JP6826288B2 - Work dividing device and work dividing method - Google Patents

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本発明は、ワーク分割装置及びワーク分割方法に係り、特に、半導体ウェーハ等のワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割装置及びワーク分割方法に関する。 The present invention relates to a work dividing device and a work dividing method, and more particularly to a work dividing device and a work dividing method for dividing a work such as a semiconductor wafer into individual chips along a scheduled division line.

従来、半導体チップ(以下、チップと言う。)の製造にあたり、ダイシングブレードによるハーフカット或いはレーザ照射による改質領域形成により予めその内部に分割予定ラインが形成された半導体ウェーハ(以下、ウェーハと言う。)を、分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割装置が知られている(特許文献1等参照)。 Conventionally, in the manufacture of a semiconductor chip (hereinafter referred to as a chip), a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a wafer) in which a planned division line is formed in advance by half-cutting with a dicing blade or forming a modified region by laser irradiation. ) Is known as a work dividing device that divides) into individual chips along a planned division line (see Patent Document 1 and the like).

図13は、ワーク分割装置によって分割される円盤状のウェーハ1が貼付されたウェーハユニット2の説明図であり、図13(A)はウェーハユニット2の斜視図、図13(B)はウェーハユニット2の縦断面図である。 13A and 13B are explanatory views of a wafer unit 2 to which a disk-shaped wafer 1 divided by a work dividing device is attached, FIG. 13A is a perspective view of the wafer unit 2, and FIG. 13B is a wafer unit. It is a vertical sectional view of 2.

ウェーハ1は、片面に粘着層が形成された厚さ約100μmのダイシングテープ(拡張テープ又は粘着シートとも言う。)3の中央部に貼付され、ダイシングテープ3は、その外周部が剛性のある金属製のリング状のフレーム4に固定されている。 The wafer 1 is attached to the central portion of a dicing tape (also referred to as an expansion tape or an adhesive sheet) 3 having a thickness of about 100 μm having an adhesive layer formed on one side, and the dicing tape 3 is a metal having a rigid outer peripheral portion. It is fixed to a ring-shaped frame 4 made of metal.

ワーク分割装置では、ウェーハユニット2のフレーム4が、二点鎖線で示す固定部(フレーム固定機構とも言う。)7に当接されて固定される。この後、ウェーハユニット2の下方から二点鎖線で示すエキスパンドリング(突上げリングとも言う。)8が上昇移動され、このエキスパンドリング8によってダイシングテープ3が押圧されて放射状に拡張される。このときに生じるダイシングテープ3の張力が、ウェーハ1の分割予定ライン5に付与されることにより、ウェーハ1が個々のチップ6に分割される。 In the work dividing device, the frame 4 of the wafer unit 2 is abutted and fixed by the fixing portion (also referred to as a frame fixing mechanism) 7 indicated by the alternate long and short dash line. After that, the expanding ring (also referred to as a push-up ring) 8 indicated by the alternate long and short dash line is moved upward from below the wafer unit 2, and the dicing tape 3 is pressed by the expanding ring 8 to be radially expanded. The tension of the dicing tape 3 generated at this time is applied to the scheduled division line 5 of the wafer 1, so that the wafer 1 is divided into individual chips 6.

ここで、本願明細書において、ダイシングテープ3のうち、ウェーハ1が貼付される平面視円形状の領域を中央部領域3Aと称し、中央部領域3Aの外縁部(ウェーハ1の外縁部)とフレーム4の内縁部との間に備えられる平面視ドーナツ形状の領域を環状部領域3Bと称し、フレーム4に固定される最外周部分の平面視ドーナツ形状の領域を固定部領域3Cと称する。環状部領域3Bが、エキスパンドリング8に押圧されて拡張される領域である。 Here, in the specification of the present application, the region of the dicing tape 3 having a circular shape in a plan view to which the wafer 1 is attached is referred to as a central region 3A, and the outer edge portion (outer edge portion of the wafer 1) and the frame of the central region 3A. The plan-view donut-shaped region provided between the inner edge portion of 4 is referred to as an annular portion region 3B, and the plan-view donut-shaped region of the outermost peripheral portion fixed to the frame 4 is referred to as a fixed portion region 3C. The annular portion region 3B is a region that is pressed and expanded by the expanding ring 8.

ワーク分割装置おいて、ウェーハ1の分割に要する力、すなわち、ウェーハ1を分割するために環状部領域3Bに発生させなければならない張力は、分割予定ライン5の本数が多くなるに従って高くしなければならないことが知られている。分割予定ライン5の本数について、例えば、直径300mmのウェーハ1でチップサイズが5mmの場合には約120本(XY方向に各60本)の分割予定ライン5が形成され、チップサイズが1mmの場合は約600本の分割予定ライン5が形成される。よって、環状部領域3Bに発生させなければならない張力は、チップサイズが小さくなるに従って高くしなければならない。 In the work dividing device, the force required for dividing the wafer 1, that is, the tension that must be generated in the annular portion region 3B to divide the wafer 1, must be increased as the number of planned division lines 5 increases. It is known that it does not become. Regarding the number of planned division lines 5, for example, when the wafer 1 having a diameter of 300 mm has a chip size of 5 mm, about 120 planned division lines (60 lines each in the XY direction) are formed, and the chip size is 1 mm. Is formed with about 600 scheduled division lines 5. Therefore, the tension that must be generated in the annular portion region 3B must be increased as the chip size becomes smaller.

ところで、直径300mmのウェーハ1がマウントされるフレーム4の内径(フレームの内縁部の径)は、SEMI規格(G74−0699 300mmウェーハに関するテープフレームのための仕様)により350mmと定められている。この規格により、図14のウェーハユニット2の縦断面図の如く、ウェーハ1の外縁部とフレーム4の内縁部との間には、25mmの幅寸法を有する環状部領域3Bが存在することになる。また、図15(A)、(B)で示すワーク分割装置の要部縦断面図の如く、フレーム4を固定する固定部7は、エキスパンドリング8によって拡張される環状部領域3Bに接触しないように、矢印Aで示すダイシングテープ3の面内方向において環状部領域3Bから外方に離間した位置に設置されている。 By the way, the inner diameter (diameter of the inner edge of the frame) of the frame 4 on which the wafer 1 having a diameter of 300 mm is mounted is defined as 350 mm by the SEMI standard (specification for a tape frame for a G74-0699 300 mm wafer). According to this standard, as shown in the vertical cross-sectional view of the wafer unit 2 of FIG. 14, an annular portion region 3B having a width dimension of 25 mm exists between the outer edge portion of the wafer 1 and the inner edge portion of the frame 4. .. Further, as shown in the vertical cross-sectional view of the main part of the work dividing device shown in FIGS. 15A and 15B, the fixing portion 7 for fixing the frame 4 does not come into contact with the annular portion region 3B expanded by the expanding ring 8. In the in-plane direction of the dicing tape 3 indicated by the arrow A, the dicing tape 3 is installed at a position separated outward from the annular portion region 3B.

ここで、エキスパンドリング8の上昇動作によって生じるウェーハ1を分割する力は、(i)環状部領域3Bの全領域を拡張する力、(ii)ウェーハ1をチップ6に分割する力、(iii)隣接するチップ6とチップ6との間のダイシングテープ3を拡張する力の3つの力に分解される。 Here, the forces that divide the wafer 1 generated by the ascending operation of the expanding ring 8 are (i) a force that expands the entire region of the annular portion region 3B, (ii) a force that divides the wafer 1 into chips 6, and (iii). It is decomposed into three forces that expand the dicing tape 3 between the adjacent chips 6.

図16(A)〜(E)に示すワーク分割装置の動作図の如く、ダイシングテープ3の環状部領域3Bにエキスパンドリング8が当接し、エキスパンドリング8の上昇動作によってダイシングテープ3の拡張が始まると(図16(A))、まず最もバネ定数の低い環状部領域3Bの拡張が始まる(図16(B))。これにより、環状部領域3Bに張力が発生し、この張力がある程度高まると、高まった張力がウェーハ1に伝達されてウェーハ1のチップ6への分割が始まる(図16(C))。ウェーハ1が個々のチップ6に分割されると、環状部領域3Bの拡張とチップ6間のダイシングテープ3の拡張とが同時に進行する(図16(D)〜(E))。 As shown in the operation diagram of the work dividing device shown in FIGS. 16A to 16E, the expanding ring 8 abuts on the annular portion region 3B of the dicing tape 3, and the dicing tape 3 begins to expand by the ascending operation of the expanding ring 8. (FIG. 16 (A)), the expansion of the annular region 3B having the lowest spring constant begins (FIG. 16 (B)). As a result, tension is generated in the annular portion region 3B, and when this tension increases to some extent, the increased tension is transmitted to the wafer 1 and the wafer 1 is divided into chips 6 (FIG. 16C). When the wafer 1 is divided into individual chips 6, the expansion of the annular region 3B and the expansion of the dicing tape 3 between the chips 6 proceed at the same time (FIGS. 16D to 16E).

従来のワーク分割装置では、直径300mmのウェーハ1において、チップサイズが5mm以上の場合には、環状部領域3Bで発生した張力により、個々のチップ6に問題無く分割することができた。しかしながら、ウェーハ1に形成される回路パターンの微細化に伴いチップサイズがより小さい1mm以下のチップも現れてきた。この場合、ウェーハ1を分割する分割予定ライン5の本数が増大することに起因して、ウェーハ1の分割に要する力が大きくなり、環状部領域3Bの拡張による張力以上の力が必要となる場合があった。そうすると、図17のウェーハユニット2の縦断面図の如く、エキスパンドリング8による拡張動作が終了しても、ウェーハ1に形成された分割予定ライン5の一部が分割されずに未分割のまま残存するという問題が発生した。 In the conventional work dividing device, in the wafer 1 having a diameter of 300 mm, when the chip size is 5 mm or more, the individual chips 6 can be divided without any problem due to the tension generated in the annular portion region 3B. However, with the miniaturization of the circuit pattern formed on the wafer 1, chips having a smaller chip size of 1 mm or less have appeared. In this case, when the number of planned division lines 5 for dividing the wafer 1 increases, the force required for dividing the wafer 1 increases, and a force greater than the tension due to the expansion of the annular portion region 3B is required. was there. Then, as shown in the vertical cross-sectional view of the wafer unit 2 of FIG. 17, even if the expansion operation by the expanding ring 8 is completed, a part of the planned division line 5 formed on the wafer 1 is not divided and remains undivided. There was a problem of doing.

このような分割予定ライン5の未分割の問題は、ダイシングテープ3の拡張量や拡張速度を増加させても解消することはできない。例えば、ダイシングテープ3の拡張量を増やした場合には、環状部領域3Bが塑性変形を始めてしまうからである。塑性変形中の環状部領域3Bのバネ定数は、弾性変形中のバネ定数よりも小さいことから、環状部領域3Bの弾性変形を超えた領域では、ウェーハ1を個々のチップ6に分割する張力は発生しない。一方、ダイシングテープ3の拡張速度を増やした場合でも、環状部領域3Bの一部分が塑性変形を始めてしまうので、ウェーハ1を個々のチップ6に分割する張力は発生しない。これはダイシングテープ3の周波数応答が低いため、ダイシングテープ3の全体に時間差なく力が伝達しないからである。 Such an undivided problem of the scheduled division line 5 cannot be solved by increasing the expansion amount and expansion speed of the dicing tape 3. For example, when the expansion amount of the dicing tape 3 is increased, the annular portion region 3B starts plastic deformation. Since the spring constant of the annular portion region 3B during plastic deformation is smaller than the spring constant during elastic deformation, the tension for dividing the wafer 1 into individual chips 6 in the region exceeding the elastic deformation of the annular portion region 3B Does not occur. On the other hand, even when the expansion speed of the dicing tape 3 is increased, a part of the annular portion region 3B starts to be plastically deformed, so that the tension for dividing the wafer 1 into the individual chips 6 is not generated. This is because the frequency response of the dicing tape 3 is low, so that the force is not transmitted to the entire dicing tape 3 without a time lag.

