JP6819631B2 - エピタキシャルシリコンウェーハの不純物ゲッタリング能力の評価方法 - Google Patents
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Description
(1)シリコンウェーハの表面から構成元素として少なくとも炭素を含むクラスターイオンを注入して、該シリコンウェーハの表層部に、前記クラスターイオンの構成元素が固溶した改質層を形成する第1工程と、
前記シリコンウェーハの改質層上にエピタキシャル層を形成する第2工程と、
を経て製造されるエピタキシャルシリコンウェーハの不純物ゲッタリング能力の評価方法であって、
前記第2工程後に、3次元アトムプローブ法によって、前記シリコンウェーハの改質層における前記クラスターイオンの構成元素の3次元原子マップを得て、
前記3次元原子マップにおいて、前記クラスターイオンの構成元素の種類ごとに、各元素の集合体を特定し、
前記集合体がループ状に偏在した部位の有無に基づいて、前記改質層における不純物のゲッタリング能力を評価することを特徴とするエピタキシャルシリコンウェーハの不純物ゲッタリング能力の評価方法。
前記エピタキシャルシリコンウェーハに熱処理を施して、前記不純物を前記改質層に拡散させ、
その後、3次元アトムプローブ法によって、前記シリコンウェーハの改質層における前記クラスターイオンの構成元素及び不純物元素の3次元原子マップを得て、
前記3次元原子マップにおいて、前記クラスターイオンの構成元素及び不純物元素の種類ごとに、各元素の集合体を特定し、
前記集合体がループ状に偏在した部位の有無に基づいて、前記改質層における不純物のゲッタリング能力を評価する、上記(1)に記載のエピタキシャルシリコンウェーハの不純物ゲッタリング能力の評価方法。
前記シリコンウェーハの改質層上にエピタキシャル層を形成する第2工程と、
を経て製造されるエピタキシャルシリコンウェーハの不純物ゲッタリング能力の評価方法であって、
前記第2工程後に、3次元アトムプローブ法によって、前記シリコンウェーハの改質層における前記クラスターイオンの構成元素の3次元原子マップを得て、
前記3次元原子マップにおいて、前記クラスターイオンの構成元素の種類ごとに、各元素の濃度が所定値の等濃度面を作成し、
前記等濃度面が構成する曲面体がループ状に偏在した部位の有無に基づいて、前記改質層における不純物のゲッタリング能力を評価することを特徴とするエピタキシャルシリコンウェーハの不純物ゲッタリング能力の評価方法。
前記エピタキシャルシリコンウェーハに熱処理を施して、前記不純物を前記改質層に拡散させ、
その後、3次元アトムプローブ法によって、前記シリコンウェーハの改質層における前記クラスターイオンの構成元素及び不純物元素の3次元原子マップを得て、
前記3次元原子マップにおいて、前記クラスターイオンの構成元素及び不純物元素の種類ごとに、各元素の濃度が所定値の等濃度面を作成し、
前記等濃度面が構成する曲面体がループ状に偏在した部位の有無に基づいて、前記改質層における不純物のゲッタリング能力を評価する、上記(4)に記載のエピタキシャルシリコンウェーハの不純物ゲッタリング能力の評価方法。
本発明の一実施形態は、シリコンウェーハの表面から構成元素として少なくとも炭素を含むクラスターイオンを注入して、該シリコンウェーハの表層部に、前記クラスターイオンの構成元素が固溶した改質層を形成する第1工程と、前記シリコンウェーハの改質層上にエピタキシャル層を形成する第2工程と、を経て製造されるエピタキシャルシリコンウェーハの不純物ゲッタリング能力の評価方法である。
