JP6851689B2 - Back grind tape - Google Patents

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Description

本発明は、バックグラインドテープに関する。 The present invention relates to a back grind tape.

従来、半導体ウエハを加工する際、所望の厚さにまで半導体ウエハの裏面を研削するバックグラインド工程が行われ、さらに、半導体ウエハ面の調整等のため、ウエットエッチング工程が行われている。バックグラインド工程においては、半導体ウエハを固定し、また研削面とは反対側の面を保護するために、粘着テープ(バックグラインドテープ)が用いられている(例えば、特許文献1)。 Conventionally, when processing a semiconductor wafer, a back grind step of grinding the back surface of the semiconductor wafer to a desired thickness is performed, and further, a wet etching step is performed for adjusting the semiconductor wafer surface and the like. In the back grind process, an adhesive tape (back grind tape) is used to fix the semiconductor wafer and protect the surface opposite to the ground surface (for example, Patent Document 1).

近年、パワーデバイスの薄型化に伴い、バックグラインド工程後あるいはウエットエッチング工程後の半導体ウエハにおいても、薄型化の要望が高まっている。バックグラインドテープは、所定の工程後、剥離されることとなるが、従来のバックグラインドテープを用いた場合、該テープを剥離する際に、薄型化半導体ウエハの破損が多発するという問題がある。また、従来のバックグラインドテープは耐薬品性が低く、ウエットエッチング工程で用いる酸性液またはアルカリ性液により劣化するという問題がある。 In recent years, as power devices have become thinner, there has been an increasing demand for thinner semiconductor wafers after the back grind process or the wet etching process. The backgrinding tape is peeled off after a predetermined step, but when the conventional backgrinding tape is used, there is a problem that the thin semiconductor wafer is frequently damaged when the tape is peeled off. Further, the conventional backgrinding tape has a low chemical resistance and has a problem that it is deteriorated by an acidic liquid or an alkaline liquid used in the wet etching step.

特開2011−151163号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-151163

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、バックグラインド工程に適切な粘着力を有し、剥離性にも優れ、かつ、耐酸性および耐アルカリ性に優れるバックグラインドテープを提供することにある。 The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to have an adhesive force suitable for a backgrinding process, excellent peelability, and acid resistance and alkali resistance. It is to provide excellent back grind tape.

本発明のバックグラインドテープは、基材と、該基材の少なくとも片側に配置された粘着剤層とを備え、該粘着剤層が、(メタ)アクリル系粘着剤を含み、該(メタ)アクリル系粘着剤が、炭素数が8以上の側鎖を有する構成単位を含む(メタ)アクリル系ポリマーを含み、該粘着剤層のゲル分率が、40%〜80%である。
1つの実施形態においては、上記基材が、ポリオレフィン系樹脂またはポリスチレン系樹脂を含む。
The back grind tape of the present invention comprises a base material and a pressure-sensitive adhesive layer arranged on at least one side of the base material, the pressure-sensitive adhesive layer containing a (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive, and the (meth) acrylic. The based pressure-sensitive adhesive contains a (meth) acrylic polymer containing a structural unit having a side chain having 8 or more carbon atoms, and the gel content of the pressure-sensitive adhesive layer is 40% to 80%.
In one embodiment, the substrate comprises a polyolefin-based resin or a polystyrene-based resin.

本発明によれば、バックグラインド工程に適切な粘着力を有し、剥離性にも優れ、かつ、耐酸性または耐アルカリ性に優れるバックグラインドテープを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a backgrinding tape which has an appropriate adhesive force for a backgrinding step, is excellent in peelability, and is excellent in acid resistance or alkali resistance.

本発明の1つの実施形態によるバックグラインドテープの概略断面図である。It is the schematic sectional drawing of the back grind tape by one Embodiment of this invention.

A.バックグラインドテープの全体構成
図1は、本発明の1つの実施形態によるバックグラインドテープの概略断面図である。バックグラインドテープ100は、基材10と、基材10の少なくとも片側に配置された粘着剤層20を備える。図示していないが、本発明のバックグラインドテープは、使用に供するまでの間、粘着面を保護する目的で、粘着剤層の外側に剥離ライナーが設けられていてもよい。
A. Overall configuration of the back grind tape FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the back grind tape according to one embodiment of the present invention. The back grind tape 100 includes a base material 10 and an adhesive layer 20 arranged on at least one side of the base material 10. Although not shown, the backgrinding tape of the present invention may be provided with a release liner on the outside of the pressure-sensitive adhesive layer for the purpose of protecting the pressure-sensitive adhesive surface until it is used.

バックグラインドテープの厚みは、好ましくは50μm〜500μmであり、より好ましくは150μm〜350μmである。このような範囲であれば、半導体ウエハの裏面研削精度を向上させ得るバックグラインドテープを得ることができる。 The thickness of the back grind tape is preferably 50 μm to 500 μm, and more preferably 150 μm to 350 μm. Within such a range, a back grind tape capable of improving the back surface grinding accuracy of the semiconductor wafer can be obtained.

バックグラインドテープの25℃における粘着力は、好ましくは、0.1N/20mm〜5N/20mmであり、より好ましくは0.2N/20mm〜3N/20mmである。なお、本明細書において粘着力とは、ミラーウエハ(シリコン製)を試験板として、JIS Z 0237(2000)に準じた方法(貼り合わせ条件:2kgローラー1往復、エージング:測定温度下で1時間、剥離速度:300mm/min、剥離角度:90°)により測定した粘着力をいう。 The adhesive strength of the back grind tape at 25 ° C. is preferably 0.1 N / 20 mm to 5 N / 20 mm, and more preferably 0.2 N / 20 mm to 3 N / 20 mm. In this specification, the adhesive strength is a method according to JIS Z 0237 (2000) using a mirror wafer (made of silicon) as a test plate (bonding condition: 1 reciprocation of 2 kg roller, aging: 1 hour under measurement temperature). , Peeling speed: 300 mm / min, peeling angle: 90 °).

B.粘着剤層
上記粘着剤層は、(メタ)アクリル系粘着剤を含む。(メタ)アクリル系粘着剤は、熱硬化型粘着剤、活性エネルギー線硬化型粘着剤等の硬化型粘着剤であってもよく、感圧型粘着剤であってもよい。好ましくは硬化型の粘着剤が用いられる。硬化型の粘着剤を用いれば、糊残りがより少ないバックグラインドテープを得ることができる。
B. Adhesive layer The adhesive layer contains a (meth) acrylic adhesive. The (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive may be a curable pressure-sensitive adhesive such as a thermosetting pressure-sensitive adhesive or an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, or may be a pressure-sensitive pressure-sensitive adhesive. A curable pressure-sensitive adhesive is preferably used. If a curable pressure-sensitive adhesive is used, a back grind tape with less adhesive residue can be obtained.