そこで、上記のような問題を解消する装置の一例として、冷気供給手段を備えたテープ拡張装置(ワーク分割装置)が特許文献2に開示されている。特許文献2によれば、冷気供給手段を作動して、処理空間内に冷気を供給し、処理空間内を例えば零下に冷却することにより、ダイシングテープを冷却している。 Therefore, as an example of an apparatus for solving the above-mentioned problems, Patent Document 2 discloses a tape expansion apparatus (work division apparatus) provided with cold air supply means. According to Patent Document 2, the dicing tape is cooled by operating the cold air supply means to supply cold air into the processing space and cooling the processing space to, for example, below zero.

特許文献2の如く、ダイシングテープを冷却することで、ダイシングテープのバネ定数を大きくした状態でダイシングテープを拡張することができる。これにより、図14に示した環状部領域3Bに発生する張力を、冷却しないダイシングテープと比較して高くすることができるので、チップサイズが小チップの場合でも個々のチップに分割することが可能となる。 As in Patent Document 2, by cooling the dicing tape, the dicing tape can be expanded in a state where the spring constant of the dicing tape is increased. As a result, the tension generated in the annular portion region 3B shown in FIG. 14 can be increased as compared with the uncooled dicing tape, so that even if the chip size is small, it can be divided into individual chips. It becomes.

特開2016−149581号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-149581 特開2016−12585号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-12585

しかしながら、特許文献2のワーク分割装置では、冷気供給手段からの冷気によってウェーハユニットが零下に冷却されているので、個々のチップに分割された低温のウェーハユニットをワーク分割装置からに直ちに取り出すと、外気の湿度によってウェーハユニットに結露が生じる場合がある。 However, in the work dividing device of Patent Document 2, since the wafer unit is cooled below zero by the cold air from the cold air supply means, when the low temperature wafer unit divided into individual chips is immediately taken out from the work dividing device, Condensation may occur on the wafer unit due to the humidity of the outside air.

ウェーハユニットに結露が生じると、以下の問題が発生する。すなわち、チップにウォータマークと称されるシミが発生し、このシミによってパターン欠陥が発生したり、本来あるべきシリコン面が適切に露出しなくなるために膜形成が不完全となって成膜異常が発生したりする。 When dew condensation occurs on the wafer unit, the following problems occur. That is, stains called watermarks are generated on the chip, and these stains cause pattern defects, or the silicon surface that should be originally not exposed properly, resulting in incomplete film formation and abnormal film formation. Occurs.

このような問題は、ウェーハを個々のチップに分割した後、冷気の供給を停止して、低温のウェーハユニット2が常温に戻るまでウェーハユニットをワーク分割装置の中で放置することにより解消することができる。つまり、ワーク分割装置によるワーク分割工程の後工程に、ウェーハユニットを常温化する常温化工程(加温工程)を付加することにより解消することができる。 Such a problem can be solved by dividing the wafer into individual chips, stopping the supply of cold air, and leaving the wafer unit in the work dividing device until the low temperature wafer unit 2 returns to room temperature. Can be done. That is, it can be solved by adding a room temperature step (heating step) for cooling the wafer unit to room temperature after the work splitting process by the work dividing device.

ここで、ウェーハユニット2を構成する各部材の熱容量について説明すると、剛性のある金属製のフレーム4の熱容量は、厚さの薄いシリコン製のウェーハ1及び樹脂製のダイシングテープ3の熱容量よりも大きい。このような熱容量の差によって、ウェーハ1及びダイシングテープ3が常温に戻っても、フレーム4が常温に戻るまでには時間がかかる。つまり、フレーム4に生じた結露がウェーハ1に付着する場合があるため、常温化工程にかかる時間は、ウェーハ1とダイシングテープ3が常温に戻るまでの時間ではなく、フレーム4が常温に戻るまでの時間となり、例えば15分程度かかってしまう。このような時間のかかる常温化工程を付加すると、ワーク分割装置の単位時間当たりのワーク処理能力(スループット)が大幅に低下するという問題がある。 Here, the heat capacity of each member constituting the wafer unit 2 will be described. The heat capacity of the rigid metal frame 4 is larger than the heat capacity of the thin silicon wafer 1 and the resin dicing tape 3. .. Due to such a difference in heat capacity, even if the wafer 1 and the dicing tape 3 return to room temperature, it takes time for the frame 4 to return to room temperature. That is, since dew condensation formed on the frame 4 may adhere to the wafer 1, the time required for the room temperature step is not the time until the wafer 1 and the dicing tape 3 return to room temperature, but until the frame 4 returns to room temperature. It takes about 15 minutes, for example. When such a time-consuming room temperature setting step is added, there is a problem that the work processing capacity (throughput) per unit time of the work dividing device is significantly reduced.

このように従来のワーク分割装置には、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割の問題を解消しつつ、時間のかかる常温化工程を付加することによって生じるワーク処理能力の低下の問題を解消することができるものはなく、そのような装置を実現することが望まれていた。 As described above, in the conventional work dividing device, the problem of undivided lines to be divided, which occurs when the chip size is small, is solved, and the work processing capacity is reduced due to the addition of a time-consuming room temperature step. There is nothing that can solve the problem, and it has been desired to realize such a device.

本発明はこのような問題に鑑みて成されたものであり、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題と、時間のかかる常温化工程を付加することによって生じるワーク処理能力の低下の問題とを同時に解消することができるワーク分割装置及びワーク分割方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such a problem, and the undivided problem of the scheduled division line that occurs when the chip size is a small chip and the work processing capacity generated by adding a time-consuming room temperature step. It is an object of the present invention to provide a work dividing device and a work dividing method capable of simultaneously solving the problem of deterioration of the work.

本発明のワーク分割装置は、本発明の目的を達成するために、ダイシングテープに貼付されてフレームにマウントされたワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割装置において、ワークを取り囲む冷却室を有し、冷却室の内部を冷却する冷却部と、冷却室の内部に配置され、冷却部により冷却されたダイシングテープに張力を加えてダイシングテープを拡張するエキスパンドリングと、冷却室に連設された加温室を有し、加温室は開閉可能な仕切り壁によって冷却室と区画され、加温室の内部を乾燥雰囲気で加温する加温部と、を備え、エキスパンドリングによってダイシングテープが拡張された後、冷却室から加温室に移動したワークを加温室の内部でダイシングテープ及びフレームと共に加温する。 In order to achieve the object of the present invention, the work dividing device of the present invention divides a work attached to a dicing tape and mounted on a frame into individual chips along a planned division line. A cooling unit that has a surrounding cooling chamber and cools the inside of the cooling chamber, an expanding ring that is arranged inside the cooling chamber and expands the dicing tape by applying tension to the dicing tape cooled by the cooling unit, and a cooling chamber. The greenhouse is separated from the cooling chamber by a partition wall that can be opened and closed, and has a heating section that heats the inside of the greenhouse in a dry atmosphere, and is equipped with a dicing tape by expanding. After the work is expanded, the workpiece moved from the cooling chamber to the greenhouse is heated inside the greenhouse together with the dicing tape and frame.

本発明のワーク分割装置によれば、冷却室の内部でダイシングテープを冷却し、ダイシングテープのバネ定数を大きくした状態でダイシングテープをエキスパンドリングによって拡張する。これにより、本発明のワーク分割装置によれば、チップサイズが小チップの場合でも個々のチップに分割することができる。そして、本発明のワーク分割装置によれば、エキスパンドリングによって個々のチップに分割されたワークを、冷却室から加温室に移動させ、その後、ワークを加温室の内部でダイシングテープ及びフレームとともに乾燥雰囲気で加温して常温に戻す。これにより、本発明のワーク分割装置によれば、低温のフレーム及びダイシングテープを放置した状態で常温化する従来のワーク分割装置と比較して、フレーム及びダイシングテープの常温化にかかる時間を大幅に短縮することができる。 According to the work dividing device of the present invention, the dicing tape is cooled inside the cooling chamber, and the dicing tape is expanded by expanding while the spring constant of the dicing tape is increased. As a result, according to the work dividing device of the present invention, even if the chip size is small, it can be divided into individual chips. Then, according to the work dividing device of the present invention, the work divided into individual chips by expanding is moved from the cooling chamber to the greenhouse, and then the work is moved inside the greenhouse together with the dicing tape and the frame in a dry atmosphere. Warm with to return to room temperature. As a result, according to the work dividing device of the present invention, the time required for the frame and the dicing tape to reach room temperature is significantly longer than that of the conventional work dividing device in which the low temperature frame and dicing tape are left at room temperature. It can be shortened.

よって、本発明のワーク分割装置によれば、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題と、時間のかかる常温化工程を付加することによって生じるワーク処理能力の低下の問題とを同時に解消することができる。 Therefore, according to the work dividing device of the present invention, there is a problem of undivision of the scheduled division line that occurs when the chip size is small, and a problem of a decrease in work processing capacity caused by adding a time-consuming room temperature step. Can be resolved at the same time.

本発明のワーク分割装置の一態様は、エキスパンドリングによって拡張されたダイシングテープの拡張状態を保持する拡張保持リングを備え、加温部は、拡張保持リングによってダイシングテープの拡張状態が保持された状態で、加温室の内部でワークをダイシングテープ及びフレームと共に加温することが好ましい。 One aspect of the work dividing device of the present invention includes an expansion holding ring for holding the expanded state of the dicing tape expanded by the expanding ring, and the heating unit is in a state where the expanded state of the dicing tape is held by the expansion holding ring. Therefore, it is preferable to heat the work together with the dicing tape and the frame inside the greenhouse.

本発明の一態様によれば、拡張保持リングによってダイシングテープの拡張を保持した状態、すなわち、チップ同士の接触に起因するチップの損傷を防止した状態で、ダイシングテープを加温室の内部で加温することができる。 According to one aspect of the present invention, the dicing tape is heated inside the greenhouse while the dicing tape is held by the expansion holding ring, that is, the chips are prevented from being damaged due to contact between the chips. can do.

本発明のワーク分割装置の一態様は、冷却部は、ダイシングテープが脆性化する温度の冷気を冷却室に供給する冷気供給手段を有し、加温部は、加温室を常温以上の温度で加温する加温手段を有することが好ましい。 In one aspect of the work dividing device of the present invention, the cooling unit has a cold air supply means for supplying cold air at a temperature at which the dicing tape becomes brittle to the cooling chamber, and the heating unit heats the greenhouse at a temperature of room temperature or higher. It is preferable to have a heating means for heating.

本発明の一態様によれば、冷気供給手段からの冷気によって、ダイシングテープが脆性化されるので、小チップの分割に対応する十分なバネ定数をダイシングテープに与えることができ、また、加温手段によってフレーム及びダイシングテープを短時間で常温化することができる。 According to one aspect of the present invention, since the dicing tape is made brittle by the cold air from the cold air supply means, a sufficient spring constant corresponding to the division of small chips can be given to the dicing tape, and the dicing tape is heated. The frame and dicing tape can be brought to room temperature in a short time by means.

本発明のワーク分割装置の一態様は、加温手段は、フレームを主として加温する第1加温手段と、ダイシングテープを主として加温する第2加温手段とを有することが好ましい。 In one aspect of the work dividing device of the present invention, it is preferable that the heating means includes a first heating means that mainly heats the frame and a second heating means that mainly heats the dicing tape.

本発明の一態様によれば、熱容量の大きいフレームを第1加温手段によって加温し、熱容量の小さいダイシングテープを第2加温手段によって加温する。これに対して、フレームとダイシングテープとを一台の加温手段によって同一の温度で加温した場合、フレームの温度上昇率(単位時間当たりの上昇温度)がダイシングテープの温度上昇率よりも小さいので、フレームが常温化された時点でダイシングテープは常温よりも高温状態になる。このような場合、ダイシングテープが軟化する虞があり、ダイシングテープが軟化すると、ダイシングテープの張力が低下するので、分割したチップに影響を与える場合がある。 According to one aspect of the present invention, the frame having a large heat capacity is heated by the first heating means, and the dicing tape having a small heat capacity is heated by the second heating means. On the other hand, when the frame and the dicing tape are heated at the same temperature by one heating means, the temperature rise rate of the frame (the temperature rise per unit time) is smaller than the temperature rise rate of the dicing tape. Therefore, when the frame is brought to room temperature, the dicing tape becomes hotter than normal temperature. In such a case, the dicing tape may soften, and when the dicing tape softens, the tension of the dicing tape decreases, which may affect the divided chips.

