are detected.

第1ガード電極42aは、第1主電極40から見て導体10の長手方向において上流側に配置される。第2ガード電極42bは、導体10の長手方向に沿って第1主電極40と第2主電極41との間に配置される。第3ガード電極42cは、第2主電極41から見て導体10の長手方向において下流側に配置される。第1ガード電極42a、第2ガード電極42bおよび第3ガード電極42cは、第1主電極40および第2主電極41の端部における電界の集中を緩和し、絶縁電線1と第1主電極40および第2主電極41との間に生じる第1の静電容量および第2の静電容量の数値を安定的に計測するために設置される。第1ガード電極42a、第2ガード電極42bおよび第3ガード電極42cは配線を介して互いに接続されている。また第1ガード電極42a、第2ガード電極42bおよび第3ガード電極42cは、キャパシタンスモニタ58および巻取り部56と接続され、巻取り部56と、第1ガード電極42a、第2ガード電極42bおよび第3ガード電極42cとの間の経路において接地されている。すなわち、第1ガード電極42a、第2ガード電極42bおよび第3ガード電極42cは接地電極である。導体10の長手方向に沿った、第1ガード電極42aの長さL42a、第2ガード電極42bの長さL42b、および第3ガード電極42cの長さL42cは、それぞれ5mm以上100mm以下である。 The first guard electrode 42a is arranged on the upstream side in the longitudinal direction of the conductor 10 when viewed from the first main electrode 40. The second guard electrode 42b is arranged between the first main electrode 40 and the second main electrode 41 along the longitudinal direction of the conductor 10. The third guard electrode 42c is arranged on the downstream side in the longitudinal direction of the conductor 10 when viewed from the second main electrode 41. The first guard electrode 42a, the second guard electrode 42b, and the third guard electrode 42c relax the concentration of the electric field at the ends of the first main electrode 40 and the second main electrode 41, and the insulated wire 1 and the first main electrode 40. It is installed to stably measure the numerical values of the first capacitance and the second capacitance generated between the and the second main electrode 41. The first guard electrode 42a, the second guard electrode 42b, and the third guard electrode 42c are connected to each other via wiring. Further, the first guard electrode 42a, the second guard electrode 42b, and the third guard electrode 42c are connected to the capacitance monitor 58 and the winding portion 56, and the winding portion 56, the first guard electrode 42a, the second guard electrode 42b, and the winding portion 56 are connected. It is grounded in the path between it and the third guard electrode 42c. That is, the first guard electrode 42a, the second guard electrode 42b, and the third guard electrode 42c are ground electrodes. Along the longitudinal direction of the conductor 10, the length L 42a of the first guard electrode 42a, the length L 42c of the second length L 42b of the guard electrode 42b, and the third guard electrode 42c, is a 5mm or less than 100mm, respectively is there.

本実施の形態において、第1ガード電極42a、第2ガード電極42bおよび第3ガード電極42cは同一の構造を有する。すなわち、それぞれ中空円筒状の形状を有し、導体10の長手方向に沿った各ガード電極の長さL42a、L42b、L42cは同一である。各主電極40,41と、各ガード電極42a,42b,42cとの間隔Gは、概ね2mm以上5mm以下程度に設定される。絶縁電線1と各主電極40,41との間隔は、測定される第1の静電容量および第2の静電容量が安定する範囲に適宜設定される。 In the present embodiment, the first guard electrode 42a, the second guard electrode 42b, and the third guard electrode 42c have the same structure. That is, each has a hollow cylindrical shape, and the lengths L 42a , L 42b , and L 42c of the guard electrodes along the longitudinal direction of the conductor 10 are the same. The distance G between the main electrodes 40 and 41 and the guard electrodes 42a, 42b and 42c is set to be approximately 2 mm or more and 5 mm or less. The distance between the insulated wire 1 and the main electrodes 40 and 41 is appropriately set within a range in which the measured first capacitance and the second capacitance are stable.

キャパシタンスモニタ58は、キャパシタンスセンサ2の検査電極55を構成する各電極ユニットと接続されている。またキャパシタンスモニタ58は、配線を通じて第1ガード電極42a、第2ガード電極42bおよび第3ガード電極42cと共に接地されている。キャパシタンスモニタ58は、キャパシタンスセンサ2において検出された静電容量を表示し、記録時間または絶縁電線1の検査対象位置と関係づけてその静電容量を記録する。キャパシタンスモニタ58に表示又は記録される静電容量の変動から、絶縁電線1内の正常箇所と欠陥箇所とを区別することができる。 The capacitance monitor 58 is connected to each electrode unit constituting the inspection electrode 55 of the capacitance sensor 2. Further, the capacitance monitor 58 is grounded together with the first guard electrode 42a, the second guard electrode 42b, and the third guard electrode 42c through wiring. The capacitance monitor 58 displays the capacitance detected by the capacitance sensor 2 and records the capacitance in relation to the recording time or the inspection target position of the insulated wire 1. From the fluctuation of the capacitance displayed or recorded on the capacitance monitor 58, it is possible to distinguish between a normal portion and a defective portion in the insulated wire 1.

巻取り部56は、検査部53の下流側に配置される。巻取り部56は、着脱可能な巻取りリールを配置することができる巻取りリール装着部を備え、検査部53において検査された絶縁電線1を巻取る。絶縁電線1が巻き取られた巻取りリールを巻取りリール装着部から脱着することにより、絶縁電線1を巻き取られた状態で得ることができる。 The winding unit 56 is arranged on the downstream side of the inspection unit 53. The take-up section 56 includes a take-up reel mounting section on which a detachable take-up reel can be arranged, and winds the insulated wire 1 inspected by the inspection section 53. By detaching the take-up reel on which the insulated wire 1 is wound from the take-up reel mounting portion, the insulated wire 1 can be obtained in a wound state.

なお上記実施の形態においては、第1ガード電極42a、第2ガード電極42bおよび第3ガード電極42cを用いたが、これらのガード電極を通常の電極(副電極)で置き換えてもよい。導体10の長手方向に沿った副電極の長さは特に限定されないが、通常、第1の主電極の長さL40及び第2の主電極L41よりも長くなるように設定される。 In the above embodiment, the first guard electrode 42a, the second guard electrode 42b, and the third guard electrode 42c are used, but these guard electrodes may be replaced with ordinary electrodes (secondary electrodes). The length of the auxiliary electrode along the longitudinal direction of the conductor 10 is not particularly limited, but is usually set to be longer than the length L 40 of the first main electrode and the length L 41 of the second main electrode.

[絶縁電線1の製造方法の手順]
次に図1〜図9を参照して、絶縁電線1の製造方法の手順を説明する。図6は、絶縁皮膜内の低気孔率部欠陥の状態を示す概略断面図である。図7は絶縁皮膜20の肉薄部の状態を示す概略断面図である。図8は、絶縁皮膜20表面の傷欠陥の状態を示す概略断面図である。図9は、絶縁皮膜20の穴欠陥の状態を示す概略断面図である。
[Procedure of manufacturing method of insulated wire 1]
Next, the procedure of the manufacturing method of the insulated wire 1 will be described with reference to FIGS. 1 to 9. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a state of defects in the low porosity portion in the insulating film. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing a state of a thin portion of the insulating film 20. FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing a state of scratches and defects on the surface of the insulating film 20. FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing a state of hole defects in the insulating film 20.

