JP6829806B2 - Work dividing device and work dividing method - Google Patents

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本発明は、ワーク分割装置及びワーク分割方法に係り、特に、半導体ウェーハ等のワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割装置及びワーク分割方法に関する。 The present invention relates to a work dividing device and a work dividing method, and more particularly to a work dividing device and a work dividing method for dividing a work such as a semiconductor wafer into individual chips along a scheduled division line.

従来、半導体チップ(以下、チップと言う。)の製造にあたり、ダイシングブレードによるハーフカット或いはレーザ照射による改質領域形成により予めその内部に分割予定ラインが形成された半導体ウェーハ(以下、ウェーハと言う。)を、分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割装置が知られている(特許文献1等参照)。 Conventionally, in the manufacture of a semiconductor chip (hereinafter referred to as a chip), a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a wafer) in which a planned division line is formed in advance by half-cutting with a dicing blade or forming a modified region by laser irradiation. ) Is known as a work dividing device that divides) into individual chips along a planned division line (see Patent Document 1 and the like).

図11は、ワーク分割装置によって分割される円盤状のウェーハ1が貼付されたウェーハユニット2の説明図であり、図11(A)はウェーハユニット2の斜視図、図11(B)はウェーハユニット2の縦断面図である。 11A and 11B are explanatory views of a wafer unit 2 to which a disk-shaped wafer 1 divided by a work dividing device is attached, FIG. 11A is a perspective view of the wafer unit 2, and FIG. 11B is a wafer unit. It is a vertical sectional view of 2.

ウェーハ1は、片面に粘着層が形成された厚さ約100μmのダイシングテープ(拡張テープ又は粘着シートとも言う。)3の中央部に貼付され、ダイシングテープ3は、その外周部が剛性のあるリング状のフレーム4に固定されている。 The wafer 1 is attached to the central portion of a dicing tape (also referred to as an expansion tape or an adhesive sheet) 3 having a thickness of about 100 μm having an adhesive layer formed on one side, and the dicing tape 3 has a ring having a rigid outer peripheral portion thereof. It is fixed to the shaped frame 4.

ワーク分割装置では、ウェーハユニット2のフレーム4が、二点鎖線で示す固定部(フレーム固定機構とも言う。)7に当接されて固定される。この後、ウェーハユニット2の下方から二点鎖線で示すエキスパンドリング(突上げリングとも言う。)8が上昇移動され、このエキスパンドリング8によってダイシングテープ3が押圧されて放射状に拡張される。このときに生じるダイシングテープ3の張力が、ウェーハ1の分割予定ライン5に付与されることにより、ウェーハ1が個々のチップ6に分割される。 In the work dividing device, the frame 4 of the wafer unit 2 is abutted and fixed by the fixing portion (also referred to as a frame fixing mechanism) 7 indicated by the alternate long and short dash line. After that, the expanding ring (also referred to as a push-up ring) 8 indicated by the alternate long and short dash line is moved upward from below the wafer unit 2, and the dicing tape 3 is pressed by the expanding ring 8 to be radially expanded. The tension of the dicing tape 3 generated at this time is applied to the scheduled division line 5 of the wafer 1, so that the wafer 1 is divided into individual chips 6.

ここで、本願明細書において、ダイシングテープ3のうち、ウェーハ1が貼付される平面視円形状の領域を中央部領域3Aと称し、中央部領域3Aの外縁部(ウェーハ1の外縁部)とフレーム4の内縁部との間に備えられる平面視ドーナツ形状の領域を環状部領域3Bと称し、フレーム4に固定される最外周部分の平面視ドーナツ形状の領域を固定部領域3Cと称する。環状部領域3Bが、エキスパンドリング8に押圧されて拡張される領域である。 Here, in the specification of the present application, the region of the dicing tape 3 having a circular shape in a plan view to which the wafer 1 is attached is referred to as a central region 3A, and the outer edge portion (outer edge portion of the wafer 1) and the frame of the central region 3A. The plan-view donut-shaped region provided between the inner edge portion of 4 is referred to as an annular portion region 3B, and the plan-view donut-shaped region of the outermost peripheral portion fixed to the frame 4 is referred to as a fixed portion region 3C. The annular portion region 3B is a region that is pressed and expanded by the expanding ring 8.

ワーク分割装置おいて、ウェーハ1の分割に要する力は、すなわち、ウェーハ1を分割するために環状部領域3Bに発生させなければならない張力は、分割予定ライン5の本数が多くなるに従って高くしなければならないことが知られている。分割予定ライン5の本数について、例えば、直径300mmのウェーハ1でチップサイズが5mmの場合には約120本(XY方向に各60本)の分割予定ライン5が形成され、チップサイズが1mmの場合は約600本の分割予定ライン5が形成される。よって、環状部領域3Bに発生させなければならない張力は、チップサイズが小さくなるに従って高くしなければならない。 In the work dividing device, the force required for dividing the wafer 1, that is, the tension that must be generated in the annular portion region 3B to divide the wafer 1, must be increased as the number of scheduled division lines 5 increases. It is known that it must be done. Regarding the number of planned division lines 5, for example, when the wafer 1 having a diameter of 300 mm has a chip size of 5 mm, about 120 planned division lines (60 lines each in the XY direction) are formed, and the chip size is 1 mm. Is formed with about 600 scheduled division lines 5. Therefore, the tension that must be generated in the annular portion region 3B must be increased as the chip size becomes smaller.

ところで、直径300mmのウェーハ1がマウントされるフレーム4の内径(フレームの内縁部の径)は、SEMI規格(G74−0699 300mmウェーハに関するテープフレームのための仕様)により350mmと定められている。この規格により、図12のウェーハユニット2の縦断面図の如く、ウェーハ1の外縁部とフレーム4の内縁部との間には、25mmの幅寸法を有する環状部領域3Bが存在することになる。また、図13(A)、(B)で示すワーク分割装置の要部縦断面図の如く、フレーム4を固定する固定部7は、エキスパンドリング8によって拡張される環状部領域3Bに接触しないように、矢印Aで示すダイシングテープ3の面内方向において環状部領域3Bから外方に離間した位置に設置されている。 By the way, the inner diameter (diameter of the inner edge of the frame) of the frame 4 on which the wafer 1 having a diameter of 300 mm is mounted is defined as 350 mm by the SEMI standard (specification for a tape frame for a G74-0699 300 mm wafer). According to this standard, as shown in the vertical cross-sectional view of the wafer unit 2 of FIG. 12, an annular portion region 3B having a width dimension of 25 mm exists between the outer edge portion of the wafer 1 and the inner edge portion of the frame 4. .. Further, as shown in the vertical cross-sectional view of the main part of the work dividing device shown in FIGS. 13A and 13B, the fixing portion 7 fixing the frame 4 does not come into contact with the annular portion region 3B expanded by the expanding ring 8. In the in-plane direction of the dicing tape 3 indicated by the arrow A, the dicing tape 3 is installed at a position separated outward from the annular portion region 3B.

ここで、エキスパンドリング8の上昇動作によって生じるウェーハ1を分割する力は、(i)環状部領域3Bの全領域を拡張する力、(ii)ウェーハ1をチップ6に分割する力、(iii)隣接するチップ6とチップ6との間のダイシングテープ3を拡張する力の3つの力に分解される。 Here, the forces that divide the wafer 1 generated by the ascending operation of the expanding ring 8 are (i) a force that expands the entire region of the annular portion region 3B, (ii) a force that divides the wafer 1 into chips 6, and (iii). It is decomposed into three forces that expand the dicing tape 3 between the adjacent chips 6.

図14(A)〜(E)に示すワーク分割装置の動作図の如く、ダイシングテープ3の環状部領域3Bにエキスパンドリング8が当接し、エキスパンドリング8の上昇動作によってダイシングテープ3の拡張が始まると(図14(A))、まず最もバネ定数の低い環状部領域3Bの拡張が始まる(図14(B))。これにより、環状部領域3Bに張力が発生し、この張力がある程度高まると、高まった張力がウェーハ1に伝達されてウェーハ1のチップ6への分割が始まる(図14(C))。ウェーハ1が個々のチップ6に分割されると、環状部領域3Bの拡張とチップ6間のダイシングテープ3の拡張とが同時に進行する(図14(D)〜(E))。 As shown in the operation diagram of the work dividing device shown in FIGS. 14A to 14E, the expanding ring 8 abuts on the annular portion region 3B of the dicing tape 3, and the dicing tape 3 starts to expand by the ascending operation of the expanding ring 8. (FIG. 14 (A)), the expansion of the annular region 3B having the lowest spring constant begins (FIG. 14 (B)). As a result, tension is generated in the annular portion region 3B, and when this tension increases to some extent, the increased tension is transmitted to the wafer 1 and the wafer 1 is divided into chips 6 (FIG. 14 (C)). When the wafer 1 is divided into individual chips 6, the expansion of the annular portion region 3B and the expansion of the dicing tape 3 between the chips 6 proceed at the same time (FIGS. 14D to 14E).