本発明の一態様によれば、第1加温手段によってフレームを主として加温し、第2加温手段によってダイシングテープを主として加温することにより、例えばダイシングテープが常温化するまでの時間と、フレームが常温化するまでの時間とを合致させることができるので、フレームの常温化にかかる時間を短縮しつつ、ダイシングテープの軟化を防止することができる。 According to one aspect of the present invention, by mainly heating the frame by the first heating means and mainly heating the dicing tape by the second heating means, for example, the time until the dicing tape reaches room temperature and Since the time required for the frame to reach room temperature can be matched, the time required for the frame to reach room temperature can be shortened, and the dicing tape can be prevented from softening.

本発明のワーク分割装置の一態様は、加温部は、フレームを測温する第1測温手段と、ダイシングテープを測温する第2測温手段とを有し、第1測温手段によって測温されたフレームの温度と第2測温手段によって測温されたダイシングテープの温度に基づいて、フレームとダイシングテープの温度差が小さくなるように、第1加温手段及び第2加温手段によってフレーム及びダイシングテープの温度を個別に制御する制御部を備えることが好ましい。 In one aspect of the work dividing device of the present invention, the heating unit has a first temperature measuring means for measuring the temperature of the frame and a second temperature measuring means for measuring the temperature of the dicing tape, and the first temperature measuring means is used. Based on the temperature of the frame measured and the temperature of the dying tape measured by the second temperature measuring means, the first heating means and the second heating means so that the temperature difference between the frame and the dying tape becomes small. It is preferable to provide a control unit that individually controls the temperature of the frame and the dicing tape.

本発明の一態様によれば、第1測温手段によって測温されたフレームの温度、及び第2測温手段によって測温されたダイシングテープの温度に基づいて、フレームとダイシングテープの温度差が小さくなるように、第1加温手段及び第2加温手段によってフレーム及びダイシングテープの温度を制御手段が個別に制御するので、フレームの常温化にかかる時間を短縮しつつ、ダイシングテープの軟化を確実に防止することができる。 According to one aspect of the present invention, the temperature difference between the frame and the dicing tape is based on the temperature of the frame measured by the first temperature measuring means and the temperature of the dicing tape measured by the second temperature measuring means. Since the temperature of the frame and the dicing tape is individually controlled by the first heating means and the second heating means so as to be smaller, the time required for the frame to reach room temperature can be shortened and the dicing tape can be softened. It can be reliably prevented.

本発明のワーク分割方法は、本発明の目的を達成するために、ダイシングテープに貼付されてフレームにマウントされたワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割方法において、冷却室の内部を冷却することにより、冷却室の内部に配置されたワークを冷却する冷却工程と、冷却室の内部で冷却されたダイシングテープに張力を加えてダイシングテープを拡張する拡張工程と、拡張工程によりダイシングテープが拡張された後、冷却室に連設された加温室にワークを移動させて、加温室の内部を乾燥雰囲気で加温することにより、ワークを加温室の内部でダイシングテープ及びフレームと共に加温する加温工程と、を備える。 The work dividing method of the present invention is a work dividing method for dividing a work attached to a dicing tape and mounted on a frame into individual chips along a planned division line in order to achieve the object of the present invention. A cooling process that cools the work placed inside the cooling chamber by cooling the inside of the dicing chamber, an expansion process that applies tension to the dicing tape cooled inside the cooling chamber to expand the dicing tape, and an expansion process. After the dicing tape is expanded by, the work is moved to the heating room connected to the cooling chamber, and the inside of the heating room is heated in a dry atmosphere, so that the work is divided into the dicing tape and the frame inside the heating room. It is provided with a heating process for heating together with.

本発明のワーク分割方法によれば、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題と、時間のかかる常温化工程に起因するワーク処理能力の低下の問題とを同時に解消することができる。 According to the work dividing method of the present invention, the problem of undivided lines to be divided, which occurs when the chip size is a small chip, and the problem of a decrease in work processing capacity due to a time-consuming room temperature step are simultaneously solved. Can be done.

本発明のワーク分割方法の一態様は、拡張工程と加温工程との間に拡張状態保持工程を有し、拡張状態保持工程は、拡張工程によって拡張されたダイシングテープの拡張状態を保持し、加温工程は、拡張状態保持工程によってダイシングテープの拡張状態が保持された状態で、加温室の内部でワークをダイシングテープ及びフレームと共に加温することが好ましい。 One aspect of the work dividing method of the present invention has an expanded state holding step between the expanding step and the heating step, and the expanded state holding step holds the expanded state of the dicing tape expanded by the expanding step. In the heating step, it is preferable to heat the work together with the dicing tape and the frame inside the heating chamber while the expanded state of the dicing tape is maintained by the expanded state holding step.

本発明の一態様によれば、拡張保持リングによってダイシングテープの拡張を保持した状態、すなわち、チップ同士の接触に起因するチップの損傷を防止した状態で、ダイシングテープを加温室の内部で加温することができる。 According to one aspect of the present invention, the dicing tape is heated inside the greenhouse while the dicing tape is held by the expansion holding ring, that is, the chips are prevented from being damaged due to contact between the chips. can do.

本発明のワーク分割方法の一態様は、冷却工程は、ダイシングテープが脆性化する温度の冷気を冷却室に供給し、加温工程は、加温室を常温以上の温度で加温することが好ましい。 In one aspect of the work dividing method of the present invention, it is preferable that the cooling step supplies cold air at a temperature at which the dicing tape becomes brittle to the cooling chamber, and the heating step warms the greenhouse at a temperature equal to or higher than normal temperature. ..

本発明の一態様によれば、冷却工程の冷気によって、ダイシングテープが脆性化されるので、小チップの分割に対応する十分なバネ定数をダイシングテープに与えることができ、また、加温工程によってフレーム及びダイシングテープを短時間で常温化することができる。 According to one aspect of the present invention, since the dicing tape is made brittle by the cold air in the cooling step, a sufficient spring constant corresponding to the division of small chips can be given to the dicing tape, and the heating step can provide a sufficient spring constant. The frame and dicing tape can be cooled to room temperature in a short time.

本発明のワーク分割方法の一態様は、加温工程は、フレームを主として加温する第1加温工程と、ダイシングテープを主として加温する第2加温工程とを有することが好ましい。 In one aspect of the work dividing method of the present invention, it is preferable that the heating step includes a first heating step in which the frame is mainly heated and a second heating step in which the dicing tape is mainly heated.

本発明の一態様によれば、フレームを主として加温する第1加温工程と、ダイシングテープを主として加温する第2加温工程とを有することにより、例えばダイシングテープが常温化するまでの時間と、フレームが常温化するまでの時間時間とを合わせることができるので、フレームの常温化にかかる時間を大幅に短縮しつつ、ダイシングテープの軟化を防止することができる。 According to one aspect of the present invention, by having a first heating step for mainly heating the frame and a second heating step for mainly heating the dicing tape, for example, the time until the dicing tape reaches room temperature. Since it is possible to match the time required for the frame to reach room temperature, it is possible to significantly reduce the time required for the frame to reach room temperature and prevent the dicing tape from softening.

本発明のワーク分割方法の一態様は、加温工程は、フレームを測温する第1測温工程と、ダイシングテープを測温する第2測温工程を有し、第1測温工程で測温されたフレームの温度と第2測温工程で測温されたダイシングテープの温度に基づいて、フレームとダイシングテープの温度差が小さくなるように、フレーム及びダイシングテープの温度を個別に制御する制御工程を有することが好ましい。 In one aspect of the work dividing method of the present invention, the heating step includes a first temperature measuring step of measuring the temperature of the frame and a second temperature measuring step of measuring the temperature of the dicing tape, and the temperature is measured in the first temperature measuring step. Control to individually control the temperature of the frame and the dicing tape so that the temperature difference between the frame and the dicing tape becomes small based on the temperature of the heated frame and the temperature of the dicing tape measured in the second temperature measurement step. It is preferable to have a step.

本発明の一態様によれば、第1測温工程で測温されたフレームの温度及び第2測温工程で測温されたダイシングテープの温度に基づいて、フレームとダイシングテープの温度差が小さくなるように、フレーム及びダイシングテープの温度を個別に制御するので、フレームの常温化にかかる時間を大幅に短縮しつつ、ダイシングテープの軟化を確実に防止することができる。 According to one aspect of the present invention, the temperature difference between the frame and the dicing tape is small based on the temperature of the frame measured in the first temperature measuring step and the temperature of the dicing tape measured in the second temperature measuring step. Therefore, since the temperatures of the frame and the dicing tape are individually controlled, it is possible to reliably prevent the dicing tape from softening while significantly shortening the time required for the frame to reach room temperature.

本発明によれば、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題と、時間のかかる常温化工程を付加することによって生じるワーク処理能力の低下の問題とを同時に解消することができる。 According to the present invention, it is possible to simultaneously solve the problem of undivided lines to be divided, which occurs when the chip size is small, and the problem of a decrease in work processing capacity caused by adding a time-consuming room temperature step. it can.

実施形態のワーク分割装置の構造図Structural drawing of the work dividing device of the embodiment 図1に示したワーク分割装置の要部拡大斜視図Enlarged perspective view of the main part of the work dividing device shown in FIG. 拡張途中の環状部領域の形状を示したウェーハユニットの要部縦断面図Longitudinal cross-sectional view of the main part of the wafer unit showing the shape of the annular portion region during expansion 拡張保持リングによるダイシングテープの拡張状態を示した縦断面図Vertical sectional view showing the expanded state of the dicing tape by the extended holding ring. 図4の要部拡大断面図Enlarged sectional view of the main part of FIG. 図1に示したワーク分割装置の加温部の構成を示した要部拡大斜視図An enlarged perspective view of a main part showing the configuration of a heating part of the work dividing device shown in FIG. ワーク分割装置の制御系を示したブロック図Block diagram showing the control system of the work dividing device ウェーハ分割方法の一例を示したフローチャートFlow chart showing an example of wafer division method ワーク分割装置の動作説明図Operation explanatory diagram of work dividing device ワーク分割装置の動作説明図Operation explanatory diagram of work dividing device 冷却室から加温室にウェーハユニットが搬入された説明図Explanatory drawing of the wafer unit carried from the cooling chamber to the greenhouse 加温部の他の実施形態を示した説明図Explanatory drawing which showed other embodiment of a heating part ウェーハが貼付されたウェーハユニットの説明図Explanatory drawing of the wafer unit to which the wafer is attached ウェーハユニットの縦断面図Longitudinal section of wafer unit ワーク分割装置の要部側面図Side view of the main part of the work dividing device ワーク分割装置の動作図Operation diagram of work dividing device ウェーハが分割されたウェーハユニットの縦断面図Longitudinal section of the wafer unit in which the wafer is divided

以下、添付図面に従って本発明に係るワーク分割装置及びワーク分割方法の好ましい実施形態について詳説する。本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲であれば、以下の実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。 Hereinafter, preferred embodiments of the work dividing device and the work dividing method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications and substitutions can be added to the following embodiments within the scope of the present invention.

図1は、実施形態に係るワーク分割装置10に備えられた冷却部12及び加温部40の要部縦断面図であり、図2は、冷却部12の要部拡大斜視図である。なお、ワーク分割装置10によって分割処理されるウェーハユニットのサイズは限定されるものではないが、実施形態では、図14に示した直径300mmのウェーハ1がマウントされたウェーハユニット2を例示する。 FIG. 1 is a vertical cross-sectional view of a main part of a cooling unit 12 and a heating unit 40 provided in the work dividing device 10 according to the embodiment, and FIG. 2 is an enlarged perspective view of a main part of the cooling unit 12. The size of the wafer unit to be divided by the work dividing device 10 is not limited, but in the embodiment, the wafer unit 2 on which the wafer 1 having a diameter of 300 mm shown in FIG. 14 is mounted is illustrated.

