JP6884957B2 - 配向した非球状磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層を生成する装置及びプロセス - Google Patents

配向した非球状磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層を生成する装置及びプロセス Download PDF

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Description

[001]本発明は、偽造及び違法複製に対する有価文書及び有価商品の保護の分野に関する。特に、本発明は、視角に応じた光学効果を示す光学効果層（ＯＥＬ）、上記ＯＥＬを生成する磁気アセンブリ及びプロセス、並びに文書上の偽造防止手段としての上記ＯＥＬの使用に関する。
[002]当技術分野においては、磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子、特に光学可変性の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含むインク、被膜組成物、被膜、又は層を用いることによって、セキュリティ要素及びセキュリティ文書を製造することが知られている。
[003]例えばセキュリティ文書の安全対策は、「秘密」及び「公然」の安全対策に分類可能である。秘密の安全対策による保護は、そのような対策が隠蔽されており、検出には通常、特殊な機器及び知識が必要である、という概念に依拠している。一方、「公然」の安全対策は、人間の感覚のみで容易に検出可能であり、例えばそのような対策の可視化及び／又は触覚による検出が可能でありながら、製造及び／又はコピーは依然として困難である。ただし、公然の安全対策の有効性は、その安全対策としての容易な認識に大きく依存している。ユーザは、このような安全対策の存在及び性質に気付いている場合、その安全対策に基づいて実際に安全確認を行うしかないためである。
[004]配向した磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む被膜又は層については、例えば米国特許第２，５７０，８５６号、米国特許第３，６７６，２７３号、米国特許第３，７９１，８６４号、米国特許第５，６３０，８７７号、及び米国特許第５，３６４，６８９号に開示されている。被膜中の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子によれば、対応する磁界の印加により、非固化被膜中で磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を局所的に配向させた後、これらを固化させることによって、磁気誘導画像、デザイン、及び／又はパターンを生成することができる。これにより、特定の光学効果すなわち偽造に対する耐性が高い固定磁気誘導画像、デザイン、又はパターンが得られる。配向した磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子に基づくセキュリティ要素は、磁性顔料粒子若しくは磁化可能顔料粒子又は当該粒子を含む対応するインク若しくは組成物並びに上記インク若しくは組成物の適用及び適用インク若しくは組成物中の上記顔料粒子の配向に用いられる特定の技術の両方が利用可能な場合にのみ製造可能である。
[005]例えば、米国特許第７，０４７，８８３号は、被膜組成物中で光学可変性の磁性又は磁化可能顔料薄片を配向させることによって得られる光学効果層（ＯＥＬ）を生成する装置及び方法を開示しており、この開示の装置は、特定の構成において、上記被膜組成物を有する基材の下側に配置された永久磁石から成る。米国特許第７，０４７，８８３号によれば、ＯＥＬ中の光学可変性の磁性又は磁化可能顔料薄片の第１の部分が光を第１の方向に反射させるように配向し、第１の部分に隣接する第２の部分が光を第２の方向に反射させるように位置合わせされていることで、ＯＥＬの傾斜に際して視覚的な「フリップフロップ」効果が生成される。
[006]国際公開第２００６／０６９２１８ Ａ２号は、ＯＥＬが傾斜した場合にバー（「ローリングバー」）が動いて見えるように配向した光学可変性の磁性顔料薄片又は磁化可能顔料薄片を含むＯＥＬを備えた基材を開示している。国際公開第２００６／０６９２１８ Ａ２号によれば、光学可変性の磁性顔料薄片又は磁化可能顔料薄片を有する基材の下側の永久磁石の特定の構成には、曲面を再現するように上記薄片を配向させる働きがある。
[007]米国特許第７，９５５，６９５号は、強い干渉色でチョウの羽を再現する視覚効果を生むように、いわゆる粉状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子が主として基材表面に垂直に配向したＯＥＬに関する。ここでも、被膜組成物を有する基材の下側の永久磁石の特定の構成には、顔料粒子を配向させる働きがある。
[008]欧州特許第１ ８１９ ５２５ Ｂ１号は、特定の視角では透明に見えるため下層の情報へ視覚的にアクセス可能である一方、他の視角では不透明なままとなるＯＥＬを有するセキュリティ要素を開示している。「ベネチアンブラインド効果」として知られているこの効果を得るため、基材の下側の永久磁石の特定の構成は、基材表面に対する所定の角度で、光学可変性の磁化可能顔料薄片又は磁性顔料薄片を配向させる。
[009]移動リング効果が効率的なセキュリティ要素として開発されている。移動リング効果は、上記光学効果層の傾斜角に応じて任意のｘｙ方向に移動して見える漏斗、円錐、ボウル、円、楕円、及び半球等の物体の光学的錯覚像から成る。移動リング効果を生む方法については、例えば欧州特許出願公開第１ ７１０ ７５６ Ａ１号、米国特許第８，３４３，６１５号、欧州特許出願公開第２ ３０６ ２２２ Ａ１号、欧州特許出願公開第２ ３２５ ６７７ Ａ２号、及び米国特許出願公開第２０１３／０８４４１１号に開示されている。
[0010]国際公開第２０１１／０９２５０２ Ａ２号は、視覚の変化で見かけ上の移動リングを表示する移動リング像を生成する装置を開示している。開示の移動リング像は、軟磁化可能シートと、磁気軸が被膜層の平面に垂直であるとともに上記軟磁化可能シートの下側に配設された球状磁石との組み合わせにより発生した磁界によって磁性粒子又は磁化可能粒子を配向可能な装置の使用により取得又は生成され得る。
[0011]従来技術の移動リング像は一般的に、唯一の回転又は固定磁石の磁界による磁性粒子又は磁化可能粒子の整列によって生成される。唯一の磁石の磁力線は一般的に、比較的緩やかな屈曲すなわち低い曲率を呈しているため、磁性粒子又は磁化可能粒子の配向の変化もＯＥＬの表面上で比較的緩やかである。さらに、単一の磁石のみが用いられる場合は、磁石からの距離の増加とともに磁界の強度が急激に低下する。このため、磁性粒子又は磁化可能粒子の配向により極めて動的且つ明確に規定された特徴を得るのは難しく、リング縁部がぼやけた視覚効果となる可能性がある。
[0012]国際公開第２０１４／１０８４０４ Ａ２号は、被膜中に分散した複数の磁気配向した非球状の磁性粒子又は磁化可能粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を開示している。開示のＯＥＬの特定の磁気配向パターンは、ＯＥＬの傾斜に際して移動するループ状体の光学効果又は印象を観察者に与える。さらに、国際公開第２０１４／１０８４０４ Ａ２号は、ループ状体内において、ループ状体に囲まれた中央領域の反射帯による突起の光学効果又は印象をさらにもたらすＯＥＬを開示している。開示の突起は、ループ状体に囲まれた中央領域に存在する半球等の３次元物体の印象を与える。
[0013]国際公開第２０１４／１０８３０３ Ａ１号は、被膜中に分散した複数の磁気配向した非球状の磁性粒子又は磁化可能粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を開示している。開示のＯＥＬの特定の磁気配向パターンは、１つの共通中央領域を囲み、視角に応じた見かけ上の運動を示す複数の入れ子になったループ状体の光学効果又は印象を観察者に与える。さらに、国際公開第２０１４／１０８３０３ Ａ１号は、最も内側のループ状体に囲まれ、これにより規定された中央領域を部分的に満たす突起をさらに含むＯＥＬを開示している。開示の突起は、中央領域に存在する半球等の３次元物体の錯覚を与える。
[0014]偽造者が利用可能な機器で大規模に製造することが難しく、非常に多くの考え得る形状及び形態で提供可能な人目を引く動的なループ状効果を良い品質で基材上に表示する容易に確認可能な安全対策が依然として求められている。
[0015]したがって、本発明は、上述の従来技術の不備を克服することを目的とする。
[0016]第１の態様において、本発明は、光学効果層（ＯＥＬ）を基材（ｘ２０）上に生成するプロセス及びこれにより得られる光学効果層（ＯＥＬ）であって、当該プロセスが、
ｉ）非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む第１の状態の放射線硬化性被膜組成物を基材（ｘ２０）の表面に適用するステップと、
ｉｉ）非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるために、放射線硬化性被膜組成物を装置の磁界に曝露するステップであって、装置は、
ａ）支持マトリクス（ｘ３４）を備える磁気アセンブリ（ｘ３０）であり、
ａ１）単一のループ状磁石、又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組み合わせのいずれかであり、半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）と、
ａ２）基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸を有する単一の双極子磁石（ｘ３２）、若しくは基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する単一の双極子磁石（ｘ３２）、又は基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）であり、
ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石又は２つ以上の双極子磁石のＮ極がループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向いている場合に、単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基材（ｘ２０）に面している、或いは
ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石又は２つ以上の双極子磁石のＳ極がループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向いている場合に、単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基材（ｘ２０）に面している、
単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）と、
を備えた、磁気アセンブリ（ｘ３０）と、
ｂ）基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する単一の棒状双極子磁石、又は基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸及び同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組み合わせのいずれかである磁界発生装置（ｘ４０）と、
を備える、ステップと、
ｉｉｉ）非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの採っている位置及び配向に固定するために、ステップｉｉ）の放射線硬化性被膜組成物を第２の状態になるまで少なくとも部分的に硬化させるステップと、
を含む、プロセス及びこれにより得られる光学効果層（ＯＥＬ）を提供する。
[0017]別の態様において、本発明は、上記プロセスにより作成された光学効果層（ＯＥＬ）を提供する。
[0018]別の態様においては、偽造若しくは不正に対するセキュリティ文書の保護又は装飾用途として上記光学効果層（ＯＥＬ）が用いられる。
[0019]別の態様において、本発明は、本明細書に記載のような１つ又は複数の光学効果層を備えたセキュリティ文書又は装飾要素若しくは物体を提供する。
[0020]別の態様において、本発明は、光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を傾斜させることによりサイズが変化する１つ又は複数のループ状体に見える光学的印象をもたらすとともに、硬化した放射線硬化性被膜組成物中に配向した非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む本明細書に記載の光学効果層を本明細書に記載のような基材上に生成する装置であって、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ３０）及び本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ４０）を備えた、装置を提供する。
[0021]磁気アセンブリ（ｘ３０）及び磁界発生装置（ｘ４０）は、一方が他方の上に配置されていてもよい。
[0022]磁気アセンブリ（ｘ３０）により生成された磁界及び磁界発生装置（ｘ４０）により生成された磁界は、装置の結果としての磁界中に配設され、光学効果層（ｘ１０）を傾斜させることによりサイズが変化する１つ又は複数のループ状体に見える光学的印象をもたらす未硬化の放射線硬化性被膜組成物の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を装置の磁界が基材上で配向させ得るように相互作用するようになっていてもよい。
[0023]光学的印象は、基材が垂直視角からある方向に傾斜した場合に、１つ又は複数のループ状体が大きく見え、基材が垂直視角から第１の方向の反対方向に傾斜した場合に、１つ又は複数のループ状体が小さく見えるようになっていてもよい。
[0024]単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）は、単一のループ状磁石（ｘ３１）により規定されたループ内又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石（ｘ３１）により規定されたループ内に位置付けられていてもよい。
[0025]支持マトリクス（ｘ３４）は、単一のループ状磁石（ｘ３１）により規定されるとともに離隔したループ内又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石により規定されるとともに離隔したループ内に単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を保持するようにしてもよい。
[0026]単一のループ状磁石（ｘ３１）又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石（ｘ３１）及び単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）は、支持マトリクス（ｘ３４）内（例えば、内部に設けられた窪み又は空間内）に配設されているのが好ましい。
[0027]本明細書に記載の装置は、ｃ）１つ又は複数のループ状磁極片（ｘ３３）をさらに備えていてもよい。また、１つ又は複数のループ状磁極片（ｘ３３）が存在する場合、これは、支持マトリクス（ｘ３４）内に配設されていてもよい。
[0028]支持マトリクス（ｘ３４）は、単一のループ状磁石（ｘ３１）により規定されたループ内又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石（ｘ３１）により規定されたループ内に１つ又は複数のループ状磁極片（ｘ３３）を保持していてもよい。
[0029]単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）及び任意選択としての１つ又は複数のループ状磁極片（ｘ３３）は、単一のループ状磁石（ｘ３１）又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石（ｘ３１）と同一平面上に配置されていてもよい。
[0030]別の態様において、本発明は、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を本明細書に記載のような基材上に生成する本明細書に記載の装置の使用を提供する。
[0031]別の態様において、本発明は、本明細書に記載の装置のうちの少なくとも１つを備えた回転磁気シリンダ又は本明細書に記載の装置のうちの少なくとも１つを備えた平台印刷ユニットを備えた装置を提供する。
[0032]別の態様において、本発明は、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を本明細書に記載のような基材上に生成する本明細書に記載の印刷装置の使用を提供する。
ａ）支持マトリクス（１３４）、ａ１）ループ状磁界発生装置（１３１）、特に、リング状磁石、及びａ２）基材（１２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸を有する単一の双極子磁石（１３２）を備えた磁気アセンブリ（１３０）と、ｂ）基材（１２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する磁界発生装置（１４０）、特に、単一の棒状双極子磁石とを備えた装置であって、光学効果層（１１０）を基材（１２０）上に生成するのに適した、装置を模式的に示した図である。 図１Ａの磁気アセンブリ（１３０）の上面を模式的に示した図である。 図１Ａの支持マトリクス（１３４）の投射を模式的に示した図である。 図１Ａ及び図１Ｂに示す装置を用いて得られたＯＥＬを様々な視角で見た写真である。 ａ）支持マトリクス（２３４）、ａ１）ループ状磁界発生装置（２３１）、特に、リング状磁石、及びａ２）基材（２２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸を有する単一の双極子磁石（２３２）を備えた磁気アセンブリ（２３０）と、ｂ）基材（２２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する磁界発生装置（２４０）、特に、単一の棒状双極子磁石とを備えた装置を模式的に示した図である。この装置は、光学効果層（２１０）を基材（２２０）上に生成するのに適している。 図２Ａの磁気アセンブリ（２３０）の上面を模式的に示した図である。 図２Ａの支持マトリクス（２３４）の投射を模式的に示した図である。 図２Ａ及び図２Ｂに示す装置を用いて得られたＯＥＬを様々な視角で見た写真である。 ａ）支持マトリクス（３３４）、ａ１）ループ状磁界発生装置（３３１）、特に、リング状磁石、及びａ２）基材（３２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する単一の双極子磁石（３３２）を備えた磁気アセンブリ（３３０）と、ｂ）基材（３２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する磁界発生装置（３４０）、特に、単一の棒状双極子磁石とを備えた装置を模式的に示した図である。この装置は、光学効果層（３１０）を基材（３２０）上に生成するのに適している。 図３Ａの磁気アセンブリ（３３０）の上面を模式的に示した図である。 図３Ａの支持マトリクス（３３４）の投射を模式的に示した図である。 図３Ａ及び図３Ｂに示す装置を用いて得られたＯＥＬを様々な視角で見た写真である。 ａ）支持マトリクス（４３４）、ａ１）ループ状磁界発生装置（４３１）、特に、リング状磁石、及びａ２）基材（４２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する単一の双極子磁石（４３２）を備えた磁気アセンブリ（４３０）と、ｂ）基材（４２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する磁界発生装置（４４０）、特に、単一の棒状双極子磁石とを備えた装置を模式的に示した図である。この装置は、光学効果層（４１０）を基材（４２０）上に生成するのに適している。 図４Ａの磁気アセンブリ（４３０）の上面を模式的に示した図である。 図４Ａの支持マトリクス（４３４）の投射を模式的に示した図である。 図４Ａ及び図４Ｂに示す装置を用いて得られたＯＥＬを様々な視角で見た写真である。 ａ）支持マトリクス（５３４）、ａ１）ループ状磁界発生装置（５３１）、特に、正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせ、及びａ２）基材（５２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸を有する単一の双極子磁石（５３２）を備えた磁気アセンブリ（５３０）と、ｂ）基材（５２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する磁界発生装置（５４０）、特に、単一の棒状双極子磁石とを備えた装置を模式的に示した図である。この装置は、光学効果層（５１０）を基材（５２０）上に生成するのに適している。 図５Ａの磁気アセンブリ（５３０）の上面を模式的に示した図である。 図５Ａの支持マトリクス（５３４）の投射を模式的に示した図である。 図５Ａ及び図５Ｂに示す装置を用いて得られたＯＥＬを様々な視角で見た写真である。 ａ）支持マトリクス（６３４）、ａ１）ループ状磁界発生装置（６３１）、特に、正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせ、ａ２）基材（６２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸を有する双極子磁石（６３２）、及びａ３）１つ又は複数のループ状磁極片（６３３）、特に、１つのリング状磁極片を備えた磁気アセンブリ（６３０）と、ｂ）基材（６２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する磁界発生装置（６４０）、特に、単一の棒状双極子磁石とを備えた装置を模式的に示した図である。この装置は、光学効果層（６１０）を基材（６２０）上に生成するのに適している。 図６Ａの磁気アセンブリ（６３０）の上面を模式的に示した図である。 図６Ａの支持マトリクス（６３４）の投射を模式的に示した図である。 図６Ａ及び図６Ｂに示す装置を用いて得られたＯＥＬを様々な視角で見た写真である。 ａ）支持マトリクス（７３４）、ａ１）ループ状磁界発生装置（７３１）、特に、正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせ、ａ２）基材（７２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する双極子磁石（７３２）、及びａ３）１つ又は複数のループ状磁極片（７３３）、特に、１つのリング状磁極片を備えた磁気アセンブリ（７３０）と、ｂ）基材（７２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する磁界発生装置（７４０）、特に、単一の棒状双極子磁石とを備えた装置を模式的に示した図である。この装置は、光学効果層（７１０）を基材（７２０）上に生成するのに適している。 図７Ａの磁気アセンブリ（７３０）の上面を模式的に示した図である。 図７Ａの支持マトリクス（７３４）の投射を模式的に示した図である。 図７Ａ及び図７Ｂに示す装置を用いて得られたＯＥＬを様々な視角で見た写真である。 ａ）支持マトリクス（８３４）、ａ１）ループ状磁界発生装置（８３１）、特に、正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせ、及びａ２）基材（８２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸をそれぞれ有する２つ以上、特に、３つの双極子磁石（８３２）を備えた磁気アセンブリ（８３０）と、ｂ）基材（８２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する磁界発生装置（８４０）、特に、単一の棒状双極子磁石とを備えた装置を模式的に示した図である。この装置は、光学効果層（８１０）を基材（８２０）上に生成するのに適している。 図８Ａの磁気アセンブリ（８３０）の上面を模式的に示した図である。 図８Ａの支持マトリクス（８３４）の投射を模式的に示した図である。 図８Ａ及び図８Ｂに示す装置を用いて得られたＯＥＬを様々な視角で見た写真である。 ａ）支持マトリクス（９３４）、ａ１）ループ状磁界発生装置（９３１）、特に、正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせ、及びａ２）基材（９２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸をそれぞれ有する２つ以上、特に、３つの双極子磁石（９３２）を備えた磁気アセンブリ（９３０）と、ｂ）基材（９２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する磁界発生装置（９４０）、特に、単一の棒状双極子磁石と、ｃ）１つ又は複数の磁極片（９５０）、特に、１つのディスク状磁極片とを備えた装置を模式的に示した図である。この装置は、光学効果層（９１０）を基材（９２０）上に生成するのに適している。 図９Ａの磁気アセンブリ（９３０）の上面を模式的に示した図である。 図９Ａの支持マトリクス（９３４）の投射を模式的に示した図である。 図９Ａ及び図９Ｂに示す装置を用いて得られたＯＥＬを様々な視角で見た写真である。 ａ）支持マトリクス（１０３４）、ａ１）ループ状磁界発生装置（１０３１）、特に、正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせ、及びａ２）基材（１０２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石（１０３２）、特に、２つの双極子磁石の１０個の組み合わせを備えた磁気アセンブリ（１０３０）と、ｂ）基材（１０２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する磁界発生装置（１０４０）、特に、単一の棒状双極子磁石と、ｃ）１つ又は複数の磁極片（１０５０）、特に、１つのディスク状磁極片とを備えた装置を模式的に示した図である。この装置は、光学効果層（１０１０）を基材（１０２０）上に生成するのに適している。 図１０Ａの磁気アセンブリ（１０３０）の上面を模式的に示した図である。 図１０Ｂ２は、図１０Ａの支持マトリクス（１０３４）の投射を模式的に示した図であり、図１０Ｂ３は、図１０Ａのディスク状磁極片（１０５０）の上面を模式的に示した図である。 図１０Ａ及び図１０Ｂに示す装置を用いて得られたＯＥＬを様々な視角で見た写真である。 ａ）支持マトリクス（１１３４）、ａ１）ループ状磁界発生装置（１１３１）、特に、正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせ、基材（１１２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石（１０３２）、特に、２つの双極子磁石の１３個の組み合わせを備えた磁気アセンブリ（１１３０）と、ｂ）基材（１１２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する磁界発生装置（１１４０）、特に、単一の棒状双極子磁石と、ｃ）１つ又は複数の磁極片（１１５０）、特に、１つのディスク状磁極片とを備えた装置を模式的に示した図である。この装置は、光学効果層（１１１０）を基材（１１２０）上に生成するのに適している。 図１１Ａの磁気アセンブリ（１１３０）の上面を模式的に示した図である。 図１１Ａの支持マトリクス（１１３４）の投射を模式的に示した図である。 図１１Ａ及び図１１Ｂに示す装置を用いて得られたＯＥＬを様々な視角で見た写真である。 ａ）支持マトリクス（１２３４）、ａ１）ループ状磁界発生装置（１２３１）、特に、正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせ、及びａ２）基材（１２２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石（１２３２）、特に、２つの双極子磁石の９つの組み合わせを備えた磁気アセンブリ（１２３０）と、ｂ）基材（１２２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する磁界発生装置（１２４０）、特に、単一の棒状双極子磁石とを備えた装置を模式的に示した図である。この装置は、光学効果層（１２１０）を基材（１２２０）上に生成するのに適している。 図１２Ａの磁気アセンブリ（１２３０）の上面を模式的に示した図である。 図１２Ａの支持マトリクス（１２３４）の投射を模式的に示した図である。 図１２Ａ及び図１２Ｂに示す装置を用いて得られたＯＥＬを様々な視角で見た写真である。 ａ）支持マトリクス（１３３４）、ａ１）ループ状磁界発生装置（１３３１）、特に、正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせ、及びａ２）基材（１３２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石（１３３２）、特に、２つの双極子磁石の９つの組み合わせを備えた磁気アセンブリ（１３３０）と、ｂ）基材（１３２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸及び同じ磁界方向を有する磁界発生装置（１３４０）、特に、支持マトリクス（１３４２）中の８本の棒状双極子磁石（１３４１）の組み合わせとを備えた装置を模式的に示した図である。この装置は、光学効果層（１３１０）を基材（１３２０）上に生成するのに適している。 図１３Ａの磁気アセンブリ（１３３０）の上面を模式的に示した図である。 図１３Ａの支持マトリクス（１３３４）の投射を模式的に示した図である。 図１３Ａの支持マトリクス（１３４２）の断面を模式的に示した図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂに示す装置を用いて得られたＯＥＬを様々な視角で見た写真である。 ａ）支持マトリクス（１４３４）、ａ１）ループ状磁界発生装置（１４３１）、特に、正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせ、及びａ２）基材（１４２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石（１４３２）、特に、２つの双極子磁石の９つの組み合わせを備えた磁気アセンブリ（１４３０）と、ｂ）基材（１４２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸及び同じ磁界方向を有する磁界発生装置（１４４０）、特に、支持マトリクス（１４４２）中の７本の棒状双極子磁石（１４４１）の組み合わせとを備えた装置を模式的に示した図である。この装置は、光学効果層（１４１０）を基材（１４２０）上に生成するのに適している。 図１４Ａの磁気アセンブリ（１４３０）の上面を模式的に示した図である。 図１４Ａの支持マトリクス（１４３４）の投射を模式的に示した図である。 図１４Ａの支持マトリクス（１４４２）の上面及び断面を模式的に示した図である。 図１４Ａ及び図１４Ｂに示す装置を用いて得られたＯＥＬを様々な視角で見た写真である。
定義
[0033]以下の定義を用いることによって、本明細書及び特許請求の範囲に記載の用語の意味を解釈するものとする。
[0034]本明細書において、不定冠詞「ａ」は、１つ及び２つ以上を示し、必ずしもその指示対象の名詞を単数に限定するものではない。
[0035]本明細書において、用語「およそ」は、対象とする量又は値が指定された特定の値又はその近傍の他の値であってもよいことを意味する。一般的に、ある値を示す用語「およそ」は、その値の±５％の範囲を示すことを意図している。一例として、表現「およそ１００」は、１００±５の範囲すなわち９５〜１０５の範囲を示す。一般的に、用語「およそ」を使用する場合は、本発明に係る類似の結果又は効果が指定値の±５％の範囲で得られることが予想され得る。
[0036]用語「実質的に平行」は、平行整列からの逸脱が１０°以下であることを表し、用語「実質的に垂直」は、垂直整列からの逸脱が１０°以下であることを表す。
[0037]本明細書において、用語「及び／又は」は、上記群の要素のすべて又は１つだけのいずれかが存在していてもよいことを意味する。例えば、「Ａ及び／又はＢ」は、「Ａのみ、Ｂのみ、又はＡ及びＢの両方」を意味するものとする。「Ａのみ」の場合、この用語は、Ｂが存在しない可能性、すなわち「ＡのみであってＢではない」という可能性も網羅している。
[0038]本明細書において、用語「備える、含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は、非排他的且つオープンエンドであることを意図している。したがって、例えば化合物Ａを含む湿し水は、Ａ以外の化合物を含んでいてもよい。ただし、用語「備える、含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は、その特定の一実施形態として、「〜から本質的に成る（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｏｆ）」及び「〜から成る（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」というより限定的な意味も網羅するため、例えば「Ａ、Ｂ、及び任意選択としてＣを含む湿し水」は、Ａ及びＢから（本質的に）成っていてもよいし、Ａ、Ｂ、及びＣから（本質的に）成っていてもよい。
[0039]用語「被膜組成物」は、本発明の光学効果層（ＯＥＬ）を固体基材上に形成可能であるとともに、印刷法によって優先的且つ非排他的に適用可能な任意の組成物を表す。被膜組成物は、少なくとも複数の非球状の磁性粒子又は磁化可能粒子及びバインダを含む。
[0040]本明細書において、用語「光学効果層（ＯＥＬ）」は、少なくとも複数の磁気配向した非球状の磁性粒子又は磁化可能粒子及びバインダを含み、非球状の磁性粒子又は磁化可能粒子の配向がバインダ内で固定又は停止（固定／停止）された層を示す。
[0041]用語「磁気軸」は、磁石の対応するＮＳ極を接続するとともに、上記両極を通って延びた仮想線を示す。この用語には、如何なる特定の磁界方向も含まない。
