JP6820262B2 - 流体を濾過するシステム - Google Patents

Description

本発明は、濾過プロセスの際に一方向に貫流可能であり、かつ逆洗浄プロセスのためにはそれとは逆の方向に貫流可能である、少なくとも１つのフィルタ部材を備えた一次フィルタと、一次フィルタから放出される逆洗浄量を処理するために一次フィルタの後段に接続された後処理装置とを有する、流体を濾過するシステムに関するものである。

比較的長い駆動期間にわたってフィルタ設備の安全かつ効率的な駆動を可能にするために、特に設備が大型である場合には、濾過プロセスの際に関与するフィルタ部材を逆洗浄して、それによって再生させることが、一般的である。それぞれの逆洗浄相の間、浄化すべきフィルタ部材は、部材から汚れを剥がして、流出する逆洗浄量と共に排出するために、濾過液の一部によって逆方向に貫流される。汚れを含んだ逆洗浄液の環境有害度が高いことに鑑みて、廃棄は問題がある。少なくとも洗浄液がより大量に生じる場合には、後処理又は、灰化可能な汚れを分離するための濾過のような、処理が必要である。船舶ディーゼルのような大型ディーゼルを駆動するために利用されるような、重油を濾過する場合には、重油の高い粘性が一次フィルタにおける逆洗浄プロセスも、一次フィルタの後段に接続されている後処理装置による処理のために実施される濾過プロセスも、困難にする。流体の粘性が高い場合でも、一次フィルタにおける効率的な逆洗浄を保証するために、従来技術のある特許文献によれば、それぞれの逆洗浄プロセスのために、媒体圧を供給可能なピストンアキュムレータからの洗浄液のある量を利用し、それによって圧力のかかった逆洗浄量を該当する逆洗浄すべきフィルタ部材を通して案内し、それによって逆洗浄液の粘性が高い場合でも、剥がれた汚れを搬出することが可能となる（例えば、特許文献１及び２参照。）。

独国特許出願公開第１０２０１１１００５１８号明細書 国際公開第２０１２／１５００１１号

この問題性に関して本発明の課題は、流体の粘性が高い場合でも一次フィルタにおける効率的な逆洗浄を保証するだけでなく、一次フィルタから剥がれた逆洗浄量の有効な処理も可能にする、濾過システムを提供することである。

本発明によれば、この課題は、その全体において特許請求項１の特徴を有する濾過システムによって解決される。

本発明において、対応づけ可能な後処理フィルタエレメントにそれぞれの逆洗浄量を１ポーションずつ供給するための制御装置が設けられていることによって、後処理濾過が最適なやり方で、粘性及び／又は汚れの種類のような、処理すべき逆洗浄量の特性に適合されるので、有効な逆洗浄も、生じる逆洗浄液の確実な処理も達成可能である。

好ましい実施例において制御装置は、第１と第２の流体室を備えた制御チャンバを有し、それら流体室のうちの第１の流体室がそれぞれの逆洗浄量を収容するために用いられ、第２の流体室は、予め定めることのできる作業圧を有する、特に圧縮空気の形態の作業ガスを供給可能である。それによって、それぞれの後処理フィルタエレメントのフィルタ材料は、予め定めることのできる圧力下にある逆洗浄量によって貫流可能である。それぞれ逆洗浄液の種類と粘性に応じて、第２の流体室内の作業圧が、後処理濾過プロセスにとってそれぞれ最適な値に調節されるので、船舶ディーゼルのように、重油を適用する場合でも、濾液として生じる処理された洗浄オイルはほとんど汚れをもたない。

好ましくは制御チャンバの第１と第２の流体室は、分離ピストンによって分離されている。分離することによって洗浄オイルは作業ガスによって富化されず、ガス投入によって冷却されることもない。それによって、後処理装置により処理された洗浄オイルの大部分が一次フィルタの未濾液側へ還流され、それは、該当する船舶の燃料消費の低下を支援する。同時に最終的に残留するわずかな量の洗浄オイルが生じ、それは船舶内で集められて、埠頭で廃棄されなければならない。