本実施の形態に係る絶縁電線1の製造方法においては、図3に示すS10〜S30のステップが実施される。図2および図3を参照して、まず導線準備部50において、円形の断面形状を有する線状の導体10を準備する(S10)。具体的には、素線供給部51に保持された、素銅線などの金属素線が引き出される。素線は矢印Dの方向に送られ、導体加工部52に供給される。素線供給部51から供給された金属素線は、ダイスによる引き抜き加工(伸線加工)により、所望の形状およびサイズを有する導体10に加工される。導体加工部52において素線から加工された導体10は、絶縁皮膜形成部54に送られる。 In the method for manufacturing the insulated wire 1 according to the present embodiment, the steps S10 to S30 shown in FIG. 3 are carried out. With reference to FIGS. 2 and 3, first, the conductor preparation unit 50 prepares a linear conductor 10 having a circular cross-sectional shape (S10). Specifically, a metal wire such as a copper wire held by the wire supply unit 51 is drawn out. Wire is fed in the direction of arrow D 1, is supplied to the conductor processing unit 52. The metal wire supplied from the wire supply unit 51 is processed into a conductor 10 having a desired shape and size by drawing (drawing) with a die. The conductor 10 processed from the wire in the conductor processing portion 52 is sent to the insulating film forming portion 54.

次に、絶縁皮膜20が形成される(S20)。絶縁皮膜20は、図1に示すように、線状の形状を有する導体10の外周側の面を覆うように形成される。絶縁皮膜20は絶縁体からなり、内部に空孔15を含む。内部に空孔15を含む絶縁皮膜20は以下のようにして形成される。 Next, the insulating film 20 is formed (S20). As shown in FIG. 1, the insulating film 20 is formed so as to cover the outer peripheral surface of the conductor 10 having a linear shape. The insulating film 20 is made of an insulator and includes holes 15 inside. The insulating film 20 including the pores 15 inside is formed as follows.

上述のように、絶縁皮膜形成部54は、ワニス塗工装置と、焼付炉とを備える。絶縁皮膜形成部54では、以下のような手順により導体10の表面に絶縁皮膜20が形成される。 As described above, the insulating film forming portion 54 includes a varnish coating device and a baking furnace. In the insulating film forming portion 54, the insulating film 20 is formed on the surface of the conductor 10 by the following procedure.

まず塗工装置内に保持されたワニス内を、導体加工部52において加工された導体10が通過することにより、導体10の外周側の面を覆うようにワニスが塗工される。本実施の形態において塗工されるワニスは、有機溶剤中にポリイミドの前駆体と熱分解樹脂との混合物を含むポリイミド前駆体である。次に焼付炉において、塗工された塗膜を加熱すると、ポリイミドの前駆体からポリイミドへの反応が促進される。ポリイミドは熱硬化性であるため、加熱により塗膜が硬化する。また加熱により熱分解樹脂が分解されて気化する。このとき、ポリイミドの硬化皮膜中の、熱分解性樹脂が存在していた箇所に空孔15が形成される。このようにして、導体10の外周側の面を覆うように、絶縁体であるポリイミドからなり、多数の空孔15が内部に分散された絶縁皮膜20が形成される。 First, the conductor 10 processed by the conductor processing portion 52 passes through the varnish held in the coating device, so that the varnish is coated so as to cover the outer peripheral surface of the conductor 10. The varnish coated in the present embodiment is a polyimide precursor containing a mixture of a polyimide precursor and a pyrolysis resin in an organic solvent. Next, when the coated coating film is heated in the baking oven, the reaction from the polyimide precursor to the polyimide is promoted. Since polyimide is thermosetting, the coating film is cured by heating. In addition, the pyrolysis resin is decomposed and vaporized by heating. At this time, pores 15 are formed in the cured film of polyimide where the thermosetting resin was present. In this way, an insulating film 20 made of polyimide as an insulator and having a large number of pores 15 dispersed inside is formed so as to cover the outer peripheral surface of the conductor 10.

また必要に応じて上記ワニスの塗工および加熱のサイクルを繰り返すことにより、所望の厚みの絶縁皮膜20を形成することができる。 Further, by repeating the cycle of coating and heating the varnish as necessary, the insulating film 20 having a desired thickness can be formed.

絶縁皮膜20を形成するステップS20に引き続き、得られた絶縁電線1を検査する(S30)。絶縁皮膜形成部54において絶縁皮膜20が形成された絶縁電線1は、さらに矢印Dの方向に送られ、検査部53において絶縁皮膜20の形成状態が検査される。 Following step S20 for forming the insulating film 20, the obtained insulated wire 1 is inspected (S30). Insulation coating forming unit insulated wire 1 in which the insulating film 20 is formed at 54 is further fed in the direction of arrow D 1, the state of formation of the insulating coating 20 is inspected in the inspection unit 53.

検査は、図2に示すようなキャパシタンスセンサ2およびキャパシタンスモニタ58によって行われる。キャパシタンスセンサ2の検査電極55によって検出された静電容量のデータは、キャパシタンスモニタ58に送信される。キャパシタンスモニタ58に表示される静電容量と、予め調査された絶縁皮膜20の気孔率との関係に基づいて、絶縁皮膜20の形成状態が検査される。 The inspection is performed by the capacitance sensor 2 and the capacitance monitor 58 as shown in FIG. The capacitance data detected by the inspection electrode 55 of the capacitance sensor 2 is transmitted to the capacitance monitor 58. The formation state of the insulating film 20 is inspected based on the relationship between the capacitance displayed on the capacitance monitor 58 and the porosity of the insulating film 20 investigated in advance.

検査部53は、第1の電極としての第1主電極40と、絶縁電線1との間の第1の静電容量を検出し、その第1の静電容量と絶縁皮膜20の気孔率との関係に基づいて、絶縁皮膜20の形成状態を検査する。さらに、第2の電極としての第2主電極41と、絶縁電線1との間の第2の静電容量を検出し、第1の静電容量および第2の静電容量と、絶縁皮膜20の気孔率との関係に基づいて、絶縁皮膜20の形成状態を検査してもよい。本実施の形態においては、第2主電極41と、絶縁電線1との間の第2の静電容量を検出し、第1の静電容量および第2の静電容量と、絶縁皮膜20の気孔率との関係に基づいて、絶縁皮膜20の形成状態が検査される。このようにすることにより、より精度良く欠陥を検出することができる。 The inspection unit 53 detects the first capacitance between the first main electrode 40 as the first electrode and the insulated wire 1, and determines the first capacitance and the porosity of the insulating film 20. The state of formation of the insulating film 20 is inspected based on the above relationship. Further, the second capacitance between the second main electrode 41 as the second electrode and the insulated wire 1 is detected, and the first capacitance, the second capacitance, and the insulating film 20 are detected. The state of formation of the insulating film 20 may be inspected based on the relationship with the pore ratio of. In the present embodiment, the second capacitance between the second main electrode 41 and the insulated wire 1 is detected, and the first capacitance, the second capacitance, and the insulating film 20 are formed. The state of formation of the insulating film 20 is inspected based on the relationship with the porosity. By doing so, defects can be detected with higher accuracy.

具体的には、以下のように検査が行われる。まず第1主電極40および第2主電極41のそれぞれに電圧を印加し、第1主電極40と絶縁電線1との間の第1の静電容量、および第2主電極41と絶縁電線1との間の第2の静電容量を検出する。このとき、例えばオペアンプ(operation amplifier)などを利用して、第1主電極40および第2主電極41の電位と、ガード電極42a,42b,42cとの電位の間に差が無いようにして静電容量を検出することができる。 Specifically, the inspection is performed as follows. First, a voltage is applied to each of the first main electrode 40 and the second main electrode 41, the first capacitance between the first main electrode 40 and the insulated wire 1, and the second main electrode 41 and the insulated wire 1 The second capacitance between and is detected. At this time, for example, an operational amplifier is used so that there is no difference between the potentials of the first main electrode 40 and the second main electrode 41 and the potentials of the guard electrodes 42a, 42b, and 42c. Capacitance can be detected.

