JP6846040B2 - プラズマ処理検知用組成物及びそれを用いたプラズマ処理検知インジケータ - Google Patents
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Description
1. プラズマ処理により変色する変色層を形成するための組成物であって、
ビスマス化合物粒子、タングステン含有金属酸化物粒子及びバインダー樹脂を含有することを特徴とするプラズマ処理検知用組成物。
2. 前記ビスマス化合物粒子は、平均粒子径が50μm以下である、上記項1に記載のプラズマ処理検知用組成物。
3. 前記タングステン含有金属酸化物粒子は、酸化タングステン粒子及びタングステン酸ビスマス粒子の少なくとも一種である、上記項1又は2に記載のプラズマ処理検知用組成物。
4. 前記タングステン含有金属酸化物粒子は、平均粒子径が50μm以下である、上記項1〜3のいずれかに記載のプラズマ処理検知用組成物。
5. 前記バインダー樹脂は、石油系炭化水素樹脂、ビニル樹脂、ブチラール樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アクリロニトリル樹脂、フッ素樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ホルマリン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ケトン樹脂、ポリアミド樹脂、マレイン酸樹脂、クマロン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂及び脂環族樹脂からなる群から選択される少なくとも一種を含有する、上記項1〜4のいずれかに記載のプラズマ処理検知用組成物。
6. 前記バインダー樹脂は、軟化点が70℃以上である、上記項1〜5のいずれかに記載のプラズマ処理検知用組成物。
7. 前記バインダー樹脂の含有量は、前記ビスマス化合物粒子、前記タングステン含有金属酸化物粒子及び前記バインダー樹脂の合計重量を100重量%として6重量%以下である、上記項1〜6のいずれかに記載のプラズマ処理検知用組成物。
8. 基材上に、上記項1〜7のいずれかに記載のプラズマ処理検知用組成物の硬化塗膜から形成される変色層を有するプラズマ処理検知インジケータ。
9. 電子デバイス製造装置で使用するインジケータである、上記項8に記載のプラズマ処理検知インジケータ。
10. 前記インジケータの形状が、前記電子デバイス製造装置で使用される電子デバイス基板の形状と同一である、上記項9に記載のプラズマ処理検知インジケータ。
11. 前記電子デバイス製造装置は、成膜工程、エッチング工程、アッシング工程、不純物添加工程及び洗浄工程からなる群から選択される少なくとも一種のプラズマ処理を行う、上記項9又は10に記載のプラズマ処理検知インジケータ。
12. プラズマ処理により変色しない非変色層を有する、上記項8〜11のいずれかに記載のプラズマ処理検知インジケータ。
13. 前記非変色層は、酸化チタン(IV)、酸化ジルコニウム(IV)、酸化イットリウム(III)、硫酸バリウム、酸化マグネシウム、二酸化ケイ素、アルミナ、アルミニウム、銀、イットリウム、ジルコニウム、チタン及び白金からなる群から選択される少なくとも一種を含有する、上記項12に記載のプラズマ処理検知インジケータ。
14. 前記基材上に、前記非変色層及び前記変色層が順に形成されており、前記非変色層が、前記基材の主面上に隣接して形成されており、前記変色層が、前記非変色層の主面上に隣接して形成されている、上記項12又は13に記載のプラズマ処理検知インジケータ。
本発明のプラズマ処理検知用組成物(以下、「本発明組成物」とも言う)は、プラズマ処理により変色する変色層を形成するための組成物であって、ビスマス化合物粒子、タングステン含有金属酸化物粒子及びバインダー樹脂を含有することを特徴とする。
ビスマス化合物粒子としては、プラズマ環境下で変色するビスマス含有金属酸化物粒子であることが好ましく、酸化ビスマス粒子(III)及び炭酸酸化ビスマス粒子(III)の少なくとも一種が挙げられる。これらの中でも酸化ビスマス粒子(III)が好ましい。本発明ではビスマス化合物粒子は変色色材であり、ビスマス化合物粒子を含む限り、変色色材として他の金属化合物粒子(特に金属酸化物粒子)を併用することができる。
タングステン含有金属酸化物粒子は、上記金属化合物粒子(特にビスマス化合物粒子)と併用することにより、本発明組成物中のバインダー樹脂の含有量を減らしても変色層の剥離を抑制することができる。タングステン含有金属酸化物粒子は、金属成分としてタングステンのみを含む酸化物粒子であってもよく、タングステンに加えて他の金属成分を含む複合酸化物粒子であってもよい。本発明では、酸化タングステン粒子及びタングステン酸ビスマス粒子の少なくとも一種であることが好ましい。なお、酸化タングステン粒子は酸化タングステン粒子(VI)であることが好ましい。