好ましい実施例において、制御チャンバの第２の流体室へ圧力ガスを供給し、かつそれから排出するために、特に電気的に駆動可能な３／２ルート弁の形態の、弁制御が設けられており、そのルート弁は制御チャンバの第２の流体室と圧力ガスを案内するように接続されている。

分離ピストンの運動がこのように制御される場合に、制御チャンバの第１の流体室は、フィルタチャンバの内部でそれぞれのフィルタエレメントの未濾液側と恒久的に接続することができ、その場合に、それぞれのフィルタエレメントを介してその未濾液側から分離されている、濾液側は、少なくとも時々流体出口と流体を案内するように接続されている。

特に好ましいやり方において、フィルタチャンバ内部のそれぞれのフィルタエレメントの濾液側と、流体接続への流体出口との間に、特に好ましくはばね付勢された逆止め弁の形態の、他の弁制御装置を接続することができる。それによって後処理装置のアイドリングが阻止されている。

特に好ましくは、流体入口の側に他の、第３の弁制御装置を設けることができ、その弁制御装置は一次フィルタから来るそれぞれの逆洗浄量の後処理装置内への供給を制御する。その場合に好ましくは、モータ弁を設けることができる。特許文献１に開示されているように、後処理装置が一次フィルタの後段に配置されている場合に、この一次フィルタの洗浄量出口に配置された、その明細書内で符号３１で示されるモータ弁が、流体入口における弁制御装置を形成することができる。

構造的に後処理装置は次のように、すなわち制御チャンバがそれぞれのフィルタエレメントを有するフィルタチャンバの前段に接続されるように、あるいはそれぞれのフィルタエレメントを有するフィルタチャンバが制御チャンバに対して同心に配置されて、それを包囲するように、形成することができる。

特に好ましくは、配置は、分離ピストンに、好ましくは引っ張りばねの形態の蓄勢装置が作用し、かつ蓄勢装置が制御チャンバの第２の流体室を貫通するように、行うことができる。処理する濾過プロセスを導入するために、分離ピストンは引っ張りばねによって制御チャンバの第１の流体室の容積を増大する方向に移動可能であるので、制御チャンバとフィルタチャンバ内にある種の吸い込み効果が発生されて、制御チャンバは前段に接続されている一次フィルタから放出される逆洗浄量によって充填される。その後、分離ピストンの圧力供給が行われる場合に、後処理濾過プロセスは予め定められた最適な圧力水準で行うことができる。

特に好ましい実施例において、後処理装置は、逆洗浄量のための流体入口と後処理された逆洗浄量のための流体出口とを有する、一次フィルタと接続可能な接続部分を有しており、その場合に接続部分は、制御チャンバとそれに共通に対応づけられた２つのフィルタチャンバのための支持体を形成し、その２つのフィルタチャンバは制御チャンバの両隣に次のように、すなわち接続部分の内部において制御チャンバの第１の流体室が各フィルタチャンバの未濾液側と恒久的に接続されているように、配置されており、フィルタチャンバの濾液側は接続部分の内部において少なくとも時々流体出口と接続されている。それによって、２つのフィルタチャンバの間に配置された制御チャンバによって共通に駆動可能な、２つのフィルタチャンバによるコンパクトな構造において、生じる逆洗浄量がかなり多い場合でも効率的に処理するための特に大きいフィルタ面積が提供される。

重油のような、粘性の高い流体に適用する場合には、好ましくは、少なくとも制御チャンバとフィルタチャンバの間の流体を案内する接続領域内に、ヒータ及び／又は電子的な圧力及び／又は温度測定装置が配置されている。それによって、それぞれ一次フィルタから来る逆洗浄量の温度と粘性に応じて、最適な濾過プロセスに適した温度と制御チャンバの作業圧が調節される。