上記(メタ)アクリル系粘着剤は、ベースポリマーとして(メタ)アクリル系ポリマーを含む。なお、「ベースポリマー」とは、粘着剤に含まれるポリマーの主成分をいう。また、この明細書において「主成分」とは、特記しない場合、50重量%を超えて含まれる成分を指す。 The (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive contains a (meth) acrylic polymer as a base polymer. The "base polymer" refers to the main component of the polymer contained in the pressure-sensitive adhesive. Further, in this specification, the “main component” refers to a component contained in an amount of more than 50% by weight unless otherwise specified.

上記(メタ)アクリル系ポリマーは、炭素数が8以上の側鎖を有する構成単位を含む。このような(メタ)アクリル系ポリマーとしては、例えば、炭素数が8以上である分岐状もしくは直鎖状のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートを主モノマーとして含み、該主モノマーと共重合性を有する副モノマーとを含むモノマー原料の重合物が好ましい。ここで主モノマーとは、上記モノマー原料におけるモノマー組成の50重量%超を占める成分をいう。 The (meth) acrylic polymer contains a structural unit having a side chain having 8 or more carbon atoms. Such a (meth) acrylic polymer contains, for example, an alkyl (meth) acrylate having a branched or linear alkyl group having 8 or more carbon atoms as a main monomer and is copolymerizable with the main monomer. A polymer of a monomer raw material containing a submonomer having is preferable. Here, the main monomer means a component that occupies more than 50% by weight of the monomer composition in the above-mentioned monomer raw material.

本発明においては、炭素数が8以上の側鎖を有する構成単位を含む(メタ)アクリル系ポリマーを用いることにより、耐酸性および耐アルカリ性に優れる粘着剤層が形成される。また、当該粘着剤層を備える本発明のバックグラインドテープによれば、該バックグラインドテープを被着体(半導体ウエハ)に貼着して積層体を構成し、該積層体を酸性液またはアルカリ性液に浸漬させた場合においても、被着体と粘着剤層との間に酸性液またはアルカリ性液が浸入することを防止することができる。さらには、上記粘着剤層は、耐酸性および耐アルカリ性に優れる基材(例えば、ポリオレフィンまたはポリスチレンから形成される基材)との密着性に優れるため、該基材と上記粘着剤層とを組み合わせてバックグラインドテープを構成すれば、本発明の効果はより顕著となる。また、(メタ)アクリル系ポリマーを用いることにより、バックグラインド工程に適切な粘着力を有し、剥離性にも優れ糊残り無く剥離可能なバックグラインドテープを得ることができる。 In the present invention, a pressure-sensitive adhesive layer having excellent acid resistance and alkali resistance is formed by using a (meth) acrylic polymer containing a structural unit having a side chain having 8 or more carbon atoms. Further, according to the back grind tape of the present invention provided with the pressure-sensitive adhesive layer, the back grind tape is attached to an adherend (semiconductor wafer) to form a laminate, and the laminate is used as an acidic liquid or an alkaline liquid. It is possible to prevent an acidic liquid or an alkaline liquid from infiltrating between the adherend and the pressure-sensitive adhesive layer even when the material is immersed in the adhesive layer. Furthermore, since the pressure-sensitive adhesive layer has excellent adhesion to a base material having excellent acid resistance and alkali resistance (for example, a base material formed of polyolefin or polystyrene), the base material and the pressure-sensitive adhesive layer are combined. If the back grind tape is constructed, the effect of the present invention becomes more remarkable. Further, by using the (meth) acrylic polymer, it is possible to obtain a backgrinding tape which has an appropriate adhesive force in the backgrinding process, has excellent peelability, and can be peeled off without adhesive residue.

炭素数が8以上である分岐状もしくは直鎖状のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、2−エチルヘキシルアクリレート(2EHA)、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート(LA)、ステアリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the alkyl (meth) acrylate having a branched or linear alkyl group having 8 or more carbon atoms include 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, and nonyl ( Examples thereof include meta) acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate (LA), and stearyl (meth) acrylate.

炭素数が8以上である分岐状もしくは直鎖状のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート由来の構成単位の含有割合は、(メタ)アクリル系ポリマー100重量部に対して、好ましくは50重量部を超え、より好ましくは60重量部〜98重量部であり、より好ましくは70重量部〜95重量部であり、さらに好ましくは75重量部〜85重量部である。 The content ratio of the structural unit derived from the alkyl (meth) acrylate having a branched or linear alkyl group having 8 or more carbon atoms is preferably 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer. It is more preferably 60 parts by weight to 98 parts by weight, more preferably 70 parts by weight to 95 parts by weight, and further preferably 75 parts by weight to 85 parts by weight.

上記副モノマーとしては、例えば、下記のモノマーが挙げられる。副モノマーは、1種のみを単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
炭素数が7以下である分岐状もしくは直鎖状のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート;
カルボキシ基含有モノマー:例えばアクリル酸(AA)、メタクリル酸(MAA)、クロトン酸等のエチレン性不飽和モノカルボン酸;マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等のエチレン性不飽和ジカルボン酸およびその無水物(無水マレイン酸、無水イタコン酸等);
水酸基含有モノマー:例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類;ビニルアルコール、アリルアルコール等の不飽和アルコール類;2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル等のエーテル系化合物;
アミノ基含有モノマー:例えばアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、t−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート;
エポキシ基含有モノマー:例えばグリシジル(メタ)アクリレート、メチルグリシジル(メタ)アクリレート、アリルグリシジルエーテル;
シアノ基含有モノマー:例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル;
ケト基含有モノマー:例えばジアセトン(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリレート、ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、アリルアセトアセテート、ビニルアセトアセテート;
窒素原子含有環を有するモノマー:例えばN−ビニル−2−ピロリドン、N−メチルビニルピロリドン、N−ビニルピリジン、N−ビニルピペリドン、N−ビニルピリミジン、N−ビニルピペラジン、N−ビニルピラジン、N−ビニルピロール、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルオキサゾール、N−ビニルモルホリン、N−ビニルカプロラクタム、N−(メタ)アクリロイルモルホリン;
アルコキシシリル基含有モノマー:例えば3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン;
イソシアネート基含有モノマー:(メタ)アクリロイルイソシアネート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、m−イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネート。
Examples of the sub-monomer include the following monomers. As the submonomer, only one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
Alkyl (meth) acrylate having a branched or linear alkyl group having 7 or less carbon atoms;
Carboxy group-containing monomer: Ethylene unsaturated monocarboxylic acid such as acrylic acid (AA), methacrylic acid (MAA), crotonic acid; ethylenically unsaturated dicarboxylic acid such as maleic acid, itaconic acid, citraconic acid and its anhydride. (Maleic anhydride, itaconic anhydride, etc.);
Hydroxyl-containing monomers: Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate; Unsaturated alcohols such as vinyl alcohols and allyl alcohols; ether compounds such as 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether and diethylene glycol monovinyl ether;
Amino group-containing monomers: for example, aminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, t-butylaminoethyl (meth) acrylate;
Epoxy group-containing monomers: for example, glycidyl (meth) acrylate, methyl glycidyl (meth) acrylate, allyl glycidyl ether;
Cyanide-containing monomers: eg acrylonitrile, methacrylonitrile;
Keto group-containing monomers: for example, diacetone (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylate, vinyl methyl ketone, vinyl ethyl ketone, allyl acetoacetate, vinyl acetoacetate;
Monomers having a nitrogen atom-containing ring: for example, N-vinyl-2-pyrrolidone, N-methylvinylpyrrolidone, N-vinylpyridine, N-vinylpiperidone, N-vinylpyrimidine, N-vinylpiperazine, N-vinylpyrazin, N-vinyl. Pyrrole, N-vinylimidazole, N-vinyloxazole, N-vinylmorpholin, N-vinylcaprolactam, N- (meth) acryloylmorpholin;
Alkoxysilyl group-containing monomers: for example, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3- (meth) acryloxy. Propylmethyldiethoxysilane;
Isocyanate group-containing monomer: (meth) acryloyl isocyanate, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, m-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate.