バインダー樹脂としては、基材上に変色層を形成した際に変色層に良好な定着性を付与できるものであればよい。このようなバインダー樹脂としては、例えば、石油系炭化水素樹脂、ビニル樹脂、ブチラール樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アクリロニトリル樹脂、フッ素樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ホルマリン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ケトン樹脂、ポリアミド樹脂、マレイン酸樹脂、クマロン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂及び脂環族樹脂からなる群から選択される少なくとも一種が挙げられる。これらのバインダー樹脂は、通常、後記する溶剤に溶解することにより本発明組成物に含有することができる。
溶剤としては、バインダー樹脂を溶解し、本発明組成物に良好な塗布性を付与できるものであれば限定されない。例えば、石油系溶剤などを用いることが好ましく、特にエチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、エチレングリコールモノエチルエーテル(エチルセロソルブ)等が好ましい。
本発明組成物は、上記成分以外に任意成分として増粘剤などの公知の添加剤を含有することができる。増粘剤としては、本発明組成物に増粘効果を付与して金属酸化物粒子の沈降を抑制するとともに塗布性を向上させることができるものが好ましい。
本発明のインジケータは、基材上に、本発明組成物の硬化塗膜から形成される変色層を有することを特徴とする。なお、上記硬化塗膜には、溶剤除去により形成される乾燥塗膜のほか、熱、光等の照射により樹脂前駆体が重合硬化等することによって形成される硬化塗膜の両方の態様が含まれる。
基材としては、変色層を形成及び支持できるものであれば特に制限されない。例えば、金属又は合金、セラミックス、石英、ガラス、コンクリート、樹脂類、繊維類(不織布、織布、ガラス繊維濾紙、その他の繊維シート)、これらの複合材料等を用いることができる。また、一般に電子デバイス基板として知られているシリコン、ガリウムヒ素、炭化ケイ素、サファイア、ガラス、窒化ガリウム、ゲルマニウム等も本発明のインジケータの基材として採用できる。基材の厚さはインジケータの種類に応じて適宜設定することができる。
基材上に変色層を形成する際の本発明組成物の塗布方法としては限定されず、例えば、スピンコート、スリットコート、スプレー、ディップコート等の公知の塗布方法、シルクスクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷、凸版印刷、フレキソ印刷等の公知の印刷方法などが幅広く採用できる。本発明において、塗布には、塗布以外の印刷、浸漬等の概念も含まれている。
本発明のインジケータは、変色層の視認性を高めるために下地層としてプラズマ処理により変色しない非変色層を設けてもよい。非変色層としては、耐熱性があり、且つガス化が抑制されていることが求められる。非変色層としては、白色層、メタル層等が好ましい。
本発明のインジケータは、必要に応じて、基材裏面(変色層形成面とは逆面)に粘着層を有していてもよい。基材裏面に粘着層を有することにより、本発明のインジケータをプラズマ処理装置内の所望部位(例えばプラズマ処理に供する対象物、装置底面等)に確実に固定することができるため好ましい。
本発明のインジケータの形状は特に限定されず、公知のプラズマ処理検知インジケータに採用されている形状を幅広く用いることができる。この中でも本発明のインジケータの形状を電子デバイス製造装置で使用される電子デバイス基板の形状と同一とする場合には、いわゆるダミー基板として、簡便にプラズマ処理が電子デバイス基板全体に対して均一に行われているかどうかを検知することが可能となる。
プラズマとしては、特に限定されず、プラズマ発生用ガスによって発生するプラズマを使用することができる。プラズマの中でも、酸素、窒素、水素、塩素、アルゴン、シラン、アンモニア、臭化硫黄、三塩化ホウ素、臭化水素、水蒸気、亜酸化窒素、テトラエトキシシラン、三フッ化窒素、四フッ化炭素、パーフルオロシクロブタン、ジフルオロメタン、トリフルオロメタン、四塩化炭素、四塩化ケイ素、六フッ化硫黄、六フッ化エタン、四塩化チタン、ジクロロシラン、トリメチルガリウム、トリメチルインジウム、及びトリメチルアルミニウムからなる群から選ばれた少なくとも一種のプラズマ発生用ガスによって発生するプラズマが好ましい。これらのプラズマ発生用ガスの中でも、特に四フッ化炭素;パーフルオロシクロブタン;トリフルオロメタン;六フッ化硫黄;アルゴンと酸素との混合ガス;からなる群から選択される少なくとも一種が好ましい。
下記表1に示す組成の本発明組成物を用意し、それをポリイミドフィルム上に塗布及び乾燥することによりポリイミドフィルム上に20μmの変色層を形成した。
図1は、容量結合プラズマ(CCP;Capacitively Coupled Plasma)型のプラズマエッチング装置の概略断面図である。
○:色差ΔE≧40
×:色差ΔE<40
○:プラズマ処理後、変色層を5回折り曲げても変色層が剥がれない。
×:プラズマ処理後、変色層を5回折り曲げると変色層が剥がれる。