図2の如く、ワーク分割装置10は、分割予定ライン5が形成されたウェーハ1を分割予定ライン5に沿って個々のチップ6に分割する装置である。分割予定ライン5は、互いに直交するX方向及びY方向に複数本形成される。実施形態では、X方向と平行な分割予定ライン5の本数と、Y方向と平行な分割予定ライン5の本数とがそれぞれ300本でそれぞれの間隔が等しいウェーハ1、すなわち、チップサイズが1mmのチップ6に分割されるウェーハ1を例示する。 As shown in FIG. 2, the work dividing device 10 is a device that divides the wafer 1 on which the scheduled division line 5 is formed into individual chips 6 along the scheduled division line 5. A plurality of scheduled division lines 5 are formed in the X direction and the Y direction orthogonal to each other. In the embodiment, the number of planned division lines 5 parallel to the X direction and the number of planned division lines 5 parallel to the Y direction are 300, and the intervals are the same. Wafer 1, that is, a chip having a chip size of 1 mm. An example is a wafer 1 divided into 6.

ウェーハ1は図1、図2の如く、フレーム4に外周部が固定されたダイシングテープ3の中央部に貼付される。ダイシングテープ3は、ウェーハ1が貼付される平面視円形状の中央部領域3A、及び中央部領域3Aの外縁部(ウェーハ1の外縁部)とフレーム4の内縁部との間の平面視ドーナツ形状の環状部領域3Bを有する。 As shown in FIGS. 1 and 2, the wafer 1 is attached to the central portion of the dicing tape 3 whose outer peripheral portion is fixed to the frame 4. The dicing tape 3 has a donut shape in a plan view between the central region 3A having a circular shape in a plan view to which the wafer 1 is attached and the outer edge portion (outer edge portion of the wafer 1) of the central portion region 3A and the inner edge portion of the frame 4. It has an annular portion region 3B of.

ウェーハ1の厚さは、例えば50μm程度である。また、ダイシングテープ3としては、例えばPVC(polyvinyl chloride:ポリ塩化ビニール)系のテープが使用される。なお、ウェーハ1をDAF(Die Attach Film)等のフィルム状接着材を介してダイシングテープ3に貼付してもよい。フィルム状接着材としては、例えばPO(polyolefin:ポリオレフィン)系のものを使用することができる。 The thickness of the wafer 1 is, for example, about 50 μm. Further, as the dicing tape 3, for example, a PVC (polyvinyl chloride) -based tape is used. The wafer 1 may be attached to the dicing tape 3 via a film-like adhesive such as DAF (Die Attach Film). As the film-like adhesive, for example, a PO (polyolefin) -based adhesive can be used.

ワーク分割装置10の冷却部12は、フレーム4を固定する固定部7(図15、図16参照)と、ダイシングテープ3の環状部領域3Bに下方側から当接されてダイシングテープ3を押圧して拡張するエキスパンドリング14と、エキスパンドリング14によって拡張されたダイシングテープ3の拡張状態を保持する拡張保持リング(サブリングとも言う。)18と、を有する。 The cooling portion 12 of the work dividing device 10 is in contact with the fixing portion 7 (see FIGS. 15 and 16) for fixing the frame 4 and the annular portion region 3B of the dicing tape 3 from below to press the dicing tape 3. It has an expanding ring 14 that expands with the dicing ring 14, and an expanding holding ring (also referred to as a sub-ring) 18 that holds the expanded state of the dicing tape 3 expanded by the expanding ring 14.

また、図1の如く、冷却部12は、固定部7、エキスパンドリング14及び拡張保持リング18を囲繞する冷却室16を備える。更に、ワーク分割装置10は、冷却室16に零下の冷気20を供給するノズル22を備えた冷気供給手段24を備えている。この冷却室16と冷気供給手段24とによって冷却部12が構成される。そして、エキスパンドリング14及び拡張保持リング18を含む空間である冷却室16の内部空間34に冷気20が供給される。冷気20の温度は、ダイシングテープ3のバネ定数を上げることができる温度であればよいが、ダイシングテープ3を脆性化する温度、例えば−20℃〜−30℃であることが好ましい。 Further, as shown in FIG. 1, the cooling unit 12 includes a cooling chamber 16 that surrounds the fixing unit 7, the expanding ring 14, and the expansion holding ring 18. Further, the work dividing device 10 includes a cold air supply means 24 provided with a nozzle 22 for supplying the cold air 20 below zero to the cooling chamber 16. The cooling unit 12 is composed of the cooling chamber 16 and the cold air supply means 24. Then, the cold air 20 is supplied to the internal space 34 of the cooling chamber 16, which is a space including the expanding ring 14 and the expansion holding ring 18. The temperature of the cold air 20 may be any temperature at which the spring constant of the dicing tape 3 can be increased, but is preferably a temperature at which the dicing tape 3 is made brittle, for example, −20 ° C. to −30 ° C.

固定部7は、ダイシングテープ3におけるウェーハ1の貼付面と同一側に配置され、その下面7Aにフレーム4が着脱自在に固定される。また、固定部7は、エキスパンドリング14によって拡張される環状部領域3Bに接触しないように、矢印Aで示すダイシングテープ3の面内方向において環状部領域3Bから外方に離間した位置に設置されている。 The fixing portion 7 is arranged on the same side as the sticking surface of the wafer 1 on the dicing tape 3, and the frame 4 is detachably fixed to the lower surface 7A thereof. Further, the fixing portion 7 is installed at a position separated outward from the annular portion region 3B in the in-plane direction of the dicing tape 3 indicated by the arrow A so as not to come into contact with the annular portion region 3B expanded by the expanding ring 14. ing.

図2の如く、固定部7の形状は、フレーム4の内径(350mm)よりも大きい、例えば直径361mmの開口部7Bを有するリング状であるが、その形状は特に限定されるものではない。固定部7としては、例えば、開口部7Bを有する矩形状の板状材を例示することもでき、フレーム4の外周に沿って所定の間隔で配置された複数の固定部材からなる固定部を例示することもできる。これらの固定部材の内接円が、開口部7Bの直径と等しく設定される。 As shown in FIG. 2, the shape of the fixing portion 7 is a ring shape having an opening 7B having a diameter of 361 mm, which is larger than the inner diameter (350 mm) of the frame 4, but the shape is not particularly limited. As the fixing portion 7, for example, a rectangular plate-shaped material having an opening 7B can be exemplified, and a fixing portion composed of a plurality of fixing members arranged at predetermined intervals along the outer circumference of the frame 4 is exemplified. You can also do it. The inscribed circle of these fixing members is set equal to the diameter of the opening 7B.

エキスパンドリング14は、ダイシングテープ3におけるウェーハ1の貼付面と反対側の裏面側に配置され、フレーム4の内径(350mm)よりも小さく、かつウェーハ1の外径(300mm)よりも大きい拡張用開口部(開口部)14Aを有するリング状に形成される。エキスパンドリング14は、ダイシングテープ3に対して相対的に近づく方向に移動自在に配置される。具体的には、エキスパンドリング14は、ダイシングテープ3の環状部領域3Bの裏面を押圧して環状部領域3Bを拡張する拡張位置(図1の二点鎖線で示す位置)と、拡張位置から下方に退避した退避位置(図1の実線で示す位置)との間で上下方向に移動自在に配置される。 The expanding ring 14 is arranged on the back surface side of the dicing tape 3 opposite to the attachment surface of the wafer 1, and is an expansion opening smaller than the inner diameter (350 mm) of the frame 4 and larger than the outer diameter (300 mm) of the wafer 1. It is formed in a ring shape having a portion (opening) 14A. The expanding ring 14 is movably arranged in a direction relatively close to the dicing tape 3. Specifically, the expanding ring 14 presses the back surface of the annular portion region 3B of the dicing tape 3 to expand the annular portion region 3B (position indicated by the alternate long and short dash line in FIG. 1) and downward from the expansion position. It is movably arranged in the vertical direction with and from the retracted position (position shown by the solid line in FIG. 1) retracted to.

また、ワーク分割装置10には、エキスパンドリング14を拡張位置と退避位置との間で上下移動させるエキスパンドリング移動機構30が備えられている。エキスパンドリング移動機構30の一例として、送りネジ装置を例示するが、これに代えてエアシリンダ装置等のアクチュエータを使用することもできる。退避位置に位置されているエキスパンドリング14をエキスパンドリング移動機構30によって拡張位置に向けて移動させると、エキスパンドリング14は、環状部領域3Bに向けて矢印B方向に上昇移動される。これによって、環状部領域3Bの裏面がエキスパンドリング14に押圧されて放射状に拡張される。なお、エキスパンドリング14を固定して、ウェーハユニット2を矢印C方向に下降移動させることにより、環状部領域3Bをエキスパンドリング14に押圧してもよい。 Further, the work dividing device 10 is provided with an expanding ring moving mechanism 30 that moves the expanding ring 14 up and down between the expansion position and the retracted position. As an example of the expanding ring moving mechanism 30, a feed screw device is illustrated, but an actuator such as an air cylinder device can be used instead. When the expanding ring 14 located at the retracted position is moved toward the expanded position by the expanding ring moving mechanism 30, the expanding ring 14 is moved upward in the direction of arrow B toward the annular portion region 3B. As a result, the back surface of the annular portion region 3B is pressed by the expanding ring 14 and is expanded radially. The expanding ring 14 may be fixed and the wafer unit 2 may be moved downward in the direction of arrow C to press the annular portion region 3B against the expanding ring 14.

図3は、エキスパンドリング14によって拡張途中の環状部領域3Bの形状を示したウェーハユニット2の要部縦断面図である。後述するが、エキスパンドリング14による環状部領域3Bの拡張に先立って、ノズル22から冷却室16の内部空間34に供給された、例えば−20〜−30℃の冷気20によって内部空間34が冷却される。これにより、ダイシングテープ3が脆性化されてダイシングテープ3のバネ定数が常温時と比較して大きくなっている。この状態でダイシングテープ3の環状部領域3Bがエキスパンドリング14によって拡張されるので、チップサイズが小チップの場合でも個々のチップに分割することが可能となっている。 FIG. 3 is a vertical cross-sectional view of a main part of the wafer unit 2 showing the shape of the annular portion region 3B being expanded by the expanding ring 14. As will be described later, prior to the expansion of the annular portion region 3B by the expanding ring 14, the internal space 34 is cooled by, for example, cold air 20 at −20 to −30 ° C. supplied from the nozzle 22 to the internal space 34 of the cooling chamber 16. To. As a result, the dicing tape 3 is made brittle and the spring constant of the dicing tape 3 is larger than that at room temperature. In this state, the annular portion region 3B of the dicing tape 3 is expanded by the expanding ring 14, so that even if the chip size is small, it can be divided into individual chips.

冷気20によって冷却された環状部領域3Bの温度は、不図示の放射温度計にて計測してもよい。また、冷気20の温度と冷気20の供給時間とに基づいた環状部領域3Bの温度変化データを予め実測しておき、この温度変化データに基づいて冷気20の供給時間を制御してもよい。 The temperature of the annular portion region 3B cooled by the cold air 20 may be measured by a radiation thermometer (not shown). Further, the temperature change data of the annular portion region 3B based on the temperature of the cold air 20 and the supply time of the cold air 20 may be measured in advance, and the supply time of the cold air 20 may be controlled based on the temperature change data.

図1に示すノズル22は、冷却室16の内部空間34において、ダイシングテープ3の環状部領域3Bに向けて配置されている。これにより、環状部領域3Bが冷気20によって効率よく冷却される。また、冷気供給手段24は、吸引した外気を零下に冷却する熱交換器を備えており、熱交換器によって冷却された冷気20が配管25を介してノズル22に供給される。なお、図1では、冷気供給手段24を冷却室16の室外に配置しているが、冷却室16の室内に配置してもよい。この場合、冷気供給手段24は、内部空間34の冷却された室内エアを冷却するので、熱交換器にかかる負荷を小さくすることができる。 The nozzle 22 shown in FIG. 1 is arranged in the internal space 34 of the cooling chamber 16 toward the annular portion region 3B of the dicing tape 3. As a result, the annular portion region 3B is efficiently cooled by the cold air 20. Further, the cold air supply means 24 includes a heat exchanger that cools the sucked outside air to below zero, and the cold air 20 cooled by the heat exchanger is supplied to the nozzle 22 via the pipe 25. Although the cold air supply means 24 is arranged outside the cooling chamber 16 in FIG. 1, it may be arranged inside the cooling chamber 16. In this case, since the cold air supply means 24 cools the cooled indoor air in the internal space 34, the load on the heat exchanger can be reduced.