[0042]用語「磁界方向」は、磁石の外部でＮ極からＳ極へと向かう磁力線に沿った磁界ベクトルの方向を示す（Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｐｈｙｓｉｃｓ，Ｓｐｒｉｎｇｅｒ ２００２の４６３〜４６４頁参照）。
[0043]本明細書において、用語「半径方向の磁化」は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）における磁界方向を表すのに用いられ、上記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の各点においては、磁界方向が基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行であり、上記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）により規定された中央領域側又はその周辺側を向いている。
[0044]用語「硬化」は、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がそれぞれの現在位置及び配向に固定／停止されて移動も回転もできなくなる状態すなわち固化又は固体状態へと材料を変換する刺激に応答して被膜組成物の粘度が高くなるプロセスを示すのに用いる。
[0045]本明細書において「好適な」実施形態／特徴に言及する場合は、これら「好適な」実施形態／特徴の組み合わせについても、「好適な」実施形態／特徴の組み合わせが技術的に有意である限り開示されているものと考えられる。
[0046]本明細書において、用語「少なくとも」は、１つ又は２つ以上（例えば、１つ、２つ、又は３つ）を規定するものである。
[0047]用語「セキュリティ文書」は、少なくとも１つの安全対策により偽造又は不正に対して通例保護される文書を表す。セキュリティ文書の例としては、有価文書及び有価商品が挙げられるが、これらに限定されない。
[0048]用語「安全対策」は、認証目的で使用可能な画像、パターン、又は図形要素を示すのに用いる。
[0049]用語「ループ状体」は、それ自体で再結合することにより１つの中央領域を囲む閉ループ状体を構成する閉じた物体の視覚的印象をＯＥＬが観察者に与えるように非球状の磁性粒子又は磁化可能粒子が設けられたことを示す。「ループ状体」としては、円形、長円形、楕円形、正方形、三角形、長方形、又は任意の多角形を有し得る。ループ形状の例としては、リング又は円、長方形又は正方形（角丸の有無に依らず）、三角形（角丸の有無に依らず）、（正又は不規則）五角形（角丸の有無に依らず）、（正又は不規則）六角形（角丸の有無に依らず）、（正又は不規則）七角形（角丸の有無に依らず）、（正又は不規則）八角形（角丸の有無に依らず）、任意の多角形（角丸の有無に依らず）等が挙げられる。本明細書において、１つ又は複数のループ状体の光学的印象は、非球状の磁性粒子又は磁化可能粒子の配向によって形成される。
[0050]本発明は、光学効果層（ＯＥＬ）を基材上に生成する方法及びこれにより得られる光学効果層（ＯＥＬ）であって、当該方法が、本明細書に記載の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む第１の状態の放射線硬化性被膜組成物を基材（ｘ２０）表面に適用するステップｉ）を含む、方法を提供する。
[0051]本明細書に記載の適用ステップｉ）は、好ましくはスクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、及び凹版印刷（当技術分野においては銅版凹版印刷及び鋼製金型凹版印刷とも称する）から成る群から選択され、より好ましくはスクリーン印刷、グラビア印刷、及びフレキソ印刷から成る群から選択される印刷プロセスによって実行されるのが好ましい。
[0052]本明細書に記載の基材表面に対する本明細書に記載の放射線硬化性被膜組成物の適用（ステップｉ））の後、一部同時、又は同時に、装置により生成された磁力線に沿って非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を整列させるために、本明細書に記載の装置の磁界に対する放射線硬化性被膜組成物の曝露によって非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させる（ステップｉｉ））。
[0053]本明細書に記載の磁界の印加により非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向／整列させるステップの後又は一部同時に、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の配向を固定又は停止する。このように特筆すべきこととして、放射線硬化性被膜組成物は第１の状態すなわち液体又はペースト状態を有する必要があり、十分に湿潤又は柔軟であるため、放射線硬化性被膜組成物中に分散した非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は、磁界への曝露により自由に移動、回転、及び／又は配向可能である。また、第２の硬化（例えば、固体）状態も有する必要があり、この場合の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は、それぞれの位置及び配向で固定又は停止される。
[0054]以上から、光学効果層（ＯＥＬ）を本明細書に記載の基材上に生成する方法は、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの採っている位置及び配向に固定するために、ステップｉｉ）の放射線硬化性被膜組成物を第２の状態になるまで少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）を含む。放射線硬化性被膜組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）は、本明細書に記載の磁界の印加により非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向／整列させるステップ（ステップｉｉ））の後又は一部同時に実行されるようになっていてもよい。放射線硬化性被膜組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）は、本明細書に記載の磁界の印加により非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向／整列させるステップ（ステップｉｉ））と一部同時に実行されるのが好ましい。「一部同時」によって、両ステップの一部が同時に実行されることを意味する。すなわち、各ステップの実行タイミングが部分的に重なることになる。本明細書に記載の背景において、配向ステップｉｉ）と一部同時に硬化が実行される場合は、ＯＥＬの完全又は部分的な固化の前に顔料粒子が配向するように、配向後に硬化が有効となることが了解される必要がある。
[0055]このようにして得られる光学効果層（ＯＥＬ）は、当該光学効果層を含む基材を傾斜させることによりサイズが変化する１つ又は複数のループ状体に見える光学的印象を観察者にもたらす。すなわち、このようにして得られるＯＥＬは、当該光学効果層を含む基材を傾斜させることによりサイズが変化するループ状体に見える光学的印象を観察者にもたらすか、又は、当該光学効果層を含む基材を傾斜させることによりサイズが変化する複数の入れ子になったループ状体に見える光学的印象を観察者にもたらす。光学的印象は、基材が垂直視角からある方向に傾斜した場合に、ループ状体が大きく見え、基材が垂直視角から第１の方向の反対方向に傾斜した場合に、ループ状体が小さく見えるようになっていてもよい。
[0056]放射線硬化性被膜組成物の第１及び第２の状態は、ある種の放射線硬化性被膜組成物を用いることによって提供すされる。例えば、放射線硬化性被膜組成物の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子以外の成分は、インク又はセキュリティ用途（例えば、紙幣印刷）に用いられるような放射線硬化性被膜組成物の形態であってもよい。上述の第１及び第２の状態は、電磁放射線への曝露に応答して粘度が高くなる材料を用いることにより提供される。すなわち、流体のバインダ材料は、硬化又は凝固によって、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がそれぞれの現在位置及び配向に固定されて、バインダ材料内で移動も回転もできなくなる第２の状態に変換される。
[0057]当業者には既知の通り、基材等の表面上に適用する放射線硬化性被膜組成物に含まれる成分及び上記放射線硬化性被膜組成物の物性は、放射線硬化性被膜組成物の基材表面への移動に用いられるプロセスの要件を満たす必要がある。その結果、本明細書に記載の放射線硬化性被膜組成物に含まれるバインダ材料は通常、当技術分野において既知の材料から選定されるとともに、放射線硬化性被膜組成物の適用に用いられる被覆又は印刷プロセス及び選定された放射線硬化プロセスによって決まる。
[0058]本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）において、本明細書に記載の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は、当該非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の配向を固定／停止する硬化バインダ材料を含む放射線硬化性被膜組成物中に分散している。硬化バインダ材料は、２００ｎｍ〜２５００ｎｍに含まれる様々な波長の電磁放射線に対して、少なくとも一部が透明である。このように、バインダ材料は、少なくともその硬化又は固体状態（本明細書では第２の状態とも称する）において、２００ｎｍ〜２５００ｎｍすなわち通常「光学スペクトル」と称し、バインダ材料に含まれる硬化又は固体状態の粒子及びそれぞれの配向に応じた反射性がバインダ材料を通じて認識され得るように、電磁スペクトルの赤外、可視、及びＵＶ（紫外）部分を含む波長範囲内に含まれる様々な波長の電磁放射線に対して、少なくとも一部が透明である。硬化バインダ材料は、好ましくは２００ｎｍ〜８００ｎｍ、より好ましくは４００ｎｍ〜７００ｎｍに含まれる様々な波長の電磁放射線に対して、少なくとも一部が透明である。本明細書において、用語「透明」は、該当する（１つ又は複数の）波長において、ＯＥＬ（血小板状磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は含まないが、ＯＥＬのその他任意選択の成分があれば、それらをすべて含む）に存在する硬化バインダ材料の２０μｍの層に対する電磁放射線の透過率が少なくとも５０％、好ましくは少なくとも６０％、より好ましくは少なくとも７０％であることを示す。これは、例えばＤＩＮ５０３６−３（１９７９−１１）等の確立した試験方法に従って硬化バインダ材料（血小板状磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は含まず）の試験片の透過率を測定することによって決定可能である。ＯＥＬが秘密の安全対策として機能する場合、選択した非可視波長を含む各照明条件下においてＯＥＬが生成する（完全な）光学効果を検出するには通常、技術的な手段が必要となる。当該検出では、可視領域外（例えば、近ＵＶ領域）において入射放射線の波長が選択される必要がある。この場合、ＯＥＬは、入射放射線に含まれる可視スペクトルの外側の選択波長に応答して発光する発光性顔料粒子を含むのが好ましい。電磁スペクトルの赤外、可視、及び紫外部分は、７００〜２５００ｎｍ、４００〜７００ｎｍ、及び２００〜４００ｎｍの波長範囲にそれぞれ略対応する。
[0059]上述の通り、本明細書に記載の放射線硬化性被膜組成物は、当該放射線硬化性被膜組成物の適用に用いられる被覆又は印刷プロセス及び選定された硬化プロセスによって決まる。放射線硬化性被膜組成物の硬化には、本明細書に記載のＯＥＬを備えた物品の通常使用時に起こり得る（例えば、最大８０℃の）単純な温度上昇では不可逆の化学反応を伴うのが好ましい。用語「硬化」又は「硬化性」は、適用した放射線硬化性被膜組成物中の少なくとも１つの成分が開始材料よりも大きな分子量を有するポリマー材料に変化するような、その成分の化学反応、架橋、又は重合を含むプロセスを表す。放射線硬化では、硬化放射線への曝露により放射線硬化性被膜組成物の粘度が瞬時に高くなり、顔料粒子のさらなる移動が抑えられ、結果的に磁気配向ステップ後の情報喪失が抑えられるため都合が良い。硬化ステップ（ステップｉｉｉ））は、好ましくはＵＶ・可視光放射線硬化を含む放射線硬化又は電子ビーム放射線硬化、より好ましくはＵＶ・可視光放射線硬化によって実行される。
[0060]したがって、本発明に適した放射線硬化性被膜組成物としては、ＵＶ・可視光放射線（以下、ＵＶ・可視放射線と称する）又は電子ビーム放射線（以下、ＥＢ放射線と称する）によって硬化可能な放射線硬化性組成物が挙げられる。放射線硬化性組成物は、当技術分野において既知であり、ＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｉｍｉｔｅｄと提携したＪｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓが１９９６年に発行したＣ．Ｌｏｗｅ、Ｇ．Ｗｅｂｓｔｅｒ、Ｓ．Ｋｅｓｓｅｌ、及びＩ．ＭｃＤｏｎａｌｄによる第４巻「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ ＆ ＥＢ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ， Ｉｎｋｓ ＆ Ｐａｉｎｔｓ」シリーズ等の標準的な教科書に見られる。本発明の特に好適な一実施形態によれば、本明細書に記載の放射線硬化性被膜組成物は、ＵＶ・可視放射線硬化性被膜組成物である。
[0061]ＵＶ・可視放射線硬化性被膜組成物は、ラジカル硬化性化合物及びカチオン硬化性化合物から成る群から選択される１つ又は複数の化合物を含むのが好ましい。本明細書に記載のＵＶ・可視放射線硬化性被膜組成物は、ハイブリッド系であってもよく、１つ又は複数のカチオン硬化性化合物及び１つ又は複数のラジカル硬化性化合物の混合物を含む。カチオン硬化性化合物は、酸等のカチオン種を遊離させて硬化を開始することにより、モノマー及び／又はオリゴマーの反応及び／又は架橋によって放射線硬化性被膜組成物を硬化させる１つ又は複数の光開始剤の放射による活性化を通常含むカチオン機構によって硬化する。ラジカル硬化性化合物は、１つ又は複数の光開始剤の放射によってラジカルを生成することにより重合を開始して放射線硬化性被膜組成物を硬化させる活性化を通常含むフリーラジカル機構によって硬化する。本明細書に記載のＵＶ・可視放射線硬化性被膜組成物に含まれるバインダの作成に用いられるモノマー、オリゴマー、又はプレポリマーに応じて、異なる光開始剤を使用可能である。遊離基光開始剤の適当な例は、当業者に既知であり、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタル、α−アミノケトン、α−ヒドロキシケトン、ホスフィンオキシド、及びホスフィンオキシド誘導体のほか、これらの２つ以上の混合物が挙げられるが、これらに限定されない。カチオン光開始剤の適当な例は、当業者に既知であり、有機ヨードニウム塩（例えば、ジアリールヨードニウム塩）、オキソニウム（例えば、トリアリールオキソニウム塩）、及びスルホニウム塩（例えば、トリアリールスルホニウム塩）等のオニウム塩のほか、これらの２つ以上の混合物が挙げられるが、これらに限定されない。有用な光開始剤の他の例は、Ｇ．Ｂｒａｄｌｅｙにより編集され、ＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｉｍｉｔｅｄと提携したＪｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓが１９９８年に発行したＪ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ及びＫ．Ｄｉｅｔｌｉｋｅｒによる「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ ＆ ＥＢ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ， Ｉｎｋｓ ＆ Ｐａｉｎｔｓ」第３巻の「Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ ｆｏｒ Ｆｒｅｅ Ｒａｄｉｃａｌ Ｃａｔｉｏｎｉｃ ａｎｄ Ａｎｉｏｎｉｃ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ」第２版等の標準的な教科書に見られる。また、効率的な硬化を実現するため、１つ又は複数の光開始剤と併せて増感剤を含むのが好都合と考えられる。適当な光増感剤の一般的な例としては、イソプロピル−チオキサントン（ＩＴＸ）、１−クロロ−２−プロポキシ−チオキサントン（ＣＰＴＸ）、２−クロロ−チオキサントン（ＣＴＸ）、及び２，４−ジエチル−チオキサントン（ＤＥＴＸ）、並びにこれらの２つ以上の混合物が挙げられるが、これらに限定されない。ＵＶ・可視放射線硬化性被膜組成物に含まれる１つ又は複数の光開始剤は、好ましくはおよそ０．１重量％〜およそ２０重量％、より好ましくはおよそ１重量％〜およそ１５重量％の総量で存在し、重量パーセントは、ＵＶ・可視放射線硬化性被膜組成物の総重量に基づく。
[0062]本明細書に記載の放射線硬化性被膜組成物は、１つ若しくは複数のマーカ物質若しくは追跡用添加物並びに／又は磁性材料（本明細書に記載の血小板状磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子とは異なる）、発光材料、導電材料、及び赤外線吸収材料から成る群から選択される１つ若しくは複数の機械可読材料をさらに含んでいてもよい。本明細書において、用語「機械可読材料」は、肉眼では確認できない少なくとも１つの特別な特性を示し、ある層に含めることによって、特定の認証用機器の使用により当該層又は当該層を含む物品を認証する方法を提供可能な材料を表す。
[0063]本明細書に記載の放射線硬化性被膜組成物は、有機顔料粒子、無機顔料粒子、及び有機色素から成る群から選択される１つ若しくは複数の着色成分並びに／又は１つ若しくは複数の添加剤をさらに含んでいてもよい。後者としては、粘度（例えば、溶媒、増粘剤、及び界面活性剤）、稠度（例えば、硬化防止剤、充填剤、及び可塑剤）、起泡性（例えば、消泡剤）、潤滑性（ワックス、オイル）、ＵＶ安定性（光安定剤）、密着性、帯電防止特性、保存性（重合防止剤）等の放射線硬化性被膜組成物の物理的、流動学的、及び化学的パラメータの調整に用いられる化合物及び材料が挙げられるが、これらに限定されない。本明細書に記載の添加剤は、当該添加剤の寸法のうちの少なくとも１つが１〜１０００ｎｍの範囲であるいわゆるナノ材料等、当技術分野において既知の量及び形態で放射線硬化性被膜組成物中に存在していてもよい。
[0064]本明細書に記載の放射線硬化性被膜組成物は、本明細書に記載の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む。非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は、好ましくはおよそ２重量％〜およそ４０重量％、より好ましくはおよそ４重量％〜およそ３０重量％の量だけ存在する。この重量百分率は、バインダ材料、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子、及び放射線硬化性被膜組成物のその他任意選択の成分を含む放射線硬化性被膜組成物の総重量に基づく。
[0065]本明細書に記載の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は、形状が非球状であることから、固化バインダ材料の少なくとも一部が透明である入射電磁放射線に対して非等方的な反射性を有するように規定されている。本明細書において、用語「非等方的な反射性」は、第１の角度からの入射放射線が粒子により特定の（観察）方向（第２の角度）に反射される割合が粒子の配向の関数であること、つまり、第１の角度に対する粒子の配向の変化に応じて観察方向への反射の大きさが異なり得ることを示す。好ましいこととして、本明細書に記載の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は、粒子の配向の変化によって当該粒子による反射が特定の方向に変化するように、好ましくはおよそ２００〜およそ２５００ｎｍ、より好ましくはおよそ４００〜およそ７００ｎｍの波長範囲の一部又は全部における入射電磁放射線に対して非等方的な反射性を有する。当業者には既知の通り、本明細書に記載の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は、すべての視角について同じ色を示す従来の顔料粒子と異なり、本明細書に記載の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は、上述の通り非等方的な反射性を示す。
[0066]非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は、扁長若しくは扁平な楕円体状、血小板状、若しくは針状の顔料粒子、又はこれらの２つ以上の混合物であるのが好ましく、血小板状の粒子であるのがさらに好ましい。
[0067]本明細書に記載の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の適当な例としては、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、及びニッケル（Ｎｉ）から成る群から選択される磁性金属、鉄、マンガン、コバルト、ニッケル、及びこれらの２つ以上の混合物の磁性合金、クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、及びこれらの２つ以上の混合物の磁性酸化物、並びにこれらの２つ以上の混合物を含む顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されない。金属、合金、及び酸化物に関する用語「磁性」は、強磁性又はフェリ磁性金属、合金、及び酸化物を対象とする。クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、又はこれらの２つ以上の混合物の磁性酸化物は、純粋又は混合酸化物であってもよい。磁性酸化物の例としては、赤鉄鉱（Ｆｅ２Ｏ３）、磁鉄鉱（Ｆｅ３Ｏ４）、二酸化クロム（ＣｒＯ２）、磁性フェライト（ＭＦｅ２Ｏ４）、磁性スピネル（ＭＲ２Ｏ４）、磁性ヘキサフェライト（ＭＦｅ１２Ｏ１９）、磁性オルソフェライト（ＲＦｅＯ３）、磁性ガーネット（Ｍ３Ｒ２（ＡＯ４）３）等の鉄酸化物が挙げられるが、これらに限定されない。ここで、Ｍは２価、Ｒは３価、Ａは４価の金属を表す。
[0068]本明細書に記載の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の例としては、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、又はニッケル（Ｎｉ）等の磁性金属及び鉄、コバルト、又はニッケルの磁性合金のうちの１つ又は複数で構成された磁気層Ｍを含む顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されない。上記血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は、１つ又は複数の別の層を含む多層構造であってもよい。１つ又は複数の別の層は、好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）等の金属フッ化物、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、及び酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）から成る群から選択される１つ又は複数の材料、より好ましくは二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）で独立して構成された層Ａ、金属及び金属合金から成る群から選択され、好ましくは反射性金属及び反射性金属合金から成る群から選択され、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、及びニッケル（Ｎｉ）から成る群から選択される１つ又は複数の材料、さらに好ましくはアルミニウム（Ａｌ）で独立して構成された層Ｂ、或いは上述のような１つ又は複数の層Ａ並びに上述のような１つ又は複数の層Ｂの組み合わせである。上述の多層構造である血小板状磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の一般的な例としては、Ａ／Ｍ多層構造、Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ／Ａ多層構造、Ｂ／Ｍ多層構造、Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ／Ａ多層構造が挙げられるが、これらに限定されない。ここで、層Ａ、磁気層Ｍ、及び層Ｂは、上述の層から選定される。
[0069]本明細書に記載の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部は、光学可変性の非球状の磁性顔料粒子若しくは磁化可能顔料粒子並びに／又は光学可変特性を持たない非球状の磁性顔料粒子若しくは磁化可能顔料粒子で構成されていてもよい。本明細書に記載の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部は、光学可変性の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子によって構成されているのが好ましい。光学可変性の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の変色特性によってもたらされる公然の安全対策は、本明細書に記載の光学可変性の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含むインク、放射線硬化性被膜組成物、被膜、又は層を有する物品又はセキュリティ文書を人間の感覚のみで容易に検出、認識、及び／又はその考え得る偽造品から識別可能であるが、これに加えて、光学可変性の血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の光学特性がＯＥＬ認識用の機械可読ツールとして用いられるようになっていてもよい。したがって、顔料粒子の光学（例えば、スペクトル）特性を解析する認証プロセスにおいては、秘密又は準秘密の安全対策として、光学可変性の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の光学特性が同時に用いられるようになっていてもよい。ＯＥＬを生成する放射線硬化性被膜組成物に光学可変性の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を使用すると、ＯＥＬのセキュリティ文書用途における安全対策としての意義が高くなる。このような材料（すなわち、光学可変性の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子）は、セキュリティ文書印刷業のためのものであって、一般には市販されていないためである。
[0070]さらに、本明細書に記載の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は、その磁性により機械可読であるため、これらの顔料粒子を含む放射線硬化性被膜組成物は、例えば特定の磁気検出器により検出されるようになっていてもよい。したがって、本明細書に記載の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性被膜組成物は、セキュリティ文書の秘密又は準秘密のセキュリティ要素（認証ツール）として使用可能である。
[0071]上述の通り、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は、少なくとも一部が光学可変性の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子によって構成されているのが好ましい。これらは、非球状の磁性薄膜干渉顔料粒子、非球状の磁性コレステリック液晶顔料粒子、磁性材料を含む非球状の干渉被覆顔料粒子、及びこれらの２つ以上の混合物から成る群から選択可能であるのがより好ましい。
[0072]磁性薄膜干渉顔料粒子については、当業者に既知であって、例えば米国特許第４，８３８，６４８号、国際公開第２００２／０７３２５０ Ａ２号、欧州特許第０ ６８６ ６７５ Ｂ１号、国際公開第２００３／０００８０１ Ａ２号、米国特許第６，８３８，１６６号、国際公開第２００７／１３１８３３ Ａ１号、欧州特許出願公開第２ ４０２ ４０１ Ａ１号、及びこれらの引用文献に開示されている。磁性薄膜干渉顔料粒子は、５層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子及び／又は６層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子及び／又は７層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子を含んでいるのが好ましい。
[0073]好ましい５層ファブリペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造から成り、反射体及び／又は吸収体が磁気層でもあり、好ましくは反射体及び／又は吸収体が、ニッケル、鉄、及び／若しくはコバルト、並びに／又はニッケル、鉄、及び／若しくはコバルトを含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含む磁気層である。
[0074]好ましい６層ファブリペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／磁性体／誘電体／吸収体の多層構造から成る。
[0075]好ましい７層ファブリペロー多層構造は、米国特許第４，８３８，６４８号に開示されているような吸収体／誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造から成る。
[0076]本明細書に記載の反射体層は、金属及び金属合金から成る群から選択され、好ましくは反射性金属及び反射性金属合金から成る群から選択され、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、スズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金から成る群から選択され、さらに好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金から成る群から選択される１つ又は複数の材料、なお好ましくはアルミニウム（Ａｌ）で独立して構成されていることが好ましい。誘電体層は、好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ３）、フッ化セリウム（ＣｅＦ３）、フッ化ランタン（ＬａＦ３）、フッ化アルミニウムナトリウム（例えば、Ｎａ３ＡｌＦ６）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ３）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ３）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）等の金属フッ化物、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）等の金属酸化物から成る群から選択され、より好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）から成る群から選択される１つ又は複数の材料、なお好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）で独立して構成されていることが好ましい。吸収体層は、好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、鉄（Ｆｅ）、スズ（Ｓｎ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、これらの金属酸化物、これらの金属硫化物、これらの金属炭化物、及びこれらの金属合金から成る群から選択され、より好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、これらの金属酸化物、及びこれらの金属合金から成る群から選択され、さらに好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの金属合金から成る群から選択される１つ又は複数の材料で独立して構成されていることが好ましい。磁性体層は、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含むのが好ましい。７層ファブリペロー構造を含む磁性薄膜干渉顔料粒子が好ましい場合は、磁性薄膜干渉顔料粒子がＣｒ／ＭｇＦ２／Ａｌ／Ｍ／Ａｌ／ＭｇＦ２／Ｃｒ多層構造から成る７層ファブリペロー吸収体／誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造を有するのが特に好ましく、Ｍは、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含む磁気層である。
[0077]本明細書に記載の磁性薄膜干渉顔料粒子は、人間の健康及び環境に対して安全と考えられ、例えば５層ファブリペロー多層構造、６層ファブリペロー多層構造、及び７層ファブリペロー多層構造に基づく多層顔料粒子であってもよく、上記顔料粒子は、およそ４０重量％〜およそ９０重量％の鉄、およそ１０重量％〜およそ５０重量％のクロム、及びおよそ０重量％〜およそ３０重量％のアルミニウムを含む実質的にニッケルを含まない組成の磁性合金を含む１つ又は複数の磁気層を備える。人間の健康及び環境に対して安全と考えられる多層顔料粒子の一般的な例は、欧州特許出願公開第２ ４０２ ４０１ Ａ１号に見られるため、そのすべての内容を本明細書に援用する。
