JP6849595B2 - コバルト及び/又はコバルト合金含有の基板の研磨のための化学機械研磨(cmp)組成物の使用 - Google Patents
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Description
(i)(a)研磨剤及び/又は研磨パッド、(b)液体担体、並びに、(c)ジケトン、ジケトネート、尿素化合物、複素環式窒素含有化合物、複素環式酸素含有化合物、複素環式リン含有化合物、双性イオン性化合物であり得る窒素含有化合物、それらの塩及びそれらの組み合わせからなる群から選択された1種以上の研磨添加剤を含む化学機械研磨系で貴金属含有の基板と接触させる工程を含み、ここで、前記化学機械研磨系が約2〜約12のpHを有する。
(A)無機粒子、
(B)一般式(I)、
のトリアジン誘導体、
(C)少なくとも1種のアミノ酸、
(D)少なくとも1種の酸化剤、及び
(E)水性媒体
を含み、前記CMP組成物(Q)が7〜10のpHを有する。
(A)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、合計で0.01質量%〜3質量%の量の、コロイドシリカ粒子、
(B)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、合計で0.003質量%〜0.15質量%の量の、メラミン、6,6’,6’’−(1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリイルトリイミノ)トリヘキサン酸、2,4,6−トリメチルメラミン、ペンタメチルメラミン、{[ビス(ジメチルアミノ)−1,3,5−トリアジン−2−イル)](メチル)アミノ}メタノール、({ビス[(ヒドロキシメチル)アミノ)]−1,3,5−トリアジン−2−イル}アミノ)メタノール、2,4−ジアミノ−6−ジアリルアミノ−1,3,5−トリアジン、({ビス[ビス(ヒドロキシメチル)アミノ]−1,3,5−トリアジン−2−イル}(ヒドロキシル−メチル)アミノ)メタノール、N2,N4−ジ−tert−ブチル−1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリアミン、及びN2,N4−ビス(プロプ−2−エン−1−イル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリアミンからなる群から選択された、少なくとも1種のトリアジン誘導体(B)、
(C)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、合計で0.2質量%〜0.9質量%の量の、グリシン、アラニン、ロイシン、バリン、システイン、セリン及びプロリン、又はそれらの塩からなる群から選択された、少なくとも1種のアミノ酸(C)、
(D)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、合計で0.2質量%〜2質量%の量の、過酸化水素、
(E)水性媒体、
を含む、化学機械研磨(CMP)組成物が提供され、
前記CMP組成物(Q)が7〜10のpHを有する。
− 半金属、半金属酸化物若しくは炭化物を含む、金属、金属酸化物若しくは炭化物などの無機粒子、又は
− 無機粒子の混合物、
であり得る。
− 1種のコロイド無機粒子、
− 1種のヒュームド無機粒子、
− 異なる種のコロイド無機粒子及び/又はヒュームド無機粒子の混合物、
であり得る。
形状係数=4π(面積/周長2)
球形度=(Mxx−Myy)−[4Mxy 2+(Myy−Mxx)2]0.5/(Mxx−Myy)+[4Mxy 2+(Myy−Mxx)2]0.5
伸び=(1/球形度)0.5
(式中、
Mは、それぞれの粒子の重心であり、
Mxx=Σ(x−x平均)2/N、
Myy=Σ(y−y平均)2/N、
Mxy=Σ[(x−x平均)*(y−y平均)]/N、
Nは、それぞれの粒子の画像を構成する画素の数であり、
x、yは、画素の座標であり、
x平均は、前記粒子の画像を構成するN画素のx座標の平均値であり、
y平均は、前記粒子の画像を構成するN画素のy座標の平均値である)。
R1は、好ましくは、H、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、C2〜C10−アルキルカルボン酸、ヒドロキシメチル、ビニル又はアリルであってもよく、より好ましくは、R1は、H、メチル、エチル、ブチル、エタン酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ヒドロキシメチル、ビニル又はアリルであってもよく、最も好ましくは、R1は、H、メチル、ブチル、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ヒドロキシメチル又はビニルであってもよく、特に好ましくは、R1は、H、メチル、tert−ブチル、ヘキサン酸、ヒドロキシメチル又はビニルであってもよく、
R2は、好ましくは、H、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、C2〜C10−アルキルカルボン酸、ヒドロキシメチル、ビニル又はアリルであってもよく、より好ましくは、R2は、H、メチル、エチル、ブチル、エタン酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ヒドロキシメチル、ビニル又はアリルであってもよく、最も好ましくは、R2は、H、メチル、ブチル、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ヒドロキシメチル又はビニルであってもよく、特に好ましくは、R2は、H、メチル、tert−ブチル、ヘキサン酸、ヒドロキシメチル又はビニルであってもよく、
