JP6866289B2 - リチウム生成槽、及び、リチウムの生成方法 - Google Patents

リチウム生成槽、及び、リチウムの生成方法 Download PDF

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Description

本開示は、概して、リチウム金属を得るための改良された方法、及び、当該方法を実行するための槽に関する。
リチウムは、化学元素のアルカリ金属族に属する、柔らかい銀白色の金属である。リチウムは、最も軽い金属であり、最も低密度の固体元素である。リチウムは、反応性が高く且つ可燃性が高い。その高い反応性のため、リチウムは自然界では自由に存在するのではなく、組成中に現れるのみであり、通常は本質的にイオン性である。他のアルカリ金属と同様、リチウムは、陽イオンを形成するために容易に放出される1個の価電子を有する。このため、リチウムは、高反応性元素であるとともに、良好な熱伝導体及び電気伝導体である。その反応性のため、リチウムは、しばしば鉱物油である炭化水素に覆われた状態で通常は保管される。湿った空気中では、リチウムは急速に変色し、水酸化リチウム(LiOH及びLiOH・HO)の黒色被膜を形成する。
リチウム化合物の用途は、シリカを低熱膨張率の釉薬(炭酸リチウム(LiCO))に処理するためのフラックスとして、また、水酸化リチウムとともに耐熱食器の成分として、の酸化リチウムを含む。水酸化リチウムは、ステアリン酸リチウム石鹸を製造するために油脂とともに加熱され得る強塩基である。リチウム石鹸は、油の濃化及び潤滑用グリースの製造に用いることができる。金属リチウムは、溶接用又はろう付用のフラックスとして使用して、金属の融着を促進し、不純物の吸収によって酸化物の形成を排除することができる。その融着品質は、セラミック、エナメル及びガラスの製造用のフラックスとして重要である。金属リチウムは、一次リチウム電池を製造するために用いられる。
炭酸リチウムは、スポジュメン又はリチウム含有塩水から生成されるリチウムの一般的な形態である。リチウム金属は、以下の段階で炭酸リチウムから抽出することができる:
炭酸リチウムの塩化リチウムへの転化。
塩化リチウムの電気分解。
炭酸リチウムを塩化リチウムへ転化するため、炭酸リチウムは、撹拌反応器内で加熱され塩酸(典型的には31%HCl)と混合される。
LiCO(s)+2HCl(aq)→2LiCl(aq)+HO(aq)+CO(g) (数式−2)
形成された二酸化炭素は、反応物溶液から排出される。硫化物を中和するため、少量の塩化バリウムを添加することができる。濾過後、溶液は、蒸発され販売可能な40%LiCl液体製品となる。(614℃からおよそ420℃に)融点が低下した無水の塩化リチウム−塩化カリウム(45%LiCl;55%KCl)を提供するため、塩化カリウムを添加することができる。その後、鋼製の反応槽内でリチウム金属を生成するため、溶融した純粋で無水状態の塩化リチウム−塩化カリウム(45%LiCl;55%KCl)を用いることができる。
鋼製の槽は、外側のセラミック絶縁体と、陰極としての底部の鋼棒と、を有する。陽極は、処理時にゆっくり剥がれ落ちる黒鉛から構成されている。セラミック絶縁体と槽の内部の鋼壁との間で燃焼するガスによって、槽を加熱することができる。リチウム金属は、槽壁部の表面に蓄積し、その後インゴットに注がれる。反応によって生成された塩化物ガスは、遠ざけられる。典型的には、電解処理は上限が6.7〜7.5Vの槽電圧で動作し、典型的な槽電流は30〜60kAの範囲内にあることができる。処理は、20〜40%のエネルギー効率で1kgのリチウム金属を生成するために、30〜35kWhの電気エネルギー及び6.2〜6.4kgのLiClを消費する。
Li+e→Li金属 陰極
Cl→(1/2)Cl+e 陽極
2LiCl→2Li+Cl 全体
低温技術は、陽極で塩水を電気分解して塩素を生成し、一連の陰極反応によって水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを生成することを含む。これらの水酸化物のいずれかの形成は、例えば液体水銀陰極でLiを金属にするアルカリ陽イオンの還元と、その後、形成された水銀アマルガムと水との反応と、を含むことができる。処理は、溶融塩系に必要とされるよりも低い電圧で室温の近くで行われる。
Amendolaらの特許文献1は、水銀電極を除去するシステム及び方法を提供する。特許文献1は、液体金属陰極と水溶液とを備える電解槽であって、水溶液は、リチウムイオンと、硫酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、フルオロスルホン酸塩、トリフルオロホウ酸塩、トリフルオロ酢酸塩、トリフルオロシリケート及び動力学的に妨げられた(kinetically hindered)酸性陰イオンから選択される少なくとも1つの陰イオンと、を含む水溶液を含み、リチウムイオンは炭酸リチウムから生成される、電解槽を含む。加熱システムは、槽及び液体金属循環システムの温度を、液体金属陰極の融点よりも高いが水溶液の沸点よりも低い温度に維持する。電解槽から還元されたリチウムは、適切な抽出溶液及びリチウム金属を単離するための蒸留システムを用いて、液体金属陰極から抽出される。このシステムは、室温で固体であり、従来のシステムよりも毒性が低い。
Putterらの特許文献2は、先行技術の方法の高いエネルギー消費及び高温の要求のいくつかを克服する他の方法を開示する。Putterらの方法は、水性アルカリ金属廃棄物からのアルカリ金属、特に水性リチウム廃棄物からのリチウム、のリサイクルを可能にする。Putterらは、少なくとも1つのアルカリ金属塩の水溶液と、陰極区画と、陽極区画と陰極区画を互いに分離するイオン伝導性固体複合材料と、を備える陽極区画を備える電解槽であって、陽極区画と接触する固体電解質複合材料の表面の一部、及び/又は、陰極区画と接触する固体電解質の表面の一部は、少なくとも1つのさらなるイオン伝導層を有する、電解槽を提供する。特許文献2は、水又は有機溶剤を備える水である。
米国特許第8715482号明細書 米国特許第6770187号明細書
従来のリチウム生成システムは、かなりの資本コストと運転コストとを伴うものであった。リチウム金属の直接生成を効果的に提供するシステムにおいて、資本コスト及び運転コストを低減することを必要とする、直接的且つ改良された電気分解方法が必要とされている。さらに、Putterらは、「この種のアルカリ金属イオン伝導体はしばしば水及び/又はアルカリ金属に対して耐性ではなく、それゆえ、実験はほんの短い期間でアルカリ金属イオン伝導体の損傷を招く。この損傷は、イオン伝導体の機械的破壊又はイオン伝導体の伝導性の損失を含む可能性がある。」ことを指摘している。それゆえ、本開示のさらなる目的は、イオン伝導体を長寿命で安定に保つことである。