特に好ましくは、後処理装置を一次フィルタに、後処理装置の流体出口に生じる流体量が閉成された回路を形成しながら一次フィルタの未濾液側に還流可能であるように、接続することができる。この還流は特に、処理の際に生じる洗浄オイルを船舶内に集めることが規則である、海上重油適用において特に効果的である。生じる洗浄オイルの大部分を還流させることにより（それによって船舶における燃料消費も間接的に低下する）、最終的に埠頭で廃棄しなければならない洗浄オイルが少なくなる。

請求項１３によれば、洗浄オイルのための後処理装置も本発明の対象であって、その後処理装置は好ましくは、請求項１〜１２の特徴を有する濾過システムの構成要素である。

以下、図面に示す実施例を用いて、本発明を詳細に説明する。

本発明に係る濾過システムの実施形態を図式的に簡略化した表示で部分的に垂直に切断して示す斜視図である。 図１の実施形態の後処理装置を取り出して部分的に切り開いてアングルカットで示す斜視図である。 図１と２の実施形態の後処理装置を中央の垂直断面で示す断面図である。 図３の切断線Ｖ−Ｖに沿って後処理装置を示す垂直断面図である。 本発明に係るシステムの第２の実施形態に基づく後処理装置を取り出して、やや図式的に簡略化して示す縦断面図であって、処理プロセスの導入前の初期状態が示されている。 図５に相当する表示であって、処理プロセスの開始時の状態が示されている。 図５と６に相当する表示であって、処理プロセスの進行における状態が示されている。 本発明に係るシステムの他の実施形態に基づく後処理装置の変形された実施例を図式的に簡略化して示す縦断面図であって、図５におけるのと同様に、処理プロセスの開始時の状態が示されている。

図１〜４に示す本発明に係るシステムの第１の実施形態において、図１に符号２で示すメインハウジングを有する一次フィルタは、逆洗浄フィルタ装置に相当し、その逆洗浄フィルタ装置は、特許文献２に記述されており、かつ参照されるものである。したがって図１の簡略化された表示において、この既知の装置のすべての詳細は示されておらず、本発明に係るシステムの一次フィルタとしての構成要素である、この逆洗浄フィルタ装置の本発明に係るシステムを理解するために重要な詳細のみが示されている。しかし、一次フィルタとして、例えばすでに挙げた特許文献１に開示されている装置のような、他の種類の逆洗浄フィルタ装置を設けることもできる。

浄化すべき未濾過液のための入り口８と浄化された流体のための出口１０とを有するメインハウジング２の外側に複数のエレメントチャンバ４が配置されており、それらエレメントチャンバはそれぞれ（図１では見えない）フィルタエレメントを内部に有しており、そのフィルタエレメントは逆洗浄可能であり、かつ逆洗浄プロセスにおいては通常の濾過方向とは逆の流れ方向に貫流可能である。空気式に支援された逆洗浄流を発生させるために、メインハウジング２内にハイドロニューマチックピストンアキュムレータ１８が設けられており、そのピストン２０がガス側２２を流体側２４から分離している。図１はピストン２０を、圧縮空気を有する洗浄ガスタンク１２からメンブレン弁１４と洗浄ガス導管１６とを介してガス側２２へ供給される圧縮空気によって、ピストン２０が図１において上方へ駆動された位置において示している。それによってピストン２０は、その前に濾液で充填されている流体側２４から圧力のかかった洗浄液としての濾液を逆洗浄ガイド２６から、そのフィルタ部材が逆洗浄されるべき、選択されたエレメントチャンバ４の（図示されない）チャンバ接続端へ供給している。逆洗浄すべき所望のエレメントチャンバ４の選択は、ピストンアキュムレータ１の回転位置をそれに対応づけられた回転ドライブ６によって調節することによって行われる。剥がれた汚れを有する逆洗浄量は、エレメントチャンバ４のクリーン側のチャンバ接続端２８から流出して、逆洗浄出口３２を介して一次フィルタを出て、そこからパイプコネクタ３４を介して対応づけられている後処理装置３６の流体入り口３へ達する。