図1の如く、ダイシングテープ3の拡張状態を保持する拡張保持リング18は、ダイシングテープ3におけるウェーハ1の貼付面と反対側の裏面側に配置される。また、拡張保持リング18は、外径がフレーム4の内径(350mm)よりも小さく、内径がエキスパンドリング14の外径よりも大きい本体リング32と、本体リング32の外周部に装着されて、外径(351.3mm)がフレーム4の内径(350mm)よりも大きい弾性変形可能なリング状の嵌合部26と、を有する。 As shown in FIG. 1, the expansion holding ring 18 for holding the expanded state of the dicing tape 3 is arranged on the back surface side of the dicing tape 3 opposite to the sticking surface of the wafer 1. Further, the expansion holding ring 18 is attached to the main body ring 32 whose outer diameter is smaller than the inner diameter (350 mm) of the frame 4 and whose inner diameter is larger than the outer diameter of the expanding ring 14, and to the outer peripheral portion of the main body ring 32. It has a ring-shaped fitting portion 26 having an elastically deformable diameter (351.3 mm) larger than the inner diameter (350 mm) of the frame 4.

図4は、拡張保持リング18によってダイシングテープ3の拡張状態が保持された縦断面図である。図5は、図4の要部拡大断面図である。 FIG. 4 is a vertical cross-sectional view in which the expanded state of the dicing tape 3 is held by the extended holding ring 18. FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a main part of FIG.

図4、図5の如く、拡張保持リング18の嵌合部26は、実線で示す嵌合位置でフレーム4の表面4Aにダイシングテープ3の環状部領域3Bを介して嵌合する。これにより、ダイシングテープ3の拡張状態が拡張保持リング18によって保持される。 As shown in FIGS. 4 and 5, the fitting portion 26 of the expansion holding ring 18 is fitted to the surface 4A of the frame 4 at the fitting position shown by the solid line via the annular portion region 3B of the dicing tape 3. As a result, the expanded state of the dicing tape 3 is held by the expansion holding ring 18.

拡張保持リング18は、拡張保持前においては、図4、図5の実線で示す嵌合位置から下方の待機位置(図1の実線で示す位置)に配置されており、拡張保持時に待機位置から嵌合位置に拡張保持リング移動機構38によって上昇移動される。拡張保持リング移動機構38の一例として、送りネジ装置を例示するが、これに代えてエアシリンダ装置等のアクチュエータを使用することもできる。 Before the expansion holding, the expansion holding ring 18 is arranged at a standby position (the position shown by the solid line in FIG. 1) below the fitting position shown by the solid line in FIGS. 4 and 5, and from the standby position during the expansion holding. It is moved up to the fitting position by the extended holding ring moving mechanism 38. As an example of the extended holding ring moving mechanism 38, a feed screw device is illustrated, but an actuator such as an air cylinder device can be used instead.

拡張保持リング移動機構38によって拡張保持リング18が上昇されると、嵌合部26がフレーム4の下面に当接する。この後、嵌合部26は、継続する拡張保持リング18の上昇移動により、フレーム4の内周面に押されて弾性変形しながら上昇する。そして、嵌合部26が、フレーム4の内周面を通過した位置で拡張保持リング18の上昇が停止される。これによって、嵌合部26が図4、図5の如く嵌合位置でフレーム4の表面4Aに嵌合される。なお、拡張保持リング18を固定して、ダイシングテープ3側を拡張保持リング18に近づける方向に移動させてもよい。すなわち、嵌合部26をフレーム4の表面4Aに嵌合させる場合には、拡張保持リング18をダイシングテープ3に対して相対的に近づく方向に移動させればよい。 When the extended holding ring 18 is raised by the extended holding ring moving mechanism 38, the fitting portion 26 comes into contact with the lower surface of the frame 4. After that, the fitting portion 26 is pushed by the inner peripheral surface of the frame 4 by the continuous ascending movement of the expansion holding ring 18, and ascends while being elastically deformed. Then, the ascending of the extended holding ring 18 is stopped at the position where the fitting portion 26 passes through the inner peripheral surface of the frame 4. As a result, the fitting portion 26 is fitted to the surface 4A of the frame 4 at the fitting position as shown in FIGS. 4 and 5. The expansion holding ring 18 may be fixed and the dicing tape 3 side may be moved in a direction closer to the expansion holding ring 18. That is, when the fitting portion 26 is fitted to the surface 4A of the frame 4, the expansion holding ring 18 may be moved in a direction relatively close to the dicing tape 3.

次に、図1に示した加温部40について説明する。 Next, the heating unit 40 shown in FIG. 1 will be described.

加温部40は、冷却部12によって冷却されたウェーハ1、ダイシングテープ3及びフレーム4を有するウェーハユニット2を乾燥雰囲気で加温する加温室42を備える。加温室42は、ドライエア供給手段36から供給されるドライエア37によって乾燥雰囲気が確保されている。 The heating unit 40 includes a greenhouse 42 that heats the wafer 1, the dicing tape 3, and the wafer unit 2 having the frame 4 cooled by the cooling unit 12 in a dry atmosphere. The greenhouse 42 has a dry atmosphere secured by the dry air 37 supplied from the dry air supply means 36.

冷却部12の冷却室16にて個々のチップに分割されたウェーハユニット2は、拡張保持リング18がフレーム4に装着された状態で冷却室16から、不図示の搬送装置によって加温部40の加温室42に搬入される。これにより、ウェーハユニット2は、拡張保持リング18によってダイシングテープ3の拡張状態が保持された状態で加温室42に移動される。 The wafer unit 2 divided into individual chips in the cooling chamber 16 of the cooling unit 12 is of the heating unit 40 from the cooling chamber 16 with the expansion holding ring 18 mounted on the frame 4 by a transfer device (not shown). It is carried into the greenhouse 42. As a result, the wafer unit 2 is moved to the greenhouse 42 while the dicing tape 3 is held in the expanded state by the expansion holding ring 18.

加温室42は、仕切り壁である断熱壁44を介して冷却室16に連設される。また、加温室42の内部は、断熱壁44の扉46によって開閉される搬出用開口部48を介して冷却室16の内部空間34に連通されている。よって、冷却室16にて個々のチップに分割されたウェーハユニット2は、扉46が開放された後に不図示の搬送装置によって冷却室16から加温室42に搬出用開口部48を介して搬入される。そして、加温室42に搬入されたウェーハユニット2は、前述の搬送装置によって、加温室42のリング状のテーブル50にフレーム4が載置される。 The greenhouse 42 is connected to the cooling chamber 16 through a heat insulating wall 44 which is a partition wall. Further, the inside of the greenhouse 42 is communicated with the internal space 34 of the cooling chamber 16 via a carry-out opening 48 opened and closed by the door 46 of the heat insulating wall 44. Therefore, the wafer unit 2 divided into individual chips in the cooling chamber 16 is carried from the cooling chamber 16 into the greenhouse 42 through the carry-out opening 48 by a transfer device (not shown) after the door 46 is opened. The door. Then, in the wafer unit 2 carried into the greenhouse 42, the frame 4 is placed on the ring-shaped table 50 of the greenhouse 42 by the above-mentioned transport device.

テーブル50は、銀又は銅等の熱伝導率の高い材料で製造されることが好ましい。これにより、後述の加温手段とフレーム4との間にテーブル50が介在されていても、加温手段からの熱がテーブル50に奪われることなく、フレーム4に効率よく伝達される。なお、テーブル50の形状は、リング状に限定されるものではなく、フレーム4を載置可能な形状であればよい。一例としてテーブル50の形状は矩形の平板状であってもよい。 The table 50 is preferably made of a material having high thermal conductivity such as silver or copper. As a result, even if the table 50 is interposed between the heating means described later and the frame 4, the heat from the heating means is not taken away by the table 50 and is efficiently transferred to the frame 4. The shape of the table 50 is not limited to the ring shape, and may be any shape as long as the frame 4 can be placed. As an example, the shape of the table 50 may be a rectangular flat plate.

加温室42のテーブル50の下方には、ウェーハユニット2を常温以上の温度で加温する加温手段であるハロゲンランプ群52が配置されている。 Below the table 50 of the greenhouse 42, a halogen lamp group 52, which is a heating means for heating the wafer unit 2 at a temperature equal to or higher than room temperature, is arranged.

ここで、図6は、図1に示したワーク分割装置10の加温部40の構成を示した要部拡大斜視図である。 Here, FIG. 6 is an enlarged perspective view of a main part showing the configuration of the heating portion 40 of the work dividing device 10 shown in FIG.

図6の如く、ハロゲンランプ群52は、ウェーハユニット2のフレーム4を主として加温する第1加温手段である棒状の4本のハロゲンランプ54、54…と、ウェーハ1を含むダイシングテープ3を主として加温する第2加温手段である棒状の3本のハロゲンランプ56、56…とを備える。ハロゲンランプ54、56が発する熱は、フレーム4及びダイシングテープ3の双方に伝達されることは否めないが、ハロゲンランプ54は、フレーム4を主として加温する専用の加温手段であり、ハロゲンランプ56は、ダイシングテープ3を主として加温する専用の加温手段である。 As shown in FIG. 6, the halogen lamp group 52 includes four rod-shaped halogen lamps 54, 54 ... Which are the first heating means for mainly heating the frame 4 of the wafer unit 2, and a dicing tape 3 containing the wafer 1. It is provided with three rod-shaped halogen lamps 56, 56 ... Which are mainly second heating means for heating. It is undeniable that the heat generated by the halogen lamps 54 and 56 is transferred to both the frame 4 and the dicing tape 3, but the halogen lamp 54 is a dedicated heating means for mainly heating the frame 4, and is a halogen lamp. Reference numeral 56 denotes a dedicated heating means for mainly heating the dicing tape 3.

4本のハロゲンランプ54は、フレーム4の真下の位置でリング状のフレーム4に沿って矩形状に配置される。また、3本のハロゲンランプ56は、ダイシングテープ3の真下の位置に並設されている。ハロゲンランプ54、56の下側には、リフレクタ58、60がハロゲンランプ54、56に近接して配置される。これにより、ウェーハユニット2のフレーム4は、ハロゲンランプ54からの直射熱とリフレクタ58で反射された反射熱とによって常温を超えた温度に加温される。同様にダイシングテープ3は、ハロゲンランプ56からの直射熱とリフレクタ60で反射された反射熱とによって常温を超えた温度に加温される。 The four halogen lamps 54 are arranged in a rectangular shape along the ring-shaped frame 4 at a position directly below the frame 4. Further, the three halogen lamps 56 are arranged side by side at a position directly below the dicing tape 3. Reflectors 58 and 60 are arranged below the halogen lamps 54 and 56 in close proximity to the halogen lamps 54 and 56. As a result, the frame 4 of the wafer unit 2 is heated to a temperature exceeding room temperature by the direct heat from the halogen lamp 54 and the reflected heat reflected by the reflector 58. Similarly, the dicing tape 3 is heated to a temperature exceeding room temperature by the direct heat from the halogen lamp 56 and the reflected heat reflected by the reflector 60.

なお、ハロゲンランプ54は、棒状に構成されたものであるが、形状は棒状に限定されるものではない。例えば、リング状の1本のハロゲンランプによって第1加温部を構成し、このハロゲンランプをフレーム4の真下の位置に配置してもよい。また、ハロゲンランプ56も同様にリング状に構成されたものを用いてもよい。この場合、1本のハロゲンランプによって第2加温部を構成してもよいが、同心円状に配置された径の異なる複数のリング状のハロゲンランプによって第2加温部を構成してもよい。 The halogen lamp 54 is formed in a rod shape, but the shape is not limited to the rod shape. For example, the first heating portion may be formed by one ring-shaped halogen lamp, and the halogen lamp may be arranged at a position directly below the frame 4. Further, the halogen lamp 56 may be similarly configured in a ring shape. In this case, one halogen lamp may form the second heating portion, but a plurality of ring-shaped halogen lamps having different diameters arranged concentrically may form the second heating portion. ..