上述の欠点(高いエネルギー消費、高温、等)を有しない方法が必要である。さらなる目的は、この方法を実施するために適した電解槽を提供することである。
本開示は、リチウム金属を直接回収する選択的透過性バリア複合材料を特徴とする電解槽及び方法を提供する。槽及び方法は、合理的にエネルギーを消費し、リチウムイオン伝導性複合材料層は、高腐食性の陽極区画の酸環境においても安定である。
一実施形態では、本開示は、陰極と、リチウムイオンを含む硫酸溶液と、陰極と硫酸溶液との間の複合材料層と、を備えるリチウム生成槽を提供する。複合材料層は、リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料とリチウムイオン伝導性バリア膜とを備える。そのような実施形態では、複合材料層は、少なくとも10−7S/cmのイオン伝導度を有し、リチウム金属とリチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料との両方に対して非反応性である。
一実施形態では、リチウムイオン伝導性バリア膜は、物理的なオルガノゲル電解質を備える。
一実施形態では、リチウムイオン伝導性バリア膜は、その場で(in situ)の熱不可逆性ゲル化及び単一イオン優勢伝導のオルガノゲル生成物を備える。
一実施形態では、リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は、ガラス−セラミック活性金属イオン伝導体を備える。
一実施形態では、リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は、26〜55モル%のP、0〜15モル%のSiO、GeOのモル%範囲が0〜50%でありTiOのモル%範囲が0〜50%である25%〜50%のGeO+TiO、0〜10モル%のZrO、0〜10モル%のM、0〜15モル%のAl、0〜15%のGa、及び、3〜25モル%のLiOを含有するイオン伝導性ガラス−セラミックを備える。そのような実施形態では、イオン伝導性ガラス−セラミックは、Li1+x(M,Al,Ga)(Ge1−yTi2−x(PO(ここで、x≦0.8且つ0≦y≦1.0であり、Mは、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm及びYbからなる群から選択される元素である。)、並びに、Li1+x+yTi2−xSi3−y12(ここで、0<X≦0.4且つ0<Y≦0.6であり、QはAl又はGaである。)、の内の少なくとも1つを含有する主結晶相を含む。
一実施形態では、複合材料層は、少なくとも10−4S/cmのイオン伝導度を有する。
一実施形態では、陰極は、非水性陰極液を備える。そのような実施形態では、陰極液は、イオン液体を含有する。
一実施形態では、陰極は、固体酸化剤、液体酸化剤及び気体酸化剤からなる群から選択される活性材料を備える。
一実施形態では、リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は、実質的に不透水性の保護セラミック複合材料を備える。
一実施形態では、陰極は、リチウム生成槽の軸に沿って移動可能である。
一実施形態では、硫酸溶液は、硫酸電解液及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される。
他の実施形態では、本開示は、溶液と、溶液と接触する陽極と、陰極と、陰極と溶液との間にある複合材料層と、を備える電解槽を提供することと、陰極にリチウム金属を生成するために電解槽にイオン化電流を印加することと、を備えるリチウムの生成方法を提供する。溶液は、硫酸溶媒とリチウムイオン源とを備える。複合材料層は、リチウムイオンガラスセラミック材料とリチウムイオン伝導性バリア膜とを備える。複合材料層は、リチウム金属が生成されると、陰極に生成されたリチウム金属を溶液から分離(isolate)する。
一実施形態では、複合材料層は、少なくとも10−7S/cmのイオン伝導度を有し、リチウム金属とリチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料との両方に対して非反応性である。
一実施形態では、リチウム金属が陰極に生成されると、陰極は、電解槽の軸に沿って陽極から離れるように移動可能である。
一実施形態では、電解槽は、陰極を含む上部と溶液を含む下部とを備える。電解槽は、リチウム金属が陰極上に生成されると、陰極を複合材料層から離れさせるように構成される。
一実施形態では、リチウムイオン伝導性バリア膜は、物理的なオルガノゲル電解質を備える。これについて、リチウムイオン伝導性バリア膜は、その場での熱不可逆的ゲル化及び単一イオン優勢伝導のオルガノゲル生成物を備える。
一実施形態では、リチウムイオン源は、炭酸リチウム、塩化リチウム及びスポジュメンからなる群から選択される少なくとも1つを含有する。
一実施形態では、リチウムイオン源は、硫酸溶媒中で解離するリチウム塩を含む。塩の非リチウム部分は、ガスとして溶液から放出される。
一実施形態では、溶液は、硫酸電解質及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される。
一実施形態では、陰極に生成されたリチウム金属は、純金属相として取り出される。
さらに他の実施形態では、リチウムの生成方法が提供される。方法は、溶液を提供することと、複合材料層を陰極と溶液との間に提供することと、陰極にリチウム金属を生成するために溶液を横切って電流を発生させることと、を備える。溶液は、水和酸溶媒と水和酸溶媒に溶解されたリチウムイオンとを含有する。複合材料層は、リチウムイオンガラスセラミック材料を備える。複合材料層は、リチウム金属が生成されると、陰極に生成されたリチウム金属を溶液から分離する。
一実施形態では、複合材料層は、リチウムイオン伝導性バリア膜を備える。
一実施形態では、水和酸は硫酸である。そのような実施形態では、溶液は、硫酸電解質及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される。
一実施形態では、陰極に生成されたリチウム金属は、純金属相として取り出される。