後処理装置３６のベースボディは、接続部分１によって形成されており、その接続部分が２つの後処理フィルタチャンバ１１と後処理制御装置を形成する制御チャンバ９のための支持体を形成し、その制御チャンバは接続部分１の中央領域内で接続部分１の上側において２つのフィルタチャンバ１１の間に配置されている。制御チャンバ９は、フィルタチャンバ１１のチャンバハウジング３８と同様に、接続部分１の上方のカバー壁４０に次のように、すなわち制御チャンバ９とフィルタチャンバのチャンバハウジング３８が、カバー壁４０の下方に位置する内側の中空室へ向かって開放するように、フランジ止めされており、その中空室は接続部分１内でフィルタチャンバ１１と制御チャンバ９の間に延びる通路１３を形成している。制御チャンバ９の長手軸と整合するように、この通路１３内へ流体入口３が連通しており、その流体入口は配管３４を介して一次フィルタの逆洗浄出口と接続されている。配管３４内には、例えばばね付勢された逆止め弁の形態の、弁制御装置が配置されており、その逆止め弁は逆洗浄プロセスの際に、ピストンアキュムレータ１８から供給される逆洗浄量の圧力によって開放する。代替的に配管３４内に、動力操作されるボールコック、例えば特許文献２に符号５３で示される、一次フィルタのボールコックを設けることができる。

図３からもっともよくわかるように、接続部分１の内部空間の底領域内にインナーパイプ４２がフィルタチャンバ１１の間に水平方向に延びている。インナーパイプ４２の両方の端部に開口部が設けられており、その開口部の端縁がエレメント収容部４６を形成し、そのエレメント収容部上に、対応づけられたフィルタチャンバ１１内にあるフィルタエレメント１９が、各フィルタエレメント１９の内側のフィルタ中空室１７がインナーパイプ４２と流体接続されるようにして、収容されている。それによって、内側の中空室１７を包囲するフィルタ材料２１が外側から内側へ向かって貫流される、処理濾過のプロセスにおいて、インナーパイプ４２が濾液側を形成し、その濾液側から処理された逆洗浄量が流体出口５へ達し、その流体出口には閉鎖ボディ３０を有する逆止め弁２９が設けられている。この閉鎖ボディは、システムのアイドリングを阻止するために、閉鎖位置内へかるく付勢することができる。

接続部分１のカバー壁４上にフランジ止めされた制御チャンバ９は、円筒によって形成されており、その円筒がその中で長手方向に走行可能な分離ピストン４３と共にハイドロニューマチックピストンアキュムレータを形成し、そのピストンアキュムレータは上方の端部においてカバー７２によって閉鎖されている。分離ピストン４３は、接続部分１内の通路１３と接続され、したがって流体入口３から流入する逆洗浄量を収容する第１の流体室５１を第２の流体室５３から分離し、その第２の流体室は、分離ピストン４３へ供給可能な圧力媒体、この場合においては圧縮空気、のために設けられている。第２の流体室４３を閉鎖するカバー７２には弁制御装置６５が設けられており、その弁制御装置によって制御チャンバ９の第２の流体室５３内の圧力水準が次のように、すなわち互いに連続する処理濾過が、第２の流体室５３内を支配する作業圧によって発生される、ピストン４３の往復運動によって制御チャンバ９へ提供される逆洗浄量のポーションによって行われるように、制御可能である。

この目的のために、弁制御装置６５は電気的に制御可能な３／２ルート弁６７を有しており、そのルート弁から接続６９が制御チャンバ９の第２の流体室５３へ通じている。第２の接続７１が、調節可能な絞り７３を介して圧縮空気源として用いられる一次フィルタの洗浄ガスタンク１２（図１）へ通じている。接続導管６９と接続されている、流体出口５へ通じる圧力除去導管７５が、第２の流体室５３の圧力除去を可能にする。