実施例1〜2及び比較例1〜5のPVB樹脂の含有量は全て同じであるが、本発明組成物を用いた実施例1〜2では変色性評価結果及び塗膜剥離評価結果のいずれにおいても○評価が得られており優れた変色性と変色層剥離抑制効果が得られている。これに対して、本発明組成物を用いていない比較例1〜5ではいずれも変色層剥離抑制効果が×であり、特に比較例4及び5では変色性評価結果も共に×である。図2に、実施例1〜2、比較例2及び比較例3で作製したインジケータの変色層のArプラズマ処理前後の観察像を示す。図2の比較例2の観察像からはArプラズマ処理だけで変色層の一部に剥がれが生じることが分かる。
下記表3に示す組成の本発明組成物を用意し、それをポリイミドフィルム上に塗布及び乾燥することによりポリイミドフィルム上に20μmの変色層を形成した。
試験例2では、試験例1と同じ装置内に実施例3〜6で作製したインジケータを載置し、反応性ガスとしてアルゴンガス(Ar)を導入しプラズマ処理した場合について各インジケータの変色層の変色性(処理前後の色差ΔEの測定)及び剥がれを評価した。
実施例3〜6ではいずれも本発明組成物を用いてインジケータを作製した。実施例3〜6はいずれもバインダー樹脂(PVB樹脂)の含有量が異なり、実施例3から6にかけてバインダー樹脂の含有量が減少する(前述の通り)。図3にArプラズマ処理後の各インジケータの変色層の観察像を示す。観察像によると、バインダー樹脂の含有量が少なくなるに伴って変色層の変色性が向上することが分かる。また、実施例3〜6ではいずれも本発明組成物を用いて変色層を形成しているため、バインダー樹脂の含有量が少ない場合でも変色層剥離抑制効果が得られることが分かる。
Claims (14)
- プラズマ処理により変色する変色層を形成するための組成物であって、
ビスマス化合物粒子、タングステン含有金属酸化物粒子及びバインダー樹脂を含有することを特徴とするプラズマ処理検知用組成物。 - 前記ビスマス化合物粒子は、平均粒子径が50μm以下である、請求項1に記載のプラズマ処理検知用組成物。
- 前記タングステン含有金属酸化物粒子は、酸化タングステン粒子及びタングステン酸ビスマス粒子の少なくとも一種である、請求項1又は2に記載のプラズマ処理検知用組成物。
- 前記タングステン含有金属酸化物粒子は、平均粒子径が50μm以下である、請求項1〜3のいずれかに記載のプラズマ処理検知用組成物。
- 前記バインダー樹脂は、石油系炭化水素樹脂、ビニル樹脂、ブチラール樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アクリロニトリル樹脂、フッ素樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ホルマリン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ケトン樹脂、ポリアミド樹脂、マレイン酸樹脂、クマロン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂及び脂環族樹脂からなる群から選択される少なくとも一種を含有する、請求項1〜4のいずれかに記載のプラズマ処理検知用組成物。
- 前記バインダー樹脂は、軟化点が70℃以上である、請求項1〜5のいずれかに記載のプラズマ処理検知用組成物。
- 前記バインダー樹脂の含有量は、前記ビスマス化合物粒子、前記タングステン含有金属酸化物粒子及び前記バインダー樹脂の合計重量を100重量%として6重量%以下である、請求項1〜6のいずれかに記載のプラズマ処理検知用組成物。
- 基材上に、請求項1〜7のいずれかに記載のプラズマ処理検知用組成物の硬化塗膜から形成される変色層を有するプラズマ処理検知インジケータ。
- 電子デバイス製造装置で使用するインジケータである、請求項8に記載のプラズマ処理検知インジケータ。
- 前記インジケータの形状が、前記電子デバイス製造装置で使用される電子デバイス基板の形状と同一である、請求項9に記載のプラズマ処理検知インジケータ。
- 前記電子デバイス製造装置は、成膜工程、エッチング工程、アッシング工程、不純物添加工程及び洗浄工程からなる群から選択される少なくとも一種のプラズマ処理を行う、請求項9又は10に記載のプラズマ処理検知インジケータ。
- プラズマ処理により変色しない非変色層を有する、請求項8〜11のいずれかに記載のプラズマ処理検知インジケータ。
- 前記非変色層は、酸化チタン(IV)、酸化ジルコニウム(IV)、酸化イットリウム(III)、硫酸バリウム、酸化マグネシウム、二酸化ケイ素、アルミナ、アルミニウム、銀、イットリウム、ジルコニウム、チタン及び白金からなる群から選択される少なくとも一種を含有する、請求項12に記載のプラズマ処理検知インジケータ。
- 前記基材上に、前記非変色層及び前記変色層が順に形成されており、前記非変色層が、前記基材の主面上に隣接して形成されており、前記変色層が、前記非変色層の主面上に隣接して形成されている、請求項12又は13に記載のプラズマ処理検知インジケータ。
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