上記副モノマー由来の構成単位の含有割合は、(メタ)アクリル系ポリマー100重量部に対して、50重量部未満であり、より好ましくは2重量部〜40重量部であり、さらに好ましくは5重量部〜30重量部である。このような範囲であれば、凝集力が高く、かつ、密着性に優れる粘着剤層を形成することができる。 The content ratio of the structural unit derived from the submonomer is less than 50 parts by weight, more preferably 2 parts by weight to 40 parts by weight, still more preferably 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer. Parts to 30 parts by weight. Within such a range, it is possible to form a pressure-sensitive adhesive layer having high cohesive force and excellent adhesion.

上記(メタ)アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、好ましくは20万〜300万であり、より好ましくは25万〜150万である。重量平均分子量は、GPC(溶媒:THF)により測定され得る。 The weight average molecular weight of the (meth) acrylic polymer is preferably 200,000 to 3 million, more preferably 250,000 to 1,500,000. The weight average molecular weight can be measured by GPC (solvent: THF).

上記粘着剤は、任意の適切な添加剤をさらに含んでいてもよい。上記添加剤としては、例えば、重合開始剤、架橋剤、可塑剤、粘着性付与剤、老化防止剤、充填剤、着色剤、帯電防止剤、界面活性剤等が挙げられる。上記添加剤は単独で用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。2種以上の添加剤を用いる場合、1種ずつ添加してもよく、2種以上の添加剤を同時に添加してもよい。上記添加剤の配合量は、任意の適切な量に設定され得る。 The pressure-sensitive adhesive may further contain any suitable additive. Examples of the additives include polymerization initiators, cross-linking agents, plasticizers, tackifiers, anti-aging agents, fillers, colorants, antistatic agents, surfactants and the like. The above additives may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds of additives are used, one kind may be added one by one, or two or more kinds of additives may be added at the same time. The blending amount of the additive can be set to any appropriate amount.

上記粘着付与剤としては、任意の適切な粘着付与剤が用いられる。粘着付与剤としては、例えば、粘着付与樹脂が用いられる。粘着付与樹脂の具体例としては、ロジン系粘着付与樹脂(例えば、未変性ロジン、変性ロジン、ロジンフェノール系樹脂、ロジンエステル系樹脂など)、テルペン系粘着付与樹脂(例えば、テルペン系樹脂、テルペンフェノール系樹脂、スチレン変性テルペン系樹脂、芳香族変性テルペン系樹脂、水素添加テルペン系樹脂)、炭化水素系粘着付与樹脂(例えば、脂肪族系炭化水素樹脂、脂肪族系環状炭化水素樹脂、芳香族系炭化水素樹脂(例えば、スチレン系樹脂、キシレン系樹脂など)、脂肪族・芳香族系石油樹脂、脂肪族・脂環族系石油樹脂、水素添加炭化水素樹脂、クマロン系樹脂、クマロンインデン系樹脂など)、フェノール系粘着付与樹脂(例えば、アルキルフェノール系樹脂、キシレンホルムアルデヒド系樹脂、レゾール、ノボラックなど)、ケトン系粘着付与樹脂、ポリアミド系粘着付与樹脂、エポキシ系粘着付与樹脂、エラストマー系粘着付与樹脂などが挙げられる。なかでも好ましくは、フェノール系粘着付与樹脂であり、より好ましくはアルキルフェノール系粘着付与樹脂である。アルキルフェノール系樹脂から構成される粘着付与剤を用いれば、粘着剤を強粘着力化しつつゲル分率を容易にコントロールする事が出来る。粘着付与剤は、単独で、または2種以上組み合わせて用いてもよい。粘着付与剤の種類および配合量により、粘着剤層のゲル分率を調整することができる。言い換えれば、粘着付与剤の種類および配合量は、ベースポリマーの種類に応じて、粘着剤層のゲル分率が下記範囲(40%〜80%)となるように、適切に設定されることが好ましい。 As the tackifier, any suitable tackifier is used. As the tackifier, for example, a tackifier resin is used. Specific examples of the tackifier resin include rosin-based tackifier resins (eg, unmodified rosin, modified rosin, rosinphenol-based resins, rosin ester-based resins, etc.) and terpene-based tackifier resins (eg, terpene-based resins, terpene phenols). Hydrocarbon-based resin, styrene-modified terpene-based resin, aromatic-modified terpene-based resin, hydrogenated terpene-based resin), hydrocarbon-based tackifier resin (for example, aliphatic hydrocarbon resin, aliphatic cyclic hydrocarbon resin, aromatic-based Hydrocarbon resins (for example, styrene resins, xylene resins, etc.), aliphatic / aromatic petroleum resins, aliphatic / alicyclic petroleum resins, hydrogenated hydrocarbon resins, kumaron resins, kumaron inden resins , Etc.), phenol-based tackifier resins (eg, alkylphenol-based resins, xylene formaldehyde-based resins, resoles, novolak, etc.), ketone-based tackifier resins, polyamide-based tackifier resins, epoxy-based tackifier resins, elastomer-based tackifier resins, etc. Can be mentioned. Of these, a phenol-based tackifier resin is preferable, and an alkylphenol-based tackifier resin is more preferable. If a tackifier composed of an alkylphenol-based resin is used, the gel fraction can be easily controlled while strengthening the pressure-sensitive adhesive. The tackifier may be used alone or in combination of two or more. The gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer can be adjusted depending on the type and blending amount of the pressure-sensitive adhesive. In other words, the type and blending amount of the tackifier may be appropriately set so that the gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer is in the following range (40% to 80%) depending on the type of the base polymer. preferable.