この構造において、以下の機能シーケンスが生じる：
図１〜４に示す、制御チャンバ９の第２の流体チャンバ５３が導管７５を介して圧力除去されている、初期状態において、通路１３から第１の流体室５１内へ流入する逆洗浄量がピストン４３を図示される上方の終端位置へ移動させている。処理プロセスを導入するために、弁６５が、圧縮空気が流入して分離ピストン４３に負荷を与えるように切り替えられるので、分離ピストンが下方へ移動して、それによって第１の流体室５１内にある逆洗浄量が排出されて、通路１３を介し、かつフィルタチャンバ１１の開放した端部を介して、フィルタ部材１９のフィルタ材料２１の外側と付属のフィルタチャンバ１１のチャンバ壁３８との間に位置する未濾液側４４へ達する。ピストンアキュムレータによって発生された未濾液の圧力によって、配管３４内にある逆止め弁が閉鎖され、あるいは場合によっては設けられているモータ弁が、一次フィルタの逆洗浄プロセスが終了した場合に閉鎖される。それによって処理濾過プロセスは、制御チャンバ９の第２の流体室５３内の作業圧力によって生成された濾過圧を受けて行われ、その場合に形成された濾液は、逆止め弁２９が開放されている場合に、インナーパイプ４２を介して濾液側を形成するフィルタ部材１９の内側の中空室１７から流体出口５へ流出する。図３がもっともはっきりと示すように、フィルタチャンバ１１のチャンバハウジング３８はその閉鎖された上方の端部へ向かう方向にわずかに円錐状に細くなる推移を有しているので、未濾液側４４の流れ横断面が下方の流入箇所から上方へ向かって狭くなり、それによってフィルタ材料２１の均質な貫流にとって好ましい流れ状況が生じる。

図５〜７は、本発明に係るシステムの第２の実施形態の後処理装置３６を示している。この例においては、制御チャンバ９は流体入口３の近傍において接続部分１の上側に配置されており、フィルタチャンバ１１のみが接続部分１において流体出口５へ向かって変位しており、その流体出口は接続部分１の流体入口とは逆の端部に設けられている。流体入口３の前段に、シンボル表示で示唆するモータ弁７が接続されており、そのモータ弁は一次フィルタの逆洗浄出口３２に設けられるモータ弁によって形成することができ、そのモータ弁は上掲の特許文献２において符号５３で示されている。第１の実施形態におけるのと同様に、接続部分１内で流体入口３に通路１３が連続しており、その通路は流体出口５の方向へ延びているが、この流体出口から距離をおいてフィルタチャンバ１１の中央領域で終了しており、かつこの端部において入口１５を形成し、その入口はフィルタチャンバ１１内にあるフィルタ部材１９の内側のフィルタ中空室１７内への流体路を形成している。内側の中空室１７を、中空円筒を形成するそのフィルタ材料２１によって包囲するフィルタ部材１９は、取り外し可能なハウジングカバー２３を介してフィルタチャンバ１１内へ組み込むことができ、かつ／又は交換することができる。

処理濾過プロセスにおいて濾液側を形成する、フィルタ材料２１を包囲する空間２５は、フィルタチャンバ１１の領域内で接続部分１の上側に沿って延びる長手通路２７を介して流体出口５と接続されており、その場合にこの接続の解放又は閉鎖は、図示の例において逆止め弁２９によって形成される他の弁制御装置によって遮断可能又は解放可能である。この逆止め弁は、ばね制御されており、閉鎖ボディ３０を有し、その閉鎖ボディは閉鎖ばね３１によって図５に示す閉鎖位置へ付勢されており、その閉鎖位置において閉鎖ボディ３０が弁プレート３３に添接して、その開口部を閉鎖する。逆止め弁２９は、約０．５ｂａｒの開放圧に調節されているので、装置の流体システム内でそれに応じたわずかな付勢圧が形成されて維持され、かつアイドリングは阻止されている。装置の充填プロセスのために、ハウジングカバー２３内には、未濾液側を形成する内側のフィルタ中空室１７内へ連通する通気孔３５と、濾液室２５内へ連通する通気孔３７が設けられている。通気孔３５、３７に対応づけられた、通常の構造の排気部材は、示されていない。