従来のワーク分割装置では、直径300mmのウェーハ1において、チップサイズが5mm以上の場合には、環状部領域3Bで発生した張力により、個々のチップ6に問題無く分割することができた。しかしながら、ウェーハ1に形成される回路パターンの微細化に伴いチップサイズがより小さい1mm以下のチップも現れてきた。この場合、ウェーハ1を分割する分割予定ライン5の本数が増大することに起因して、ウェーハ1の分割に要する力が大きくなり、環状部領域3Bの拡張による張力以上の力が必要となる場合があった。そうすると、図15のウェーハユニット2の縦断面図の如く、エキスパンドリング8による拡張動作が終了しても、ウェーハ1に形成された分割予定ライン5の一部が分割されずに未分割のまま残存するという問題が発生した。 In the conventional work dividing device, in the wafer 1 having a diameter of 300 mm, when the chip size is 5 mm or more, the individual chips 6 can be divided without any problem due to the tension generated in the annular portion region 3B. However, with the miniaturization of the circuit pattern formed on the wafer 1, chips having a smaller chip size of 1 mm or less have appeared. In this case, when the number of planned division lines 5 for dividing the wafer 1 increases, the force required for dividing the wafer 1 increases, and a force greater than the tension due to the expansion of the annular portion region 3B is required. was there. Then, as shown in the vertical cross-sectional view of the wafer unit 2 of FIG. 15, even if the expansion operation by the expanding ring 8 is completed, a part of the planned division line 5 formed on the wafer 1 is not divided and remains undivided. There was a problem of doing.

このような分割予定ライン5の未分割の問題は、ダイシングテープ3の拡張量や拡張速度を増加させても解消することはできない。例えば、ダイシングテープ3の拡張量を増やした場合には、環状部領域3Bが塑性変形を始めてしまうからである。塑性変形中の環状部領域3Bのバネ定数は、弾性変形中のバネ定数よりも小さいことから、環状部領域3Bの弾性変形を超えた領域では、ウェーハ1を個々のチップ6に分割する張力は発生しない。一方、ダイシングテープ3の拡張速度を増やした場合でも、環状部領域3Bの一部分が塑性変形を始めてしまうので、ウェーハ1を個々のチップ6に分割する張力は発生しない。これはダイシングテープ3の周波数応答が低いため、ダイシングテープ3の全体に時間差なく力が伝達しないからである。 Such an undivided problem of the scheduled division line 5 cannot be solved by increasing the expansion amount and expansion speed of the dicing tape 3. For example, when the expansion amount of the dicing tape 3 is increased, the annular portion region 3B starts plastic deformation. Since the spring constant of the annular portion region 3B during plastic deformation is smaller than the spring constant during elastic deformation, the tension for dividing the wafer 1 into individual chips 6 in the region exceeding the elastic deformation of the annular portion region 3B Does not occur. On the other hand, even when the expansion speed of the dicing tape 3 is increased, a part of the annular portion region 3B starts to be plastically deformed, so that the tension for dividing the wafer 1 into the individual chips 6 is not generated. This is because the frequency response of the dicing tape 3 is low, so that the force is not transmitted to the entire dicing tape 3 without a time lag.

そこで、上記のような問題を解消する装置の一例として、冷気供給手段を備えたテープ拡張装置(ワーク分割装置)が特許文献2に開示されている。特許文献2によれば、冷気供給手段を作動して、処理空間内に冷気を供給し、処理空間内を例えば零下に冷却することにより、ダイシングテープを冷却している。 Therefore, as an example of an apparatus for solving the above-mentioned problems, Patent Document 2 discloses a tape expansion apparatus (work division apparatus) provided with cold air supply means. According to Patent Document 2, the dicing tape is cooled by operating the cold air supply means to supply cold air into the processing space and cooling the processing space to, for example, below zero.

特許文献2の如く、ダイシングテープを冷却することで、ダイシングテープのバネ定数を大きくした状態でダイシングテープを拡張することができる。これにより、図12に示した環状部領域3Bに発生する張力を、冷却しないダイシングテープと比較して高くすることができるので、チップサイズが小チップの場合でも個々のチップに分割することが可能となる。 As in Patent Document 2, by cooling the dicing tape, the dicing tape can be expanded in a state where the spring constant of the dicing tape is increased. As a result, the tension generated in the annular portion region 3B shown in FIG. 12 can be increased as compared with the uncooled dicing tape, so that even if the chip size is small, it can be divided into individual chips. It becomes.

一方、ワーク分割装置の分野では、エキスパンドリングによって拡張されたダイシングテープの拡張状態を保持することにより、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下を防止することも要求される。 On the other hand, in the field of the work dividing device, it is also required to prevent the quality deterioration of the chips due to the contact between the chips after the division by maintaining the expanded state of the dicing tape expanded by the expanding ring.

この要求を満足するワーク分割装置として、サブリングを備えたワーク分割装置が特許文献3に開示されている。特許文献3のサブリングは、エキスパンドリングによって拡張されたダイシングテープを拡張した状態で保持する機能を有し、フレームの内径よりも大径に構成されている。サブリングは、ダイシングテープの裏面側からダイシングテープに向けて上昇される。そして、サブリングがフレームを通過した直後に、サブリングの外周部に設けられた嵌合部(リップとも言う。)が、ダイシングテープの外周部とフレームの表面との間に挿入される。これにより、エキスパンドリングによるダイシングテープの拡張が終了しても、ダイシングテープの拡張状態が保持される。このようにダイシングテープの拡張状態を保持すれば、ダイシングテープの弛みを阻止することができるので、チップ同士の接触に起因するチップの品質低下を防止することができる。 As a work dividing device that satisfies this requirement, a work dividing device provided with a sub ring is disclosed in Patent Document 3. The sub-ring of Patent Document 3 has a function of holding the dicing tape expanded by the expanding ring in an expanded state, and is configured to have a diameter larger than the inner diameter of the frame. The sub ring is raised from the back surface side of the dicing tape toward the dicing tape. Immediately after the sub ring has passed through the frame, a fitting portion (also referred to as a lip) provided on the outer peripheral portion of the sub ring is inserted between the outer peripheral portion of the dicing tape and the surface of the frame. As a result, the expanded state of the dicing tape is maintained even after the expansion of the dicing tape by the expanding ring is completed. By maintaining the expanded state of the dicing tape in this way, it is possible to prevent the dicing tape from loosening, and thus it is possible to prevent deterioration of the quality of the chips due to contact between the chips.

特開2016−149581号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-149581 特開2016−12585号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-12585 特開2013−51368号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-51368

しかしながら、特許文献1、2のワーク分割装置では、特許文献3のようなサブリングを備えていないため、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下の問題を招くおそれがある。 However, since the work dividing devices of Patent Documents 1 and 2 do not have the sub-ring as in Patent Document 3, there is a risk of causing a problem of chip quality deterioration due to contact between the chips after division.

一方、ダイシングテープを冷気によって冷却する特許文献2のワーク分割装置に、特許文献3のサブリングを搭載した場合、サブリングの樹脂製の嵌合部が低温環境により硬化して脆性化するという問題が発生する。この問題により、サブリングの嵌合部が、ダイシングテープの外周部とフレームの表面との間に挿入される際に、嵌合部が破損するという虞がある。よって、特許文献2のワーク分割装置に、特許文献3のサブリングを搭載することは困難である。 On the other hand, when the sub-ring of Patent Document 3 is mounted on the work dividing device of Patent Document 2 that cools the dicing tape with cold air, there is a problem that the resin fitting portion of the sub-ring is hardened and becomes brittle in a low temperature environment. Occurs. Due to this problem, when the fitting portion of the sub ring is inserted between the outer peripheral portion of the dicing tape and the surface of the frame, the fitting portion may be damaged. Therefore, it is difficult to mount the sub-ring of Patent Document 3 on the work dividing device of Patent Document 2.

このように従来のワーク分割装置には、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割の問題を解消しつつ、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下の問題を解消することができるものはなく、そのような装置を実現することが望まれていた。 In this way, the conventional work dividing device solves the problem of undivided scheduled division lines that occurs when the chip size is small, and at the same time, solves the problem of chip quality deterioration due to contact between the divided chips. There was nothing that could be solved, and it was desired to realize such a device.

本発明はこのような問題に鑑みて成されたものであり、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題と、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下の問題とを同時に解消することができるワーク分割装置及びワーク分割方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such a problem, and the undivided problem of the scheduled division line that occurs when the chip size is small and the deterioration of chip quality due to the contact between the chips after division. It is an object of the present invention to provide a work dividing device and a work dividing method capable of solving problems at the same time.