R3は、好ましくは、H、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、C2〜C10−アルキルカルボン酸、ヒドロキシメチル、ビニル又はアリルであってもよく、より好ましくは、R3は、H、メチル、エチル、ブチル、エタン酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ヒドロキシメチル、ビニル又はアリルであってもよく、最も好ましくは、R3は、H、メチル、ブチル、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ヒドロキシメチル又はビニルであってもよく、特に好ましくは、R3は、H、メチル、tert−ブチル、ヘキサン酸、ヒドロキシメチル又はビニルであってもよく、
R4は、好ましくは、H、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、C2〜C10−アルキルカルボン酸、ヒドロキシメチル、ビニル又はアリルであってもよく、より好ましくは、R4は、H、メチル、エチル、ブチル、エタン酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ヒドロキシメチル、ビニル又はアリルであってもよく、最も好ましくは、R4は、H、メチル、ブチル、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ヒドロキシメチル又はビニルであってもよく、特に好ましくは、R4は、H、メチル、tert−ブチル、ヘキサン酸、ヒドロキシメチル又はビニルであってもよく、
R5は、好ましくは、H、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、C2〜C10−アルキルカルボン酸、ヒドロキシメチル、ビニル又はアリルであってもよく、より好ましくは、R5は、H、メチル、エチル、ブチル、エタン酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ヒドロキシメチル、ビニル又はアリルであってもよく、最も好ましくは、R5は、H、メチル、ブチル、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ヒドロキシメチル又はビニルであってもよく、特に好ましくは、R5は、H、メチル、tert−ブチル、ヘキサン酸、ヒドロキシメチル又はビニルであってもよく、
R6は、好ましくは、H、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、C2〜C10−アルキルカルボン酸、ヒドロキシメチル、ビニル又はアリルであってもよく、より好ましくは、R6は、H、メチル、エチル、ブチル、エタン酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ヒドロキシメチル、ビニル又はアリルであってもよく、最も好ましくは、R6は、H、メチル、ブチル、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ヒドロキシメチル又はビニルであってもよく、特に好ましくは、R6は、H、メチル、tert−ブチル、ヘキサン酸、ヒドロキシメチル又はビニルであってもよく、)
のトリアジン誘導体(B)を含む。
H2N-CR1R2COOH (II)
(式中、R 1 及びR 2 は、互いに独立して、水素、1種以上の置換基で置換又は置換されない1〜8個の炭素原子を有する環状、分岐状又は直鎖部分であり、前記1種以上の置換基が、−COOH、−CONH2、−NH2、−S−、−OH、−SH(これに制限していない)などの、窒素含有置換基、酸素含有置換基、硫黄含有置換基、並びにそれらの混合物及び塩から選択される)
で表される。
Z1:
(A)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.01質量%〜1.8質量%の総量のコロイドシリカ粒子、
(B)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.008質量%〜0.08質量%の総量のメラミン、
(C)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて0.35質量%〜0.8質量%の総量の、グリシン、アラニン、ロイシン、バリン、システイン、セリン及びプロリン又はそれらの塩からなる群から選択された、少なくとも1種のアミノ酸(C)、
(D)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.2質量%〜1.5質量%の総量の過酸化水素、
(E)水性媒体、
ここで、CMP組成物(Q)は、7.8〜8.9のpHを有する。
(A)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.01質量%〜1.8質量%の総量のコロイドシリカ粒子、
(B)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.008質量%〜0.08質量%の総量の6,6’,6’’−(1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリイルトリイミノ)トリヘキサン酸、
(C)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて0.35質量%〜0.8質量%の総量の、グリシン、アラニン、ロイシン、バリン、システイン、セリン及びプロリン又はそれらの塩からなる群から選択された、少なくとも1種のアミノ酸(C)、
(D)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.2質量%〜1.5質量%の総量の過酸化水素、