[0078]本明細書に記載の磁性薄膜干渉顔料粒子は通常、ウェブ上への異なる所要層の従来堆積技術によって製造される。例えば物理的気相成長法（ＰＶＤ）、化学的気相成長法（ＣＶＤ）、又は電解析出によって所望数の層を堆積させた後は、適当な溶媒中での剥離層の溶解又はウェブからの材料の剥離のいずれかによって層スタックをウェブから除去する。そして、このように得られた材料を粉砕することにより血小板状の顔料粒子が得られるが、これは、研削、ミル加工（例えば、ジェットミル加工プロセス等）、又は任意の適当な方法でさらに処理して所要サイズの顔料粒子を得る必要がある。得られる製品は、縁部が破砕され、形状が不規則で、アスペクト比が異なる平らな血小板状顔料粒子から成る。適当な血小板状磁性薄膜干渉顔料粒子の作成に関する詳細については、例えば欧州特許出願公開第１ ７１０ ７５６ Ａ１号及び欧州特許出願公開第１ ６６６ ５４６ Ａ１号に見られるが、これらを本明細書に援用する。
[0079]光学可変特性を示す適当な磁性コレステリック液晶顔料粒子としては、磁性単層コレステリック液晶顔料粒子及び磁性多層コレステリック液晶顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されない。このような顔料については、例えば国際公開第２００６／０６３９２６ Ａ１号、米国特許第６，５８２，７８１号、及び米国特許第６，５３１，２２１号に開示されている。国際公開第２００６／０６３９２６ Ａ１号は、高い輝度及び変色特性のほか、磁化可能性等の特定の特性を有する単層及び当該単層から得られた顔料粒子を開示している。この開示の単層及び当該単層の粉砕により得られた顔料は、３次元架橋したコレステリック液晶混合物及び磁性ナノ粒子を含む。米国特許第６，５８２，７８１号及び米国特許第６，４１０，１３０号は、配列がＡ１／Ｂ／Ａ２のコレステリック多層顔料粒子を開示している。ここで、Ａ１及びＡ２は、同じであってもよいし異なっていてもよく、それぞれ少なくとも１つのコレステリック層を含む。Ｂは、層Ａ１及びＡ２から送られた光の全部又は一部を吸収するとともに磁気特性を自身に付与する中間層である。米国特許第６，５３１，２２１号は、配列がＡ／Ｂであり、任意選択としてＣを含む血小板状のコレステリック多層顔料粒子を開示している。ここで、Ａ及びＣは、磁気特性を付与する顔料粒子を含む吸収層であり、Ｂはコレステリック層である。
[0080]１つ又は複数の磁性材料を含む適当な干渉被覆顔料としては、１つ又は複数の層で被覆されたコアから成る群から選択される基材から成る構造が挙げられるが、これらに限定されない。ここで、上記コア又は１つ若しくは複数の層の少なくとも一方は、磁性を有する。例えば、適当な干渉被覆顔料は、上記のような磁性材料で構成されたコアであって、１つ又は複数の金属酸化物で構成された１つ又は複数の層で被覆された、コアを含むか、合成又は天然雲母、層状ケイ酸塩（例えば、タルク、カオリン、及び絹雲母）、ガラス（例えば、ホウケイ酸塩）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、グラファイト、及びこれらの２つ以上の混合物で構成されたコアから成る構造を有する。さらに、着色層等の１つ又は複数の別の層が存在していてもよい。
[0081]本明細書に記載の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は、放射線硬化性被膜組成物に生じ得る任意の劣化に対する保護及び／又は放射線硬化性被膜組成物への組み込みの容易化のために表面処理されていてもよく、通常は、腐食防止剤及び／又は湿潤剤が用いられるようになっていてもよい。
[0082]一実施形態によれば、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子が血小板状の顔料粒子であることを前提として、本明細書に記載の光学効果層を生成するプロセスは、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるために、第１の磁界発生装置の動的な磁界に対して本明細書に記載の放射線硬化性被膜組成物を曝露するステップであって、ステップｉ）の後及びステップｉｉ）の前に実行される、ステップをさらに含んでいてもよい。第２の磁界発生装置、特に本明細書に記載の磁気アセンブリの磁界に対して被膜組成物をさらに曝露するステップの前に、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるために、第１の磁界発生装置の動的な磁界に対して被膜組成物を曝露する、このようなステップを含むプロセスは、国際公開第２０１５／０８６２５７ Ａ１号に開示されている。本明細書に記載の第１の磁界発生装置の動的な磁界に対する放射線硬化性被膜組成物の曝露の後、内部の血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がさらに移動及び回転し得るように放射線硬化性被膜組成物が依然として湿潤又は柔軟な間に、本明細書に記載の装置を用いて、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子をさらに再配向させる。
[0083]２軸配向を実行することは、２つの主軸が拘束されるように血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を配向させることを意味する。すなわち、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子はそれぞれ、顔料粒子の面内に長軸を有し、顔料粒子の面内に直交する短軸を有するものと考えられる。血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の長軸及び短軸はそれぞれ、動的な磁界に従って配向される。実用上は、これにより、空間中で互いに近く隣接する血小板状磁性顔料粒子が本質的に相互平行となる。２軸配向を実行するため、血小板状磁性顔料粒子は、時間に強く依存する外部磁界を受ける必要がある。言い換えれば、２軸配向によって、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の平面が（全方向に）隣接する顔料粒子の平面に対して本質的に平行となるように配向するように、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の平面が整列される。一実施形態において、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の平面の上記長軸及び当該長軸に垂直な短軸はいずれも、（全方向に）隣接する顔料粒子の長軸及び短軸が互いに整列するように、動的な磁界によって配向される。
[0084]一実施形態によれば、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の２軸配向を実行するステップによって、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の２つの主軸が基材表面に対して実質的に平行となる磁気配向が得られる。このような整列の場合、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は、基材上の放射線硬化性被膜組成物内で平坦化しており、基材表面と平行なそれぞれのＸ軸及びＹ軸（国際公開第２０１５／０８６２５７ Ａ１号の図１に示す）の両方で配向している。
[0085]別の実施形態によれば、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の２軸配向を実行するステップによって、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子が基材表面と実質的に平行なＸＹ平面内の第１の軸と、基材表面に対して実質的に非ゼロの仰角で上記第１の軸と実質的に垂直な第２の軸とを有する磁気配向が得られる。
[0086]別の実施形態によれば、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の２軸配向を実行するステップによって、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子のＸＹ平面が仮想回転楕円体表面に対して実質的に平行となる磁気配向が得られる。
[0087]血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる特に好ましい磁界発生装置は、欧州特許出願公開第２ １５７ １４１ Ａ１号に開示されている。欧州特許出願公開第２ １５７ １４１ Ａ１号に開示の磁界発生装置は、Ｘ軸及びＹ軸という両主軸が基材表面に対して実質的に平行になるまで血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を急激に振動させる方向を変化させる動的な磁界を与える。すなわち、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は、基材表面に実質的に平行なＸ軸及びＹ軸との安定したシート状構成になり、上記２つの次元で平坦化するまで回転する。
[0088]血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる特に好ましい他の磁界発生装置は、直線状の永久磁石ハルバッハ配列、すなわち磁化方向が異なる複数の磁石を備えたアセンブリを含む。ハルバッハ永久磁石の詳細な説明は、Ｚ．Ｑ．Ｚｈｕ及びＤ．Ｈｏｗｅ（Ｈａｌｂａｃｈ ｐｅｒｍａｎｅｎｔ ｍａｇｎｅｔ ｍａｃｈｉｎｅｓ ａｎｄ ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ：ａ ｒｅｖｉｅｗ，ＩＥＥ．Ｐｒｏｃ．Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｐｏｗｅｒ Ａｐｐｌ．，２００１，１４８，ｐ．２９９−３０８）によって与えられている。このようなハルバッハ配列により生成される磁界は、一方側に集中し、他方側ではほぼゼロまで弱まる特性を有する。同時係属の欧州特許出願第１４１９５１５９．０号は、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる適当な装置であって、ハルバッハ円筒アセンブリを備えた、装置を開示している。血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる特に好ましい他の磁界発生装置は、回転磁石であり、それぞれの直径に沿って本質的に磁化されるディスク状の回転磁石又は磁石アセンブリを含む。適当な回転磁石又は磁石アセンブリは、米国特許出願公開第２００７／０１７２２６１ Ａ１号に記載されており、半径方向に対称的な時間可変磁界を発生させることによって、未固化被膜組成物の血小板状磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の２軸配向が可能になる。これらの磁石又は磁石アセンブリは、外部のモータに接続されたシャフト（又は、スピンドル）によって駆動される。中国特許第１０２５２９３２６ Ｂ号は、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させるのに適し得る回転磁石を備えた磁界発生装置の例を開示している。好適な一実施形態において、血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる適当な磁界発生装置は、非磁性材料、好ましくは非導電性材料で構成されたハウジング中に拘束されたシャフトの無いディスク状回転磁石又は磁石アセンブリであり、ハウジングに巻回された１つ又は複数の磁石ワイヤコイルによって駆動される。このようにシャフトの無いディスク状回転磁石又は磁石アセンブリの例は、国際公開第２０１５／０８２３４４ Ａ１号及び同時係属の欧州特許出願第１４１８１９３９．１号に開示されている。
[0089]本明細書に記載の基材は、紙又はセルロース、紙含有材料、ガラス、金属、セラミック、プラスチック、及びポリマー等のその他繊維材料、金属化プラスチック若しくはポリマー、複合材、並びにこれらの混合物又は組み合わせから成る群から選択するのが好ましい。代表的な紙、紙状、又はその他の繊維材料は、アバカ、綿、麻、木材パルプ、及びこれらの混合等、様々な繊維で構成されるが、これらに限定されない。当業者には周知の通り、紙幣には綿及び綿／麻混合が好ましく、紙幣以外のセキュリティ文書には、木材パルプが一般的に用いられている。プラスチック及びポリマーの代表例としては、ポリエチレン（ＰＥ）及びポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン、ポリアミド、ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）、ポリ（１，４−ブチレンテレフタレート）（ＰＢＴ）、ポリ（エチレン ２，６−ナフトエート）（ＰＥＮ）等のポリエステル、並びにポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）等が挙げられる。基材としては、例えばタイベック（Ｔｙｖｅｋ）（登録商標）という商標で販売されているスパンボンドオレフィン繊維も使用可能である。金属化プラスチック又はポリマーの代表例としては、表面に連続的又は不連続的に配設された金属を有する上述のプラスチック又はポリマー材料が挙げられる。金属の代表例としては、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａｇ）、これらの組み合わせ、又はこれら金属の２つ以上の合金が挙げられるが、これらに限定されない。上述のプラスチック又はポリマー材料の金属化は、電着プロセス、高真空被覆プロセス、又はスパッタリングプロセスによって行われるようになっていてもよい。複合材の代表例としては、紙及び上記のような少なくとも１つのプラスチック若しくはポリマー材料の多層構造又は積層並びに上記のような紙状又は繊維材料に組み込まれたプラスチック及び／若しくはポリマー繊維等が挙げられるが、これらに限定されない。当然のことながら、基材には、サイジング剤、漂白剤、加工助剤、補強又は湿潤増強剤等、当業者に既知の別の添加剤を含むことも可能である。本明細書に記載の基材は、ウェブ（例えば、上述の材料の連続シート）の形態又はシートの形態で提供されるようになっていてもよい。本発明に従って生成されたＯＥＬがセキュリティ文書上にある場合は、当該セキュリティ文書の偽造及び違法複製に対する安全レベル及び耐性をさらに高くすることを目的として、上記基材は、印刷、被覆、レーザマーキング、又はレーザ穿孔証印、透かし、セキュリティスレッド、繊維、プランシェット、発光化合物、窓、箔、デカール、及びこれらの２つ以上の組み合わせを備えていてもよい。セキュリティ文書の偽造及び違法複製に対する安全レベル及び耐性をさらに高くするという同じ目的で、上記基材は、１つ又は複数のマーカ物質若しくは追跡用添加物並びに／又は機械可読物質（例えば、発光物質、ＵＶ／可視／ＩＲ吸収物質、磁性物質、及びこれらの組み合わせ）を含んでいてもよい。
[0090]また、本明細書には、本明細書に記載のような硬化した放射線硬化性被膜組成物において配向した非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む本明細書に記載のようなＯＥＬを本明細書に記載の基材上に生成する装置を記載している。
[0091]本明細書に記載のような基材上にＯＥＬを生成する本明細書に記載の装置は、
ａ）支持マトリクス（ｘ３４）を備える磁気アセンブリ（ｘ３０）であり、
ａ１）単一のループ状磁石、又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組み合わせのいずれかであり、半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）と、
ａ２）基材（ｘ２０）表面に対して実質的に垂直な磁気軸を有する単一の双極子磁石（ｘ３２）、若しくは基材（ｘ２０）表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する単一の双極子磁石（ｘ３２）、又は基材（ｘ２０）表面に対して実質的に垂直な磁気軸をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）であり、
ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石又は２つ以上の双極子磁石のＮ極がループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向いている場合に、単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基材（ｘ２０）に面している、或いは
ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石又は２つ以上の双極子磁石のＳ極がループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向いている場合に、単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基材（ｘ２０）に面している、
単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）と、
ａ３）任意選択として、１つ又は複数のループ状磁極片（ｘ３３）と、
を備えた、磁気アセンブリ（ｘ３０）と、
ｂ）基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する単一の棒状双極子磁石、又は基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸及び同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組み合わせのいずれかである磁界発生装置（ｘ４０）と、
任意選択として、ｃ）１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）であり、磁気アセンブリ（ｘ３０）が上に配置された、１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）と、
を備える。
[0092]磁気アセンブリ（ｘ３０）及び磁界発生装置（ｘ４０）は、一方が他方の上に配置されていてもよい。
[0093]本発明の一実施形態によれば、本明細書に記載の装置は、ａ）本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ３０）、ｂ）本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ４０）、及びｃ）１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）をさらに備え、磁界発生装置（ｘ４０）が磁気アセンブリ（ｘ３０）の上に配置され、磁気アセンブリ（ｘ３０）が１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）の上に配置されている。
[0094]磁気アセンブリ（ｘ３０）の支持マトリクス（ｘ３４）は、１つ又は複数の非磁性材料で構成されている。非磁性材料は、例えば産業用プラスチック及びポリマー、アルミニウム、アルミニウム合金、チタン、チタン合金、及びオーステナイト鋼（すなわち、非磁性鋼）等、低導電性材料、非導電性材料、及びこれらの混合物から成る群から選択されるのが好ましい。産業用プラスチック及びポリマーとしては、ポリアリールエーテルケトン（ＰＡＥＫ）とその誘導体であるポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトンケトン（ＰＥＫＫ）、ポリエーテルエーテルケトンケトン（ＰＥＥＫＫ）、及びポリエーテルケトンエーテルケトンケトン（ＰＥＫＥＫＫ）、ポリアセタール、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、コポリエーテルエステル、ポリイミド、ポリエーテルイミド、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリプロピレン、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）コポリマー、フッ素化及び過フッ素化ポリエチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、並びに液晶ポリマーが挙げられるが、これらに限定されない。好ましい材料は、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ナイロン（Ｎｙｌｏｎ）（登録商標）（ポリアミド）、及びＰＰＳである。
[0095]本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ３０）は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を備えるが、これは、
ｉ）単一のループ状磁石で構成されていてもよいし、
ｉｉ）ループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組み合わせであってもよい。
[0096]一実施形態によれば、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）は、基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸及び半径方向を有する単一のループ状磁石、すなわち、上方（すなわち、基材（ｘ２０）側）から見た場合に磁気軸がループ状磁石のループの中央領域から周辺に向いた単一のループ状磁石、言い換えると、Ｎ極又はＳ極が半径方向に、ループ状双極子磁石のループの中央領域側を向いた単一のループ状磁石である。
[0097]一実施形態によれば、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）は、ループ状構成に配設され、基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石の組み合わせである。本明細書に記載の組み合わせの２つ以上の双極子磁石はすべて、Ｎ極又はＳ極がループ状構成の中央領域側を向いているため、半径方向の磁化を有する。ループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組み合わせの代表例としては、円形のループ状構成に配設された２つの双極子磁石の組み合わせ、三角形のループ状構成に配設された３つの双極子磁石の組み合わせ、又は正方形若しくは長方形のループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせが挙げられるが、これらに限定されない。
[0098]ループ状磁界発生装置（ｘ３１）は、支持マトリクス（ｘ３４）内で対称的に配設されていてもよいし、支持マトリクス（ｘ３４）内で非対称的に配設されていてもよい。
[0099]ループ状磁石及びループ状構成に配設されるとともに磁気アセンブリ（ｘ３０）に備えられた２つ以上の双極子磁石（ｘ３１）は、高保磁力材料（強磁性材料とも称する）で独立して構成されているのが好ましい。適当な高保磁力材料は、エネルギー積の最大値（ＢＨ）ｍａｘが少なくとも２０ｋＪ／ｍ３、好ましくは少なくとも５０ｋＪ／ｍ３、より好ましくは少なくとも１００ｋＪ／ｍ３、さらに好ましくは少なくとも２００ｋＪ／ｍ３の材料である。これらは、例えばアルニコ５（Ｒ１−１−１）、アルニコ５ＤＧ（Ｒ１−１−２）、アルニコ５−７（Ｒ１−１−３）、アルニコ６（Ｒ１−１−４）、アルニコ８（Ｒ１−１−５）、アルニコ８ＨＣ（Ｒ１−１−７）、及びアルニコ９（Ｒ１−１−６）等のアルニコ、式ＭＦｅ１２Ｏ１９のヘキサフェライト（例えば、ストロンチウムヘキサフェライト（ＳｒＯ＊６Ｆｅ２Ｏ３）又はバリウムヘキサフェライト（ＢａＯ＊６Ｆｅ２Ｏ３）、式ＭＦｅ２Ｏ４のハードフェライト（例えば、コバルトフェライト（ＣｏＦｅ２Ｏ４）又は磁鉄鉱（Ｆｅ３Ｏ４））（ただし、Ｍは二価金属イオン）、セラミック８（ＳＩ−１−５）から成る群から選択される１つ又は複数の焼結又はポリマー接合磁性材料、ＲＥＣｏ５（ＲＥ＝Ｓｍ又はＰｒ）、ＲＥ２ＴＭ１７（ＲＥ＝Ｓｍ、ＴＭ＝Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｈｆ）、ＲＥ２ＴＭ１４Ｂ（ＲＥ＝Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、ＴＭ＝Ｆｅ、Ｃｏ）から成る群から選択される希土類磁性材料、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃｏの異方性合金、ＰｔＣｏ、ＭｎＡｌＣ、ＲＥコバルト５／１６、ＲＥコバルト１４から成る群から選択される材料で構成されているのが好ましい。磁気棒の高保磁力材料は、好ましくは希土類磁性材料から成る群、より好ましくはＮｄ２Ｆｅ１４Ｂ及びＳｍＣｏ５から成る群から選択されるのが好ましい。特に好ましいのは、ストロンチウムヘキサフェライト（ＳｒＦｅ１２Ｏ１９）又はネオジム／鉄／ホウ素（Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ）粉末等の永久磁石充填剤をプラスチック系又はゴム系マトリクスに含む加工が容易な永久磁石複合材である。
[00100]一実施形態によれば、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ３０）は、本明細書に記載のようなループ状磁界発生装置（ｘ３１）及び本明細書に記載のような単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備える。単一の双極子磁石又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）は、ループ状双極子磁石（ｘ３１）内又はループ状構成に配設された双極子磁石の組み合わせ内に配設されている。単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）は、（図１、図３、図５〜図１４に示すように）ループ状磁界発生装置（ｘ３１）のループ内で対称的に配設されていてもよいし、（図２及び図４に示すように）ループ状双極子磁石（ｘ３１）のループ内で非対称的に配設されていてもよい。
[00101]別の実施形態によれば、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ３０）は、本明細書に記載のようなループ状磁界発生装置（ｘ３１）、本明細書に記載のような単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）、及び１つ又は複数のループ状磁極片（ｘ３３）を備える。単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）及び１つ又は複数のループ状磁極片（ｘ３３）は、ループ状双極子磁石（ｘ３１）内又はループ状構成に配設された双極子磁石の組み合わせ内に独立して配設されている。単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）及び１つ又は複数のループ状磁極片（ｘ３３）は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）のループ内で対称的又は非対称的に独立して配設されていてもよい。
[00102]磁極片は、軟磁性材料で構成された構造を示す。軟磁性材料は、低い保磁力及び高い飽和度を有する。適当な低保磁力・高飽和度材料は、１０００Ａ・ｍ−１未満の保磁力を有することにより、高速磁化及び減磁を可能にするが、その飽和度は、好ましくは少なくとも０．１テスラ、より好ましくは少なくとも１．０テスラ、さらに好ましくは少なくとも２テスラである。本明細書に記載の低保磁力・高飽和度材料としては、（焼き鈍し鉄及びカルボニル鉄に由来する）軟磁性鉄、ニッケル、コバルト、マンガン亜鉛フェライト又はニッケル亜鉛フェライトのようなソフトフェライト、（パーマロイ型材料のような）ニッケル・鉄合金、コバルト・鉄合金、シリコン鉄、及びメトグラス（Ｍｅｔｇｌａｓ）（登録商標）（鉄・ホウ素合金）のようなアモルファス金属合金、好ましくは純鉄及びシリコン鉄（電気鋼）のほか、コバルト・鉄及びニッケル・鉄合金（パーマロイ型材料）、より好ましくは鉄が挙げられるが、これらに限定されない。磁極片は、磁石により生成された磁界を方向付ける働きをする。
[00103]一実施形態によれば、本明細書に記載の装置は、単一の双極子磁石（ｘ３２）を備え、当該単一の双極子磁石は、基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸を有するとともに、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石又は２つ以上の双極子磁石のＮ極がループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向いている場合に、Ｎ極が基材（ｘ２０）に面しているか、或いは、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石又は２つ以上の双極子磁石のＳ極がループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向いている場合に、Ｓ極が基材（ｘ２０）に面している。
[00104]別の実施形態によれば、本明細書に記載の装置は、単一の双極子磁石（ｘ３２）を備え、当該単一の双極子磁石は、基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する。
[00105]別の実施形態によれば、本明細書に記載の装置は、２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備え、当該２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）は、基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸を有するとともに、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石又は２つ以上の双極子磁石のＮ極がループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向いている場合に、２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基材（ｘ２０）に面しているか、或いは、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石又は２つ以上の双極子磁石のＳ極がループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向いている場合に、２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基材（ｘ２０）に面している。
[00106]単一の双極子磁石（ｘ３２）及び２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）のループ状磁石及び２つ以上の双極子磁石に関して本明細書中に上述したような強磁性材料で独立して構成されているのが好ましい。
[00107]支持マトリクス（ｘ３４）は、本明細書に記載のループ状磁界発生装置（ｘ３１）、本明細書に記載のような単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）、及び１つ又は複数の磁極片（ｘ３３）（存在する場合）を受容する１つ又は複数の窪み又は溝を備える。
[00108]本明細書に記載のような基材上にＯＥＬを生成する本明細書に記載の装置は、本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ４０）を備えるが、当該磁界発生装置（ｘ４０）は、
ｉ）基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する単一の棒状双極子磁石で構成されていてもよいし、
ｉｉ）基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸及び同じ磁界方向をそれぞれ有する（すなわち、すべてのＮ極が同じ方向を向いている）２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組み合わせであってもよい。
[00109]別の実施形態によれば、磁界発生装置（ｘ４０）は、基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸及び同じ磁界方向をそれぞれ有する（すなわち、すべてのＮ極が同じ方向を向いている）２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組み合わせである。２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）は、（図１３に示すように）対称構成で配置されていてもよいし、（図１４に示すように）非対称構成で配置されていてもよい。
[00110]磁界発生装置（ｘ４０）の棒状双極子磁石は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）のループ状磁石及び２つ以上の双極子磁石の材料並びに単一の双極子磁石（ｘ３２）及び２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）の材料に関して本明細書中に上述したような強磁性材料で構成されているのが好ましい。
[00111]磁界発生装置（ｘ４０）が２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組み合わせである場合、当該２つ以上の棒状双極子（ｘ４１）は、非磁性材料で構成された１つ又は複数のスペーサ片により分離されていてもよいし、非磁性材料で構成された支持マトリクス（ｘ４２）中に含まれていてもよい。非磁性材料は、例えば産業用プラスチック及びポリマー、アルミニウム、アルミニウム合金、チタン、チタン合金、及びオーステナイト鋼（すなわち、非磁性鋼）等、低導電性材料、非導電性材料、及びこれらの混合物から成る群から選択されるのが好ましい。産業用プラスチック及びポリマーとしては、ポリアリールエーテルケトン（ＰＡＥＫ）とその誘導体であるポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトンケトン（ＰＥＫＫ）、ポリエーテルエーテルケトンケトン（ＰＥＥＫＫ）、及びポリエーテルケトンエーテルケトンケトン（ＰＥＫＥＫＫ）、ポリアセタール、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、コポリエーテルエステル、ポリイミド、ポリエーテルイミド、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリプロピレン、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）コポリマー、フッ素化及び過フッ素化ポリエチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、並びに液晶ポリマーが挙げられるが、これらに限定されない。好ましい材料は、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ナイロン（Ｎｙｌｏｎ）（登録商標）（ポリアミド）、及びＰＰＳである。