上記架橋剤としては、任意の適切な架橋剤を用いることができる。例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メラミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン系架橋剤などが挙げられる。架橋剤は1種のみを用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。なお、架橋剤の使用量は、使用用途に応じて任意の適切な値に設定され得る。1つの実施形態においては、架橋剤の使用量は、(メタ)アクリル系ポリマー100重量部に対して、好ましくは10重量部以下であり、より好ましくは0.1重量部以上1重量部未満であり、さらに好ましくは0.1重量部以上0.5重量部未満である。別の実施形態においては、架橋剤の使用量は、ベースポリマー100重量部に対して、好ましくは10重量部以下であり、より好ましくは0.1重量部〜3重量部であり、さらに好ましくは0.2重量部以上1.5重量部未満である。なお、架橋剤は、ベースポリマーの種類に応じて、粘着剤層のゲル分率が下記範囲(40%〜80%)となるように、適切な量を使用することが好ましい。 Any suitable cross-linking agent can be used as the cross-linking agent. For example, isocyanate-based cross-linking agent, epoxy-based cross-linking agent, melamine-based cross-linking agent, peroxide-based cross-linking agent, urea-based cross-linking agent, metal alkoxide-based cross-linking agent, metal chelate-based cross-linking agent, metal salt-based cross-linking agent, carbodiimide-based cross-linking. Examples thereof include agents, oxazoline-based cross-linking agents, aziridine-based cross-linking agents, and amine-based cross-linking agents. Only one type of cross-linking agent may be used, or two or more types may be used in combination. The amount of the cross-linking agent used can be set to an arbitrary appropriate value according to the intended use. In one embodiment, the amount of the cross-linking agent used is preferably 10 parts by weight or less, more preferably 0.1 parts by weight or more and less than 1 part by weight, based on 100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer. Yes, more preferably 0.1 parts by weight or more and less than 0.5 parts by weight. In another embodiment, the amount of the cross-linking agent used is preferably 10 parts by weight or less, more preferably 0.1 parts by weight to 3 parts by weight, still more preferably, based on 100 parts by weight of the base polymer. It is 0.2 parts by weight or more and less than 1.5 parts by weight. It is preferable to use an appropriate amount of the cross-linking agent so that the gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer is in the following range (40% to 80%) depending on the type of the base polymer.

上記粘着剤層のゲル分率は、好ましくは40%〜80%であり、より好ましくは42%〜78%であり、さらに好ましくは60%〜76%である。このような範囲であれば、バックグラインドテープを被着体(半導体ウエハ)に貼着して積層体を構成し、該積層体を酸性液またはアルカリ性液に浸漬させた場合においても、被着体と粘着剤層との間に酸性液またはアルカリ性液が浸入することを防止することができる。また、バックグラインド工程に適切な粘着力を有し、剥離性にも優れ糊残り無く剥離可能なバックグラインドテープを得ることができる。ゲル分率は、以下のようにして測定される。粘着剤層の約0.1gを、0.2μm径の孔を有するテフロン(登録商標)シート(商品名「NTF1122」、日東電工株式会社製)に包んだ後、凧糸で縛り、その際の重量を測定し、該重量を浸漬前重量とする。なお、浸漬前重量は、粘着剤層と、テフロンシートと、凧糸との総重量である。また、使用するテフロンシートと凧糸との重量も測定しておき、前記重量を包袋重量とする。次に、前記粘着剤層をテフロンシートで包み、凧糸で縛ったものを、酢酸エチルで満たした50ml容器に入れ、室温にて1週間静置する。その後、容器からテフロンシートを取り出し、130℃で2時間、乾燥機中で乾燥して酢酸エチルを除去した後、サンプル重量を測定し、該重量を浸漬後重量とする。そして、下記式からゲル分率を算出する。なお、下記式中のAは浸漬後重量であり、Bは包袋重量であり、Cは浸漬前重量である。
ゲル分率(重量%)=(A−B)/(C−B)×100
The gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 40% to 80%, more preferably 42% to 78%, and even more preferably 60% to 76%. Within such a range, even when a back grind tape is attached to an adherend (semiconductor wafer) to form a laminate and the laminate is immersed in an acidic liquid or an alkaline liquid, the adherend is formed. It is possible to prevent an acidic liquid or an alkaline liquid from entering between the adhesive layer and the pressure-sensitive adhesive layer. In addition, it is possible to obtain a backgrinding tape that has appropriate adhesive strength in the backgrinding process, has excellent peelability, and can be peeled off without adhesive residue. The gel fraction is measured as follows. Approximately 0.1 g of the adhesive layer is wrapped in a Teflon (registered trademark) sheet (trade name "NTF1122", manufactured by Nitto Denko KK) with holes having a diameter of 0.2 μm, and then tied with a kite string. The weight is measured, and the weight is taken as the weight before immersion. The weight before immersion is the total weight of the pressure-sensitive adhesive layer, the Teflon sheet, and the kite string. In addition, the weight of the Teflon sheet to be used and the kite string is also measured, and the weight is taken as the package weight. Next, the pressure-sensitive adhesive layer is wrapped with a Teflon sheet, tied with a kite string, placed in a 50 ml container filled with ethyl acetate, and allowed to stand at room temperature for 1 week. Then, the Teflon sheet is taken out from the container and dried at 130 ° C. for 2 hours in a dryer to remove ethyl acetate, and then the sample weight is measured and the weight is taken as the weight after immersion. Then, the gel fraction is calculated from the following formula. In the following formula, A is the weight after immersion, B is the weight of the packaging bag, and C is the weight before immersion.
Gel fraction (% by weight) = (AB) / (CB) x 100

上記粘着剤層の23℃における貯蔵弾性率G’は、好ましくは0.05×10Pa〜1.0×10Paであり、より好ましくは0.1×10Pa〜1.0×10Paである。このような貯蔵弾性率を有する粘着剤層を備えるバックグラインドテープは、バックグラインド工程における優れた研削精度の達成に寄与し得え、かつ、糊残りが少ない。なお、貯蔵弾性率G’は、幅10mm×長さ50mm×厚み2mmの評価サンプル(粘着剤層)について、粘弾性測定装置を用い、以下の測定条件で測定することができる。
・モード:ねじりモード
・プレート径:7.9mmφ
・歪み:1%(25℃)
・周波数:1Hz
・測定範囲:−20℃〜100℃
The storage elastic modulus G'of the pressure-sensitive adhesive layer at 23 ° C. is preferably 0.05 × 10 6 Pa to 1.0 × 10 8 Pa, and more preferably 0.1 × 10 6 Pa to 1.0 ×. It is 10 7 Pa. A back grind tape provided with an adhesive layer having such a storage elastic modulus can contribute to the achievement of excellent grinding accuracy in the back grind process, and has a small amount of adhesive residue. The storage elastic modulus G'can be measured under the following measurement conditions using an evaluation sample (adhesive layer) having a width of 10 mm, a length of 50 mm, and a thickness of 2 mm using a viscoelasticity measuring device.
-Mode: Torsion mode-Plate diameter: 7.9 mmφ
-Strain: 1% (25 ° C)
・ Frequency: 1Hz
-Measurement range: -20 ° C to 100 ° C

上記粘着剤層の厚みは、好ましくは10μm〜200μmであり、より好ましくは15μm〜150μmである。 The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 10 μm to 200 μm, more preferably 15 μm to 150 μm.