他の実施形態では、本開示は、リチウム金属生成物を提供する。リチウム金属生成物は、陰極と溶液との間に複合材料層を提供することと、陰極にリチウム金属を生成するために溶液を横切って電流を発生させることと、によって生成されるリチウム金属を含有する。溶液は、硫酸中に溶解したリチウムイオンを含有する。複合材料層は、リチウムイオンガラスセラミック材料を備える。
一実施形態では、複合材料層は、リチウムイオン伝導性バリア膜を備える。
一実施形態では、複合材料層は、リチウム金属が生成されると、陰極に生成されたリチウム金属を溶液から分離する。
一実施形態では、陰極に生成されたリチウム金属は、純金属相として取り出される。
一実施形態では、溶液は、硫酸電解質及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される。
本開示の利点は、リチウムを生成するための改良された方法と、リチウムを生成するための改善されたリチウム生成電解槽と、を提供することである。改善された方法及び改善されたリチウム生成電解槽は、リチウム金属をより低コストで、且つ、合理的なエネルギー消費で生成することを可能にする。
本開示の別の利点は、リチウムを生成するための改良された方法によって生成されたリチウム金属生成物を提供することである。
さらなる特徴及び利点は、本明細書に記載され、以下の詳細な説明及び図面から明らかになるであろう。
前述の概要、及び、以下の本開示の詳細な説明は、添付の図面と併せて読むとよりよく理解されるであろう。本開示を説明する目的のため、図面に示されているものは、現在好ましい実施形態である。しかしながら、本開示は、示された正確な配置、実施例及び手段に限定されないことが理解されるべきである。
図1は、本開示の一実施形態において用いられるリチウム生成槽構造体の模式的な正面図を示す。 図2は、図1のリチウム生成槽構造体の模式的な詳細を示す。 図3は、実施例1のリチウム生成槽の模式的な分解詳細を示す。
本開示は、電解槽と、選択透過性バリア複合材料を用いてリチウム金属を生成する方法と、に関する。
リチウムの高い電気化学ポテンシャルのため、リチウムは電池の電解質及び電極の重要な構成要素である。典型的なリチウムイオン電池は、鉛酸の2.1ボルト又は亜鉛炭素電池の1.5ボルトに比べて、約3ボルトを生成することができる。その低い原子質量のため、それは高い電荷対重量の比及び電力対重量の比も有する。リチウムイオン電池は、高エネルギー密度の充電池である。他の種類の充電式電池には、リチウムイオンポリマー電池、リン酸鉄リチウム電池及びナノワイヤ電池がある。
本開示は、炭酸リチウム供給原料(又は、酸電解質中で解離し、供給原料の非リチウム部分(即ち、炭酸部分(carbonate)又は塩素部分(chloride))をガスとして放出する、塩化リチウム等の他のリチウム塩)からリチウム金属を生成する方法に関する。本方法は、炭酸リチウムをリチウム金属に連続的に処理することができる。本方法は、硫酸電解質を用いて炭酸リチウムを解離させ、処理のためにリチウムイオンを溶液中に入れ、炭酸部分を溶液中に入れずに排出する、ことを含む。
炭酸リチウムの処理に硫酸を使用することは、下記の理由から重要である。炭酸リチウムは、水及び有機溶媒には本質的に不溶性である。有機溶媒を含む又は含まない水性電解質を用いて、炭酸リチウムからリチウムを効率的に抽出することはできない。硫酸溶液の使用は、炭酸リチウムの溶液中への溶解度をはるかに高くし、炭酸リチウムからのリチウム金属の効率的な生成を可能にする。炭酸リチウムを解離させ、リチウムイオンのみを溶液に入れることによって、電解質溶液は安定したままであり、供給原料の非リチウムイオン部分の濃度を上昇させない。炭酸リチウムは、連続的に電解槽の外部のタンクに供給され、硫酸電解液によって放出されたCOガスを排出する。酸性電解液を処分又は補充する必要はなく、炭酸塩を連続的に供給タンクに加え、COを排出し、陰極からリチウム金属を採取することができる。これは、連続的に操作することができ、又は、バッチ処理として行うこともできる。
本開示は、選択透過性バリア複合材料(LIC−GC−BF)によって、リチウムイオンリッチ溶液から分離された陰極を提供する。複合材料は、リチウムイオン伝導性ガラスセラミック層(LI−GC)及びリチウムイオン伝導性バリア膜(LI−BF)を含む。LIC−GC−BF複合材料は、溶液からリチウム金属を直接生成し、追加の抽出処理を必要とせずに、清浄な陰極にリチウム金属を直接析出させることができる。リチウム金属を生成するためのシステムは、リチウムイオンリッチ電解質を電解槽に供給する電解質供給システムと、リチウム金属を水性のリチウムイオン溶液からLIC−GC−BF複合材料を通って移動させるための電解槽と、リチウム金属をパッケージングする方法と、を含む。本システムは、連続リチウム金属生成方法又はバッチ処理に使用することができる。
本発明の特徴は、非限定的な実施例として本発明の好ましい実施形態を説明する、図面及び以下の詳細な説明から明らかになるであろう。
図1及び図2は、リチウムリッチ電解質が抽出槽を通って流れる本発明の生成方法を示す。電位がシステムに印加されると、インターカレートされた複合材料層の下にある移動陰極上にリチウム金属が蓄積する。図面の図1は、リチウム生成槽構造体の模式的な正面図であり、図2は、図1の槽構造体の模式的な詳細図である。図1及び図2において、一実施形態による電解槽10は、上側セクション12と下側セクション14とを備える。槽10は、槽の横断面を横切る可動の陰極16によって特徴付けられる。陰極16の上の電解質18中で電解反応が進行するにつれて、陰極16は、LIC−GC−BF複合材料層の中を通過するように、槽10の軸を前進する。陽極20は、槽上側セクション12に設けられている。陰極10の上の槽セクション12には、入口22を介して電解質18が装填され、電解が進行し、使用済みの電解質は出口24を介して排出される。陰極16は、陰極16と電解質18との間にインターカレートされた複合材料層28を介して電解質18と接触している。複合材料層28は、電解質18に隣接するリチウムイオン伝導性ガラスセラミック層(LI−GC)30、及び、セラミック層30と陰極18との間に挿入されたリチウムイオン伝導性バリア膜(LI−BF)32を含む。バリア層32とガラスセラミック層30とからなる複合材料28は、陰極16で生成しているリチウムを電解質18から分離する。シャフト26は、リチウム金属が生成され、複合材料層28を通って、前進する陰極16上に堆積されるにつれて、陰極16及び複合材料28を前進させる。固体の陰極16で生成されたリチウム金属は、純金属相として取り出すことができる。