図7は、ワーク分割装置の制御系を示したブロック図である。 FIG. 7 is a block diagram showing a control system of the work dividing device.

図7によれば、ハロゲンランプ54は、フレーム4用のハロゲンランプ電源62から印加される電力によって点灯し放熱する。同様にハロゲンランプ56は、ダイシングテープ3用のハロゲンランプ電源64から印加される電力によって点灯し放熱する。これらのハロゲンランプ54、56は、ハロゲンランプ電源62、64から印加される電圧が変更されることにより、発熱量が変更される。つまり、ハロゲンランプ電源62、64からハロゲンランプ54、56に印加する電圧を変更することにより、ハロゲンランプ54によるフレーム4を加温する温度、及びハロゲンランプ56によるダイシングテープ3を加温する温度が変更される。これにより、ダイシングテープ3とフレーム4は、ハロゲンランプ54、56によって個別に加温可能となる。 According to FIG. 7, the halogen lamp 54 is lit by the electric power applied from the halogen lamp power supply 62 for the frame 4 to dissipate heat. Similarly, the halogen lamp 56 is lit by the electric power applied from the halogen lamp power supply 64 for the dicing tape 3 to dissipate heat. The calorific value of these halogen lamps 54 and 56 is changed by changing the voltage applied from the halogen lamp power supplies 62 and 64. That is, by changing the voltage applied to the halogen lamps 54 and 56 from the halogen lamp power supplies 62 and 64, the temperature at which the frame 4 is heated by the halogen lamp 54 and the temperature at which the dicing tape 3 is heated by the halogen lamp 56 are set. Be changed. As a result, the dicing tape 3 and the frame 4 can be individually heated by the halogen lamps 54 and 56.

ハロゲンランプ電源62、64は、ワーク分割装置10を統括制御する制御部66によって、ハロゲンランプ54、56に印加する電圧が制御されている。この制御部66は、加温室42(図1参照)に設置された第1測温手段である放射温度計68と、第2測温手段である放射温度計70によって測温された温度に基づいてハロゲンランプ電源62、64を制御し、ハロゲンランプ54、56に印加する電圧を制御する。すなわち、放射温度計68にて測温されたフレーム4の温度を測温する第1測温工程に基づいて、ハロゲンランプ54によるフレーム4を加温する温度が制御される。同様に放射温度計70にて測温されたダイシングテープ3の温度を測温する第2測温工程に基づいて、ハロゲンランプ56によるダイシングテープ3を加温する温度が制御される。 In the halogen lamp power supplies 62 and 64, the voltage applied to the halogen lamps 54 and 56 is controlled by the control unit 66 that collectively controls the work dividing device 10. The control unit 66 is based on the temperature measured by the radiation thermometer 68, which is the first temperature measuring means, and the radiation thermometer 70, which is the second temperature measuring means, installed in the heating chamber 42 (see FIG. 1). The halogen lamp power supplies 62 and 64 are controlled, and the voltage applied to the halogen lamps 54 and 56 is controlled. That is, the temperature at which the frame 4 is heated by the halogen lamp 54 is controlled based on the first temperature measurement step of measuring the temperature of the frame 4 measured by the radiation thermometer 68. Similarly, the temperature at which the dicing tape 3 is heated by the halogen lamp 56 is controlled based on the second temperature measurement step of measuring the temperature of the dicing tape 3 measured by the radiation thermometer 70.

放射温度計68は、フレーム4の温度を測温できるように、テーブル50に載置されたウェーハユニット2のフレーム4の上方に配置される。同様に放射温度計70は、ダイシングテープ3の温度を測温できるように、テーブル50に載置されたウェーハユニット2のダイシングテープ3の上方に配置される。 The radiation thermometer 68 is arranged above the frame 4 of the wafer unit 2 placed on the table 50 so that the temperature of the frame 4 can be measured. Similarly, the radiation thermometer 70 is arranged above the dicing tape 3 of the wafer unit 2 placed on the table 50 so that the temperature of the dicing tape 3 can be measured.

また、制御部66は、エキスパンドリング14を駆動するエキスパンドリング移動機構30、拡張保持リング18を駆動する拡張保持リング移動機構38、及び冷気供給手段24の動作も制御している。 The control unit 66 also controls the operations of the expanding ring moving mechanism 30 that drives the expanding ring 14, the expanding holding ring moving mechanism 38 that drives the expanding holding ring 18, and the cold air supply means 24.

次に、図8のフローチャート、図9(A)〜(D)、図10(A)〜(D)及び図10に示すワーク分割装置10の動作説明図に従って、実施形態のワーク分割装置10の作用について説明する。 Next, according to the flowchart of FIG. 8, FIGS. 9 (A) to 9 (D), FIGS. 10 (A) to 10 (D), and the operation explanatory diagram of the work dividing device 10 shown in FIG. 10, the work dividing device 10 of the embodiment The action will be described.

まず、図8のステップS100の配置工程において、図9(A)の如く、エキスパンドリング14をエキスパンドリング移動機構30によって退避位置に配置させ、拡張保持リング18を拡張保持リング移動機構38によって待機位置に配置させる。 First, in the arrangement step of step S100 of FIG. 8, as shown in FIG. 9A, the expanding ring 14 is arranged in the retracted position by the expanding ring moving mechanism 30, and the extended holding ring 18 is placed in the standby position by the extended holding ring moving mechanism 38. To be placed in.

次に、図8のステップS110の固定工程において、図9(B)の如く、ウェーハユニット2のフレーム4を固定部7に固定する。 Next, in the fixing step of step S110 of FIG. 8, the frame 4 of the wafer unit 2 is fixed to the fixing portion 7 as shown in FIG. 9B.

次に、図8のステップS120の冷気冷却工程において、図9(C)の如く、ノズル22から冷気20を冷却室16の内部空間34(図1参照)に供給し、ダイシングテープ3の環状部領域3Bを零下(例えば−20〜−30℃)に冷却する。これにより、ダイシングテープ3の環状部領域3Bが脆性化される。 Next, in the cold air cooling step of step S120 of FIG. 8, as shown in FIG. 9C, cold air 20 is supplied from the nozzle 22 to the internal space 34 (see FIG. 1) of the cooling chamber 16, and the annular portion of the dicing tape 3 is provided. Region 3B is cooled below zero (eg, -20 to -30 ° C). As a result, the annular portion region 3B of the dicing tape 3 is made brittle.

次に、図8のステップS130の拡張開始工程において、図9(D)の如く、エキスパンドリング移動機構30によってエキスパンドリング14を、図9(A)の退避位置から拡張位置に向けて矢印B方向に上昇移動させ、脆性化された環状部領域3Bの全領域の拡張を開始する。なお、拡張開始工程において、ノズル22から冷気20を噴射した状態を保持してもよく、ステップS120の冷気冷却工程において、環状部領域3Bが十分に冷却されている場合は、ノズル22からの冷気20の噴射を停止してもよい。 Next, in the expansion start step of step S130 of FIG. 8, as shown in FIG. 9D, the expanding ring moving mechanism 30 causes the expanding ring 14 to move from the retracted position of FIG. 9A toward the expansion position in the direction of arrow B. And start expanding the entire region of the brittle ring region 3B. In the expansion start step, the state in which the cold air 20 is injected from the nozzle 22 may be maintained, and in the cold air cooling step of step S120, when the annular portion region 3B is sufficiently cooled, the cold air from the nozzle 22 is sufficiently cooled. The injection of 20 may be stopped.

次に、図8のステップS140の分割工程において、図10(A)の如く、エキスパンドリング14の上昇移動を続行して行うことにより、ウェーハ1を個々のチップ6に分割する。この後、図10(B)の如く、エキスパンドリング14が拡張位置に到達したところで、エキスパンドリング14の上昇移動を停止する。 Next, in the dividing step of step S140 of FIG. 8, the wafer 1 is divided into individual chips 6 by continuing the ascending movement of the expanding ring 14 as shown in FIG. 10 (A). After that, as shown in FIG. 10B, when the expanding ring 14 reaches the expanded position, the ascending movement of the expanding ring 14 is stopped.

上記のステップS140の分割工程では、常温時よりもバネ定数が大きくなっている環状部領域3Bのバネ定数の張力がウェーハ1に付与される。これにより、チップサイズが小チップ(1mm)であっても個々のチップ6に分割するだけの張力を、環状部領域3Bからウェーハ1に十分に付与することができる。よって、ワーク分割装置10によれば、チップサイズが小チップ(1mm)の場合に生じる分割予定ラインの未分割問題を解消することができる。 In the dividing step of step S140, the tension of the spring constant of the annular portion region 3B, which has a larger spring constant than at room temperature, is applied to the wafer 1. As a result, even if the chip size is small (1 mm), the tension sufficient to divide the individual chips 6 can be sufficiently applied to the wafer 1 from the annular portion region 3B. Therefore, according to the work dividing device 10, it is possible to solve the undivided problem of the scheduled division line that occurs when the chip size is a small chip (1 mm).

次に、図8のステップS150の拡張状態保持工程において、図10(C)の如く、拡張保持リング18を拡張保持リング移動機構38によって待機位置から嵌合位置に向けて上昇させて、嵌合部26を嵌合位置でフレーム4の表面4Aに嵌合させてダイシングテープ3の拡張状態を保持する。 Next, in the extended state holding step of step S150 of FIG. 8, as shown in FIG. 10C, the extended holding ring 18 is raised from the standby position toward the fitting position by the extended holding ring moving mechanism 38 to be fitted. The portion 26 is fitted to the surface 4A of the frame 4 at the fitting position to hold the expanded state of the dicing tape 3.

次に、図8のステップS160のエキスパンドリング退避工程において、図10(D)の如く、エキスパンドリング14をエキスパンドリング移動機構30によって退避位置に向けて下降移動させ、退避位置に配置する。このとき、ダイシングテープ3は、エキスパンドリング14による拡張は解除されるが、フレーム4の表面4Aに拡張保持リング18の嵌合部26が嵌合されているので、弛むことなく拡張状態が保持される。これにより、拡張されたダイシングテープ3が弛むことによって生じるチップ6同士の接触を防止することができるので、チップ6の品質低下を防止することができる。 Next, in the expanding ring withdrawal step of step S160 of FIG. 8, as shown in FIG. 10D, the expanding ring 14 is moved downward toward the evacuation position by the expanding ring moving mechanism 30 and placed at the evacuation position. At this time, the dicing tape 3 is released from the expansion by the expanding ring 14, but since the fitting portion 26 of the expansion holding ring 18 is fitted to the surface 4A of the frame 4, the expanded state is maintained without loosening. To. As a result, it is possible to prevent the chips 6 from coming into contact with each other due to the expanded dicing tape 3 being loosened, so that the quality of the chips 6 can be prevented from deteriorating.

次に、図8のステップS170の固定解除工程において、ウェーハユニット2のフレーム4と固定部7との固定を解除する。 Next, in the fixing release step of step S170 of FIG. 8, the fixing between the frame 4 and the fixing portion 7 of the wafer unit 2 is released.

次に、図8のステップS180の搬出・搬入工程において、冷却室16の扉46を開放し、ウェーハユニット2を不図示の搬送装置によって冷却室16から搬出用開口部48を介して加温室42に搬入する。そして、不図示の搬送装置によってウェーハユニット2のフレーム4を、図11の加温室42の構造図の如く、加温室42のテーブル50に載置する。この後、扉46を閉じて加温室42を密閉する。 Next, in the carry-out / carry-in step of step S180 of FIG. 8, the door 46 of the cooling chamber 16 is opened, and the wafer unit 2 is moved from the cooling chamber 16 through the carry-out opening 48 by a transfer device (not shown) to the greenhouse 42. Carry in to. Then, the frame 4 of the wafer unit 2 is placed on the table 50 of the greenhouse 42 by a transfer device (not shown) as shown in the structural drawing of the greenhouse 42 of FIG. After that, the door 46 is closed to seal the greenhouse 42.