本発明のワーク分割装置は、本発明の目的を達成するために、ワークの外径よりも大きい内径を有するリング状のフレームにダイシングテープの外周部が固定され、ダイシングテープに貼付されたワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割装置において、ダイシングテープにおけるワークの貼付面と反対側の裏面側に配置され、フレームの内径よりも小さく、かつワークの外径よりも大きい開口部を有するリング状に形成されたエキスパンドリングであって、ダイシングテープに対し相対的に近づく方向に移動されることによりダイシングテープを押圧して拡張するエキスパンドリングと、ダイシングテープにおけるワークの貼付面と反対側の裏面側に配置され、フレームの内径よりも大きい弾性変形可能な嵌合部を有するリング状に形成された拡張保持リングであって、エキスパンドリングによってダイシングテープが拡張された状態で、嵌合部がフレームの表面に嵌合されることにより、ダイシングテープの拡張状態を保持する拡張保持リングと、エキスパンドリング及び拡張保持リングを含む空間を冷却する冷却部と、拡張保持リングの嵌合部がフレームの表面に嵌合する前に、冷却部により冷却された嵌合部を加温する加温部と、を備える。 In the work dividing device of the present invention, in order to achieve the object of the present invention, the outer peripheral portion of the dicing tape is fixed to a ring-shaped frame having an inner diameter larger than the outer diameter of the work, and the work attached to the dicing tape is attached. In a work dividing device that divides into individual chips along a planned division line, an opening that is arranged on the back surface side of the dicing tape on the opposite side to the sticking surface of the work, is smaller than the inner diameter of the frame and larger than the outer diameter of the work. An expanding ring formed in a ring shape having a portion, which expands by pressing the dicing tape by being moved in a direction relatively close to the dicing tape, and a surface to which a work is attached on the dicing tape. An expansion holding ring arranged on the back side on the opposite side and formed in a ring shape having an elastically deformable fitting portion larger than the inner diameter of the frame, and fitted with the dicing tape expanded by the expanding ring. An expansion holding ring that holds the expanded state of the dicing tape by fitting the joint to the surface of the frame, a cooling part that cools the space including the expanding ring and the expansion holding ring, and a fitting part of the expansion holding ring. It is provided with a heating portion for heating the fitting portion cooled by the cooling portion before the fitting portion is fitted to the surface of the frame.

本発明のワーク分割装置によれば、冷却部の冷気によってダイシングテープを冷却し、ダイシングテープのバネ定数を大きくした状態でダイシングテープをエキスパンドリングによって拡張する。これにより、本発明のワーク分割装置によれば、チップサイズが小チップの場合でも個々のチップに分割することができる。このとき、拡張保持リングの嵌合部は、冷気によって冷却されて弾性状態から脆化状態に性状が変化しているので、この嵌合部をフレームの表面に嵌合させる前に、嵌合部を加温部によって加温する。これにより、嵌合部は、脆化状態から弾性状態に回復され、この後、フレームの表面に嵌合されてダイシングテープの拡張状態を保持する。 According to the work dividing device of the present invention, the dicing tape is cooled by the cold air of the cooling unit, and the dicing tape is expanded by expanding in a state where the spring constant of the dicing tape is increased. As a result, according to the work dividing device of the present invention, even if the chip size is small, it can be divided into individual chips. At this time, since the fitting portion of the expansion holding ring is cooled by cold air and its properties change from the elastic state to the embrittled state, the fitting portion is before being fitted to the surface of the frame. Is heated by the heating part. As a result, the fitting portion is restored from the embrittled state to the elastic state, and then is fitted to the surface of the frame to hold the expanded state of the dicing tape.

以上の如く、本発明のワーク分割装置によれば、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題と、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下の問題とを同時に解消することができる。 As described above, according to the work dividing apparatus of the present invention, the problem of undivided scheduled division lines that occurs when the chip size is small and the problem of chip quality deterioration due to contact between the divided chips are solved. It can be resolved at the same time.

本発明のワーク分割装置の一態様は、冷却部は、ダイシングテープが脆性化する温度の冷気を空間に供給し、加温部は、冷気の温度を超える温度で嵌合部を加温して、嵌合部を弾性化することが好ましい。これにより、ダイシングテープは冷気によってバネ定数が大きくなり、また、嵌合部は脆化状態から弾性状態に回復する。 In one aspect of the work dividing device of the present invention, the cooling unit supplies cold air at a temperature at which the dicing tape becomes brittle to the space, and the heating unit heats the fitting portion at a temperature exceeding the temperature of the cold air. , It is preferable to make the fitting portion elastic. As a result, the spring constant of the dicing tape increases due to the cold air, and the fitting portion recovers from the embrittled state to the elastic state.

本発明のワーク分割装置の一態様は、加温部は、嵌合部に常温を超えた熱を供給する熱供給部であることが好ましい。これにより、嵌合部は脆化状態から弾性状態に確実に回復する。 In one aspect of the work dividing device of the present invention, it is preferable that the heating unit is a heat supply unit that supplies heat exceeding room temperature to the fitting unit. As a result, the mating portion reliably recovers from the embrittled state to the elastic state.

本発明のワーク分割装置の一態様は、加温部は、嵌合部に常温エアを供給するエア供給部であることが好ましい。これにより、嵌合部は脆化状態から弾性状態に確実に回復する。 In one aspect of the work dividing device of the present invention, it is preferable that the heating unit is an air supply unit that supplies room temperature air to the fitting unit. As a result, the mating portion reliably recovers from the embrittled state to the elastic state.

本発明のワーク分割方法は、本発明の目的を達成するために、ワークの外径よりも大きい内径を有するリング状のフレームにダイシングテープの外周部が固定され、ダイシングテープに貼付されたワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割方法において、ダイシングテープを冷気により冷却する冷却工程と、ダイシングテープにおけるワークの貼付面と反対側の裏面側に配置されたエキスパンドリングを、ダイシングテープに対して相対的に近づく方向に移動させることにより、ダイシングテープのうちワークの外縁部とフレームの内縁部との間の環状部領域をエキスパンドリングによって押圧して、ダイシングテープを拡張する拡張工程と、ダイシングテープにおけるワークの貼付面と反対側の裏面側に配置された拡張保持リングであって、拡張保持リングの外周部に形成された弾性変形可能な嵌合部を加温する加温工程と、拡張保持リングを、ダイシングテープに対して相対的に近づく方向に移動させることにより、加温された嵌合部をフレームの表面に嵌合させて、拡張工程によって拡張されたダイシングテープの拡張状態を保持する拡張状態保持工程と、を備える。 In the work dividing method of the present invention, in order to achieve the object of the present invention, the outer peripheral portion of the dicing tape is fixed to a ring-shaped frame having an inner diameter larger than the outer diameter of the work, and the work attached to the dicing tape is attached. In the work dividing method of dividing into individual chips along the planned division line, the dicing step of cooling the dicing tape with cold air and the expanding ring arranged on the back surface side opposite to the sticking surface of the work on the dicing tape are diced. An expansion step of expanding the dicing tape by pressing the annular portion region between the outer edge of the work and the inner edge of the frame of the dicing tape by moving the dicing tape in a direction relatively close to the tape. A heating step of heating the elastically deformable fitting portion formed on the outer peripheral portion of the expansion holding ring, which is an expansion holding ring arranged on the back surface side opposite to the sticking surface of the work in the dicing tape. By moving the expansion holding ring in a direction relatively close to the dicing tape, the heated fitting portion is fitted to the surface of the frame, and the dicing tape expanded by the expansion step is expanded. It includes an extended state holding step for holding the state.

本発明のワーク分割方法によれば、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題と、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下の問題とを同時に解消することができる。 According to the work dividing method of the present invention, the problem of undivided lines to be divided, which occurs when the chip size is small, and the problem of chip quality deterioration due to contact between the divided chips can be solved at the same time. Can be done.

本発明のワーク分割方法の一態様は、冷却工程は、ダイシングテープが脆性化する温度の冷気をダイシングテープに供給し、加温工程は、冷気の温度を超える温度で嵌合部を加温して、嵌合部を弾性化することが好ましい。これにより、ダイシングテープは冷気によってバネ定数が大きくなり、また、嵌合部は脆化状態から弾性状態に回復する。 In one aspect of the work dividing method of the present invention, in the cooling step, cold air at a temperature at which the dicing tape becomes brittle is supplied to the dicing tape, and in the heating step, the fitting portion is heated at a temperature exceeding the temperature of the cold air. Therefore, it is preferable to make the fitting portion elastic. As a result, the spring constant of the dicing tape increases due to the cold air, and the fitting portion recovers from the embrittled state to the elastic state.

本発明のワーク分割方法の一態様は、加温工程は、嵌合部に常温を超えた熱を供給することが好ましい。これにより、嵌合部は脆化状態から弾性状態に確実に回復する。 In one aspect of the work dividing method of the present invention, it is preferable that the heating step supplies heat exceeding room temperature to the fitting portion. As a result, the mating portion reliably recovers from the embrittled state to the elastic state.

本発明のワーク分割方法の一態様は、加温工程は、嵌合部に常温エアを供給することが好ましい。これにより、嵌合部は脆化状態から弾性状態に確実に回復する。 In one aspect of the work dividing method of the present invention, it is preferable that room temperature air is supplied to the fitting portion in the heating step. As a result, the mating portion reliably recovers from the embrittled state to the elastic state.