槽への適切な供給物は、LiCO及びLiClを含むがこれに限定されない水溶性リチウム塩を含む。溶解性を改善するために、リチウム塩は水和酸に溶解され、電解槽内で電解液として使用される。炭酸リチウム(LiCO)を最初の試行のための供給原料として使用した。
リチウム生成槽構造体におけるいくつかの適切な槽の構成要素は、参照によりその全体が本開示に組み込まれる米国特許出願公開第2013/004852号明細書に記載されている。
適切な電解質18の成分は、LiCO及びLiClを含むがこれに限定されない水溶性リチウム塩を含む。溶解性を向上させるために、電解質として使用される水和酸にリチウム塩を溶解することができる。炭酸リチウム(LiCO)は、最も容易に入手可能なリチウム塩であり、比較的安価であり、且つ、好ましいリチウム源である。陰極16は、インターカレートされた複合材料(Li−GC/Li−BF)28を特徴とし、複合材料28が陰極16と電解質18との間に挿入又は介在することを意味する。陰極16は、「転位」と称することができ、これは、陰極が槽10の軸に沿って前進して、生成されたリチウムを複合材料28を通って放出させ、陰極に堆積したリチウムを分離することを意味する。陰極は、リチウム金属及び複合材料層とは非反応性である適切な材料を含む。Li−GC/Li−BF複合材料層は、陽極区画と陰極上に形成されるリチウム金属との間の固定バリアである。陰極は、陰極上のリチウム金属の連続的に厚くなった層を収容するように移動する。
複合材料層(Li−GC/Li−BF)28は、リチウムイオン伝導性ガラスセラミック層(LI−GC)30及びリチウムイオン伝導性バリア膜(LI−BF)32を含む。実質的な不透水性層(LI−GC)30は、活性金属イオン伝導性ガラス又はガラスセラミック(例えば、高い活性金属イオン伝導率及び攻撃的な酸性電解質に対する安定性を有するリチウムイオン伝導性ガラスセラミック)であり得る。適切な材料は、実質的に不透水性であり、イオン伝導性であり、水性電解質若しくは他の電解質(陰極液)及び/又はリチウム金属と逆に反応する陰極材料と化学的に適合する。そのようなガラス又はガラスセラミック材料は、実質的にギャップがなく、非膨潤性であり、本質的にイオン伝導性である。即ち、それらは、イオン伝導特性のための液体電解質又は他の化学物質の存在に依存しない。それらはまた、少なくとも10−7S/cm、概して少なくとも10−6S/cm、例えば少なくとも10−5S/cm〜10−4S/cm、また、最高で10−3S/cm、の高いイオン伝導度を有するため、多層保護構造体の全体的なイオン伝導度は、少なくとも10−7S/cm、また、最高で10−3S/cmである。層の厚さは、好ましくは約0.1〜1000ミクロンであり、又は層のイオン伝導率が約10−7S/cmの場合、約0.25〜1ミクロンであり、又は層のイオン伝導率が約10−4S/cmと約10−3S/cmとの間の場合、約10〜1000ミクロンであり、好ましくは1〜500ミクロンであり、より好ましくは50〜250ミクロン、例えば約150ミクロンである。
ガラスセラミック層(LI−GC)30の例には、リン系ガラス、酸化物系ガラス、リン酸オキシ窒化物系ガラス、硫黄系ガラス、酸化物/硫化物系ガラス、セレン化物系ガラス、ガリウム系ガラス、ゲルマニウム系ガラス若しくはホウ酸ガラス(例えばD. P. Button et al., Solid State Ionics, Vols. 9-10, Part 1, 585-592 (December 1983)に記載)、等のガラス質若しくは非晶質の金属イオン伝導体、リチウムβ−アルミナ、β−アルミナナトリウム、Li超イオン伝導体(LISICON)、Na超イオン伝導体(NASICON)等のセラミック活性金属イオン伝導体、又は、ガラスセラミック活性金属イオン伝導体、が含まれる。具体例としては、LiPON、LiPO、LiS・SiS、LiS・GeS、Ga、LiOが含まれる。
適切なガラスセラミック材料(LI−GC)には、モル%で以下の組成:Pを26〜55%;SiOを0〜15%;GeO+TiOを25〜50%(GeOを0〜50%;TiOを0〜50%);ZrOを0〜10%;Mを0〜10%;Alを0〜15%;Gaを0〜15%;LiOを3〜25%、を有し、Li1+x(M,Al,Ga)(Ge1−yTiy)2−x(PO、及び/又は、Li1+x+yTi2−xSi3−y12を含有する主結晶相を含む、リチウムイオン伝導性ガラスセラミックが含まれる。Li1+x(M,Al,Ga)(Ge1−yTiy)2−x(POにおいて、x≦0.8且つ0≦y≦1.0であり、Mは、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm及びYbからなる群から選択される元素である。Li1+x+yTi2−xSi3−y12において、0<X≦0.4且つ0<Y≦0.6であり、QはAl又はGaである。他の例は、11Al、NaO.11Al、(Na,Li)i+xTi2−xAl(PO(0.6≦x≦0.9)並びに結晶学的に関連する構造体、NaZrSiPO12、LiZrSiPO、NaZrP12、NaTiP12、NaFe12、NaNbP12、LiZrP12、LiTiP12、LiFe12、及び、LiNbP12、並びに、それらの組み合わせを含み、任意に焼結又は溶融される。適切なセラミックイオン活性金属イオン伝導体は、例えば、参照によりその全体が本明細書に組み込まれるAdachiらの米国特許第4985317号明細書に記載されている。
適切なLI−GC材料には、Ohara, Inc.(Kanagawa, JP)の商標LIC−GCTM、LISICON、LiO−−Al−−SiO−−P−−TiO(LATP)の製品が含まれる。同様に高いリチウム金属イオン伝導度及び耐環境性/耐薬品性を備える適切な材料は、Ohara及び他社によって製造される。例えば、IndaのDN20100113243、現在は米国特許第8476174号明細書、に記載されている。米国特許第8476174号明細書は、LiTi12構造を有する結晶構造を少なくとも備え、当該結晶構造体は1<IA113/IA104≦2を満たす、ガラスセラミックを開示している。ここで、IA104は、面指数104(2θ=20〜21°)に割り当てられたピーク強度であり、IA113は、X線回折法により決定された、面指数113(2θ=24〜25°)に割り当てられたピーク強度である。