[00112]磁気アセンブリ（ｘ３０）は、磁界発生装置（ｘ４０）と、本明細書に記載の装置により配向される本明細書に記載の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性被膜組成物（ｘ１０）を有する基材（ｘ２０）との間に位置付けられていてもよし、或いは、磁界発生装置（ｘ４０）が磁気アセンブリ（ｘ３０）と基材（ｘ２０）との間に位置付けられていてもよい。
[00113]本明細書に記載のような基材上にＯＥＬを生成する本明細書に記載の装置は、１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）をさらに備えていてもよく、磁界発生装置（ｘ４０）が磁気アセンブリ（ｘ３０）の上に配置され、磁気アセンブリ（ｘ３０）が１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）の上に配置されている（例えば、図９Ａ、図１０Ａ、及び図１１Ａ参照）。１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）は、ループ状磁極片であってもよいし、中実状磁極片（すなわち、中央領域に材料の欠けがない磁極片）であってもよく、好ましくは中実状磁極片、より好ましくはディスク状磁極片である。
[00114]磁気アセンブリ（ｘ３０）と磁界発生装置（ｘ４０）との間の距離（ｄ）は、およそ０〜およそ１０ｍｍ、好ましくはおよそ０〜およそ３ｍｍの範囲に含まれていてもよい。
[00115]磁気アセンブリ（ｘ３０）の上面又は磁界発生装置（ｘ４０）の上面（すなわち、基材（ｘ２０）の表面に最も近い部分）と当該磁気アセンブリ（ｘ３０）又は当該磁界発生装置（ｘ４０）に面する基材（ｘ２０）の表面との間の距離（ｈ）は、好ましくはおよそ０．１〜およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２〜およそ５ｍｍである。
[00116]磁気アセンブリ（ｘ３０）の下面と１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）の上面との間の距離（ｅ）は、およそ０〜およそ５ｍｍ、好ましくはおよそ０〜およそ１ｍｍの範囲に含まれていてもよい。
[00117]ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の材料、双極子磁石（ｘ３２）の材料、１つ若しくは複数のループ状磁極片（ｘ３３）の材料、磁界発生装置（ｘ４０）の材料、２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の材料、１つ若しくは複数の磁極片（ｘ５０）の材料、並びに距離（ｄ）、（ｅ）、及び（ｈ）は、磁気アセンブリ（ｘ３０）により生成された磁界と磁界発生装置（ｘ４０）及び１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）により生成された磁界の相互作用の結果としての磁界すなわち本明細書に記載の装置の結果的な磁界が本明細書に記載の光学効果層を生成するのに適するように選択されている。磁気アセンブリ（ｘ３０）により生成された磁界及び磁界発生装置（ｘ４０）及び１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）により生成された磁界は、装置の結果としての磁界中に配設され、光学効果層を傾斜させることによりサイズが変化する１つ又は複数のループ状体に見える光学効果層の光学的印象をもたらす未硬化の放射線硬化性被膜組成物の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を装置の磁界が基材上で配向させ得るように相互作用するようになっていてもよい。
[00118]本明細書に記載のＯＥＬを生成する装置は、例えば国際公開第２００５／００２８６６ Ａ１号及び国際公開第２００８／０４６７０２ Ａ１号に開示されているような１つ又は複数の強磁性材料で構成された彫刻板をさらに備えていてもよい。或いは、この彫刻板は、例えば国際公開第２００８／１３９３７３ Ａ１号に記載されているような１つ又は複数の軟磁性材料で構成されていてもよい。彫刻板が存在する場合は、彫刻板は磁気アセンブリ（ｘ３０）又は磁界発生装置（ｘ４０）と基材（ｘ２０）の表面との間に位置付けられる。彫刻は、例えば本明細書に記載の装置により生成された磁界を局所的に修正することによって、その非硬化状態にてＯＥＬに転写されるデザイン、パターン、テキスト、コード、ロゴ、又は証印を有する。
[00119]図１〜図４は、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を基材（ｘ２０）上に生成するのに適した装置の例を示している。図１〜図４の装置は、ａ）支持マトリクス（ｘ３４）、リング状磁石（ｘ３１）であるループ状磁界発生装置、及び単一の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁気アセンブリ（ｘ３０）と、ｂ）磁気軸が基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な単一の棒状双極子磁石（ｘ４０）である磁界発生装置とを備え、磁気アセンブリ（ｘ３０）が単一の棒状双極子磁石（ｘ４０）の下方に配設されている。図１〜図４のリング状磁石（ｘ３１）であるループ状磁界発生装置は、基材（ｘ２０）の表面に対して平行な磁気軸及び半径方向の磁化を独立して有する。特に、Ｎ極が半径方向に、リング状磁石（ｘ３１）の周辺側を向いている。
[00120]図１Ａ及び図１Ｂは、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（１１０）を基材（１２０）上に生成するのに適した装置の一例を示している。図１Ａの装置は、磁気アセンブリ（１３０）の上に配設された単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（１４０）を備える。図１Ａに示すように、磁界発生装置（１４０）は、長さ（Ｂ１）、幅（Ｂ２）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。磁界発生装置（１４０）の磁気軸は、基材（１２０）の表面と実質的に平行である。
[00121]図１Ａに示すように、図１Ａの磁気アセンブリ（１３０）は、支持マトリクス（１３４）を備えており、これは、長さ（Ａ１）、幅（Ａ２）、及び厚さ（Ａ３）を有する直方体であってもよい。
[00122]図１Ａの磁気アセンブリ（１３０）は、ａ１）リング状双極子磁石であるループ状磁界発生装置（１３１）及びａ２）単一の双極子磁石（１３２）を備える。図１Ａ及び図１Ｂ１に示すように、単一の双極子磁石（１３２）は、リング状磁界発生装置（１３１）のループ内で対称的に配設されていてもよい。
[00123]リング状双極子磁石（１３１）であるループ状磁界発生装置は、外径（Ａ４）、内径（Ａ５）、及び厚さ（Ａ６）を有する。ループ状磁界発生装置（１３１）の磁気軸は、基材（１２０）の表面と実質的に平行である。ループ状磁界発生装置（１３１）は、半径方向の磁化を有する。特に、Ｓ極が半径方向に、ループ状磁界発生装置（１３１）のループの中央領域側を向いており、Ｎ極が、支持マトリクス（１３４）の外部側を向いている。
[00124]単一の双極子磁石（１３２）は、直径（Ａ９）及び厚さ（Ａ１０）を有し、磁気軸が磁界発生装置（１４０）の磁気軸と実質的に垂直である。すなわち、Ｎ極が基材（１２０）に面した状態で、基材（１２０）の表面と実質的に垂直である。
[00125]磁気アセンブリ（１３０）及び棒状双極子磁石である磁界発生装置（１４０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁気アセンブリ（１３０）の上面と磁界発生装置（１４０）の下面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍである（図１Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（１４０）の上面と当該磁界発生装置（１４０）に面する基材（１２０）の表面との距離は、距離（ｈ）で示している。距離（ｈ）は、好ましくはおよそ０．１〜およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２〜およそ５ｍｍである。
[00126]図１Ｃには、基材（１２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図１Ａ及び図１Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該光学効果層（１１０）を含む基材（１２０）を傾斜させることによりサイズが変化するリング状体に見える光学的印象をもたらす。
[00127]図２Ａ及び図２Ｂは、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（２１０）を基材（２２０）上に生成するのに適した装置の一例を示している。図２Ａの装置は、磁気アセンブリ（２３０）の上に配設された単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（２４０）を備える。図２Ａに示すように、磁界発生装置（２４０）は、長さ（Ｂ１）、幅（Ｂ２）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。磁界発生装置（２４０）の磁気軸は、基材（２２０）の表面と実質的に平行である。
[00128]図２Ａに示すように、磁気アセンブリ（２３０）は、支持マトリクス（２３４）を備えており、これは、長さ（Ａ１）、幅（Ａ２）、及び厚さ（Ａ３）を有する直方体であってもよい。
[00129]図２Ａ及び図２Ｂに示すように、図２Ａの磁気アセンブリ（２３０）は、ａ１）リング状双極子磁石（２３１）であるループ状磁界発生装置及びａ２）単一の双極子磁石（２３２）を備える。図２Ａに示すように、単一の双極子磁石（２３２）は、リング状磁界発生装置（２３１）のループ内で非対称的に配設されていてもよい。
[00130]リング状磁石（２３１）であるループ状磁界発生装置は、外径（Ａ４）、内径（Ａ５）、及び厚さ（Ａ６）を有する。ループ状磁界発生装置（２３１）の磁気軸は、基材（２２０）の表面と実質的に平行である。ループ状磁界発生装置（２３１）は、半径方向の磁化を有する。特に、Ｓ極が半径方向に、ループ状磁界発生装置（２３１）のループの中央領域側を向いており、Ｎ極が、支持マトリクス（２３４）の外部側を向いている。
[00131]単一の双極子磁石（２３２）は、直径（Ａ９）及び厚さ（Ａ１０）を有し、磁気軸が磁界発生装置（２４０）の磁気軸と実質的に垂直である。すなわち、Ｎ極が基材（２２０）に面した状態で、基材（２２０）の表面と実質的に垂直である。
[00132]磁気アセンブリ（２３０）及び磁界発生装置（２４０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁気アセンブリ（２３０）の上面と磁界発生装置（２４０）の下面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍである（図２Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（２４０）の上面と当該磁界発生装置（２４０）に面する基材（２２０）の表面との距離は、距離ｈで示している。距離ｈは、好ましくはおよそ０．１〜およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２〜およそ５ｍｍである。
[00133]図２Ｃには、基材（２２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図２Ａ及び図２Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該光学効果層（２１０）を含む基材（２２０）を傾斜させることによりサイズが変化するリング状体に見える光学的印象をもたらす。
[00134]図３Ａ及び図３Ｂは、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（３１０）を基材（３２０）上に生成するのに適した装置の一例を示している。図３Ａの装置は、磁気アセンブリ（３３０）の上に配設された単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（３４０）を備える。図３Ａに示すように、磁界発生装置（３４０）は、長さ（Ｂ１）、幅（Ｂ２）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。磁界発生装置（３４０）の磁気軸は、基材（３２０）の表面と実質的に平行である。
[00135]図３Ａに示すように、図３Ａの磁気アセンブリ（３３０）は、支持マトリクス（３３４）を備えており、これは、長さ（Ａ１）、幅（Ａ２）、及び厚さ（Ａ３）を有する直方体であってもよい。
[00136]図３Ａの磁気アセンブリ（３３０）は、ａ１）リング状磁石であるループ状磁界発生装置（３３１）及びａ２）単一の双極子磁石（３３２）を備える。図３Ａ及び図３Ｂ１に示すように、単一の双極子磁石（３３２）は、ループ状磁界発生装置（３３１）のループ内で対称的に配設されていてもよい。
[00137]リング状双極子磁石（３３１）であるループ状磁界発生装置は、外径（Ａ４）、内径（Ａ５）、及び厚さ（Ａ６）を有する。ループ状磁界発生装置（３３１）の磁気軸は、基材（３２０）の表面と実質的に平行である。ループ状磁界発生装置（３３１）は、半径方向の磁化を有する。特に、Ｓ極が半径方向に、ループ状磁界発生装置（３３１）のループの中央領域側を向いており、Ｎ極が、支持マトリクス（３３４）の外部側を向いている。
[00138]単一の双極子磁石（３３２）は、長さ（Ａ１３）、幅（Ａ１４）、及び厚さ（Ａ１０）を有し、磁気軸が磁界発生装置（３４０）の磁気軸と実質的に平行である。すなわち、基材（３２０）の表面と実質的に平行である。
[00139]磁気アセンブリ（３３０）及び単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（３４０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁気アセンブリ（３３０）の上面と磁界発生装置（３４０）の下面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍである（図３Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（３４０）の上面と当該磁界発生装置（３４０）に面する基材（３２０）の表面との距離は、距離（ｈ）で示している。距離（ｈ）は、好ましくはおよそ０．１〜およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２〜およそ５ｍｍである。
[00140]図３Ｃには、基材（３２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図３Ａ及び図３Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該光学効果層（３１０）を含む基材（３２０）を傾斜させることによりサイズが変化するリング状体に見える光学的印象をもたらす。
[00141]図４Ａ及び図４Ｂは、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（４１０）を基材（４２０）上に生成するのに適した装置の一例を示している。図４Ａの装置は、磁気アセンブリ（４３０）の上に配設された単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（４４０）を備える。図４Ａに示すように、磁界発生装置（４４０）は、長さ（Ｂ１）、幅（Ｂ２）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。磁界発生装置（４４０）の磁気軸は、基材（４２０）の表面と実質的に平行である。
[00142]図４Ａに示すように、図４Ａの磁気アセンブリ（４３０）は、支持マトリクス（４３４）を備えており、これは、長さ（Ａ１）、幅（Ａ２）、及び厚さ（Ａ３）を有する直方体であってもよい。
[00143]図４Ａの磁気アセンブリ（４３０）は、ａ１）リング状双極子磁石であるループ状磁界発生装置（４３１）及びａ２）単一の双極子磁石（４３２）を備える。図４Ａ及び図４Ｂ１に示すように、単一の双極子磁石（４３２）は、リング状磁界発生装置（４３１）のループ内で非対称的に配設されていてもよい。
[00144]リング状双極子磁石（４３１）であるループ状磁界発生装置は、外径（Ａ４）、内径（Ａ５）、及び厚さ（Ａ６）を有する。ループ状磁界発生装置（４３１）の磁気軸は、基材（４２０）の表面と実質的に平行である。ループ状磁界発生装置（４３１）は、半径方向の磁化を有する。特に、Ｓ極が半径方向に、ループ状磁界発生装置（４３１）のループの中央領域側を向いており、Ｎ極が、支持マトリクス（４３４）の外部側を向いている。
[00145]単一の双極子磁石（４３２）は、長さ（Ａ１３）、幅（Ａ１４）、及び厚さ（Ａ１０）を有し、磁気軸が磁界発生装置（４４０）の磁気軸と実質的に平行である。すなわち、基材（４２０）の表面と実質的に平行である。
[00146]磁気アセンブリ（４３０）及び単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（４４０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁気アセンブリ（４３０）の上面と磁界発生装置（４４０）の下面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍである（図４Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（４４０）の上面と当該磁界発生装置（４４０）に面する基材（４２０）の表面との距離は、距離（ｈ）で示している。距離（ｈ）は、好ましくはおよそ０．１〜およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２〜およそ５ｍｍである。
[00147]図４Ｃには、基材（４２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図４Ａ及び図４Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該光学効果層（４１０）を含む基材（４２０）を傾斜させることによりサイズが変化するリング状体に見える光学的印象をもたらす。
[00148]図５〜図７は、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を基材（ｘ２０）上に生成するのに適した装置の例を示している。図５〜図７の装置は、ａ）支持マトリクス（ｘ３４）、正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせであるループ状磁界発生装置（ｘ３１）、及び単一の棒状双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁気アセンブリ（ｘ３０）と、ｂ）磁気軸が基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な単一の棒状双極子磁石（ｘ４０）である磁界発生装置とを備え、磁気アセンブリ（ｘ３０）が単一の棒状双極子磁石（ｘ４０）の下方に配設されている。図５〜図７のループ状磁界発生装置（ｘ３１）は、正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせ（ｘ３１）で独立して構成されており、これら４つの双極子磁石はそれぞれ、基材（ｘ２０）に平行な磁気軸を有する。４つの双極子磁石はすべて、Ｎ極又はＳ極がループ状磁界発生装置（ｘ３１）の中央領域又は外部側を向いているため、半径方向の磁化を有する。
[00149]図５Ａ及び図５Ｂは、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（５１０）を基材（５２０）上に生成するのに適した装置の一例を示している。図５Ａの装置は、磁気アセンブリ（５３０）の上に配設された単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（５４０）を備える。図５Ａに示すように、磁界発生装置（５４０）は、長さ（Ｂ１）、幅（Ｂ２）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。磁界発生装置（５４０）の磁気軸は、基材（５２０）の表面と実質的に平行である。
[00150]図５Ａに示すように、図５Ａの磁気アセンブリ（５３０）は、支持マトリクス（５３４）を備えており、これは、長さ（Ａ１）、幅（Ａ２）、及び厚さ（Ａ３）を有する直方体であってもよい。
[00151]図５Ａの磁気アセンブリ（５３０）は、ａ１）正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせであるループ状磁界発生装置（５３１）及びａ２）単一の双極子磁石（５３２）を備える。図５Ａ及び図５Ｂ１に示すように、単一の双極子磁石（５３２）は、ループ状磁界発生装置（５３１）のループ内で対称的に配設されていてもよい。
[00152]図５Ａに示すように、正方形ループ状磁気装置であるループ状磁界発生装置（５３１）を構成する４つの双極子磁石はそれぞれ、長さ（Ａ７）、幅（Ａ８）、及び厚さ（Ａ６）を有する直方体であってもよい。これら４つの双極子磁石はそれぞれ、基材（５２０）の表面と実質的に平行な磁気軸を有するとともに、Ｎ極が半径方向に、正方形ループ状構成（５３１）のループの中央領域側を向いており、Ｓ極が、支持マトリクス（５３４）の外部側を向いている。
[00153]単一の双極子磁石（５３２）は、直径（Ａ９）及び厚さ（Ａ１０）を有し、磁気軸が磁界発生装置（５４０）の磁気軸と実質的に垂直である。すなわち、Ｓ極が基材（５２０）に面した状態で、基材（５２０）の表面と実質的に垂直である。
[00154]磁気アセンブリ（５３０）及び単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（５４０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁気アセンブリ（５３０）の上面と磁界発生装置（５４０）の下面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍである（図５Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（５４０）の上面と当該磁界発生装置（５４０）に面する基材（５２０）の表面との距離は、距離（ｈ）で示している。距離（ｈ）は、好ましくはおよそ０．１〜およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２〜およそ５ｍｍである。
[00155]図５Ｃには、基材（５２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図５Ａ及び図５Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該光学効果層（５１０）を含む基材（５２０）を傾斜させることによりサイズが変化するリング状体に見える光学的印象をもたらす。
[00156]図６Ａ及び図６Ｂは、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（６１０）を基材（６２０）上に生成するのに適した装置の一例を示している。図６Ａの装置は、磁気アセンブリ（６３０）の上に配設された単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（６４０）を備える。図６Ａに示すように、磁界発生装置（６４０）は、長さ（Ｂ１）、幅（Ｂ２）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。磁界発生装置（６４０）の磁気軸は、基材（６２０）の表面と実質的に平行である。
[00157]図６Ａに示すように、図６Ａの磁気アセンブリ（６３０）は、支持マトリクス（６３４）を備えており、これは、長さ（Ａ１）、幅（Ａ２）、及び厚さ（Ａ３）を有する直方体であってもよい。
[00158]図６Ａの磁気アセンブリ（６３０）は、ａ１）正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせであるループ状磁界発生装置（６３１）、ａ２）単一の双極子磁石（６３２）、及びａ３）リング状磁極片（６３３）である１つ又は複数、特に１つのループ状磁極片（６３３）を備える。
[00159]図６Ａ及び図６Ｂ１に示すように、単一の双極子磁石（６３２）は、ループ状磁界発生装置（６３１）のループ内で対称的に配設されていてもよい。
[00160]図６Ａに示すように、正方形ループ状磁気装置であるループ状磁界発生装置（６３１）を構成する４つの双極子磁石はそれぞれ、長さ（Ａ７）、幅（Ａ８）、及び厚さ（Ａ６）を有する直方体であってもよい。これら４つの双極子磁石はそれぞれ、基材（６２０）の表面と実質的に平行な磁気軸を有するとともに、Ｎ極が半径方向に、正方形ループ状構成（６３１）のループの中央領域側を向いており、Ｓ極が、支持マトリクス（６３４）の外部側を向いている。
[00161]単一の双極子磁石（６３２）は、直径（Ａ９）及び厚さ（Ａ１０）を有し、磁気軸が磁界発生装置（６４０）の磁気軸と実質的に垂直である。すなわち、Ｓ極が基材（６２０）に面した状態で、基材（６２０）の表面と実質的に垂直である。
[00162]リング状磁極片である１つ又は複数、特に１つのループ状磁極片（６３３）は、外径（Ａ１９）、内径（Ａ２０）、及び厚さ（Ａ２１）を有する。図６Ａ及び図６Ｂ１に示すように、ループ状磁極片（６３３）は、ループ状磁界発生装置（６３１）のループ内で対称的に配設されていてもよい。図６Ａ及び図６Ｂ１に示すように、単一の双極子磁石（６３２）は、ループ状磁界発生装置（６３１）のループ内及びループ状磁極片（６３３）内で対称的に配設されていてもよい。
[00163]磁気アセンブリ（６３０）及び単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（６４０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁気アセンブリ（６３０）の上面と磁界発生装置（６４０）の下面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍである（図６Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（６４０）の上面と当該磁界発生装置（６４０）に面する基材（６２０）の表面との距離は、距離（ｈ）で示している。距離（ｈ）は、好ましくはおよそ０．１〜およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２〜およそ５ｍｍである。
[00164]図６Ｃには、基材（６２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図６Ａ及び図６Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該光学効果層（６１０）を含む基材（６２０）を傾斜させることによりサイズが変化するリング状体に見える光学的印象をもたらす。
[00165]図７Ａ及び図７Ｂは、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（７１０）を基材（７２０）上に生成するのに適した装置の一例を示している。図７Ａの装置は、磁気アセンブリ（７３０）の上に配設された単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（７４０）を備える。図７Ａに示すように、磁界発生装置（７４０）は、長さ（Ｂ１）、幅（Ｂ２）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。磁界発生装置（７４０）の磁気軸は、基材（７２０）の表面と実質的に平行である。
[00166]図７Ａに示すように、図７Ａの磁気アセンブリ（７３０）は、支持マトリクス（７３４）を備えており、これは、長さ（Ａ１）、幅（Ａ２）、及び厚さ（Ａ３）を有する直方体であってもよい。
[00167]図７Ａの磁気アセンブリ（７３０）は、ａ１）正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせであるループ状磁界発生装置（７３１）、ａ２）磁界発生装置（７４０）の磁気軸に対して実質的に平行すなわち基材（７２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する単一の双極子磁石（７３２）、及びａ３）リング状磁極片（７３３）である１つ又は複数、特に１つのループ状磁極片（７３３）を備える。
[00168]図７Ａ及び図７Ｂ１に示すように、単一の双極子磁石（７３２）は、ループ状磁界発生装置（７３１）のループ内で対称的に配設されていてもよい。
[00169]図７Ａに示すように、正方形ループ状磁気装置であるループ状磁界発生装置（７３１）を構成する４つの双極子磁石はそれぞれ、長さ（Ａ７）、幅（Ａ８）、及び厚さ（Ａ６）を有する直方体であってもよい。これら４つの双極子磁石はそれぞれ、基材（７２０）の表面と実質的に平行な磁気軸を有するとともに、Ｎ極が半径方向に、正方形ループ状構成（７３１）のループの中央領域側を向いており、Ｓ極が、支持マトリクス（７３４）の外部側を向いている。
[00170]単一の双極子磁石（７３２）は、幅（Ａ１３）、長さ（Ａ１４）、及び厚さ（Ａ１０）を有し、磁気軸が磁界発生装置（７４０）の磁気軸と実質的に平行である。すなわち、基材（７２０）の表面と実質的に平行である。
[00171]リング状磁極片（７３３）である１つ又は複数、特に１つのループ状磁極片（７３３）は、外径（Ａ１９）、内径（Ａ２０）、及び厚さ（Ａ２１）を有する。図７Ａ及び図７Ｂ１に示すように、リング状磁極片（７３３）は、ループ状磁界発生装置（７３１）のループ内で対称的に配設されていてもよい。図７Ａ及び図７Ｂ１に示すように、単一の双極子磁石（７３２）は、ループ状磁界発生装置（７３１）のループ内及びリング状磁極片（７３３）内で対称的に配設されていてもよい。
[00172]磁気アセンブリ（７３０）及び単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（７４０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁気アセンブリ（７３０）の上面と磁界発生装置（７４０）の下面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍである（図７Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（７４０）の上面と当該磁界発生装置（７４０）に面する基材（７２０）の表面との距離は、距離（ｈ）で示している。距離（ｈ）は、好ましくはおよそ０．１〜およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２〜およそ５ｍｍである。
[00173]図７Ｃには、基材（７２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図７Ａ及び図７Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該光学効果層（７１０）を含む基材（７２０）を傾斜させることによりサイズが変化する不規則なリング状体に見える光学的印象をもたらす。
[00174]図８〜図１２は、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を基材（ｘ２０）上に生成するのに適した装置の例を示している。図８〜図１２の装置は、ａ）支持マトリクス（ｘ３４）、ａ１）正方形ループ状構成（ｘ３１）に配設された４つの双極子磁石の組み合わせであるループ状磁界発生装置、及び２つ以上、特に３つ、２６個、１８個、又は２０個の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁気アセンブリ（ｘ３０）と、ｂ）磁気軸が基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（ｘ４０）とを備え、図８〜図１１の場合は磁気アセンブリ（ｘ３０）が磁界発生装置（ｘ４０）の下方に配設され、図１２の場合は磁界発生装置（ｘ４０）が磁気アセンブリ（ｘ３０）の下方に配設されている。図８〜図１２のループ状磁界発生装置（ｘ３１）は、正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせ（ｘ３１）で独立して構成されており、これら４つの双極子磁石はそれぞれ、基材（ｘ２０）の表面に平行な磁気軸を有する。これら４つの双極子磁石はすべて、Ｎ極が半径方向に、正方形ループ状構成（ｘ３１）のループの中央領域側を向いており、Ｓ極が、支持マトリクス（ｘ３４）の外部側を向いている。図９〜図１１に示すように、この装置は、ｃ）１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）、特に１つのディスク状磁極片をさらに備えていてもよく、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ３０）が１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）の上に配置されている。
[00175]図８Ａ及び図８Ｂは、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（８１０）を基材（８２０）上に生成するのに適した装置の一例を示している。図８Ａの装置は、磁気アセンブリ（８３０）の上に配設された単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（８４０）を備える。図８Ａに示すように、磁界発生装置（８４０）は、長さ（Ｂ１）、幅（Ｂ２）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。磁界発生装置（８４０）の磁気軸は、基材（８２０）の表面と実質的に平行である。
