JP6870028B2 - 少なくとも1つの3次元物体を付加製造する方法 - Google Patents
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Description
造形材料層(3)の連続した層ごとの選択的な照射及び固化によって少なくとも1つの3次元物体(2)を付加製造する方法であって、各造形材料層(3)は、少なくとも1つのエネルギービーム(5)を用いて照射及び固化される少なくとも1つの照射領域(IA)を含む、方法であって、
各照射領域(IA)の連続した層ごとの選択的な照射及び固化は、各造形材料層(3)の前記照射領域(IA)内への特定の量のエネルギー入力をもたらす少なくとも1つの照射パラメータセット(IPS)に基づいて実行され、前記少なくとも1つの照射パラメータセット(IPS)は少なくとも1つの照射パラメータを含み、
第1の照射パラメータセット(IPS1)及び少なくとも1つのさらなる照射パラメータセット(IPS2)が使用され、
前記第1の照射パラメータセット(IPS1)は、第1の造形材料層(3)の照射領域(IA)内への第1の量のエネルギー入力を可能にし、これにより、前記第1の造形材料層(3)の下に直接配置された第2の造形材料層(3)の選択的に照射及び固化された領域との、前記第1の造形材料層(3)の前記照射領域(IA)の接続がもたらされ、
前記少なくとも1つのさらなる照射パラメータセット(IPS2)は、第1の造形材料層(3)の照射領域(IA)内へのさらなる量のエネルギー入力を可能にし、これにより、前記第1の造形材料層(3)の下に直接配置された第2の造形材料層(3)及び前記第2の造形材料層(3)の下に直接配置された少なくとも1つのさらなる造形材料層(3)の選択的に照射及び固化された領域との、前記第1の造形材料層(3)の前記照射領域(IA)の接続がもたらされる、
方法。
少なくとも1つの分割基準に基づいて少なくとも1つの造形材料層(3)の少なくとも1つの照射領域(IA)を少なくとも1つの第1のサブ領域(SA1)及び少なくとも1つのさらなるサブ領域(SA2)に分割することを含み、それにより、
前記少なくとも1つの第1のサブ領域(SA1)は前記第1の照射パラメータセット(IPS1)を用いて照射され、
前記少なくとも1つのさらなるサブ領域(SA2)は前記さらなる照射パラメータ(IPS2)セットを用いて照射され、又はその逆が行われる、
付記1に記載の方法。
前記分割基準は、前記各造形材料層(3)の各サブ領域(SA)において付加製造される前記3次元物体(2)の構造特性に関連している、付記2に記載の方法。
前記構造特性は、前記各造形材料層(3)の前記各サブ領域(SA)における前記3次元物体(2)の機械的安定性であるか又は前記機械的安定性を示す、付記3に記載の方法。
前記分割基準は、前記各造形材料層(3)の前記各サブ領域(SA)において付加製造される前記3次元物体(2)の幾何学的特性に関連している、付記2〜付記4のいずれか一項に記載の方法。
前記幾何学的特性は、前記各造形材料層(3)の前記各サブ領域(SA)における前記3次元物体(2)のオーバーハング部分(OS)であるか又は前記オーバーハング部分(OS)を示す、付記5に記載の方法。
前記幾何学的特性は、事前定義可能な又は事前定義された閾値より上又は下の、前記各造形材料層(3)の前記各サブ領域(SA)における前記3次元物体(2)の寸法、特に前記3次元物体(2)の長さ及び/又は幅であるか、又は前記寸法を示す、付記5又は付記6に記載の方法。
前記幾何学的特性は、前記各造形材料層(3)の前記各サブ領域(SA)における前記3次元物体(2)の自由に露出される外側輪郭セクション(OC)であるか若しくは前記外側輪郭セクション(OC)を示し、又は、前記各造形材料層(3)の前記各サブ領域(SA)における前記3次元物体(2)のコア部分(OC)を示す、付記5〜付記7のいずれか一項に記載の方法。
前記さらなる照射パラメータセット(IPS2)は、前記第1の照射パラメータセット(IPS1)と比較して、各造形材料層(3)の前記照射領域(IA)内へのより大きなエネルギー入力を、特に、前記エネルギー入力の浸入深さをもたらす少なくとも1つの照射パラメータを含み、又はその逆である、付記1〜付記8のいずれか一項に記載の方法。
前記第1の照射パラメータセット(IPS1)は全ての造形材料層(3)において適用され、前記さらなる照射パラメータセット(IPS2)は全ての造形材料層(3)において適用されるわけではない、付記1〜付記9のいずれか一項に記載の方法。
前記少なくとも1つのさらなる照射パラメータセット(IPS2)は、1つおきの造形材料層(3)において適用されるのみである、付記10に記載の方法。
造形材料層(3)の連続した層ごとの選択的な照射及び固化によって少なくとも1つの3次元物体(2)を付加製造する装置(1)のための制御ユニット(6)であって、各造形材料層(3)は少なくとも1つのエネルギービーム(5)を用いて照射及び固化される少なくとも1つの照射領域(IA)を含み、
前記制御ユニット(6)は、請求項1〜請求項11のいずれか一項に記載の方法に従って各照射領域(IA)の連続した層ごとの選択的な照射及び固化を制御するように構成された、