リチウムイオン伝導性バリア膜32(Li−BF)は、典型的には、リチウム金属イオン伝導性が高いリチウム金属イオン伝導性膜又はコーティングである。リチウムイオン伝導性バリア膜32(LI−BF)は、リチウム金属イオン伝導度が高い、典型的には1.0mS/cm〜100mS/cmである、リチウム金属イオン伝導性膜又はコーティングである。高いリチウムイオン輸率(t)が好ましい。低tLi電解質は、槽内でイオン濃度勾配を与えることによって性能を低下させ、槽寿命を制限し還元率を制限する可能性がある高い内部抵抗をもたらす。t=0.70とt=1.0との間の輸率が好ましい。リチウムイオン伝導性バリア膜は、リチウム金属及びLiC−GC材料の両方に対して非反応性である。
LI−BF膜32は、活性金属複合材料を含み、「活性金属」は、電池の活物質として使用されるリチウム、ナトリウム、マグネシウム、カルシウム及びアルミニウムである。適切なLI−BF材料には、活性金属とCuNとの複合反応生成物、活性金属窒化物、活性金属リン化物、活性金属ハロゲン化物、活性金属リン硫化物ガラス及び活性金属リン酸オキシ窒化物ガラス(CuN、LN、LiP、LiI、LiF、LiBr、LiCl及びLiPON)が含まれる。また、LI−BF材料は、陰極上に形成されたデンドライトがLI−GC材料と接触することを防止しなければならない。これは、陰極とLI−GCとの間に物理的距離を作り、及び/又は、デンドライトが容易に侵入しない物理的バリアを提供することによって達成され得る。ある好ましいLI−BF膜は、“A physical organogel electrolyte: characterized by in situ thermo-irreversible gelation and single-ion-predominent conduction,” Scientific Reports 3, Article number: 1917 (doi:10.1038/srep01917) (May 29, 2013)においてKimらによって記述されたように、その場で(in situ)の熱不可逆的ゲル化及び単一イオン優勢伝導により製造された物理的なオルガノゲル電解質である。この電解質は、室温でt=0.84及び8.63mS/cmの伝導度を有する。このオルガノゲル電解質は、デンドライトの侵入に対する付加的な構造体及び抵抗性を提供するために、多孔質膜内に設置することができる。典型的な多孔質膜の厚さは1μm〜500μm、例えば20μmである。条件を満たす多孔質膜は、Asahi Kasei E-materials CorporationのHIPOREポリオレフィン平膜を含む。
生成方法は、連続リチウム金属生成方法の一部として使用することができるリチウム金属を生成する。特に、本方法は、安価な炭酸リチウム又は同等のリチウムイオン源を利用することができる。
本方法は、スポジュメン鉱石又は他の天然リチウム源からリチウム金属を浸出させるために使用される酸溶液からリチウム金属を直接生成するために使用することができる。例えば、スポジュメン鉱石を炭酸リチウムに転化する処理は、硫酸を用いて鉱石から鉱物を溶出させることを含む。その後、ソーダ灰を用いて硫酸溶液からリチウムを沈殿させて炭酸リチウムを生成させる。本発明の方法は、リチウムが沈殿して炭酸リチウムとなる前に、硫酸浸出溶液からリチウムを直接処理するために使用することができる。この場合、図1及び図2の電解質18は、スポジュメンから鉱物を浸出させるために使用される硫酸溶液で置き換えられる。
限定ではなく例として、以下の実施例は、本開示によるリチウム生成方法の例示である。
リチウムを生成するために使用される槽は、図3に模式的に示される。槽110は、槽カバー116と、リテーナ118と、Pt陽極112と、陰極124と、リチウムイオン伝導性バリア膜120が多孔質ポリオレフィン平膜122に組み込まれたLI−GC伝導性ガラス114と、を含む。支持されたLI−GC−BF多重層は、陰極124とリチウムイオンリッチ電解質18との間にインターカレートされている(図1及び図2)。槽は、ガスケット128を備えるテフロン(登録商標)スリーブ構造体126を支持することを備える。1つのガスケットがLI−GCとハウジングとの間をシールして、陽極区画から陰極区画への電解液の漏れを防止する。他のガスケットは、LI−GC板の破損を防止するため、テフロン(登録商標)スリーブによるLI−GCの均一な圧縮を可能にする。
槽110は、1”×4”でロジウム及びパラジウムのジュエリーめっき用である、白金めっきチタン陽極である陽極112を含む。陰極は、社内で製造された1.4インチの円形のパラジウム陰極円板である。LI−GC114の材料は、Ohara Corporation, 23141 Arroyo Vista, Rancho Santa Margarita, California 92688のLICGC(登録商標) G71-3 N33: DIA 2 IN×150 μm tape castであり、厚さ150μmで2インチの円形である。
リチウムイオン伝導性ゲル電解質120は、Alfa Aesar, stock number H61502から調達されUlsan National Institute of Science and Technology in Ulsan South Korea, Dr. Hyun-Kon Songから提供されたPVA−CNポリマー、LiPF(ヘキサフルオロリン酸リチウム)、98%;Sigma Aldrich, product number 754935のEMC(炭酸エチルメチル)、99%; Sigma Aldrich, product number 676802のEC(炭酸エチレン)無水物;及びAsahi Corpの多孔質膜であるND420ポリオレフィン平膜、から製造される。
LI−BFバザー(bather)層120は、アルゴンパージされたグローブバッグ内で製造される。グローブバッグには、すべての材料、精密スケール、シリンジ(syringes)、及び他の槽構成要素が装填され、その後、電解質製造処理の開始前に4回満たされ、排気される。
オルガノゲル電解質を以下のように混合する:4.0mlのEMCを約140°Fに加熱することによって液化し、薬瓶に入れる。次いで、2.0mlのEMCを薬瓶に加え、PVA−CNポリマー0.133g(2重量%)を薬瓶に加え、混合物を1時間撹拌してPVA−CNを溶解させる。次いで、SEI形成添加剤として0.133g(2重量%)のFECを添加し、その後0.972g(1M)のLiPFを添加し、混合してオルガノゲル電解質混合物を完成させる。次に、電解槽をグローブバッグの中に組み立てられる。LI−GC及びガスケットを配置して、陽極区画と陰極区画とを互いにシールする。オルガノゲル電解質混合物を用いてLI−GCの陰極側を濡らし、HIPORE膜をLI−GCの陰極側に配置し、オルガノゲル電解質混合物で再び濡らす。次いで、陰極円板をオルガノゲル混合物の上に配置する。槽をMylar(登録商標)バッグに入れ、アルゴンパージ下で密封する。組み立てられた槽を備えたシールされたMylarRバッグは、60℃のオーブン内に24時間置かれ、電解液をゲル化させる。