[00176]図８Ａに示すように、図８Ａの磁気アセンブリ（８３０）は、支持マトリクス（８３４）を備えており、これは、長さ（Ａ１）、幅（Ａ２）、及び厚さ（Ａ３）を有する直方体であってもよい。
[00177]図８Ａの磁気アセンブリ（８３０）は、ａ１）正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせであるループ状磁界発生装置（８３１）及びａ２）２つ以上、特に３つの双極子磁石（８３２）の組み合わせを備える。図８Ａ及び図８Ｂ１に示すように、２つ以上、特に３つの双極子磁石（８３２）の組み合わせは、ループ状磁界発生装置（８３１）のループ内で対称的に配設されていてもよい。
[00178]図８Ａに示すように、正方形ループ状磁気装置であるループ状磁界発生装置（８３１）を構成する４つの双極子磁石はそれぞれ、長さ（Ａ７）、幅（Ａ８）、及び厚さ（Ａ６）を有する直方体であってもよい。これら４つの双極子磁石はそれぞれ、基材（８２０）の表面と実質的に平行な磁気軸を有するとともに、Ｎ極が半径方向に、正方形ループ状構成（８３１）のループの中央領域側を向いており、Ｓ極が、支持マトリクス（８３４）の外部側を向いている。
[00179]組み合わせの２つ以上、特に３つの双極子磁石（８３２）はそれぞれ、長さ（Ａ１３）、幅（Ａ１４）、及び厚さ（Ａ１０）を有し、磁気軸が磁界発生装置（８４０）の磁気軸と実質的に垂直である。すなわち、Ｓ極が基材（８２０）に面した状態で、基材（８２０）の表面と実質的に垂直である。
[00180]磁気アセンブリ（８３０）及び単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（８４０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁気アセンブリ（８３０）の上面と磁界発生装置（８４０）の下面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍである（図８Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（８４０）の上面と当該磁界発生装置（８４０）に面する基材（８２０）の表面との距離は、距離（ｈ）で示している。距離（ｈ）は、好ましくはおよそ０．１〜およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２〜およそ５ｍｍである。
[00181]図８Ｃには、基材（８２０）を−２０°〜＋４０°傾斜させて見られる様々な視角から、図８Ａ及び図８Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該光学効果層（８１０）を含む基材（８２０）を傾斜させることによりサイズが変化する凹型六角形状体に見える光学的印象をもたらす。
[00182]図９Ａ及び図９Ｂは、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（９１０）を基材（９２０）上に生成するのに適した装置の一例を示している。図９Ａの装置は、磁気アセンブリ（９３０）の上に配設された単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（９４０）を備える。図９Ａに示すように、磁界発生装置（９４０）は、長さ（Ｂ１）、幅（Ｂ２）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。磁界発生装置（９４０）の磁気軸は、基材（９２０）の表面と実質的に平行である。
[00183]図９Ａに示すように、図９Ａの磁気アセンブリ（９３０）は、支持マトリクス（９３４）を備えており、これは、長さ（Ａ１）、幅（Ａ２）、及び厚さ（Ａ３）を有する直方体であってもよい。
[00184]図９Ａの磁気アセンブリ（９３０）は、ａ１）正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせであるループ状磁界発生装置（９３１）及びａ２）２つ以上、特に３つの双極子磁石（９３２）の組み合わせを備える。
[00185]図９Ａに示すように、正方形ループ状磁気装置であるループ状磁界発生装置（９３１）を構成する４つの双極子磁石はそれぞれ、長さ（Ａ７）、幅（Ａ８）、及び厚さ（Ａ６）を有する直方体であってもよい。これら４つの双極子磁石はそれぞれ、基材（９２０）の表面と実質的に平行な磁気軸を有するとともに、Ｎ極が半径方向に、正方形ループ状構成（９３１）のループの中央領域側を向いており、Ｓ極が、支持マトリクス（９３４）の外部側を向いている。
[00186]組み合わせの２つ以上、特に３つの双極子磁石（９３２）はそれぞれ、長さ（Ａ１３）、幅（Ａ１４）、及び厚さ（Ａ１０）を有し、磁気軸が磁界発生装置（９４０）の磁気軸と実質的に垂直である。すなわち、Ｓ極が基材（９２０）に面した状態で、基材（９２０）の表面と実質的に垂直である。
[00187]図９Ａの装置は、ｃ）１つ又は複数の磁極片（９５０）、特に直径（Ｃ１）及び厚さ（Ｃ２）を有する１つのディスク状磁極片（９５０）を備えており、磁気アセンブリ（９３０）が１つ又は複数の磁極片（９５０）の上に配置されている。
[00188]磁気アセンブリ（９３０）及び単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（９４０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁気アセンブリ（９３０）の上面と磁界発生装置（９４０）の下面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍである（図９Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（９４０）の上面と当該磁界発生装置（９４０）に面する基材（９２０）の表面との距離は、距離（ｈ）で示している。距離（ｈ）は、好ましくはおよそ０．１〜およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２〜およそ５ｍｍである。
[00189]磁気アセンブリ（９３０）及び１つ又は複数の磁極片（９５０）、特に１つのディスク状磁極片（９５０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁気アセンブリ（９３０）の下面とディスク状磁極片（９５０）の上面との距離（ｅ）は、およそ０ｍｍである（図９Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。
[00190]図９Ｃには、基材（９２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図９Ａ及び図９Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該光学効果層（９１０）を含む基材（９２０）を傾斜させることによりサイズが変化する凹型六角形状体に見える光学的印象をもたらす。
[00191]図１０Ａ及び図１０Ｂは、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（１０１０）を基材（１０２０）上に生成するのに適した装置の一例を示している。図１０Ａの装置は、磁気アセンブリ（１０３０）の上に配設された単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（１０４０）を備える。図１０Ａに示すように、磁界発生装置（１０４０）は、長さ（Ｂ１）、幅（Ｂ２）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。磁界発生装置（１０４０）の磁気軸は、基材（１０２０）の表面と実質的に平行である。
[00192]図１０Ａに示すように、図１０Ａの磁気アセンブリ（１０３０）は、支持マトリクス（１０３４）を備えており、これは、長さ（Ａ１）、幅（Ａ２）、及び厚さ（Ａ３）を有する直方体であってもよい。
[00193]図１０Ａの磁気アセンブリ（１０３０）は、ａ１）正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせであるループ状磁界発生装置（１０３１）及びａ２）２つ以上、特に２０個の双極子磁石（１０３２）の組み合わせを備える。
[00194]図１０Ａに示すように、正方形ループ状磁気装置であるループ状磁界発生装置（１０３１）を構成する４つの双極子磁石はそれぞれ、長さ（Ａ７）、幅（Ａ８）、及び厚さ（Ａ６）を有する直方体であってもよい。これら４つの双極子磁石はそれぞれ、基材（１０２０）の表面と実質的に平行な磁気軸を有するとともに、Ｎ極が半径方向に、正方形ループ状構成（１０３１）のループの中央領域側を向いており、Ｓ極が、支持マトリクス（１０３４）の外部側を向いている。
[00195]組み合わせの２つ以上、特に２０個の双極子磁石（１０３２）はそれぞれ、直径（Ａ９）及び厚さ（Ａ１０の１／２）を有し、磁気軸が磁界発生装置（１０４０）の磁気軸と実質的に垂直である。すなわち、Ｓ極が基材（１０２０）に面した状態で、基材（１０２０）の表面と実質的に垂直である。
[00196]図１０Ａの装置は、ｃ）１つ又は複数の磁極片（１０５０）、特に直径（Ｃ１）及び厚さ（Ｃ２）を有する１つのディスク状磁極片（１０５０）を備えており、磁気アセンブリ（１０３０）が１つの磁極片（１０５０）の上に配置されている。
[00197]磁気アセンブリ（１０３０）及び単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（１０４０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁気アセンブリ（１０３０）の上面と磁界発生装置（１０４０）の下面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍである（図１０Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（１０４０）の上面と当該磁界発生装置（１０４０）に面する基材（１０２０）の表面との距離は、距離（ｈ）で示している。距離（ｈ）は、好ましくはおよそ０．１〜およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２〜およそ５ｍｍである。
[00198]磁気アセンブリ（１０３０）及び１つ又は複数の磁極片（１０５０）、特に１つのディスク状磁極片（１０５０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁気アセンブリ（１０３０）の下面とディスク状磁極片（１０５０）の上面との距離（ｅ）は、およそ０ｍｍである（図１０Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。上記ディスク状磁極片（１０５０）が支持マトリクス（１０３４）の長さ（Ａ１）及び／又は幅（Ａ２）よりも小さな直径（Ｃ１）を有する当該ディスク状磁極片の一実施形態においては、図１０Ａに示すように、支持マトリクス（１０３４）の底部に直径Ｃ１の窪みが構成されて、ディスク状磁極片（１０５０）を収容することにより、よりコンパクトな構成となっていてもよい。この場合、距離（ｅ）は、ディスク状磁極片（１０５０）の厚さ（Ｃ２）に応じて、−１ｍｍ、−２ｍｍ、又は−３ｍｍ等、０ｍｍより小さくてもよい。
[00199]図１０Ｃには、基材（１０２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図１０Ａ及び図１０Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該光学効果層（１０１０）を含む基材（１０２０）を傾斜させることによりサイズが変化する三角形状体に見える光学的印象をもたらす。
[00200]図１１Ａ及び図１１Ｂは、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（１１１０）を基材（１１２０）上に生成するのに適した装置の一例を示している。図１１Ａの装置は、磁気アセンブリ（１１３０）の上に配設された単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（１１４０）を備える。図１１Ａに示すように、磁界発生装置（１１４０）は、長さ（Ｂ１）、幅（Ｂ２）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。磁界発生装置（１１４０）の磁気軸は、基材（１１２０）の表面と実質的に平行である。
[00201]図１１Ａに示すように、図１１Ａの磁気アセンブリ（１１３０）は、支持マトリクス（１１３４）を備えており、これは、長さ（Ａ１）、幅（Ａ２）、及び厚さ（Ａ３）を有する直方体であってもよい。
[00202]図１１Ａの磁気アセンブリ（１１３０）は、ａ１）正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせであるループ状磁界発生装置（１１３１）及びａ２）２つ以上、特に２６個の双極子磁石（１１３２）の組み合わせを備える。
[00203]図１１Ａに示すように、正方形ループ状磁気装置であるループ状磁界発生装置（１１３１）を構成する４つの双極子磁石はそれぞれ、幅（Ａ７）、長さ（Ａ８）、及び厚さ（Ａ６）を有する直方体であってもよい。これら４つの双極子磁石はそれぞれ、基材（１１２０）の表面と実質的に平行な磁気軸を有するとともに、Ｎ極が半径方向に、正方形ループ状構成（１１３１）のループの中央領域側を向いており、Ｓ極が、支持マトリクス（１１３４）の外部側を向いている。
[00204]組み合わせの２つ以上、特に２６個の双極子磁石（１１３２）はそれぞれ、直径（Ａ９）及び厚さ（Ａ１０の１／２）を有し、磁気軸が磁界発生装置（１１４０）の磁気軸と実質的に垂直である。すなわち、基材（１１２０）の表面と実質的に垂直である。２６個の双極子磁石（１１３２）のうちの２つ以上は、それぞれのＮ極が基材（１１２０）に面しており、２６個の双極子磁石（１１３２）のうちの２つ以上は、それぞれのＳ極が基材（１１２０）に面している。
[00205]図１１Ａの装置は、ｃ）１つ又は複数の磁極片（１１５０）、特に直径（Ｃ１）及び厚さ（Ｃ２）を有する１つのディスク状磁極片（１１５０）を備えており、磁気アセンブリ（１１３０）が磁極片（１１５０）の上に配置されている。
[00206]磁気アセンブリ（１１３０）及び単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（１１４０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁気アセンブリ（１１３０）の上面と磁界発生装置（１１４０）の下面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍである（図１１Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（１１４０）の上面と当該磁界発生装置（１１４０）に面する基材（１１２０）の表面との距離は、距離（ｈ）で示している。距離（ｈ）は、好ましくはおよそ０．１〜およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２〜およそ５ｍｍである。
[00207]磁気アセンブリ（１１３０）及び１つ又は複数の磁極片（１１５０）、特に１つのディスク状磁極片（１１５０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁気アセンブリ（１１３０）の下面とディスク状磁極片（１１５０）の上面との距離（ｅ）は、およそ０ｍｍである（図１１Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。
[00208]図１１Ｃには、基材（１１２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図１１Ａ及び図１１Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該光学効果層（１１１０）を含む基材（１１２０）を傾斜させることによりサイズが変化する凹型六角形状体に見える光学的印象をもたらす。
[00209]図１２Ａ及び図１２Ｂは、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（１２１０）を基材（１２２０）上に生成するのに適した装置の一例を示している。図１２Ａの装置は、磁気アセンブリ（１２３０）の下方に配設された単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（１２４０）を備える。図１２Ａに示すように、磁界発生装置（１２４０）は、長さ（Ｂ１）、幅（Ｂ２）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。磁界発生装置（１２４０）の磁気軸は、基材（１２２０）の表面と実質的に平行である。
[00210]図１２Ａに示すように、図１２Ａの磁気アセンブリ（１２３０）は、支持マトリクス（１２３４）を備えており、これは、長さ（Ａ１）、幅（Ａ２）、及び厚さ（Ａ３）を有する直方体であってもよい。
[00211]図１２Ａの磁気アセンブリ（１２３０）は、ａ１）正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせであるループ状磁界発生装置（１２３１）及びａ２）２つ以上、特に１８個の双極子磁石（１２３２）の組み合わせを備える。
[00212]図１２Ｂ１及び図１２Ｂ２に示すように、正方形ループ状磁気装置であるループ状磁界発生装置（１２３１）を構成する４つの双極子磁石はそれぞれ、幅（Ａ７）、長さ（Ａ８）、及び厚さ（Ａ６）を有する直方体であってもよい。これら４つの双極子磁石はそれぞれ、基材（１２２０）の表面と実質的に平行な磁気軸を有するとともに、Ｎ極が半径方向に、正方形ループ状構成（１２３１）のループの中央領域側を向いており、Ｓ極が、支持マトリクス（１２３４）の外部側を向いている。
[00213]組み合わせの２つ以上、特に１８個の双極子磁石（１２３２）はそれぞれ、直径（Ａ９）及び厚さ（Ａ１０の１／２）を有し、磁気軸が磁界発生装置（１２４０）の磁気軸と実質的に垂直である。すなわち、Ｓ極が基材（１２２０）に面した状態で、基材（１２２０）の表面と実質的に垂直である。
[00214]磁気アセンブリ（１２３０）及び単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（１２４０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁界発生装置（１２４０）の上面と磁気アセンブリ（１２３０）の下面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍである（図１２Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁気アセンブリ（１２３０）の上面と当該磁気アセンブリ（１２３０）に面する基材（１２２０）の表面との距離は、距離（ｈ）で示している。距離（ｈ）は、好ましくはおよそ０．１〜およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２〜およそ５ｍｍである。
[00215]図１２Ｃには、基材（１２２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図１２Ａ及び図１２Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該光学効果層（１２１０）を含む基材（１２２０）を傾斜させることによりサイズが変化する凹型八角形状体に見える光学的印象をもたらす。
[00216]図１３及び図１４は、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を基材（ｘ２０）上に生成するのに適した装置の例を示している。図１３及び図１４の装置は、ａ）支持マトリクス（ｘ３４）、ａ１）正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせであるループ状磁界発生装置（ｘ３１）、及びａ２）２つ以上、特に１８個の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁気アセンブリ（ｘ３０）と、ｂ）同じ磁界方向を有し、それぞれの磁気軸が基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な２つ以上、特に７つ又は８つの棒状双極子磁石（ｘ４１）の組み合わせである磁界発生装置（ｘ４０）とを備え、磁界発生装置（ｘ４０）が磁気アセンブリ（ｘ３０）の下方に配設されている。
[00217]図１３Ａ及び図１３Ｂは、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（１３１０）を基材（１３２０）上に生成するのに適した装置の一例を示している。図１３Ａの装置は、２つ以上、特に８つの棒状双極子磁石（１３４１）の組み合わせである磁界発生装置（１３４０）を備えており、２つ以上、特に８つの棒状双極子磁石（１３４１）はそれぞれ、基材（１３２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有するとともに、同じ磁界方向を有している。磁界発生装置（１３４０）は、磁気アセンブリ（１３３０）の下方に配設されている。図１３Ａ及び図１３Ｂ３に示すように、磁界発生装置（１３４０）の８つの棒状双極子磁石（１３４１）はそれぞれ、長さ（Ｂ２）、幅（Ｂ１ｂ）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。
[00218]磁界発生装置（１３４０）は、支持マトリクス（１３４２）において、２つ以上、特に８つの棒状双極子磁石（１３４１）を備える。図１３Ａに示すように、棒状双極子磁石（１３４１）は、長さ（Ｂ１ａ）、幅（Ｂ２）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。図１３Ａに示すように、２つ以上、特に８つの棒状双極子磁石（１３４１）は、支持マトリクス（１３４２）内で対称構成に配置されていてもよく、その上面図及び側面図を図１３Ｂ３に示す。
[00219]図１３Ａに示すように、図１３Ａの磁気アセンブリ（１３３０）は、支持マトリクス（１３３４）を備えており、これは、長さ（Ａ１）、幅（Ａ２）、及び厚さ（Ａ３）を有する直方体であってもよい。
[00220]図１３Ａの磁気アセンブリ（１３３０）は、ａ１）正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせであるループ状磁界発生装置（１３３１）及びａ２）２つ以上、特に１８個の双極子磁石（１３３２）の組み合わせを備える。
[00221]図１３Ｂ１及び図１３Ｂ２に示すように、正方形ループ状磁気装置であるループ状磁界発生装置（１３３１）を構成する４つの双極子磁石はそれぞれ、長さ（Ａ７）、幅（Ａ８）、及び厚さ（Ａ６）を有する直方体であってもよい。これら４つの双極子磁石はそれぞれ、基材（１３２０）の表面と実質的に平行な磁気軸を有するとともに、Ｎ極が半径方向に、正方形ループ状構成（１３３１）のループの中央領域側を向いており、Ｓ極が、支持マトリクス（１３３４）の外部側を向いている。
[00222]組み合わせの２つ以上、特に１８個の双極子磁石（１３３２）はそれぞれ、直径（Ａ９）及び厚さ（Ａ１０の１／２）を有し、磁気軸が磁界発生装置（１３４０）の磁気軸と実質的に垂直である。すなわち、Ｓ極が基材（１３２０）に面した状態で、基材（１３２０）の表面と実質的に垂直である。
[00223]磁気アセンブリ（１３３０）及び磁界発生装置（１３４０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁気アセンブリ（１３３０）の下面と磁界発生装置（１３４０）の上面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍである（図１３Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁気アセンブリ（１３３０）の上面と当該磁気アセンブリ（１３３０）に面する基材（１３２０）の表面との距離は、距離（ｈ）で示している。距離（ｈ）は、好ましくはおよそ０．１〜およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２〜およそ５ｍｍである。
[00224]図１３Ｃには、基材（１３２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図１３Ａ及び図１３Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該光学効果層（１３１０）を含む基材（１３２０）を傾斜させることによりサイズが変化する凹型八角形状体に見える光学的印象をもたらす。
[00225]図１４Ａ及び図１４Ｂは、本発明に係る、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（１４１０）を基材（１４２０）上に生成するのに適した装置の一例を示している。図１４Ａの装置は、２つ以上、特に７つの棒状双極子磁石（１４４１）の組み合わせである磁界発生装置（１４４０）を備えており、２つ以上、特に７つの棒状双極子磁石（１４４１）はそれぞれ、基材（１４２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有するとともに、同じ磁界方向を有している。磁界発生装置（１４４０）は、磁気アセンブリ（１４３０）の下方に配設されている。図１４Ａ及び図１４Ｂ３に示すように、磁界発生装置（１４４０）の７つの棒状双極子磁石（１４４１）はそれぞれ、長さ（Ｂ２）、幅（Ｂ１ｂ）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。
[00226]磁界発生装置（１４４０）は、支持マトリクス（１４４２）において、２つ以上、特に７つの棒状双極子磁石（１４４１）を備える。図１４Ａに示すように、棒状双極子磁石（１４４１）は、長さ（Ｂ１ａ）、幅（Ｂ２）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。図１４Ａに示すように、２つ以上、特に７つの棒状双極子磁石（１４４１）は、支持マトリクス（１４４２）内で非対称構成に配置されていてもよく、その上面図及び側面図を図１４Ｂ３に示す。
[00227]図１４Ａに示すように、図１４Ａの磁気アセンブリ（１４３０）は、支持マトリクス（１４３４）を備えており、これは、長さ（Ａ１）、幅（Ａ２）、及び厚さ（Ａ３）を有する直方体であってもよい。
[00228]図１４Ａの磁気アセンブリ（１４３０）は、ａ１）正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組み合わせであるループ状磁界発生装置（１４３１）及びａ２）２つ以上、特に１８個の双極子磁石（１４３２）の組み合わせを備える。
[00229]図１４Ａ及び図１４Ｂ２に示すように、正方形ループ状磁気装置であるループ状磁界発生装置（１４３１）を構成する４つの双極子磁石はそれぞれ、幅（Ａ７）、長さ（Ａ８）、及び厚さ（Ａ６）を有する直方体であってもよい。これら４つの双極子磁石はそれぞれ、基材（１４２０）の表面と実質的に平行な磁気軸を有するとともに、Ｎ極が半径方向に、正方形ループ状構成（１４３１）のループの中央領域側を向いており、Ｓ極が、支持マトリクス（１４３４）の外部側を向いている。
[00230]組み合わせの２つ以上、特に１８個の双極子磁石（１４３２）はそれぞれ、直径（Ａ９）及び厚さ（Ａ１０の１／２）を有し、磁気軸が磁界発生装置（１４４０）の磁気軸と実質的に垂直である。すなわち、Ｓ極が基材（１４２０）に面した状態で、基材（１４２０）の表面と実質的に垂直である。
[00231]磁気アセンブリ（１４３０）及び磁界発生装置（１４４０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁気アセンブリ（１４３０）の下面と磁界発生装置（１４４０）の上面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍである（図１４Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁気アセンブリ（１４３０）の上面と当該磁気アセンブリ（１４３０）に面する基材（１４２０）の表面との距離は、距離（ｈ）で示している。距離（ｈ）は、好ましくはおよそ０．１〜およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２〜およそ５ｍｍである。
[00232]図１４Ｃには、基材（１４２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図１４Ａ及び図１４Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該光学効果層（１４１０）を含む基材（１４２０）を傾斜させることによりサイズが変化する八角形状体に見える光学的印象をもたらす。
[00233]本発明は、本明細書に記載の１つ又は複数の装置（すなわち、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ３０）及び本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ４０）を備えた装置）を含む回転磁気シリンダを備えた印刷装置であって、上記１つ又は複数の装置が回転磁気シリンダの周方向溝に取り付けられた、印刷装置のほか、本明細書に記載の装置のうちの１つ又は複数を含む平台印刷ユニットを備えた印刷アセンブリであって、上記１つ又は複数の装置が平台印刷ユニットの凹部に取り付けられた、印刷アセンブリをさらに提供する。
[00234]回転磁気シリンダは、印刷若しくは被覆機器中での使用、印刷若しくは被覆機器との併用、又は印刷若しくは被覆機器の一部としての構成が意図されており、本明細書に記載の１つ又は複数の装置を支える。一実施形態において、回転磁気シリンダは、高い印刷速度で連続動作する回転式、枚葉給紙式、又はウェブ給紙式の産業用印刷機の一部である。
[00235]平台印刷ユニットは、印刷若しくは被覆機器中での使用、印刷若しくは被覆機器との併用、又は印刷若しくは被覆機器の一部としての構成が意図されており、本明細書に記載の装置のうちの１つ又は複数を支える。一実施形態において、平台印刷ユニットは、非連続動作する枚葉給紙式の産業用印刷機の一部である。
[00236]本明細書に記載の回転磁気シリンダ又は本明細書に記載の平台印刷ユニットを備えた印刷装置は、本明細書に記載の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の層を有することにより、顔料粒子に作用して配向させる磁界を装置が生成して光学効果層（ＯＥＬ）を形成させる本明細書に記載のような基材を供給する基材供給装置を具備していてもよい。本明細書に記載の回転磁気シリンダを備えた印刷装置の一実施形態において、基材は、シート又はウェブの形態で基材供給装置により供給される。本明細書に記載の平台印刷ユニットを備えた印刷装置の一実施形態において、基材は、シートの形態で供給される。
[00237]本明細書に記載の回転磁気シリンダ又は本明細書に記載の平台印刷ユニットを備えた印刷装置は、本明細書に記載の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性被膜組成物を本明細書に記載の基材に適用する被覆又は印刷ユニットであって、本明細書に記載の装置によって生成された磁界により配向されて光学効果層（ＯＥＬ）を形成する非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を放射線硬化性被膜組成物が含む、被覆又は印刷ユニットを具備していてもよい。本明細書に記載の回転磁気シリンダを備えた印刷装置の一実施形態において、基材は、被覆又は印刷ユニットは、回転連続プロセスに従って動作する。本明細書に記載の平台印刷ユニットを備えた印刷装置の一実施形態において、被覆又は印刷ユニットは、長手方向非連続プロセスに従って動作する。
[00238]本明細書に記載の回転磁気シリンダ又は本明細書に記載の平台印刷ユニットを備えた印刷装置は、本明細書に記載の装置によって磁気的に配向された非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性被膜組成物を少なくとも部分的に硬化させることにより、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の配向及び位置を固定して光学効果層（ＯＥＬ）を生成する硬化ユニットを具備していてもよい。
[00239]本明細書に記載のＯＥＬは、基材上に直接設けて、永久に残るようにしてもよい（例えば、紙幣用途の場合）。或いは、生成のための暫定的な基材上にＯＥＬを設け、後でＯＥＬを取り外すようにしてもよい。これにより、特にバインダ材料が流体状態のままである場合に、例えばＯＥＬの生成が容易化される可能性がある。その後、被膜組成物を少なくとも部分的に硬化させてＯＥＬを生成したら、暫定基材をＯＥＬから取り外してもよい。
[00240]或いは、光学効果層（ＯＥＬ）又はＯＥＬを備えた基材上に接着層が存在していてもよく、当該接着層は、ＯＥＬが設けられた面と反対側の基材面に存在していてもよいし、ＯＥＬと同じ面でＯＥＬの上に存在していてもよい。したがって、光学効果層（ＯＥＬ）又は基材に接着層が適用されていてもよい。このような物品は、機械類や大きな労力を伴う印刷等のプロセスなく、あらゆる種類の文書又は他の物品に取り付けられるようになっていてもよい。或いは、本明細書に記載のＯＥＬを備えた本明細書に記載の基材は、独立した転写ステップにおいて文書又は物品に適用可能な転写箔の形態であってもよい。この目的のため、基材には剥離被膜が設けられ、その上において、本明細書に記載の通り、ＯＥＬが生成される。このように生成されたＯＥＬ上には、１つ又は複数の接着層が適用されるようになっていてもよい。
[00241]本明細書には、本明細書に記載のプロセスにより得られた２つ以上すなわち２つ、３つ、４つ等の光学効果層（ＯＥＬ）を備えた基材も記載する。
[00242]また、本明細書には、本発明に従って生成された光学効果層（ＯＥＬ）を備えた物品、特に、セキュリティ文書、装飾要素又は物体を記載する。これらの物品、特に、セキュリティ文書、装飾要素又は物体は、本発明に従って生成された２つ以上（例えば、２つ、３つ等）のＯＥＬを備えていてもよい。
[00243]前述の通り、本発明に従って生成された光学効果層（ＯＥＬ）は、装飾目的並びにセキュリティ文書の保護及び認証に用いられるようになっていてもよい。装飾要素又は物体の代表例としては、高級品、化粧品パッケージ、自動車部品、電子／家電製品、家具、及びネイルラッカーが挙げられるが、これらに限定されない。