C.基材
上記基材を構成する材料としては、任意の適切な材料が選択され得る。基材を構成する材料としては、例えば、樹脂系材料(例えば、シート状、ネット状、織布、不織布、発泡シート)、紙、金属等が挙げられる。基材は、単層であってもよく、同一材料または異なる材料から構成される複層であってもよい。基材層を構成する樹脂の具体例としては、例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセン共重合体、ポリウレタン、ポリエーテルケトン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリイミド、セルロース系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン樹脂、ポリエーテル、ポリスチレン系樹脂(ポリスチレンなど)、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホンおよびこれらの架橋体等が挙げられる。
C. The material for the substrate the substrate, any appropriate material can be selected. Examples of the material constituting the base material include resin-based materials (for example, sheet-like, net-like, woven fabric, non-woven fabric, foam sheet), paper, metal and the like. The base material may be a single layer or may be a plurality of layers composed of the same material or different materials. Specific examples of the resin constituting the base material include polyester, polyolefin, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid ester copolymer, and the like. Ethylene-butene copolymer, ethylene-hexene copolymer, polyurethane, polyether ketone, polyvinyl alcohol, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate, polyamide, polyimide, cellulose-based Examples thereof include resins, fluorine-based resins, silicone resins, polyethers, polystyrene-based resins (polystyrene and the like), polycarbonates, polyether sulfones, and crosslinked products thereof.

1つの実施形態においては、上記基材として、ポリオレフィン系樹脂またはポリスチレン系樹脂から構成される基材が用いられる。このような基材を用いれば、耐酸性および耐アルカリ性に優れるバックグラインドテープを得ることができる。ポリオレフィン系樹脂の具体例としては、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン、それらの共重合体等が挙げられる。基材として、上記樹脂から構成される延伸フィルムを用いてもよい。 In one embodiment, as the base material, a base material composed of a polyolefin-based resin or a polystyrene-based resin is used. By using such a base material, a backgrinding tape having excellent acid resistance and alkali resistance can be obtained. Specific examples of the polyolefin-based resin include polypropylene, polyethylene, polybutene, and copolymers thereof. As the base material, a stretched film composed of the above resin may be used.

上記基材は多層構成であってもよい。1つの実施形態においては、ポリオレフィン系樹脂から構成される層と、他の樹脂から構成される層とを含む基材が用いられる。ポリオレフィン系樹脂と組み合わせられる他の樹脂としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン(メタ)アクリレート共重合体(EE(M)A、EM(M)A、EB(M)A)等が挙げられる。なかでも好ましくは、エチレン−酢酸ビニル共重合体である。多層構成のうちの1層として上記共重合体から構成される層を採用すれば、柔軟性に優れる基材を形成することができる。当該基材は、バックグラインド時の衝撃を緩衝させる機能(割れ欠け防止機能)を発揮し得る。 The base material may have a multi-layer structure. In one embodiment, a base material containing a layer composed of a polyolefin-based resin and a layer composed of another resin is used. Examples of other resins that can be combined with the polyolefin-based resin include ethylene-vinyl acetate copolymers and ethylene (meth) acrylate copolymers (EE (M) A, EM (M) A, EB (M) A) and the like. Can be mentioned. Of these, an ethylene-vinyl acetate copolymer is preferable. If a layer composed of the above-mentioned copolymer is adopted as one layer in the multilayer structure, a base material having excellent flexibility can be formed. The base material can exhibit a function of cushioning an impact during back grind (a function of preventing cracking and chipping).

上記基材は、任意の適切な方法で製造することができる。例えば、カレンダー製膜、キャスティング製膜、インフレーション押し出し、Tダイ押し出し等の方法により製造することができる。また、必要に応じて、延伸処理を行って製造してもよい。 The base material can be produced by any suitable method. For example, it can be manufactured by a method such as calendar film forming, casting film forming, inflation extrusion, T-die extrusion, or the like. Further, if necessary, it may be produced by performing a stretching treatment.

目的に応じて、上記基材に、任意の適切な表面処理を施してもよい。該表面処理としては、クロム酸処理、オゾン暴露、火炎暴露、高圧電撃暴露、イオン化放射線処理、マット処理、コロナ放電処理、プライマー処理、架橋処理等が挙げられる。 Depending on the purpose, the base material may be subjected to any appropriate surface treatment. Examples of the surface treatment include chromic acid treatment, ozone exposure, flame exposure, high-voltage impact exposure, ionizing radiation treatment, mat treatment, corona discharge treatment, primer treatment, and cross-linking treatment.

上記基材の厚みは、好ましくは10μm〜300μmであり、より好ましくは30μm〜200μmである。 The thickness of the base material is preferably 10 μm to 300 μm, more preferably 30 μm to 200 μm.

上記基材の23℃における引っ張り弾性率(ヤング率)は、好ましくは1×10Pa〜1×1011Paであり、より好ましくは1×10Pa〜1×1010Paである。なお、引っ張り弾性率は、JIS K 7161:2008に準じて測定することができる(つかみ間隔:50mm、引っ張り速度:300mm/min)。 The tensile elastic modulus (Young's modulus) of the base material at 23 ° C. is preferably 1 × 10 6 Pa to 1 × 10 11 Pa, and more preferably 1 × 10 7 Pa to 1 × 10 10 Pa. The tensile elastic modulus can be measured according to JIS K 7161: 2008 (grasping interval: 50 mm, tensile speed: 300 mm / min).

D.バックグラインドテープの製造方法
本発明のバックグラインドテープは、上記基材上に、上記粘着剤を塗工することにより製造され得る。粘着剤の塗工方法としては、バーコーター塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、グラビアリバース塗工、リバースロール塗工、リップ塗工、ダイ塗工、ディップ塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷など種々の方法を採用することができる。また、別途、剥離ライナーに粘着剤層を形成した後、それを基材に貼り合せる方法等を採用してもよい。
D. Method for Producing Backgrinding Tape The backgrinding tape of the present invention can be manufactured by applying the above-mentioned adhesive on the above-mentioned base material. Adhesive coating methods include bar coater coating, air knife coating, gravure coating, gravure reverse coating, reverse roll coating, lip coating, die coating, dip coating, offset printing, flexographic printing, etc. Various methods such as screen printing can be adopted. Alternatively, a method of separately forming an adhesive layer on the release liner and then laminating it to the base material may be adopted.

粘着剤として硬化型の粘着剤を用いる場合、粘着剤層に硬化処理を施して、該粘着剤層の特性(粘着力、弾性率等)を調整してもよい。硬化処理としては、例えば、紫外線照射、加熱処理等が挙げられる。 When a curable pressure-sensitive adhesive is used as the pressure-sensitive adhesive, the pressure-sensitive adhesive layer may be cured to adjust the characteristics (adhesive strength, elastic modulus, etc.) of the pressure-sensitive adhesive layer. Examples of the curing treatment include ultraviolet irradiation, heat treatment and the like.

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。また、実施例において、特に明記しない限り、「部」および「%」は重量基準である。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. Further, in the examples, unless otherwise specified, "parts" and "%" are based on weight.