次に検出された上記第1の静電容量および第2の静電容量と絶縁皮膜20の気孔率との関係に基づいて、絶縁皮膜20の形成状態を検査する。例えば、絶縁皮膜20の気孔率が安定している状態においては、検出される静電容量は定常値を示す。一方、絶縁皮膜20に欠陥が存在する場合、気孔率に変動が生じるため、上記静電容量もそれに応じて変化する。その静電容量の変化に基づいて欠陥の位置を特定し、記録する。このようにして安定した品質の絶縁電線1を製造することができる。 Next, the formation state of the insulating film 20 is inspected based on the relationship between the detected first capacitance and the second capacitance and the porosity of the insulating film 20. For example, when the porosity of the insulating film 20 is stable, the detected capacitance shows a steady value. On the other hand, when the insulating film 20 has a defect, the porosity fluctuates, so that the capacitance also changes accordingly. The location of the defect is identified and recorded based on the change in capacitance. In this way, the insulated wire 1 having stable quality can be manufactured.

キャパシタンスセンサ2において絶縁皮膜20の形成状態が検査された絶縁電線1は、その後巻取り部56において巻き取られる。巻き取られた絶縁電線1は、欠陥位置が記録された状態で製品としてもよいし、欠陥を含む絶縁電線1については製品とせずに廃棄してもよい。また記録された位置に基づいて欠陥箇所のみを削除し、残部を製品としてもよい。 The insulated wire 1 whose forming state of the insulating film 20 is inspected by the capacitance sensor 2 is then wound by the winding portion 56. The wound insulated wire 1 may be used as a product in a state where the defect position is recorded, or the insulated wire 1 containing a defect may be discarded without being made into a product. Further, only the defective part may be deleted based on the recorded position, and the rest may be used as a product.

上記検査はオンラインで行われる。オンラインで行う検査では、ステップS10〜S30までの一連の工程において、上記ステップS20に引き続き連続して、ステップS20で得られた絶縁皮膜20の形成状態の検査を行う。また検査をオンラインで行う場合、図4に示す素線供給部51から巻取り部56に至るまでの一連の流れが、絶縁電線1を切断することなく一体的に行われる。 The above tests are done online. In the online inspection, in a series of steps from steps S10 to S30, the formation state of the insulating film 20 obtained in step S20 is inspected following the step S20. Further, when the inspection is performed online, a series of flows from the wire supply unit 51 to the winding unit 56 shown in FIG. 4 are integrally performed without cutting the insulated wire 1.

絶縁皮膜20の形成状態を検査する工程では、検査電極55を水に浸漬した状態で第1主電極40および第2主電極41に電圧を印加して、第1主電極40または第2主電極41と、絶縁電線1との間の第1の静電容量および第2の静電容量をキャパシタンスモニタ58において監視する。 In the step of inspecting the formation state of the insulating film 20, a voltage is applied to the first main electrode 40 and the second main electrode 41 while the inspection electrode 55 is immersed in water, and the first main electrode 40 or the second main electrode is inspected. The first capacitance and the second capacitance between the 41 and the insulated wire 1 are monitored by the capacitance monitor 58.

本実施の形態1においては、導体10の長手方向に沿った長さが0.1mm以上2mm以下である第1主電極40および第2主電極41が用いられる。測定される静電容量の値は、第1主電極40全体の平均値、または第2主電極41全体の平均値である。したがって、電極が導体10の長手方向に沿って長い場合、広い範囲を検出することが可能となるが、静電容量の値が長手方向に渡って平均化されるため、微細な欠陥を感度良く検出することが難しい。これに対し、第1主電極40および第2主電極41の、導体10の長手方向に沿った長さL40,L41を2mm以下とすることで、長手方向に長い電極では検知できない微細な欠陥をも検知することができる。さらに第1主電極40および第2主電極41の、導体10の長手方向に沿った長さL40,L41を0.1mm以上とすることにより、精度の高い欠陥の検出を行うことができる。 In the first embodiment, the first main electrode 40 and the second main electrode 41 having a length of 0.1 mm or more and 2 mm or less along the longitudinal direction of the conductor 10 are used. The value of the capacitance to be measured is the average value of the entire first main electrode 40 or the average value of the entire second main electrode 41. Therefore, when the electrode is long along the longitudinal direction of the conductor 10, it is possible to detect a wide range, but since the capacitance value is averaged over the longitudinal direction, minute defects can be sensitively detected. Difficult to detect. On the other hand, by setting the lengths L 40 and L 41 of the first main electrode 40 and the second main electrode 41 along the longitudinal direction of the conductor 10 to 2 mm or less, fine particles that cannot be detected by the electrodes long in the longitudinal direction can be detected. Defects can also be detected. Further, by setting the lengths L 40 and L 41 of the first main electrode 40 and the second main electrode 41 along the longitudinal direction of the conductor 10 to 0.1 mm or more, it is possible to detect defects with high accuracy. ..

本実施の形態1に係る絶縁電線1の製造方法においては、図6に示すような絶縁皮膜20内の低気孔率部21を検出することが可能である。低気孔率部21は、絶縁皮膜20において、絶縁皮膜20全体の平均の気孔率に比べて有意に気孔率が低く空孔15の割合が少ない部分である。低気孔率部21の中でも特に空孔15が全く存在しない部分を無空孔部と呼ぶ。このような低気孔率部21、特に無空孔部は、平面視における大きさが1mm角程度の微小なものであっても部分放電の発生の原因となり得る。安定した品質の絶縁電線1を製造するためには、このような低気孔率部21の存在を適切に検出し、絶縁皮膜20の品質を管理することが好ましい。 In the method for manufacturing the insulated wire 1 according to the first embodiment, it is possible to detect the low porosity portion 21 in the insulating film 20 as shown in FIG. The low porosity portion 21 is a portion of the insulating film 20 in which the porosity is significantly lower than the average porosity of the entire insulating film 20 and the proportion of the pores 15 is small. Among the low porosity portions 21, a portion in which no pores 15 exist is called a non-pore portion. Such a low porosity portion 21, particularly a non-porosity portion, can cause partial discharge even if the size is as small as 1 mm square in a plan view. In order to manufacture an insulated wire 1 having stable quality, it is preferable to appropriately detect the presence of such a low porosity portion 21 and control the quality of the insulating film 20.

さらに本実施の形態1に係る絶縁電線1の製造方法においては、図7に示すような絶縁皮膜20内の肉薄部22を検出することも可能である。肉薄部22とは、導体10の膨れ12により、絶縁皮膜20が局所的に肉薄になる部分をいう。このような肉薄部22が存在すると、その肉薄部22において絶縁性が低下する。そのため、安定した品質の絶縁電線を製造するためには、このような肉薄部22の存在も適切に検出し、絶縁皮膜20の品質を管理することが好ましい。 Further, in the method for manufacturing the insulated wire 1 according to the first embodiment, it is possible to detect the thin portion 22 in the insulating film 20 as shown in FIG. 7. The thin portion 22 refers to a portion where the insulating film 20 is locally thinned due to the swelling 12 of the conductor 10. If such a thin portion 22 is present, the insulating property is lowered in the thin portion 22. Therefore, in order to manufacture an insulated wire having stable quality, it is preferable to appropriately detect the presence of such a thin portion 22 and control the quality of the insulating film 20.