(E)水性媒体、
ここで、CMP組成物(Q)は、7.8〜8.9のpHを有する。
(A)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.01質量%〜1.8質量%の総量のコロイドシリカ粒子、
(B)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.008質量%〜0.08質量%の総量の2,4,6−トリメチルメラミン、
(C)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて0.35質量%〜0.8質量%の総量の、グリシン、アラニン、ロイシン、バリン、システイン、セリン及びプロリン又はそれらの塩からなる群から選択された、少なくとも1種のアミノ酸(C)、
(D)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.2質量%〜1.5質量%の総量の過酸化水素、
(E)水性媒体、
ここで、CMP組成物(Q)は、7.8〜8.9のpHを有する。
(A)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.01質量%〜1.8質量%の総量のコロイドシリカ粒子、
(B)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.008質量%〜0.08質量%の総量のペンタメチルメラミン、
(C)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて0.35質量%〜0.8質量%の総量の、グリシン、アラニン、ロイシン、バリン、システイン、セリン及びプロリン又はそれらの塩からなる群から選択された、少なくとも1種のアミノ酸(C)、
(D)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.2質量%〜1.5質量%の総量の過酸化水素、
(E)水性媒体、
ここで、CMP組成物(Q)は、7.8〜8.9のpHを有する。
(A)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.01質量%〜1.8質量%の総量のコロイドシリカ粒子、
(B)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.008質量%〜0.08質量%の総量の{[ビス(ジメチルアミノ)−1,3,5−トリアジン−2−イル)](メチル)アミノ}メタノール、
(C)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて0.35質量%〜0.8質量%の総量の、グリシン、アラニン、ロイシン、バリン、システイン、セリン及びプロリン又はそれらの塩からなる群から選択された、少なくとも1種のアミノ酸(C)、
(D)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.2質量%〜1.5質量%の総量の過酸化水素、
(E)水性媒体、
ここで、CMP組成物(Q)は、7.8〜8.9のpHを有する。
(A)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.01質量%〜1.8質量%の総量のコロイドシリカ粒子、
(B)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.001質量%〜0.05質量%の総量の({ビス[(ヒドロキシメチル)アミノ)]−1,3,5−トリアジン−2−イル}アミノ)メタノール、
(C)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて0.35質量%〜0.8質量%の総量の、グリシン、アラニン、ロイシン、バリン、システイン、セリン及びプロリン又はそれらの塩からなる群から選択された、少なくとも1種のアミノ酸(C)、
(D)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.2質量%〜1.5質量%の総量の過酸化水素、
(E)水性媒体、
ここで、CMP組成物(Q)は、7.8〜8.9のpHを有する。
(A)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.01質量%〜1.8質量%の総量のコロイドシリカ粒子、
(B)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.001質量%〜0.05質量%の総量の2,4−ジアミノ−6−ジアリルアミノ−1,3,5−トリアジン、
(C)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて0.35質量%〜0.8質量%の総量の、グリシン、アラニン、ロイシン、バリン、システイン、セリン及びプロリン又はそれらの塩からなる群から選択された、少なくとも1種のアミノ酸(C)、
(D)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.2質量%〜1.5質量%の総量の過酸化水素、
(E)水性媒体、
ここで、CMP組成物(Q)は、7.8〜8.9のpHを有する。
(A)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.01質量%〜1.8質量%の総量のコロイドシリカ粒子、
(B)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.001質量%〜0.05質量%の総量の({ビス[ビス(ヒドロキシメチル)アミノ]−1,3,5−トリアジン−2−イル}(ヒドロキシル−メチル)アミノ)メタノール、