[00244]セキュリティ文書としては、有価文書及び有価商品が挙げられるが、これらに限定されない。有価文書の代表例としては、紙幣、証書、チケット、小切手、証票、収入印紙及び納税印紙、契約書等、パスポート等の身分証明書類、身分証明カード、ビザ、運転免許証、銀行カード、クレジットカード、取引カード、アクセス書類又はカード、入場券、公共交通乗車券又は証書等が挙げられ、紙幣、身分証明書類、権利付与書類、運転免許証、及びクレジットカードが好ましいが、これらに限定されない。用語「有価商品」は、特に化粧品、栄養補助食品、医薬品、アルコール、タバコ製品、飲料又は食料品、電気／電子製品、織物又は宝飾品、すなわち偽造及び／又は違法複製に対する保護により、例えば本物の薬等のパッケージの内容物を保証すべき物品のパッケージ材料を表す。これらパッケージ材料の例としては、認証ブランドラベル、不正防止ラベル等のラベル及びシールが挙げられるが、これらに限定されない。なお、開示の基材、有価文書、及び有価商品は、本発明の範囲を制限することなく、専ら例示目的で示している。
[00245]或いは、光学効果層（ＯＥＬ）は、例えばセキュリティスレッド、セキュリティストライプ、箔、デカール、窓、又はラベル等の補助基材上に生成され、その結果、独立したステップにおいて、セキュリティ文書に転写されるようになっていてもよい。
［実施例］
[00246]図１Ａ〜図１４Ａに示す装置の使用により、表１に記載のＵＶ硬化性スクリーン印刷インクの印刷層における光学可変性の非球状の磁性顔料粒子を配向させ、図１Ｃ〜図１４Ｃに示す光学効果層（ＯＥＬ）を生成した。ＵＶ硬化性スクリーン印刷インクは、Ｔ９０シルクスクリーンを用いて、基材としての黒い市販の紙上に手で適用した。ＵＶ硬化性スクリーン印刷インクの適用層を有する紙基材を磁界発生装置上に配設した（図１Ａ〜図１４Ａ）。このようにして得られた光学可変性の非球状の顔料粒子の磁気的配向パターンは、配向ステップと一部同時に、Ｐｈｏｓｅｏｎ製ＵＶ−ＬＥＤランプ（ファイアフレックス（ＦｉｒｅＦｌｅｘ）タイプ、５０×７５ｍｍ、３９５ｍｍ、８Ｗ／ｃｍ２）を用いて、顔料粒子を含む印刷層のＵＶ硬化によって固定した。
Figure 0006884957
実施例１（図１Ａ〜図１Ｃ）
[00247]図１Ａに示すように、実施例１の準備に使用した装置は、磁気アセンブリ（１３０）と、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む被膜組成物を有する基材（１２０）との間に配設された磁界発生装置（１４０）を備えるものとした。
[00248]磁界発生装置（１４０）は、長さ（Ｂ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ｂ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ２ｍｍの棒状双極子磁石で構成した。磁界発生装置（１４０）の磁気軸は、基材（１２０）の表面と実質的に平行であるものとした。磁界発生装置（１４０）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３０で構成した。
[00249]磁気アセンブリ（１３０）は、リング状磁石（１３１）、双極子磁石（１３２）、及び支持マトリクス（１３４）を備えるものとした。
[00250]図１Ｂ１及び図１Ｂ２に示すように、リング状磁石（１３１）は、外径（Ａ４）がおよそ３３．５ｍｍ、内径（Ａ５）がおよそ２５．５ｍｍ、厚さ（Ａ６）がおよそ１０ｍｍであるものとした。リング状磁石（１３１）は、半径方向の磁化を有し、Ｎ極が支持マトリクス（１３４）の外部側を向き、Ｓ極がループ状磁界発生装置（１３１）のループの中央領域側すなわち双極子磁石（１３２）側を向いているものとした。リング状磁石（１３１）の中心は、支持マトリクス（１３４）の中心と一致するものとした。リング状双極子磁石（１３１）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３５で構成した。
[00251]双極子磁石（１３２）は、直径（Ａ９）がおよそ１０ｍｍ、厚さ（Ａ１０）がおよそ２ｍｍであるものとした。双極子磁石（１３２）の磁気軸は、磁界発生装置（１４０）の磁気軸と実質的に垂直であり、Ｎ極が基材（１２０）に面した状態で、基材（１２０）の表面と実質的に垂直であるものとした。双極子磁石（１３２）の中心は、支持マトリクス（１３４）の中心と一致するものとした。双極子磁石（１３２）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00252]支持マトリクス（１３４）は、長さ（Ａ１）がおよそ４０ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ４０ｍｍ、厚さ（Ａ３）がおよそ１１ｍｍであるものとした。支持マトリクス（１３４）は、ＰＯＭで構成した。支持マトリクス（１３４）の表面には、双極子磁石（１３２）を受容する深さ（Ａ１０）がおよそ２ｍｍの窪みと、ループ状磁界発生装置（１３１）を受容する深さ（Ａ６）がおよそ１０ｍｍの窪みとを含むものとした。
[00253]磁界発生装置（１４０）及び磁気アセンブリ（１３０）は、直接接触するものとした。すなわち、磁界発生装置（１４０）の下面と磁気アセンブリ（１３０）の上面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであった（図１Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（１４０）及び磁気アセンブリ（１３０）は、互いに中心を合わせた。すなわち、磁界発生装置（１４０）の長さ（Ｂ１）及び幅（Ｂ２）の中央部は、支持マトリクス（１３４）の長さ（Ａ１）及び幅（Ａ２）の中央部と位置合わせした。磁界発生装置（１４０）の上面と当該磁界発生装置（１４０）に面する基材（１２０）の表面との距離（ｈ）は、およそ１．５ｍｍであるものとした。
[00254]図１Ｃには、基材（１２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させた様々な視角にて、図１Ａ及び図１Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。
実施例２（図２Ａ〜図２Ｃ）
[00255]図２Ａに示すように、実施例２の準備に使用した装置は、磁気アセンブリ（２３０）と、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む被膜組成物を有する基材（２２０）との間に配設された磁界発生装置（２４０）を備えるものとした。
[00256]磁界発生装置（２４０）は、長さ（Ｂ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ｂ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ２ｍｍの棒状双極子磁石で構成した。磁界発生装置（２４０）の磁気軸は、基材（２２０）の表面と実質的に平行であるものとした。磁界発生装置（２４０）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３０で構成した。
[00257]磁気アセンブリ（２３０）は、リング状磁石（２３１）、双極子磁石（２３２）、及び支持マトリクス（２３４）を備えるものとした。
[00258]図２Ｂ１及び図２Ｂ２に示すように、リング状磁石（２３１）は、外径（Ａ４）がおよそ３３．５ｍｍ、内径（Ａ５）がおよそ２５．５ｍｍ、厚さ（Ａ６）がおよそ１０ｍｍであるものとした。リング状磁石（２３１）は、半径方向の磁化を有し、Ｎ極が支持マトリクス（２３４）の外部側を向き、Ｓ極がループ状磁界発生装置（２３１）のループの中央領域側すなわち双極子磁石（２３２）側を向いているものとした。リング状磁石（２３１）の中心は、支持マトリクス（２３４）の中心と一致するものとした。リング状双極子磁石（２３１）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３５で構成した。
[00259]双極子磁石（２３２）は、直径（Ａ９）がおよそ１０ｍｍ、厚さ（Ａ１０）がおよそ５ｍｍであるものとした。双極子磁石（２３２）の磁気軸は、磁界発生装置（２４０）の磁気軸と実質的に垂直であり、Ｎ極が基材（２２０）に面した状態で、基材（２２０）の表面と実質的に垂直であるものとした。双極子磁石（２３２）の中心は、支持マトリクス（２３４）の縁部からその幅（Ａ２）に沿っておよそ１５ｍｍの距離（Ａ１２）及び支持マトリクス（２３４）の縁部からその長さ（Ａ１）に沿っておよそ２０ｍｍの距離（Ａ１１）に配置した。すなわち、双極子磁石（２３２）は、実施例１と比較して、支持マトリクス（２３４）の幅（Ａ２）に沿っておよそ５ｍｍだけオフセットさせた。双極子磁石（２３２）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00260]支持マトリクス（２３４）は、長さ（Ａ１）がおよそ４０ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ４０ｍｍ、厚さ（Ａ３）がおよそ１１ｍｍであるものとした。支持マトリクス（２３４）は、ＰＯＭで構成した。図２Ｂ２に示すように、支持マトリクス（２３４）の表面には、単一の双極子磁石（２３２）を受容する深さ（Ａ１０）がおよそ５ｍｍの窪みと、ループ状磁界発生装置（２３１）を受容する深さ（Ａ６）がおよそ１０ｍｍの窪みとを含むものとした。
[00261]磁界発生装置（２４０）及び磁気アセンブリ（２３０）は、直接接触するものとした。すなわち、磁界発生装置（２４０）の下面と磁気アセンブリ（２３０）の上面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであった（図２Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（２４０）及び磁気アセンブリ（２３０）は、互いに中心を合わせた。すなわち、磁界発生装置（２４０）の長さ（Ｂ１）及び幅（Ｂ２）の中央部は、支持マトリクス（２３４）の長さ（Ａ１）及び幅（Ａ２）の中央部と位置合わせした。磁界発生装置（２４０）の上面と当該磁界発生装置（２４０）に面する基材（２２０）の表面との距離（ｈ）は、およそ４ｍｍであるものとした。
[00262]図２Ｃには、基材（２２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させた様々な視角にて、図２Ａ及び図２Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。
実施例３（図３Ａ〜図３Ｃ）
[00263]図３Ａに示すように、実施例３の準備に使用した装置は、磁気アセンブリ（３３０）と、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む被膜組成物を有する基材（３２０）との間に配設された磁界発生装置（３４０）を備えるものとした。
[00264]磁界発生装置（３４０）は、長さ（Ｂ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ｂ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ２ｍｍの棒状双極子磁石で構成した。磁界発生装置（３４０）の磁気軸は、基材（３２０）の表面と実質的に平行であるものとした。磁界発生装置（３４０）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３０で構成した。
[00265]磁気アセンブリ（３３０）は、リング状磁石（３３１）、双極子磁石（３３２）、及び支持マトリクス（３３４）を備えるものとした。
[00266]図３Ｂ１及び図３Ｂ２に示すように、リング状磁石（３３１）は、外径（Ａ４）がおよそ３３．５ｍｍ、内径（Ａ５）がおよそ２５．５ｍｍ、厚さ（Ａ６）がおよそ１０ｍｍであるものとした。リング状磁石（３３１）は、半径方向の磁化を有し、Ｎ極が支持マトリクス（３３４）の外部側を向き、Ｓ極がループ状磁界発生装置（３３１）のループの中央領域側すなわち双極子磁石（３３２）側を向いているものとした。リング状磁石（３３１）の中心は、支持マトリクス（３３４）の中心と一致するものとした。リング状双極子磁石（３３１）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３５で構成した。
[00267]双極子磁石（３３２）は、長さ（Ａ１３）がおよそ１０ｍｍ、幅（Ａ１４）がおよそ１０ｍｍ、厚さ（Ａ１０）がおよそ５ｍｍであるものとした。双極子磁石（３３２）の磁気軸は、磁界発生装置（３４０）の磁気軸と実質的に平行且つ基材（３２０）の表面と実質的に平行であり、Ｎ極が磁界発生装置（３４０）のＮ極と同じ方向を向いているものとした。双極子磁石（３３２）の中心は、支持マトリクス（３３４）の中心と一致するものとした。双極子磁石（３３２）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３５で構成した。
[00268]支持マトリクス（３３４）は、長さ（Ａ１）がおよそ４０ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ４０ｍｍ、厚さ（Ａ３）がおよそ１１ｍｍであるものとした。支持マトリクス（３３４）は、ＰＯＭで構成した。図３Ｂ２に示すように、支持マトリクス（３３４）の表面には、双極子磁石（３３２）を受容する深さ（Ａ１０）がおよそ５ｍｍの窪みと、ループ状磁界発生装置（３３１）を受容する深さ（Ａ６）がおよそ１０ｍｍの窪みとを含むものとした。
[00269]磁界発生装置（３４０）及び磁気アセンブリ（３３０）は、直接接触するものとした。すなわち、磁界発生装置（３４０）の下面と磁気アセンブリ（３３０）の上面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであった（図３Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（３４０）及び磁気アセンブリ（３３０）は、互いに中心を合わせた。すなわち、磁界発生装置（３４０）の長さ（Ｂ１）及び幅（Ｂ２）の中央部は、支持マトリクス（３３４）の長さ（Ａ１）及び幅（Ａ２）の中央部と位置合わせした。磁界発生装置（３４０）の上面と当該磁界発生装置（３４０）に面する基材（３２０）の表面との距離（ｈ）は、およそ１．５ｍｍであるものとした。
[00270]図３Ｃには、基材（３２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させた様々な視角にて、図３Ａ及び図３Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。
実施例４（図４Ａ〜図４Ｃ）
[00271]図４Ａに示すように、実施例４の準備に使用した装置は、磁気アセンブリ（４３０）と、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む被膜組成物を有する基材（４２０）との間に配設された磁界発生装置（４４０）を備えるものとした。
[00272]磁界発生装置（４４０）は、長さ（Ｂ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ｂ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ２ｍｍの棒状双極子磁石で構成した。磁界発生装置（４４０）の磁気軸は、基材（４２０）の表面と実質的に平行であるものとした。磁界発生装置（４４０）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３０で構成した。
[00273]磁気アセンブリ（４３０）は、リング状磁石（４３１）、双極子磁石（４３２）、及び支持マトリクス（４３４）を備えるものとした。
[00274]図４Ｂ１及び図４Ｂ２に示すように、リング状磁石（４３１）は、外径（Ａ４）がおよそ３３．５ｍｍ、内径（Ａ５）がおよそ２５．５ｍｍ、厚さ（Ａ６）がおよそ１０ｍｍであるものとした。リング状磁石（４３１）は、半径方向の磁化を有し、Ｎ極が支持マトリクス（４３４）の外部側を向き、Ｓ極がループ状磁界発生装置（４３１）のループの中央領域側すなわち双極子磁石（４３２）側を向いているものとした。リング状磁石（４３１）の中心は、支持マトリクス（４３４）の中心と一致するものとした。リング状双極子磁石（４３１）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３５で構成した。
[00275]双極子磁石（４３２）は、長さ（Ａ１３）がおよそ１０ｍｍ、幅（Ａ１４）がおよそ１０ｍｍ、厚さ（Ａ１０）がおよそ５ｍｍであるものとした。双極子磁石（４３２）の磁気軸は、磁界発生装置（４４０）の磁気軸と実質的に並行且つ基材（４２０）の表面と実質的に平行であり、Ｎ極が磁界発生装置（４４０）のＮ極と同じ方向を向いているものとした。双極子磁石（４３２）の中心は、支持マトリクス（４３４）の縁部からその長さ（Ａ１）に沿っておよそ１５ｍｍの距離（Ａ１１）及び支持マトリクス（４３４）の縁部からその幅（Ａ２）に沿っておよそ２０ｍｍの距離（Ａ１２）に配置した。すなわち、双極子磁石（４３２）は、実施例３と比較して、支持マトリクス（４３４）の長さ（Ａ１）に沿っておよそ５ｍｍだけオフセットさせた。双極子磁石（４３２）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３５で構成した。
[00276]支持マトリクス（４３４）は、長さ（Ａ１）がおよそ４０ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ４０ｍｍ、厚さ（Ａ３）がおよそ１１ｍｍであるものとした。支持マトリクス（４３４）は、ＰＯＭで構成した。図４Ｂ２に示すように、支持マトリクス（４３４）の表面には、単一の双極子磁石（４３２）を受容する深さ（Ａ１０）がおよそ５ｍｍの窪みと、ループ状磁界発生装置（４３１）を受容する深さ（Ａ６）がおよそ１０ｍｍの窪みとを含むものとした。
[00277]磁界発生装置（４４０）及び磁気アセンブリ（４３０）は、直接接触するものとした。すなわち、磁界発生装置（４４０）の下面と磁気アセンブリ（４３０）の上面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであった（図４Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（４４０）及び磁気アセンブリ（４３０）は、互いに中心を合わせた。すなわち、磁界発生装置（４４０）の長さ（Ｂ１）及び幅（Ｂ２）の中央部は、支持マトリクス（４３４）の長さ（Ａ１）及び幅（Ａ２）の中央部と位置合わせした。磁界発生装置（４４０）の上面と当該磁界発生装置（４４０）に面する基材（４２０）の表面との距離（ｈ）は、およそ１．５ｍｍであるものとした。
[00278]図４Ｃには、基材（４２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させた様々な視角にて、図４Ａ及び図４Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。
実施例５（図５Ａ〜図５Ｃ）
[00279]図５Ａに示すように、実施例５の準備に使用した装置は、磁気アセンブリ（５３０）と、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む被膜組成物を有する基材（５２０）との間に配設された磁界発生装置（５４０）を備えるものとした。
[00280]磁界発生装置（５４０）は、長さ（Ｂ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ｂ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ２ｍｍの棒状双極子磁石で構成した。磁界発生装置（５４０）の磁気軸は、基材（５２０）の表面と実質的に平行であるものとした。磁界発生装置（５４０）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３０で構成した。
[00281]磁気アセンブリ（５３０）は、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（５３１）、双極子磁石（５３２）、及び支持マトリクス（５３４）を備えるものとした。
[00282]図５Ｂ１及び図５Ｂ２に示すように、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（５３１）はそれぞれ、長さ（Ａ７）がおよそ２５ｍｍ、幅（Ａ８）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍであるものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（５３１）は、支持マトリクス（５３４）において、それぞれの磁気軸が磁界発生装置（５４０）の磁気軸と実質的に平行且つ基材（５２０）の表面と実質的に平行であり、Ｎ極が半径方向に、上記正方形ループ状構成（５３１）のループの中心領域側を向き、Ｓ極が支持マトリクス（５３４）の外部側すなわち環境側を向くように配置した。正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石（５３１）により形成された正方形の中心は、支持マトリクス（５３４）の中心と一致するものとした。４つの棒状双極子磁石（５３１）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00283]双極子磁石（５３２）は、直径（Ａ９）がおよそ６ｍｍ、厚さ（Ａ１０）がおよそ２ｍｍであるものとした。双極子磁石（５３２）の磁気軸は、磁界発生装置（５４０）の磁気軸と実質的に垂直且つ基材（５２０）の表面と実質的に垂直であり、Ｓ極が磁界発生装置（５４０）及び基材（５２０）の表面に面するものとした。双極子磁石（５３２）の中心は、支持マトリクス（５３４）の中心と一致するものとした。双極子磁石（５３２）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00284]支持マトリクス（５３４）は、長さ（Ａ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ａ３）がおよそ６ｍｍであるものとした。支持マトリクス（５３４）は、ＰＯＭで構成した。図５Ｂ２に示すように、支持マトリクス（５３４）の表面には、単一の双極子磁石（５３２）を受容する深さ（Ａ１０）がおよそ２ｍｍの窪みと、ループ状磁界発生装置（５３１）を受容する深さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍの窪みとを含むものとした。
[00285]磁界発生装置（５４０）及び磁気アセンブリ（５３０）は、直接接触するものとした。すなわち、磁界発生装置（５４０）の下面と磁気アセンブリ（５３０）の上面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであった（図５Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（５４０）及び磁気アセンブリ（５３０）は、互いに中心を合わせた。すなわち、磁界発生装置（５４０）の長さ（Ｂ１）及び幅（Ｂ２）の中央部は、支持マトリクス（５３４）の長さ（Ａ１）及び幅（Ａ２）の中央部と位置合わせした。磁界発生装置（５４０）の上面と当該磁界発生装置（５４０）に面する基材（５２０）の表面との距離（ｈ）は、およそ３ｍｍであるものとした。
[00286]図５Ｃには、基材（５２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図５Ａ及び図５Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。
実施例６（図６Ａ〜図６Ｃ）
[00287]図６Ａに示すように、実施例６の準備に使用した装置は、磁気アセンブリ（６３０）と、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む被膜組成物を有する基材（６２０）との間に配設された磁界発生装置（６４０）を備えるものとした。
[00288]磁界発生装置（６４０）は、長さ（Ｂ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ｂ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ２ｍｍの棒状双極子磁石で構成した。磁界発生装置（６４０）の磁気軸は、基材（６２０）の表面と実質的に平行であるものとした。磁界発生装置（６４０）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３０で構成した。
[00289]磁気アセンブリ（６３０）は、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（６３１）、双極子磁石（６３２）、リング状磁極片（６３３）、及び支持マトリクス（６３４）を備えるものとした。
[00290]図６Ｂ１及び図６Ｂ２に示すように、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（６３１）はそれぞれ、長さ（Ａ７）がおよそ２５ｍｍ、幅（Ａ８）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍであるものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（６３１）は、支持マトリクス（６３４）において、それぞれの磁気軸が磁界発生装置（６４０）の磁気軸と実質的に平行且つ基材（６２０）の表面と実質的に平行であり、Ｎ極が半径方向に、上記正方形ループ状構成（６３１）のループの中心領域側を向き、Ｓ極が支持マトリクス（６３４）の外部側すなわち環境側を向くように配置した。正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石（６３１）により形成された正方形の中心は、支持マトリクス（６３４）の中心と一致するものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（６３１）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00291]リング状磁極片（６３３）は、外径（Ａ１９）がおよそ１２ｍｍ、内径（Ａ２０）がおよそ８ｍｍ、厚さ（Ａ２１）がおよそ２ｍｍであるものとした。リング状磁極片（６３３）の中心は、支持マトリクス（６３４）の中心と一致するものとした。リング状磁極片（６３３）は、鉄で構成した。
[00292]双極子磁石（６３２）は、直径（Ａ９）がおよそ６ｍｍ、厚さ（Ａ１０）がおよそ２ｍｍであるものとした。双極子磁石（６３２）の磁気軸は、磁界発生装置（６４０）の磁気軸と実質的に垂直且つ基材（６２０）の表面と実質的に垂直であり、Ｓ極が磁界発生装置（６４０）及び基材（６２０）の表面に面するものとした。双極子磁石（６３２）の中心は、支持マトリクス（６３４）の中心と一致するものとした。双極子磁石（６３２）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00293]支持マトリクス（６３４）は、長さ（Ａ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ａ３）がおよそ６ｍｍであるものとした。支持マトリクス（６３４）は、ＰＯＭで構成した。図６Ｂ２に示すように、支持マトリクス（６３４）の表面には、双極子磁石（６３２）を受容する深さ（Ａ１０）がおよそ２ｍｍの窪みと、ループ状磁界発生装置（６３１）を受容する深さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍの窪みと、リング状磁極片（６３３）を受容する深さ（Ａ２１）がおよそ２ｍｍの窪みとを含むものとした。
[00294]磁界発生装置（６４０）及び磁気アセンブリ（６３０）は、直接接触するものとした。すなわち、磁界発生装置（６４０）の下面と磁気アセンブリ（６３０）の上面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであった（図６Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（６４０）及び磁気アセンブリ（６３０）は、互いに中心を合わせた。すなわち、磁界発生装置（６４０）の長さ（Ｂ１）及び幅（Ｂ２）の中央部は、支持マトリクス（６３４）の長さ（Ａ１）及び幅（Ａ２）の中央部と位置合わせした。磁界発生装置（６４０）の上面と当該磁界発生装置（６４０）に面する基材（６２０）の表面との距離（ｈ）は、およそ３ｍｍであるものとした。
[00295]図６Ｃには、基材（６２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図６Ａ及び図６Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。
実施例７（図７Ａ〜図７Ｃ）
[00296]図７Ａに示すように、実施例７の準備に使用した装置は、磁気アセンブリ（７３０）と、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む被膜組成物を有する基材（７２０）との間に配設された磁界発生装置（７４０）を備えるものとした。
[00297]磁界発生装置（７４０）は、長さ（Ｂ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ｂ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ２ｍｍの棒状双極子磁石で構成した。磁界発生装置（７４０）の磁気軸は、基材（７２０）の表面と実質的に平行であるものとした。磁界発生装置（７４０）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３０で構成した。
[00298]磁気アセンブリ（７３０）は、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（７３１）、双極子磁石（７３２）、リング状磁極片（７３３）、及び支持マトリクス（７３４）を備えるものとした。
[00299]図７Ｂ１及び図７Ｂ２に示すように、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（７３１）はそれぞれ、長さ（Ａ７）がおよそ２５ｍｍ、幅（Ａ８）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍであるものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（７３１）は、支持マトリクス（７３４）において、それぞれの磁気軸が磁界発生装置（７４０）の磁気軸と実質的に平行且つ基材（７２０）の表面と実質的に平行であり、Ｎ極が半径方向に、上記正方形ループ状構成（７３１）のループの中心領域側を向き、Ｓ極が支持マトリクス（７３４）の外部側すなわち環境側を向くように配置した。正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石（７３１）により形成された正方形の中心は、支持マトリクス（７３４）の中心と一致するものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（７３１）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00300]リング状磁極片（７３３）は、外径（Ａ１９）がおよそ１５ｍｍ、内径（Ａ２０）がおよそ１１ｍｍ、厚さ（Ａ２１）がおよそ２ｍｍであるものとした。リング状磁極片（７３３）の中心は、支持マトリクス（７３４）の中心と一致するものとした。リング状磁極片（７３３）は、鉄で構成した。
[00301]双極子磁石（７３２）は、長さ（Ａ１３）がおよそ５ｍｍ、幅（Ａ１４）がおよそ５ｍｍ、厚さ（Ａ１０）がおよそ５ｍｍであるものとした。双極子磁石（７３２）の磁気軸は、磁界発生装置（７４０）の磁気軸と実質的に並行且つ基材（７２０）の表面と実質的に平行であり、Ｎ極が磁界発生装置（７４０）のＮ極と同じ方向を向いているものとした。双極子磁石（７３２）の中心は、支持マトリクス（７３４）の中心と一致するものとした。双極子磁石（７３２）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00302]支持マトリクス（７３４）は、長さ（Ａ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ａ３）がおよそ６ｍｍであるものとした。支持マトリクス（７３４）は、ＰＯＭで構成した。図７Ｂ２に示すように、支持マトリクス（７３４）の表面には、単一の双極子磁石（７３２）を受容する深さ（Ａ１０）がおよそ５ｍｍの窪みと、ループ状磁界発生装置（７３１）を受容する深さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍの窪みと、リング状磁極片（７３３）を受容する深さ（Ａ２１）がおよそ２ｍｍの窪みとを含むものとした。
[00303]磁界発生装置（７４０）及び磁気アセンブリ（７３０）は、直接接触するものとした。すなわち、磁界発生装置（７４０）の下面と磁気アセンブリ（７３０）の上面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであった（図７Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（７４０）及び磁気アセンブリ（７３０）は、互いに中心を合わせた。すなわち、磁界発生装置（７４０）の長さ（Ｂ１）及び幅（Ｂ２）の中央部は、支持マトリクス（７３４）の長さ（Ａ１）及び幅（Ａ２）の中央部と位置合わせした。磁界発生装置（７４０）の上面と当該磁界発生装置（７４０）に面する基材（７２０）の表面との距離（ｈ）は、およそ１．５ｍｍであるものとした。
[00304]図７Ｃには、基材（７２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図７Ａ及び図７Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。
実施例８（図８Ａ〜図８Ｃ）
[00305]図８Ａに示すように、実施例８の準備に使用した装置は、磁気アセンブリ（８３０）と、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む被膜組成物を有する基材（８２０）との間に配設された磁界発生装置（８４０）を備えるものとした。