また図8に示すような絶縁皮膜20表面の傷23や、図9に示すような絶縁皮膜20の穴24などの絶縁皮膜20の外観から特定可能な欠陥については、画像分析などによる一般的な欠陥検査方法でも検出することができる。しかしながら、図6に示すような低気孔率部21や図7に示すような肉薄部22については外観のみからは検出することが難しい。導体10の長手方向に沿った長さLが1mm程度の低気孔率部21や肉薄部22を適切に検出することができれば、実質的に有害な欠陥を有効に検出することができる。 Further, defects that can be identified from the appearance of the insulating film 20 such as scratches 23 on the surface of the insulating film 20 as shown in FIG. 8 and holes 24 of the insulating film 20 as shown in FIG. 9 are generally found by image analysis or the like. It can also be detected by a defect inspection method. However, it is difficult to detect the low porosity portion 21 as shown in FIG. 6 and the thin portion 22 as shown in FIG. 7 only from the appearance. If it is possible to length L D along the longitudinal direction of the conductor 10 is properly detect the low porosity portion 21 and the thin portion 22 of approximately 1 mm, it is possible to effectively detect a substantial harmful defects.

本実施の形態1においては、主電極として上述のような第1主電極40および第2主電極41を用いて、第1の静電容量および第2の静電容量と絶縁皮膜20の気孔率との関係に基づいて絶縁皮膜20の形成状態を検査することにより、傷23や穴24だけでなく、このような微細な低気孔率部21や、肉薄部22の存在を検出することができる。その結果、本願の絶縁電線1の製造方法によれば、欠陥を的確に検出することができ、安定した品質の絶縁電線1を製造することが可能となる。 In the first embodiment, the first main electrode 40 and the second main electrode 41 as described above are used as the main electrodes, and the first capacitance, the second capacitance, and the porosity of the insulating film 20 are used. By inspecting the formation state of the insulating film 20 based on the relationship with, it is possible to detect the presence of not only the scratch 23 and the hole 24 but also such a fine low porosity portion 21 and the thin portion 22. .. As a result, according to the method for manufacturing the insulated wire 1 of the present application, defects can be accurately detected, and the insulated wire 1 of stable quality can be manufactured.

このように、第1主電極40および第2主電極41の、導体10の長手方向に沿った長さL40,L41を2mm以下とし、第1の静電容量および第2の静電容量と絶縁皮膜20の気孔率との関係に基づいて絶縁皮膜20の形成状態を検査することにより、傷23や穴24による欠陥、あるいはサイズの大きな欠陥のみならず、微細な低気孔率部21や、肉薄部22による欠陥についても検出することが可能である。さらに導体10の長手方向に沿った長さL40,L41を0.1mm以上とすることにより、精度の高い欠陥の検出を行うことができる。その結果、本願の絶縁電線1の製造方法によれば、気孔率を管理することにより安定した品質の絶縁電線1を製造することが可能となる。 In this way, the lengths L 40 and L 41 of the first main electrode 40 and the second main electrode 41 along the longitudinal direction of the conductor 10 are set to 2 mm or less, and the first capacitance and the second capacitance are set to 2 mm or less. By inspecting the formation state of the insulating film 20 based on the relationship between the insulation film 20 and the porosity of the insulating film 20, not only defects due to scratches 23 and holes 24 or large defects but also fine low porosity portions 21 and , It is possible to detect a defect due to the thin portion 22. Further, by setting the lengths L 40 and L 41 along the longitudinal direction of the conductor 10 to 0.1 mm or more, it is possible to detect defects with high accuracy. As a result, according to the method for manufacturing the insulated wire 1 of the present application, it is possible to manufacture the insulated wire 1 having stable quality by controlling the porosity.

さらに図4に示すように、本実施の形態1においては、第1主電極40は、導体10の長手方向に垂直な断面において互いに離間するように周方向に4分割された円弧状の形状を有し、導体10の長手方向に沿って延在する4つの電極ユニット41a,41b,41c,41dから構成されている。第2主電極41も同様に周方向に4分割された4つの電極ユニットから構成されている。このように周方向に分割された複数の電極ユニットから構成される第1主電極40および第2主電極41を用いることにより、絶縁電線1の周方向における欠陥の存在位置についても細かく特定することが可能となる。なお、主電極の周方向における複数の電極ユニットの数は特に4つに限定されない。例えば周方向に2分割された電極ユニットを有する主電極などの、周方向において2以上の任意の数の電極ユニットを有する主電極を必要に応じて選択することができる。 Further, as shown in FIG. 4, in the first embodiment, the first main electrode 40 has an arcuate shape divided into four in the circumferential direction so as to be separated from each other in a cross section perpendicular to the longitudinal direction of the conductor 10. It is composed of four electrode units 41a, 41b, 41c, and 41d that have and extend along the longitudinal direction of the conductor 10. Similarly, the second main electrode 41 is also composed of four electrode units divided into four in the circumferential direction. By using the first main electrode 40 and the second main electrode 41 composed of a plurality of electrode units divided in the circumferential direction in this way, the location of defects in the circumferential direction of the insulated wire 1 can also be specified in detail. Is possible. The number of the plurality of electrode units in the circumferential direction of the main electrode is not particularly limited to four. A main electrode having an arbitrary number of two or more electrode units in the circumferential direction, such as a main electrode having an electrode unit divided into two in the circumferential direction, can be selected as needed.

また本実施の形態1においては、複数の主電極、すなわち導体10の長手方向に沿った長さが異なる第1主電極40および第2主電極41とを有する検査電極55を備えたキャパシタンスセンサ2を用いて第1の静電容量および第2の静電容量の測定を行う。このように複数の主電極を用いて検査を行うことで、一方の主電極による検査結果に欠陥の誤検出が含まれるか否かを、別の主電極の検査結果と対比して検証することができる。その結果、欠陥の誤検出を低減し、より精度良く欠陥を検出することができる。 Further, in the first embodiment, the capacitance sensor 2 is provided with an inspection electrode 55 having a plurality of main electrodes, that is, a first main electrode 40 and a second main electrode 41 having different lengths along the longitudinal direction of the conductor 10. The first capacitance and the second capacitance are measured using. By performing the inspection using a plurality of main electrodes in this way, it is possible to verify whether or not the inspection result of one main electrode includes a false detection of a defect by comparing with the inspection result of another main electrode. Can be done. As a result, erroneous detection of defects can be reduced, and defects can be detected more accurately.

またこのように長さが異なる複数の主電極を用いて測定される検査結果を比較することにより、より狭小な範囲の絶縁皮膜20の形成状態を検査することができる。すなわち、長さL40が1mmの第1主電極40と絶縁電線1との間の第1の静電容量と、長さL41が1.5mmの第2主電極41と絶縁電線1との間の第2の静電容量とを求め、それらに基づく検査結果を比較することにより(両者の差分をとることにより)、より精度の高い欠陥の検出が可能となる。 Further, by comparing the inspection results measured using the plurality of main electrodes having different lengths in this way, it is possible to inspect the formation state of the insulating film 20 in a narrower range. That is, the first capacitance between the first main electrode 40 having a length L 40 of 1 mm and the insulated wire 1 and the second main electrode 41 having a length L 41 of 1.5 mm and the insulated wire 1 By obtaining the second capacitance between them and comparing the inspection results based on them (by taking the difference between the two), more accurate defect detection becomes possible.