本発明によれば、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題と、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下の問題とを同時に解消することができる。 According to the present invention, it is possible to simultaneously solve the problem of undivided lines to be divided, which occurs when the chip size is small, and the problem of deterioration of chip quality due to contact between the divided chips.

実施形態のワーク分割装置の分割ステージの要部構造図Structural drawing of the main part of the division stage of the work division device of the embodiment 図1に示した分割ステージの要部拡大斜視図Enlarged perspective view of the main part of the split stage shown in FIG. 拡張途中の環状部領域の形状を示したウェーハユニットの要部縦断面図Longitudinal cross-sectional view of the main part of the wafer unit showing the shape of the annular portion region during expansion 拡張保持リングによるダイシングテープの拡張状態を示した縦断面図Vertical sectional view showing the expanded state of the dicing tape by the extended holding ring. 図4の要部拡大断面図Enlarged sectional view of the main part of FIG. ワーク分割装置の制御系を示したブロック図Block diagram showing the control system of the work dividing device ウェーハ分割方法の一例を示したフローチャートFlow chart showing an example of wafer division method ワーク分割装置の動作説明図Operation explanatory diagram of work dividing device ワーク分割装置の動作説明図Operation explanatory diagram of work dividing device 加温部として常温エアを供給するエア供給部が適用された説明図Explanatory drawing to which the air supply part which supplies normal temperature air is applied as a heating part ウェーハが貼付されたウェーハユニットの説明図Explanatory drawing of the wafer unit to which the wafer is attached ウェーハユニットの縦断面図Longitudinal section of wafer unit ワーク分割装置の要部側面図Side view of the main part of the work dividing device ワーク分割装置の動作図Operation diagram of work dividing device ウェーハが分割されたウェーハユニットの縦断面図Longitudinal section of the wafer unit in which the wafer is divided

以下、添付図面に従って本発明に係るワーク分割装置及びワーク分割方法の好ましい実施形態について詳説する。本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲であれば、以下の実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。 Hereinafter, preferred embodiments of the work dividing device and the work dividing method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications and substitutions can be added to the following embodiments within the scope of the present invention.

図1は、実施形態に係るワーク分割装置10に備えられた分割ステージの要部縦断面図であり、図2は、分割ステージの要部拡大斜視図である。なお、ワーク分割装置10によって分割処理されるウェーハユニットのサイズは限定されるものではないが、実施形態では、図12に示した直径300mmのウェーハ1がマウントされたウェーハユニット2を例示する。 FIG. 1 is a vertical cross-sectional view of a main part of a division stage provided in the work division device 10 according to the embodiment, and FIG. 2 is an enlarged perspective view of a main part of the division stage. The size of the wafer unit to be divided by the work dividing device 10 is not limited, but in the embodiment, the wafer unit 2 on which the wafer 1 having a diameter of 300 mm shown in FIG. 12 is mounted is illustrated.

図2の如く、ワーク分割装置10は、分割予定ライン5が形成されたウェーハ1を分割予定ライン5に沿って個々のチップ6に分割する装置である。分割予定ライン5は、互いに直交するX方向及びY方向に複数本形成される。実施形態では、X方向と平行な分割予定ライン5の本数と、Y方向と平行な分割予定ライン5の本数とがそれぞれ300本でそれぞれの間隔が等しいウェーハ1、すなわち、チップサイズが1mmのチップ6に分割されるウェーハ1を例示する。 As shown in FIG. 2, the work dividing device 10 is a device that divides the wafer 1 on which the scheduled division line 5 is formed into individual chips 6 along the scheduled division line 5. A plurality of scheduled division lines 5 are formed in the X direction and the Y direction orthogonal to each other. In the embodiment, the number of planned division lines 5 parallel to the X direction and the number of planned division lines 5 parallel to the Y direction are 300, and the intervals are the same. Wafer 1, that is, a chip having a chip size of 1 mm. An example is a wafer 1 divided into 6.

ウェーハ1は図1、図2の如く、フレーム4に外周部が固定されたダイシングテープ3の中央部に貼付される。ダイシングテープ3は、ウェーハ1が貼付される平面視円形状の中央部領域3A、及び中央部領域3Aの外縁部(ウェーハ1の外縁部)とフレーム4の内縁部との間の平面視ドーナツ形状の環状部領域3Bを有する。 As shown in FIGS. 1 and 2, the wafer 1 is attached to the central portion of the dicing tape 3 whose outer peripheral portion is fixed to the frame 4. The dicing tape 3 has a donut shape in a plan view between the central region 3A having a circular shape in a plan view to which the wafer 1 is attached and the outer edge portion (outer edge portion of the wafer 1) of the central portion region 3A and the inner edge portion of the frame 4. It has an annular portion region 3B of.

ウェーハ1の厚さは、例えば50μm程度である。また、ダイシングテープ3としては、例えばPVC(polyvinyl chloride:ポリ塩化ビニール)系のテープが使用される。なお、ウェーハ1をDAF(Die Attach Film)等のフィルム状接着材を介してダイシングテープ3に貼付してもよい。フィルム状接着材としては、例えばPO(polyolefin:ポリオレフィン)系のものを使用することができる。 The thickness of the wafer 1 is, for example, about 50 μm. Further, as the dicing tape 3, for example, a PVC (polyvinyl chloride) -based tape is used. The wafer 1 may be attached to the dicing tape 3 via a film-like adhesive such as DAF (Die Attach Film). As the film-like adhesive, for example, a PO (polyolefin) -based adhesive can be used.

ワーク分割装置10は、フレーム4を固定する固定部7(図13、図14参照)と、ダイシングテープ3の環状部領域3Bに下方側から当接されてダイシングテープ3を押圧して拡張するエキスパンドリング14と、エキスパンドリング14によって拡張されたダイシングテープ3の拡張状態を保持する拡張保持リング(サブリングとも言う。)18と、を有する。 The work dividing device 10 abuts on the fixing portion 7 (see FIGS. 13 and 14) for fixing the frame 4 and the annular portion region 3B of the dicing tape 3 from below to press and expand the dicing tape 3. It has a ring 14 and an extended holding ring (also referred to as a sub-ring) 18 for holding the expanded state of the dicing tape 3 expanded by the expanding ring 14.

また、図1の如く、ワーク分割装置10は、固定部7、エキスパンドリング14及び拡張保持リング18を囲繞する冷却室16を備える。更に、ワーク分割装置10は、冷却室16に零下の冷気20を供給するノズル22を備えた冷気供給部24と、拡張保持リング18の嵌合部26がフレーム4の表面4Aに嵌合する前に、冷気20によって冷却された嵌合部26を加温する加温部であるハロゲンランプ28と、を備える。このハロゲンランプ28も冷却室16に囲繞されている。また、冷却室16と冷気供給部24によって冷却部が構成される。そして、エキスパンドリング14及び拡張保持リング18を含む空間である冷却室16の室内空間17に冷気20が供給される。 Further, as shown in FIG. 1, the work dividing device 10 includes a cooling chamber 16 surrounding a fixing portion 7, an expanding ring 14, and an expansion holding ring 18. Further, in the work dividing device 10, before the cold air supply unit 24 having the nozzle 22 for supplying the cold air 20 below zero to the cooling chamber 16 and the fitting portion 26 of the expansion holding ring 18 are fitted to the surface 4A of the frame 4. A halogen lamp 28, which is a heating portion for heating the fitting portion 26 cooled by the cold air 20, is provided. The halogen lamp 28 is also surrounded by the cooling chamber 16. Further, the cooling unit is composed of the cooling chamber 16 and the cold air supply unit 24. Then, the cold air 20 is supplied to the indoor space 17 of the cooling chamber 16, which is a space including the expanding ring 14 and the expansion holding ring 18.

固定部7は、ダイシングテープ3におけるウェーハ1の貼付面と同一側に配置され、その下面7Aにフレーム4が着脱自在に固定される。また、固定部7は、エキスパンドリング14によって拡張される環状部領域3Bに接触しないように、矢印Aで示すダイシングテープ3の面内方向において環状部領域3Bから外方に離間した位置に設置されている。 The fixing portion 7 is arranged on the same side as the sticking surface of the wafer 1 on the dicing tape 3, and the frame 4 is detachably fixed to the lower surface 7A thereof. Further, the fixing portion 7 is installed at a position separated outward from the annular portion region 3B in the in-plane direction of the dicing tape 3 indicated by the arrow A so as not to come into contact with the annular portion region 3B expanded by the expanding ring 14. ing.