制御チャンバ９は、主要部分として円筒を有しており、その円筒は図面下方のその端部４１において流体入口３の近傍において接続部分１にフランジ止めされており、かつ通路１３へ向かって開放している。円筒は、その中で長手方向に走行可能な分離ピストン４３と共にハイドロニューマチックピストンアキュムレータを形成し、そのピストンアキュムレータは円筒の上方の端部４５において直径の狭まった突起４７によって閉鎖されている。突起４７の下方の端部は、円筒の端部４５において、図面において上方へ向かう分離ピストン４３の走行運動を制限するためのストッパ面４９を形成する。円筒と突起４７の内部において分離ピストン４３が、通路１３と接続されて、したがって流体入口３から流入する逆洗浄量を収容する第１の流体室５１を第２の流体室５３から分離しており、その第２の流体室は、分離ピストン４３に供給可能な圧力媒体、この場合においては圧縮空気のために設けられている。突起４７は、上方の端部において閉鎖プレート５５によって閉鎖されており、その閉鎖プレートの内側に引っ張りばね５９のための係止部５７が設けられており、その引っ張りばねの下方の端部は係止部６１を介して分離ピストン４３に作用して、それを走行運動のために付勢し、その走行運動において第１の流体室５１の容積が増大する。閉鎖プレート５５には弁制御装置６５のための接続箇所６３が設けられており、その弁制御装置によって制御チャンバ９の第２の流体室５３内の圧力水準が次のように、すなわち互いに連続する処理濾過がそれぞれ、分離ピストン４３の往復運動に従って制御チャンバ９へ提供される逆洗浄量のポーションによって行われるように、制御可能である。

第１の実施形態におけるのと同様に、弁制御装置６５は電気的に制御可能な３／２ルート弁６７を有しており、そのルート弁から接続導管６９が制御チャンバ９に設けられた接続箇所６３へ通じている。第２の接続導管７１が、調節可能な絞り７３を介して圧縮空気源へ通じている。弁６７の第３の接続導管７５は、外側へ向かっての圧力除去を可能にする。

図５は初期位置を示しており、その初期位置において通路１３とフィルタチャンバ１１は未濾液によって充填されており、かつ孔３５と３７によって排気されている。第２の流体室５３は、弁６７を介して圧縮空気を充填されているので、分離ピストン４３は圧力を供給されて、引き出された引っ張りばね５９の力に抗して図５に示す下方の位置に保持されている。前段に接続されている一次フィルタ内で逆洗浄が作動されると、モータ弁７が開放されている場合に、第２の流体室５３から圧縮空気を吹き出すために、３／２ルート弁６５が切り替えられる。引っ張りばね５９が負荷除去された分離ピストン４３を上方へ向かって図６に示す位置へ引っ張るので、吸引効果が生じて、逆洗浄量が反圧なしで流体入口３を介して流入し、分離ピストン４３が上方の終端位置へ達した場合に（図６を参照）、フィルタチャンバ１１も制御チャンバ９の円筒も逆洗浄液で満たされている。そしてモータ弁７が閉鎖されている場合に、弁６５が切り替えられて、絞り７３を介して圧縮空気が流入して、分離ピストン４３に、引っ張りばね５９の力に抗して上方へ移動するように、負荷を与える。それによって処理濾過のために、図７に示すように、制御チャンバ９の円筒内にある量の逆洗浄液が排出されて、通路１３と入口１５とを介してフィルタチャンバ１１内へ移送される。フィルタ材料２１の貫流後に形成された濾液が、フィルタエレメント１９を包囲する濾液室から長手通路２７へ流出する。濾過プロセスは制御チャンバ９の第２の流体室５３内の作業圧によって形成された濾過圧を受けて行われるので、逆止め弁２９が流体出口５への接続を開放する。濾過プロセスの際に生じる流れ推移が、図７に流れ矢印７９で示唆されている。