[00306]磁界発生装置（８４０）は、長さ（Ｂ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ｂ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ２ｍｍの棒状双極子磁石で構成した。磁界発生装置（８４０）の磁気軸は、基材（８２０）の表面と実質的に平行であるものとした。磁界発生装置（８４０）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３０で構成した。
[00307]磁気アセンブリ（８３０）は、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（８３１）、３分岐正星形構成に配設された３つの双極子磁石（８３２）、及び支持マトリクス（８３４）を備えるものとした。
[00308]図８Ｂ１及び図８Ｂ２に示すように、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（８３１）はそれぞれ、長さ（Ａ７）がおよそ２５ｍｍ、幅（Ａ８）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍであるものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（８３１）は、支持マトリクス（８３４）において、それぞれの磁気軸が磁界発生装置（８４０）の磁気軸と実質的に平行且つ基材（８２０）の表面と実質的に平行であり、Ｎ極が半径方向に、上記正方形ループ状構成（８３１）のループの中心領域側を向き、Ｓ極が支持マトリクス（８３４）の外部側すなわち環境側を向くように配置した。正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石（８３１）により形成された正方形の中心は、支持マトリクス（８３４）の中心と一致するものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（８３１）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00309]３分岐正星形構成に配設された３つの双極子磁石（８３２）はそれぞれ、長さ（Ａ１３）がおよそ１０ｍｍ、幅（Ａ１４）がおよそ４ｍｍ、厚さ（Ａ１０）がおよそ１ｍｍであるものとした。それぞれの幅（Ａ１４）は、第１の棒状双極子磁石が磁界発生装置（８４０）の磁気軸と位置合わせされ、その他２つの棒状双極子磁石が第１の棒状双極子磁石とおよそ１２０°の角度（α）を成すように、直径（Ａ１５）がおよそ３．３ｍｍの仮想円の接線で配置した。３分岐正星形構成に配設された３つの双極子磁石（８３２）それぞれの磁気軸は、磁界発生装置（８４０）の磁気軸と実質的に垂直且つ基材（８２０）の表面と実質的に垂直であり、Ｓ極が磁界発生装置（８４０）及び基材（８２０）の表面に面するものとした。３つの双極子磁石（８３２）により形成された３分岐正星形構成の仮想中心は、支持マトリクス（８３４）の中心と一致するものとした。３分岐正星形構成に配設された３つの双極子磁石（８３２）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00310]支持マトリクス（８３４）は、長さ（Ａ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ａ３）がおよそ６ｍｍであるものとした。支持マトリクス（８３４）は、ＰＯＭで構成した。図８Ｂ２に示すように、支持マトリクス（８３４）の表面には、３つの双極子磁石（８３２）を受容する深さ（Ａ１０）がおよそ１ｍｍの３つの窪みと、正方形ループ状構成（８３１）を受容する深さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍの窪みとを含むものとした。
[00311]磁界発生装置（８４０）及び磁気アセンブリ（８３０）は、直接接触するものとした。すなわち、磁界発生装置（８４０）の下面と磁気アセンブリ（８３０）の上面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであった（図８Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（８４０）及び磁気アセンブリ（８３０）は、互いに中心を合わせた。すなわち、磁界発生装置（８４０）の長さ（Ｂ１）及び幅（Ｂ２）の中央部は、支持マトリクス（８３４）の長さ（Ａ１）及び幅（Ａ２）の中央部と位置合わせした。磁界発生装置（８４０）の上面と当該磁界発生装置（８４０）に面する基材（８２０）の表面との距離（ｈ）は、およそ１．５ｍｍであるものとした。
[00312]図８Ｃには、基材（８２０）を−２０°〜＋４０°傾斜させて見られる様々な視角から、図８Ａ及び図８Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。
実施例９（図９Ａ〜図９Ｃ）
[00313]図９Ａに示すように、実施例９の準備に使用した装置は、磁界発生装置（９４０）、磁気アセンブリ（９３０）、及び磁極片（９５０）を備え、磁界発生装置（９４０）は、磁気アセンブリ（９３０）と、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む被膜組成物を有する基材（９２０）との間に含まれるものとした。
[00314]磁界発生装置（９４０）は、長さ（Ｂ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ｂ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ２ｍｍの棒状双極子磁石で構成した。磁界発生装置（９４０）の磁気軸は、基材（９２０）の表面と実質的に平行であるものとした。磁界発生装置（９４０）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３０で構成した。
[00315]磁気アセンブリ（９３０）は、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（９３１）、３分岐正星形構成に配設された３つの双極子磁石（９３２）、支持マトリクス（９３４）、及びディスク状磁極片（９５０）を備えるものとした。
[00316]図９Ｂ１及び図９Ｂ２に示すように、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（９３１）はそれぞれ、長さ（Ａ７）がおよそ２５ｍｍ、幅（Ａ８）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍであるものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（９３１）は、支持マトリクス（９３４）において、それぞれの磁気軸が磁界発生装置（９４０）の磁気軸と実質的に平行且つ基材（９２０）の表面と実質的に平行であり、Ｎ極が半径方向に、上記正方形ループ状構成（９３１）のループの中心領域側を向き、Ｓ極が支持マトリクス（９３４）の外部側すなわち環境側を向くように配置した。正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石（９３１）により形成された正方形の中心は、支持マトリクス（９３４）の中心と一致するものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（９３１）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00317]３分岐正星形に配設された３つの双極子磁石（９３２）はそれぞれ、長さ（Ａ１３）がおよそ１０ｍｍ、幅（Ａ１４）がおよそ４ｍｍ、厚さ（Ａ１０）がおよそ１ｍｍであるものとした。それぞれの幅（Ａ１４）は、第１の棒状双極子磁石が磁界発生装置（９４０）の磁気軸と位置合わせされ、その他２つの棒状双極子磁石が第１の棒状双極子磁石とおよそ１２０°の角度（α）を成すように、直径（Ａ１５）がおよそ３．３ｍｍの仮想円の接線で配置した。３分岐正星形構成に配設された３つの棒状双極子磁石（９３２）それぞれの磁気軸は、磁界発生装置（９４０）の磁気軸と実質的に垂直且つ基材（９２０）の表面と実質的に垂直であり、Ｓ極が磁界発生装置（９４０）及び基材（９２０）の表面に面するものとした。３つの双極子磁石（９３２）により形成された３分岐正星形構成の仮想中心は、支持マトリクス（９３４）の中心と一致するものとした。３分岐正星形構成に配設された３つの双極子磁石（９３２）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00318]支持マトリクス（９３４）は、長さ（Ａ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ａ３）がおよそ６ｍｍであるものとした。支持マトリクス（９３４）は、ＰＯＭで構成した。図９Ｂ２に示すように、支持マトリクス（９３４）の表面には、３つの双極子磁石（９３２）を受容する深さ（Ａ１０）がおよそ１ｍｍの３つの窪みと、ループ状磁界発生装置（９３１）を受容する深さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍの窪みとを含むものとした。
[00319]磁極片（９５０）は、直径（Ｃ１）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｃ２）がおよそ２ｍｍであるものとした。磁極片（９５０）は、支持マトリクス（９３４）の下方に配置し、鉄で構成した。
[00320]磁界発生装置（９４０）及び磁気アセンブリ（９３０）は、直接接触するものとした。すなわち、磁界発生装置（９４０）の下面と磁気アセンブリ（９３０）の上面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであった（図９Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。支持マトリクス（９３４）及び磁極片（９５０）は、直接接触するものとした。すなわち、支持マトリクス（９３４）と磁極片（９５０）との距離（ｅ）は、およそ０ｍｍであった（図９Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（９４０）、磁気アセンブリ（９３０）、及び磁極片（９５０）は、互いに中心を合わせた。すなわち、磁界発生装置（９４０）の長さ（Ｂ１）及び幅（Ｂ２）の中央部は、支持マトリクス（９３４）の長さ（Ａ１）及び幅（Ａ２）の中央部並びに磁極片（９５０）の直径（Ｃ１）と位置合わせした。磁界発生装置（９４０）の上面と当該磁界発生装置（９４０）に面する基材（９２０）の表面との距離（ｈ）は、およそ１．５ｍｍであるものとした。
[00321]図９Ｃには、基材（９２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図９Ａ及び図９Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。
実施例１０（図１０Ａ〜図１０Ｃ）
[00322]図１０Ａに示すように、実施例１０の準備に使用した装置は、磁界発生装置（１０４０）、磁気アセンブリ（１０３０）、及び磁極片（１０５０）を備え、磁界発生装置（１０４０）は、磁気アセンブリ（１０３０）と、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む被膜組成物を有する基材（１０２０）との間に含まれるものとした。
[00323]磁界発生装置（１０４０）は、長さ（Ｂ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ｂ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ２ｍｍの棒状双極子磁石で構成した。磁界発生装置（１０４０）の磁気軸は、基材（１０２０）の表面と実質的に平行であるものとした。磁界発生装置（１０４０）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３０で構成した。
[00324]磁気アセンブリ（１０３０）は、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１０３１）、３分岐星形構成に配設された２つの双極子磁石（１０３２）の１０個の組み合わせ、支持マトリクス（１０３４）、及びディスク状磁極片（１０５０）を備えるものとした。
[00325]図１０Ｂ１及び図１０Ｂ２に示すように、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１０３１）はそれぞれ、長さ（Ａ７）がおよそ２５ｍｍ、幅（Ａ８）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍであるものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１０３１）は、支持マトリクス（１０３４）において、それぞれの磁気軸が磁界発生装置（１０４０）の磁気軸と実質的に平行且つ基材（１０２０）の表面と実質的に平行であり、Ｎ極が半径方向に、上記正方形ループ状構成（１０３１）のループの中心領域側を向き、Ｓ極が支持マトリクス（１０３４）の外部側すなわち環境側を向くように配置した。正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石（１０３１）により形成された正方形の中心は、支持マトリクス（１０３４）の中心と一致するものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１０３１）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00326]３分岐星形構成に配設された１０個の組み合わせの２０個の双極子磁石（１０３２）はそれぞれ、直径（Ａ９）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ１０の１／２）がおよそ２ｍｍであるものとした。１０個の組み合わせはそれぞれ、（一方が他方の上に配置された）２つの双極子磁石を含み、組み合わせ厚さ（Ａ１０）が４ｍｍであるものとした。２０個の双極子磁石（１０３２）はそれぞれ、磁気軸が磁界発生装置（１０４０）及び基材（１０２０）の表面と実質的に垂直であり、Ｓ極が磁界発生装置（１０４０）及び基材（１０２０）の表面に面するものとした。２つの双極子磁石の組み合わせが占める中心位置から、（Ａ１）方向に沿う３つの位置が２つの双極子磁石の３つの組み合わせ（すなわち、６つの双極子磁石）と適合し、各位置間の距離がおよそ２．５ｍｍ（Ａ１６）であるものとした。３つの位置のその他２つの分岐は、中心位置から始まって（Ａ２）に沿うあらゆる方向で、（Ａ２）に沿っておよそ２．５ｍｍ、（Ａ１）に沿って１．５ｍｍ（Ａ１７）の距離（Ａ１８）で次の位置が配置されるように、２つの双極子磁石のその他６つの組み合わせと適合するものとした。３分岐星形構成の中心位置は、支持マトリクス（１０３４）の中心と一致するものとした。２０個の双極子磁石（１０３２）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00327]支持マトリクス（１０３４）は、長さ（Ａ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ａ３）がおよそ６ｍｍであるものとした。支持マトリクス（１０３４）は、ＰＯＭで構成した。図１０Ｂ２に示すように、支持マトリクス（１０３４）の表面には、２つの双極子磁石（１０３２）の１０個の組み合わせを受容する深さ（Ａ１０）がおよそ４ｍｍの１０個の窪みと、ループ状磁界発生装置（１０３１）を受容する深さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍの窪みとを含むものとした。また、図１０Ｂ３に示すように、反対側には、ディスク状磁極片（１０５０）を受容する直径（Ｃ１）がおよそ２０ｍｍ、厚さ（Ｃ２）がおよそ１ｍｍの円形窪みを含み、上記ディスク状磁極片（１０５０）の直径（Ｃ１）がおよそ２０ｍｍ、厚さ（Ｃ２）がおよそ１ｍｍであるものとし、鉄で構成した。
[00328]磁界発生装置（１０４０）及び磁気アセンブリ（１０３０）は、直接接触するものとした。すなわち、磁界発生装置（１０４０）の下面と磁気アセンブリ（１０３０）の上面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであった（図１０Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。ディスク状磁極片（１０５０）は、支持マトリクス（１０３４）とディスク状磁極片との距離（ｅ）がおよそ−１ｍｍ（すなわち、磁極片の底部が支持マトリクスの底部と同一平面）となるように、支持マトリクス（１０３４）の下方の窪みに配置した。磁界発生装置（１０４０）、磁気アセンブリ（１０３０）、及びディスク状磁極片（１０５０）は、互いに中心を合わせた。すなわち、磁界発生装置（１０４０）の長さ（Ｂ１）及び幅（Ｂ２）の中央部は、磁気アセンブリ（１０３０）の長さ（Ａ１）及び幅（Ａ２）の中央部並びにディスク状磁極片（１０５０）の直径（Ｃ１）と位置合わせした。磁界発生装置（１０４０）の上面と当該磁界発生装置（１０４０）に面する基材（１０２０）の表面との距離（ｈ）は、およそ１．５ｍｍであるものとした。
[00329]図１０Ｃには、基材（１０２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図１０Ａ及び図１０Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。
実施例１１（図１１Ａ〜図１１Ｃ）
[00330]図１１Ａに示すように、実施例１１の準備に使用した装置は、磁界発生装置（１１４０）、磁気アセンブリ（１１３０）、及び磁極片（１１５０）を備え、磁界発生装置（１１４０）は、磁気アセンブリ（１１３０）と、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む被膜組成物を有する基材（１１２０）との間に含まれるものとした。
[00331]磁界発生装置（１１４０）は、長さ（Ｂ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ｂ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ２ｍｍの棒状双極子磁石で構成した。磁界発生装置（１１４０）の磁気軸は、基材（１１２０）の表面と実質的に平行であるものとした。磁界発生装置（１１４０）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３０で構成した。
[00332]磁気アセンブリ（１１３０）は、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１１３１）、３分岐星形構成に配置された２つの双極子磁石の１３個の組み合わせ（すなわち、２６個の双極子磁石）（１１３２）、支持マトリクス（１１３４）、及びディスク状磁極片（１１５０）を備えるものとした。
[00333]図１１Ｂ１及び図１１Ｂ２に示すように、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１１３１）はそれぞれ、長さ（Ａ７）がおよそ２５ｍｍ、幅（Ａ８）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍであるものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１１３１）は、支持マトリクス（１１３４）において、それぞれの磁気軸が磁界発生装置（１１４０）の磁気軸と実質的に平行且つ基材（１１２０）の表面と実質的に平行であり、Ｎ極が半径方向に、上記正方形ループ状構成（１１３１）のループの中心領域側を向き、Ｓ極が支持マトリクス（１１３４）の外部側すなわち環境側を向くように配置した。正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石（１１３１）により形成された正方形の中心は、支持マトリクス（１１３４）の中心と一致するものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１１３１）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00334]３分岐星形構成に配設された２６個の双極子磁石（１１３２）はそれぞれ、直径（Ａ９）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ１０の１／２）がおよそ２ｍｍであるものとした。１３個の組み合わせはそれぞれ、（一方が他方の上に配置された）２つの双極子磁石を含むことにより、組み合わせ厚さ（Ａ１０）が４ｍｍであり、上記２つの双極子磁石は、それぞれの磁気軸が同じ方向であるとともに、磁界発生装置（１１４０）及び基材（１１２０）の表面と実質的に垂直であるものとした。２つの双極子磁石の組み合わせが占める中心位置から、Ａ１方向に沿う３つの位置が２つの双極子磁石の３つの組み合わせ（すなわち、６つの双極子磁石）と適合し、各位置間の距離がおよそ２．５ｍｍ（Ａ１６）であるものとした。３つの位置のその他２つの分岐は、中心位置から始まってＡ２に沿う両方向で、Ａ２（Ａ１８）に沿っておよそ２．５ｍｍ、Ａ１（Ａ１７）に沿って１．５ｍｍの距離で次の位置が配置されるように、２つの双極子磁石の６つの組み合わせ（すなわち、１２個の双極子磁石）と適合するものとした。これら２０個の双極子磁石はそれぞれ、Ｓ極が磁界発生装置（１１４０）に面するように配置した。各分岐の原点（すなわち、中心位置）から反対方向に、Ｎ極が磁界発生装置（１１４０）に面するように、３つの位置が２つの双極子磁石の３つの組み合わせ（すなわち、６つの双極子磁石）とさらに適合するものとした。２つの双極子磁石の１つの組み合わせは、中心位置からＡ１に沿っておよそ２．５ｍｍの距離（Ａ１６）にあり、２つの双極子磁石のその他２つの組み合わせは、（Ａ２）に沿う両方向にそれぞれ、中心位置から（Ａ２）に沿っておよそ２．５ｍｍ（Ａ１８）且つ（Ａ１）に沿っておよそ１．５ｍｍ（Ａ１７）であるものとした。３分岐星形構成の中心位置は、支持マトリクス（１１３４）の中心と一致するものとした。２６個の双極子磁石（１１３２）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00335]支持マトリクス（１１３４）は、長さ（Ａ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ａ３）がおよそ６ｍｍであるものとした。支持マトリクス（１１３４）は、ＰＯＭで構成した。図１１Ｂ２に示すように、支持マトリクス（１１３４）の表面には、２つの双極子磁石（１１３２）の１３個の組み合わせを受容する深さ（Ａ１０の１／２）がおよそ４ｍｍの１３個の窪みと、ループ状磁界発生装置（１１３１）を受容する深さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍの窪みとを含むものとした。
[00336]ディスク状磁極片（１１５０）は、直径（Ｃ１）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｃ２）がおよそ２ｍｍであるものとした。ディスク状磁極片（１１５０）は、鉄で構成した。
[00337]磁界発生装置（１１４０）及び磁気アセンブリ（１１３０）は、直接接触するものとした。すなわち、磁界発生装置（１１４０）の下面と磁気アセンブリ（１１３０）の上面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであった（図１１Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。ディスク状磁極片（１１５０）は、支持マトリクス（１１３４）とディスク状磁極片との距離（ｅ）がおよそ０ｍｍとなるように、支持マトリクス（１１３４）の下方に配置した（図１１Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（１１４０）、磁気アセンブリ（１１３０）、及びディスク状磁極片（１１５０）は、互いに中心を合わせた。すなわち、磁界発生装置（１１４０）の長さ（Ｂ１）及び幅（Ｂ２）の中央部は、支持マトリクス（１１３４）の長さ（Ａ１）及び幅（Ａ２）の中央部並びにディスク状磁極片（１１５０）の直径（Ｃ１）と位置合わせした。磁界発生装置（１１４０）の上面と当該磁界発生装置（１１４０）に面する基材（１１２０）の表面との距離（ｈ）は、およそ１．５ｍｍであるものとした。
[00338]図１１Ｃには、基材（１１２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図１１Ａ及び図１１Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。
実施例１２（図１２Ａ〜図１２Ｃ）
[00339]図１２Ａに示すように、実施例１２の準備に使用した装置は、磁気アセンブリ（１２３０）及び磁界発生装置（１２４０）を備え、磁気アセンブリ（１２３０）は、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む被膜組成物を有する基材（１２２０）と上記磁界発生装置（１２４０）との間に配置した。
[00340]磁界発生装置（１２４０）は、長さ（Ｂ１）がおよそ６０ｍｍ、幅（Ｂ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ６ｍｍの棒状双極子磁石で構成した。磁界発生装置（１２４０）の磁気軸は、基材（１２２０）の表面と実質的に平行であるものとした。磁界発生装置（１２４０）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４２で構成した。
[00341]磁気アセンブリ（１２３０）は、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１２３１）、対角Ｘ交差構成に配置された２つの双極子磁石の９個の組み合わせ（すなわち、１８個の双極子磁石）（１２３２）、及び支持マトリクス（１２３４）を備えるものとした。
[00342]図１２Ｂ１及び図１２Ｂ２に示すように、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１２３１）はそれぞれ、長さ（Ａ７）がおよそ２５ｍｍ、幅（Ａ８）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍであるものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１２３１）は、支持マトリクス（１２３４）において、それぞれの磁気軸が磁界発生装置（１２４０）の磁気軸と実質的に平行且つ基材（１２２０）の表面と実質的に平行であり、Ｎ極が半径方向に、上記正方形ループ状構成（１２３１）のループの中心領域側を向き、Ｓ極が支持マトリクス（１２３４）の外部側すなわち環境側を向くように配置した。正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石（１２３１）により形成された正方形の中心は、支持マトリクス（１２３４）の中心と一致するものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１２３１）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00343]対角Ｘ交差構成に配設された１８個の双極子磁石（１２３２）はそれぞれ、直径（Ａ９）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ１０の１／２）がおよそ２ｍｍであるものとした。９個の組み合わせはそれぞれ、（一方が他方の上に配置された）２つの双極子磁石を含むことにより、組み合わせ厚さ（Ａ１０）が４ｍｍであり、上記２つの双極子磁石は、それぞれの磁気軸が磁界発生装置（１２４０）及び基材（１２２０）の表面と実質的に垂直であり、Ｓ極が上記磁界発生装置（１２４０）に面するものとした。２つの双極子磁石の組み合わせが占める中心位置から、各方向の両対角に沿う２つの位置が２つの双極子磁石の８つの組み合わせ（すなわち、１６個の双極子磁石）と適合し、２つの位置間の距離が（Ａ２）に沿っておよそ２．５５ｍｍ（Ａ１８）且つ（Ａ１）に沿って２．５５ｍｍ（Ａ１６）であるものとした。対角Ｘ交差の中心位置は、支持マトリクス（１２３４）の中心と一致するものとした。１８個の双極子磁石はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00344]支持マトリクス（１２３４）は、長さ（Ａ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ａ３）がおよそ６ｍｍであるものとした。支持マトリクス（１２３４）は、ＰＯＭで構成した。図１２Ｂ２に示すように、支持マトリクス（１２３４）の表面には、２つの双極子磁石（１２３２）の９個の組み合わせを受容する深さ（Ａ１０）がおよそ４ｍｍの９個の窪みと、ループ状磁界発生装置（１２３１）を受容する深さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍの窪みとを含むものとした。
[00345]磁気アセンブリ（１２３０）及び磁界発生装置（１２４０）は、直接接触するものとした。すなわち、磁気アセンブリ（１２３０）の下面と磁界発生装置（１２４０）の上面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであるものとした（図１２Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁気アセンブリ（１２３０）及び磁界発生装置（１２４０）は、互いに中心を合わせた。すなわち、磁界発生装置（１２４０）の長さ（Ｂ１）及び幅（Ｂ２）の中央部は、支持マトリクス（１２３４）の長さ（Ａ１）及び幅（Ａ２）の中央部と位置合わせした。磁気アセンブリ（１２３０）の上面と当該磁気アセンブリ（１２３０）に面する基材（１２２０）の表面との距離（ｈ）は、およそ２ｍｍとした。
[00346]図１２Ｃには、基材（１２２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図１２Ａ及び図１２Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。
実施例１３（図１３Ａ〜図１３Ｃ）
[00347]図１３Ａに示すように、実施例１３の準備に使用した装置は、磁気アセンブリ（１３３０）及び磁界発生装置（１３４０）を備え、磁気アセンブリ（１３３０）は、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む被膜組成物を有する基材（１３２０）と上記磁界発生装置（１３４０）との間に配置した。
[00348]磁界発生装置（１３４０）は、８つの棒状双極子磁石（１３４１）及び支持マトリクス（１３４２）を備えるものとした。図１３Ａに示すように、８つの棒状双極子磁石（１３４１）は、４つの棒状双極子磁石の２つの対称群にて配設した。８つの棒状双極子磁石（１３４１）はそれぞれ、長さ（Ｂ２）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ｂ１ｂ）がおよそ３ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ６ｍｍであるものとした（図１３Ｂ３）。８つの棒状双極子磁石（１３４１）はそれぞれ、基材（１３２０）の表面に対して実質的に平行で、同じ方向を向いた磁気軸を有するものとした。８つの棒状双極子磁石（１３４１）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４２で構成した。図１３Ｂ３に示すように、支持マトリクス（１３４２）は、長さ（Ｂ１ａ）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ｂ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ７ｍｍであり、中央の隆起部の長さ（Ｂ６）がおよそ６ｍｍ、厚さ（Ｂ４）がおよそ６ｍｍ（すなわち、棒状双極子磁石（１３４１）の厚さに等しい）であるものとした。支持マトリクス（１３４２）は、ＰＯＭで構成した。
[00349]磁気アセンブリ（１３３０）は、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１３３１）、対角Ｘ交差構成に配置された２つの双極子磁石の９個の組み合わせ（すなわち、１８個の双極子磁石）（１３３２）、及び支持マトリクス（１３３４）を備えるものとした。
[00350]図１３Ｂ１及び図１３Ｂ２に示すように、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１３３１）はそれぞれ、長さ（Ａ７）がおよそ２５ｍｍ、幅（Ａ８）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍであるものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１３３１）は、支持マトリクス（１３３４）において、それぞれの磁気軸が磁界発生装置（１３４０）の磁気軸と実質的に平行且つ基材（１３２０）の表面と実質的に平行であり、Ｎ極が半径方向に、上記正方形ループ状構成（１３３１）のループの中心領域側を向き、Ｓ極が支持マトリクス（１３３４）の外部側すなわち環境側を向くように配置した。正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石（１３３１）により形成された正方形の中心は、支持マトリクス（１３３４）の中心と一致するものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１３３１）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00351]対角Ｘ交差構成に配設された１８個の双極子磁石（１３３２）はそれぞれ、直径（Ａ９）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ１０の１／２）がおよそ２ｍｍであるものとした。９個の組み合わせはそれぞれ、（一方が他方の上に配置された）２つの双極子磁石を含むことにより、組み合わせ厚さ（Ａ１０）が４ｍｍであり、上記２つの双極子磁石は、それぞれの磁気軸が基材（１３２０）の表面と実質的に垂直であり、Ｓ極が基材（１３２０）の表面に面するものとした。２つの双極子磁石の組み合わせが占める中心位置から、各方向の両対角に沿う２つの位置が２つの双極子磁石の８つの組み合わせ（すなわち、１６個の双極子磁石）と適合し、２つの位置間の距離が（Ａ２）に沿っておよそ２．５５ｍｍ（Ａ１８）且つＡ１に沿って２．５５ｍｍ（Ａ１６）であるものとした。対角Ｘ交差の中心位置は、支持マトリクス（１３３４）の中心と一致するものとした。１８個の双極子磁石はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00352]支持マトリクス（１３３４）は、長さ（Ａ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ａ３）がおよそ６ｍｍであるものとした。支持マトリクス（１３３４）は、ＰＯＭで構成した。図１３Ｂ２に示すように、支持マトリクス（１３３４）の表面には、２つの双極子磁石（１３３２）の９個の組み合わせを受容する深さ（Ａ１０）がおよそ４ｍｍの９個の窪みと、ループ状磁界発生装置（１３３１）を受容する深さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍの窪みとを含むものとした。