図2の如く、固定部7の形状は、フレーム4の内径(350mm)よりも大きい、例えば直径361mmの開口部7Bを有するリング状であるが、その形状は特に限定されるものではない。固定部7としては、例えば、開口部7Bを有する矩形状の板状材を例示することもでき、フレーム4の外周に沿って所定の間隔で配置された複数の固定部材からなる固定部を例示することもできる。これらの固定部材の内接円が、開口部7Bの直径と等しく設定される。 As shown in FIG. 2, the shape of the fixing portion 7 is a ring shape having an opening 7B having a diameter of 361 mm, which is larger than the inner diameter (350 mm) of the frame 4, but the shape is not particularly limited. As the fixing portion 7, for example, a rectangular plate-shaped material having an opening 7B can be exemplified, and a fixing portion composed of a plurality of fixing members arranged at predetermined intervals along the outer circumference of the frame 4 is exemplified. You can also do it. The inscribed circle of these fixing members is set equal to the diameter of the opening 7B.

エキスパンドリング14は、ダイシングテープ3におけるウェーハ1の貼付面と反対側の裏面側に配置され、フレーム4の内径(350mm)よりも小さく、かつウェーハ1の外径(300mm)よりも大きい拡張用開口部(開口部)14Aを有するリング状に形成される。エキスパンドリング14は、ダイシングテープ3に対して相対的に近づく方向に移動自在に配置される。具体的には、エキスパンドリング14は、ダイシングテープ3の環状部領域3Bの裏面を押圧して環状部領域3Bを拡張する拡張位置(図1の二点鎖線で示す位置)と、拡張位置から下方に退避した退避位置(図1の実線で示す位置)との間で上下方向に移動自在に配置される。 The expanding ring 14 is arranged on the back surface side of the dicing tape 3 opposite to the attachment surface of the wafer 1, and is an expansion opening smaller than the inner diameter (350 mm) of the frame 4 and larger than the outer diameter (300 mm) of the wafer 1. It is formed in a ring shape having a portion (opening) 14A. The expanding ring 14 is movably arranged in a direction relatively close to the dicing tape 3. Specifically, the expanding ring 14 presses the back surface of the annular portion region 3B of the dicing tape 3 to expand the annular portion region 3B (position indicated by the alternate long and short dash line in FIG. 1) and downward from the expansion position. It is movably arranged in the vertical direction with and from the retracted position (position shown by the solid line in FIG. 1) retracted to.

また、ワーク分割装置10には、エキスパンドリング14を拡張位置と退避位置との間で上下移動させるエキスパンドリング移動機構30が備えられている。エキスパンドリング移動機構30の一例として、送りネジ装置を例示するが、これに代えてエアシリンダ装置等のアクチュエータを使用することもできる。退避位置に位置されているエキスパンドリング14をエキスパンドリング移動機構30によって拡張位置に向けて移動させると、エキスパンドリング14は、環状部領域3Bに向けて矢印B方向に上昇移動される。これによって、環状部領域3Bの裏面がエキスパンドリング14に押圧されて放射状に拡張される。なお、エキスパンドリング14を固定して、ウェーハユニット2を矢印C方向に下降移動させることにより、環状部領域3Bをエキスパンドリング14によって押圧してもよい。 Further, the work dividing device 10 is provided with an expanding ring moving mechanism 30 that moves the expanding ring 14 up and down between the expansion position and the retracted position. As an example of the expanding ring moving mechanism 30, a feed screw device is illustrated, but an actuator such as an air cylinder device can be used instead. When the expanding ring 14 located at the retracted position is moved toward the expanded position by the expanding ring moving mechanism 30, the expanding ring 14 is moved upward in the direction of arrow B toward the annular portion region 3B. As a result, the back surface of the annular portion region 3B is pressed by the expanding ring 14 and is expanded radially. By fixing the expanding ring 14 and moving the wafer unit 2 downward in the direction of arrow C, the annular portion region 3B may be pressed by the expanding ring 14.

図3は、エキスパンドリング14によって拡張途中の環状部領域3Bの形状を示したウェーハユニット2の要部縦断面図である。後述するが、エキスパンドリング14による環状部領域3Bの拡張に先立って、ノズル22から冷却室16の室内空間17に供給された、例えば−20〜−40℃の冷気20によって室内空間17が冷却される。これにより、ダイシングテープ3が脆性化されてダイシングテープ3のバネ定数が常温時と比較して大きくなっている。この状態でダイシングテープ3の環状部領域3Bがエキスパンドリング14によって拡張されるので、チップサイズが小チップの場合でも個々のチップに分割することが可能となっている。
冷気20によって冷却された環状部領域3Bの温度は、不図示の放射温度計にて計測してもよい。また、冷気20の温度と冷気20の供給時間とに基づいた環状部領域3Bの温度変化データを予め実測しておき、この温度変化データに基づいて冷気20の供給時間を制御してもよい。
FIG. 3 is a vertical cross-sectional view of a main part of the wafer unit 2 showing the shape of the annular portion region 3B being expanded by the expanding ring 14. As will be described later, prior to the expansion of the annular portion region 3B by the expanding ring 14, the indoor space 17 is cooled by, for example, cold air 20 at −20 to -40 ° C. supplied from the nozzle 22 to the indoor space 17 of the cooling chamber 16. To. As a result, the dicing tape 3 is made brittle and the spring constant of the dicing tape 3 is larger than that at room temperature. In this state, the annular portion region 3B of the dicing tape 3 is expanded by the expanding ring 14, so that even if the chip size is small, it can be divided into individual chips.
The temperature of the annular portion region 3B cooled by the cold air 20 may be measured by a radiation thermometer (not shown). Further, the temperature change data of the annular portion region 3B based on the temperature of the cold air 20 and the supply time of the cold air 20 may be measured in advance, and the supply time of the cold air 20 may be controlled based on the temperature change data.

図1に示すノズル22は、冷却室16の室内において、ダイシングテープ3の環状部領域3Bに向けて配置されている。これにより、環状部領域3Bが冷気20によって効率よく冷却される。また、冷気供給部24は、吸引した外気を零下に冷却する熱交換器を備えており、熱交換器によって冷却された冷気20が配管25を介してノズル22に供給される。なお、図1では、冷気供給部24を冷却室16の室外に配置しているが、冷却室16の室内に配置してもよい。この場合、冷気供給部24は、室内空間17の冷却された室内エアを冷却するので、熱交換器にかかる負荷を小さくすることができる。 The nozzle 22 shown in FIG. 1 is arranged in the cooling chamber 16 toward the annular portion region 3B of the dicing tape 3. As a result, the annular portion region 3B is efficiently cooled by the cold air 20. Further, the cold air supply unit 24 includes a heat exchanger that cools the sucked outside air below zero, and the cold air 20 cooled by the heat exchanger is supplied to the nozzle 22 via the pipe 25. Although the cold air supply unit 24 is arranged outside the cooling chamber 16 in FIG. 1, it may be arranged inside the cooling chamber 16. In this case, since the cold air supply unit 24 cools the cooled indoor air in the indoor space 17, the load on the heat exchanger can be reduced.

図1の如く、ダイシングテープ3の拡張状態を保持する拡張保持リング18は、ダイシングテープ3におけるウェーハ1の貼付面と反対側の裏面側に配置される。また、拡張保持リング18は、外径がフレーム4の内径(350mm)よりも小さく、内径がエキスパンドリング14の外径よりも大きい本体リング32と、本体リング32の外周部に装着されて、外径(351.3mm)がフレーム4の内径(350mm)よりも大きい弾性変形可能なリング状の嵌合部26と、を有する。嵌合部26の材質として、零下の環境下で脆性化するPP(polypropylene:ポリプロピレン)を例示する。なお、嵌合部26の材質は、PPに限定されるものではないが、少なくとも零下では脆性化し、常温環境下では弾性を備える材質であることが好ましい。 As shown in FIG. 1, the expansion holding ring 18 for holding the expanded state of the dicing tape 3 is arranged on the back surface side of the dicing tape 3 opposite to the sticking surface of the wafer 1. Further, the expansion holding ring 18 is attached to the main body ring 32 whose outer diameter is smaller than the inner diameter (350 mm) of the frame 4 and whose inner diameter is larger than the outer diameter of the expanding ring 14, and to the outer peripheral portion of the main body ring 32. It has a ring-shaped fitting portion 26 having an elastically deformable diameter (351.3 mm) larger than the inner diameter (350 mm) of the frame 4. As the material of the fitting portion 26, PP (polypropylene) that becomes brittle in a subzero environment is exemplified. The material of the fitting portion 26 is not limited to PP, but it is preferably a material that becomes brittle at least below zero and has elasticity in a room temperature environment.

図1の如く、嵌合部26を加温するハロゲンランプ28は、実線で示す待機位置に位置している拡張保持リング18の嵌合部26を包囲するように配置される。このハロゲンランプ28は、図2の如くリング状に構成されたものであるが、形状はリング状に限定されるものではない。例えば、棒状のハロゲンランプを用いてもよい。この場合、複数本の棒状のハロゲンランプによって嵌合部26を包囲すればよい。 As shown in FIG. 1, the halogen lamp 28 that heats the fitting portion 26 is arranged so as to surround the fitting portion 26 of the expansion holding ring 18 located at the standby position shown by the solid line. The halogen lamp 28 is configured in a ring shape as shown in FIG. 2, but the shape is not limited to the ring shape. For example, a rod-shaped halogen lamp may be used. In this case, the fitting portion 26 may be surrounded by a plurality of rod-shaped halogen lamps.