[製造例1](メタ)アクリル系ポリマー(I)
2−エチルヘキシルアクリレート(2EHA)64.2重量部と、アクリロイルモルホリン(ACMO)16.5重量部と、ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)11.4重量部と、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(MOI)7.9重量部とを重合して、重量平均分子量(Mw)が約90万の(メタ)アクリル系ポリマー(I)(炭素数が8の側鎖を有する構成単位を含む(メタ)アクリル系ポリマー)を得た。
[Production Example 1] (Meta) Acrylic Polymer (I)
2. 64.2 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), 16.5 parts by weight of acryloyl morpholine (ACMO), 11.4 parts by weight of hydroxyethyl acrylate (HEA), and 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI) 7. A (meth) acrylic polymer (I) having a weight average molecular weight (Mw) of about 900,000 by polymerizing 9 parts by weight (a (meth) acrylic polymer containing a structural unit having a side chain having 8 carbon atoms). Got

[製造例2](メタ)アクリル系ポリマー(II)
ラウリルメタクリレート(LMA)83.4重量部と、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)8.5重量部と、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(MOI)8.1重量部とを重合して、重量平均分子量(Mw)が約100万の(メタ)アクリル系ポリマー(II)(炭素数が12の側鎖を有する構成単位を含む(メタ)アクリル系ポリマー)を得た。
[Production Example 2] (Meta) Acrylic Polymer (II)
83.4 parts by weight of lauryl methacrylate (LMA), 8.5 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), and 8.1 parts by weight of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI) are polymerized to achieve a weight average molecular weight. A (meth) acrylic polymer (II) having (Mw) of about 1 million (a (meth) acrylic polymer containing a structural unit having a side chain having 12 carbon atoms) was obtained.

[製造例3](メタ)アクリル系ポリマー(III)
2−エチルヘキシルアクリレート(2EHA)100重量部と、ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)4重量部とを重合して、重量平均分子量(Mw)が約55万の(メタ)アクリル系ポリマー(III)(炭素数が8の側鎖を有する構成単位を含む(メタ)アクリル系ポリマー)を得た。
[Production Example 3] (Meta) Acrylic Polymer (III)
A (meth) acrylic polymer (III) (carbon number) having a weight average molecular weight (Mw) of about 550,000 by polymerizing 100 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA) and 4 parts by weight of hydroxyethyl acrylate (HEA). A (meth) acrylic polymer containing a structural unit having a side chain of 8) was obtained.

[製造例4](メタ)アクリル系ポリマー(IV)
ブチルアクリレート(BA)41.6重量部と、ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)36.2重量部と、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(MOI)22.2重量部とを重合して、重量平均分子量(Mw)が約50万の(メタ)アクリル系ポリマー(IV)(炭素数が4の側鎖を有する構成単位を含む(メタ)アクリル系ポリマー)を得た。
[Production Example 4] (Meta) Acrylic Polymer (IV)
41.6 parts by weight of butyl acrylate (BA), 36.2 parts by weight of hydroxyethyl acrylate (HEA), and 22.2 parts by weight of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI) are polymerized to obtain a weight average molecular weight (Mw). ) Was about 500,000 (meth) acrylic polymer (IV) ((meth) acrylic polymer containing a structural unit having a side chain having 4 carbon atoms).

[実施例1]
(粘着剤Aの調製)
製造例1で得た(メタ)アクリル系ポリマー(I)100重量部と、粘着付与剤(アルキルフェノール系粘着付与樹脂;荒川化学工業社製、商品名「タマノル526」)3重量部と、架橋剤(イソシアネート系架橋剤;東ソー社製、商品名「コロネートHX」)0.1重量部と、光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア184」)3重量部とを混合して、粘着剤Aを調製した。
(基材の作製)
Tダイを用いた共押し出しにより、ポリプロピレン(日本ポリプロピレン社製、商品名「WSX02」)からなる層(厚み30μm)と、エチレン−酢酸ビニル共重合体(三井デュポン社製、商品名「P1007」)からなる層(厚み85μm)とから構成される基材Aを得た。
(バックグラインドテープの作製)
上記粘着剤Aをセパレーター(三菱化学社製、商品名「MRF38」)に塗布し、120℃で2分間加熱して、粘着剤層(厚み:20μm)を形成し、該粘着剤層を基材Aのエチレン酢酸ビニル共重合体フィルム側に転写して、基材と粘着剤層とからなるバックグラインドテープを得た。
[Example 1]
(Preparation of adhesive A)
100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer (I) obtained in Production Example 1, 3 parts by weight of a tackifier (alkylphenol-based tackifier resin; manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd., trade name "Tamanor 526"), and a cross-linking agent. (Isocyanate-based cross-linking agent; manufactured by Toso Co., Ltd., trade name "Coronate HX") 0.1 part by weight and 3 parts by weight of photopolymerization initiator (manufactured by BASF, trade name "Irgacure 184") are mixed and adhered. Agent A was prepared.
(Preparation of base material)
A layer (thickness 30 μm) made of polypropylene (manufactured by Nippon Polypropylene, trade name “WSX02”) and an ethylene-vinyl acetate copolymer (manufactured by Mitsui DuPont, trade name “P1007”) are co-extruded using a T-die. A base material A composed of a layer made of (thickness 85 μm) was obtained.
(Making back grind tape)
The above pressure-sensitive adhesive A is applied to a separator (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name "MRF38") and heated at 120 ° C. for 2 minutes to form a pressure-sensitive adhesive layer (thickness: 20 μm), and the pressure-sensitive adhesive layer is used as a base material. Transferring to the ethylene-vinyl acetate copolymer film side of A gave a back grind tape composed of a base material and an adhesive layer.

[実施例2]
架橋剤の配合量を0.2重量部としたこと以外は、実施例1と同様にして、バックグラインドテープを得た。
[Example 2]
A back grind tape was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the cross-linking agent blended was 0.2 parts by weight.

[実施例3]
架橋剤の配合量を0.3重量部としたこと以外は、実施例1と同様にして、バックグラインドテープを得た。
[Example 3]
A back grind tape was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the cross-linking agent blended was 0.3 parts by weight.

[実施例4]
粘着付与剤を配合しなかったこと以外は、実施例1と同様にして、バックグラインドテープを得た。
[Example 4]
A back grind tape was obtained in the same manner as in Example 1 except that the tackifier was not blended.

[実施例5]
(粘着剤Bの調製)
製造例2で得た(メタ)アクリル系ポリマー(II)100重量部と、粘着付与剤(アルキルフェノール系粘着付与樹脂;荒川化学工業社製、商品名「タマノル526」)3重量部と、架橋剤(イソシアネート系架橋剤;東ソー社製、商品名「コロネートHL」)1重量部と、光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア184」)3重量部とを混合して、粘着剤Bを調製した。
(バックグラインドテープの作製)
粘着剤Aに代えて、粘着剤Bを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、バックグラインドテープを得た。
[Example 5]
(Preparation of adhesive B)
100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer (II) obtained in Production Example 2, 3 parts by weight of a tackifier (alkylphenol-based tackifier resin; manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd., trade name "Tamanor 526"), and a cross-linking agent. (Isocyanate-based cross-linking agent; manufactured by Toso Co., Ltd., trade name "Coronate HL") 1 part by weight and 3 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by BASF, trade name "Irgacure 184") are mixed to prepare an adhesive B. Was prepared.
(Making back grind tape)
A back grind tape was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive B was used instead of the pressure-sensitive adhesive A.