図1を参照して、3DAP法の測定手順及び測定原理を説明する。まず、集束イオンビームを用いて測定対象物を加工し、最大で直径100nm程度の先鋭な針状試料を作製する。この試料を3DAP装置にセットし、真空引き、冷却し、試料に1.5〜5kV程度の高電圧をかける。この状態で、試料にさらに20 pJ/pulse程度のエネルギーでパルスレーザーを照射すると、試料の最先端で高電界となり、電界蒸発(試料表面の中性原子が正イオン化し表面から脱離する)現象が発生する。電界蒸発したイオンが2次元位置検出器により検出されることにより、各原子の2次元座標(x,y)が特定される。また、TOF(Time of Flight)アナライザにより、パルスレーザーを照射してからイオンが検出器に到達するまでの飛行時間が測定され、その結果、イオン種も同定される。レーザーの照射を繰り返し行うことによって、試料の深さ方向に関して同様の測定をすることができ、各原子の深さ座標(z)を特定することができる。こうして得られたデータを処理して、原子の3次元マップを構成する。パルスレーザーに替えて、パルス状の電圧を印加することで電界蒸発を起こしてもよい。
[実験No.1]
CZ単結晶シリコンインゴットから得たn型シリコンウェーハ(直径:300mm、厚さ:725μm、ドーパント:リン、ドーパント濃度:5.0×1014atoms/cm3)を用意した。次に、クラスターイオン発生装置(日新イオン機器社製、CLARIS(登録商標))を用いて、CH3Oクラスターイオンを生成して、炭素のドーズ量を1.0×1015atoms/cm2として、シリコンウェーハの表面に照射し、改質層を形成した。クラスター当りの加速電圧は80keV/Cluster、ビーム電流値は550μA、Tiltは0度、Twistは0度とした。
CH3Oクラスターに代えて、C3H5クラスターイオンをシリコンウェーハの表面に照射したこと以外は、実験No.1と同じ方法で、エピタキシャルシリコンウェーハの試料を作製した。炭素のドーズ量は、実験No.1と同じ1.0×1015atoms/cm2とした。
実験No.1及びNo.2で得たエピタキシャルシリコンウェーハをSIMS測定に供し、図2に示す、エピタキシャル層表面から深さ方向に沿ったCu濃度プロファイルを得た。図2から明らかなように、実験No.1及びNo.2ともに、エピタキシャル層直下のシリコンウェーハ表層部(すなわち改質層)において、Cu濃度のピークが確認されたことから、改質層においてCuがゲッタリングされていることがわかる。また、実験No.2よりも実験No.1の方が、Cu濃度プロファイルのピーク濃度が高く、かつ、ピークの積分値が大きいことから、Cu捕獲量が多いことがわかる。すなわち、実験No.2よりも実験No.1の方が、改質層におけるゲッタリング能力が高い。
作製したエピタキシャルシリコンウェーハを集束イオンビームで加工してエピタキシャル層を除去し、さらに集束イオンビームによる加工で、胴部の直径が100nm程度の先鋭な針状試料を作製した。針状試料の先端は、シリコンウェーハの改質層表面(すなわち、シリコンウェーハとエピタキシャル層との界面)とし、針状試料の長手方向が、シリコンウェーハの改質層表面(シリコンウェーハの表面)からの深さ方向と一致するようにした。この試料を3DAP装置(AMETEK社製、LEAP4000XSi)にセットして、3DAP法測定を行い、炭素、銅、及び酸素の3次元原子マップを得た。実験No.1で得られた3次元原子マップを図3(A)に示し、実験No.2で得られた3次元原子マップを図5(A)に示す。
Cuイオン注入を行わないこと以外は、実験例1の実験No.1と同じ方法で、エピタキシャルシリコンウェーハの試料を作製した。実験例1と同様に3DAP測定を行い、炭素及び酸素の3次元原子マップを得たところ、クラスターイオンの構成元素であるC及びOが、それぞれ集合体を形成し、これら集合体がループ状に偏在していることが確認された。また、この3次元原子マップ中に基づいて、C濃度3.0%の等濃度面及びO濃度2.0%の等濃度面を作成したところ、図6に示すように、C及びOの等濃度面が構成する曲面体がループ状に偏在していることが確認された。
