JP6820262B2 - 流体を濾過するシステム - Google Patents
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Description
図1〜4に示す、制御チャンバ9の第2の流体チャンバ53が導管75を介して圧力除去されている、初期状態において、通路13から第1の流体室51内へ流入する逆洗浄量がピストン43を図示される上方の終端位置へ移動させている。処理プロセスを導入するために、弁65が、圧縮空気が流入して分離ピストン43に負荷を与えるように切り替えられるので、分離ピストンが下方へ移動して、それによって第1の流体室51内にある逆洗浄量が排出されて、通路13を介し、かつフィルタチャンバ11の開放した端部を介して、フィルタ部材19のフィルタ材料21の外側と付属のフィルタチャンバ11のチャンバ壁38との間に位置する未濾液側44へ達する。ピストンアキュムレータによって発生された未濾液の圧力によって、配管34内にある逆止め弁が閉鎖され、あるいは場合によっては設けられているモータ弁が、一次フィルタの逆洗浄プロセスが終了した場合に閉鎖される。それによって処理濾過プロセスは、制御チャンバ9の第2の流体室53内の作業圧力によって生成された濾過圧を受けて行われ、その場合に形成された濾液は、逆止め弁29が開放されている場合に、インナーパイプ42を介して濾液側を形成するフィルタ部材19の内側の中空室17から流体出口5へ流出する。図3がもっともはっきりと示すように、フィルタチャンバ11のチャンバハウジング38はその閉鎖された上方の端部へ向かう方向にわずかに円錐状に細くなる推移を有しているので、未濾液側44の流れ横断面が下方の流入箇所から上方へ向かって狭くなり、それによってフィルタ材料21の均質な貫流にとって好ましい流れ状況が生じる。
Claims (14)
- 液体を濾過するシステムにおいて、前記液体を濾過するシステムは、一次フィルタ(2)を有し、前記一次フィルタが少なくとも1つのフィルタエレメントを有し、前記フィルタエレメントが濾過プロセスの際に一方向に貫流可能であり、かつ逆洗浄プロセスのためにはそれとは逆の方向に貫流可能であり、
前記液体を濾過するシステムは、一次フィルタから放出される逆洗浄量を処理するために、一次フィルタ(2)の後段に接続されている後処理装置(36)を有し、前記後処理装置が、流体入口と流体出口及び少なくとも1つの後処理フィルタエレメント(19)を備えた、逆洗浄量を収容する少なくとも1つのフィルタチャンバ(11)を有し、かつ、
前記後処理装置が、それぞれの逆洗浄量のポーションを対応づけ可能な後処理フィルタエレメント(19)へ供給するための制御装置(9)を有し、
前記制御装置が、第1の流体室(51)と第2の流体室(53)を備えた制御チャンバ(9)を有し、前記第1の流体室(51)がそれぞれの逆洗浄量を収容するために用いられ、かつ前記第2の流体室(53)には、予め定めることのできる作業圧力を有する圧力ガスが供給される、液体を濾過するシステム。 - 前記圧力ガスが圧縮空気の形態である、ことを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 制御チャンバ(9)の第1の流体室(51)と第2の流体室(53)が、分離ピストン(43)によって分離可能である、ことを特徴とする請求項1又は2に記載のシステム。
- 制御チャンバ(9)の第2の流体室(53)内へ圧力ガスを供給し、かつ第2の流体室から圧力ガスを排出するために、弁制御装置(65)が用いられ、前記弁制御装置(65)が圧力ガスを案内するように制御チャンバ(9)の第2の流体室(53)と接続されている、ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のシステム。
- 制御チャンバ(9)の第1の流体室(51)がフィルタチャンバ(11)の内部でそれぞれのフィルタエレメント(19)の未濾液側(44)と流体を案内するように恒久的に接続されており、かつ、
それぞれのフィルタエレメント(19)を介してその未濾液側(17;44)から分離されている、濾液側(17;25)が、流体出口(5)との流体を案内する接続を有している、ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のシステム。 - フィルタチャンバ(11)の内部のそれぞれのフィルタエレメント(19)の濾液側と、流体接続への流体出口(5)との間に、他の弁制御装置が接続されている、ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のシステム。
- 前記一次フィルタ(2)に通じている配管(34)において流体入口(3)の側において、他の第3の弁制御装置(7)が存在しており、前記他の第3の弁制御装置(7;34)が一次フィルタ(2)から来て後処理装置(36)内へ流入するそれぞれの逆洗浄量の流入を制御する、ことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のシステム。
- 流体流れ方向に見て、制御チャンバ(9)が、それぞれのフィルタエレメント(19)を有するフィルタチャンバ(11)の前段に接続されており、あるいは、
それぞれのフィルタエレメント(19)を有するフィルタチャンバ(11)が、制御チャンバ(9)に対して同心に配置されており、かつそれを包囲している、ことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のシステム。 - 分離ピストン(43)に、蓄勢装置が作用し、かつ、
蓄勢装置が制御チャンバ(9)の第2の流体室(53)を貫通する、ことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載のシステム。 - 後処理装置(36)が、逆洗浄量のための流体入口(3)と後処理された逆洗浄量のための流体出口(5)とを備えた、一次フィルタ(2)と接続可能な接続部分(1)を有しており、前記接続部分が制御チャンバ(9)及びそれに共通に対応づけられた2つのフィルタチャンバ(11)のための支持体を形成し、前記フィルタチャンバが、接続部分(1)の内部で制御チャンバ(9)の第1の流体室(51)が各フィルタチャンバ(11)の未濾液側(44)と恒久的に接続されているように、制御チャンバ(9)の両隣に配置されており、前記フィルタチャンバの濾液側(17)が接続部分(1)の内部で流体出口(5)と接続されている、ことを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載のシステム。
- 少なくとも制御チャンバ(9)とそれぞれのフィルタチャンバ(11)の間の流体を案内する接続領域(13)内に、ヒータ(81)及び/又は電子的な圧力及び/又は温度測定装置(83)が配置されている、ことを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載のシステム。
- 後処理装置(36)が、後処理装置(36)の流体出口(5)に生じる流体量が閉成された回路を形成しながら一次フィルタ(2)の未濾液側へ還流可能であるように、一次フィルタ(2)に接続されている、ことを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載のシステム。
- 洗浄オイルの逆洗浄量を放出する、逆洗浄可能な一次フィルタ(2)と流体を案内するように接続可能な、接続部分(1)と、
接続部分(1)に設けられた、少なくとも1つのフィルタエレメント(19)を備えた少なくとも1つのフィルタチャンバ(11)と、
対応づけ可能なフィルタエレメント(19)にそれぞれの逆洗浄量のポーションを供給するための制御装置(9)と、を有し、
前記制御装置が、第1の流体室(51)と第2の流体室(53)とを有する制御チャンバ(9)を有し、
前記第1の流体室(51)がそれぞれの逆洗浄量を収容するために用いられ、かつ前記第2の流体室(53)には、予め定めることのできる作業圧を有する圧力ガスが供給される、特に請求項1〜12のいずれか1項に記載のシステムの構成要素としての、後処理装置。 - 前記制御チャンバ(9)が分離ピストン(43)を備え、前記分離ピストンが制御チャンバ(9)を前記第1の流体室(51)と前記第2の流体室(53)に分割する、ことを特徴とする請求項13に記載の後処理装置。
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