[実施例6]
粘着付与剤を配合しなかったこと、架橋剤の配合量を0.2重量部としたこと以外は、実施例5と同様にして、バックグラインドテープを得た。
[Example 6]
A backgrind tape was obtained in the same manner as in Example 5 except that the tackifier was not blended and the amount of the cross-linking agent blended was 0.2 parts by weight.

[実施例7]
基材Aに代えて、延伸ポリスチレン(クラボウ社製、商品名「オイディス#25」;厚み:25μm)からなる基材を用いたこと以外は、実施例5と同様にして、バックグラインドテープを得た。
[Example 7]
A backgrind tape was obtained in the same manner as in Example 5 except that a base material made of stretched polystyrene (manufactured by Kurabo Industries, trade name "Oydis # 25"; thickness: 25 μm) was used instead of the base material A. It was.

[実施例8]
基材Aに代えて、ポリエチレンナフタレート(帝人社製、商品名「テオネックスQ51#25」;厚み:25μm)からなる基材を用いたこと以外は、実施例5と同様にして、バックグラインドテープを得た。
[Example 8]
Back grind tape in the same manner as in Example 5 except that a base material made of polyethylene naphthalate (manufactured by Teijin Corporation, trade name "Theonex Q51 # 25"; thickness: 25 μm) was used instead of the base material A. Got

[実施例9]
基材Aに代えて、ポリイミド(東レデュポン社製、商品名「カプトン100V#25」;厚み:25μm)からなる基材を用いたこと以外は、実施例5と同様にして、バックグラインドテープを得た。
[Example 9]
A back grind tape was applied in the same manner as in Example 5 except that a base material made of polyimide (manufactured by Toray DuPont, trade name "Kapton 100V # 25"; thickness: 25 μm) was used instead of the base material A. Obtained.

[実施例10]
(粘着剤Cの調製)
製造例3で得た(メタ)アクリル系ポリマー(III)100重量部と、粘着付与剤(アルキルフェノール系粘着付与樹脂;荒川化学工業社製、商品名「タマノル526」)3重量部と、架橋剤(イソシアネート系架橋剤;東ソー社製、商品名「コロネートL」)0.2重量部とを混合して、粘着剤Cを調製した。
(バックグラインドテープの作製)
粘着剤Aに代えて、粘着剤Cを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、バックグラインドテープを得た。
[Example 10]
(Preparation of adhesive C)
100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer (III) obtained in Production Example 3, 3 parts by weight of a tackifier (alkylphenol-based tackifier resin; manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., trade name "Tamanor 526"), and a cross-linking agent. (Isocyanate-based cross-linking agent; manufactured by Toso Co., Ltd., trade name "Coronate L") 0.2 parts by weight was mixed to prepare an adhesive C.
(Making back grind tape)
A back grind tape was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive C was used instead of the pressure-sensitive adhesive A.

[比較例1]
架橋剤の配合量を1重量部としたこと以外は、実施例1と同様にしてバックグラインドテープを得た。
[Comparative Example 1]
A backgrind tape was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the cross-linking agent blended was 1 part by weight.

[比較例2]
粘着付与剤を配合しなかったこと以外は、比較例1と同様にして、バックグラインドテープを得た。
[Comparative Example 2]
A backgrind tape was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the tackifier was not blended.

[比較例3]
架橋剤の配合量を0.5重量部としたこと以外は、実施例1と同様にしてバックグラインドテープを得た。
[Comparative Example 3]
A back grind tape was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the cross-linking agent blended was 0.5 parts by weight.

[比較例4]
架橋剤の配合量を1.5重量部としたこと以外は、実施例5と同様にしてバックグラインドテープを得た。
[Comparative Example 4]
A backgrind tape was obtained in the same manner as in Example 5 except that the amount of the cross-linking agent blended was 1.5 parts by weight.

[比較例5]
粘着付与剤を配合しなかったこと以外は、実施例5と同様にして、バックグラインドテープを得た。
[Comparative Example 5]
A backgrind tape was obtained in the same manner as in Example 5 except that the tackifier was not blended.

[比較例6]
(粘着剤Dの調製)
製造例4で得た(メタ)アクリル系ポリマー(IV)100重量部と、架橋剤(イソシアネート系架橋剤;東ソー社製、商品名「コロネートL」)0.1重量部と、光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア651」)3重量部とを混合して、粘着剤Dを調製した。
(バックグラインドテープの作製)
上記粘着剤Cをセパレーター(三菱化学社製、商品名「MRF38」)に塗布し、120℃で2分間加熱して、粘着剤層(厚み:20μm)を形成し、該粘着剤層をPETに転写して、基材と粘着剤層とからなるバックグラインドテープを得た。
[Comparative Example 6]
(Preparation of adhesive D)
100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer (IV) obtained in Production Example 4, 0.1 part by weight of a cross-linking agent (isocyanate-based cross-linking agent; manufactured by Tosoh Corporation, trade name "Coronate L"), and a photopolymerization initiator. (Manufactured by BASF, trade name "Irgacure 651") 3 parts by weight was mixed to prepare an adhesive D.
(Making back grind tape)
The above adhesive C is applied to a separator (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name "MRF38") and heated at 120 ° C. for 2 minutes to form an adhesive layer (thickness: 20 μm), and the adhesive layer is used as PET. Transferring was performed to obtain a back grind tape composed of a substrate and an adhesive layer.

[評価]
実施例および比較例で得られたバックグラインドテープを下記(1)〜(4)の評価に供した。結果を表1に示す。
[Evaluation]
The back grind tapes obtained in Examples and Comparative Examples were subjected to the following evaluations (1) to (4). The results are shown in Table 1.