このようにして測定された第1静電容量(および第2の静電容量)と、予め調査された絶縁皮膜20の気孔率から、気孔率を導出することができる。具体的には、計算により求められる理論曲線や、標準物質を用いて求められる検量線と、検査工程において求められる絶縁電線1の静電容量の値とを比較することにより、絶縁電線1の気孔率を見積もることができる。予め欠陥として検出すべき気孔率から求められる、欠陥と判断すべき静電容量のしきい値を設定しておくことで、上記欠陥の検出を行うことができる。 The porosity can be derived from the first capacitance (and the second capacitance) measured in this way and the porosity of the insulating film 20 investigated in advance. Specifically, by comparing the theoretical curve obtained by calculation and the calibration curve obtained using a standard substance with the value of the capacitance of the insulated wire 1 obtained in the inspection process, the pores of the insulated wire 1 are compared. The rate can be estimated. The defect can be detected by setting a threshold value of the capacitance to be determined as a defect, which is obtained in advance from the porosity to be detected as a defect.

(実施の形態2)
次に、他の実施形態である実施の形態2について説明する。図10は、実施の形態2における検査電極55の構造の一例を示す概略平面図である。本実施の形態に係る絶縁電線1の製造方法は、基本的には実施の形態1の場合と同様に実施され、同様の効果を奏する。しかし、実施の形態2におけるキャパシタンスセンサ2の検査電極55は、1つの主電極60と、2つのガード電極62a,62bとから構成される点において実施の形態1の場合とは異なっている。
(Embodiment 2)
Next, the second embodiment, which is another embodiment, will be described. FIG. 10 is a schematic plan view showing an example of the structure of the inspection electrode 55 according to the second embodiment. The method for manufacturing the insulated wire 1 according to the present embodiment is basically the same as that of the first embodiment, and has the same effect. However, the inspection electrode 55 of the capacitance sensor 2 in the second embodiment is different from the case of the first embodiment in that it is composed of one main electrode 60 and two guard electrodes 62a and 62b.

図10を参照して、本実施の形態における、第1の電極としての第3主電極60は、実施の形態1に係る第1主電極40と同一の構造を有する。すなわち、第3主電極60は、導体10の長手方向に垂直な断面において互いに離間するように周方向に4分割された円弧状の形状を有し、導体10の長手方向に沿って延在する4つの電極ユニット60a,60b,60c,60d(60dは図示せず)から構成されている。第3主電極60の導体10の長手方向に沿った長さL60は1mmであり、0.1mm以上2mm以下の範囲内である。 With reference to FIG. 10, the third main electrode 60 as the first electrode in the present embodiment has the same structure as the first main electrode 40 according to the first embodiment. That is, the third main electrode 60 has an arcuate shape divided into four in the circumferential direction so as to be separated from each other in a cross section perpendicular to the longitudinal direction of the conductor 10, and extends along the longitudinal direction of the conductor 10. It is composed of four electrode units 60a, 60b, 60c, and 60d (60d is not shown). The length L 60 of the third main electrode 60 along the longitudinal direction of the conductor 10 is 1 mm, which is within the range of 0.1 mm or more and 2 mm or less.

第3主電極60から見て導体10の長手方向において上流側には第4ガード電極62aが配置されている。第3主電極60から見て導体10の長手方向において下流側には第5ガード電極62bが配置されている。第4ガード電極62aおよび第5ガード電極62bのそれぞれは、実施の形態1に係る第1ガード電極42a、第2ガード電極42bおよび第3ガード電極42cと同一の構造および同一の機能を有する。 The fourth guard electrode 62a is arranged on the upstream side in the longitudinal direction of the conductor 10 when viewed from the third main electrode 60. A fifth guard electrode 62b is arranged on the downstream side in the longitudinal direction of the conductor 10 when viewed from the third main electrode 60. Each of the fourth guard electrode 62a and the fifth guard electrode 62b has the same structure and the same function as the first guard electrode 42a, the second guard electrode 42b, and the third guard electrode 42c according to the first embodiment.

本実施の形態における検査部53によれば、実施の形態1のように長さが異なる複数の主電極を用いて検査結果を比較することはできないものの、導体10の長手方向に沿った長さL60は1mmと充分に短い。そのため実施の形態1と同様に、微細な低気孔率部21や、肉薄部22などの欠陥を検出することができる。 According to the inspection unit 53 in the present embodiment, although it is not possible to compare the inspection results using a plurality of main electrodes having different lengths as in the first embodiment, the length along the longitudinal direction of the conductor 10 L 60 is sufficiently short as 1 mm. Therefore, as in the first embodiment, defects such as the fine low porosity portion 21 and the thin portion 22 can be detected.

また第3主電極60は、第1主電極40および第2主電極41と同様に、導体10の長手方向に垂直な断面において互いに離間するように周方向に4分割された円弧状の形状を有し、導体10の長手方向に沿って延在する4つの電極ユニット60a,60b,60c,60dから構成されている。そのため、絶縁電線1の周方向における欠陥の存在位置についても細かく特定することが可能となる。 Further, the third main electrode 60, like the first main electrode 40 and the second main electrode 41, has an arcuate shape divided into four in the circumferential direction so as to be separated from each other in a cross section perpendicular to the longitudinal direction of the conductor 10. It is composed of four electrode units 60a, 60b, 60c, and 60d that have and extend along the longitudinal direction of the conductor 10. Therefore, it is possible to specify in detail the position of the defect in the circumferential direction of the insulated wire 1.

(実施の形態3)
次に、他の実施形態である実施の形態3について説明する。図11は、実施の形態3における検査電極55の構造の一例を示す概略平面図である。本実施の形態に係る絶縁電線1の製造方法は、基本的には実施の形態1の場合と同様に実施され、同様の効果を奏する。しかし、実施の形態3におけるキャパシタンスセンサ2の検査電極55は、2つの主電極70,71が、導体10の長手方向に垂直な断面においてそれぞれ周方向に一続きに接続されたリング状の形状を有している点で実施の形態1の場合とは異なっている。
(Embodiment 3)
Next, the third embodiment, which is another embodiment, will be described. FIG. 11 is a schematic plan view showing an example of the structure of the inspection electrode 55 according to the third embodiment. The method for manufacturing the insulated wire 1 according to the present embodiment is basically the same as that of the first embodiment, and has the same effect. However, the inspection electrode 55 of the capacitance sensor 2 according to the third embodiment has a ring shape in which two main electrodes 70 and 71 are continuously connected in the circumferential direction in a cross section perpendicular to the longitudinal direction of the conductor 10. It is different from the case of the first embodiment in that it has.

図11を参照して、本実施の形態における、第1の電極としての第4主電極70の導体10の長手方向の長さL70は、実施の形態1に係る第1主電極40の長さL40と同じく1mmである。また本実施の形態における、第2の電極としての第5主電極71の導体10の長手方向の長さL71は、実施の形態1に係る第2主電極41の導体10の長手方向の長さL41と同じく1.5mmである。長さL70および長さL71はいずれも0.1mm以上2mm以下の範囲内である。 With reference to FIG. 11, the length L 70 in the longitudinal direction of the conductor 10 of the fourth main electrode 70 as the first electrode in the present embodiment is the length of the first main electrode 40 according to the first embodiment. It is 1 mm like the L 40. Further, in the present embodiment, the longitudinal length L 71 of the conductor 10 of the fifth main electrode 71 as the second electrode is the longitudinal length of the conductor 10 of the second main electrode 41 according to the first embodiment. It is 1.5 mm like the L 41. Both the length L 70 and the length L 71 are within the range of 0.1 mm or more and 2 mm or less.