以上の実験例1,2から、クラスターイオン照射の結果、シリコンウェーハ表層部の改質層中に転位ループが形成される場合には、当該転位ループ及びその近傍に、クラスターイオンの構成元素が集合体の状態で偏析し、また、ゲッタリング対象の不純物元素も集合体の状態で偏析すること、そして、その場合に高いゲッタリング能力が得られることがわかった。
Claims (6)
- シリコンウェーハの表面から構成元素として少なくとも炭素を含むクラスターイオンを注入して、該シリコンウェーハの表層部に、前記クラスターイオンの構成元素が固溶した改質層を形成する第1工程と、
前記シリコンウェーハの改質層上にエピタキシャル層を形成する第2工程と、
を経て製造されるエピタキシャルシリコンウェーハの不純物ゲッタリング能力の評価方法であって、
前記第2工程後に、3次元アトムプローブ法によって、前記シリコンウェーハの改質層における前記クラスターイオンの構成元素の3次元原子マップを得て、
前記3次元原子マップにおいて、前記クラスターイオンの構成元素の種類ごとに、各元素の集合体を特定し、
前記集合体がループ状に偏在した部位の有無に基づいて、前記改質層における不純物のゲッタリング能力を評価することを特徴とするエピタキシャルシリコンウェーハの不純物ゲッタリング能力の評価方法。 - 前記第2工程後に、前記エピタキシャルシリコンウェーハを不純物で汚染し、
前記エピタキシャルシリコンウェーハに熱処理を施して、前記不純物を前記改質層に拡散させ、
その後、3次元アトムプローブ法によって、前記シリコンウェーハの改質層における前記クラスターイオンの構成元素及び不純物元素の3次元原子マップを得て、
前記3次元原子マップにおいて、前記クラスターイオンの構成元素及び不純物元素の種類ごとに、各元素の集合体を特定し、
前記集合体がループ状に偏在した部位の有無に基づいて、前記改質層における不純物のゲッタリング能力を評価する、請求項1に記載のエピタキシャルシリコンウェーハの不純物ゲッタリング能力の評価方法。 - 前記不純物が重金属元素である、請求項2に記載のエピタキシャルシリコンウェーハの不純物ゲッタリング能力の評価方法。
- シリコンウェーハの表面から構成元素として少なくとも炭素を含むクラスターイオンを注入して、該シリコンウェーハの表層部に、前記クラスターイオンの構成元素が固溶した改質層を形成する第1工程と、
前記シリコンウェーハの改質層上にエピタキシャル層を形成する第2工程と、
を経て製造されるエピタキシャルシリコンウェーハの不純物ゲッタリング能力の評価方法であって、
前記第2工程後に、3次元アトムプローブ法によって、前記シリコンウェーハの改質層における前記クラスターイオンの構成元素の3次元原子マップを得て、
前記3次元原子マップにおいて、前記クラスターイオンの構成元素の種類ごとに、各元素の濃度が所定値の等濃度面を作成し、
前記等濃度面が構成する曲面体がループ状に偏在した部位の有無に基づいて、前記改質層における不純物のゲッタリング能力を評価することを特徴とするエピタキシャルシリコンウェーハの不純物ゲッタリング能力の評価方法。 - 前記第2工程後に、前記エピタキシャルシリコンウェーハを不純物で汚染し、
前記エピタキシャルシリコンウェーハに熱処理を施して、前記不純物を前記改質層に拡散させ、
その後、3次元アトムプローブ法によって、前記シリコンウェーハの改質層における前記クラスターイオンの構成元素及び不純物元素の3次元原子マップを得て、
前記3次元原子マップにおいて、前記クラスターイオンの構成元素及び不純物元素の種類ごとに、各元素の濃度が所定値の等濃度面を作成し、
前記等濃度面が構成する曲面体がループ状に偏在した部位の有無に基づいて、前記改質層における不純物のゲッタリング能力を評価する、請求項4に記載のエピタキシャルシリコンウェーハの不純物ゲッタリング能力の評価方法。 - 前記不純物が重金属元素である、請求項5に記載のエピタキシャルシリコンウェーハの不純物ゲッタリング能力の評価方法。
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