電解槽110をオーブンから取り出し、アルゴンパージされたグローブバッグに入れ、室温に冷却する。クリアポリプロテープを使用して、陰極円板の上の空きスペースをシールし、電極ワイヤを固定する。電解槽110は、使用準備が整っており、グローブバッグから取り外され、電解液循環システムに接続されている。
200gの脱イオン水及び500mlの20重量%硫酸中で炭酸化した120gのリチウムで電解質18を調製する。硫酸を炭酸リチウム懸濁液にゆっくり添加し、よく混合する。未溶解の炭酸リチウムを沈殿させる。上澄みを18重量%のリチウムストック溶液であるストック溶液から回収する。18重量%のリチウム溶液は、pH9と測定される。溶液のpHは、20重量%の硫酸の添加によって低下する。再び、硫酸をゆっくり添加して、発泡を最小にする。18重量%のリチウムストック溶液をpH4.5に調整する。好ましいpHは3.0と4.5との間であり、最も好ましくはpH3.0とpH4.0との間であるが、本方法はpH7.0以下で行うことができる。pHが7.0を超えると、溶液中に炭酸塩が生じる。
次に、電解質混合物を循環系に注入する。循環ポンプを準備し、溶液を30分間循環させて漏れをチェックする。
リチウムイオンリッチ電解質18は、LI−GC−BF多重層114/120の上方にある槽110の上半分を通過し、陽極112を越えて流れる。システムに電位が印加されると、LI−GC−BF多重層114/120システムの下の移動陰極上にリチウム金属が蓄積する。
Gamry Reference 3000 Potentiostat/Galvanostat/ZRAが槽110に取り付けられている。3〜6ボルトの電圧では、有意な活性はない。電圧が10Vに上昇すると、システムが応答する。電圧を11vdcに上げると、電流が増加する。槽の陽極側のガス発生は11vdcでは認められなかった。Gamry Reference 3000は、11vdcを超えない。11vdcでガス発生が起こらなかったので、電圧が増加すると還元率はより高くなる可能性が非常に高い。陽極での酸素の生成が無視できるほどであれば、さらに高い電圧及び還元率が好ましい。時間ゼロでの電解質のpHは4.46である。溶液のpHは35分後に4.29に低下し、実験の最後では4.05である。pHの低下は、電解液からのリチウムイオンの除去を示す。
実験の開始時には、20mAの電流が示されている。電流は、30分後に60mAまで徐々に増加する。電流は、さらに30分間、この値でかなり安定している。実験用タイマーとグラフを30分間停止し、実験を延長する(電圧は11vdcで保持される)。約65分の運転時間後に、大きな電流スパイク及び突然の活発なガス発生が槽の陽極側で見られる。これは、LI−GC−BF114/120膜の破壊の指標である。
槽110が開放され、陰極124側がLI−GC−BF114/120を通って漏れる電解液に曝されると、槽が、LI−GC−BF114/120膜システムを介して、硫酸水溶液中のリチウムイオンの電気分解によってリチウム金属を生成することを証明する、急速なガス発生及び明るい白炎が観察される。
本明細書に記載される現在好ましい実施形態に対する様々な変更及び修正が、当業者には明らかであることが理解されるべきである。そのような変更及び修正は、本主題の精神及び範囲から逸脱することなく、かつ意図される利点を損なうことなく行うことができる。従って、そのような変更及び修正は、添付の特許請求の範囲によってカバーされることが意図される。
(付記)
(付記1)
陰極と、
リチウムイオンを含む硫酸溶液と、
前記陰極と前記硫酸溶液との間の複合材料層と、を備え、
前記複合材料層は、リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料とリチウムイオン伝導性バリア膜とを備える、
リチウム生成槽。
(付記2)
前記複合材料層は、少なくとも10−7S/cmのイオン伝導度を有し、リチウム金属と前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料との両方に対して非反応性である、付記1に記載のリチウム生成槽。
(付記3)
前記複合材料層の前記リチウムイオン伝導性バリア膜は、物理的なオルガノゲル電解質を備える、付記1に記載のリチウム生成槽。
(付記4)
前記リチウムイオン伝導性バリア膜は、その場で(in situ)の熱不可逆性ゲル化及び単一イオン優勢伝導のオルガノゲル生成物を備える、付記1に記載のリチウム生成槽。
(付記5)
前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は、ガラス−セラミック活性金属イオン伝導体を備える、付記1に記載のリチウム生成槽。
(付記6)
前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は、26〜55モル%のP、0〜15モル%のSiO、GeOのモル%範囲が0〜50%でありTiOのモル%範囲が0〜50%である25〜50%のGeO+TiO、0〜10モル%のZrO、0〜10モル%のM、0〜15モル%のAl、0〜15%のGa、及び、3〜25モル%のLiOを含有するイオン伝導性ガラス−セラミック、を備え、
前記イオン伝導性ガラス−セラミックは、Li1+x(M,Al,Ga)(Ge1−yTi2−x(PO(ここで、x≦0.8且つ0≦y≦1.0であり、Mは、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm及びYbからなる群から選択される元素である。)、並びに、Li1+x+yTi2−xSi3−y12(ここで、0<X≦0.4且つ0<Y≦0.6であり、QはAl又はGaである。)、の内の少なくとも1つを含有する主結晶相を含む、
付記1に記載のリチウム生成槽。
(付記7)
前記複合材料層は、少なくとも10−4S/cmのイオン伝導度を有する、付記1に記載のリチウム生成槽。
(付記8)
前記陰極は、非水性陰極液を備える、付記1に記載のリチウム生成槽。
(付記9)
前記陰極液は、イオン液体を含有する、付記8に記載のリチウム生成槽。
(付記10)