第4主電極70から見て導体10の長手方向において上流側には第6ガード電極72aが配置されている。導体10の長手方向に沿って第4主電極70と第5主電極71との間には第7ガード電極72bが配置されている。第5主電極71から見て導体10の長手方向において下流側には第8ガード電極72cが配置されている。第6ガード電極72a、第7ガード電極72bおよび第8ガード電極72cのそれぞれは、実施の形態1に係る第1ガード電極42a、第2ガード電極42bおよび第3ガード電極42cと同一の構造および同一の機能を有する。 The sixth guard electrode 72a is arranged on the upstream side in the longitudinal direction of the conductor 10 when viewed from the fourth main electrode 70. A seventh guard electrode 72b is arranged between the fourth main electrode 70 and the fifth main electrode 71 along the longitudinal direction of the conductor 10. The eighth guard electrode 72c is arranged on the downstream side in the longitudinal direction of the conductor 10 when viewed from the fifth main electrode 71. Each of the sixth guard electrode 72a, the seventh guard electrode 72b, and the eighth guard electrode 72c has the same structure and the same structure as the first guard electrode 42a, the second guard electrode 42b, and the third guard electrode 42c according to the first embodiment. Has the function of.

本実施形態における検査電極55によれば、実施の形態1のように絶縁電線1の周方向における欠陥の存在位置についても細かく特定することは難しいものの、絶縁電線1の第4主電極70の、導体10の長手方向に沿った長さL70は1mmと充分に短い。そのため実施の形態1と同様に、微細な低気孔率部21や、肉薄部22などの欠陥を検出することができる。さらに第4主電極70の、導体10の長手方向に沿った長さL70が0.1mm以上であることから、精度の高い欠陥の検出を行うことができる。 According to the inspection electrode 55 in the present embodiment, although it is difficult to specify the location of the defect in the circumferential direction of the insulated wire 1 in detail as in the first embodiment, the fourth main electrode 70 of the insulated wire 1 has a defect. The length L 70 along the longitudinal direction of the conductor 10 is sufficiently short as 1 mm. Therefore, as in the first embodiment, defects such as the fine low porosity portion 21 and the thin portion 22 can be detected. Further, since the length L 70 of the fourth main electrode 70 along the longitudinal direction of the conductor 10 is 0.1 mm or more, it is possible to detect defects with high accuracy.

本実施の形態における検査電極55は、複数の主電極(第4主電極70および第5主電極71)を有する。そのため2つの主電極を用いて測定される第1の静電容量および第2の静電容量とを求め、それらに基づく検査結果を比較することにより(両者の差分をとることにより)、より狭小な範囲の絶縁皮膜20の形成状態を検査することができる。すなわち、長さL70が1mmの第4主電極70と絶縁電線1との間の第1の静電容量と、長さL71が1.5mmの第5主電極71と絶縁電線1との間の第2の静電容量とを求め、それらに基づく検査結果を比較することにより(両者の差分をとることにより)、実質的に0.5mmの範囲に相当する絶縁皮膜20の形成状態を検査することができる。 The inspection electrode 55 in the present embodiment has a plurality of main electrodes (fourth main electrode 70 and fifth main electrode 71). Therefore, the first capacitance and the second capacitance measured using the two main electrodes are obtained, and the inspection results based on them are compared (by taking the difference between the two) to make it narrower. It is possible to inspect the formation state of the insulating film 20 in a wide range. That is, the first capacitance between the fourth main electrode 70 having a length L 70 of 1 mm and the insulated wire 1 and the fifth main electrode 71 having a length L 71 of 1.5 mm and the insulated wire 1 By obtaining the second capacitance between them and comparing the inspection results based on them (by taking the difference between the two), the formation state of the insulating film 20 substantially corresponding to the range of 0.5 mm can be obtained. Can be inspected.

(実施の形態4)
次に、他の実施形態である実施の形態4について説明する。図12は、実施の形態4における検査電極55の構造の一例を示す概略平面図である。本実施の形態に係る絶縁電線1の製造方法は、基本的には実施の形態1の場合と同様に実施され、同様の効果を奏する。しかし、実施の形態4におけるキャパシタンスセンサ2の検査電極55は、主電極80が導体10の長手方向に垂直な断面においてそれぞれ周方向に一続きに接続されたリング状の形状を有している点、および検査電極55が1つの主電極80と、2つのガード電極82a,82bとから構成される点において実施の形態1の場合とは異なっている。
(Embodiment 4)
Next, the fourth embodiment, which is another embodiment, will be described. FIG. 12 is a schematic plan view showing an example of the structure of the inspection electrode 55 according to the fourth embodiment. The method for manufacturing the insulated wire 1 according to the present embodiment is basically the same as that of the first embodiment, and has the same effect. However, the inspection electrode 55 of the capacitance sensor 2 according to the fourth embodiment has a ring shape in which the main electrode 80 is continuously connected in the circumferential direction in a cross section perpendicular to the longitudinal direction of the conductor 10. , And the inspection electrode 55 is different from the case of the first embodiment in that it is composed of one main electrode 80 and two guard electrodes 82a and 82b.

図12を参照して、本実施の形態における、第1の電極としての第6主電極80の導体10の長手方向の長さL80は、実施の形態1に係る第1主電極40の、導体10の長手方向の長さL40と同じく1mmであり、0.1mm以上2mm以下の範囲内である。 Referring to FIG. 12, in this embodiment, the longitudinal length L 80 of the conductor 10 of the sixth main electrode 80 as a first electrode, the first main electrode 40 according to the first embodiment, The length of the conductor 10 in the longitudinal direction is 1 mm, which is the same as that of L 40, and is within the range of 0.1 mm or more and 2 mm or less.

第6主電極80から見て導体10の長手方向において上流側には第9ガード電極82aが配置されている。第6主電極80から見て導体10の長手方向において下流側には第10ガード電極82bが配置されている。第9ガード電極82aおよび第10ガード電極82bのそれぞれは、実施の形態1に係る第1ガード電極42a、第2ガード電極42bおよび第3ガード電極42cと同一の構造および同一の機能を有する。 The ninth guard electrode 82a is arranged on the upstream side in the longitudinal direction of the conductor 10 when viewed from the sixth main electrode 80. The tenth guard electrode 82b is arranged on the downstream side in the longitudinal direction of the conductor 10 when viewed from the sixth main electrode 80. Each of the ninth guard electrode 82a and the tenth guard electrode 82b has the same structure and the same function as the first guard electrode 42a, the second guard electrode 42b, and the third guard electrode 42c according to the first embodiment.

本実施の形態における検査電極55においては、導体10の長手方向に沿った第6主電極80の長さL80は1mmと充分に短い。そのため実施の形態1のように絶縁電線1の周方向における欠陥の存在位置についても細かく特定することや、複数の電極を用いて検査結果を比較する場合のようなより細かい範囲の検査は難しいものの、実施の形態1と同様に、微細な低気孔率部21や、肉薄部22などの欠陥を検出することができる。さらに導体10の長手方向に沿った第6主電極80の長さL80が0.1mm以上であることから、精度の高い欠陥の検出を行うことができる。 In the inspection electrode 55 according to the present embodiment, the length L 80 of the sixth main electrode 80 along the longitudinal direction of the conductor 10 is sufficiently short as 1 mm. Therefore, although it is difficult to specify the location of the defect in the circumferential direction of the insulated wire 1 in detail as in the first embodiment, or to inspect a finer range as in the case of comparing the inspection results using a plurality of electrodes. As in the first embodiment, defects such as a fine low porosity portion 21 and a thin portion 22 can be detected. Further, since the length L 80 of the sixth main electrode 80 along the longitudinal direction of the conductor 10 is 0.1 mm or more, it is possible to detect defects with high accuracy.