第１の実施形態におけるように、第２の流体室５３内の空気圧の高さを調節し、かつ絞り７３によって分離ピストン４３の走行速度を調節することによって、逆洗浄液の特性と粘性に最適に適合するための濾過圧が生じる。重油のように高粘性の流体のために、通路１３と熱接触している加熱エレメント８１によって好ましい温度調節が達成され、その場合に加熱エレメント８１の電気的供給又は提供されるプロセス蒸気による供給を設けることができる。最適な圧力と温度の調節のために、通路１３内にある流体と接触する電子的な圧力及び温度の測定センサ８３を設けることができる。

図８は、変形された実施例を示しており、それにおいて機能方法は上述した実施例の機能方法に等しく相当する。したがって図面において弁制御装置から、突起４７の接続箇所６３における３／２ルート弁６７が省かれており、同様に図面内で流体出口５に対応づけられた逆止め弁２９も省かれている。先行する実施例に対する違いは、制御チャンバ９がフィルタチャンバ１１内で同軸に配置されていることにある。フィルタチャンバは円筒８９を有しており、その円筒は接続部分１と、その流体入口３と流体出口５の間においてフランジ結合されている。通路１３から内側のフィルタ中空室内へ通じる入口１５は、その立ち上がった端縁９０の外側においてフィルタエレメント１９の下方の端部のためのエレメント収容部を形成しており、そのフィルタエレメントの中空円筒状のフィルタ材料２１が未濾液を含む内側の中空室１７を濾液室２５から分離しており、その濾液室はフィルタ材料２１の外側と円筒８９との間に設けられている。この濾液室２５は、先行する実施例におけるように、長手通路２７及びそれに設けられている流出開口部９１を介して流体出口５と接続されている。フィルタチャンバ１１の円筒８９は、上方の端部において制御チャンバ９の円筒のフランジ部分９２によって閉鎖されている。フランジ部分９２から離れるようにして円筒が入口１５における立ち上がった端縁９０の直前まで延びているので、未濾液側を形成する空間１７への流体接続のための中間室が生じる。先行する実施例の場合のように、ここでも突起４７が制御チャンバ９の上方の終端と分離ピストン４３用の終端ストッパとしてのストッパ面４９を形成している。ここでも同様に、突起４７の閉鎖プレート５５に引っ張りばね５９の上方の端部のための係止部５７と３／２ルート弁６７を有する弁制御装置６５のための接続箇所６３が設けられている。

Claims (14)