ハロゲンランプ28は、ハロゲンランプ電源34から供給される電力によって点灯し放熱する。また、ハロゲンランプ28の外側には、リフレクタ36がハロゲンランプ28に近接して配置される。これにより、嵌合部26は、ハロゲンランプ28からの直射熱とリフレクタ36で反射された反射熱とによって常温を超えた温度に加温される。
拡張保持リング18は、嵌合部26の温度が常温を超えた温度、例えば20℃を超えた温度に昇温された後に待機位置から上昇され、ダイシングテープ3の拡張状態を保持する。なお、ハロゲンランプ28によって加温された嵌合部26の温度は、不図示の放射温度計にて計測してもよい。また、ハロゲンランプ28の点灯時間に基づいた嵌合部26の温度変化データを予め実測しておき、その温度変化データに基づいてハロゲンランプ28の点灯時間を制御してもよい。
The halogen lamp 28 is lit by the electric power supplied from the halogen lamp power supply 34 to dissipate heat. Further, a reflector 36 is arranged close to the halogen lamp 28 on the outside of the halogen lamp 28. As a result, the fitting portion 26 is heated to a temperature exceeding room temperature by the direct heat from the halogen lamp 28 and the reflected heat reflected by the reflector 36.
The expansion holding ring 18 is raised from the standby position after the temperature of the fitting portion 26 is raised to a temperature exceeding room temperature, for example, a temperature exceeding 20 ° C., and holds the expanded state of the dicing tape 3. The temperature of the fitting portion 26 heated by the halogen lamp 28 may be measured by a radiation thermometer (not shown). Further, the temperature change data of the fitting portion 26 based on the lighting time of the halogen lamp 28 may be measured in advance, and the lighting time of the halogen lamp 28 may be controlled based on the temperature change data.

図4は、拡張保持リング18によってダイシングテープ3の拡張状態が保持された縦断面図である。図5は、図4の要部拡大断面図である。 FIG. 4 is a vertical cross-sectional view in which the expanded state of the dicing tape 3 is held by the extended holding ring 18. FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a main part of FIG.

図4、図5の如く、拡張保持リング18の嵌合部26は、実線で示す嵌合位置でフレーム4の表面4Aにダイシングテープ3の環状部領域3Bを介して嵌合する。これにより、ダイシングテープ3の拡張状態が拡張保持リング18によって保持される。 As shown in FIGS. 4 and 5, the fitting portion 26 of the expansion holding ring 18 is fitted to the surface 4A of the frame 4 at the fitting position shown by the solid line via the annular portion region 3B of the dicing tape 3. As a result, the expanded state of the dicing tape 3 is held by the expansion holding ring 18.

拡張保持リング18は、拡張保持前においては、図4、図5の実線で示す嵌合位置から下方の待機位置(図1の実線で示す位置)に配置されており、拡張保持時に待機位置から嵌合位置に拡張保持リング移動機構38によって上昇移動される。拡張保持リング移動機構38の一例として、送りネジ装置を例示するが、これに代えてエアシリンダ装置等のアクチュエータを使用することもできる。 Before the expansion holding, the expansion holding ring 18 is arranged at a standby position (the position shown by the solid line in FIG. 1) below the fitting position shown by the solid line in FIGS. 4 and 5, and from the standby position during the expansion holding. It is moved up to the fitting position by the extended holding ring moving mechanism 38. As an example of the extended holding ring moving mechanism 38, a feed screw device is illustrated, but an actuator such as an air cylinder device can be used instead.

拡張保持リング移動機構38によって拡張保持リング18が上昇されると、ハロゲンランプ28によって常温を超えた温度に加温された嵌合部26が、フレーム4の下面に当接する。このとき、嵌合部26は脆性状態から弾性状態に回復しているので、継続する拡張保持リング18の上昇移動により、フレーム4の内周面に押されて弾性変形しながら上昇する。そして、嵌合部26が、フレーム4の内周面を通過した位置で拡張保持リング18の上昇が停止される。これによって、弾性状態に回復された嵌合部26が図4、図5の如く嵌合位置でフレーム4の表面4Aに嵌合される。なお、拡張保持リング18を固定して、ダイシングテープ3側を拡張保持リング18に近づける方向に移動させてもよい。すなわち、嵌合部26をフレーム4の表面4Aに嵌合させる場合には、拡張保持リング18をダイシングテープ3に対して相対的に近づく方向に移動させればよい。 When the extended holding ring 18 is raised by the extended holding ring moving mechanism 38, the fitting portion 26 heated to a temperature exceeding room temperature by the halogen lamp 28 comes into contact with the lower surface of the frame 4. At this time, since the fitting portion 26 has recovered from the brittle state to the elastic state, it is pushed by the inner peripheral surface of the frame 4 and rises while being elastically deformed by the continuous ascending movement of the expansion holding ring 18. Then, the ascending of the extended holding ring 18 is stopped at the position where the fitting portion 26 passes through the inner peripheral surface of the frame 4. As a result, the fitting portion 26 restored to the elastic state is fitted to the surface 4A of the frame 4 at the fitting position as shown in FIGS. 4 and 5. The expansion holding ring 18 may be fixed and the dicing tape 3 side may be moved in a direction closer to the expansion holding ring 18. That is, when the fitting portion 26 is fitted to the surface 4A of the frame 4, the expansion holding ring 18 may be moved in a direction relatively close to the dicing tape 3.

エキスパンドリング14を駆動するエキスパンドリング移動機構30、拡張保持リング18を駆動する拡張保持リング移動機構38、冷気供給部24、及びハロゲンランプ電源34は、図6の制御系のブロック図の如く、ワーク分割装置10を統括制御する制御部40によって、その動作が制御されている。 The expanding ring moving mechanism 30 for driving the expanding ring 14, the expanding holding ring moving mechanism 38 for driving the expansion holding ring 18, the cold air supply unit 24, and the halogen lamp power supply 34 are workpieces as shown in the block diagram of the control system of FIG. The operation is controlled by the control unit 40 that collectively controls the dividing device 10.

次に、図7のフローチャート、図8(A)〜(D)及び図9(A)〜(D)に示すワーク分割装置10の動作説明図に従って、ワーク分割方法を具体的に説明する。 Next, the work dividing method will be specifically described with reference to the flowchart of FIG. 7, FIGS. 8 (A) to 8 (D), and the operation explanatory view of the work dividing device 10 shown in FIGS. 9 (A) to 9 (D).

まず、図7のステップS100の配置工程において、図8(A)の如く、エキスパンドリング14をエキスパンドリング移動機構30によって退避位置に配置させ、拡張保持リング18を拡張保持リング移動機構38によって待機位置に配置させる。 First, in the arrangement step of step S100 of FIG. 7, as shown in FIG. 8A, the expanding ring 14 is arranged in the retracted position by the expanding ring moving mechanism 30, and the extended holding ring 18 is placed in the standby position by the extended holding ring moving mechanism 38. To be placed in.

次に、図7のステップS110の固定工程において、図8(B)の如く、ウェーハユニット2のフレーム4を固定部7に固定する。 Next, in the fixing step of step S110 of FIG. 7, the frame 4 of the wafer unit 2 is fixed to the fixing portion 7 as shown in FIG. 8 (B).

次に、図7のステップS130の冷気冷却工程において、図8(C)の如く、ノズル22から冷気20を冷却室16の室内空間17(図1参照)に供給し、ダイシングテープ3の環状部領域3Bを零下(例えば−20〜−40℃)に冷却する。これにより、ダイシングテープ3の環状部領域3Bが脆性化される。なお、冷気20の温度は、零下に限定されるものではなく、ダイシングテープ3が脆性化する温度以下であればよい。 Next, in the cold air cooling step of step S130 of FIG. 7, as shown in FIG. 8C, the cold air 20 is supplied from the nozzle 22 to the indoor space 17 (see FIG. 1) of the cooling chamber 16, and the annular portion of the dicing tape 3 is provided. Region 3B is cooled below zero (eg, -20 to -40 ° C). As a result, the annular portion region 3B of the dicing tape 3 is made brittle. The temperature of the cold air 20 is not limited to below zero, and may be a temperature equal to or lower than the temperature at which the dicing tape 3 becomes brittle.