(1)粘着剤層のゲル分率
粘着剤層の約0.1gを、0.2μm径の孔を有するテフロン(登録商標)シート(商品名「NTF1122」、日東電工株式会社製)に包んだ後、凧糸で縛り、その際の重量を測定し、該重量を浸漬前重量とした。なお、浸漬前重量は、粘着剤層と、テフロンシートと、凧糸との総重量である。また、使用するテフロンシートと凧糸との重量も測定しておき、前記重量を包袋重量とした。次に、前記粘着剤層をテフロンシートで包み、凧糸で縛ったものを、酢酸エチルで満たした50ml容器に入れ、室温にて1週間静置した。その後、容器からテフロンシートを取り出し、130℃で2時間、乾燥機中で乾燥して酢酸エチルを除去した後、サンプル重量を測定し、該重量を浸漬後重量とした。下記式からゲル分率を算出した。なお、下記式中のAは浸漬後重量であり、Bは包袋重量であり、Cは浸漬前重量である。
ゲル分率(重量%)=(A−B)/(C−B)×100
(1) Gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer Approximately 0.1 g of the pressure-sensitive adhesive layer was wrapped in a Teflon (registered trademark) sheet (trade name "NTF1122", manufactured by Nitto Denko Co., Ltd.) having holes with a diameter of 0.2 μm. After that, it was tied with a kite string, the weight at that time was measured, and the weight was taken as the weight before immersion. The weight before immersion is the total weight of the pressure-sensitive adhesive layer, the Teflon sheet, and the kite string. In addition, the weights of the Teflon sheet and the kite string to be used were also measured, and the weight was taken as the package weight. Next, the pressure-sensitive adhesive layer was wrapped with a Teflon sheet, tied with a kite string, placed in a 50 ml container filled with ethyl acetate, and allowed to stand at room temperature for 1 week. Then, the Teflon sheet was taken out from the container and dried at 130 ° C. for 2 hours in a dryer to remove ethyl acetate, and then the sample weight was measured, and the weight was taken as the weight after immersion. The gel fraction was calculated from the following formula. In the following formula, A is the weight after immersion, B is the weight of the packaging bag, and C is the weight before immersion.
Gel fraction (% by weight) = (AB) / (CB) x 100

(2)耐エッチング性(バックグラインドテープの耐酸性および耐アルカリ性)
96重量%HSO水溶液と、70重量%HNO水溶液とを混合して(重量比:HSO/HNO=50/7)、混酸を調製した。該混酸(室温下)にバックグラインドテープを、2分間浸漬させた。
次いで、45重量%KOH水溶液(60℃)に、混酸から取出した上記バックグラインドテープを1分間浸漬させた。
その後、バックグラインドテープを水洗し、目視にて、基材の劣化および、粘着剤層への液侵入の有無を確認した。表1中、基材の劣化が確認されなかった場合(実用上許容可能な程度の劣化を含む)を〇、基材の劣化が確認された場合(実用に適さないほど劣化した場合)を×とする。また、粘着剤層への液侵入が確認されなかった場合を〇、確認された場合を×とする。
(2) Etching resistance (acid resistance and alkali resistance of back grind tape)
A 96 wt% H 2 SO 4 aqueous solution and a 70 wt% HNO 3 aqueous solution were mixed (weight ratio: H 2 SO 4 / HNO 3 = 50/7) to prepare a mixed acid. The backgrinding tape was immersed in the mixed acid (at room temperature) for 2 minutes.
Next, the backgrinding tape taken out from the mixed acid was immersed in a 45 wt% KOH aqueous solution (60 ° C.) for 1 minute.
After that, the back grind tape was washed with water, and visually confirmed the deterioration of the base material and the presence or absence of liquid intrusion into the adhesive layer. In Table 1, when the deterioration of the base material is not confirmed (including the deterioration to the extent that is practically acceptable), the case where the deterioration of the base material is confirmed (when the deterioration is not suitable for practical use) is ×. And. Further, the case where the liquid intrusion into the adhesive layer is not confirmed is evaluated as ◯, and the case where the liquid is confirmed is evaluated as ×.

(3)糊残り
バックグラインドテープをシリコンウエハに貼り付け、ハンドピール用ウエハ保持装置(日東精機製 HMT−300)でウエハを真空吸着しつつ、常温(23℃)でバックグラインドテープのハンドピールを行った。その後、バックグラインドテープ剥離後のウエハ表層を目視および100倍光学顕微鏡にて観察を実施し、糊残り有無の確認を行った。表1中、糊残りが全く確認されなかった場合を〇、確認された場合を×とする。
(3) Adhesive residue The back grind tape is attached to the silicon wafer, and the hand peel of the back grind tape is applied at room temperature (23 ° C) while vacuum-adsorbing the wafer with a wafer holding device for hand peel (HMT-300 manufactured by Nitto Seiki). went. Then, the surface layer of the wafer after the back grind tape was peeled off was visually observed and observed with a 100x optical microscope to confirm the presence or absence of adhesive residue. In Table 1, the case where no adhesive residue is confirmed is evaluated as ◯, and the case where the adhesive residue is confirmed is evaluated as ×.

Figure 0006851689
Figure 0006851689

表1から明らかなように、本発明のバックグラインドテープは、耐酸性または耐アルカリ性に優れる粘着剤層が形成される。また、基材を構成する材料として、特定の樹脂を用いることにより、基材および粘着剤層ともに優れるバックグラインドテープを得ることができる。 As is clear from Table 1, the backgrinding tape of the present invention forms an adhesive layer having excellent acid resistance or alkali resistance. Further, by using a specific resin as the material constituting the base material, it is possible to obtain a backgrind tape having excellent both the base material and the pressure-sensitive adhesive layer.

10 基材
20 粘着剤層
100 バックグラインドテープ
10 Base material 20 Adhesive layer 100 Back grind tape

Claims (3)

基材と、該基材の少なくとも片側に配置された粘着剤層とを備え、
該粘着剤層が、(メタ)アクリル系粘着剤を含み、
該(メタ)アクリル系粘着剤が、炭素数が8以上の側鎖を有する構成単位を含む(メタ)アクリル系ポリマーを含み、
該(メタ)アクリル系ポリマーが、炭素数が8以上である分岐状もしくは直鎖状のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート由来の構成単位を含み、炭素数が8以上である分岐状もしくは直鎖状のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート由来の構成単位の含有割合が、前記(メタ)アクリル系ポリマー100重量部に対して、50重量部を超え、
該粘着剤層のゲル分率が、40%〜80%であり、
該基材の23℃における引っ張り弾性率(ヤング率)が、1×10Pa〜1×1011Paである、
バックグラインドテープ。
A base material and an adhesive layer arranged on at least one side of the base material are provided.
The pressure-sensitive adhesive layer contains a (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive.
The (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive comprises a (meth) acrylic polymer containing a structural unit having a side chain having 8 or more carbon atoms.
The (meth) acrylic polymer contains a structural unit derived from an alkyl (meth) acrylate having a branched or linear alkyl group having 8 or more carbon atoms, and has a branched or direct carbon number of 8 or more. The content ratio of the structural unit derived from the alkyl (meth) acrylate having a chain-like alkyl group exceeds 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer.
The gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer is 40% to 80%.
The tensile elastic modulus (Young's modulus) of the substrate at 23 ° C. is 1 × 10 6 Pa to 1 × 10 11 Pa.
Back grind tape.
前記基材が、ポリオレフィン系樹脂またはポリスチレン系樹脂を含む、
請求項1に記載のバックグラインドテープ。
The base material contains a polyolefin-based resin or a polystyrene-based resin.
The back grind tape according to claim 1.
前記粘着剤層の23℃における貯蔵弾性率G’が、0.05×10Pa〜1.0×10Paである、請求項1または2に記載のバックグラインドテープ。 The back grind tape according to claim 1 or 2 , wherein the storage elastic modulus G'of the pressure-sensitive adhesive layer at 23 ° C. is 0.05 × 10 6 Pa to 1.0 × 10 8 Pa.
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