制御ユニット(6)。
造形材料層(3)の連続した層ごとの選択的な照射及び固化によって少なくとも1つの3次元物体(2)を付加製造する装置(1)であって、各造形材料層(3)は少なくとも1つのエネルギービーム(5)を用いて照射及び固化される少なくとも1つの照射領域(IA)を含み、前記装置(1)は、請求項12に記載の制御ユニット(6)を含む、装置(1)。
Claims (10)
- 造形材料層(3)の連続した層ごとの選択的な照射及び固化によって少なくとも1つの3次元物体(2)を付加製造する方法であって、各造形材料層(3)は、少なくとも1つのエネルギービーム(5)を用いて照射及び固化される少なくとも1つの照射領域(IA)を含む、方法であって、
各照射領域(IA)の連続した層ごとの選択的な照射及び固化は、各造形材料層(3)の前記照射領域(IA)内への特定の量のエネルギー入力をもたらす少なくとも1つの照射パラメータセット(IPS)に基づいて実行され、前記少なくとも1つの照射パラメータセット(IPS)は少なくとも1つの照射パラメータを含み、
第1の照射パラメータセット(IPS1)及び少なくとも1つのさらなる照射パラメータセット(IPS2)が使用され、
前記第1の照射パラメータセット(IPS1)は、第1の造形材料層(3)の照射領域(IA)内への第1の量のエネルギー入力を可能にし、これにより、前記第1の造形材料層(3)の下に直接配置された第2の造形材料層(3)の選択的に照射及び固化された領域との、前記第1の造形材料層(3)の前記照射領域(IA)の接続がもたらされ、
前記少なくとも1つのさらなる照射パラメータセット(IPS2)は、第1の造形材料層(3)の照射領域(IA)内へのさらなる量のエネルギー入力を可能にし、これにより、前記第1の造形材料層(3)の下に直接配置された第2の造形材料層(3)及び前記第2の造形材料層(3)の下に直接配置された少なくとも1つのさらなる造形材料層(3)の選択的に照射及び固化された領域との、前記第1の造形材料層(3)の前記照射領域(IA)の接続がもたらされ、
前記第1の照射パラメータセット(IPS1)は全ての造形材料層(3)において適用され、前記さらなる照射パラメータセット(IPS2)は全ての造形材料層(3)において適用されるわけではない、
方法。 - 少なくとも1つの分割基準に基づいて少なくとも1つの造形材料層(3)の少なくとも1つの照射領域(IA)を少なくとも1つの第1のサブ領域(SA1)及び少なくとも1つのさらなるサブ領域(SA2)に分割することを含み、それにより、
前記少なくとも1つの第1のサブ領域(SA1)は前記第1の照射パラメータセット(IPS1)を用いて照射され、
前記少なくとも1つのさらなるサブ領域(SA2)は前記さらなる照射パラメータ(IPS2)セットを用いて照射され、又はその逆が行われる、
請求項1に記載の方法。 - 前記分割基準は、前記各造形材料層(3)の各サブ領域(SA)において付加製造される前記3次元物体(2)の構造特性に関連している、請求項2に記載の方法。
- 前記構造特性は、前記各造形材料層(3)の前記各サブ領域(SA)における前記3次元物体(2)の機械的安定性であるか又は前記機械的安定性を示す、請求項3に記載の方法。
- 前記分割基準は、前記各造形材料層(3)の前記各サブ領域(SA)において付加製造される前記3次元物体(2)の幾何学的特性に関連している、請求項3に記載の方法。
- 前記幾何学的特性は、前記各造形材料層(3)の前記各サブ領域(SA)における前記3次元物体(2)のオーバーハング部分(OS)であるか又は前記オーバーハング部分(OS)を示す、請求項5に記載の方法。
- 前記幾何学的特性は、事前定義可能な又は事前定義された閾値より上又は下の、前記各造形材料層(3)の前記各サブ領域(SA)における前記3次元物体(2)の長さ及び/又は幅を示す、請求項5又は請求項6に記載の方法。
- 前記幾何学的特性は、前記各造形材料層(3)の前記各サブ領域(SA)における前記3次元物体(2)の自由に露出される外側輪郭セクション(OC)であるか若しくは前記外側輪郭セクション(OC)を示し、又は、前記各造形材料層(3)の前記各サブ領域(SA)における前記3次元物体(2)のコア部分(OC)を示す、請求項5〜請求項7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記さらなる照射パラメータセット(IPS2)は、前記第1の照射パラメータセット(IPS1)と比較して、各造形材料層(3)の前記照射領域(IA)内へのより大きなエネルギー入力の浸入深さをもたらす少なくとも1つの照射パラメータを含み、又はその逆である、請求項1〜請求項8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのさらなる照射パラメータセット(IPS2)は、1つおきの造形材料層(3)において適用されるのみである、請求項1〜請求項9のいずれか一項に記載の方法。
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