JP6866289B2 - リチウム生成槽、及び、リチウムの生成方法 - Google Patents
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Description
炭酸リチウムの塩化リチウムへの転化。
塩化リチウムの電気分解。
Li2CO3(s)+2HCl(aq)→2LiCl(aq)+H2O(aq)+CO2(g) (数式−2)
Li++e−→Li金属 陰極
Cl−→(1/2)Cl2+e− 陽極
2LiCl→2Li+Cl2 全体
(付記1)
陰極と、
リチウムイオンを含む硫酸溶液と、
前記陰極と前記硫酸溶液との間の複合材料層と、を備え、
前記複合材料層は、リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料とリチウムイオン伝導性バリア膜とを備える、
リチウム生成槽。
前記複合材料層は、少なくとも10−7S/cmのイオン伝導度を有し、リチウム金属と前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料との両方に対して非反応性である、付記1に記載のリチウム生成槽。
前記複合材料層の前記リチウムイオン伝導性バリア膜は、物理的なオルガノゲル電解質を備える、付記1に記載のリチウム生成槽。
前記リチウムイオン伝導性バリア膜は、その場で(in situ)の熱不可逆性ゲル化及び単一イオン優勢伝導のオルガノゲル生成物を備える、付記1に記載のリチウム生成槽。
前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は、ガラス−セラミック活性金属イオン伝導体を備える、付記1に記載のリチウム生成槽。
前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は、26〜55モル%のP2O5、0〜15モル%のSiO2、GeO2のモル%範囲が0〜50%でありTiO2のモル%範囲が0〜50%である25〜50%のGeO2+TiO2、0〜10モル%のZrO2、0〜10モル%のM2O3、0〜15モル%のAl2O3、0〜15%のGa2O3、及び、3〜25モル%のLi2Oを含有するイオン伝導性ガラス−セラミック、を備え、
前記イオン伝導性ガラス−セラミックは、Li1+x(M,Al,Ga)x(Ge1−yTiy)2−x(PO4)3(ここで、x≦0.8且つ0≦y≦1.0であり、Mは、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm及びYbからなる群から選択される元素である。)、並びに、Li1+x+yQxTi2−xSi3P3−yO12(ここで、0<X≦0.4且つ0<Y≦0.6であり、QはAl又はGaである。)、の内の少なくとも1つを含有する主結晶相を含む、
付記1に記載のリチウム生成槽。
前記複合材料層は、少なくとも10−4S/cmのイオン伝導度を有する、付記1に記載のリチウム生成槽。
前記陰極は、非水性陰極液を備える、付記1に記載のリチウム生成槽。
前記陰極液は、イオン液体を含有する、付記8に記載のリチウム生成槽。
前記陰極は、固体酸化剤、液体酸化剤及び気体酸化剤からなる群から選択される活性材料を備える、付記1に記載のリチウム生成槽。
前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は、実質的に不透水性の保護セラミック複合材料を備える、付記1に記載のリチウム生成槽。
前記陰極は、当該リチウム生成槽の軸に沿って移動可能である、付記1に記載のリチウム生成槽。
前記硫酸溶液は、硫酸電解液及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される、付記1に記載のリチウム生成槽。
硫酸溶媒とリチウムイオン源とを備える溶液と、
前記溶液と接触する陽極と、
陰極と、
前記陰極と前記溶液との間にあり、リチウムイオンガラスセラミック材料とリチウムイオン伝導性バリア膜とを備える、複合材料層と、
を備える電解槽を提供することと、
前記陰極にリチウム金属を生成するために前記電解槽にイオン化電流を印加することと、を備え、
前記複合材料層は、前記リチウム金属が生成されると、前記陰極に生成された前記リチウム金属を前記溶液から分離する、
リチウムの生成方法。
前記複合材料層は、少なくとも10−7S/cmのイオン伝導度を有し、前記リチウム金属と前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料との両方に対して非反応性である、付記14に記載のリチウムの生成方法。
前記リチウム金属が前記陰極に生成されると、前記陰極は、前記電解槽の軸に沿って前記陽極から離れるように移動可能である、付記14に記載のリチウムの生成方法。
前記電解槽は、前記陰極を含む上部と前記溶液を含む下部とを備え、
前記電解槽は、前記リチウム金属が前記陰極上に生成されると、前記陰極を前記複合材料層から離れさせるように構成される、
付記14に記載のリチウムの生成方法。
前記リチウムイオン伝導性バリア膜は、物理的なオルガノゲル電解質を備える、付記14に記載のリチウムの生成方法。