前記陰極は、固体酸化剤、液体酸化剤及び気体酸化剤からなる群から選択される活性材料を備える、付記1に記載のリチウム生成槽。
(付記11)
前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は、実質的に不透水性の保護セラミック複合材料を備える、付記1に記載のリチウム生成槽。
(付記12)
前記陰極は、当該リチウム生成槽の軸に沿って移動可能である、付記1に記載のリチウム生成槽。
(付記13)
前記硫酸溶液は、硫酸電解液及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される、付記1に記載のリチウム生成槽。
(付記14)
硫酸溶媒とリチウムイオン源とを備える溶液と、
前記溶液と接触する陽極と、
陰極と、
前記陰極と前記溶液との間にあり、リチウムイオンガラスセラミック材料とリチウムイオン伝導性バリア膜とを備える、複合材料層と、
を備える電解槽を提供することと、
前記陰極にリチウム金属を生成するために前記電解槽にイオン化電流を印加することと、を備え、
前記複合材料層は、前記リチウム金属が生成されると、前記陰極に生成された前記リチウム金属を前記溶液から分離する、
リチウムの生成方法。
(付記15)
前記複合材料層は、少なくとも10−7S/cmのイオン伝導度を有し、前記リチウム金属と前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料との両方に対して非反応性である、付記14に記載のリチウムの生成方法。
(付記16)
前記リチウム金属が前記陰極に生成されると、前記陰極は、前記電解槽の軸に沿って前記陽極から離れるように移動可能である、付記14に記載のリチウムの生成方法。
(付記17)
前記電解槽は、前記陰極を含む上部と前記溶液を含む下部とを備え、
前記電解槽は、前記リチウム金属が前記陰極上に生成されると、前記陰極を前記複合材料層から離れさせるように構成される、
付記14に記載のリチウムの生成方法。
(付記18)
前記リチウムイオン伝導性バリア膜は、物理的なオルガノゲル電解質を備える、付記14に記載のリチウムの生成方法。
(付記19)
前記リチウムイオン伝導性バリア膜は、その場での熱不可逆的ゲル化及び単一イオン優勢伝導のオルガノゲル生成物を備える、付記14に記載のリチウムの生成方法。
(付記20)
前記リチウムイオン源は、炭酸リチウム、塩化リチウム及びスポジュメンからなる群から選択される少なくとも1つを含有する、付記14に記載のリチウムの生成方法。
(付記21)
前記リチウムイオン源は、硫酸溶媒中で解離するリチウム塩を含み、
前記塩の非リチウム部分は、ガスとして前記溶液から放出される、
付記14に記載のリチウムの生成方法。
(付記22)
前記陰極に生成された前記リチウム金属は、純金属相として取り出される、付記14に記載のリチウムの生成方法。
(付記23)
前記溶液は、硫酸電解質及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される、付記14に記載のリチウムの生成方法。
(付記24)
水和酸溶媒と前記水和酸溶媒に溶解されたリチウムイオンとを含有する溶液を提供することと、
リチウムイオンガラスセラミック材料を備える複合材料層を陰極と前記溶液との間に提供することと、
前記陰極にリチウム金属を生成するために前記溶液を横切って電流を発生させることと、を備え、
前記複合材料層は、前記リチウム金属が生成されると、前記陰極に生成された前記リチウム金属を前記溶液から分離する、
リチウムの生成方法。
(付記25)
前記複合材料層は、リチウムイオン伝導性バリア膜を備える、付記24に記載のリチウムの生成方法。
(付記26)
前記水和酸は硫酸である、付記24に記載のリチウムの生成方法。
(付記27)
前記溶液は、硫酸電解質及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される、付記26に記載のリチウムの生成方法。
(付記28)
前記陰極に生成された前記リチウム金属は、純金属相として取り出される、付記24に記載のリチウムの生成方法。
(付記29)
陰極と硫酸中に溶解したリチウムイオンを含有する溶液との間に複合材料層を提供することと、
前記陰極にリチウム金属を生成するために前記溶液を横切って電流を発生させることと、
によって生成されるリチウム金属を備え、
前記複合材料層は、リチウムイオンガラスセラミック材料を備える、
リチウム金属生成物。
(付記30)
前記複合材料層は、リチウムイオン伝導性バリア膜を備える、付記29に記載のリチウム金属生成物。
(付記31)
前記複合材料層は、前記リチウム金属が生成されると、前記陰極に生成された前記リチウム金属を前記溶液から分離する、付記29に記載のリチウム金属生成物。
(付記32)
陰極に生成された前記リチウム金属は、純金属相として取り出される、付記29に記載のリチウム金属生成物。
(付記33)
前記溶液は、硫酸電解質及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される、付記29に記載のリチウム金属生成物。

Claims (26)

  1. 陰極と、
    炭酸リチウム、塩化リチウム、スポジュメン及びそれらの組み合わせからなる群から選択されるリチウムイオン源を含む硫酸溶液と、
    前記硫酸溶液と接触する陽極と、
    前記陰極と前記硫酸溶液との間の複合材料層と、を備え、
    前記複合材料層は、前記陽極及び前記陰極と離間し前記硫酸溶液に隣接するリチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料と、前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料と前記陰極との間に挿入されたリチウムイオン伝導性バリア膜とを備え、前記複合材料層は、前記陰極上にリチウム金属が生成されると、前記陰極に生成された前記リチウム金属を前記硫酸溶液から分離する
    リチウム生成槽。
  2. 前記複合材料層は、少なくとも10−7S/cmのイオン伝導度を有し、前記リチウム金属と前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料との両方に対して非反応性である、請求項1に記載のリチウム生成槽。
  3. 前記複合材料層の前記リチウムイオン伝導性バリア膜は、物理的なオルガノゲル電解質を備える、請求項1に記載のリチウム生成槽。
  4. 前記リチウムイオン伝導性バリア膜は、その場で(in situ)の熱不可逆性ゲル化及び単一イオン優勢伝導のオルガノゲル生成物を備える、請求項1に記載のリチウム生成槽。