(C)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて0.35質量%〜0.8質量%の総量の、グリシン、アラニン、ロイシン、バリン、システイン、セリン及びプロリン又はそれらの塩からなる群から選択された、少なくとも1種のアミノ酸(C)、
(D)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.2質量%〜1.5質量%の総量の過酸化水素、
(E)水性媒体、
ここで、CMP組成物(Q)は、7.8〜8.9のpHを有する。
(A)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.01質量%〜1.8質量%の総量のコロイドシリカ粒子、
(B)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.001質量%〜0.05質量%の総量のN2,N4−ジ−tert−ブチル−1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリアミン、
(C)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて0.35質量%〜0.8質量%の総量の、グリシン、アラニン、ロイシン、バリン、システイン、セリン及びプロリン又はそれらの塩からなる群から選択された、少なくとも1種のアミノ酸(C)、
(D)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.2質量%〜1.5質量%の総量の過酸化水素、
(E)水性媒体、
ここで、CMP組成物(Q)は、7.8〜8.9のpHを有する。
(A)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.01質量%〜1.8質量%の総量のコロイドシリカ粒子、
(B)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.001質量%〜0.05質量%の総量のN2,N4−ビス(プロプ−2−エン−1−イル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリアミン、
(C)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて0.35質量%〜0.8質量%の総量の、グリシン、アラニン、ロイシン、バリン、システイン、セリン及びプロリン又はそれらの塩からなる群から選択された、少なくとも1種のアミノ酸(C)、
(D)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.2質量%〜1.5質量%の総量の過酸化水素、
(E)水性媒体、
ここで、CMP組成物(Q)は、7.8〜8.9のpHを有する。
以下、CMP実験の基本手順を説明する。
Strasbaugh nSpire(Model 6EC)、ViPRR浮動保持リングキャリア(floating retaining ring Carrier);
下向き圧力: 1.5psi;
背面圧: 1.0psi;
保持リング圧力: 1.0psi;
研磨テーブル/キャリア速度: 130/127rmp;
スラリー流速: 300ml/分;
研磨時間: 15秒;(Co)
60秒;(Cu)
研磨パッド: Fujibo H800;
バッキングフィルム: Strasbaugh,DF200(136孔);
調整ツール: Strasbaugh、ソフトブラシ、実験室内;各ウェハの後に、他のウェハの次の処理のために、5ポンドの下向き力で2回の清掃によって、パッドを調整する。ブラシは軟質である。これは、200回の掃引の後でさえも、ブラシが軟質研磨パッド上の除去速度に有意な影響が起こらないことを意味する。
Sartorius LA310 Sスケール又はNAPSON4探針プローブステイションにより、CMP前後のウェハの質量の差により、除去速度を決定する。
Coフィルム:Tiライナ上の2000 A PVD Co(AMT製);
pH複合電極(Schott、ブルーライン22pH電極)を用いて、pH値を測定する。
下記のようにCo−SER実験を行った。2.5x2.5cm PVD Co(AMT製)をカットし、脱イオン水で洗浄した。4探針プローブを用いて、Coフィルムの厚さ(d前)を測定した。0.5%のH2O2で新しく調製したスラリー400mlをビーカーに入れ、その後に50℃まで加熱した。Co試験片を該スラリー中に、入れ、3分間浸した。その後、該試験片を洗浄して、N2で乾燥した。また、同じ装置を用いて、Coフィルムの厚さ(d後)を測定した。以下の式により、Co−SERを決定した:
SER(A/分)=(d前−d後)/3
超純水中に所要の量のグリシンを溶解することにより、10質量%のグリシンの水溶液を調製する。20分攪拌した後、4.8質量%KOH水溶液を添加することにより、溶液を中和し、pHを8.05±0.1まで調整する。濃度を調整するために、残りの水を添加してもよい。超純水中に所要の量のトリアジン誘導体(B)を溶解し、全ての固体トリアジン誘導体(B)が溶解するまで30分攪拌することにより、1質量%のそれぞれのトリアジン誘導体(B)の水性原液を調製する。
35nmの平均一次粒子径(d1)、70nmの平均二次粒子径(d2)(Horiba器具を介して、動的光散乱技術を用いて決定した)、及び約46m2/gの比表面積を有するコクーン状のコロイドシリカ粒子(A1)(例えば、Fuso(登録商標)PL−3)を使用した。