なお、上記各実施の形態においては、円形の断面形状を有する線状の絶縁電線1の製造方法を説明したが、絶縁電線1の断面形状はこれらに限定されず、四角形、六角形など任意の断面形状に加工された絶縁電線を得ることも可能である。 In each of the above embodiments, the method of manufacturing the linear insulated wire 1 having a circular cross-sectional shape has been described, but the cross-sectional shape of the insulated wire 1 is not limited to these, and any arbitrary shape such as a quadrangle or a hexagon can be used. It is also possible to obtain an insulated wire processed into a cross-sectional shape.

また上記実施形態においては、導体10の長手方向に沿った第1主電極40および第2主電極41の長さがそれぞれ1mmまたは1.5mmの例のみを示したが、上記長さは0.1mm以上2mm以下の範囲内である限り特に限定されない。また複数の主電極を有する場合、少なくとも1つの上記長さが0.1mm以上2mm以下の範囲内であればよい。 Further, in the above embodiment, only an example in which the lengths of the first main electrode 40 and the second main electrode 41 along the longitudinal direction of the conductor 10 are 1 mm or 1.5 mm, respectively, is shown, but the lengths are 0. It is not particularly limited as long as it is within the range of 1 mm or more and 2 mm or less. When having a plurality of main electrodes, at least one of the above lengths may be in the range of 0.1 mm or more and 2 mm or less.

また上記実施の形態においては、静電容量の検出を行うためのキャパシタンスセンサ2を巻取り部56において巻き取られる直前の位置に配置したが、静電容量の検出を行うための装置を配置する位置はこの位置に限定されない。例えば、導体10上に複数の層の絶縁層を形成することにより絶縁皮膜20を形成する場合、巻取り部56において巻き取られる直前の位置に代えて、または巻取り部56において巻き取られる直前の位置とともに、絶縁皮膜20が完成する前の中間体の段階において静電容量の検出が行える位置にキャパシタンスセンサ2等の検査装置を配置してもよい。 Further, in the above embodiment, the capacitance sensor 2 for detecting the capacitance is arranged at the position immediately before being wound by the winding unit 56, but a device for detecting the capacitance is arranged. The position is not limited to this position. For example, when the insulating film 20 is formed by forming a plurality of layers of insulating layers on the conductor 10, instead of the position immediately before being wound by the winding portion 56, or immediately before being wound by the winding portion 56. In addition to the position of, an inspection device such as a capacitance sensor 2 may be arranged at a position where the capacitance can be detected at the stage of the intermediate body before the insulating film 20 is completed.

また上記実施形態においては、導体10の長手方向に沿った各ガード電極の長さが同一であったが、各ガード電極の上記長さはそれぞれ異なっていてもよい。また、欠陥の検出に影響のない範囲でガード電極を省略することもできる。 Further, in the above embodiment, the length of each guard electrode along the longitudinal direction of the conductor 10 is the same, but the length of each guard electrode may be different. Further, the guard electrode can be omitted as long as it does not affect the detection of defects.

上記実施形態においては、導体10の表面に塗工されたワニスを焼付炉内で加熱する方法により絶縁皮膜20を形成したが、絶縁皮膜20の形成方法はこの方法に限定されない。たとえば、熱可塑性樹脂の押出成形により絶縁皮膜20を形成することもできる。また空孔15の形成方法についても、熱分解性樹脂の分解を利用した空孔15の形成方法のみならず、他の方法を利用することもできる。例えば、相分離法(ポリマーと溶剤の均一溶液から、ミクロ相分離後、溶剤を抽出除去することにより多孔を形成する方法)や超臨界法(超臨界流体を利用して多孔質体を形成する方法)を利用して、絶縁皮膜20に空孔15を形成することも可能である。 In the above embodiment, the insulating film 20 is formed by a method of heating the varnish coated on the surface of the conductor 10 in a baking furnace, but the method of forming the insulating film 20 is not limited to this method. For example, the insulating film 20 can be formed by extrusion molding of a thermoplastic resin. Further, as the method for forming the pores 15, not only the method for forming the pores 15 using the decomposition of the thermally decomposable resin but also other methods can be used. For example, a phase separation method (a method of forming a porous body by extracting and removing a solvent after microphase separation from a uniform solution of a polymer and a solvent) or a supercritical method (a method of forming a porous body using a supercritical fluid). It is also possible to form the pores 15 in the insulating film 20 by using the method).

[検査例]
次に、本願の絶縁電線1の製造方法に基づいて、キャパシタンスセンサ2により実際に絶縁皮膜20の欠陥を測定した例を示す。
[Inspection example]
Next, an example in which the defect of the insulating film 20 is actually measured by the capacitance sensor 2 based on the manufacturing method of the insulated wire 1 of the present application will be shown.

(検査例1)
導体10と、導体10を被覆する絶縁皮膜20とを有する無欠陥の絶縁電線1を準備した。絶縁皮膜20に、平面的に見た形状が一辺0.5mmの正方形形状である穴を開け、その穴をエポキシ樹脂(誘電率約3.1)で充填して、人工的に低気孔率部21を有する測定試料Aを作製した。同様に、絶縁皮膜20に、平面的に見た形状が一辺0.4mmの正方形形状である穴を開け、その穴を同じエポキシ樹脂で充填して、人工的に低気孔率部21を有する測定試料Bを作製した。
(Inspection example 1)
A defect-free insulated wire 1 having a conductor 10 and an insulating film 20 covering the conductor 10 was prepared. A hole having a square shape with a side of 0.5 mm when viewed in a plane is formed in the insulating film 20, and the hole is filled with an epoxy resin (dielectric constant of about 3.1) to artificially have a low porosity portion. A measurement sample A having 21 was prepared. Similarly, a measurement in which a hole having a square shape with a side of 0.4 mm when viewed in a plane is formed in the insulating film 20 and the hole is filled with the same epoxy resin to artificially have a low porosity portion 21. Sample B was prepared.

実施の形態1に係る検査電極55を有するキャパシタンスセンサ2を用いて、測定試料Aおよび測定試料Bの低気孔率部21が検出されるか否かを検査した。その結果、測定試料Aおよび測定試料Bのいずれについても低気孔率部21が検出された。 Using the capacitance sensor 2 having the inspection electrode 55 according to the first embodiment, it was inspected whether or not the low porosity portion 21 of the measurement sample A and the measurement sample B was detected. As a result, the low porosity portion 21 was detected in both the measurement sample A and the measurement sample B.

(検査例2)
実施の形態2に係る検査電極55を有するキャパシタンスセンサ2を用いて、測定試料Aおよび測定試料Bの低気孔率部21が検出されるか否かを検査した。その結果、測定試料Aおよび測定試料Bのいずれについても低気孔率部21が検出された。
(Inspection example 2)
Using the capacitance sensor 2 having the inspection electrode 55 according to the second embodiment, it was inspected whether or not the low porosity portion 21 of the measurement sample A and the measurement sample B was detected. As a result, the low porosity portion 21 was detected in both the measurement sample A and the measurement sample B.

(検査例3)
実施の形態3に係る検査電極55を有するキャパシタンスセンサ2を用いて、測定試料Aおよび測定試料Bの低気孔率部21が検出されるか否かを検査した。その結果、測定試料Aおよび測定試料Bのいずれについても低気孔率部21が検出された。
(Inspection example 3)
Using the capacitance sensor 2 having the inspection electrode 55 according to the third embodiment, it was inspected whether or not the low porosity portion 21 of the measurement sample A and the measurement sample B was detected. As a result, the low porosity portion 21 was detected in both the measurement sample A and the measurement sample B.