1. 液体を濾過するシステムにおいて、前記液体を濾過するシステムは、一次フィルタ（２）を有し、前記一次フィルタが少なくとも１つのフィルタエレメントを有し、前記フィルタエレメントが濾過プロセスの際に一方向に貫流可能であり、かつ逆洗浄プロセスのためにはそれとは逆の方向に貫流可能であり、
   前記液体を濾過するシステムは、一次フィルタから放出される逆洗浄量を処理するために、一次フィルタ（２）の後段に接続されている後処理装置（３６）を有し、前記後処理装置が、流体入口と流体出口及び少なくとも１つの後処理フィルタエレメント（１９）を備えた、逆洗浄量を収容する少なくとも１つのフィルタチャンバ（１１）を有し、かつ、
   前記後処理装置が、それぞれの逆洗浄量のポーションを対応づけ可能な後処理フィルタエレメント（１９）へ供給するための制御装置（９）を有し、
   前記制御装置が、第１の流体室（５１）と第２の流体室（５３）を備えた制御チャンバ（９）を有し、前記第１の流体室（５１）がそれぞれの逆洗浄量を収容するために用いられ、かつ前記第２の流体室（５３）には、予め定めることのできる作業圧力を有する圧力ガスが供給される、液体を濾過するシステム。
2. 前記圧力ガスが圧縮空気の形態である、ことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
3. 制御チャンバ（９）の第１の流体室（５１）と第２の流体室（５３）が、分離ピストン（４３）によって分離可能である、ことを特徴とする請求項１又は２に記載のシステム。
4. 制御チャンバ（９）の第２の流体室（５３）内へ圧力ガスを供給し、かつ第２の流体室から圧力ガスを排出するために、弁制御装置（６５）が用いられ、前記弁制御装置（６５）が圧力ガスを案内するように制御チャンバ（９）の第２の流体室（５３）と接続されている、ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のシステム。
5. 制御チャンバ（９）の第１の流体室（５１）がフィルタチャンバ（１１）の内部でそれぞれのフィルタエレメント（１９）の未濾液側（４４）と流体を案内するように恒久的に接続されており、かつ、
   それぞれのフィルタエレメント（１９）を介してその未濾液側（１７；４４）から分離されている、濾液側（１７；２５）が、流体出口（５）との流体を案内する接続を有している、ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のシステム。
6. フィルタチャンバ（１１）の内部のそれぞれのフィルタエレメント（１９）の濾液側と、流体接続への流体出口（５）との間に、他の弁制御装置が接続されている、ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のシステム。
7. 前記一次フィルタ（２）に通じている配管（３４）において流体入口（３）の側において、他の第３の弁制御装置（７）が存在しており、前記他の第３の弁制御装置（７；３４）が一次フィルタ（２）から来て後処理装置（３６）内へ流入するそれぞれの逆洗浄量の流入を制御する、ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のシステム。
8. 流体流れ方向に見て、制御チャンバ（９）が、それぞれのフィルタエレメント（１９）を有するフィルタチャンバ（１１）の前段に接続されており、あるいは、
   それぞれのフィルタエレメント（１９）を有するフィルタチャンバ（１１）が、制御チャンバ（９）に対して同心に配置されており、かつそれを包囲している、ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のシステム。
9. 分離ピストン（４３）に、蓄勢装置が作用し、かつ、
   蓄勢装置が制御チャンバ（９）の第２の流体室（５３）を貫通する、ことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のシステム。
10. 後処理装置（３６）が、逆洗浄量のための流体入口（３）と後処理された逆洗浄量のための流体出口（５）とを備えた、一次フィルタ（２）と接続可能な接続部分（１）を有しており、前記接続部分が制御チャンバ（９）及びそれに共通に対応づけられた２つのフィルタチャンバ（１１）のための支持体を形成し、前記フィルタチャンバが、接続部分（１）の内部で制御チャンバ（９）の第１の流体室（５１）が各フィルタチャンバ（１１）の未濾液側（４４）と恒久的に接続されているように、制御チャンバ（９）の両隣に配置されており、前記フィルタチャンバの濾液側（１７）が接続部分（１）の内部で流体出口（５）と接続されている、ことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載のシステム。
11. 少なくとも制御チャンバ（９）とそれぞれのフィルタチャンバ（１１）の間の流体を案内する接続領域（１３）内に、ヒータ（８１）及び／又は電子的な圧力及び／又は温度測定装置（８３）が配置されている、ことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載のシステム。
12. 後処理装置（３６）が、後処理装置（３６）の流体出口（５）に生じる流体量が閉成された回路を形成しながら一次フィルタ（２）の未濾液側へ還流可能であるように、一次フィルタ（２）に接続されている、ことを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載のシステム。
13. 洗浄オイルの逆洗浄量を放出する、逆洗浄可能な一次フィルタ（２）と流体を案内するように接続可能な、接続部分（１）と、
    接続部分（１）に設けられた、少なくとも１つのフィルタエレメント（１９）を備えた少なくとも１つのフィルタチャンバ（１１）と、
    対応づけ可能なフィルタエレメント（１９）にそれぞれの逆洗浄量のポーションを供給するための制御装置（９）と、を有し、
    前記制御装置が、第１の流体室（５１）と第２の流体室（５３）とを有する制御チャンバ（９）を有し、
    前記第１の流体室（５１）がそれぞれの逆洗浄量を収容するために用いられ、かつ前記第２の流体室（５３）には、予め定めることのできる作業圧を有する圧力ガスが供給される、特に請求項１〜１２のいずれか１項に記載のシステムの構成要素としての、後処理装置。
14. 前記制御チャンバ（９）が分離ピストン（４３）を備え、前記分離ピストンが制御チャンバ（９）を前記第１の流体室（５１）と前記第２の流体室（５３）に分割する、ことを特徴とする請求項１３に記載の後処理装置。

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