  5. 前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は、ガラス−セラミック活性金属イオン伝導体を備える、請求項1に記載のリチウム生成槽。
  6. 前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は、26〜55モル%のP、0〜15モル%のSiO、GeOのモル%範囲が0〜50%でありTiOのモル%範囲が0〜50%である25〜50%のGeO+TiO、0〜10モル%のZrO、0〜10モル%のM、0〜15モル%のAl、0〜15%のGa、及び、3〜25モル%のLiOを含有するイオン伝導性ガラス−セラミック、を備え、
    前記イオン伝導性ガラス−セラミックは、Li1+x(M,Al,Ga)(Ge1−yTi2−x(PO(ここで、x≦0.8且つ0≦y≦1.0であり、Mは、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm及びYbからなる群から選択される元素である。)、並びに、Li1+x+yTi2−xSi3−y12(ここで、0<X≦0.4且つ0<Y≦0.6であり、QはAl又はGaである。)、の内の少なくとも1つを含有する主結晶相を含む、
    請求項1に記載のリチウム生成槽。
  7. 前記複合材料層は、少なくとも10−4S/cmのイオン伝導度を有する、請求項1に記載のリチウム生成槽。
  8. 前記陰極は、非水性陰極液を備える、請求項1に記載のリチウム生成槽。
  9. 前記陰極液は、イオン液体を含有する、請求項8に記載のリチウム生成槽。
  10. 前記陰極は、固体酸化剤、液体酸化剤及び気体酸化剤からなる群から選択される活性材料を備える、請求項1に記載のリチウム生成槽。
  11. 前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は、実質的に不透水性の保護セラミック複合材料を備える、請求項1に記載のリチウム生成槽。
  12. 前記陰極は、当該リチウム生成槽の軸に沿って移動可能である、請求項1に記載のリチウム生成槽。
  13. 前記硫酸溶液は、硫酸電解液及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される、請求項1に記載のリチウム生成槽。
  14. 硫酸溶媒と、炭酸リチウム、塩化リチウム、スポジュメン及びそれらの組み合わせからなる群から選択されるリチウムイオン源と、を備える溶液と、
    前記溶液と接触する陽極と、
    陰極と、
    前記陰極と前記溶液との間にあり、リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料とリチウムイオン伝導性バリア膜とを備える、複合材料層と、
    を備える電解槽を提供することと、
    前記陰極にリチウム金属を生成するために前記電解槽にイオン化電流を印加することと、を備え、
    前記複合材料層は、前記リチウム金属が生成されると、前記陰極に生成された前記リチウム金属を前記溶液から分離し、前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は前記陽極及び前記陰極と離間し前記溶液に隣接する、
    リチウムの生成方法。
  15. 前記複合材料層は、少なくとも10−7S/cmのイオン伝導度を有し、前記リチウム金属と前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料との両方に対して非反応性である、請求項14に記載のリチウムの生成方法。
  16. 前記リチウム金属が前記陰極に生成されると、前記陰極は、前記電解槽の軸に沿って前記陽極から離れるように移動可能である、請求項14に記載のリチウムの生成方法。
  17. 前記電解槽は、前記陰極を含む上部と前記溶液を含む下部とを備え、
    前記電解槽は、前記リチウム金属が前記陰極上に生成されると、前記陰極を前記複合材料層から離れさせるように構成される、
    請求項14に記載のリチウムの生成方法。
  18. 前記リチウムイオン伝導性バリア膜は、物理的なオルガノゲル電解質を備える、請求項14に記載のリチウムの生成方法。
  19. 前記リチウムイオン伝導性バリア膜は、その場での熱不可逆的ゲル化及び単一イオン優勢伝導のオルガノゲル生成物を備える、請求項14に記載のリチウムの生成方法。
  20. 前記リチウムイオン源の非リチウム部分は、ガスとして前記溶液から放出される、
    請求項14に記載のリチウムの生成方法。
  21. 前記陰極に生成された前記リチウム金属は、純金属相として取り出される、請求項14に記載のリチウムの生成方法。
  22. 前記溶液は、硫酸電解質及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される、請求項14に記載のリチウムの生成方法。
  23. 水和酸溶媒と、炭酸リチウム、塩化リチウム、スポジュメン及びそれらの組み合わせからなる群から選択されるリチウムイオン源と、を含有する溶液を提供することと、
    陽極を前記溶液と接触させることと、
    リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料と、リチウムイオン伝導性バリア膜と、を備え、前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は前記陽極及び陰極と離間し前記溶液に隣接する複合材料層を前記陰極と前記溶液との間に提供することと、
    前記陰極にリチウム金属を生成するために前記溶液を横切って電流を発生させることと、を備え、
    前記複合材料層は、前記リチウム金属が生成されると、前記陰極に生成された前記リチウム金属を前記溶液から分離する、
    リチウムの生成方法。
  24. 前記水和酸は硫酸である、請求項23に記載のリチウムの生成方法。
  25. 前記溶液は、硫酸電解質及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される、請求項24に記載のリチウムの生成方法。
  26. 前記陰極に生成された前記リチウム金属は、純金属相として取り出される、請求項23に記載のリチウムの生成方法。
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