JP6833355B2 - イオン入射装置及び粒子線治療装置 - Google Patents
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(構 成)
図1は各実施形態を適用した粒子線治療装置を示す構成図である。
次に、粒子線治療装置の作用を説明する。
図2は第1実施形態のイオン入射装置を示す構成図である。図3は第1実施形態のRFQを示す概略斜視図である。なお、図2において、図1と同一の部分には同一の符号を付して図1と異なる構成を説明する。
図7は第2実施形態のイオン入射装置を示す構成図である。なお、前記第1実施形態と同一の構成には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
本発明の実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更、組み合わせを行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
Claims (7)
- イオンを生成するイオン源と、
前記イオン源から引き出されたイオンビームを順に加速する前段線形加速器及び後段線形加速器と、を備え、
前記前段線形加速器及び前記後段線形加速器は、それぞれ筒状部と、この筒状部内に設置された電極部と、を有し、
前記前段線形加速器の前記筒状部及び前記電極部は、全体が一体に形成された継ぎ目がない無酸素銅の一体成形品であり、
前記前段線形加速器の前記筒状部は、円筒状に形成されて共振器となるものであり、
前記前段線形加速器の前記電極部は複数個あって、周方向に一定の間隔をおいて互いに対向して設置されていることを特徴とするイオン入射装置。 - 前記一体成形品は、切削加工品であることを特徴とする請求項1に記載のイオン入射装置。
- 前記前段線形加速器及び前記後段線形加速器にそれぞれ高周波電力を供給する高周波電源をさらに有し、前記前段線形加速器及び前記後段線形加速器の少なくとも一方の高周波電源を半導体アンプとしたことを特徴とする請求項1又は2に記載のイオン入射装置。
- 前記前段線形加速器は高周波四重極型線形加速器であって、前記後段線形加速器がドリフトチューブ型線形加速器であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載のイオン入射装置。
- 前記後段線形加速器が複数台設置されていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一項に記載のイオン入射装置。
- 前記前段線形加速器と前記後段線形加速器との間、前記複数台の後段線形加速器の間のそれぞれに、前記イオンビームを収束する3連四極電磁石がさらに設置されていることを特徴とする請求項5に記載のイオン入射装置。
- イオンを生成するイオン源と、
前記イオン源から引き出されたイオンビームを順に加速する前段線形加速器及び後段線形加速器と、
前記後段線形加速器のイオンビームが輸送され、このイオンビームを周回させて所定のエネルギーまで加速するシンクロトロンと、
前記シンクロトロンにより加速されたイオンビームを取り出す取出し機器と、
前記取出し機器により取り出されたイオンビームを照射対象に照射する照射装置と、を備え、
前記前段線形加速器及び前記後段線形加速器は、それぞれ筒状部と、この筒状部内に設置された電極部と、を有し、
前記前段線形加速器の前記筒状部及び前記電極部は、全体が一体に形成された継ぎ目がない無酸素銅の一体成形品であり、
前記前段線形加速器の前記筒状部は、円筒状に形成されて共振器となるものであり、
前記前段線形加速器の前記電極部は複数個あって、周方向に一定の間隔をおいて互いに対向して設置されていることを特徴とする粒子線治療装置。
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