次に、図7のステップS140の拡張開始工程において、図8(D)の如く、エキスパンドリング移動機構30によってエキスパンドリング14を、図8(A)の退避位置から拡張位置に向けて矢印B方向に上昇移動させ、脆性化された環状部領域3Bの全領域の拡張を開始する。なお、拡張開始工程において、ノズル22から冷気20を噴射した状態を保持してもよく、ステップS130の冷気冷却工程において、環状部領域3Bが十分に冷却されている場合は、ノズル22からの冷気20の噴射を停止してもよい。 Next, in the expansion start step of step S140 of FIG. 7, as shown in FIG. 8 (D), the expanding ring 14 is moved by the expanding ring moving mechanism 30 from the retracted position of FIG. 8 (A) toward the expanded position in the arrow B direction. And start expanding the entire region of the brittle ring region 3B. In the expansion start step, the state in which the cold air 20 is injected from the nozzle 22 may be maintained, and in the cold air cooling step of step S130, when the annular portion region 3B is sufficiently cooled, the cold air from the nozzle 22 is sufficiently cooled. The injection of 20 may be stopped.

次に、図7のステップS150の分割工程において、図9(A)の如く、エキスパンドリング14の上昇移動を続行して行うことにより、ウェーハ1を個々のチップ6に分割する。この後、図9(B)の如く、エキスパンドリング14が拡張位置に到達したところで、エキスパンドリング14の上昇移動を停止する。 Next, in the dividing step of step S150 of FIG. 7, the wafer 1 is divided into individual chips 6 by continuing the ascending movement of the expanding ring 14 as shown in FIG. 9A. After that, as shown in FIG. 9B, when the expanding ring 14 reaches the expanded position, the ascending movement of the expanding ring 14 is stopped.

ステップS150の分割工程では、常温時よりもバネ定数が大きくなっている環状部領域3Bのバネ定数の張力がウェーハ1に付与される。これにより、チップサイズが小チップ(1mm)であっても個々のチップ6に分割するだけの張力を、環状部領域3Bからウェーハ1に付与することができる。よって、ワーク分割装置10によれば、チップサイズが小チップ(1mm)の場合に生じる分割予定ラインの未分割問題を解消することができる。 In the dividing step of step S150, the tension of the spring constant of the annular portion region 3B in which the spring constant is larger than that at room temperature is applied to the wafer 1. As a result, even if the chip size is small (1 mm), tension sufficient to divide the individual chips 6 can be applied to the wafer 1 from the annular portion region 3B. Therefore, according to the work dividing device 10, it is possible to solve the undivided problem of the scheduled division line that occurs when the chip size is a small chip (1 mm).

次に、図7のステップS160の加温工程において、図9(B)の如く、ハロゲンランプ28を点灯して拡張保持リング18の嵌合部26を、常温を超えた温度に加温する。なお、ステップS160の加温工程は、ステップS150の分割工程の最中に行ってもよく、ステップS150の分割工程の終了後に行ってもよい。また、ハロゲンランプ28によって嵌合部26を加温する温度は、常温を超えた温度に限定されず、冷気20の温度を超えた温度であって、冷気20によって脆性化された嵌合部26が弾性状態に回復する温度であればよい。 Next, in the heating step of step S160 of FIG. 7, as shown in FIG. 9B, the halogen lamp 28 is turned on to heat the fitting portion 26 of the expansion holding ring 18 to a temperature exceeding room temperature. The heating step of step S160 may be performed during the division step of step S150, or may be performed after the division step of step S150 is completed. Further, the temperature at which the fitting portion 26 is heated by the halogen lamp 28 is not limited to a temperature exceeding room temperature, but is a temperature exceeding the temperature of the cold air 20, and the fitting portion 26 is made brittle by the cold air 20. Any temperature may be used as long as it recovers to the elastic state.

次に、図7のステップS170の拡張状態保持工程において、図9(C)の如く、拡張保持リング18を拡張保持リング移動機構38によって待機位置から嵌合位置に向けて上昇させて、弾性状態が回復された嵌合部26を、嵌合位置でフレーム4の表面4Aに嵌合させてダイシングテープ3の拡張状態を保持する。 Next, in the extended state holding step of step S170 of FIG. 7, as shown in FIG. 9C, the extended holding ring 18 is raised from the standby position to the fitting position by the extended holding ring moving mechanism 38 to be in an elastic state. The fitting portion 26 recovered from the above is fitted to the surface 4A of the frame 4 at the fitting position to hold the expanded state of the dicing tape 3.

次に、図7のステップS180のエキスパンドリング退避工程において、図9(D)の如く、エキスパンドリング14をエキスパンドリング移動機構30によって退避位置に向けて下降移動させ、退避位置に配置する。このとき、ダイシングテープ3は、エキスパンドリング14による拡張は解除されるが、フレーム4の表面4Aに拡張保持リング18の嵌合部26が嵌合されているので、弛むことなく拡張状態が保持される。これにより、拡張されたダイシングテープ3が弛むことによって生じるチップ6同士の接触を防止することができるので、チップ6の品質低下を防止することができる。 Next, in the expanding ring retracting step of step S180 of FIG. 7, as shown in FIG. 9D, the expanding ring 14 is moved downward toward the retracting position by the expanding ring moving mechanism 30 and placed at the retracting position. At this time, the dicing tape 3 is released from the expansion by the expanding ring 14, but since the fitting portion 26 of the expansion holding ring 18 is fitted to the surface 4A of the frame 4, the expanded state is maintained without loosening. To. As a result, it is possible to prevent the chips 6 from coming into contact with each other due to the expanded dicing tape 3 being loosened, so that the quality of the chips 6 can be prevented from deteriorating.

上記の如く実施形態のワーク分割装置10によるワーク分割方法によれば、ステップS130の冷気冷却工程を備えたので、ダイシングテープ3を脆性化してダイシングテープ3のバネ定数を高めることができる。これにより、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題を解消することができる。 According to the work dividing method by the work dividing device 10 of the embodiment as described above, since the cold air cooling step of step S130 is provided, the dicing tape 3 can be made brittle and the spring constant of the dicing tape 3 can be increased. This makes it possible to solve the undivided problem of the scheduled division line that occurs when the chip size is small.

また、実施形態のワーク分割装置10によるワーク分割方法によれば、ステップS160の加熱工程を備えたので、ステップS130の冷気冷却工程にて脆化状態に冷却された嵌合部26を弾性状態に回復させることができる。この後、ステップS170の拡張状態保持工程を備えたので、弾性状態に回復された嵌合部26をフレーム4の表面4Aに嵌合させることができる。これにより、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下の問題を解消することができる。 Further, according to the work dividing method by the work dividing device 10 of the embodiment, since the heating step of step S160 is provided, the fitting portion 26 cooled to the embrittled state in the cold air cooling step of step S130 is put into an elastic state. It can be recovered. After that, since the extended state holding step of step S170 is provided, the fitting portion 26 restored to the elastic state can be fitted to the surface 4A of the frame 4. This makes it possible to solve the problem of chip quality deterioration due to contact between the chips after division.

上記の実施形態では、加温部としてハロゲンランプ28を例示したが、これに限定されるものではない。例えば、加温部として、遠赤外線ランプ、赤外線ランプ、セラミックヒータ、カーボンヒータ、温風ヒータ又は接触式ヒータを例示することができる。これらの加温部によれば、低温環境下の冷却室16の室内であっても、脆性化された嵌合部26を加温して弾性状態に回復させることができる。 In the above embodiment, the halogen lamp 28 is exemplified as the heating unit, but the present invention is not limited to this. For example, as the heating unit, a far-infrared lamp, an infrared lamp, a ceramic heater, a carbon heater, a warm air heater, or a contact type heater can be exemplified. According to these heating portions, the brittle fitting portion 26 can be heated and restored to the elastic state even in the cooling chamber 16 in a low temperature environment.

また、加温部として、図10の如く、拡張保持リング18の嵌合部26に常温エア42を供給するエア供給部44を設けてもよい。この加温部によれば、低温環境下の冷却室16の室内であっても、常温エア42の供給によって嵌合部26を、脆性状態から弾性状態に回復させることができる。 Further, as the heating unit, as shown in FIG. 10, an air supply unit 44 that supplies room temperature air 42 may be provided to the fitting portion 26 of the expansion holding ring 18. According to this heating portion, the fitting portion 26 can be restored from the brittle state to the elastic state by supplying the room temperature air 42 even in the room of the cooling chamber 16 in a low temperature environment.