前記リチウムイオン伝導性バリア膜は、その場での熱不可逆的ゲル化及び単一イオン優勢伝導のオルガノゲル生成物を備える、付記14に記載のリチウムの生成方法。
前記リチウムイオン源は、炭酸リチウム、塩化リチウム及びスポジュメンからなる群から選択される少なくとも1つを含有する、付記14に記載のリチウムの生成方法。
前記リチウムイオン源は、硫酸溶媒中で解離するリチウム塩を含み、
前記塩の非リチウム部分は、ガスとして前記溶液から放出される、
付記14に記載のリチウムの生成方法。
前記陰極に生成された前記リチウム金属は、純金属相として取り出される、付記14に記載のリチウムの生成方法。
前記溶液は、硫酸電解質及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される、付記14に記載のリチウムの生成方法。
水和酸溶媒と前記水和酸溶媒に溶解されたリチウムイオンとを含有する溶液を提供することと、
リチウムイオンガラスセラミック材料を備える複合材料層を陰極と前記溶液との間に提供することと、
前記陰極にリチウム金属を生成するために前記溶液を横切って電流を発生させることと、を備え、
前記複合材料層は、前記リチウム金属が生成されると、前記陰極に生成された前記リチウム金属を前記溶液から分離する、
リチウムの生成方法。
前記複合材料層は、リチウムイオン伝導性バリア膜を備える、付記24に記載のリチウムの生成方法。
前記水和酸は硫酸である、付記24に記載のリチウムの生成方法。
前記溶液は、硫酸電解質及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される、付記26に記載のリチウムの生成方法。
前記陰極に生成された前記リチウム金属は、純金属相として取り出される、付記24に記載のリチウムの生成方法。
陰極と硫酸中に溶解したリチウムイオンを含有する溶液との間に複合材料層を提供することと、
前記陰極にリチウム金属を生成するために前記溶液を横切って電流を発生させることと、
によって生成されるリチウム金属を備え、
前記複合材料層は、リチウムイオンガラスセラミック材料を備える、
リチウム金属生成物。
前記複合材料層は、リチウムイオン伝導性バリア膜を備える、付記29に記載のリチウム金属生成物。
前記複合材料層は、前記リチウム金属が生成されると、前記陰極に生成された前記リチウム金属を前記溶液から分離する、付記29に記載のリチウム金属生成物。
陰極に生成された前記リチウム金属は、純金属相として取り出される、付記29に記載のリチウム金属生成物。
前記溶液は、硫酸電解質及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される、付記29に記載のリチウム金属生成物。
Claims (26)
- 陰極と、
炭酸リチウム、塩化リチウム、スポジュメン及びそれらの組み合わせからなる群から選択されるリチウムイオン源を含む硫酸溶液と、
前記硫酸溶液と接触する陽極と、
前記陰極と前記硫酸溶液との間の複合材料層と、を備え、
前記複合材料層は、前記陽極及び前記陰極と離間し前記硫酸溶液に隣接するリチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料と、前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料と前記陰極との間に挿入されたリチウムイオン伝導性バリア膜と、を備え、前記複合材料層は、前記陰極上にリチウム金属が生成されると、前記陰極に生成された前記リチウム金属を前記硫酸溶液から分離する、
リチウム生成槽。 - 前記複合材料層は、少なくとも10−7S/cmのイオン伝導度を有し、前記リチウム金属と前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料との両方に対して非反応性である、請求項1に記載のリチウム生成槽。
- 前記複合材料層の前記リチウムイオン伝導性バリア膜は、物理的なオルガノゲル電解質を備える、請求項1に記載のリチウム生成槽。
- 前記リチウムイオン伝導性バリア膜は、その場で(in situ)の熱不可逆性ゲル化及び単一イオン優勢伝導のオルガノゲル生成物を備える、請求項1に記載のリチウム生成槽。
- 前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は、ガラス−セラミック活性金属イオン伝導体を備える、請求項1に記載のリチウム生成槽。
- 前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は、26〜55モル%のP2O5、0〜15モル%のSiO2、GeO2のモル%範囲が0〜50%でありTiO2のモル%範囲が0〜50%である25〜50%のGeO2+TiO2、0〜10モル%のZrO2、0〜10モル%のM2O3、0〜15モル%のAl2O3、0〜15%のGa2O3、及び、3〜25モル%のLi2Oを含有するイオン伝導性ガラス−セラミック、を備え、