[00353]磁気アセンブリ（１３３０）及び磁界発生装置（１３４０）は、直接接触するものとした。すなわち、磁気アセンブリ（１３３０）の下面と磁界発生装置（１３４０）の上面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであるものとした（図１３Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁気アセンブリ（１３３０）及び磁界発生装置（１３４０）は、互いに中心を合わせた。すなわち、支持マトリクス（１３３４）の長さ（Ａ１）及び幅（Ａ２）の中央部は、磁界発生装置（１３４０）の長さ（Ｂ１ａ）及び幅（Ｂ２）の中央部と位置合わせした。磁気アセンブリ（１３３０）の上面と当該磁気アセンブリ（１３３０）に面する基材（１３２０）の表面との距離（ｈ）は、およそ１．５ｍｍとした。
図１３Ｃには、基材（１３２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図１３Ａ及び図１３Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。
実施例１４（図１４Ａ〜図１４Ｃ）
[00354]図１４Ａに示すように、実施例１４の準備に使用した装置は、磁気アセンブリ（１４３０）及び磁界発生装置（１４４０）を備え、磁気アセンブリ（１４３０）は、非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む被膜組成物を有する基材（１４２０）と上記磁界発生装置（１４４０）との間に配置した。
[00355]磁界発生装置（１４４０）は、７つの棒状双極子磁石（１４４１）及び支持マトリクス（１４４２）を備えるものとした。図１４Ａに示すように、７つの棒状双極子磁石（１４４１）は、４つ及び３つから成る２つの非対称群にて配設した。７つの棒状双極子磁石（１４４１）はそれぞれ、長さ（Ｂ２）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ｂ１ｂ）がおよそ３ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ６ｍｍであるものとした。７つの棒状双極子磁石（１４４１）はそれぞれ、基材（１４２０）の表面に対して実質的に平行で、同じ方向を向いた磁気軸を有するものとした。７つの棒状双極子磁石（１４４１）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４２で構成した。図１４Ｂ３に示すように、支持マトリクス（１４４２）は、長さ（Ｂ１ａ）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ｂ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ７ｍｍであり、中央の隆起部の長さ（Ｂ６）がおよそ６ｍｍ、厚さ（Ｂ４）がおよそ６ｍｍであり、側方の隆起の長さ（Ｂ８）がおよそ３ｍｍ、厚さ（Ｂ４）がおよそ６ｍｍ（すなわち、棒状双極子磁石（１４４１）の厚さに等しい）であるものとした。支持マトリクス（１４４２）は、ＰＯＭで構成した。
[00356]磁気アセンブリ（１４３０）は、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１４３１）、対角Ｘ交差構成に配置された２つの双極子磁石の９個の組み合わせ（すなわち、１８個の双極子磁石）（１４３２）、及び支持マトリクス（１４３４）を備えるものとした。
[00357]図１４Ｂ１及び図１４Ｂ２に示すように、正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１４３１）はそれぞれ、長さ（Ａ７）がおよそ２５ｍｍ、幅（Ａ８）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍであるものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１４３１）は、支持マトリクス（１４３４）において、それぞれの磁気軸が磁界発生装置（１４４０）の磁気軸と実質的に平行且つ基材（１４２０）の表面と実質的に平行であり、Ｎ極が半径方向に、上記正方形ループ状構成（１４３１）のループの中心領域側を向き、Ｓ極が支持マトリクス（１４３４）の外部側すなわち環境側を向くように配置した。正方形ループ状構成に配設された４つの双極子磁石（１４３１）により形成された正方形の中心は、支持マトリクス（１４３４）の中心と一致するものとした。正方形ループ状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（１４３１）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00358]対角Ｘ交差構成に配設された１８個の双極子磁石（１４３２）はそれぞれ、直径（Ａ９）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ１０の１／２）がおよそ２ｍｍであるものとした。９個の組み合わせはそれぞれ、（一方が他方の上に配置された）２つの双極子磁石を含むことにより、組み合わせ厚さ（Ａ１０）が４ｍｍであり、上記２つの双極子磁石は、それぞれの磁気軸が基材（１４２０）の表面と実質的に垂直であり、Ｓ極が基材（１４２０）の表面に面するものとした。２つの双極子磁石の組み合わせが占める中心位置から、各方向の両対角に沿う２つの位置が２つの双極子磁石の８つの組み合わせ（すなわち、１６個の双極子磁石）と適合し、２つの位置間の距離がＡ２に沿っておよそ２．５５ｍｍ（Ａ１８）且つ（Ａ１）に沿って２．５５ｍｍ（Ａ１６）であるものとした。対角Ｘ交差の中心位置は、支持マトリクス（１４３４）の中心と一致するものとした。１８個の双極子磁石はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
[00359]支持マトリクス（１４３４）は、長さ（Ａ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ａ３）がおよそ６ｍｍであるものとした。支持マトリクス（１４３４）は、ＰＯＭで構成した。図１４Ｂ２に示すように、支持マトリクス（１４３４）の表面には、２つの双極子磁石（１４３２）の９個の組み合わせ用の深さ（Ａ１０）がおよそ４ｍｍの９個の窪みと、ループ状磁界発生装置（１４３１）を受容する深さ（Ａ６）がおよそ５ｍｍの窪みとを含むものとした。
[00360]磁気アセンブリ（１４３０）及び磁界発生装置（１４４０）は、直接接触するものとした。すなわち、磁気アセンブリ（１４３０）の下面と磁界発生装置（１４４０）の上面との距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであるものとした（図１４Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁気アセンブリ（１４３０）及び磁界発生装置（１４４０）は、互いに中心を合わせた。すなわち、支持マトリクス（１４３４）の長さ（Ａ１）及び幅（Ａ２）の中央部は、磁界発生装置（１４４０）の長さ（Ｂ１ａ）及び幅（Ｂ２）の中央部と位置合わせした。磁気アセンブリ（１４３０）の上面と当該磁気アセンブリ（１４３０）に面する基材（１４２０）の表面との距離（ｈ）は、およそ１．５ｍｍとした。
[00361]図１４Ｃには、基材（１４２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させて見られる様々な視角から、図１４Ａ及び図１４Ｂに示す装置により生成された結果としてのＯＥＬを示している。

Claims (13)

  1. 光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を基材（ｘ２０）上に生成するプロセスであって、
    ｉ）非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む第１の状態の放射線硬化性被膜組成物を基材（ｘ２０）の表面に適用するステップと、
    ｉｉ）前記非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるために、前記放射線硬化性被膜組成物を装置の磁界に曝露するステップであって、前記装置は、
    ａ）支持マトリクス（ｘ３４）を備える磁気アセンブリ（ｘ３０）であり、
    ａ１）単一のループ状磁石、又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組み合わせのいずれかであり、半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）と、
    ａ２）前記基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸を有する単一の双極子磁石（ｘ３２）、若しくは前記基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する単一の双極子磁石（ｘ３２）、又は前記基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）であり、
    前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する前記単一のループ状磁石又は前記２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向いている場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が前記基材（ｘ２０）に面している、或いは
    前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する前記単一のループ状磁石又は前記２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向いている場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が前記基材（ｘ２０）に面している、
    単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）と
    を備える、磁気アセンブリ（ｘ３０）と、
    ｂ）前記基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する単一の棒状双極子磁石、又は前記基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸及び同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組み合わせのいずれかである磁界発生装置（ｘ４０）と
    を備える、ステップと、
    ｉｉｉ）前記非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの位置及び配向に固定するために、ステップｉｉ）の前記放射線硬化性被膜組成物を第２の状態になるまで少なくとも部分的に硬化させるステップと
    を含み、
    前記光学効果層が、前記光学効果層を傾斜させることによりサイズが変化する１つ又は複数のループ状体に見える光学的印象をもたらす、プロセス。
  2. 前記磁気アセンブリ（ｘ３０）が、前記支持マトリクス（ｘ３４）と、
    ａ１）前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）と、
    ａ２）前記単一の双極子磁石（ｘ３２）又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）と、
    ａ３）１つ又は複数のループ状磁極片（ｘ３３）と
    を備える、請求項１に記載のプロセス。
  3. 前記装置が、ｃ）１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）をさらに備え、前記磁界発生装置（ｘ４０）が前記磁気アセンブリ（ｘ３０）の上に配置され、前記磁気アセンブリ（ｘ３０）が前記１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）の上に配置される、請求項１又は２に記載のプロセス。
  4. 前記ステップｉ）が、印刷プロセス、好ましくはスクリーン印刷、グラビア印刷、及びフレキソ印刷から成る群から選択される印刷プロセスによって実行される、請求項１〜３のいずれか一項に記載のプロセス。
  5. 複数の前記非球状の磁性粒子又は磁化可能粒子の少なくとも一部が、光学可変性の非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子により構成されている、請求項１〜４のいずれか一項に記載のプロセス。
  6. 前記光学可変性の磁性顔料又は磁化可能顔料が、磁気薄膜干渉顔料、磁気コレステリック液晶顔料、及びこれらの混合物から成る群から選択される、請求項５に記載のプロセス。
  7. 前記ステップｉｉｉ）が、前記ステップｉｉ）と一部同時に実行される、請求項１〜６のいずれか一項に記載のプロセス。
  8. 前記非球状の磁性粒子又は磁化可能粒子が、血小板状の顔料粒子であり、前記プロセスは、前記血小板状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるために、第１の磁界発生装置の動的な磁界に対して前記放射線硬化性被膜組成物を曝露するステップであって、前記ステップｉ）の後及び前記ステップｉｉ）の前に実行される、ステップをさらに含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載のプロセス。
  9. 光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を基材（ｘ２０）上に生成する装置であって、前記光学効果層が、前記光学効果層を傾斜させることによりサイズが変化する１つ又は複数のループ状体に見える光学的印象をもたらすとともに、硬化した放射線硬化性被膜組成物中に配向した非球状の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含み、前記装置は、
    ａ）支持マトリクス（ｘ３４）を備える磁気アセンブリ（ｘ３０）であり、
    ａ１）単一のループ状磁石、又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組み合わせのいずれかであり、半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）と、
    ａ２）前記基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸を有する単一の双極子磁石（ｘ３２）、若しくは前記基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する単一の双極子磁石（ｘ３２）、又は前記基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に垂直な磁気軸をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）であり、
    前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する前記単一のループ状磁石又は前記２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向いている場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が前記基材（ｘ２０）に面している、或いは
    前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する前記単一のループ状磁石又は前記２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向いている場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が前記基材（ｘ２０）に面している、
    単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）と
    を備える、磁気アセンブリ（ｘ３０）と、
    ｂ）前記基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸を有する単一の棒状双極子磁石、又は前記基材（ｘ２０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸及び同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組み合わせのいずれかである磁界発生装置（ｘ４０）と
    を備える、装置。
  10. 前記磁気アセンブリ（ｘ３０）が、前記支持マトリクス（ｘ３４）と、
    ａ１）前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）と、
    ａ２）前記単一の双極子磁石（ｘ３２）又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）と、
    ａ３）１つ又は複数のループ状磁極片（ｘ３３）と
    を備える、請求項９に記載の装置。
  11. ｃ）１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）をさらに備え、前記磁界発生装置（ｘ４０）が前記磁気アセンブリ（ｘ３０）の上に配置され、前記磁気アセンブリ（ｘ３０）が前記１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）の上に配置される、請求項９又は１０に記載の装置。
  12. 光学効果層（ＯＥＬ）を基材上に生成するための、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の装置の使用。
  13. 請求項９〜１１のいずれか一項に記載の装置のうちの少なくとも１つを備えた回転磁気シリンダ、又は請求項９〜１１のいずれか一項に記載の装置のうちの少なくとも１つを備えた平台印刷ユニットを備えた、印刷装置。
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI794359B (zh) 2018-01-17 2023-03-01 瑞士商西克帕控股有限公司 用於生產光學效應層之製程
KR20210047307A (ko) * 2018-07-30 2021-04-29 시크파 홀딩 에스에이 배향된 자성 또는 자화성 안료 입자를 포함하는 광학 효과층을 제조하는 조립체 및 방법
TWI829734B (zh) * 2018-09-10 2024-01-21 瑞士商西克帕控股有限公司 光學效應層、生產其之製程、及包含其之安全文件、裝飾元件及物件
FR3090992B1 (fr) 2018-12-19 2021-06-04 Oberthur Fiduciaire Sas Dispositif configuré pour orienter des particules sensibles au champ magnétique, machine et appareil qui en sont équipés
WO2020160993A1 (en) * 2019-02-08 2020-08-13 Sicpa Holding Sa Magnetic assemblies and processes for producing optical effect layers comprising oriented non-spherical oblate magnetic or magnetizable pigment particles
WO2020167474A1 (en) * 2019-02-14 2020-08-20 True Temper Sports, Inc. Sports equipment with pattern created in magnetic paint
WO2020193009A1 (en) * 2019-03-28 2020-10-01 Sicpa Holding Sa Magnetic assemblies and processes for producing optical effect layers comprising oriented non-spherical magnetic or magnetizable pigment particles
WO2021083809A1 (en) * 2019-10-28 2021-05-06 Sicpa Holding Sa Magnetic assemblies and processes for producing optical effect layers comprising oriented non-spherical magnetic or magnetizable pigment particles
BR112022007934A2 (pt) * 2019-10-28 2022-07-12 Sicpa Holding Sa Montagens magnéticas e processos para produzir camadas de efeito óptico que compreendem partículas de pigmento orientadas não esféricas magnéticas ou magnetizáveis
CN111645411B (zh) * 2020-05-13 2022-07-26 惠州市华阳光学技术有限公司 磁定向装置和印刷设备
US20230201872A1 (en) 2020-05-26 2023-06-29 Sicpa Holding Sa Magnetic assemblies and methods for producing optical effect layers comprising oriented platelet-shaped magnetic or magnetizable pigment particles
BR112022025995A2 (pt) 2020-06-23 2023-01-17 Sicpa Holding Sa Métodos para produzir camadas de efeito óptico que compreendem partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis
TW202239482A (zh) 2021-03-31 2022-10-16 瑞士商西克帕控股有限公司 用於產生包含磁性或可磁化顏料粒子且展現一或更多個標記的光學效應層之方法
WO2023161464A1 (en) 2022-02-28 2023-08-31 Sicpa Holding Sa Methods for producing optical effect layers comprising magnetic or magnetizable pigment particles and exhibiting one or more indicia
WO2024028408A1 (en) 2022-08-05 2024-02-08 Sicpa Holding Sa Methods for producing optical effect layers comprising magnetic or magnetizable pigment particles and exhibiting one or more indicia
EP4338854A2 (en) 2023-12-20 2024-03-20 Sicpa Holding SA Processes for producing optical effects layers

Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2570856A (en) * 1947-03-25 1951-10-09 Du Pont Process for obtaining pigmented films
US3676273A (en) 1970-07-30 1972-07-11 Du Pont Films containing superimposed curved configurations of magnetically orientated pigment
IT938725B (it) * 1970-11-07 1973-02-10 Magnetfab Bonn Gmbh Procedimento e dispositivo per otte nere disegni in strati superficiali per mezzo di campi magnetici
US4838648A (en) 1988-05-03 1989-06-13 Optical Coating Laboratory, Inc. Thin film structure having magnetic and color shifting properties
EP0556449B1 (en) 1992-02-21 1997-03-26 Hashimoto Forming Industry Co., Ltd. Painting with magnetically formed pattern and painted product with magnetically formed pattern
DE4419173A1 (de) * 1994-06-01 1995-12-07 Basf Ag Magnetisierbare mehrfach beschichtete metallische Glanzpigmente
DE59810413D1 (de) 1997-09-02 2004-01-22 Basf Ag Mehrschichtige cholesterische pigmente
JP2001515094A (ja) 1997-09-02 2001-09-18 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト コレステリック効果層およびその製造方法
DE19820225A1 (de) 1998-05-06 1999-11-11 Basf Ag Mehrschichtige cholesterische Pigmente
US7604855B2 (en) 2002-07-15 2009-10-20 Jds Uniphase Corporation Kinematic images formed by orienting alignable flakes
US7047883B2 (en) * 2002-07-15 2006-05-23 Jds Uniphase Corporation Method and apparatus for orienting magnetic flakes
ATE485345T1 (de) 1999-09-03 2010-11-15 Jds Uniphase Corp Verfahren und einrichtung zur herstellung von interferenzpigmenten
EP1239307A1 (en) 2001-03-09 2002-09-11 Sicpa Holding S.A. Magnetic thin film interference device
US20020160194A1 (en) 2001-04-27 2002-10-31 Flex Products, Inc. Multi-layered magnetic pigments and foils
US7934451B2 (en) * 2002-07-15 2011-05-03 Jds Uniphase Corporation Apparatus for orienting magnetic flakes
EP1493590A1 (en) 2003-07-03 2005-01-05 Sicpa Holding S.A. Method and means for producing a magnetically induced design in a coating containing magnetic particles
EP1669213A1 (en) 2004-12-09 2006-06-14 Sicpa Holding S.A. Security element having a viewing-angle dependent aspect
CN101087864B (zh) 2004-12-16 2014-11-26 西柏控股股份有限公司 具有特定性能的胆甾型单层和单层颜料、它们的生产和用途
DE102005028162A1 (de) * 2005-02-18 2006-12-28 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement und Verfahren zu seiner Herstellung
CA2541568C (en) 2005-04-06 2014-05-13 Jds Uniphase Corporation Dynamic appearance-changing optical devices (dacod) printed in a shaped magnetic field including printable fresnel structures
EP1854852A1 (en) 2006-05-12 2007-11-14 Sicpa Holding S.A. Coating composition for producing magnetically induced images
JP4941870B2 (ja) 2006-10-17 2012-05-30 エス・アイ・シー・ピー・エイ・ホールディング・ソシエテ・アノニム 磁性粒子を含有するコーティングにおいて磁気誘導されたしるしを作成するための方法および手段
CA2627143A1 (en) 2007-04-04 2008-10-04 Jds Uniphase Corporation Three-dimensional orientation of grated flakes
EP1990208A1 (en) 2007-05-10 2008-11-12 Kba-Giori S.A. Device and method for magnetically transferring indica to a coating composition applied to a substrate
RU2499635C2 (ru) 2008-08-18 2013-11-27 Джей Ди Эс ЮНИФЕЙЗ КОРПОРЕЙШН Двухосевое выравнивание магнитных пластинок
TWI487626B (zh) * 2008-12-10 2015-06-11 Sicpa Holding Sa 用於磁性取向及印刷的裝置及製程
JP5126185B2 (ja) * 2009-08-26 2013-01-23 カシオ計算機株式会社 塗布装置
GB201001603D0 (en) 2010-02-01 2010-03-17 Rue De Int Ltd Security elements, and methods and apparatus for their manufacture
US20120001116A1 (en) 2010-06-30 2012-01-05 Jds Uniphase Corporation Magnetic multilayer pigment flake and coating composition
CN102529326B (zh) * 2011-12-02 2014-08-06 惠州市华阳光学技术有限公司 磁性颜料印刷品的磁定向装置、制造装置及制造方法
BR112014026974B1 (pt) * 2012-05-07 2020-12-08 Sicpa Holding Sa camada de efeito óptico, dispositivo e método para produzir a mesma, documento de segurança e uso de uma camada de sefeito óptico
RS63633B1 (sr) * 2013-01-09 2022-10-31 Sicpa Holding Sa Slojevi optičkih efekata koji prikazuju optički efekat zavisan od ugla gledanja; procesi i uređaji za njihovu proizvodnju; predmeti koji imaju sloj optičkog efekta; i njihova upotreba
TW201431616A (zh) 2013-01-09 2014-08-16 Sicpa Holding Sa 顯示取決於視角的光學效應之光學效應層；用於其生產之工藝和裝置；攜帶光學效應層之物品；及其用途
US9659696B2 (en) * 2013-06-14 2017-05-23 Sicpa Holding Sa Permanent magnet assemblies for generating concave field lines and process for creating optical effect coating therewith (inverse rolling bar)
ES2755151T3 (es) 2013-12-04 2020-04-21 Sicpa Holding Sa Dispositivos para producir capas de efecto óptico
CN105980068B (zh) 2013-12-13 2020-03-17 锡克拜控股有限公司 制造效应层的方法

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