20質量%固形分を有する水性コクーン状シリカ粒子分散系を炭素ホイル上に分散させ、乾燥させた。エネルギーフィルタ型透過電子顕微鏡(EF−TEM)(120キロボルト)及び走査型電子顕微鏡二次電子画像(SEM−SE)(5キロボルト)を用いて、乾燥した分散系を分析した。2k、16ビット、0.6851nm/画素の解像度を有するEF−TEM画像(図4)を分析に使用した。ノイズ抑制後の閾値を使用して、画像を2値化処理した。その後、粒子を手作業で分離した。重なり粒子及びエッジ粒子を、識別し、分析に使用しなかった。上記で定義したECD、形状係数及び球形度を計算し、統計的に分類した。
Claims (6)
- (i)コバルト及び/又は(ii)コバルト合金を含む基板(S)の化学機械研磨のための化学機械研磨(CMP)組成物(Q)の使用方法であって、前記CMP組成物(Q)が、
(A)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、合計で0.01質量%〜3質量%の量の、コロイドシリカ粒子、
(B)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、合計で0.003質量%〜0.15質量%の量の、6,6’,6’’−(1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリイルトリイミノ)トリヘキサン酸、2,4,6−トリメチルメラミン、ペンタメチルメラミン、{[ビス(ジメチルアミノ)−1,3,5−トリアジン−2−イル](メチル)アミノ}メタノール、({ビス[(ヒドロキシメチル)アミノ)]−1,3,5−トリアジン−2−イル}アミノ)メタノール、2,4−ジアミノ−6−ジアリルアミノ−1,3,5−トリアジン、({ビス[ビス(ヒドロキシメチル)アミノ]−1,3,5−トリアジン−2−イル}(ヒドロキシル−メチル)アミノ)メタノール、N2,N4−ジ−tert−ブチル−1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリアミン、及びN2,N4−ビス(プロプ−2−エン−1−イル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリアミンからなる群から選択された、少なくとも1種のトリアジン誘導体(B)、
(C)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、合計で0.2質量%〜0.9質量%の量の、グリシン、アラニン、ロイシン、バリン、システイン、セリン及びプロリン、又はそれらの塩からなる群から選択された、少なくとも1種のアミノ酸(C)、
(D)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、合計で0.2質量%〜2質量%の量の、過酸化水素、及び
(E)水性媒体
を含み、前記CMP組成物(Q)が7〜10のpHを有する、化学機械研磨(CMP)組成物(Q)の使用方法。 - 前記トリアジン誘導体(B)の総量が、それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、0.003質量%〜0.1質量%の範囲にある、請求項1に記載のCMP組成物(Q)の使用方法。
- (i)コバルト及び/又は(ii)コバルト合金を含む基板(S)の化学機械研磨のための化学機械研磨(CMP)組成物(Q)であって、
(A)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、合計で0.01質量%〜3質量%の量の、コロイドシリカ粒子、
(B)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、合計で0.003質量%〜0.15質量%の量の、6,6’,6’’−(1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリイルトリイミノ)トリヘキサン酸、2,4,6−トリメチルメラミン、ペンタメチルメラミン、{[ビス(ジメチルアミノ)−1,3,5−トリアジン−2−イル](メチル)アミノ}メタノール、({ビス[(ヒドロキシメチル)アミノ)]−1,3,5−トリアジン−2−イル}アミノ)メタノール、2,4−ジアミノ−6−ジアリルアミノ−1,3,5−トリアジン、({ビス[ビス(ヒドロキシメチル)アミノ]−1,3,5−トリアジン−2−イル}(ヒドロキシル−メチル)アミノ)メタノール、N2,N4−ジ−tert−ブチル−1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリアミン、及びN2,N4−ビス(プロプ−2−エン−1−イル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリアミンからなる群から選択された、少なくとも1種のトリアジン誘導体(B)、
(C)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、合計で0.2質量%〜0.9質量%の量の、グリシン、アラニン、ロイシン、バリン、システイン、セリン及びプロリン、又はそれらの塩からなる群から選択された、少なくとも1種のアミノ酸(C)、
(D)それぞれのCMP組成物の総質量に基づいて、合計で0.2質量%〜2質量%の量の、過酸化水素、
(E)水性媒体、
を含み、前記CMP組成物(Q)が7〜10のpHを有する、化学機械研磨(CMP)組成物。 - 請求項1から3のいずれか一項に記載のCMP組成物(Q)の存在下で、半導体産業に使用される基板(S)の化学機械研磨を含む半導体装置を製造する方法であって、前記基板(S)が、
(i)コバルト、及び/又は
(ii)コバルト合金
を含む、方法。 - コバルトの静的エッチング速度(SER)が100Å/分未満である、請求項4に記載の方法。
- コバルトの材料除去速度(MRR)を300〜6000Å/分の範囲に調整する、請求項4又は5に記載の方法。
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