前記イオン伝導性ガラス−セラミックは、Li1+x(M,Al,Ga)x(Ge1−yTiy)2−x(PO4)3(ここで、x≦0.8且つ0≦y≦1.0であり、Mは、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm及びYbからなる群から選択される元素である。)、並びに、Li1+x+yQxTi2−xSi3P3−yO12(ここで、0<X≦0.4且つ0<Y≦0.6であり、QはAl又はGaである。)、の内の少なくとも1つを含有する主結晶相を含む、
請求項1に記載のリチウム生成槽。 - 前記複合材料層は、少なくとも10−4S/cmのイオン伝導度を有する、請求項1に記載のリチウム生成槽。
- 前記陰極は、非水性陰極液を備える、請求項1に記載のリチウム生成槽。
- 前記陰極液は、イオン液体を含有する、請求項8に記載のリチウム生成槽。
- 前記陰極は、固体酸化剤、液体酸化剤及び気体酸化剤からなる群から選択される活性材料を備える、請求項1に記載のリチウム生成槽。
- 前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は、実質的に不透水性の保護セラミック複合材料を備える、請求項1に記載のリチウム生成槽。
- 前記陰極は、当該リチウム生成槽の軸に沿って移動可能である、請求項1に記載のリチウム生成槽。
- 前記硫酸溶液は、硫酸電解液及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される、請求項1に記載のリチウム生成槽。
- 硫酸溶媒と、炭酸リチウム、塩化リチウム、スポジュメン及びそれらの組み合わせからなる群から選択されるリチウムイオン源と、を備える溶液と、
前記溶液と接触する陽極と、
陰極と、
前記陰極と前記溶液との間にあり、リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料とリチウムイオン伝導性バリア膜とを備える、複合材料層と、
を備える電解槽を提供することと、
前記陰極にリチウム金属を生成するために前記電解槽にイオン化電流を印加することと、を備え、
前記複合材料層は、前記リチウム金属が生成されると、前記陰極に生成された前記リチウム金属を前記溶液から分離し、前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は前記陽極及び前記陰極と離間し前記溶液に隣接する、
リチウムの生成方法。 - 前記複合材料層は、少なくとも10−7S/cmのイオン伝導度を有し、前記リチウム金属と前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料との両方に対して非反応性である、請求項14に記載のリチウムの生成方法。
- 前記リチウム金属が前記陰極に生成されると、前記陰極は、前記電解槽の軸に沿って前記陽極から離れるように移動可能である、請求項14に記載のリチウムの生成方法。
- 前記電解槽は、前記陰極を含む上部と前記溶液を含む下部とを備え、
前記電解槽は、前記リチウム金属が前記陰極上に生成されると、前記陰極を前記複合材料層から離れさせるように構成される、
請求項14に記載のリチウムの生成方法。 - 前記リチウムイオン伝導性バリア膜は、物理的なオルガノゲル電解質を備える、請求項14に記載のリチウムの生成方法。
- 前記リチウムイオン伝導性バリア膜は、その場での熱不可逆的ゲル化及び単一イオン優勢伝導のオルガノゲル生成物を備える、請求項14に記載のリチウムの生成方法。
- 前記リチウムイオン源の非リチウム部分は、ガスとして前記溶液から放出される、
請求項14に記載のリチウムの生成方法。 - 前記陰極に生成された前記リチウム金属は、純金属相として取り出される、請求項14に記載のリチウムの生成方法。
- 前記溶液は、硫酸電解質及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される、請求項14に記載のリチウムの生成方法。
- 水和酸溶媒と、炭酸リチウム、塩化リチウム、スポジュメン及びそれらの組み合わせからなる群から選択されるリチウムイオン源と、を含有する溶液を提供することと、
陽極を前記溶液と接触させることと、
リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料と、リチウムイオン伝導性バリア膜と、を備え、前記リチウムイオン伝導性ガラスセラミック材料は前記陽極及び陰極と離間し前記溶液に隣接する、複合材料層を前記陰極と前記溶液との間に提供することと、
前記陰極にリチウム金属を生成するために前記溶液を横切って電流を発生させることと、を備え、
前記複合材料層は、前記リチウム金属が生成されると、前記陰極に生成された前記リチウム金属を前記溶液から分離する、
リチウムの生成方法。 - 前記水和酸は硫酸である、請求項23に記載のリチウムの生成方法。
- 前記溶液は、硫酸電解質及び硫酸浸出溶液からなる群から選択される、請求項24に記載のリチウムの生成方法。
- 前記陰極に生成された前記リチウム金属は、純金属相として取り出される、請求項23に記載のリチウムの生成方法。
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