次に、加温工程である図8のステップS190の常温化工程において、制御部66は、図7のハロゲンランプ電源62、64を駆動して、全てのハロゲンランプ54、56を点灯する。すなわち、ハロゲンランプ54によってフレーム4を加温(第1加温工程)し、ハロゲンランプ56によってダイシングテープ3を加温する(第2加温工程)。これにより、フレーム4はハロゲンランプ54からの熱によって加温されていき、ダイシングテープ3はハロゲンランプ56からの熱によって加温されていく。 Next, in the room temperature setting step of step S190 of FIG. 8, which is a heating step, the control unit 66 drives the halogen lamp power supplies 62 and 64 of FIG. 7 to light all the halogen lamps 54 and 56. That is, the frame 4 is heated by the halogen lamp 54 (first heating step), and the dicing tape 3 is heated by the halogen lamp 56 (second heating step). As a result, the frame 4 is heated by the heat from the halogen lamp 54, and the dicing tape 3 is heated by the heat from the halogen lamp 56.

ステップS190の常温化工程において、フレーム4の温度は放射温度計68によって常時測温(第1測温工程)されており、同様にダイシングテープ3の温度は放射温度計70によって常時測温(第2測温工程)されている。これらの温度情報は、放射温度計68、70から制御部66に出力されている。制御部66は、放射温度計68にて測温されたフレーム4の温度に基づいて、ハロゲンランプ電源62からハロゲンランプ54に印加する電圧を制御し、且つ放射温度計70にて測温されたダイシングテープ3の温度に基づいて、ハロゲンランプ電源64からハロゲンランプ56に印加する電圧を制御しながら、フレーム4とダイシングテープ3とを常温に向けて加温していく。 In the room temperature step of step S190, the temperature of the frame 4 is constantly measured by the radiation thermometer 68 (first temperature measurement step), and similarly, the temperature of the dicing tape 3 is constantly measured by the radiation thermometer 70 (first temperature measurement step). 2 temperature measurement process). These temperature information is output from the radiation thermometers 68 and 70 to the control unit 66. The control unit 66 controls the voltage applied from the halogen lamp power supply 62 to the halogen lamp 54 based on the temperature of the frame 4 measured by the radiation thermometer 68, and measures the temperature by the radiation thermometer 70. Based on the temperature of the dicing tape 3, the frame 4 and the dicing tape 3 are heated toward room temperature while controlling the voltage applied from the halogen lamp power supply 64 to the halogen lamp 56.

次に、制御部66によるハロゲンランプ電源62、64の制御方法の一例を説明する。 Next, an example of the control method of the halogen lamp power supplies 62 and 64 by the control unit 66 will be described.

本実施形態では、熱容量の大きいフレーム4をハロゲンランプ54によって個別に加温し、熱容量の小さいダイシングテープ3をハロゲンランプ56によって個別に加温する。また、加温中のフレーム4の温度を放射温度計68にて常時測温し、加温中のダイシングテープ3の温度を放射温度計70にて常時測温し、これらの温度情報に基づいて制御部66がハロゲンランプ電源62、64を個別に制御する。つまり、熱容量の異なるフレーム4とダイシングテープ3とを異なる加温温度によって加温する。 In the present embodiment, the frame 4 having a large heat capacity is individually heated by the halogen lamp 54, and the dicing tape 3 having a small heat capacity is individually heated by the halogen lamp 56. Further, the temperature of the frame 4 during heating is constantly measured by the radiation thermometer 68, the temperature of the dicing tape 3 during heating is constantly measured by the radiation thermometer 70, and based on these temperature information. The control unit 66 individually controls the halogen lamp power supplies 62 and 64. That is, the frame 4 and the dicing tape 3 having different heat capacities are heated at different heating temperatures.

これに対して、フレーム4とダイシングテープ3とを一台の加温手段によって同一の温度で加温した場合、フレーム4の温度上昇率(単位時間当たりの上昇温度)がダイシングテープ3の温度上昇率よりも小さいので、フレーム4が常温化された時点でダイシングテープ3は常温よりも高温状態になる。このような場合、ダイシングテープ3が軟化する虞があり、ダイシングテープ3が軟化すると、ダイシングテープの張力が低下するので、分割したチップ6同士が接触し、チップ6の品質が低下する虞がある。一般的に、PVC製のダイシングテープ3の場合には、60℃以上になると軟化する傾向にあるので、フレーム4が常温化した時点でのダイシングテープ3の温度を少なくとも60℃未満に抑えることが好ましく、55℃以下に抑えることがより好ましくなる。 On the other hand, when the frame 4 and the dicing tape 3 are heated at the same temperature by one heating means, the temperature rise rate of the frame 4 (the temperature rise per unit time) increases the temperature of the dicing tape 3. Since it is smaller than the rate, the dicing tape 3 becomes hotter than normal temperature when the frame 4 is brought to room temperature. In such a case, the dicing tape 3 may soften, and when the dicing tape 3 softens, the tension of the dicing tape decreases, so that the divided chips 6 may come into contact with each other and the quality of the chips 6 may deteriorate. .. Generally, in the case of a PVC dicing tape 3, the temperature tends to soften at 60 ° C. or higher. Therefore, the temperature of the dicing tape 3 when the frame 4 reaches room temperature can be suppressed to at least 60 ° C. Preferably, it is more preferably suppressed to 55 ° C. or lower.

そこで、実施形態の制御部66によるハロゲンランプ電源62、64の制御方法は、放射温度計68、70にて測温されている温度情報に基づいて、
(i)フレーム4が常温化するまでの時間と、ダイシングテープ3が常温以上で60℃未満(好ましくは55℃以下)の温度に到達するまでの時間とが合致するように、ハロゲンランプ54、56に印加する電圧を個別に制御する方法。
Therefore, the control method of the halogen lamp power supplies 62 and 64 by the control unit 66 of the embodiment is based on the temperature information measured by the radiation thermometers 68 and 70.
(I) The halogen lamp 54, so that the time required for the frame 4 to reach room temperature and the time required for the dicing tape 3 to reach a temperature of not more than 60 ° C. A method of individually controlling the voltage applied to 56.

(ii)フレーム4が常温化するまでの時間と、ダイシングテープ3が常温化するまでの時間とが合致するように、ハロゲンランプ54、56に印加する電圧を個別に制御する方法がある。 (Ii) There is a method of individually controlling the voltage applied to the halogen lamps 54 and 56 so that the time until the frame 4 reaches room temperature and the time until the dicing tape 3 reaches room temperature match.

これらの制御方法は、フレーム4とダイシングテープ3の温度差が小さくなるようにフレーム4及びダイシングテープ3の温度を個別に制御(制御工程)するものである。具体的な制御方法は、前述した「合致する時間」を最初に設定し、その時間内でフレーム4とダイシングテープ3の温度を目的の温度まで昇温させる制御方法である。この場合、制御部66に内蔵された記憶部には、ハロゲンランプ54に印加する電圧に応じたフレーム4の単位時間当たりの上昇温度と、ハロゲンランプ56に印加する電圧に応じたダイシングテープ3の単位時間当たりの上昇温度とを示す情報を記憶させておくことが好ましい。これらの情報は実測して取得してもよいし、昇温シミュレーションにて取得したものであってもよい。制御部66は、これらの情報と「合致する時間」とに基づいて、レーム4とダイシングテープ3の温度差が小さくなるように、ハロゲンランプ54、56に印加する電圧を個別に制御する。 In these control methods, the temperatures of the frame 4 and the dicing tape 3 are individually controlled (control step) so that the temperature difference between the frame 4 and the dicing tape 3 becomes small. A specific control method is a control method in which the above-mentioned "matching time" is first set, and the temperature of the frame 4 and the dicing tape 3 is raised to a target temperature within that time. In this case, in the storage unit built in the control unit 66, the temperature rise per unit time of the frame 4 according to the voltage applied to the halogen lamp 54 and the dicing tape 3 corresponding to the voltage applied to the halogen lamp 56 are stored. It is preferable to store information indicating the rising temperature per unit time. These pieces of information may be actually measured and acquired, or may be acquired by a temperature rise simulation. The control unit 66 individually controls the voltage applied to the halogen lamps 54 and 56 so that the temperature difference between the lame 4 and the dicing tape 3 becomes small based on this information and the “matching time”.

上記の制御方法を実行する手法としては、
(iii) ハロゲンランプ54に印加する電圧を一定とし、ハロゲンランプ56に印加する電圧を変更しながらフレーム4とダイシングテープ3とを上記温度に加温する手法。
As a method of executing the above control method,
(Iii) A method in which the voltage applied to the halogen lamp 54 is kept constant and the frame 4 and the dicing tape 3 are heated to the above temperature while changing the voltage applied to the halogen lamp 56.

(iv)ハロゲンランプ56に印加する電圧を一定とし、ハロゲンランプ54に印加する電圧を変更しながらフレーム4とダイシングテープ3とを上記温度に加温する手法。 (Iv) A method in which the voltage applied to the halogen lamp 56 is kept constant and the frame 4 and the dicing tape 3 are heated to the above temperature while changing the voltage applied to the halogen lamp 54.

(v)ハロゲンランプ54、56に印加する電圧をそれぞれ変更しながらフレーム4とダイシングテープ3とを上記温度に加温する手法がある。これらの制御方法及び手法は、フレーム4及びダイシングテープ3の材質及びサイズ等の熱容量を定める要因に基づいて適宜選択されることが好ましい。 (V) There is a method of heating the frame 4 and the dicing tape 3 to the above temperature while changing the voltages applied to the halogen lamps 54 and 56, respectively. It is preferable that these control methods and methods are appropriately selected based on factors that determine the heat capacity such as the material and size of the frame 4 and the dicing tape 3.

このような制御部66によるハロゲンランプ電源62、64の制御方法を実行することにより、フレーム4の常温化にかかる時間、つまり、ステップS190の常温化工程にかかる時間を短縮しつつ、ダイシングテープ3の軟化を確実に防止することができる。 By executing the control method of the halogen lamp power supplies 62 and 64 by the control unit 66, the time required for the frame 4 to reach room temperature, that is, the time required for the room temperature step of step S190 is shortened, and the dicing tape 3 is used. Softening can be reliably prevented.

実験例として、前述した「合致する時間」を1分に設定し、(iii)から(v)の手法を採用して(i)及び(ii)の制御方法を実行したところ、加温開始から1分後にフレーム4及びダイシングテープ3を(i)及び(ii)の温度に昇温させることができた。よって、ステップS190の常温化工程にかかる時間を1分に抑えることができたので、従来の常温化工程にかかった15分と比較して大幅に短縮することができた。 As an experimental example, when the above-mentioned "matching time" was set to 1 minute and the control methods (i) and (ii) were executed by adopting the methods (iii) to (v), the heating started. After 1 minute, the frame 4 and the dicing tape 3 could be heated to the temperatures of (i) and (ii). Therefore, since the time required for the room temperature step of step S190 can be suppressed to 1 minute, it can be significantly shortened as compared with the 15 minutes required for the conventional room temperature step.

次に、図8のステップS200の取出工程において、加温室42の上蓋72を解放し、常温化が完了したウェーハユニット2を加温室42から取り出す。以上によって、ウェーハユニット2に対する分割処理及び加温処理が終了する。 Next, in the extraction step of step S200 of FIG. 8, the upper lid 72 of the greenhouse 42 is opened, and the wafer unit 2 that has been cooled to room temperature is taken out from the greenhouse 42. With the above, the dividing process and the heating process for the wafer unit 2 are completed.

加温室42から搬出されたウェーハユニット2は、既に常温化されているので、ウェーハユニット2に結露は発生しない。よって、結露の発生に起因するパターン欠陥の問題及び成膜異常の問題を解消することができる。 Since the wafer unit 2 carried out from the greenhouse 42 has already been brought to room temperature, no dew condensation occurs on the wafer unit 2. Therefore, the problem of pattern defects and the problem of film formation abnormality caused by the occurrence of dew condensation can be solved.