(検査例4)
実施の形態3に係る検査電極55を有するキャパシタンスセンサ2を用いて、測定試料Aおよび測定試料Bの低気孔率部21が検出されるか否かを検査した。その結果、測定試料Aおよび測定試料Bのいずれについても低気孔率部21が検出された。
(Inspection example 4)
Using the capacitance sensor 2 having the inspection electrode 55 according to the third embodiment, it was inspected whether or not the low porosity portion 21 of the measurement sample A and the measurement sample B was detected. As a result, the low porosity portion 21 was detected in both the measurement sample A and the measurement sample B.

上述の通り、いずれの検査例においても、平面的に見た形状が一辺0.5mmの正方形形状である低気孔率部21、および平面的に見た形状が一辺0.4mmの正方形形状である低気孔率部21を検出できることが明らかとなった。 As described above, in each of the inspection examples, the low porosity portion 21 has a square shape with a side of 0.5 mm when viewed in a plane, and the square shape has a side of 0.4 mm when viewed in a plane. It has become clear that the low porosity portion 21 can be detected.

[まとめ]
以上説明した通り、本願の絶縁電線1の製造方法によれば、空孔15を有する絶縁皮膜20を備える絶縁電線1の、絶縁性に影響を与え得る欠陥、特に微細な低気孔率部21や、肉薄部22を適切に検出することができ、それにより安定した品質の絶縁電線1を製造することが可能となる。
[Summary]
As described above, according to the method for manufacturing the insulated wire 1 of the present application, defects that may affect the insulating property of the insulated wire 1 having the insulating film 20 having the pores 15, particularly the fine low porosity portion 21 and , The thin portion 22 can be appropriately detected, whereby the insulated wire 1 having stable quality can be manufactured.

今回開示された実施の形態および検査例はすべての点で例示であって、どのような面からも制限的なものではないと理解されるべきである。本発明の範囲は上記した意味ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 It should be understood that the embodiments and test examples disclosed this time are exemplary in all respects and are not restrictive in any way. The scope of the present invention is not defined as described above, but is indicated by the scope of claims, and is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of claims.

本願の絶縁電線の製造方法は、空孔を有する絶縁皮膜を備える絶縁電線であって、欠陥の少ない絶縁電線が求められる技術分野において、特に有利に適用され得る。 The method for manufacturing an insulated wire of the present application is an insulated wire provided with an insulating film having holes, and can be particularly advantageously applied in a technical field in which an insulated wire having few defects is required.

1 絶縁電線
2 キャパシタンスセンサ
10 導体
11 膨れ
15 空孔
20 絶縁皮膜
21 低気孔率部
22 肉薄部
23 傷
24 穴
40 第1主電極
40a,40b,40c,40d 電極ユニット
41 第2主電極
42a 第1ガード電極
42b 第2ガード電極
42c 第3ガード電極
44 筐体
50 導線準備部
51 素線供給部
52 導体加工部
53 検査部
54 絶縁皮膜形成部
55 検査電極
56 巻取り部
58 キャパシタンスモニタ
60 第3主電極
60a,60b,60c,60d 電極ユニット
62a 第4ガード電極
62b 第5ガード電極
70 第4主電極
71 第5主電極
72a 第6ガード電極
72b 第7ガード電極
72c 第8ガード電極
80 第6主電極
82a 第9ガード電極
82b 第10ガード電極
1 Insulated wire 2 Capacitance sensor 10 Conductor 11 Bulge 15 Vacancy 20 Insulation film 21 Low pore ratio part 22 Thin part 23 Scratch 24 Hole 40 1st main electrode 40a, 40b, 40c, 40d Electrode unit 41 2nd main electrode 42a 1st Guard electrode 42b 2nd guard electrode 42c 3rd guard electrode 44 Housing 50 Conductor preparation part 51 Wire supply part 52 Conductor processing part 53 Inspection part 54 Insulation film forming part 55 Inspection electrode 56 Winding part 58 Capacitance monitor 60 Third main Electrodes 60a, 60b, 60c, 60d Electrode unit 62a 4th guard electrode 62b 5th guard electrode 70 4th main electrode 71 5th main electrode 72a 6th guard electrode 72b 7th guard electrode 72c 8th guard electrode 80 6th main electrode 82a 9th guard electrode 82b 10th guard electrode

Claims (5)

線状の形状を有する導体を準備する工程と、
前記導体の外周側の面を覆うように、絶縁体からなり、内部に空孔を含む絶縁膜を形成することにより、前記導体と、前記導体を被覆する前記絶縁膜とを有する絶縁電線を得る工程と、
前記絶縁電線の外周面に対向するように前記絶縁電線の径方向外側に配置され、前記導体の長手方向に垂直な断面において互いに離間するように分割された形状を有し、前記導体の長手方向に沿って延在する複数の電極ユニットを含む第1の電極と、前記絶縁電線との間の第1の静電容量を検出し、前記第1の静電容量と前記絶縁皮膜の気孔率との関係に基づいて前記絶縁皮膜の形成状態を検査する工程と、を含み、
前記導体の長手方向に沿った前記第1の電極の長さは0.1mm以上2mm以下である、絶縁電線の製造方法。
The process of preparing a conductor with a linear shape and
So as to cover the outer peripheral side surface of the conductor, an insulating material, by forming an insulating skin layer containing voids therein, an insulated wire having said conductor, and said insulating skin layer to cover the conductive And the process of getting
It is arranged on the outer side in the radial direction of the insulated wire so as to face the outer peripheral surface of the insulated wire, has a shape divided so as to be separated from each other in a cross section perpendicular to the longitudinal direction of the conductor, and has a shape divided so as to be separated from each other in the longitudinal direction of the conductor. The first capacitance between the first electrode including a plurality of electrode units extending along the above and the insulating electric wire is detected, and the first capacitance and the pore ratio of the insulating film are determined. Including the step of inspecting the formation state of the insulating film based on the relationship of
A method for manufacturing an insulated electric wire, wherein the length of the first electrode along the longitudinal direction of the conductor is 0.1 mm or more and 2 mm or less.
前記絶縁皮膜はポリイミドを含む、請求項1に記載の絶縁電線の製造方法。 The method for manufacturing an insulated electric wire according to claim 1, wherein the insulating film contains polyimide. 前記絶縁皮膜の形成状態を検査する工程は、オンラインで行われる、請求項1又は請求項2に記載の絶縁電線の製造方法。 The method for manufacturing an insulated electric wire according to claim 1 or 2, wherein the step of inspecting the formation state of the insulating film is performed online. 前記絶縁電線の外周面に対向するように前記絶縁電線の径方向外側に配置され、前記第1の電極よりも下流に配置された第2の電極と、前記絶縁電線との間の第2の静電容量を検出し、前記第1の静電容量および前記第2の静電容量と、前記絶縁皮膜の気孔率との関係に基づいて前記絶縁皮膜の形成状態を検査する工程をさらに含む、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の絶縁電線の製造方法。 Wherein it is located radially outwardly of the insulated wire so as to face the outer peripheral surface of the insulated wire, and a second electrode disposed downstream from the first electrode, the second between the insulated wire The step of detecting the capacitance and inspecting the formation state of the insulating film based on the relationship between the first capacitance and the second capacitance and the pore ratio of the insulating film is further included. The method for manufacturing an insulated wire according to any one of claims 1 to 3. 前記第2の電極は、前記導体の長手方向に垂直な断面において互いに離間するように分割された形状を有し、前記導体の長手方向に沿って延在する複数の電極ユニットを含む、請求項4に記載の絶縁電線の製造方法。 The second electrode has a shape divided so as to be separated from each other in a cross section perpendicular to the longitudinal direction of the conductor, and includes a plurality of electrode units extending along the longitudinal direction of the conductor. 4. The method for manufacturing an insulated wire according to 4.
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