本発明では、低温環境下の冷却室16の室内空間17で、拡張保持リング18の嵌合部26を、加温部によって加温して弾性状態に回復させた後、拡張保持リング18によってダイシングテープ3の拡張状態を保持したが、加温部を用いることなく、嵌合部26をフレーム4の表面4Aに嵌合させることもできる。例えば、拡張保持リング18の待機位置を、常温環境下の冷却室16の室外に設定し、冷却室16に拡張保持リング18を出し入れするための扉を設ける。そして、ダイシングテープ3の拡張状態を保持する際に、扉を解放し、拡張保持リング18を冷却室16の室外から室内空間17に移動させて、常温状態の嵌合部26をフレーム4の表面4Aに嵌合させる。このような構成であっても、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題と、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下の問題とを同時に解消することができる。 In the present invention, in the indoor space 17 of the cooling chamber 16 under a low temperature environment, the fitting portion 26 of the expansion holding ring 18 is heated by the heating portion to restore the elastic state, and then dicing is performed by the expansion holding ring 18. Although the expanded state of the tape 3 is maintained, the fitting portion 26 can be fitted to the surface 4A of the frame 4 without using the heating portion. For example, the standby position of the expansion holding ring 18 is set to the outside of the cooling chamber 16 in a room temperature environment, and the cooling chamber 16 is provided with a door for inserting and removing the expansion holding ring 18. Then, when holding the expanded state of the dicing tape 3, the door is opened, the expanded holding ring 18 is moved from the outside of the cooling chamber 16 to the indoor space 17, and the fitting portion 26 in the normal temperature state is moved to the surface of the frame 4. Fit to 4A. Even with such a configuration, it is possible to simultaneously solve the undivided problem of the scheduled division line that occurs when the chip size is small and the problem of chip quality deterioration due to contact between the divided chips. it can.

1…ウェーハ、2…ウェーハユニット、3…ダイシングテープ、3A…中央部領域、3B…環状部領域、3C…固定部領域、4…フレーム、5…分割予定ライン、6…チップ、7…固定部、8…エキスパンドリング、10…ワーク分割装置、14…エキスパンドリング、16…冷却室、17…室内空間、18…拡張保持リング、20…冷気、22…ノズル、24…冷気供給部、25…配管、26…嵌合部、28…ハロゲンランプ、30…エキスパンドリング移動機構、32…本体リング、34…ハロゲンランプ電源、36…リフレクタ、38…拡張保持リング移動機構、40…制御部、42…常温エア、44…エア供給部
1 ... Wafer, 2 ... Wafer unit, 3 ... Dicing tape, 3A ... Central region, 3B ... Circular region, 3C ... Fixed region, 4 ... Frame, 5 ... Scheduled division line, 6 ... Chip, 7 ... Fixed portion , 8 ... Expanding ring, 10 ... Work dividing device, 14 ... Expanding ring, 16 ... Cooling chamber, 17 ... Indoor space, 18 ... Expansion holding ring, 20 ... Cold air, 22 ... Nozzle, 24 ... Cold air supply unit, 25 ... Piping , 26 ... fitting part, 28 ... halogen lamp, 30 ... expanding ring moving mechanism, 32 ... main body ring, 34 ... halogen lamp power supply, 36 ... reflector, 38 ... extended holding ring moving mechanism, 40 ... control unit, 42 ... normal temperature Air, 44 ... Air supply unit

Claims (8)

ワークの外径よりも大きい内径を有するリング状のフレームにダイシングテープの外周部が固定され、前記ダイシングテープに貼付された前記ワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割装置において、
前記ダイシングテープにおける前記ワークの貼付面と反対側の裏面側に配置され、前記フレームの内径よりも小さく、かつ前記ワークの外径よりも大きい開口部を有するリング状に形成されたエキスパンドリングであって、前記ダイシングテープに対し相対的に近づく方向に移動されることにより前記ダイシングテープを押圧して拡張するエキスパンドリングと、
前記ダイシングテープにおける前記ワークの貼付面と反対側の裏面側に配置され、前記フレームの内径よりも大きい弾性変形可能な嵌合部を有するリング状に形成された拡張保持リングであって、前記エキスパンドリングによって前記ダイシングテープが拡張された状態で、前記嵌合部が前記フレームの表面に嵌合されることにより、前記ダイシングテープの拡張状態を保持する拡張保持リングと、
前記エキスパンドリング及び前記拡張保持リングを含む空間を冷却する冷却部と、
前記拡張保持リングの前記嵌合部が前記フレームの表面に嵌合する前に、前記冷却部により冷却された前記嵌合部を加温する加温部と、
を備える、ワーク分割装置。
In a work dividing device in which the outer peripheral portion of a dicing tape is fixed to a ring-shaped frame having an inner diameter larger than the outer diameter of the work, and the work attached to the dicing tape is divided into individual chips along a scheduled division line. ,
An expanding ring arranged on the back surface side of the dicing tape opposite to the sticking surface of the work, and formed in a ring shape having an opening smaller than the inner diameter of the frame and larger than the outer diameter of the work. An expanding ring that presses and expands the dicing tape by being moved in a direction relatively close to the dicing tape.
An expansion holding ring that is arranged on the back surface side of the dicing tape on the side opposite to the sticking surface of the work and has a fitting portion that is elastically deformable larger than the inner diameter of the frame and is formed in a ring shape. An extended holding ring that holds the expanded state of the dicing tape by fitting the fitting portion to the surface of the frame while the dicing tape is expanded by the ring.
A cooling unit that cools the space including the expanding ring and the expansion holding ring,
A heating portion that heats the fitting portion cooled by the cooling portion before the fitting portion of the expansion holding ring is fitted to the surface of the frame.
A work dividing device.
前記冷却部は、前記ダイシングテープが脆性化する温度の冷気を前記空間に供給し、
前記加温部は、前記冷気の温度を超える温度で前記嵌合部を加温して、前記嵌合部を弾性化する、
請求項1に記載のワーク分割装置。
The cooling unit supplies cold air at a temperature at which the dicing tape becomes brittle to the space.
The heating portion heats the fitting portion at a temperature exceeding the temperature of the cold air to make the fitting portion elastic.
The work dividing device according to claim 1.
前記加温部は、前記嵌合部に常温を超えた熱を供給する熱供給部である、請求項1又は2に記載のワーク分割装置。 The work dividing device according to claim 1 or 2, wherein the heating unit is a heat supply unit that supplies heat exceeding room temperature to the fitting unit. 前記加温部は、前記嵌合部に常温エアを供給するエア供給部である、請求項1又は2記載のワーク分割装置。 The work dividing device according to claim 1 or 2, wherein the heating unit is an air supply unit that supplies room temperature air to the fitting unit. ワークの外径よりも大きい内径を有するリング状のフレームにダイシングテープの外周部が固定され、前記ダイシングテープに貼付された前記ワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割方法において、
前記ダイシングテープを冷気により冷却する冷却工程と、
前記ダイシングテープにおける前記ワークの貼付面と反対側の裏面側に配置されたエキスパンドリングを、前記ダイシングテープに対して相対的に近づく方向に移動させることにより、前記ダイシングテープのうち前記ワークの外縁部と前記フレームの内縁部との間の環状部領域を前記エキスパンドリングによって押圧して、前記ダイシングテープを拡張する拡張工程と、
前記ダイシングテープにおける前記ワークの貼付面と反対側の裏面側に配置された拡張保持リングであって、前記拡張保持リングの外周部に形成された弾性変形可能な嵌合部を加温する加温工程と、
前記拡張保持リングを、前記ダイシングテープに対して相対的に近づく方向に移動させることにより、加温された前記嵌合部を前記フレームの表面に嵌合させて、前記拡張工程によって拡張された前記ダイシングテープの拡張状態を保持する拡張状態保持工程と、
を備える、ワーク分割方法。
In a work dividing method in which the outer peripheral portion of a dicing tape is fixed to a ring-shaped frame having an inner diameter larger than the outer diameter of the work, and the work attached to the dicing tape is divided into individual chips along a planned division line. ,
A cooling step of cooling the dicing tape with cold air,
By moving the expanding ring arranged on the back surface side of the dicing tape opposite to the sticking surface of the work in a direction relatively close to the dicing tape, the outer edge portion of the work of the dicing tape An expansion step of expanding the dicing tape by pressing an annular region between the frame and the inner edge of the frame by the expanding ring.
An expansion holding ring arranged on the back surface side opposite to the sticking surface of the work in the dicing tape, and heating is performed to heat an elastically deformable fitting portion formed on the outer peripheral portion of the expansion holding ring. Process and
By moving the expansion holding ring in a direction relatively close to the dicing tape, the heated fitting portion is fitted to the surface of the frame, and the expansion is performed by the expansion step. An expanded state holding process that holds the expanded state of the dicing tape,
A work division method.
前記冷却工程は、前記ダイシングテープが脆性化する温度の前記冷気を前記ダイシングテープに供給し、
前記加温工程は、前記冷気の温度を超える温度で前記嵌合部を加温して、前記嵌合部を弾性化する、
請求項5に記載のワーク分割方法。
In the cooling step, the cold air at a temperature at which the dicing tape becomes brittle is supplied to the dicing tape.
In the heating step, the fitting portion is heated at a temperature exceeding the temperature of the cold air to make the fitting portion elastic.
The work dividing method according to claim 5.
前記加温工程は、前記嵌合部に常温を超えた熱を供給する、請求項5又は6に記載のワーク分割方法。 The work dividing method according to claim 5 or 6, wherein the heating step supplies heat exceeding room temperature to the fitting portion. 前記加温工程は、前記嵌合部に常温エアを供給する、請求項5又は6に記載のワーク分割方法。 The work dividing method according to claim 5 or 6, wherein the heating step supplies room temperature air to the fitting portion.
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