JP6819649B2 - 弾性波装置 - Google Patents
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Description
[1−1.弾性波装置の構成]
図1は、実施の形態に係る弾性波装置1の断面構成図である。また、図2は、実施の形態に係る弾性波装置1の平面構成図である。図1は、図2のI−I線で切断した面の断面図である。
図5Aは、比較例に係る弾性波装置500の断面構成図である。同図に示された、比較例に係る弾性波装置500は、基板100と、IDT電極10Aおよび10Bと、配線20Aおよび20Bと、絶縁膜30と、識別マーク525と、を備える。ここで配線20Aおよび20Bは電位が異なっている。
図7は、実施の形態の変形例5に係る弾性波装置1Eの断面構成図である。本変形例に係る弾性波装置1Eは、基板100と、IDT電極10と、配線20と、絶縁膜30と、ビア導体50と、識別マーク35Eと、を備える。本変形例に係る弾性波装置1Eは、実施の形態に係る弾性波装置1と比較して、ビア導体50を有する点が構成として異なる。以下、本変形例に係る弾性波装置1Eについて、実施の形態に係る弾性波装置1と同じ構成については説明を省略し、異なる構成を中心に説明する。
以上、本発明に係る弾性波装置について、実施の形態および変形例を挙げて説明したが、本発明は、上記実施の形態および変形例に限定されるものではない。上記実施の形態および変形例における任意の構成要素を組み合わせて実現される別の実施の形態や、上記実施の形態に対して本発明の主旨を逸脱しない範囲で当業者が思いつく各種変形を施して得られる変形例や、本発明に係る弾性波装置を内蔵した各種機器も本発明に含まれる。
10、10A、10B IDT電極
20、20A、20B 配線
30、40 絶縁膜
35、35A、35B、35D、35E、45、525 識別マーク
50 ビア導体
100 基板
S1 領域
Claims (6)
- 圧電性を有する基板と、
前記基板上に形成され、対向する一対の櫛形電極を有するIDT(InterDigital Transducer)電極と、
前記基板上に形成され、前記IDT電極に接続され、前記IDT電極に電気信号を伝搬する、または、前記IDT電極から電気信号を引き出す配線と、
少なくとも前記IDT電極上および前記配線上に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜の表面の凹凸形状により形成された識別マークと、を備え、
前記識別マークは、前記基板を平面視した場合、前記基板と重複し、かつ、前記IDT電極と重複せずに配置されており、
前記識別マークは、前記基板の対向する2つの主面のうち前記IDT電極が形成された主面の側に形成されている、
弾性波装置。 - さらに、
前記配線上に形成され、前記絶縁膜を貫通するビア導体を備え、
前記識別マークは、前記絶縁膜の表面の凹部であり、
前記平面視において、前記表面における前記凹部の開口面積は、前記表面におけるビア導体の形成面積よりも小さい、
請求項1に記載の弾性波装置。 - 前記平面視において、前記凹部の開口の最小径は、前記表面におけるビア導体の最小径よりも小さい、
請求項2に記載の弾性波装置。 - 前記弾性波装置は、複数の前記配線を備え、
前記平面視において、前記識別マークは、対向する2つの前記配線の間を除く領域に形成されている、
請求項1〜3のいずれか1項に記載の弾性波装置。 - 前記弾性波装置は、複数の前記配線を備え、
前記識別マークは、前記絶縁膜の表面の凹部であり、
前記平面視において、前記識別マークは、対向する2つの前記配線の間に形成され、
前記表面から前記凹部の底面までの前記基板の法線方向における距離は、前記表面から前記2つの配線までの前記法線方向の最小距離よりも小さい、
請求項1〜3のいずれか1項に記載の弾性波装置。 - 前記識別マークは、前記平面視において、前記配線の少なくとも一部と重複するように配置されている、
請求項1〜4のいずれか1項に記載の弾性波装置。
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JP2018085109A JP6819649B2 (ja) | 2018-04-26 | 2018-04-26 | 弾性波装置 |
Publications (2)
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WO2017033575A1 (ja) * | 2015-08-25 | 2017-03-02 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
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2018
- 2018-04-26 JP JP2018085109A patent/JP6819649B2/ja active Active
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2019
- 2019-04-15 US US16/383,702 patent/US10847472B2/en active Active
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