以上の如く、実施形態のワーク分割装置10によれば、図8のステップS120、S130、S140の冷気供給工程、拡張開始工程及び分割工程を経ることにより、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題を解消することができる。そして、ステップS190の常温化工程を経ることにより、時間のかかる常温化工程を付加することによって生じるワーク処理能力の低下の問題を解消することができる。 As described above, according to the work dividing device 10 of the embodiment, the division occurs when the chip size is small by going through the cold air supply step, the expansion start step, and the dividing step of steps S120, S130, and S140 of FIG. The problem of undivided scheduled lines can be solved. Then, by passing through the normal temperature step of step S190, it is possible to solve the problem of a decrease in the work processing capacity caused by the addition of the time-consuming normal temperature step.

上述した実施形態のワーク分割装置10は、分割終了したウェーハユニット2を加温室42のテーブル50に載置した状態でハロゲンランプ54、56により加温するものであるが、他の発明として以下のワーク分割装置がある。 In the work dividing device 10 of the above-described embodiment, the divided wafer unit 2 is placed on the table 50 of the greenhouse 42 and heated by the halogen lamps 54 and 56. Other inventions include the following. There is a work dividing device.

例えば、図12に示した他の発明のワーク分割装置100は、冷却室16の搬出用開口部48に上下一対の棒状のハロゲンランプ74、74を設置し、搬出用開口部48から搬出中のウェーハユニット2をハロゲンランプ74、74によって加温してフレーム4とダイシングテープ3を常温化する装置である。 For example, in the work dividing device 100 of another invention shown in FIG. 12, a pair of upper and lower rod-shaped halogen lamps 74, 74 are installed in the carry-out opening 48 of the cooling chamber 16, and the work is being carried out from the carry-out opening 48. This is a device that heats the wafer unit 2 with halogen lamps 74 and 74 to bring the frame 4 and the dicing tape 3 to room temperature.

なお、上述の実施形態及び他の発明では、加温手段としてハロゲンランプ54、56、74を例示したが、これに限定されるものではない。例えば、加温手段として、遠赤外線ランプ、赤外線ランプ、セラミックヒータ、カーボンヒータ、温風ヒータ又は接触式ヒータを例示することができる。これらの加温手段によれば、低温のフレーム4とダイシングテープ3を常温まで加温することができる。 In the above-described embodiment and other inventions, halogen lamps 54, 56, and 74 have been exemplified as the heating means, but the present invention is not limited thereto. For example, as the heating means, a far-infrared lamp, an infrared lamp, a ceramic heater, a carbon heater, a warm air heater, or a contact type heater can be exemplified. According to these heating means, the low temperature frame 4 and the dicing tape 3 can be heated to room temperature.

1…ウェーハ、2…ウェーハユニット、3…ダイシングテープ、3A…中央部領域、3B…環状部領域、3C…固定部領域、4…フレーム、5…分割予定ライン、6…チップ、7…固定部、8…エキスパンドリング、10…ワーク分割装置、14…エキスパンドリング、16…冷却室、18…拡張保持リング、20…冷気、22…ノズル、24…冷気供給手段、25…配管、26…嵌合部、30…エキスパンドリング移動機構、32…本体リング、34…内部空間、36…ドライエア供給手段、37…ドライエア、38…拡張保持リング移動機構、40…加温部、42…加温室、44…断熱壁、46…扉、48…搬出用開口部、50…テーブル、52…ハロゲンランプ群、54…ハロゲンランプ、56…ハロゲンランプ、58…リフレクタ、60…リフレクタ、62…ハロゲンランプ電源、64…ハロゲンランプ電源、66…制御部、68…放射温度計、70…放射温度計、72…上蓋、74…ハロゲンランプ 1 ... Wafer, 2 ... Wafer unit, 3 ... Dicing tape, 3A ... Central region, 3B ... Annular region, 3C ... Fixed region, 4 ... Frame, 5 ... Scheduled division line, 6 ... Chip, 7 ... Fixed region , 8 ... Expanding ring, 10 ... Work dividing device, 14 ... Expanding ring, 16 ... Cooling chamber, 18 ... Expanded holding ring, 20 ... Cold air, 22 ... Nozzle, 24 ... Cold air supply means, 25 ... Piping, 26 ... Fitting Part, 30 ... Expanding ring moving mechanism, 32 ... Main body ring, 34 ... Internal space, 36 ... Dry air supply means, 37 ... Dry air, 38 ... Expanded holding ring moving mechanism, 40 ... Heating part, 42 ... Heating greenhouse, 44 ... Insulated wall, 46 ... door, 48 ... carry-out opening, 50 ... table, 52 ... halogen lamp group, 54 ... halogen lamp, 56 ... halogen lamp, 58 ... reflector, 60 ... reflector, 62 ... halogen lamp power supply, 64 ... Halogen lamp power supply, 66 ... Control unit, 68 ... Radiation thermometer, 70 ... Radiation thermometer, 72 ... Top lid, 74 ... Halogen lamp

Claims (6)

ダイシングテープに貼付されてフレームにマウントされたワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割装置において、
前記ワークを取り囲む冷却室を有し、前記冷却室の内部を冷却する冷却部と、
前記冷却室の内部に配置され、前記冷却部により冷却された前記ダイシングテープに張力を加えて前記ダイシングテープを拡張するエキスパンドリングと、
前記冷却室に連設された加温室を有し、前記加温室は開閉可能な仕切り壁によって前記冷却室と区画され、前記加温室の内部を乾燥雰囲気で加温する加温部と、を備え、
前記エキスパンドリングによって前記ダイシングテープが拡張された後、前記冷却室から前記加温室に移動した前記ワークを前記加温室の内部で前記ダイシングテープ及び前記フレームと共に加温
前記冷却部は、前記ダイシングテープが脆性化する温度の冷気を前記冷却室に供給する冷気供給手段を有し、
前記加温部は、前記加温室を常温以上の温度で加温する加温手段を有し、
前記加温手段は、前記フレームを主として加温する第1加温手段と、前記ダイシングテープを主として加温する第2加温手段とを有する、
ワーク分割装置。
In a work dividing device that divides a work attached to a dicing tape and mounted on a frame into individual chips along a planned division line.
A cooling unit having a cooling chamber surrounding the work and cooling the inside of the cooling chamber,
An expanding ring that is arranged inside the cooling chamber and expands the dicing tape by applying tension to the dicing tape cooled by the cooling unit.
It has a greenhouse connected to the cooling chamber, and the greenhouse is partitioned from the cooling chamber by a partition wall that can be opened and closed, and includes a heating unit that heats the inside of the greenhouse in a dry atmosphere. ,
After said dicing tape is expanded, the dicing tape and warming city together with the frame the workpiece moved into the heating chamber from the cooling chamber within said heating chamber by said expanding ring,
The cooling unit has a cold air supply means for supplying cold air at a temperature at which the dicing tape becomes brittle to the cooling chamber.
The heating unit has a heating means for heating the greenhouse at a temperature equal to or higher than room temperature.
The heating means includes a first heating means that mainly heats the frame and a second heating means that mainly heats the dicing tape.
Work splitting device.
前記エキスパンドリングによって拡張された前記ダイシングテープの拡張状態を保持する拡張保持リングを備え、
前記加温部は、前記拡張保持リングによって前記ダイシングテープの拡張状態が保持された状態で、前記加温室の内部で前記ワークを前記ダイシングテープ及び前記フレームと共に加温する、
請求項1に記載のワーク分割装置。
An expansion holding ring for holding the expanded state of the dicing tape expanded by the expanding ring is provided.
The heating unit heats the work together with the dicing tape and the frame inside the greenhouse while the expanded state of the dicing tape is held by the expansion holding ring.
The work dividing device according to claim 1.
前記加温部は、前記フレームを測温する第1測温手段と、前記ダイシングテープを測温する第2測温手段とを有し、
前記第1測温手段によって測温された前記フレームの温度と前記第2測温手段によって測温された前記ダイシングテープの温度に基づいて、前記フレームと前記ダイシングテープの温度差が小さくなるように、前記第1加温手段及び前記第2加温手段によって前記フレーム及び前記ダイシングテープの温度を個別に制御する制御部を備える、
請求項1又は2に記載のワーク分割装置。
The heating unit has a first temperature measuring means for measuring the temperature of the frame and a second temperature measuring means for measuring the temperature of the dicing tape.
The temperature difference between the frame and the dicing tape is reduced based on the temperature of the frame measured by the first temperature measuring means and the temperature of the dicing tape measured by the second temperature measuring means. A control unit for individually controlling the temperature of the frame and the dicing tape by the first heating means and the second heating means.
The work dividing device according to claim 1 or 2 .
ダイシングテープに貼付されてフレームにマウントされたワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割方法において、
冷却室の内部を冷却することにより、前記冷却室の内部に配置された前記ワークを冷却する冷却工程と、
前記冷却室の内部で冷却された前記ダイシングテープに張力を加えて前記ダイシングテープを拡張する拡張工程と、
前記拡張工程により前記ダイシングテープが拡張された後、前記冷却室に連設された加温室に前記ワークを移動させて、前記加温室の内部を乾燥雰囲気で加温することにより、前記ワークを前記加温室の内部で前記ダイシングテープ及び前記フレームと共に加温する加温工程と、を備え
前記冷却工程は、前記ダイシングテープが脆性化する温度の冷気を前記冷却室に供給し、
前記加温工程は、前記加温室を常温以上の温度で加温し、
前記加温工程は、前記フレームを主として加温する第1加温工程と、前記ダイシングテープを主として加温する第2加温工程とを有する、
ワーク分割方法。
In the work division method in which the work attached to the dicing tape and mounted on the frame is divided into individual chips along the planned division line.
A cooling step of cooling the work arranged inside the cooling chamber by cooling the inside of the cooling chamber, and
An expansion step of applying tension to the dicing tape cooled inside the cooling chamber to expand the dicing tape, and
After the dicing tape is expanded by the expansion step, the work is moved to a greenhouse connected to the cooling chamber, and the inside of the greenhouse is heated in a dry atmosphere to heat the work. A heating step of heating together with the dicing tape and the frame inside the greenhouse is provided .
In the cooling step, cold air at a temperature at which the dicing tape becomes brittle is supplied to the cooling chamber.
In the heating step, the heating greenhouse is heated at a temperature equal to or higher than room temperature.
The heating step includes a first heating step that mainly heats the frame and a second heating step that mainly heats the dicing tape.
Work division method.
前記拡張工程と前記加温工程との間に拡張状態保持工程を有し、
前記拡張状態保持工程は、前記拡張工程によって拡張された前記ダイシングテープの拡張状態を保持し、
前記加温工程は、前記拡張状態保持工程によって前記ダイシングテープの拡張状態が保持された状態で、前記加温室の内部で前記ワークを前記ダイシングテープ及び前記フレームと共に加温する、
請求項に記載のワーク分割方法。
An expanded state holding step is provided between the expanding step and the heating step.
The expanded state holding step holds the expanded state of the dicing tape expanded by the expanding step.
In the heating step, the work is heated together with the dicing tape and the frame inside the greenhouse while the dicing tape is held in the expanded state by the expansion state holding step.
The work dividing method according to claim 4 .
前記加温工程は、前記フレームを測温する第1測温工程と、前記ダイシングテープを測温する第2測温工程を有し、
前記第1測温工程で測温された前記フレームの温度と前記第2測温工程で測温された前記ダイシングテープの温度に基づいて、前記フレームと前記ダイシングテープの温度差が小さくなるように、前記フレーム及び前記ダイシングテープの温度を個別に制御する制御工程を有する、
請求項4又は5に記載のワーク分割方法。
The heating step includes a first temperature measuring step of measuring the temperature of the frame and a second temperature measuring step of measuring the temperature of the dicing tape.
The temperature difference between the frame and the dicing tape is reduced based on the temperature of the frame measured in the first temperature measuring step and the temperature of the dicing tape measured in the second temperature measuring step. It has a control step of individually controlling the temperature of the frame and the dicing tape.
The work dividing method according to claim 4 or 5 .
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